KR20190123692A

KR20190123692A - 폴리곤 미러, 편향기, 광 주사 장치, 화상 형성 장치 및 폴리곤 미러의 제조 방법

Info

Publication number: KR20190123692A
Application number: KR1020190047082A
Authority: KR
Inventors: 미츠히로 오오타; 아츠시 다카타; 요시히코 다나카; 다카토시 다나카; 후미히코 야마야; 나오키 마츠시타; 히로키 가타야마
Original assignee: 캐논 가부시끼가이샤
Priority date: 2018-04-24
Filing date: 2019-04-23
Publication date: 2019-11-01
Also published as: JP2019191334A; EP3581372A2; EP3581372A3; US20190322022A1; CN110398796A

Abstract

폴리곤 미러는 광원으로부터 출사되는 레이저 광을 반사할 수 있는 반사면, 금속 재료로 구성되는 기재, 및 기재의 외측에 성형되고, 제1 면 및 제1 면과 교차하고 반사면에 대응하는 제2 면을 포함하는 성형체를 포함한다.

Description

폴리곤 미러, 편향기, 광 주사 장치, 화상 형성 장치 및 폴리곤 미러의 제조 방법{POLYGONAL MIRROR, DEFLECTOR, OPTICAL SCANNING APPARATUS, IMAGE FORMING APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF THE POLYGONAL MIRROR}

본 발명은, 레이저 광을 상 담지체에 주사하기 위한 폴리곤 미러, 그 폴리곤 미러를 포함하는 편향기, 그 편향기를 포함하는 광 주사 장치, 그 광 주사 장치를 포함하는 화상 형성 장치 및 상기 폴리곤 미러의 제조 방법에 관한 것이다.

레이저 프린터 등의 화상 형성 장치에 사용되는 종래의 광 주사 장치에서는, 일본 특허 공개 공보 (JP-A)2005-172930에 개시된 바와 같이, 화상 신호에 따라서 광원으로부터 출사된 레이저 광을 광 변조하고, 광 변조된 레이저 광을 예를 들어 폴리곤 미러를 포함하는 편향기에 의해 편향시키고 편향된 레이저 광으로 감광 드럼을 주사하며, 그래서 fθ 렌즈 등의 주사 렌즈에 의해 감광 드럼 위에 상을 형성하여 감광 드럼 위에 정점 잠상을 형성한다. 이어서, 감광 드럼 상의 정전 잠상을 현상 장치에 의해 토너상으로 가시화(현상)하고, 토너상을 기록지 등의 기록재에 전사해서 정착 장치에 보내고, 그후 기록재 상의 토너상(토너)을 가록재에 가열 정착시킴으로써 인쇄가 행해진다.

종래, 광 주사 장치에 사용되는 편향기인 스캐너 모터는, 폴리곤 미러, 로터, 로터와 일체로 제공되는 회전축, 폴리곤 미러를 설치하기 위한 시트(베이스), 기판과 일체로 제공되는 베어링 슬리브, 스테이터 등으로 구성된다. 또한, 폴리곤 미러에는, 폴리곤 미러가 시트에 설치될 때에 접촉하는 베어링면이 제공된다.

이러한 폴리곤 미러는 높은 치수 정밀도를 가질 필요가 있다. 그 때문에, 폴리곤 미러는 알루미늄 등의 금속을 정밀 선반 등의 정밀 가공기로 미리결정된 형상으로 기계 가공함으로써 준비되기 때문에, 폴리곤 미러를 제조하는데 많은 단계 및 큰 수의 맨아워가 요구되고 따라서 결과적인 폴리고 미러는 일부 경우에 고가였다.

따라서, JP-A Hei 6-110002에서와 같이, 수지 재료를 폴리곤 미러로 사출 성형함으로써 제조 단계 및 제조 맨아워의 수를 억제하면서 저렴한 폴리곤 미러를 실현하는 제안이 이루어졌다.

그러나, JP-A Hei 6-110002에서는, 최근의 화상 형성 장치의 고속화에 수반하여, 스캐너 모터의 고속 회전에 수반하는 원심력 및 스캐너 모터의 주변의 온도 상승에 의해 수지 재료로 이루어진 폴리곤 미러가 변형될 가능성이 있다. 폴리곤 미러가 변형되면, 레이저 광의 조사 위치의 어긋남으로 인한 화상 불량이 발생할 가능성이 있다.

본 발명의 주 목적은 고속 회전 및 주위 온도 상승에 수반하는 폴리곤 미러의 변형의 정도를 저감하는 것이다.

본 발명의 양태에 따르면, 광원으로부터 출사되는 레이저 광을 반사할 수 있는 반사면; 금속 재료로 구성되는 기재; 및 상기 기재의 외측에 성형되고, 제1 면 및 상기 제1 면과 교차하고 상기 반사면에 대응하는 제2 면을 포함하는 성형체를 포함하는 폴리곤 미러가 제공된다.

본 발명의 추가적인 특징은 첨부된 도면을 참고한 예시적인 실시예에 대한 이하의 설명으로부터 명확해질 것이다.

도 1은 화상 형성 장치의 개략적인 단면도이다.
도 2는 광 주사 장치의 상부(면) 사시도이다.
도 3은 스캐너 모터의 개략적인 단면도이다.
도 4는 실시예 1에 따른 폴리곤 미러의 상면 사시도이다.
도 5는 실시예 1에 따른 폴리곤 미러의 개략적인 단면도이다.
도 6은 실시예 1에 따른 폴리곤 미러를 제조하기 위한 제조 방법의 개략적인 단면도이다.
도 7은 실시예 1에 따른 폴리곤 미러와 폴리곤 미러를 제조하기 위한 제조 방법의 개략적인 단면도이다.
도 8은 실시예 1에 따른 폴리곤 미러와 폴리곤 미러를 제조하기 위한 제조 방법의 개략적인 단면도이다.
도 9는 실시예 1에 따른 폴리곤 미러의 구동 회전수와 반사면의 변형량 사이의 관계를 도시하는 그래프이다.
도 10은 실시예 1에 따른 폴리곤 미러의 회전수와 반사면의 변형량 사이의 관계를 도시하는 그래프이다.
도 11은 실시예 2에 따른 폴리곤 미러의 상면 사시도이다.
도 12는 실시예 2에 따른 폴리곤 미러의 개략적인 단면도이다.
도 13은 실시예 2에 따른 폴리곤 미러를 제조하기 위한 제조 방법의 개략적인 단면도이다.
도 14는 실시예 1에 따른 폴리곤 미러와 폴리곤 미러를 제조하기 위한 제조 방법의 개략적인 단면도이다.
도 15는 실시예 2에 따른 폴리곤 미러와 폴리곤 미러를 제조하기 제조 방법의 개략적인 단면도이다.
도 16의 (a) 및 (b) 부분은 폴리곤 미러의 상면측으로부터 본 다른 실시예에 따른 폴리곤 미러의 사시도이며, 도 16의 (c) 부분은 폴리곤 미러의 저부(면)측으로부터 본 다른 실시예에 따른 폴리곤 미러의 사시도이다.

