JP2003295094A - 光走査装置 - Google Patents
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- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 22
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 abstract description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
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- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/121—Mechanical drive devices for polygonal mirrors
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
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- Laser Beam Printer (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡素な構成で、かつ光ビームの有効反射領域
を狭めることなく反射面への塵埃の付着を効果的に抑制
することができる光走査装置を提供する。 【解決手段】 回転多面鏡１０の上端面に近接させて整
流板２０を平行に配置し、稜角１０ｂを通過して上方に
抜ける空気流を整流板２０に反射させて回転多面鏡１０
側に戻すことにより、反射面１０ａの回転方向上流側で
の渦流を発生しにくくし、塵埃の付着を抑制する。
を狭めることなく反射面への塵埃の付着を効果的に抑制
することができる光走査装置を提供する。 【解決手段】 回転多面鏡１０の上端面に近接させて整
流板２０を平行に配置し、稜角１０ｂを通過して上方に
抜ける空気流を整流板２０に反射させて回転多面鏡１０
側に戻すことにより、反射面１０ａの回転方向上流側で
の渦流を発生しにくくし、塵埃の付着を抑制する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザプリンタ等
の画像形成装置においてレーザ光等の光ビームを高速度
で偏向走査する光走査装置に関する。
の画像形成装置においてレーザ光等の光ビームを高速度
で偏向走査する光走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図１０を参照してこの種の光走査装置の
原理を説明する。レーザ発振器（光源）１から出射した
レーザビーム（光ビーム）Ｌはシリンドリカルレンズ２
を通過することにより所定のビーム形状に集光され、そ
のレーザビームＬは矢印Ｒ方向に回転する正多角形状の
回転多面鏡３の反射面に入射して繰り返し偏向走査さ
れ、結像レンズ系４ａ，４ｂを通って被走査体５上に結
像する。
原理を説明する。レーザ発振器（光源）１から出射した
レーザビーム（光ビーム）Ｌはシリンドリカルレンズ２
を通過することにより所定のビーム形状に集光され、そ
のレーザビームＬは矢印Ｒ方向に回転する正多角形状の
回転多面鏡３の反射面に入射して繰り返し偏向走査さ
れ、結像レンズ系４ａ，４ｂを通って被走査体５上に結
像する。
【０００３】ところで、このような光走査装置にあって
は、図１１（ａ）に示すように、回転する回転多面鏡３
の周囲には回転方向Ｒと相対的に、矢印Ａ１で示す逆向
きの空気流が発生する。その空気流は、反射面３ａに沿
って流れてから、図１１（ｂ）に示すように、多くは両
端面側に流れてから次の反射面３ａに戻り、一部は稜角
３ｂを越えて次の反射面３ａに沿って流れる。このよう
な空気流の挙動により、反射面３ａの回転方向上流側で
は、図１１（ａ）に示すように空気流は離れ、その内部
が負圧となって空気が逆流し、渦流Ａ２を生じる。そし
て、反射面３ａの回転方向上流側に形成されるこの渦流
領域Ｗでは、空気流に混じる塵埃が巻き込まれ、その塵
埃が反射面３ａに付着して図１１（ｂ）に示すように曇
