KR20200051622A - 피라졸린계 및/또는 신나메이트계 화합물을 포함하는 청색광 차단 시스템 - Google Patents

피라졸린계 및/또는 신나메이트계 화합물을 포함하는 청색광 차단 시스템 Download PDF

Info

Publication number
KR20200051622A
KR20200051622A KR1020207006818A KR20207006818A KR20200051622A KR 20200051622 A KR20200051622 A KR 20200051622A KR 1020207006818 A KR1020207006818 A KR 1020207006818A KR 20207006818 A KR20207006818 A KR 20207006818A KR 20200051622 A KR20200051622 A KR 20200051622A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
blue light
light blocking
compound
acrylate
Prior art date
Application number
KR1020207006818A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102458704B1 (ko
Inventor
한민 후
위펑 정
하이타오 웨이
팡위엔 지앙
Original Assignee
이유테크 뉴 머터리얼즈 테크놀로지 (쑤저우) 컴퍼니 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 이유테크 뉴 머터리얼즈 테크놀로지 (쑤저우) 컴퍼니 리미티드 filed Critical 이유테크 뉴 머터리얼즈 테크놀로지 (쑤저우) 컴퍼니 리미티드
Publication of KR20200051622A publication Critical patent/KR20200051622A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102458704B1 publication Critical patent/KR102458704B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/0041—Optical brightening agents, organic pigments
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C229/00—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C229/40—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of at least one six-membered aromatic ring and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton
    • C07C229/44—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of at least one six-membered aromatic ring and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton with carboxyl groups linked to the six-membered aromatic ring, or to the condensed ring system containing that ring, by unsaturated carbon chains
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
    • C07C255/01—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C255/32—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms having cyano groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring
    • C07C255/41—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms having cyano groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring the carbon skeleton being further substituted by carboxyl groups, other than cyano groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
    • C07C255/01—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C255/32—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms having cyano groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring
    • C07C255/42—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms having cyano groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring the carbon skeleton being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being further bound to other hetero atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
    • C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
    • C07D231/06—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/04—Acids; Metal salts or ammonium salts thereof
    • C08F220/06—Acrylic acid; Methacrylic acid; Metal salts or ammonium salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/14—Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1804—C4-(meth)acrylate, e.g. butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate or tert-butyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/044—Forming conductive coatings; Forming coatings having anti-static properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/054—Forming anti-misting or drip-proofing coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/17—Amines; Quaternary ammonium compounds
    • C08K5/18—Amines; Quaternary ammonium compounds with aromatically bound amino groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/315—Compounds containing carbon-to-nitrogen triple bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3442—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3445—Five-membered rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09D133/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09J133/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C09J133/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
    • G02C7/00—Optical parts
    • G02C7/10—Filters, e.g. for facilitating adaptation of the eyes to the dark; Sunglasses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
    • G02C7/00—Optical parts
    • G02C7/10—Filters, e.g. for facilitating adaptation of the eyes to the dark; Sunglasses
    • G02C7/107—Interference colour filters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2433/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C08J2433/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Eyeglasses (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

본 발명은 피라졸린계 및/또는 신나메이트계 화합물을 포함하는 청색광 차단 시스템을 제공하며, 여기에서 상기 청색광 차단제는 식 (I) 피라졸린 및/또는 식 (II) 신나메이트 화합물 구조를 갖는다. 식 (I) 및/또는 식 (II) 화합물은 눈을 보호하기 위해 단파장 청색광을 완전히 흡수할 수 있고, 장파장 청색광도 선택적으로 흡수할 수 있다. 상기 청색광 차단 시스템은 예를 들어 광학 필름, 광학 렌즈, 고글, 스킨케어, 조명, 페인트, 접착제 또는 패널에 적용할 수 있다.
Figure pct00021