도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해서 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에서 설명되는 구성 요소의 치수, 재료, 형상 및 상대 배치는 본 발명의 적용되는 디바이스(장치)의 구조 및 각종 조건에 따라 적절히 변경되어야 한다. 따라서, 본 발명의 범위는 달리 구체화되지 않는 한 이하의 실시예로 한정하려는 것은 아니다.

[실시예 1]

도 1 및 도 2를 참조하여, 본 실시예에 따른 광 주사 장치를 포함하는 화상 형성 장치에 대해서 설명한다. 이하의 설명에서는, 먼저 광 주사 장치를 포함하는 화상 형성 장치를 예로서 설명하고, 이어서 상기 화상 형성 장치의 광 주사 장치에 대해서 설명한다. 이어서, 상기 광 주사 장치에 조립되는 편향기인 스캐너 모터 및 폴리곤 미러에 대해서 설명한다. 이어서, 폴리곤 미러의 성형에 사용되는 금형 및 그 금형을 사용한 폴리곤 미러의 제조 방법에 대해서 설명한다.

먼저, 도 1을 사용해서 실시예 1에 따른 화상 형성 장치(110)에 대해서 설명한다. 도 1은 실시예 1에 따른 광 주사 장치(101)를 구비한 화상 형성 장치(110)의 개략적인 단면도이다. 본 실시예에 따른 화상 형성 장치(110)는, 광 주사 장치(101)를 포함하고, 감광 드럼(103)이 광 주사 장치(101)에 의해 레이저 광(L)으로 주사되고 그후 주사에 의해 형성된 잠상에 기초하여 기록지 등의 기록재(P)에 화상이 형성되도록 하는 화상 형성 장치이다. 이 실시예에서는 화상 형성 장치의 예로서 프린터를 사용하여 설명한다.

화상 형성 장치(110)에서는, 화상 정보에 기초한 레이저 광(L)이 노광 수단으로서의 광 주사 장치(101)에 의해 출사되고, 프로세스 카트리지(102)에 내장된 상 담지체로서의 감광 드럼(103)의 표면이 레이저 광(L)으로 조사된다. 그후, 정전 잠상이 감광 드럼(103) 상에 형성되고, 프로세스 카트리지(102)에 의해 현상제로서의 토너에 의해 토너상으로서 가시화(현상)된다. 또한, 프로세스 카트리지(102)는, 감광 드럼(103)과, 감광 드럼(103)에 작용가능한 프로세스 수단으로서의 대전 수단, 현상 수단 등을 일체적으로 포함하며, 화상 형성 장치(110)에 대하여 장착가능 및 장착해제가능하다.

한편, 기록재 적재판(104) 상에 적재된 기록재(P)는, 급송 롤러(105)에 의해 1매씩 분리되면서 급송되고, 중간 롤러 쌍(106)에 의해 하류 측을 향해 급송된다. 반송된 기록재(P) 상에는, 감광 드럼(103) 상에 형성된 토너상이 전사 롤러(107)에 의해 전사된다. 이 미정착 토너상이 형성된 기록재(P)는, 더 하류 측을 향해 급송되고, 그후 토너상은 내부에 가열체를 포함하는 정착기(108)에 의해 기록재(P)에 정착된다. 그후, 기록재(P)는 배출 롤러 쌍(109)에 의해 화상 형성 장치(110)의 외부에 배출된다.

또한, 본 실시예에서는, 감광 드럼(103)에 작용가능한 프로세스 수단으로서 사용되는 대전 수단 및 현상 수단을 프로세스 카트리지(102) 내의 감광 드럼(103)과 일체적으로 조립되지만, 프로세스 수단은 감광 드럼(103)과 별개의 부재로서 구성될 수도 있다.

이어서, 도 2를 사용해서 화상 형성 장치(110)에서의 광 주사 장치(101)에 대해서 설명한다. 도 2는 실시예 1에 따른 광 주사 장치(101)의 구성을 나타내는 개략적인 사시도이다.

광원으로서의 광원 장치(201)로부터 출사된 레이저 광(L)은, 실린드리컬 렌즈(202)에 의해 부주사 방향으로 집광되고, 케이싱(203)에 형성된 광학 조리개(204)에 의해 미리결정된 빔 직경으로 제한된다. 레이저 광(L)은 편향기인 스캐너 모터(1)에 의해 Z축 주위로 회전 구동되는 폴리곤 미러(3)에 의해 편향되고, fθ 렌즈(205)를 통과 후, 도시하지 않은 상 담지체 상에 집광된다. 상 담지체는 Y축 방향으로 레이저 광(L)으로 주사되어, 정전 잠상이 형성된다. 도 2에서, Z 축과 이 Z 축에 직교하는 Y 축을 포함하는 YX 평면에 직교하는 방향이 X 축 방향이다. 또한, 광원 장치(201), 실린드리컬 렌즈(202), 스캐너 모터(1) 등은 케이싱(203)에 수용되어 있고, 케이싱(203)의 개구부는 수지 재료 또는 금속으로 이루어지는 광학 캡(도시되지 않음)에 의해 폐쇄된다(덮인다).

다음에, 도 3을 사용해서 광 주사 장치에서의 편향기인 스캐너 모터(1)에 대해서 설명한다. 도 3은 스캐너 모터(1)의 회전 중심을 포함하는 개략적인 단면도이다.

스캐너 모터(1)는, 폴리곤 미러(3), 로터(7), 회전축(8), 폴리곤 미러(3)를 설치하기 위한 시트(2), 기판(4), 기판(4)과 일체로 제공되는 베어링 슬리브(5), 스테이터 등으로 구성된다. 폴리곤 미러(3)는, 광원 장치(201)로부터 출사된 레이저 광(광속(빔))(L)을 편향시켜, 감광 드럼면이 레이저 광(L)으로 주사되게 한다. 베어링 슬리브(5)는 금속판으로 구성되는 기판(4)에 의해 지지된다. 로터(7)는 로터 마그네트(6)를 포함한다. 회전축(8)은 로터(7)와 일체로 제공된다. 시트(2)는 회전축(8)과 폴리곤 미러(3)를 설치하기 위해 사용된다. 스테이터는 기판(4)에 고정된 스테이터 코어(9a) 및 스테이터 코어(9a)에 고정된 스테이터 코일(9b)에 의해 구성된다.