りＤが生じる場合があった。塵埃の付着は、主に反射面
３ａの厚さ方向中央に集中しやすく、１本のビームを偏
向走査するものにあっては、この厚さ方向中央部分は光
ビームを反射する有効反射領域である。したがって、こ
の領域に塵埃が付着すると反射率が著しく低下し、出力
される画像の品質が低下するといった問題を招く。
は、図１１（ａ）に示すように、回転する回転多面鏡３
の周囲には回転方向Ｒと相対的に、矢印Ａ１で示す逆向
きの空気流が発生する。その空気流は、反射面３ａに沿
って流れてから、図１１（ｂ）に示すように、多くは両
端面側に流れてから次の反射面３ａに戻り、一部は稜角
３ｂを越えて次の反射面３ａに沿って流れる。このよう
な空気流の挙動により、反射面３ａの回転方向上流側で
は、図１１（ａ）に示すように空気流は離れ、その内部
が負圧となって空気が逆流し、渦流Ａ２を生じる。そし
て、反射面３ａの回転方向上流側に形成されるこの渦流
領域Ｗでは、空気流に混じる塵埃が巻き込まれ、その塵
埃が反射面３ａに付着して図１１（ｂ）に示すように曇
りＤが生じる場合があった。塵埃の付着は、主に反射面
３ａの厚さ方向中央に集中しやすく、１本のビームを偏
向走査するものにあっては、この厚さ方向中央部分は光
ビームを反射する有効反射領域である。したがって、こ
の領域に塵埃が付着すると反射率が著しく低下し、出力
される画像の品質が低下するといった問題を招く。
【０００４】そこで、特開平９−１９７３２８号公報に
は、回転多面鏡の周囲に、空気流を反射面の外側に導く
突起を設けることにより、塵埃の集中的な付着を防止す
る技術が開示されている。また、特開平７−１９９１０
６号公報には、塵埃が付着する上記渦流領域を、光ビー
ムの偏向走査には使用しない不使用領域に設定し、この
不使用領域以外の塵埃が付着しない清浄な領域にのみ光
ビームを入射させる技術が開示されている。
は、回転多面鏡の周囲に、空気流を反射面の外側に導く
突起を設けることにより、塵埃の集中的な付着を防止す
る技術が開示されている。また、特開平７−１９９１０
６号公報には、塵埃が付着する上記渦流領域を、光ビー
ムの偏向走査には使用しない不使用領域に設定し、この
不使用領域以外の塵埃が付着しない清浄な領域にのみ光
ビームを入射させる技術が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記公報に記載の各技
術のうち、前者の場合は、突起を設けることにより構成
の複雑化を招くとともに、突起の存在が回転多面鏡の周
囲に空気流の乱れを生じさせ、騒音源となる風切り音が
生じるおそれがあった。また、後者の場合は、光ビーム
の有効反射領域が狭くなるといった問題が生じ、これを
回避するには回転多面鏡を大型化せざるを得ず、回転多
面鏡の大型化は、光走査装置そのものの大型化を招く。
術のうち、前者の場合は、突起を設けることにより構成
の複雑化を招くとともに、突起の存在が回転多面鏡の周
囲に空気流の乱れを生じさせ、騒音源となる風切り音が
生じるおそれがあった。また、後者の場合は、光ビーム
の有効反射領域が狭くなるといった問題が生じ、これを
回避するには回転多面鏡を大型化せざるを得ず、回転多
面鏡の大型化は、光走査装置そのものの大型化を招く。
【０００６】よって本発明は、簡素な構成で、かつ光ビ
ームの有効反射領域を狭めることなく反射面への塵埃の
付着を効果的に抑制することができる光走査装置を提供
することを目的としている。
ームの有効反射領域を狭めることなく反射面への塵埃の
付着を効果的に抑制することができる光走査装置を提供
することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
になされた本発明は、光源から出射する光ビームを偏向
走査する回転多面鏡と、この回転多面鏡の少なくとも片
側の端面に近接し、かつ該端面と略平行に配置された整
流板とを備えることを特徴としている。
になされた本発明は、光源から出射する光ビームを偏向
走査する回転多面鏡と、この回転多面鏡の少なくとも片
側の端面に近接し、かつ該端面と略平行に配置された整
流板とを備えることを特徴としている。
【０００８】本発明によれば、次のような作用が生じ
る。すなわち、回転多面鏡の周囲に生じた空気流が反射