Description

피라졸린계 및/또는 신나메이트계 화합물을 포함하는 청색광 차단 시스템
본 발명은 청색광 차단 조성물 및 청색광 차단 필름을 포함하는 청색광 차단 시스템에 관한 것이다. 상기 청색광 차단 필름은 청색광 차단 조성물을 가공하여 제조하며, 청색광 차단 조성물 또는 청색광 차단 필름은 신규한 청색광 차단제를 포함하고, 단파장 청색광을 완전히 흡수하여 눈을 보호할 수 있으며, 장파장 청색광을 선택적으로 흡수할 수도 있어, 투과되는 광이 뛰어난 시각 효과를 갖도록 한다. 본 발명은 색이 옅고 선택적으로 청색광을 흡수하는 특이한 장점을 가지고 있어 광학 필름, 광학 렌즈, 고글, 스킨케어, 조명, 페인트, 접착제 또는 패널 등과 같은 분야에 적용할 수 있다.
가시광선은 적색, 주황색, 황색, 녹색, 청색, 남색 및 자주색으로 나뉘며, 적색광의 파장이 가장 길고 자주색의 파장이 가장 짧으며, 파장이 짧을수록 에너지가 높다. 청색광은 체내 자유 라디칼을 개시할 수 있다(Investigative Ophthalmology & Visual Science(20140731), 55(7), pp. 4119-4127). 정보 가전제품 화면에서 방출되는 청색광은 어둠 속에서 눈에 쉽게 침투하여 섬모체근에 경련을 일으켜 노안을 유발하며 장기적으로는 황반 병변이 발생할 수 있다. 현재 청색광 여과제는 주로 염료류와 무기 형광분말류 화합물이며, 청색광 차단제로서의 단점은 색이 너무 짙다는 것이다. 예를 들어, 다갈색 안경(CN106466925, CAPLUS AN 2017: 351046)은 실내 사용에 적합하지 않다.
우수한 청색광 차단제는 1.청색광을 필터링할 수 있고 2.자체적인 색이 옅어야 한다는 두 가지 기본 조건을 충족시켜야 하며, 그 외 3.청색광을 선택적으로 흡수할 수 있어야 한다. 모든 파장 대역의 청색광을 비선택적으로 흡수할 경우 시각적으로 부자연스러운 느낌을 줄 수 있기 때문이다. 고급 분야에 활용할 경우 특정 청색광 파장 대역에 대한 청색광 차단제의 흡수도는 파장이 증가함에 따라 점차 감소해야 한다. 즉, 파장이 더 긴 청색광은 더 큰 침투력을 가져야 한다. 예를 들어, 광학 렌즈의 경우 410nm 내지 450nm 파장 대역에서 투과된 청색광은 50% 내지 100% 점진 증가하는 침투력을 갖춰야 보다 바람직한 시각적 느낌을 줄 수 있다. 따라서 청색광 차단제로서의 조건이 상당히 까다롭기 때문에, 청색광을 필터링할 수 있고 자체적으로 색이 옅으며 선택적으로 청색광을 흡수할 수 있어야 한다는 세 가지 요건에 부합하는 청색광 차단 제품이 시장에 거의 없다.
본 발명의 식 (II-1) 화합물과 구조가 매우 유사한 식 (II-5) 화합물, 디메틸(p-메톡시벤질리덴)말로네이트(dimethyl(p-methoxybenzylidene)malonate)(상품명 Eusorb-1988 또는 Clariant hostavin pr 25)가 공개된 바 있다.
Figure pct00001
식 (II-5) 화합물은 314nm에서 최대 흡수 피크가 나타나고 UVB(290-320nm) 자외선 흡수제에 널리 사용되며, 예를 들어 JP 4822129(CAPLUS AN 2008: 1039270)가 있다. 그러나 청색광 차단 효과는 없다(본 발명의 표 1). 본 발명의 p-아미노 에틸 신나메이트(p-amino ethyl cinnamate) 화합물(식 (II-1))은 공개된 최대 흡수가 380nm 이하이며, 예를 들어 US2004126700 표 1에서 공개된 최대 흡수는 338-339nm(EC13)인 것으로 알려져 있다. 따라서 OCH3 또는 N(CH3)2 치환된 파라-2-벤질리덴 말로네이트 디메틸 에스테르(para-2-benzylidene malonate dimethyl ester)(식 (II-1) 또는 식 (II-5) 화합물)를 불문하고, 청색광 차단에 사용된 적이 없으며 청색광 차단에 적합한 것으로 간주되지도 않았다.
Figure pct00002
본 발명의 식 (II-2) 화합물과 매우 유사한 구조를 갖는 식 (II-7) 화합물, 시아노 p-메톡시신나메이트(cyano p-methoxycinnamate)는 이미 공개되었다. (II-7)는 340nm에서 최대 흡수 피크를 나타내며 자외선 흡수제에 적용된다. 예를 들어, JP09221583(CAPLUS AN 1997: 571294)와 US4284621(CAPLUS AN 1980: 116437)의 청구항 1은 모두 UVA 자외선 흡수에 적용되는 것으로 공개되었다. 본 발명에서 식 (II-2) 화합물의 용도는 광개시제로, J. App. Polym. Sci. Photosensitive resins containing p-dimethyl-aminobenzylidene derivatives and diphenyliodonium salt as photoinitiators, 1987, 34(8), p. 2747-56 또는 JP03062163B(CAPLUS AN 1986:79233)에 공개되었다. 이는 자유 라디칼을 일으키고 일련의 광화학 반응을 유발하는 것이다. 이러한 작용은 본 발명에서 청색광 차단제의 유기체 보호 작용과 완전히 다르며, 청색광 차단 기능에 적용되거나 예측된 적이 없다.
본 발명의 식 (I) 피라졸린 화합물은 원래 인쇄 회로 기판의 포토레지스트(광 차단)에서 광개시제로 사용되거나, 또는 전하 이동 물질 인쇄 회로 기판의 불투광 섬유 강화 수지층에서 반사 작용 형광 증백제(whitening agent)로 사용되거나, 또는 전자사진(electrophotography) 분야에서 전하 이동 기능을 하거나, 또는 항균제로 사용된다. 예를 들어, CN102012634A의 제5페이지(또는 US8198008B2 제4섹션)에서는 화합물 (I-1)이 광개시제로, US8361697에서는 화합물 (I-1)이 h-line(405nm)에서 고감도 광개시제로, JP 63033481(CAPLUS AN 1981: 10007)에서는 화합물 (I-2), (I-3)이 광개시제로 공개되었다. 다른 예로 JP3121096(CAPLUS AN 1994: 43960)에서는 화합물 (I-1)이 인쇄 회로 기판의 불투광 섬유 강화 수지에서 반사 작용의 형광 증백제로, Ganguang Kexue Yu Guang Huaxue(2000), 18(2), 160-164(CAPLUS AN 2000: 417529)에서는 화합물 (I-2), (I-3)의 발광 성질이 공개되었다. 또 다른 예로 US 3837851에서는 화합물 (I-2), (I-3)이 전자 사진(electrophotography) 분야에서 전하 이동 기능을 하는 것으로 공개되었다. 또 다른 예로 Chemical & Pharmaceutical Bulletin, 46(8), 1998, p. 1254에서는 화합물 (I-2), (I-3)이 항균 효과가 있음이 밝혀졌다. 상기 기능은 본 발명의 청색광 차단 필터링 및 보호 기능과는 전혀 관련이 없으며, 청색광 차단 기능에 적용되거나 예측된 적도 없다.
우수한 청색광 차단 제품은 청색광을 필터링하는 기본적인 기능과 우수한 색상 외관을 갖추어야 한다. 특히 바람직한 청색광 차단 제품은 특정 파장 대역의 청색광에 대해 상이한 흡수 능력이 더 필요하며 투과된 빛이 더 바람직한 청색광의 시각적 경험을 제공하도록 만들어야 한다. 따라서 우수한 청색광 차단제의 조건은 상당히 엄격하다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 구체적으로 청색광 차단 화합물을 고안 및 선별한다. 놀랍게도 본 발명자는 특히 바람직한 청색광 차단제로 사용할 수 있는 식 (I)과 식 (II) 화합물을 고안하였다. 또한 본 발명은 식 (I) 또는 식 (II)를 단독 사용하거나 식 (I) 또는 식 (II)를 조합 사용하는 청색광 차단제의 청색광 차단 시스템을 고안하였다. 본 발명은 종래의 청색광 차단제의 단점을 극복하였다. 예를 들어, 종래의 짙은 색 염료 또는 무기 형광분말 청색광 차단제를 제품으로 만들었을 때 색상이 너무 짙은 단점을 극복하였다. 다른 예를 들어, 종래의 청색광 차단제가 장파장 청색광을 과도하게 흡수하여 시각적 느낌이 좋지 않은 단점을 극복하였다.
본 발명의 청색광 차단제 시스템의 가장 기본적인 설계는 식 (I) 또는 식 (II) 청색광 차단 화합물을 단독으로 사용하는 것이다. 약 400±20nm에서, 식 (I) 또는 식 (II)가 모두 최대 흡수 피크를 가지기 때문이다. 청색광 차단 화합물은 조합 사용할 수도 있으며, 예를 들어 식 (I-1), 식 (I-2), 식 (I-3)의 세 가지 유사체 간의 조합, 또는 예를 들어 식 (II-1), 식 (II-2)의 두 가지 유사체 간의 조합이 있다. 이는 한편으로는 유사체 간에 우수한 상용성이 있고, 다른 한편으로는 유사체 간 비율을 조정함으로써 상이한 파장 대역의 청색광을 선택적으로 흡수해 투과된 청색광을 보다 바람직한 시각적 느낌을 부여할 수 있다는 장점이 있다.