다음에, 도 4 및 도 5를 사용해서 폴리곤 미러(3)에 대해서 설명한다. 도 4는 실시예 1에 따른 폴리곤 미러(3)의 상면 사시도이다. 도 5는 도 4의 화살표 A 방향에서 본 폴리곤 미러(3)의 개략적인 단면도이다. 도 4에 도시하는 화살표 Z 방향은 도 2에 도시하는 회전축(8)의 축 방향(축선 방향)이다. 화살표 X 방향은 화살표 Z 방향과 직교하는 방향이며, 화살표 Y 방향은 화살표 Z 방향 및 화살표 X 방향과 직교하는 방향이다. 또한 다른 도면에서, 화살표 X 방향, 화살표 Y 방향 및 화살표 Z 방향 사이의 관계는 동일하다.

상기 폴리곤 미러(3)는, 광원 장치(201)로부터 출사된 레이저 광(광속)(L)을 반사하는 복수의 반사면을 포함한다. 이 실시예에서는, 폴리곤 미러(3)는 4개의 반사면(10A, 10B, 10C, 및 10D)을 포함하는 구성을 갖는 예로서 도시되지만, 본 발명은 이것으로 한정되지 않는다. 폴리곤 미러(3)는, 금속판 등의 금속 재료로 구성되는 기재로서의 정각 기둥(31)과 정각 기둥(31)의 외측에 제공되고 상술한 반사면의 기재를 구성하는 플라스틱 재료 등의 수지 재료로 구성되는 성형체로서의 성형 부재(32)의 적어도 2종류의 재료로 구성된다. 즉, 폴리곤 미러(3)는 금속 재료로 구성되는 기재 외측에 수지 재료로 성형된 성형체를 포함한다. 이 실시예에서는, 기재인 정각 기둥(31)은 알루미늄, 철, 스테인리스강, 강판 등의 금속 재료로 구성되며, 성형체인 성형 부재(32)는 시클로올레핀 수지, 폴리카르보네이트 수지, 아크릴 수지 등의 수지 재료로 구성된다.

금속 정각 기둥(31)은, 하나의 면인 저부(면)(31E)와, 저면(31E)에 교차하는 복수의 교차면인 4개의 측면(31A, 31B, 31C, 및 31D)과, 측면(31A, 31B, 31C 및 31D)과 교차하고 저면(31E)과 반대 측의 다른 면인 상면(31F)을 포함한다.

성형 부재(32)는, 금속 정각 기둥(31)의 4개의 측면(31A, 31B, 31C, 및 31D)과 저면(31E)을 덮도록 성형되며, (한) 변이 14.1 mm(외접원의 직경이 20 mm)인 각기둥 형상을 갖는다. 성형 부재(32)에서, 정각 기둥(31)의 4개의 측면(31A 내지 31D)을 덮는 부분에는 각각 4개의 반사면(10A, 10B, 10C 및 10D)이 제공되며, 정각 기둥(31)의 저면(31E)을 덮는 부분에는 수지 저면(12)이 제공된다. 즉, 성형체인 성형 부재(32)는, 금속 재료로 구성되는 기재인 정각 기둥(31)의 외측에, 수지 재료로 성형된 제1 면과 상기 제1 면에 교차하고 상기 반사면에 대응하는 제2 면을 포함한다. 성형 부재(32)의 제2 면은 상기 반사면에 대응하는 측면이며, 이 측면 위에 금속층이 제공되어, 레이저 광을 변경(반사)하기 위한 상술한 반사면(10A, 10B, 10C, 및 10D)이 형성되게 된다. 이 실시예에서는, 폴리곤 미러(3)의 4개의 반사면(10A 내지 10D)은, 알루미늄, 구리, 은 등의 금속의 박막으로 구성되고, 예를 들어 진공 증착에 의해 막으로 형성된다. 또한, 폴리곤 미러(3)에는 상기 금속의 박막에서 형성된 반사면 위에 보호층이 제공된다. 또한, 본 실시예에서는, 폴리곤 미러(3)의 4개의 측면의 상에 금속층을 형성함으로써 제공되는 반사면의 예가 설명되지만, 본 발명은 이것으로 한정되지 않는다. 수지 재료로 성형된 폴리곤 미러의 측면(평면)이 반사면일 수도 있다. 이와 같이, 성형 부재(32)에는, 정각 기둥(31)의 저면(31E)의 외측에 제1 면으로서의 수지 저면(12)이 제공되고, 정각 기둥(31)의 측면(31A 내지 31D)의 외측에 제2 면으로서의 반사면(10A 내지 10D)이 제공된다. 또한, 이 실시예에서, 4개의 반사면을 갖는 각기둥 형상 성형 부재(32)를 예로서 도시하지만, 반사면의 수 및 형상은 적절히 설정되어야 하며 이것으로 한정되지 않는다.

본 실시예에 따른 폴리곤 미러(3)에서, 기재인 정각 기둥(31)의 영률은 상기 성형체인 성형 부재(32)의 영률보다 높게 설정된다. 또한, 전술한 바와 같이, 기재인 정각 기둥(31)은 금속판 등의 금속 재료로 구성되며, 성형체인 성형 부재(32)는 플라스틱 재료 같은 수지 재료로 구성된다. 이 실시예에서는, 정각 기둥(31)의 재료는 강판이며, 정각 기둥(31)은 영률이 205 GPa이며 두께는 1.5 mm이다. 저면(31E)으로부터 상면(31F)까지의 정각 기둥(31)의 두께는 1.0 mm 내지 2.0 mm의 범위 내가 적합할 수 있다. 한편, 성형 부재(32)의 재료는 시클로올레핀 중합체이며, 성형 부재(32)는 영률이 2.84 GPa이고 두께는 0.5 mm이다. 또한, 폴리곤 미러(3)에는, 정각 기둥(31)의 상면(31F)과 성형 부재(32)의 수지 저면(12)을 관통하는 관통 구멍(15)이 제공된다. 관통 구멍(15)에, 폴리곤 미러 시트(2)가 결합됨으로써, 폴리곤 미러(3)의 XY 평면(도 3 참조)에서의 위치가 결정된다. 또한, 기준면으로서의 수지 저면(12)이 폴리곤 미러 시트(2)에 접촉함으로써, 폴리곤 미러(3)의 Z 축 방향(도 3)에 대한 위치가 결정된다. 그리고, 예를 들어 판 스프링(39) 등의 고정 수단에 의해 폴리곤 미러(3)가 폴리곤 미러 시트(2)에 고정된다. 또한, 정각 기둥(31)의 외측 면으로부터 성형 부재(32)의 외측 면까지의 상기 성형 부재(32)(수지 부재)의 두께로서 0.5 mm를 예로서 설명했지만, 성형 부재(32)의 두께는 0.1 mm 내지 2.0 mm의 범위 내가 적합하다.