面の間の稜角を通過すると、その一部は回転多面鏡の端
面側に抜けるが、整流板が配置された端面側において
は、その一部の空気流が整流板に衝突して反射面の回転
方向上流側（上記渦流領域）に戻る。このような空気の
流れにより、従来では負圧となっていた反射面の回転方
向上流側の気圧が高まり、渦流の発生が抑制される。そ
の結果、塵埃が巻き込まれにくくなり、塵埃の付着が抑
制される。本発明では、このような塵埃付着の抑制効果
を、整流板を回転多面鏡の少なくとも片側の端面に配置
するといった簡素な構成で、かつ反射面の光ビームの有
効反射領域を狭めることなく得ることができる。
る。すなわち、回転多面鏡の周囲に生じた空気流が反射
面の間の稜角を通過すると、その一部は回転多面鏡の端
面側に抜けるが、整流板が配置された端面側において
は、その一部の空気流が整流板に衝突して反射面の回転
方向上流側（上記渦流領域）に戻る。このような空気の
流れにより、従来では負圧となっていた反射面の回転方
向上流側の気圧が高まり、渦流の発生が抑制される。そ
の結果、塵埃が巻き込まれにくくなり、塵埃の付着が抑
制される。本発明では、このような塵埃付着の抑制効果
を、整流板を回転多面鏡の少なくとも片側の端面に配置
するといった簡素な構成で、かつ反射面の光ビームの有
効反射領域を狭めることなく得ることができる。
【０００９】上述した塵埃付着の抑制効果は、空気流が
整流板から回転多面鏡側に確実に、かつ高圧で反射する
ことにより顕著に得られる。したがって、整流板が回転
多面鏡になるべく近付いていることが望ましく、そのた
め本発明では、回転多面鏡の厚さをＬ１、回転多面鏡と
整流板との間の隙間をＬ２としたとき、Ｌ１＞Ｌ２であ
ることを好ましい形態としており、１／２Ｌ１≧Ｌ２で
あればより好ましい。また、同様の観点から、整流板が
回転多面鏡の外接円以上の面積を有していることが好ま
しい。
整流板から回転多面鏡側に確実に、かつ高圧で反射する
ことにより顕著に得られる。したがって、整流板が回転
多面鏡になるべく近付いていることが望ましく、そのた
め本発明では、回転多面鏡の厚さをＬ１、回転多面鏡と
整流板との間の隙間をＬ２としたとき、Ｌ１＞Ｌ２であ
ることを好ましい形態としており、１／２Ｌ１≧Ｌ２で
あればより好ましい。また、同様の観点から、整流板が
回転多面鏡の外接円以上の面積を有していることが好ま
しい。
【００１０】さらに本発明の光走査装置は、ハウジング
に支持されており、かつこのハウジングの一部が上記整
流板を構成している形態を含む。この形態によれば、整
流板を別部品として用意する必要がないので、部品点数
の削減、ならびに構成のさらなる簡素化を図ることがで
きる。
に支持されており、かつこのハウジングの一部が上記整
流板を構成している形態を含む。この形態によれば、整
流板を別部品として用意する必要がないので、部品点数
の削減、ならびに構成のさらなる簡素化を図ることがで
きる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。 （１）第１実施形態 図１は、図１０で示した光走査系に適用可能な第１実施
形態に係る光走査装置の平面図、図２はその側面図であ
る。この装置は、平面視正多角形状（図示例では正六角
形状）で適度な厚さを有する回転多面鏡１０と、この回
転多面鏡１０の上方に配された整流板２０とを備えるも
ので、図２に示すように、ハウジングを構成するハウジ
ング本体３１の底面に支持されている。なお、ハウジン
グ本体３１には図示せぬ蓋体が被せられるようになって
おり、ハウジング本体３１と蓋体とによりハウジングが
構成される。
施の形態を説明する。 （１）第１実施形態 図１は、図１０で示した光走査系に適用可能な第１実施
形態に係る光走査装置の平面図、図２はその側面図であ
る。この装置は、平面視正多角形状（図示例では正六角
形状）で適度な厚さを有する回転多面鏡１０と、この回
転多面鏡１０の上方に配された整流板２０とを備えるも
ので、図２に示すように、ハウジングを構成するハウジ
ング本体３１の底面に支持されている。なお、ハウジン
グ本体３１には図示せぬ蓋体が被せられるようになって
おり、ハウジング本体３１と蓋体とによりハウジングが
構成される。