청색광 영역에서 식 (I-1), 식 (I-2) 및 식 (I-3)의 최대 흡수는 각각 약 390nm, 380nm 및 420nm(용매에 따라 약간 다름)이다. 특정 비율로 서로 혼합하면 다른 청색광 필터링 효과를 얻을 수 있다. 식 (I-1), 식 (I-2), 식 (I-3) 화합물은 유사한 구조를 가지며 거의 모든 비율로 혼합할 수 있다. 따라서 식 (I-1), 식 (I-2) 및 식 (I-3) 화합물의 비율을 제어함으로써, 상이한 파장 대역의 청색광을 선택적으로 흡수해 투과된 청색광에 보다 바람직한 시각적 느낌을 부여할 수 있다. 마찬가지로, 본 청색광 차단제 시스템은 식 (II) 화합물의 조합일 수도 있으며, 예를 들어 식 (II-1), 식 (II-2) 화합물의 조합이 있다. 식 (II-1), 식 (II-2) 청색광 영역의 최대 흡수는 각각 약 380nm, 420nm이며(용매에 따라 약간 다름), 식 (II-1)과 식 (II-2)의 비율을 제어함으로써 상이한 파장 대역의 청색광을 선택적으로 흡수해 투과된 청색광에 보다 바람직한 시각적 느낌을 부여할 수 있다. 본 청색광 차단제 시스템은 식 (I)과 식 (II) 화합물의 조합일 수도 있으며, 예를 들어 식 (I-1), 식 (I-2), 식 (I-3), 식 (II-1), 식 (II-2) 화합물 간의 조합이 있다. 식 (I-1), 식 (I-2), 식 (I-3), 식 (II-1), 식 (II-2) 화합물은 약 400±20nm에서 모두 최대 흡수 피크를 가지며, 이들 모두 유해한 단파장 청색광을 효과적으로 제거할 수 있다. 또한 식 (I-1), 식 (I-2), 식 (I-3), 식 (II-1) 및 식 (II-2) 화합물은 410nm 내지 450nm 사이의 흡수값이 모두 선형 감쇠에 근접하여 투과된 청색광에 더 바람직한 시각적 느낌을 부여할 수 있다. 식 (I)과 식 (II) 화합물은 구조가 근접하지 않지만, 식 (I)과 식 (II) 화합물 간 공유 가능한 용매에는 톨루엔(toluene), 부탄온(butanone), 이소프로판올(isopropanol), 에틸 아세테이트(ethyl acetate), 아세토니트릴(acetonitrile) 등이 포함된다. 따라서 식 (I)과 식 (II) 화합물은 각종 비율로 혼합해 청색광 필터링 효과를 구현할 수 있다.
본 청색광 차단제 시스템은 다른 자외선 차단 화합물과 조합 사용하여 자외선 및 청색광을 동시에 차단하는 기능을 구현할 수 있다. 예를 들어, 디메틸(p-메톡시벤질리덴)말로네이트(즉, 식 (II-5) 화합물, UV 흡수 최대 흡수 피크 314nm), 테트라에틸 2,2'-(1,4--페닐렌디메틸리딘)비스말로네이트(tetraethyl 2,2'-(1,4-phenylenedimethylidyne)bismalonate)(즉, 식 (II-6) 화합물, UV 흡수 최대 흡수 피크 320nm), 시아노 p-메톡시신나메이트(즉, 식 (II-7) 화합물, UV 흡수 최대 흡수 피크 340nm)가 있다.
UVA(약 320-400nm) 자외선은 유리를 투과할 수 있으며 주로 실내 자외선 파장 대역이다. UVB(약 290-320nm) 자외선은 태양광 조사가 피부에 광생체 효과(photobiological effect)를 일으키는 주요 자외선 파장 대역이다. 많은 응용에서 UVA(약 320-400nm)와 전파장 대역 청색광(약 380nm-450nm)을 동시에 흡수하는 것이 기대된다. 또한 UVAB(약 290-400nm)와 전파장 대역 청색광(약 380-450nm)을 동시에 흡수하는 UV-청색광 차단 시스템도 기대된다. 410nm-450nm는 에너지가 비교적 낮은 장파장 청색광이다. 410nm에서 450nm 사이에서 점차 적게 흡수하는 청색광 차단 시스템이 기대되는데, 이는 투과광이 비교적 바람직한 시각적 느낌을 제공할 수 있기 때문이다. UVAB(약 290-400nm)를 흡수하며 동시에 선택적으로 청색광(410nm에서 450nm 사이에 점차 적게 흡수)을 흡수하는 UV-청색광 차단 시스템이 더욱 기대된다. 예를 들어, 식 (I-1), 식 (I-2), 식 (I-3), 식 (II-1), 식 (II-2), 식 (II-5), 식 (II-6), 식 (II-7) 중 하나 이상의 화합물의 특정 조합이 있다.
본 발명의 화합물에 있어서,
Figure pct00003
여기에서, R1 내지 R3은 각각 독립적으로 H, 직쇄 또는 분지쇄 C1 내지 C6 알킬, OR3 및 N(R3)2로부터 선택되고, R4 내지 R6은 각각 독립적으로 H 및 직쇄 또는 분지쇄 C1 내지 C6 알킬로부터 선택되고, R7 내지 R8은 각각 독립적으로 COOR9, CONR10R11, COR12 및 CN으로부터 선택되고, R9는 H, 직쇄 또는 분지쇄 C1 내지 C18 알킬 및 폴리에틸렌 글리콜로부터 선택되고, R10 내지 R12는 각각 독립적으로 H, 직쇄 또는 분지쇄 C1 내지 C6 알킬 및 페닐로부터 선택된다.
비교적 바람직한 방안에 있어서, 여기에서 R1 내지 R2는 각각 독립적으로 C1 내지 C5 알킬, OCH3 및 N(CH3)2로부터 선택되고, R3 내지 R4는 H이고, R5 내지 R6은 각각 독립적으로 직쇄 또는 분지쇄 C1 내지 C4 알킬로부터 선택되고, R7 내지 R8은 각각 독립적으로 COOR9, CONR10R11, COR12 및 CN으로부터 선택되고, R9는 H, 직쇄 또는 분지쇄 C1 내지 C18 알킬 또는 분자량이 40 내지 500인 폴리에틸렌 글리콜이고, R10 내지 R12는 각각 독립적으로 H, 직쇄 또는 분지쇄 C1 내지 C4 알킬 및 페닐로부터 선택된다.
보다 바람직한 방안에 있어서, R1 내지 R2는 각각 독립적으로 t-부틸(t-butyl), 메톡시(methoxy) 및 디메틸아미노(dimethylamino)로부터 선택되고, R3 내지 R4는 H이고, R5 내지 R6은 각각 독립적으로 직쇄 또는 분지쇄의 C1 내지 C4 알킬이고, R7 내지 R8은 각각 독립적으로 COOR9 및 CN으로부터 선택되고, R9는 직쇄 또는 분지쇄의 C1 내지 C4 알킬 또는 분자량이 40 내지 350인 폴리에틸렌 글리콜이다.
특히 바람직한 방안에 있어서, 식 (I-1), 식 (I-2), 식 (I-3), 식 (II-1) 및 식 (II-2)의 화합물을 포함한다.
Figure pct00004
특히 바람직한 방안에 있어서, 식 (I-1), 식 (I-2), 식 (I-3), 식 (II-1) 및 식 (II-2) 중 하나 이상의 화합물의 조합을 더 포함한다. 또 다른 특히 바람직한 방안에 있어서, 식 (I-1), 식 (I-2), 식 (I-3), 식 (II-1), 식 (II-2), 식 (II-5), 식 (II-6), 식 (II-7) 중 하나 이상의 화합물의 조합을 포함한다. 여기에서, 식 (II-5), 식 (II-6) 및 식 (II-7)은 자외선 차단 화합물이다.
Figure pct00005
자외선 차단 화합물은 디메틸(p-메톡시벤질리덴)말로네이트(식 (II-5) 화합물), 2,2'-(1,4--페닐렌디메틸리딘)비스말로네이트(식 (II-6) 화합물), 시아노 p-메톡시신나메이트(식 (II-7) 화합물), (2-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀((2-benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(1-methyl-1-phenylethyl)phenol), 2,2'-메틸렌비스(4-tert-옥틸-6-벤조트리아졸 페놀)(2,2'-methylenebis(4-tert-octyl-6- benzotriazol phenol)) 또는 기타 자외선 차단 화합물일 수 있다.
본 발명의 식 (II) 화합물의 폴리에틸렌 글리콜과 지방 에스테르의 치환기는 응용 시 낮은 이동성과 높은 상용성을 가진다. 또한, 본 발명에서 상기 식 (II)의 신나메이트계 화합물은 각종 수지, 단량체 또는 프리폴리머와 반응하여 낮은 이동성과 높은 상용성의 이점을 구현할 수 있다.
본 발명의 청색광 차단 조성물은 선택적으로 자유 라디칼 스캐빈저(scavenger) 또는 산화 방지제 또는 중합 억제제를 첨가해 예기치 못한 광반응을 차단할 수 있다. 또한, 조성물의 pH 조절을 통해서도 예기치 못한 광반응을 차단할 수 있다. 청색광 차단 조성물의 중합 반응에서, 적절한 파장 대역의 개시제를 선택하면 예기치 못한 광반응의 발생을 피할 수 있다.
전술한 바와 같이, 인쇄 회로 기판의 포토레지스트 중 광개시제로서 공지된 식 (I)과 식 (II)의 화합물은 자유 라디칼이 일련의 광화학 반응을 생성하도록 만드는 데 사용된다. 이는 파괴적인 작용에 속하며, 본 발명의 청색광 차단제 필터링의 보호 기능과는 완전히 다르다. 또한, 본 발명에서 청색광 차단 시스템의 응용은 청색광을 필터링시키는 것이며, 한편으로는 투과된 광선이 인체에 유해한 단파장 청색광을 갖지 않도록 만들고, 다른 한편으로는 단파장 청색광 이외의 가시광선에 대하여 여전히 높은 투과력을 가진다. 이는 인쇄 회로 기판에서 불투광층의 섬유 강화 수지의 광 반사 또는 차단 기능과는 완전히 다르다. 또한, 본 발명에서 청색광 차단 시스템의 청색광 필터링과 전하 이동 기능도 완전히 다르다.
식 (I-1) 화합물의 합성 경로(실시예 1):
Figure pct00006
식 (II-1) 화합물의 합성 경로(실시예 4):
Figure pct00007
본 발명에서 청색광 차단 시스템의 기본 구조에는 하나 이상의 청색광 차단 필름층 및/또는 기저층 및/또는 이형층이 포함된다. 기본적으로 청색광 차단 조성물을 기저층 또는 이형층에 코팅한 후 건조시킨다. 또는, 전사 코팅 공정을 채택하여 먼저 이형필름 상에 코팅한 다음 기저층으로 전사한다. 청색광 차단 필름 상하층에 각각 한 층의 이형필름층 OCA(Optically Clear Adhesive) 광학 필름을 접착한다. 코팅 방식은 종래의 브러시 코팅, 스프레이 코팅, 커튼 코팅, 롤 코팅, 슬릿 코팅, 에어나이프 코팅, 블레이드 코팅 및 계량바 코팅(metering bar coating)을 포함하는 일반적인 기술이다. 건조 방법에는 자연 건조, 마이크로웨이브 건조, 자외선 건조, 적외선 건조 및 열풍 건조가 포함된다. 기저층에는 폴리에스테르(polyester), 유리, 폴리에틸렌(polyethylene), 폴리프로필렌(polypropylene), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리아미드(polyamide), 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리메타크릴레이트(polymethacrylate), 폴리비닐 아세테이트(polyvinyl acetate) 및 폴리비닐 클로라이드(polyvinyl chloride) 중 하나 이상의 혼합이 포함된다. 이형필름에는 실리콘 산화 화합물과 비실리콘 산화 화합물 재질이 포함된다. 비실리콘 산화 화합물에는 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리우레아(polyurea), 폴리아크릴산(polyacrylic acid), 폴리에스테르 및 플루오로카본(fluorocarbon) 중 하나 이상의 혼합이 포함된다. OCA 광학 접착제는 투명 소자 접착 및 결합, 디스플레이 조립, 렌즈 조립, 패널, 유리 또는 폴리카보네이트(polycarbonate) 등 플라스틱 재료의 접합과 같은 다양한 분야에 두께에 따라 적용될 수 있다. 청색광 차단 필름에는 UV 흡수 필름층, 방담(antifogging) 필름층 및 대전방지(antistatic) 필름층과 같은 다른 필름층이 더 포함될 수 있다. 청색광 차단 필름은 광학 렌즈, 고글, 렌즈, 디스플레이, 패널, 조명 보호와 같은 광학 또는 전자 산업에 응용할 수 있다.