다음에, 도 6 내지 도 8을 사용해서 폴리곤 미러(3)의 제조 방법에 대해서 설명한다. 도 6은 폴리곤 미러(3)를 제조하기 위한 금형(140)의 개략적인 단면도이다. 도 7은 금형(140)에 정각 기둥(31)을 설치했을 때의 금형(140)의 개략적인 단면도이다. 도 8은 금형(140) 내로 성형 부재(32)를 사출 성형하고 있을 때의 금형(140)의 개략적인 단면도이다.

본 실시예에 따른 폴리곤 미러(3)의 제조 방법은, 제1 형으로서의 제1 금형(141)과 제2 형으로서의 제2 금형(142)을 포함하는 금형(140)을 사용해서 폴리곤 미러(3)를 제조하는 방법이다.

제2 금형(142)은, 정각 기둥(31)의 저면(31E)과 반대 측의 정각 기둥(31)의 다른 면인 상면(31F)에 접촉하는 접촉면(143)을 포함한다. 또한, 제2 금형(142)은, 접촉면(143)으로부터 돌출되고 정각 기둥(31)의 관통 구멍(15)에 결합되는 금속 축(144)을 포함한다. 또한, 제2 금형(142)은, 정각 기둥(31)의 외측에 성형 부재(32)의 수지 저면(12)과 교차하는 복수의 반사면(10A 내지 10D)을 성형하는 복수의 제2 성형면(145A 내지 145D)을 포함한다. 또한, 도 6 내지 도 8은 개략적인 단면도이므로, 제2 금형(142)의 4개의 제2 성형면(145A 내지 145D) 중, 제2 성형면(145A 및 145C)은 도시되지만, 제2 성형면(145B 및 145D)은 도시되지 않는다.

제1 금형(141)은, 정각 기둥(31)의 한 면인 저면(31E)의 외측에 성형 부재(32)의 제1 면인 수지 저면(기준면)(12)을 성형하는 제1 성형면(141A)을 포함한다. 즉, 제1 금형(141)은 성형 부재(32)의 수지 저면(12)에 대응하는 제1 성형면(141A)을 포함한다. 제1 금형(141)은, 성형 부재(32)의 성형 공간에 수지 재료를 주입하기 위한 게이트(141C)와, 제2 금형(142)의 금형 축(144)과 결합되는 금형 구멍(141B)을 포함한다. 게이트(141C)는 금형 구멍(141B)을 사이에 개재하도록 제공된다.

이러한 제1 금형(141)과 제2 금형(142)을 갖는 금형(140)을 준비하고, 금속판을 금형에 배치한다. 수지 재료를 금형에 주입하여 금속판을 외측에 수지층을 형성하는 단계를 행함으로써, 폴리곤 미러(3)가 제조된다. 이 제조 방법을 이하에서 상세하게 설명한다. 먼저, 도 7에 도시하는 바와 같이, 정각 기둥(31)은 금형 축(144)을 정각 기둥(31)의 관통 구멍(15)에 결합함으로써 제2 금형(142) 내로 삽입된다. 그리고, 지그(도시되지 않음)에 의해 정각 기둥(31)이 Z 축 주위에서 위치결정된 상태에서, 상면(31F)이 제2 금형(142)의 접촉면(143)에 접촉한 후, 정각 기둥(31)이 진공 증착 등에 의해 제2 금형(142)에 고정된다.

이어서, 도 8에 도시된 바와 같이, 금형 축(144)을 금형 구멍(141B)에 결합시킴으로써 제1 금형(141)과 제2 금형(142)이 폐쇄되어, 제2 금형(142)에 고정된 정각 기둥(31)의 저면(31E)과 4개의 반사면(10A 내지 10D)의 외측에 수지 재료를 주입하는 공간인 성형 공간이 형성된다. 그리고, 제1 금형(141)의 게이트(141C)를 통해 상기 성형 공간에 수지 재료가 주입되어, 사출 성형에 의해 정각 기둥(31)의 저면(31E)과 4개의 반사면(10A 내지 10D)의 외측에 수지 재료로 이루어지는 성형 부재(32)가 형성된다. 성형 후에, 금형(140)으로부터, 금속 재료로 이루어지는 정각 기둥(31)과 상기 정각 기둥(31)의 외측에 수지 재료로 이루어지는 성형 부재(32)를 포함하는 성형품(3A)이 취출된다.

그후, 성형품(3A)의 제2 면으로서의 성형품 측면(3AA 내지 3AD)(도시되지 않음) 위에, 금속층이 제공된다. 구체적으로는, 성형품(3A)의 4개의 성형품 측면(3AA 내지 3AD)(도시되지 않음)은 알루미늄, 구리, 또는 은 등의 금속의 박막(반사막)의 증착 처리를 받음으로써, 4개의 반사면(10A 내지 10D)(도 4 참조)이 형성된다. 또한, 상기 금속의 박막으로 형성한 반사면 위(금속층)에 보호층이 형성된다. 이와 같이 하여, 복수의 반사면이 제공된 폴리곤 미러(3)가 제조된다. 또한, 이 실시예에서는, 성형품의 복수의 성형품 측면에 금속의 박막을 제공함으로써 복수의 반사면이 형성되는 구성을 예시했지만, 본 발명은 이것으로 한정되지 않는다. 예를 들어, 성형품의 성형품 측면을 그대로 반사면으로서 사용되는 구성을 채용하는 것도 가능하다.

다음에, 도 9와 도 10을 사용해서 폴리곤 미러(3)의 구동 동안의 폴리곤 미러(3)의 반사면의 변형량과 회전수 사이의 관계에 대해서 설명한다. 도 9는 폴리곤 미러가 회전 구동될 때의 도 4의 길이 방향(X 축 방향 또는 Y 축 방향)의 중앙부에서의 반사면의 변형량과 폴리곤 미러(3)의 회전수 사이의 관계를 도시하는 그래프이다. 도 10은 폴리곤 미러가 회전 구동될 때의 도 4의 길이 방향(X 축 방향 또는 Y 축 방향)의 단부에서의 반사면의 변형량과 폴리곤 미러(3)의 회전수 사이의 관계를 나타내는 그래프이다. 도 9와 도 10 각각에는, 본 실시예(실시예 1)에 따른 폴리곤 미러(3), 폴리곤 미러가 금속 재료의 기계가공에 의해 준비되는 비교예 1에서의 폴리곤 미러, 및 폴리곤 미러가 동일한 수지 재료만으로 사출 성형에 의해 준비되는 비교예 2에서의 폴리곤 미러 각각의 회전수와 변형량 사이의 관계가 나타나 있다.