【００１２】回転多面鏡１０は、複数の反射面１０ａを
有し、隣り合う反射面１０ａの間に稜角１０ｂが形成さ
れている。この回転多面鏡１０は、モータ１１によって
回転させられる円板状のロータ１２の上に同軸的に配置
され、このロータ１２に対し、上端面の中心に配された
押圧部材１３で押し付けられることにより一体的に固定
されている。モータ１１は、ハウジング本体３１に形成
された凹所３１ａに収納され、その上面に固定されたモ
ータ基板１４が、ハウジング本体３１の底面に固定され
ている。
有し、隣り合う反射面１０ａの間に稜角１０ｂが形成さ
れている。この回転多面鏡１０は、モータ１１によって
回転させられる円板状のロータ１２の上に同軸的に配置
され、このロータ１２に対し、上端面の中心に配された
押圧部材１３で押し付けられることにより一体的に固定
されている。モータ１１は、ハウジング本体３１に形成
された凹所３１ａに収納され、その上面に固定されたモ
ータ基板１４が、ハウジング本体３１の底面に固定され
ている。
【００１３】整流板２０は樹脂や板金等で円板状に成形
されたものであり、図２に示すように、その外径は回転
多面鏡１０の外接円の径よりも大きい。すなわち、整流
板２０は回転多面鏡１０の外接円以上の面積を有してい
る。整流板２０の周縁部には、複数（図示例では３つ）
の脚部２１が等間隔に形成されており、これら脚部２１
がねじ止め等の手段でハウジング本体３１に固定されて
いる。この固定状態で、整流板２０は、回転多面鏡１０
と僅かな隙間Ｌ２をおいて、回転多面鏡１０の上端面と
平行に、かつ同軸的に配置されている。回転多面鏡１０
の反射面１０ａに対する光ビームの入射および反射は、
脚部２１間の空間を利用して行われる。整流板２０の中
心には、整流板２０を回転多面鏡１０になるべく近づけ
るために、上記押圧部材１３の逃げとなる透孔２０ａが
形成されている。回転多面鏡１０の厚さＬ１は例えば２
ｍｍであり、その場合には、回転多面鏡１０と整流板２
０との間の隙間Ｌ２は、２ｍｍ未満、できれば１ｍｍ以
下が望ましい。
されたものであり、図２に示すように、その外径は回転
多面鏡１０の外接円の径よりも大きい。すなわち、整流
板２０は回転多面鏡１０の外接円以上の面積を有してい
る。整流板２０の周縁部には、複数（図示例では３つ）
の脚部２１が等間隔に形成されており、これら脚部２１
がねじ止め等の手段でハウジング本体３１に固定されて
いる。この固定状態で、整流板２０は、回転多面鏡１０
と僅かな隙間Ｌ２をおいて、回転多面鏡１０の上端面と
平行に、かつ同軸的に配置されている。回転多面鏡１０
の反射面１０ａに対する光ビームの入射および反射は、
脚部２１間の空間を利用して行われる。整流板２０の中
心には、整流板２０を回転多面鏡１０になるべく近づけ
るために、上記押圧部材１３の逃げとなる透孔２０ａが
形成されている。回転多面鏡１０の厚さＬ１は例えば２
ｍｍであり、その場合には、回転多面鏡１０と整流板２
０との間の隙間Ｌ２は、２ｍｍ未満、できれば１ｍｍ以
下が望ましい。
【００１４】次に、本実施形態の作用を説明する。モー
タ１１によって一方向に高速で回転する回転多面鏡１０
の周囲には、図３に示すように、回転方向Ｒと相対的
に、矢印Ａ１で示す逆向きの空気流が発生する。その空
気流が反射面１０ａの間の稜角１０ｂを通過すると、そ
の一部は回転多面鏡１０の上下に抜けるが、整流板２０
が配置された上側においては、空気流が整流板２０の下
面に衝突して反射する空気流Ａ３が生じ、この空気流Ａ
３は反射面１０ａの回転方向上流側に戻る。このような
空気の流れにより、従来では負圧となっていた反射面１
０ａの回転方向上流側の気圧が高まり、渦流の発生が抑
制される。このため、塵埃が巻き込まれにくくなって塵
埃の付着が抑制され、その結果、反射面１０ａの反射率
が保持されて出力される画像の品質が安定する。
タ１１によって一方向に高速で回転する回転多面鏡１０
の周囲には、図３に示すように、回転方向Ｒと相対的
に、矢印Ａ１で示す逆向きの空気流が発生する。その空
気流が反射面１０ａの間の稜角１０ｂを通過すると、そ
の一部は回転多面鏡１０の上下に抜けるが、整流板２０
が配置された上側においては、空気流が整流板２０の下
面に衝突して反射する空気流Ａ３が生じ、この空気流Ａ