열개시(thermal initiation) 청색광 차단 조성물에는 통상적으로 청색광 차단제, 열개시제, 단량체, 용매 및 보조제가 포함된다. 열개시제는 개시제의 사용 온도 범위에 따라 알킬 과산화물, 알킬 과산화수소 화합물, 퍼옥시에스터(peroxyester) 화합물 중 하나 이상의 혼합인 고온(100℃ 이상) 개시제, 아조(azo) 화합물, 디아실 퍼옥시드(diacyl peroxide), 과황산염(persulfate) 등인 중간 온도(40 내지 100℃ 개시제, 산화 환원 개시 시스템과 같은 저온(0 내지 40℃) 개시제로 나뉜다. 열개시제는 분자 구조에 따라 아조 화합물과 과산화물 두 가지로 나뉠 수 있다. 일반적으로 사용되는 아조 화합물에는 아조비스이소부티로니트릴(azobisisobutyronitrile, ABIN), 아조비스이소헵토니트릴(azobisisoheptonitrile, ABVN) 및 카르복실(carboxyl) 또는 술폰산기(sulfonic group)를 갖는 아조 화합물이 포함된다. 일반적으로 사용되는 과산화물에는 벤조일 퍼옥시드(benzoyl peroxide, BPO), 비스(2,4-디클로로벤조일)퍼옥시드(bis(2,4-dichlorobenzoyl)peroxide), 디아세틸 퍼옥시드(diacetyl peroxide), 디옥타노일 퍼옥시드(dioctanoyl peroxide), 디라우로일 퍼옥시드(dilauroyl peroxide), 디큐밀 퍼옥시드(dicumyl peroxide, DCP), 디-tert-부틸 퍼옥시드(di-tert-butyl peroxide, DTBP), tert-부틸 퍼옥시 벤조에이트(tert-butyl peroxy benzoate, BPB), 큐멘 하이드로퍼옥시드(cumene hydroperoxide, CHP), tert-부틸 하이드로퍼옥시드(tert-butyl hydroperoxide, TBH), 디이소프로필 퍼옥시디카보네이트(diisopropyl peroxydicarbonate, IPP), 디이소부틸 퍼옥시디카보네이트(diisobutyl peroxydicarbonate, IBP), 퍼옥시디카보네이트, 메틸 에틸 케톤 퍼옥시드(methyl ethyl ketone peroxide), 사이클로헥사논 퍼옥시드(cyclohexanone peroxide), 과황산염 및 과산화수소가 포함된다. 단량체는 이중 결합 또는 기타 활성 작용기를 함유하는 소분자 화합물이다. 이중 결합계 단량체에는 아크릴산(acrylic acid)계, 아크릴레이트(acrylate)계, 메타크릴산(methacrylic acid)계, 메타크릴레이트(methacrylate)계, 히드록시 아크릴레이트(hydroxy acrylate)계, 히드록시 메타크릴레이트(hydroxy methacrylate)계, 디아세톤 아크릴아미드(diacetone acrylamide)계, 에틸렌(ethylene)계, 스티렌(styrene)계, 디엔(diene)계, 비닐 플루오라이드(vinyl fluoride)계, 비닐 클로라이드(vinyl chloride)계, 아크릴로니트릴(acrylonitrile)계, 비닐 아세테이트(vinyl acetate)계, 실리콘 아크릴레이트(silicone acrylate)계, 에폭시 아크릴레이트(epoxy acrylate)계, 폴리우레탄 아크릴레이트(polyurethane acrylate)계가 포함된다. 아크릴산 또는 아크릴레이트계 단량체에는 아크릴레이트 연질 단량체, 아크릴레이트 경질 단량체, 아크릴산 기능성 단량체 및 가교 단량체가 포함된다. 비교적 바람직한 아크릴레이트 연질 단량체는 예를 들어 에틸 아크릴레이트(ethyl acrylate), 부틸 아크릴레이트(butyl acrylate), 2-에틸헥실 아크릴레이트(2-ethylhexyl acrylate), 이소옥틸 아크릴레이트(isooctyl acrylate)이다. 비교적 바람직한 아크릴산 경질 단량체는 예를 들어 메틸 아크릴레이트(methyl acrylate), 메틸 메타크릴레이트(methyl methacrylate)이다. 비교적 바람직한 아크릴산 기능성 단량체는 예를 들어 아크릴산, 메타크릴산이다. 비교적 바람직한 가교 단량체는 예를 들어 히드록시에틸 아크릴레이트(hydroxyethyl acrylate), 히드록시프로필 아크릴레이트(hydroxypropyl acrylate), 히드록시에틸 메타크릴레이트(hydroxyethyl methacrylate), 히드록시프로필 메타크릴레이트(hydroxypropyl methacrylate) 및 아디픽 디히드라지드(adipic dihydrazide, ADH)이다. 청색광 차단 필름에 사용되는 열경화성 수지는 예를 들어 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 페놀(phenolic) 수지, 폴리우레아 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 알키드(alkyd) 수지이다. 이의 단량체는 이소시아네이트(isocyanate)계, 에피클로로히드린(epichlorohydrin)계, 페놀(phenol)계, 알데히드(aldehyde)계, 폴리올(polyol)계, 지방산(fatty acid)계, 다가산(polybasic acid)계, 무수물계, 폴리티올(polythiol)계, 폴리아민(polyamine)계, 알코올아민(alcohol amine)계 및 티올아민(thiolamine)계일 수 있다. 용매에는 아세토니트릴, 아세톤(acetone), 메틸 에틸 케톤(methyl ethyl ketone), 부탄온, 시클로헥사논(cyclohexanone), 벤젠(benzene), 톨루엔, 자일렌(xylene), 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트(butyl acetate), 메틸 이소부틸 케톤(methyl isobutyl ketone), 메탄올(methanol), 에탄올(ethanol), 이소프로판올, 부탄올(butanol), 에틸렌 글리콜(ethylene glycol), 프로필렌 글리콜(propylene glycol), 부탄디올(butanediol), 비닐 클로라이드(vinyl chloride), 디클로로메탄(dichloromethane), 클로로포름(chloroform), 이황화탄소(carbon disulfide), 테트라히드로푸란(tetrahydrofuran), 디메틸포름아미드(dimethylformamide, DMF), 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르(ethylene glycol monomethyl ether, EGMME)가 포함된다. 폴리우레탄은 폴리에스테르 폴리올(polyester polyol) 또는 폴리에테르 폴리올(polyether polyol)과 이소시아네이트의 반응에 의해 생성된다. 구체적인 실시방식에 있어서, 예를 들어 폴리올과 이소시아네이트, 사슬 연장제 및 촉매(예를 들어 디메틸시클로헥실아민(dimethylcyclohexylamine)을 혼합한 후, 몰드에 주입하여 경화 성형한다. 또는 이소시아네이트와 폴리올을 먼저 반응시켜 프리폴리머를 형성한 다음 사슬 연장제를 첨가한다. 에폭시 수지 단량체는 에피클로로히드린과 비스페놀 A(bisphenol A)계 화합물의 반응에 의해 생성된다. 구체적인 실시방식에 있어서, 비스페놀 A를 에피클로로히드린과 반응시킨 후 디시안디아미드(Dicy) 또는 아디픽 디히드라지드(ADH)와 같은 경화제 및 가속화제 2-메틸이미다졸(2-methylimidazole)을 첨가하는 단계가 포함된다. 알키드 수지의 단량체에는 폴리올과 지방산이 포함된다. 구체적인 실시방식에 있어서, 예를 들어 글리세롤(glycerol), 이소프탈릭 무수물(isophthalic anhydride) 및 지방산을 반응기에 넣고, 원하는 점도 및 산가(acid value)가 될 때까지 200 내지 250℃로 가열한다. 불포화 폴리에스테르 수지는 에스테르 결합과 불포화 이중 결합을 갖는 선형 고분자 화합물이다. 단량체에는 불포화 이원산과 불포화 디올, 또는 포화 이원산과 불포화 디올이 포함된다. 구체적인 실시방식에 있어서, 예를 들어 프로필렌 글리콜, 말레산 무수물(maleic anhydride), 및 프탈산 무수물(phthalic anhydride)을 반응기에서 축중합 반응을 진행한다. 생성된 불포화 폴리 에스테르에 스티렌 단량체를 첨가하여 점성 수지를 만들며, 사용 시 시클로헥사논 퍼옥시드(cyclohexanone peroxide)를 첨가한다. 보조제에는 안정화제, 커플링제, 레벨링제, 소포제, 분산제, 용매, 연쇄 이동제, 촉매, 강인화제, 점착 부여제, 가소제, 증점제, 희석제, 난연제, 중합 억제제, 방부제, 경화제 및 산염기 블렌딩제 중 하나 이상의 혼합이 포함된다. 일반적으로 사용하는 연쇄 이동제는 예를 들어 지방족 티올(aliphatic thiol)과 도데실티올(dodecylthiol)이 있다. 일반적으로 사용하는 안정화제는 예를 들어 UV 흡수제, 힌더드 아민(hindered amine), 산화 방지제, 가수분해 방지제, 과산화물 스캐빈저, 자유 라디칼 스캐빈저가 있다. 열개시 청색광 차단 조성물에는 질량 함량 0.01% 내지 20%의 청색광 차단제, 질량 함량 0.01 내지 10%의 개시제, 함량 50 내지 99.98%의 단량체 또는 프리폴리머 또는 폴리머, 질량 함량 0 내지 80%의 보조제가 포함될 수 있다. 여기에서 청색광 차단제 질량 함량은 0.05 내지 10%가 비교적 바람직하고, 0.1 내지 5%가 보다 바람직하다. 구체적인 실시방식에 있어서, 아크릴산 연질 단량체, 아크릴산 경질 단량체, 아크릴산 기능성 단량체 및 아크릴산 가교 단량체를 혼합하여 단량체 혼합물을 형성한다. 단량체 혼합물, 개시제 및 용매를 반응기에 첨가한 후 승온시켜 반응시키며, 반응이 완료된 후 실온까지 강온시켜 재료를 꺼내고 기저층에 균일하게 코팅시키면 된다.