도 9 및 도 10에 도시하는 바와 같이, 3개의 폴리곤 미러 각각에 관하여, 반사면의 변형량은 폴리곤 미러의 회전수를 증가시킴에 따라 증가한다. 또한, 폴리곤 미러의 반사면의 변형량에 관하여, 본 실시예에 따른 폴리곤 미러(3)는 비교예 2의 수지 재료만으로 구성되는 폴리곤 미러보다 변형량이 작고, 본 실시예에 따른 폴리곤 미러(3)의 변형량은 폴리곤 미러가 금속 재료의 기계가공에 의해 준비되는 비교예 1의 폴리곤 미러에 대한 변형량에 가깝다는 것이 이해된다.

본 실시예에 따르면, 수지 재료로 구성되는 성형 부재가 금속 재료로 구성되는 기재 외측에 제공되는 폴리곤 미러(3)의 구성을 채용함으로써, 이하의 효과를 얻을 수 있다.

본 실시예에 따른 폴리곤 미러(3)에서, 금형(140)으로 성형된 성형 부재(32)에는 금속 재료로 구성되는 기재로서의 정각 기둥(31)의 외측에 형성되는 4개의 반사면(10A 내지 10D) 및 수지 저면(12)이 제공된다. 결과적으로, JP-A 2005-172930에서와 같은 정밀 가공기에 의해 알루미늄 등의 금속 재료를 기계가공함으로써 준비되는 폴리곤 미러에 비해, 제조의 단계 및 맨아워의 수를 억제할 수 있어, 저렴한 폴리곤 미러(3)를 실현할 수 있다. 또한, 성형 부재(32)의 내측에 성형 부재(32)보다 영률이 높은 정각 기둥(31)을 제공함으로써, JP-A Hei 6-110002에서와 같이 동일한 수지 부재로 사출 성형에 의해 제조되는 폴리곤 미러에 비해 강성을 개선할 수 있다. 따라서, 스캐너 모터(1)의 고속화(회전수의 증가) 및 스캐너 모터(1)의 주변의 온도 상승 등에 인한 폴리곤 미러(3)의 변형의 정도를 최소화할 수 있어, 레이저 광의 조사 위치의 어긋남에 의한 화상 불량을 개선할 수 있다.

[실시예 2]

도 11 내지 도 15를 참조하여, 실시예 2에 따른 폴리곤 미러 및 폴리곤 미러의 제조 방법에 대해서 설명한다. 또한, 폴리곤 미러를 포함하는 편향기, 편향기를 포함하는 광 주사 장치 및 광 주사 장치를 포함하는 화상 형성 장치는 전술한 실시예 1의 것과 마찬가지이기 때문에, 이 실시예에서는 설명을 생략한다. 이하의 설명에서는, 먼저 폴리곤 미러에 대해서 설명하고, 다음에 폴리곤 미러의 성형에 사용하는 금형 및 그 금형을 사용한 폴리곤 미러의 제조 방법에 대해서 설명한다.

도 11은 본 실시예의 폴리곤 미러(330)의 상면 사시도이다. 도 12는 도 11의 폴리곤 미러(330)를 화살표 B 방향으로부터 본 개략적인 단면도이다. 도 11과 도 12를 사용해서 본 실시예의 폴리곤 미러(330)에 대해서 설명한다. 또한, 전술한 실시예 1의 것과 동일한 구성 부품은 동일 참조 번호 또는 부호로 나타내고, 설명을 생략한다.

본 실시예에 따른 폴리곤 미러(330)는, 실시예 1과 마찬가지로, 금속 재료로 구성되는 기재로서의 정각 기둥(31)과 상기 정각 기둥(31)의 외측에 제공되고 수지 재료로 구성되는 성형체로서의 성형 부재(332)의 적어도 2종류의 재료로 구성된다.

폴리곤 미러(330)의 정각 기둥(31)은 실시예 1의 정각 기둥(31)과 마찬가지이므로, 설명을 생략한다.

폴리곤 미러(330)의 성형 부재(332)는, 금속판 등의 정각 기둥(31)의 4개의 측면(31A, 31B, 31C 및 31D), 저면(31E) 및 상면(31F)의 일부를 덮도록 성형되며, (한) 변이 14.1 mm(외접원의 직경이 20 mm)인 각기둥 형상을 갖는다. 성형 부재(332)에서, 정각 기둥(31)의 4개의 측면(31A 내지 31D)를 덮는 부분에는 각각 4개의 반사면(310A, 310B, 310C 및 310D)이 제공되고, 정각 기둥(31)의 저면(31E)을 덮는 부분에는 수지 저면(312)이 제공된다. 또한, 성형 부재(332)에서, 정각 기둥(31)의 저면(31E)과 반대 측의 정각 기둥(31)의 다른 면인 상면(31F)의 일부를 덮는 부분에는 0.5 mm 두께의 수지 상면(313)이 제공된다.

즉, 성형 부재(332)에는, 정각 기둥(31)의 저면(31E)의 외측에 제1 면으로서의 수지 저면(312)이 제공되고, 정각 기둥(31)의 측면(310A 내지 310D)의 외측에 제2 면으로서의 반사면(10A 내지 10D)이 제공된다. 또한, 성형 부재(332)에는, 정각 기둥(31)의 상면(31F)의 외측의 적어도 일부에 제3 면으로서의 수지 상면(313)이 제공된다. 또한, 이 실시예에서, 4개의 반사면을 갖는 각기둥 형상 성형 부재(32)를 예로서 도시하지만, 반사면의 수 및 형상은 적절히 설정되어야 하며 이것으로 한정되지 않는다. 또한, 정각 기둥(31)의 외측 면으로부터 성형 부재(332)의 외측 면까지의 상술한 성형 부재(수지 부재)(332)의 두께로서, 0.5 mm을 예로서 설명했지만, 두께는 이것에 한정되는 것이 아니라, 0.1 mm 내지 2.0 mm의 범위 내인 것이 바람직할 수 있다.