３は反射面１０ａの回転方向上流側に戻る。このような
空気の流れにより、従来では負圧となっていた反射面１
０ａの回転方向上流側の気圧が高まり、渦流の発生が抑
制される。このため、塵埃が巻き込まれにくくなって塵
埃の付着が抑制され、その結果、反射面１０ａの反射率
が保持されて出力される画像の品質が安定する。
【００１５】本実施形態では、回転多面鏡１０の厚さ：
Ｌ１、回転多面鏡１０と整流板２０との間の隙間：Ｌ２
の関係が、Ｌ１＞Ｌ２であって、１／２Ｌ１≧Ｌ２であ
ることをより好ましい形態とすることにより、整流板２
０が回転多面鏡１０になるべく近付いた状態となる。ま
た、整流板２０が回転多面鏡１０の外接円以上の面積を
有しており、回転する回転多面鏡１０の上端面を十分に
覆っている。これらの構成要件により、空気流が整流板
２０から回転多面鏡１０側に確実に、かつ高圧で反射
し、塵埃付着の抑制効果が顕著に得られる。そして、本
実施形態では、塵埃付着の抑制効果を、整流板２０を回
転多面鏡１０の上側に近接して配置するといった簡素な
構成で、かつ反射面の光ビームの有効反射領域を狭める
ことなく得ることができる。
Ｌ１、回転多面鏡１０と整流板２０との間の隙間：Ｌ２
の関係が、Ｌ１＞Ｌ２であって、１／２Ｌ１≧Ｌ２であ
ることをより好ましい形態とすることにより、整流板２
０が回転多面鏡１０になるべく近付いた状態となる。ま
た、整流板２０が回転多面鏡１０の外接円以上の面積を
有しており、回転する回転多面鏡１０の上端面を十分に
覆っている。これらの構成要件により、空気流が整流板
２０から回転多面鏡１０側に確実に、かつ高圧で反射
し、塵埃付着の抑制効果が顕著に得られる。そして、本
実施形態では、塵埃付着の抑制効果を、整流板２０を回
転多面鏡１０の上側に近接して配置するといった簡素な
構成で、かつ反射面の光ビームの有効反射領域を狭める
ことなく得ることができる。
【００１６】（２）第２実施形態
図４および図５は本発明の第２実施形態を示している。
この第２実施形態では、上記第１実施形態の脚部２１の
代わりに、ハウジング本体３１と一体に複数のボス３１
ｂが形成されており、これらボス３１ｂに、整流板２０
が接着やねじ止め等の手段で固定されている。この第２
実施形態によっても、上記第１実施形態と同様の作用効
果が得られる。
この第２実施形態では、上記第１実施形態の脚部２１の
代わりに、ハウジング本体３１と一体に複数のボス３１
ｂが形成されており、これらボス３１ｂに、整流板２０
が接着やねじ止め等の手段で固定されている。この第２
実施形態によっても、上記第１実施形態と同様の作用効
果が得られる。
【００１７】（３）第３実施形態
第３実施形態を示す図６および図７では、ハウジング本
体３１に装着される蓋体３２が図示されており、ハウジ
ング本体３１と蓋体３２とによりハウジング３０が構成
される。そして、図７に示すように、蓋体３２に整流板
２０が一体成形されている。整流板２０は、蓋体３２の
回転多面鏡１０への対向面を下方に膨出させることによ
り成形されている。この第３実施形態によれば、整流板
２０により上記第１実施形態と同様に反射面１０ａに対
する塵埃付着の抑制効果が得られるのはもちろんのこ
と、整流板２０がハウジング３０の蓋体３２と一体に形
成されているので、整流板２０を別部品として用意する
必要がなく、このため、部品点数の削減、ならびに構成
のさらなる簡素化を図ることができる。
体３１に装着される蓋体３２が図示されており、ハウジ
ング本体３１と蓋体３２とによりハウジング３０が構成
される。そして、図７に示すように、蓋体３２に整流板
２０が一体成形されている。整流板２０は、蓋体３２の
回転多面鏡１０への対向面を下方に膨出させることによ
り成形されている。この第３実施形態によれば、整流板
２０により上記第１実施形態と同様に反射面１０ａに対
する塵埃付着の抑制効果が得られるのはもちろんのこ
と、整流板２０がハウジング３０の蓋体３２と一体に形
成されているので、整流板２０を別部品として用意する
必要がなく、このため、部品点数の削減、ならびに構成
のさらなる簡素化を図ることができる。
【００１８】（４）第４実施形態
図８および図９に示す第４実施形態では、ハウジング本
体３１の裏面側に形成された凹所３１ｃに回転多面鏡１