광개시 청색광 차단 조성물에는 통상적으로 청색광 차단제, 중합 단량체 및/또는 프리폴리머, 광개시제 및 보조제가 포함된다. 광개시제에는 주로 자유 라디칼형 광개시제와 양이온형 광개시제가 있고, 여기에서 자유 라디칼형 광개시제는 다시 분해형 광개시제와 및 수소 제거형 광개시제로 나뉜다. 분해형 자유 라디칼 광개시제에는 아릴 알킬 케톤(aryl alkyl ketone)계 화합물을 중심으로 벤조인(benzoin) 유도체, 디알콕시 페닐에틸 케톤(dialkyloxy phenylethyl ketone), α-히드록시알킬 페닐 케톤(α-hydroxyalkyl phenyl ketone), α-아미노 알킬 페닐 케톤(aminoalkyl phenyl ketone), 아실포스핀 산화물(acylphosphine oxide), 에스테르화된 옥심 케톤(esterified oxime ketone) 화합물, 아릴 퍼옥시에스테르(arylperoxyester) 화합물, 할로겐화 메틸 방향족 케톤(halogenated methyl aromatic ketone), 유기 함황 화합물, 벤조일 포르메이트(benzoyl formate) 중 하나 이상의 혼합이 포함된다. 수소 제거형 자유 라디칼형 광개시제에는 활성 아민, 벤조페논(benzophenone), 티오크산톤(thioxanthone) 및 그 유도체, 안트라퀴논(anthraquinone), 활성 아민, 쿠마론(cumarone) 및 캄포퀴논(camphorquinone) 중 하나 이상의 혼합이 포함된다. 양이온형 광개시제에는 디아조늄염(diazonium salt), 디아릴이오도늄염(diaryliodonium salt), 트리아릴술포늄 염(triarylsulfonium salt), 알킬술포늄 염(alkylsulfonium salt), 철 아렌 염(iron arene salt), 술포닐옥시 케톤(sulfonyloxy ketone) 및 트리아릴 실릴 에테르(triaryl silyl ether) 중 하나 이상의 혼합이 포함된다. 프리폴리머는 작용기를 함유하고 추가로 반응할 수 있는 올리고머일 수 있으며, 예를 들어 메타크릴레이트 올리고머, 아크릴레이트 올리고머, 에폭시 아크릴레이트 올리고머, 폴리우레탄 아크릴레이트 올리고머, 실리콘 아크릴레이트 올리고머, 아미노 아크릴레이트(amino acrylate) 올리고머, 카르복시아크릴레이트(carboxyacrylate) 올리고머, 인산염계 아크릴레이트 올리고머, 히드록시 폴리아크릴레이트(hydroxy polyacrylate) 올리고머, 폴리에스테르 아크릴레이트 올리고머, 폴리에테르 아크릴레이트 중 하나 이상의 혼합이다. 중합 단량체는 다양하게 첨가 또는 중축합한 소분자의 하나 이상의 혼합일 수 있다. 여기에서 이중 결합계 단량체에는 아크릴산계, 아크릴레이트계, 메타크릴산계, 메타크릴레이트계, 히드록시 아크릴레이트계, 히드록시 메타크릴레이트계, 디아세톤 아크릴아미드계, 에틸렌계, 스티렌계, 디엔계, 비닐 플루오라이드계, 비닐 클로라이드계, 아크릴로니트릴계, 비닐 아세테이트계, 실리콘 아크릴레이트계, 에폭시 아크릴레이트계, 폴리우레탄 아크릴레이트계가 포함된다. 아크릴산 또는 아크릴레이트계 단량체에는 아크릴레이트 연질 단량체, 아크릴레이트 경질 단량체, 아크릴산 기능성 단량체 및 가교 단량체가 포함된다. 비교적 바람직한 아크릴레이트 연질 단량체는 예를 들어 에틸 아크릴레이트, 부틸 아크릴레이트, 2-에틸헥실 아크릴레이트, 이소옥틸 아크릴레이트이다. 비교적 바람직한 아크릴산 경질 단량체는 예를 들어 메틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트이다. 비교적 바람직한 아크릴산 기능성 단량체는 예를 들어 아크릴산, 메타크릴산이다. 비교적 바람직한 가교 단량체는 예를 들어 히드록시에틸 아크릴레이트, 히드록시프로필 아크릴레이트, 히드록시에틸 메타크릴레이트, 히드록시프로필 메타크릴레이트 및 아디픽 디히드라지드이다. 여기에서 식 (I) 청색광 차단제의 질량 함량은 0.01% 내지 20%, 바람직하게는 0.05% 내지 10%, 더욱 바람직하게는 0.1% 내지 5%이다. 보조제에는 안정화제, 커플링제, 레벨링제, 소포제, 분산제, 용매, 연쇄 이동제, 촉매, 강인화제, 점착 부여제, 가소제, 증점제, 희석제, 난연제, 중합 억제제, 방부제, 경화제 및 산염기 블렌딩제 중 하나 이상의 혼합이 포함된다. 일반적인 보조제에는 실란(silane) 커플링제와 같은 커플링제가 포함된다. 일반적으로 사용하는 보조제에는 안정화제가 포함되며, 예를 들어 UV 흡수제, 힌더드 아민, 산화 방지제, 자유 라디칼 스캐빈저 중 하나 이상의 혼합이다. 광개시 청색광 차단 조성물에는 질량 함량 0.01% 내지 20%의 청색광 차단제, 질량 함량 0.01 내지 10%의 개시제, 5 내지 99.98%의 단량체 및/또는 프리폴리머, 질량 함량 0 내지 95%의 보조제가 포함된다. 비교적 바람직하게는, 청색광 차단제의 질량 함량은 0.05 내지 10%이고, 개시제의 질량 함량은 0.05 내지 5%이고, 단량체 및/또는 프리폴리머는 5 내지 99.9%이며, 보조제의 질량 함량은 0 내지 50%이다. 구체적인 실시방식에 있어서, 광개시 청색광 차단 조성물(예를 들어, 아크릴레이트 단량체, 아크릴레이트 프리폴리머, 청색광 흡수제, 개시제 Photocure 84의 조합)을 혼합하고, 깨끗한 기저층에 균일하게 코팅한 다음 UV광으로 경화시켜 청색광 차단 필름을 수득한다.
비반응형 청색광 차단 조성물은 그 구성에 청색광 차단제, 폴리머, 용매 및/또는 보조제가 포함된다. 이는 주로 코팅 필름 중 용매 또는 기타 분산 매질의 휘발을 이용하여 고체상 필름을 형성한다. 폴리머는 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리비닐 클로라이드, 폴리스티렌(polystyrene), 폴리아크릴로니트릴(polyacrylonitrile), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(polybutylene terephthalate), 폴리카보네이트, 폴리아미드, 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체, 폴리비닐 알코올(polyvinyl alcohol), 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체, 열가소성 폴리우레탄, 폴리이미드(polyimide), 셀룰로오스(cellulose), 폴리페닐렌 설파이드(polyphenylene sulfide), 폴리페닐렌 옥사이드(polyphenylene oxide), 폴리옥시메틸렌(polyoxymethylene), 폴리술폰(polysulfone), 폴리 에테르 에테르 케톤(poly ether ether ketone), 폴리아미드-이미드(polyamide-imide), 폴리에테르이미드(polyetherimide), 폴리에테르술폰(polyethersulfone) 및 폴리에테르이미드(polyetherimide) 중 하나 이상의 혼합으로부터 선택될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 비개시 청색광 차단 조성물에는 질량 함량 0.01 내지 20%의 청색광 차단제, 함량 5 내지 99.99%의 폴리머, 질량 함량 0 내지 95%의 보조제가 포함될 수 있다. 구체적인 실시방식에 있어서, 폴리스티렌을 예로 들어, 폴리스티렌 플라스틱을 건조시킨 다음 작은 조각으로 분쇄하고 자일렌/에틸 아세테이트의 혼합 용매에 넣고 완전히 용해될 때까지 교반한다. 이어서 가소제(예를 들어 디부틸 프탈레이트(dibutyl phthalate)), 청색광 차단제를 첨가하여 가열 및 교반하여 조성물을 수득한다. 코팅 및 건조 후 용매를 제거하여 청색광 차단 필름을 수득한다. 폴리스티렌의 가소제에는 프탈레이트 에스테르(phthalate ester)계, 디터펜(diterpene), 에폭시화 대두유(epoxidized soybean oil), 에폭시화 대두유의 에틸 헥실 에스테르(ethyl hexyl ester), 알킬 벤젠 술포네이트(alkyl benzene sulfonate)가 포함된다.