또한, 본 실시예에 따른 폴리곤 미러(330)에서도, 기재인 정각 기둥(31)의 영률은 상기 성형체인 성형 부재(32)의 영률보다 높게 설정된다. 정각 기둥(31)의 재료는 강판이며, 정각 기둥(31)은 영률이 205 GPa이며 두께가 1.5 mm이다. 저면(31E)으로부터 상면(31F)까지의 정각 기둥(31)의 두께는 1.0 mm 내지 2.0 mm의 범위 내가 적합할 수 있다. 한편, 성형 부재(32)의 재료는 시클로올레핀 중합체이며, 성형 부재(32)는 영률이 2.84 GPa이고 두께는 0.5 mm이다.

다음에, 도 13 내지 도 15를 사용해서 폴리곤 미러(330)의 제조 방법에 대해서 설명한다. 도 13은 폴리곤 미러(330)를 제조하기 위한 금형(340)의 개략적인 단면도이다. 도 14는 금형(340)에 정각 기둥(31)을 설치했을 때의 금형(340)의 개략적인 단면도이다. 도 15는 금형(340) 내에서 성형 부재(332)를 사출 성형하는 동안의 금형(340)의 개략적인 단면도이다.

본 실시예에 따른 폴리곤 미러(330)의 제조 방법은, 제1 형으로서의 제1 금형(342)과 제2 형으로서의 제2 금형(341)을 포함하는 금형(340)을 사용해서 폴리곤 미러(330)를 제조하는 방법이다.

제1 금형(342)은, 정각 기둥(31)의 하나의 면인 저면(31E)의 외측에 성형 부재(332)의 제1 면인 수지 저면(기준면)(312)을 성형하는 제1 성형면(342A)을 포함한다. 즉, 제1 금형(342)은 성형 부재(332)의 수지 저면(312)에 대응하는 제1 성형면(342A)을 포함한다. 제1 금형(342)은, 정각 기둥(31)의 외측에 성형 부재(332)의 수지 저면(312)과 교차하는 복수의 반사면(310A 내지 310D)을 성형하는 복수의 제2 성형면(반사 성형면)(345A 내지 345D)을 포함한다. 또한, 제1 금형(342)은, 제2 금형(341)의 금형 축(344)이 결합되는 금형 구멍(342B)을 포함한다.

제2 금형(341)은, 정각 기둥(31)의 저면(31E)과 반대 측의 정각 기둥(31)의 다른 면인 상면(31F)에 접촉하는 접촉면(343)을 포함한다. 또한, 제2 금형(341)은, 접촉면(343)으로부터 돌출하고 정각 기둥(31)의 관통 구멍(15)에 결합되는 금속 축(144)을 포함한다. 또한, 제2 금형(341)은, 정각 기둥(31)의 상면(31F)의 외측에 성형 부재(332)의 수지 저면(312)과 반대 측의 제3 면인 수지 상면(313)을 성형하는 제3 성형면(346)을 포함한다. 제2 금형(341)에서, 제3 성형면(346)은, 정각 기둥(31)의 상면(31F)의 외측의 상기 접촉면(343)과 접촉하지 않는 영역에 제공되고, 정각 기둥(31)의 상면(31F)으로부터 성형 부재(332)의 두께에 대응하는 거리만큼 접촉면(343)으로부터 이격된 위치에 제공된다. 결과적으로, 정각 기둥(31)의 상면(31F)의 일부에 위치되는 접촉면(343)에 접촉하지 않는 영역에, 성형 부재(332)의 수지 상면(313)의 성형을 허용하는 성형 공간이 형성된다. 또한, 제2 금형(341)은, 그 자체와 제1 금형(342) 사이의 성형 부재(332)의 성형 공간 내로 수지 재료를 주입하기 위한 게이트(341C)를 포함한다. 게이트(341C)는 접촉면(343)과 금형 축(344)을 사이에 개재하도록 제공된다.

이러한 제1 금형(342)과 제2 금형(341)을 포함하는 금형(340)을 준비하고, 이하에 설명하는 단계를 허용하여, 폴리곤 미러(330)를 제조한다. 먼저, 도 14에 도시하는 바와 같이, 정각 기둥(31)은 정각 기둥(31)의 관통 구멍(15)에 금형 축(344)을 결합시킴으로써 제2 금형(341) 내에 삽입된다. 그리고, 정각 기둥(31)이 지그(도시되지 않음)에 의해 Z 축 주위에 위치결정된 상태에서, 상면(31F)이 제2 금형(341)의 접촉면(343)에 접촉된 후에, 정각 기둥(31)은 진공 증착 등에 의해 제2 금형(341)에 고정된다.

다음에, 도 15에 도시하는 바와 같이, 금형 축(344)을 금형 구멍(342B)에 결합시켜 제2 금형(341)과 제1 금형(342)을 폐쇄하고, 그래서 내부에 수지 재료의 주입을 허용하는 공간인 성형 공간이 형성된다. 이 성형 공간은, 제2 금형(341)과 제1 금형(342) 사이에서, 제2 금형(341)에 고정된 정각 기둥(31)의 저면(31E), 4개의 반사면(10A 내지 10D) 및 정각 기둥(31)의 상면(31F)의 외측에 형성된다. 그리고, 제2 금형(341)의 게이트(341C)를 통해 성형 공간 내로 수지 재료를 주입함으로써, 수지 재료로 구성되는 성형 부재(332)가 사출 성형에 의해 정각 기둥(31)의 저면(31E), 4개의 반사면(10A 내지 10D), 및 정각 기둥(31)의 상면(31F)의 외측에 형성된다. 성형 후에, 금형(340)으로부터, 금속 재료로 구성되는 정각 기둥(31)과 상기 정각 기둥(31)의 외측의 수지 재료로 구성되는 성형 부재(332)를 포함하는 성형품(330A)이 취출된다.

그후, 성형품(330A)의 4개의 성형품 측면(330AA 내지 330AD)(도시되지 않음)이 알루미늄, 구리, 또는 은 등의 금속의 박막(반사막)의 증착 처리를 받음으로써, 4개의 반사면(310A 내지 310D)(도 11 참조)이 형성되게 된다. 이와 같이 하여, 상기 복수의 반사면이 제공된 폴리곤 미러(330)가 제조된다. 또한, 이 실시예에서는, 성형품의 복수의 성형품 측면에 금속의 박막을 제공함으로써 복수의 반사면이 형성되는 구성을 예시했지만, 본 발명은 이것으로 한정되지 않는다. 예를 들어, 성형품의 성형품 측면을 그대로 반사면으로서 사용하는 구성을 채용하는 것도 가능하다.