０が収納されており、モータ基板１４がハウジング本体
３１の裏面に固定されている。図９に示すように、凹所
３１ｃは、ハウジング本体３１に一体成形された円筒状
の側壁３１ｄおよび円板状の整流板２０により形成され
ており、整流板２０は、回転多面鏡１０の上端面に近接
している。この場合、回転多面鏡１０の反射面１０ａに
対する光ビームの入射および反射は、側壁３１ｄの適宜
な箇所に形成された図示せぬ切欠きを利用して行われ
る。この第４実施形態によれば、整流板２０による塵埃
付着の抑制効果が上記第１実施形態と同様に得られると
ともに、整流板２０がハウジング本体３１と一体に形成
されているので、上記第３実施形態と同様に、部品点数
の削減ならびに構成のさらなる簡素化を図ることができ
る。
体３１の裏面側に形成された凹所３１ｃに回転多面鏡１
０が収納されており、モータ基板１４がハウジング本体
３１の裏面に固定されている。図９に示すように、凹所
３１ｃは、ハウジング本体３１に一体成形された円筒状
の側壁３１ｄおよび円板状の整流板２０により形成され
ており、整流板２０は、回転多面鏡１０の上端面に近接
している。この場合、回転多面鏡１０の反射面１０ａに
対する光ビームの入射および反射は、側壁３１ｄの適宜
な箇所に形成された図示せぬ切欠きを利用して行われ
る。この第４実施形態によれば、整流板２０による塵埃
付着の抑制効果が上記第１実施形態と同様に得られると
ともに、整流板２０がハウジング本体３１と一体に形成
されているので、上記第３実施形態と同様に、部品点数
の削減ならびに構成のさらなる簡素化を図ることができ
る。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
回転多面鏡の端面に近接して配置した整流板によって反
射面の回転方向上流側への塵埃の付着を抑制するもので
あり、その塵埃付着の抑制効果を、簡素な構成で、かつ
光ビームの有効反射領域を狭めることなく得ることがで
きる。
回転多面鏡の端面に近接して配置した整流板によって反
射面の回転方向上流側への塵埃の付着を抑制するもので
あり、その塵埃付着の抑制効果を、簡素な構成で、かつ
光ビームの有効反射領域を狭めることなく得ることがで
きる。
【図１】 本発明の第１実施形態に係る光走査装置の平
面図である。
面図である。
【図２】 図２のII−II線矢視断面図である。
【図３】 第１実施形態の整流板の作用を説明する側面
図である。
図である。
【図４】 本発明の第２実施形態に係る光走査装置の平
面図である。
面図である。
【図５】 図４のV−V線矢視断面図である。
【図６】 本発明の第３実施形態に係る光走査装置の平
面図である。
面図である。
【図７】 図６のVII−VII線矢視断面図である。
【図８】 本発明の第４実施形態に係る光走査装置の平
面図である。
面図である。
【図９】 図８のIX−IX線矢視断面図である。
【図１０】 光走査装置の原理を説明するための概念図
である。
である。
【図１１】 回転多面鏡の反射面に塵埃が付着する原理
を説明するための（ａ）平面図、（ｂ）側面図である。
を説明するための（ａ）平面図、（ｂ）側面図である。
１…レーザ発振器（光源）、１０…回転多面鏡、１０ａ
…反射面、１０ｂ…稜角、２０…整流板、３０…ハウジ
ング、３１…ハウジング本体、３２…ハウジングの蓋
体、Ｌ…レーザビーム（光ビーム）。
…反射面、１０ｂ…稜角、２０…整流板、３０…ハウジ
ング、３１…ハウジング本体、３２…ハウジングの蓋
体、Ｌ…レーザビーム（光ビーム）。
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Ｆターム(参考） 2C362 BA04 DA14
2H045 AA33 AA46
5C051 AA02 CA07 DB22 DB24 DC07
EA08
5C072 AA03 DA02 DA04 HA02 HA13
HB20 XA05
Claims (4)
- 【請求項１】 光源から出射する光ビームを偏向走査す
る回転多面鏡と、この回転多面鏡の少なくとも片側の端
面に近接し、かつ該端面と略平行に配置された整流板と
を備えることを特徴とする光走査装置。 - 【請求項２】 前記回転多面鏡の厚さをＬ１、この回転