본 발명의 청색광 차단 광학 렌즈 또는 고글에는 유리 및 고분자 재료의 렌즈가 포함되며, 예를 들어 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 나일론(PA), TPX(Polymethylpentene), 폴리스티렌, 디에틸렌 글리콜 비스 알킬카보네이트 수지(diethylene glycol bis alkylcarbonate, PEDC)가 포함된다. 청색광 차단제는 특정 비율에 따라 수지에 첨가하여 함께 성형할 수 있으며, 청색광 차단제의 질량 함량은 0.01% 내지 20%, 바람직하게는 0.05% 내지 10%, 더욱 바람직하게는 0.1% 내지 5%이다. 본 발명은 함침 공정을 사용하여 렌즈를 청색광 차단제 함유 용액에 침지시킬 수도 있다. 본 발명은 필름 공정을 채택하여 렌즈 표면에 청색광 차단 필름을 형성할 수도 있다. 본 발명은 전사 코팅 공정을 채택하여, 예를 들어 이형필름 상에 먼저 코팅한 후 광학 렌즈로 전사할 수도 있다.
도 1은 본 발명의 화합물 (I-1)과 (II-1)의 UV-VIS 흡수도이다.
도 2는 청색광 차단 필름 측면도이며, 여기에서 1은 이형층이고, 2는 청색광 차단층이고, 3은 기저층이다.
도 3은 청색광 차단 OCA(Optically Clear Adhesive) 광학 접착제 측면도이고, 여기에서 1은 이형층이고, 2는 청색광 차단층이고, 3은 이형층이다.
이하에서는 본 발명의 구체적인 실시예에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이러한 실시예에 한정되지 않는다.
실시예 1: 식 (I-1) 화합물, 1-페닐-3-(4-부틸스티릴)-5-(4-tert-부틸페닐)피라졸린(1-phenyl-3-(4-butylstyryl)-5-(4-tert-butylphenyl)pyrazoline)의 합성
Figure pct00008
새로 제조한 소듐 메톡시드(sodium methoxide) 용액에 4-tert-부틸벤즈알데히드(4-tert-butylbenzaldehyde) 16.2g 및 아세톤 3.0g을 첨가하고 실온에서 3시간 동안 교반한다. 물세척 및 건조를 진행하여 생성물 비스(2-(4-tert-부틸)페닐비닐)케톤(bis(2-(4-tert-butyl)phenylvinyl)ketone)을 수득한다. 비스(2-(4-tert-부틸)페닐비닐)케톤 7g과 페닐히드라진(phenylhydrazine) 2.2g을 취하여 아세트산에서 4시간 동안 반응시킨다. 냉각 후 생성물을 정제하여 1-페닐-3-(4-부틸스티릴)-5-(4-tert-부틸페닐)피라졸린을 수득하며, 녹는점은 192 내지 197℃이고, UV-VIS(ETOH.max.) 387nm이다.
실시예 2: (I-2) 화합물, 1-페닐-3-(p-메톡시스티릴)-5-(p-메톡시페닐)피라졸린(1-phenyl-3-(p-methoxy styryl)-5-(p-methoxyphenyl)pyrazoline)의 합성
Figure pct00009
실시예 1과 동일하나, p-메톡시벤즈알데히드(p-methoxybenzaldehyde)로 4-tert-부틸벤즈알데히드를 대체하여 1-페닐-3-(p-메톡시스티릴)-5-(p-메톡시페닐)피라졸린(I-2) 화합물을 수득하며, 녹는점은 159℃이고, UV-VIS(ETOH.max.) 381nm이다.
실시예 3: (I-3) 화합물, 페닐-3-(p-메톡시스티릴)-5-(p-디메틸아미노페닐)피라졸린(phenyl-3-(p-methoxy styryl)-5-(p-dimethylaminophenyl)pyrazoline)의 합성
Figure pct00010
실시예 1과 동일하나, p-디메틸아미노벤즈알데히드(p-dimethylamino benzaldehyde)로 4-tert-부틸벤즈알데히드를 대체하여 페닐-3-(p-메톡시스티릴)-5-(p-디메틸아미노페닐)피라졸린을 수득하며, 녹는점은 192℃이고, UV-VIS(ETOH.max.) 419nm이다.
실시예 4: (II-1) 화합물 디메틸 2-(4-(디메틸아미노)벤질리덴)디메틸 말로네이트(dimethyl 2-(4-(dimethylamino)benzylidene)dimethyl malonate)의 합성
Figure pct00011
4-(디메틸아미노)벤즈알데히드(4-(dimethylamino benzaldehyde) 15g 및 디메틸 말로네이트 14.5g을 디클로로메탄에 용해시켜 교반하고, 분자체(molecular sieve)를 첨가하여 물을 제거하고 염화칼슘 튜브를 설치하여 방수시킨다. 피페리딘(piperidine) 1ml 및 아세트산 0.6ml를 첨가하고, 2시간 동안 가열 환류시키며, 반응이 진행되는 동안 새로운 분자체를 보충한다. 반응이 완료된 후 용매를 제거하고, 산세척 및 건조를 수행하여 디메틸 2-(4-(디메틸아미노)벤질리덴)디메틸 말로네이트 (II-1) 화합물을 수득하며, 녹는점은 87 내지 88℃이고, UV-VIS(CH3CN max.) 384nm이다.
실시예 5: (II-2) 화합물 2-에틸-2-시아노-3-(4-(디메틸아미노)페닐)에틸아크릴레이트(2-ethyl-2-cyano-3-(4-(dimethylamino)phenyl)ethylacrylate)의 합성
Figure pct00012
실시예 4 방법과 동일하나, 2-에틸 시아노아세테이트(2-ethyl cyanoacetate)로 디메틸 말로네이트를 대체하여 2-에틸-2-시아노-3-(4-(디메틸아미노)페닐)에틸아크릴레이트 (II-2) 화합물을 수득하며, 녹는점은 125 내지 126℃이고, UV-VIS(CH3CN max.) 420nm이다.
실시예 6: (II-3) 화합물 2-시아노-3-(4-(디메틸아미노)페닐)옥타데실 아크릴레이트(2-cyano-3-(4-(dimethylamino)phenyl)octadecyl acrylate)의 합성
Figure pct00013
화합물 (II-2) 24g을 톨루엔에 용해시키고 응축 수분 분리기로 110℃에서 가열 환류를 수행한다. 톨루엔 용액에 옥타데칸올(octadecanol) 27g과 p-톨루엔설폰산(p-toluenesulfonic acid) 1.5g을 첨가한다. HPLC로 반응을 모니터링하고, 반응 완료 후 진공 여과 및 건조를 통해 화합물 (II-3)을 수득한다. MS(M/Z: 468.4).
실시예 7: (II-4) 화합물 2-에틸-2-시아노-3-(4-(디메틸아미노)페닐) 폴리에테르 아크릴레이트(2-ethyl-2-cyano-3-(4-(dimethylamino)phenyl) polyether acrylate)의 합성
Figure pct00014
실시예 6 방법과 동일하나, 메톡시폴리에틸렌 글리콜(Methoxypolyethylene glycol) 350으로 옥타데칸올을 대체하고, 생성물을 GPC로 정제하여 2-에틸-2-시아노-3-(4-(디메틸아미노)페닐)폴리에테르 아크릴레이트 (II-4) 화합물을 수득한다.
실시예 8: 청색광 차단 조성물과 청색광 차단 필름
부틸 아크릴레이트(butyl acrylate) 150g, 메틸 메타크릴레이트(methyl methacrylate) 95g, 아크릴산 15g, 청색광 차단제 5.8g 및 벤조일 퍼옥시드(benzoyl peroxide) 6g을 에틸 아세테이트/톨루엔 용매에 혼합하고, 반응기에 첨가하여 75℃까지 승온시키며, 반응 2시간 후 추가로 6g의 벤조일 퍼옥시드(용매 중)를 천천히 점적하고, 약 6시간 동안 계속 반응시켜 점도를 모니터링하고, 반응 완료 후 온도를 실온으로 낮춘다. PET 필름 상에 코팅하고 건조시켜 용매를 제거한 후, 청색광 차단제의 청색광 차단 필름(100μm)을 수득한다. 청색광 파장 대역 400nm에서 투과율을 측정하였으며 그 결과는 표 1과 같다.
표 1 실시예 8 제품의 청색광 투과율
Figure pct00015
실시예 9: 청색광 차단제의 조합
표 2는 식 (I) 화합물의 단독 사용하거나 (I-1), (I-2) 및 (I-3)을 조합한 청색광 차단의 응용을 나타낸 것이다. 표 3는 식 (II) 화합물의 단독 사용하거나 (II-1), (II-2) 및 (II-5)을 조합한 청색광 차단의 응용을 나타낸 것이다. 표 4는 (I-1), (II-1) 및 (II-5)를 조합한 청색광 차단 적용을 나타낸 것이다. 표 2 내지 4에서 "380-400nm 흡수"는 비교적 짧은 파장의 청색광(비교적 높은 에너지) 흡수를 의미한다. 흡수가 클수록 비교적 짧은 파장의 청색광에 대한 보호 효과가 더 우수하다. 표 2에서 "UVA1 & 380nm-450nm 흡수"는 장파장 자외선 UVA1(약 340-400nm)과 380nm-450nm의 청색광 흡수를 의미한다. 흡수가 클수록 장파장 자외선(UVA1)과 전파장 대역 청색광에 대한 보호 효과가 더 우수하다. 표 3, 4에서 "UVAB & 380nm-450nm 흡수"는 UVAB(약 290-400nm)의 자외선과 380nm-450nm 전파장 대역의 청색광을 모두 흡수한다는 것을 의미한다. 흡수가 클수록 자외선(UVAB)과 전파장 대역 청색광에 대한 보호 효과가 더 우수하다. 표 2 내지 4에서 "410nm-450nm 흡수 점진 감소"는 410nm에서 450nm까지의 흡수가 점차적으로 감소한다는 것을 의미한다. 투과된 청색광은 비교적 바람직한 색채 시각 효과를 나타낸다. "-"는 효과가 좋지 않음을 의미하고 "+"는 효과가 나타남을 의미하고 "++"는 효과가 우수함을 의미하고, "+++"는 효과가 매우 우수함을 의미한다.
표 2 식 (I) 화합물의 청색광 차단 시약의 조합
Figure pct00016
표 3 식 (II) 화합물의 청색광 차단 시약의 조합
Figure pct00017
표 4 식 (I)과 식 (II) 화합물의 청색광 차단 시약의 조합
Figure pct00018
상기 실시예는 본 발명을 어떠한 형태로도 제한하지 않으며, 본 발명의 다양한 다른 조합 및 등가의 대체 또는 등가의 변환에 의해 얻어진 기술방안은 모두 본 발명의 보호 범위에 속한다.