본 실시예에서는, 두께 방향에서, 정각 기둥(31)을 성형 부재(332)의 수지 저면(312)과 수지 상면(313) 사이에 개재시킴으로써, 성형 부재(332)와 정각 기둥(31) 사이의 접촉 면적이 증가하고, 따라서 성형 부재(332)와 정각 기둥(31) 사이의 부착 강도가 향상된다. 결과적으로, 성형 부재(332)와 정각 기둥(31)은 서로 용이하게 분리되지 않는다.

[다른 실시예]

전술한 실시예에서는, 복수의 반사면을 포함하는 폴리곤 미러로서, 4개의 반사면을 갖는 정사각형 폴리곤 미러를 예시했지만, 본 발명은 이것으로 한정되지 않는다. 폴리곤 미러는 그 형상이 5개의 반사면을 갖는 정오각형이 되도록 필요에 따라 적절히 설정될 수 있다. 또한, 정각 기둥의 영률이 성형 부재의 영률보다 크면, 직사각형 부재의 재료는 강판에 한하지 않고 알루미늄 같은 다른 재료일 수도 있으며 금속 재료에 한정되지 않는다. 또한, 성형 부재의 재료도 시클로올레핀 중합체에 한하지 않고 폴리카르보네이트나 아크릴 수지 재료 등의 다른 재료일 수도 있다. 또한, 정각 기둥 및 성형 부재의 두께도 상술한 것으로 한정되지 않는다.

또한, 금속 재료로 구성되는 기재의 외측을 수지 재료로 구성되는 성형 부재로 덮는 폴리곤 미러의 구성은 전술한 실시예에 설명된 구성으로 한정되지 않는다. 예를 들어, 폴리곤 미러는 수지 재료로 구성되는 성형 부재가 금속 재료로 구성되는 기재의 외측의 전체를 덮는 구성을 채용할 수도 있다. 혹은, 수지 재료로 구성되는 성형 부재가 금속 재료로 구성되는 기재의 일부를 덮지 않는 구성도 채용될 수 있다. 구체적으로는, 이러한 구성을 도 16의 (a), (b) 및 (c)에 나타낸다. 도 16의 (a) 및 (b) 부분은 상면 측에서 본 폴리곤 미러의 사시도이며, 도 16의 (c) 부분은 저면 측에서 본 폴리곤 미러의 사시도이다. 도 16의 (a), (b), 및 (c)에 나타내는 폴리곤 미러(40)는, 수지 재료로 구성되는 성형 부재(41)가 기재(42)의 구멍(42b 및 42c)과 상면(42a)의 일부를 덮지 않도록 구성된다. 반대로, 상면(42a)의 일부는 수지 재료로 덮인다. 여기서, 기재(42)의 구멍(42c)은 다각형의 회전 중심을 다각형의 정점 중 연관된 하나에 각각 연결하는 선 위에 위치되는 4개의 구멍을 나타낸다. 기재(42)는, 이들 (4개의) 구멍(42c) 이외에, 그 회전 중심을 구성하는 중앙부에 구멍(42b)을 포함하고, 이 구멍(42b)은 폴리곤 미러 시트(또는 회전 축)이 결합될 수 있는 관통 구멍이다.

도 16의 (a) 및 (b)에 도시하는 바와 같이, 폴리곤 미러(40)는, 제1 면인 저면(45), 측면인 반사면(44A 내지 44D), 및 기재(42)의 상면의 적어도 일부를 덮는 상면(43)을 포함하는 성형 부재(41)를 포함하는 구성을 갖는다. 성형 부재(41)의 상면(43)은, 기재(42)의 상면(42a)의 적어도 일부를 덮는 제2 면(제1 면과 반대 측에 위치됨)이다. 이 경우, 전술한 실시예와 마찬가지로, 성형 부재(41)의 제2 면인 상면(43)의 게이트 자국(46A 내지 46D)은 용접선에 겹치지 않는 위치에 제공된다. 또한, 도 16의 (a) 부분에 나타내는 폴리곤 미러와 도 16의 (b) 부분에 나타내는 폴리곤 미러는 성형 부재가 상면 측의 기재의 일부를 덮는 범위가 상이한 타입이다.

또한, 도 16의 (c) 부분은 저면 측에서 폴리곤 미러(40)를 나타낸다. 폴리곤 미러(40)의 저면측에서, 금속 재료로 구성되는 기재(42)의 구멍(42b 및 42c) 이외의 부분은 수지 재료로 구성되는 성형 부재(41)로 덮인다. 성형 부재(41)의 제1 면인 저면(45)에는, 용접 선에 겹치지 않는 위치에 베어링면(47A 내지 47D)이 제공된다. 이와 같이 하여, 금속 재료로 구성되는 기재의 외측을 수지 재료로 구성되는 성형 부재로 덮는 구성을 갖는 폴리곤 미러를 제공할 수도 있다.

전술한 실시예에서는, 화상 형성 장치에 대하여 장착가능 및 장착해제가능한 프로세스 카트리지로서, 감광 드럼과, 해당 감광 드럼에 작용가능한 프로세스 수단인 대전 수단, 현상 수단, 및 클리닝 수단을 일체로 포함하는 프로세스 카트리지를 예로서 설명하였다. 그러나, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 프로세스 카트리지는, 감광 드럼의 이외에, 대전 수단, 현상 수단, 클리닝 수단 중 어느 하나를 일체로 포함하는 프로세스 카트리지일 수도 있다.

또한, 전술한 실시예에서는, 감광 드럼을 포함하는 프로세스 카트리지가 화상 형성 장치에 대하여 장착가능 및 장착해제가능한 구성을 예로서 설명했지만, 본 발명은 이것으로 한정되지 않는다. 예를 들어, 각 구성 요소가 내장되는 화상 형성 장치 또는 각 구성 요소 각각이 화상 형성 장치에 대해 장착가능 및 장착해제가능한 화상 형성 장치를 제공하는 것도 가능하다.

또한, 전술한 실시예에서는, 화상 형성 장치로서, 프린터를 예시했지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 화상 형성 장치는 복사기, 팩시밀리기 및 이들 기계의 기능을 조합하여 갖는 다기능 기계 등의 다른 화상 형성 장치일 수도 있다. 또한, 화상 형성 장치로서, 모노크롬 화상을 형성하는 화상 형성 장치를 예시했지만, 본 발명은 이것으로 한정되지 않는다. 예를 들어, 화상 형성 장치는 컬러 화상을 형성하는 화상 형성 장치일 수도 있다. 본 발명을 상술한 화상 형성 장치에 사용될 수 있는 광 주사 장치, 편향기 및 폴리곤 미러에 적용함으로써, 유사한 효과를 얻을 수 있다.