多面鏡と前記整流板との間の隙間をＬ２としたとき、Ｌ
１＞Ｌ２であることを特徴とする請求項１に記載の光走
査装置。 - 【請求項３】 前記整流板が前記回転多面鏡の外接円以
上の面積を有していることを特徴とする請求項１または
２に記載の光走査装置。 - 【請求項４】 ハウジングに支持され、かつこのハウジ
ングの一部が前記整流板を構成していることを特徴とす
る請求項１〜３のいずれかに記載の光走査装置。
Priority Applications (2)
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|---|---|---|---|
| JP2002094049A JP2003295094A (ja) | 2002-03-29 | 2002-03-29 | 光走査装置 |
| US10/383,074 US6903858B2 (en) | 2002-03-29 | 2003-03-07 | Optical scanning device with air current rectifying mechanism |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002094049A JP2003295094A (ja) | 2002-03-29 | 2002-03-29 | 光走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003295094A true JP2003295094A (ja) | 2003-10-15 |
Family
ID=28449680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002094049A Pending JP2003295094A (ja) | 2002-03-29 | 2002-03-29 | 光走査装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6903858B2 (ja) |
| JP (1) | JP2003295094A (ja) |
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| KR101058016B1 (ko) | 2004-11-06 | 2011-08-19 | 삼성전자주식회사 | 폴리곤 미러 유니트 |
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| JP2019191334A (ja) * | 2018-04-24 | 2019-10-31 | キヤノン株式会社 | ポリゴンミラー、偏向器、光走査装置、画像形成装置、およびポリゴンミラーの製造方法 |
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| JPH08240780A (ja) * | 1995-03-01 | 1996-09-17 | Fuji Xerox Co Ltd | 光走査装置の防塵機構 |
| JPH09197328A (ja) | 1996-01-11 | 1997-07-31 | Canon Inc | 偏向走査装置 |
| US6243190B1 (en) * | 1998-06-24 | 2001-06-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light scanning apparatus |
-
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- 2002-03-29 JP JP2002094049A patent/JP2003295094A/ja active Pending
-
2003
- 2003-03-07 US US10/383,074 patent/US6903858B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
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