Claims (11)

  1. 하나 이상의 청색광 차단 필름층, 및/또는 기저층, 및/또는 이형필름층을 포함하고, 식 (I) 및/또는 식 (II) 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 청색광 차단 시스템.
    Figure pct00019
  2. 제1항에 있어서,
    R1 내지 R3은 각각 독립적으로 H, 직쇄 또는 분지쇄 C1 내지 C6 알킬, OR3 및 N(R3)2로부터 선택되고, R4 내지 R6은 각각 독립적으로 H 및 직쇄 또는 분지쇄 C1 내지 C6 알킬로부터 선택되고, R7 내지 R8은 각각 독립적으로 COOR9, CONR10R11, COR12 및 CN으로부터 선택되고, R9는 H, 직쇄 또는 분지쇄 C1 내지 C18 알킬 및 폴리에틸렌 글리콜로부터 선택되고, R10 내지 R12는 각각 독립적으로 H, 직쇄 또는 분지쇄 C1 내지 C6 알킬 및 페닐로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 청색광 차단 시스템.
  3. 제1항에 있어서,
    식 (I) 및 식 (II) 화합물은 이하의 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 청색광 차단 시스템.
    Figure pct00020
  4. 제1항에 있어서,
    식 (I) 화합물 및 식 (II) 화합물이 개별적으로 사용되는 것을 특징으로 하는 청색광 차단 시스템.
  5. 제1항에 있어서,
    식 (I) 화합물과 식 (II) 화합물을 조합해 사용하며 그 질량비 범위가 1:5 내지 5:1인 것을 특징으로 하는 청색광 차단 시스템.
  6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 청색광 차단 시스템 제조에 사용되며, 제1항의 식 (I) 및/또는 식 (II) 화합물 및 중합 단량체 또는 폴리머를 포함하는 것을 특징으로 하는 청색광 차단 조성물.
  7. 제5항에 있어서,
    식 (I) 및/또는 식 (II) 화합물, 개시제, 중합 단량체 및/또는 프리폴리머를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제5항에 있어서,
    중합 단량체는 아크릴산계, 아크릴레이트계, 메타크릴산계, 메타크릴레이트계, 히드록시 아크릴레이트계, 히드록시 메타크릴레이트계, 에틸렌계, 스티렌계, 디엔계, 비닐 플루오라이드계, 비닐 클로라이드계, 아크릴로니트릴계, 비닐 아세테이트계, 실리콘 아크릴레이트계, 에폭시 아크릴레이트계, 폴리우레탄 아크릴레이트계, 에틸렌 옥사이드계, 이소시아네이트계, 폴리올계, 폴리티올계, 폴리아민계, 알코올아민계, 티올아민계 화합물 중 하나 이상의 혼합을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제5항에 있어서,
    안정화제, 자외선 흡수제, 레벨링제, 소포제, 분산제, 연쇄 이동제 및 커플링제, 촉매, 강인화제, 점착 부여제, 가소제, 증점제, 희석제, 난연제, 중합 억제제, 방부제, 경화제, 산염기 블렌딩제로부터 선택된 하나 이상의 보조제를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제6항에 있어서,
    식 (I) 및/또는 식 (II) 화합물의 질량 함량이 0.01% 내지 20%이고, 개시제의 질량 함량이 0.01% 내지 10%이고, 단량체 또는 프리폴리머 또는 중합체의 함량이 5% 내지 99.98%인 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 청색광을 차단하기 위한 제1항에 따른 식 (I) 및/또는 식 (II) 화합물의 용도.
KR1020207006818A 2017-08-09 2018-02-12 피라졸린계 및/또는 신나메이트계 화합물을 포함하는 청색광 차단 시스템 KR102458704B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710674417.X 2017-08-09
CN201710674417.XA CN109384878B (zh) 2017-08-09 2017-08-09 含吡唑啉类或/及苯丙烯酸类化合物之防蓝光系统
PCT/CN2018/076390 WO2019029148A1 (zh) 2017-08-09 2018-02-12 含吡唑啉类或/及苯丙烯酸类化合物之防蓝光系统