본 발명에 따르면, 폴리곤 미러의 고속 회전 및 폴리곤 미러의 주변의 온도 상승에 의한 폴리곤 미러의 변형의 정도를 감소시킬 수 있다.

본 발명을 예시적인 실시예를 참고하여 설명하였지만, 본 발명은 개시된 예시적인 실시예로 한정되지 않음을 이해해야 한다. 이하의 청구항의 범위는 이러한 모든 변형과 동등한 구조 및 기능을 포함하도록 최광의로 해석되어야 한다.

Claims

폴리곤 미러이며,
광원으로부터 출사된 레이저 광을 반사할 수 있는 반사면과;
금속 재료로 구성되는 기재와;
상기 기재의 외측에 성형되며, 제1 면 및 상기 제1 면과 교차하고 상기 반사면에 대응하는 제2 면을 포함하는 성형체를 포함하는, 폴리곤 미러.
제1항에 있어서, 상기 성형체는, 상기 제2 면과 교차하며 상기 제1 면의 반대측에 제공되는 제3 면을 포함하는, 폴리곤 미러.
제1항에 있어서, 상기 성형체는, 상기 기재의 하나의 면의 외측에 제공되는 상기 제1 면을 포함하며, 상기 기재의 상기 하나의 면과 교차하는 교차면의 외측에 제공되는 상기 제2 면을 포함하는, 폴리곤 미러.
제2항에 있어서, 상기 성형체는, 상기 기재의 하나의 면의 외측에 제공되는 상기 제1 면을 포함하고, 상기 기재의 상기 하나의 면과 교차하는 교차면의 외측에 제공되는 상기 제2 면을 포함하며, 상기 기재의 상기 하나의 면의 반대측인 상기 기재의 다른 면의 적어도 일부의 외측에 제공되는 상기 제3 면을 더 포함하는, 폴리곤 미러.
제1항에 있어서, 상기 제2 면 상에 금속층을 더 포함하는, 폴리곤 미러.
제5항에 있어서, 상기 금속층 상에 제공되고 상기 금속층을 보호하도록 구성되는 보호층을 더 포함하는, 폴리곤 미러.
제3항에 있어서, 상기 기재의 상기 하나의 면으로부터 상기 하나의 면의 반대측인 다른 면까지의 두께가 1.0 mm 내지 2.0 mm의 범위에 있으며, 상기 기재의 외측의 면으로부터 상기 성형체의 외측의 면까지의 상기 성형체의 두께가 0.1 mm 내지 2.0 mm의 범위에 있는, 폴리곤 미러.
편향기이며,
제1항에 따른 폴리곤 미러를 포함하며,
상기 광원으로부터 출사된 광속이 상기 폴리곤 미러의 회전을 통해 상기 폴리곤 미러의 상기 반사면에 의해 편향 주사되는, 편향기.
광 주사 장치이며,
광원과;
제8항에 따른 편향기를 포함하며,
상기 광원으로부터 출사된 상기 광속이 상기 편향기에 의해 상 담지체에 편향 주사되는, 광 주사 장치.
화상 형성 장치이며,
제9항에 따른 광 주사 장치를 포함하며,
상기 상 담지체는 상기 광 주사 장치에 의해 상기 광속으로 주사되고, 주사에 의해 형성된 화상에 기초하여 기록재에 화상이 형성되는, 화상 형성 장치.
폴리곤 미러의 제조 방법이며,
금속판을 금형에 배치하고, 수지 재료를 상기 금형 안으로 주입하여 상기 금속판의 외측에 수지층을 형성하는 단계를 포함하는, 폴리곤 미러의 제조 방법.
금형을 사용한 폴리곤 미러의 제조 방법이며,
상기 금형은,
기재의 하나의 면 외측에 성형체의 제1 면을 성형하기 위한 제1 성형면을 포함하고 상기 성형체의 성형 공간 안으로의 수지 재료의 주입을 허용하는 게이트를 포함하는 제1 형과,
상기 기재의 하나의 면의 반대측인 상기 기재의 다른 면에 접촉하는 접촉면을 포함하고, 상기 기재의 외측에 상기 성형체의 상기 제1 면과 교차하는 복수의 제2 면을 성형하기 위한 복수의 제2 성형면을 포함하는 제2 형을 포함하고,
상기 제조 방법은,
상기 제2 형의 상기 접촉면에 상기 기재의 상기 다른 면을 접촉시킴으로써 상기 제2 형에 상기 기재를 고정시키는 단계와;
상기 기재가 고정된 상기 제2 형과 상기 제1 형을 폐쇄함으로써 상기 제2 형에 고정된 상기 기재의 외측에 형성된 공간 안으로 상기 게이트를 통해 상기 수지 재료를 주입함으로써 상기 기재의 외측에 상기 제1 면과 상기 제2 면을 포함하는 상기 성형체를 형성하는 단계를 포함하는, 폴리곤 미러의 제조 방법.
금형을 사용한 폴리곤 미러의 제조 방법이며,
상기 금형은,
기재의 하나의 면의 외측에 성형체의 제1 면을 성형하기 위한 제1 성형면을 포함하고, 상기 기재의 외측에 상기 성형체의 상기 제1 면과 교차하는 복수의 제2 면을 성형하기 위한 복수의 제2 성형면을 포함하는 제1 형과,
상기 기재의 상기 하나의 면의 반대 측인 상기 기재의 다른 면에 접촉하는 접촉면, 상기 기재의 상기 다른 면의 외측에서 제3 성형면이 상기 접촉면과 접촉하지 않는 영역에서 상기 제1 면의 반대 측에 상기 성형체의 제3 면을 성형하기 위한 제3 성형면으로서, 상기 제3 성형면, 및 상기 성형체를 위한 성형 공간 내로의 수지 재료의 주입을 허용하는 게이트를 포함하는 제2 형을 포함하며,
상기 제조 방법은,
상기 제2 형의 상기 접촉면에 상기 기재의 상기 다른 면을 접촉시킴으로써 상기 제2 형에 상기 기재를 고정시키는 단계와;
상기 기재가 고정된 상기 제2 형과 상기 제1 형을 폐쇄함으로써 상기 제2 형에 고정된 상기 기재의 외측에 위치되는 상기 성형 공간 안으로 상기 게이트를 통해 상기 수지 재료를 주입하여 상기 기재의 외측에 상기 제1 면, 상기 제2 면 및 상기 제3 면을 포함하는 상기 성형체를 형성하는 단계를 포함하는, 폴리곤 미러의 제조 방법.