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200051622A true KR20200051622A (ko) 2020-05-13
KR102458704B1 KR102458704B1 (ko) 2022-10-25

Family

ID=65272966

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020207006818A KR102458704B1 (ko) 2017-08-09 2018-02-12 피라졸린계 및/또는 신나메이트계 화합물을 포함하는 청색광 차단 시스템

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20200181363A1 (ko)
JP (1) JP7505760B2 (ko)
KR (1) KR102458704B1 (ko)
CN (1) CN109384878B (ko)
TW (1) TWI737927B (ko)
WO (1) WO2019029148A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024181723A1 (ko) * 2023-02-28 2024-09-06 동우 화인켐 주식회사 점착제 조성물, 이에 의해 구현된 점착시트 및 광학소자

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110183996B (zh) * 2019-05-30 2021-04-20 苏州凡赛特材料科技有限公司 一种防蓝光压敏胶及其制备方法
CN110564094A (zh) * 2019-09-12 2019-12-13 伍家轩 一种防蓝光材料及其制备方法及防蓝光灯具元件
CN111303612B (zh) * 2019-11-18 2022-02-15 万华化学集团股份有限公司 一种防蓝光聚氨酯光学树脂材料
CN116615497A (zh) * 2020-12-14 2023-08-18 柯尼卡美能达株式会社 光学膜、偏振片及有机电致发光显示装置
JPWO2022138925A1 (ko) * 2020-12-25 2022-06-30
CN113307742B (zh) * 2021-05-19 2022-05-17 南京工业大学 一种蓝光吸光材料及其制备方法和应用、防蓝光镜片
CN113717311A (zh) * 2021-08-30 2021-11-30 江苏康耐特光学有限公司 一种加强防蓝光性能的树脂镜片及其制备方法
CN115894268A (zh) * 2022-11-11 2023-04-04 包头稀土研究院 一种浅底色蓝光吸收剂及其制备方法与应用

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150123383A (ko) * 2014-04-24 2015-11-04 주식회사 웰코 블루라이트 유해파장을 차단시키는 보호필름의 코팅물질 제조방법
KR101612940B1 (ko) * 2015-09-15 2016-04-15 (주)케미그라스 자외선 및 청색광 차단 기능성 안경렌즈
KR20160049101A (ko) * 2014-10-24 2016-05-09 유림특수화학 주식회사 블루라이트 차단 효과가 우수한 도료 및 이를 이용한 도막 형성 방법
KR20160088302A (ko) * 2013-11-18 2016-07-25 리껭테크노스 가부시키가이샤 청색 광 차폐성 수지 조성물
KR20180078248A (ko) * 2015-11-06 2018-07-09 에씰로 앙터나시오날 청색광으로부터 보호하는 광학 물품
KR20180078249A (ko) * 2015-11-06 2018-07-09 에씰로 앙터나시오날 청색광 및 uv 광으로부터 보호하는 광학 물품

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3837851A (en) * 1973-01-15 1974-09-24 Ibm Photoconductor overcoated with triarylpyrazoline charge transport layer
JP2931693B2 (ja) * 1991-05-07 1999-08-09 株式会社日本化学工業所 光線遮蔽剤
US5470932A (en) * 1993-10-18 1995-11-28 Alcon Laboratories, Inc. Polymerizable yellow dyes and their use in opthalmic lenses
JP2004163800A (ja) * 2002-11-15 2004-06-10 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性樹脂組成物
TWI241322B (en) * 2002-12-31 2005-10-11 Ind Tech Res Inst Recording medium dye, high density blue ray recording medium and manufacturing method thereof
CN101583325B (zh) 2006-12-27 2012-01-04 Hoya株式会社 多焦点眼用透镜
JP5179226B2 (ja) 2008-02-29 2013-04-10 セコム株式会社 屋外監視装置
KR20140130234A (ko) 2010-11-17 2014-11-07 히타치가세이가부시끼가이샤 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법
JP2012215787A (ja) * 2011-04-01 2012-11-08 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、並びに、プリント配線板及びその製造方法
JP2015189961A (ja) * 2014-03-29 2015-11-02 株式会社日本触媒 高エネルギー可視光線遮蔽性粘着剤
CN107325051A (zh) * 2017-07-11 2017-11-07 广州富锐晞新材料科技有限公司 蓝光吸收剂及其制备方法和应用
JP6861819B2 (ja) * 2017-07-26 2021-04-21 三井化学株式会社 光学材料用重合性組成物、光学材料およびその用途

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160088302A (ko) * 2013-11-18 2016-07-25 리껭테크노스 가부시키가이샤 청색 광 차폐성 수지 조성물
KR20150123383A (ko) * 2014-04-24 2015-11-04 주식회사 웰코 블루라이트 유해파장을 차단시키는 보호필름의 코팅물질 제조방법
KR20160049101A (ko) * 2014-10-24 2016-05-09 유림특수화학 주식회사 블루라이트 차단 효과가 우수한 도료 및 이를 이용한 도막 형성 방법
KR101612940B1 (ko) * 2015-09-15 2016-04-15 (주)케미그라스 자외선 및 청색광 차단 기능성 안경렌즈
KR20180078248A (ko) * 2015-11-06 2018-07-09 에씰로 앙터나시오날 청색광으로부터 보호하는 광학 물품
KR20180078249A (ko) * 2015-11-06 2018-07-09 에씰로 앙터나시오날 청색광 및 uv 광으로부터 보호하는 광학 물품

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024181723A1 (ko) * 2023-02-28 2024-09-06 동우 화인켐 주식회사 점착제 조성물, 이에 의해 구현된 점착시트 및 광학소자

Also Published As

Publication number Publication date
TWI737927B (zh) 2021-09-01
KR102458704B1 (ko) 2022-10-25
WO2019029148A1 (zh) 2019-02-14
JP2020530140A (ja) 2020-10-15
CN109384878A (zh) 2019-02-26
CN109384878B (zh) 2023-01-24
JP7505760B2 (ja) 2024-06-25
TW201910315A (zh) 2019-03-16
US20200181363A1 (en) 2020-06-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102458704B1 (ko) 피라졸린계 및/또는 신나메이트계 화합물을 포함하는 청색광 차단 시스템
KR102635085B1 (ko) 벤조트리아졸 화합물
KR20210008368A (ko) 청색광 차단 화합물, 제조 방법 및 이의 응용
KR100732641B1 (ko) 수지 조성물
KR101293887B1 (ko) 광경화형 접착제 조성물
EP3423499B1 (en) Photocurable electron deficient olefin-containing compositions
CN106573885A (zh) 硫醇化合物、硫醇化合物的制造方法、聚合物、组合物、硬化性组合物、着色组合物、硬化膜及彩色滤光片
CN107949583A (zh) 聚合性组合物、使用该组合物的有机玻璃的制造方法及有机玻璃
KR101269341B1 (ko) 수지 조성물 및 그 경화물을 이용한 광학부재
JP2001294665A (ja) 硬化性樹脂組成物
JP2010121105A (ja) 硬化性樹脂組成物および光学部材
BR112019027677A2 (pt) compostos fotocrômicos de anel fusionado de silol e germol
US8512604B2 (en) Photochromic coating exhibiting improved performance and reduced yellowness
WO2013161642A1 (ja) フォトクロミック硬化性組成物
CN114206960B (zh) 聚合性组合物、化合物、聚合物、树脂组合物、紫外线遮蔽膜及层叠体
KR101958080B1 (ko) 청색광 차단 염료 및 이를 포함하는 청색광 차단 시트
JPH02108657A (ja) ジシクロペンタジエン誘導体およびそれを含む重合性単量体組成物
KR102526413B1 (ko) 고에너지 가시광 차단 수지 조성물 및 이에 의해 제조된 가시광 차단 시트
JP5672661B2 (ja) 樹脂組成物及びその硬化物を用いた光学部材
EP3765570B1 (en) Solution comprising a specific solvent mixture and a dye
KR101452440B1 (ko) 열안정성이 우수한 광학 렌즈용 수지 조성물
JPH05249301A (ja) プラスチックレンズ材料

Legal Events

Date Code Title Description
PA0105 International application

Patent event date: 20200306

Patent event code: PA01051R01D

Comment text: International Patent Application

A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20200428

Comment text: Request for Examination of Application

PG1501 Laying open of application
E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20210512

Patent event code: PE09021S01D

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20211229

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20220823

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20221020

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20221020

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration