KR20190089841A - 액체 의치 세정제 조성물, 의치 세정 세트, 및 의치의 세정 방법 - Google Patents

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유나 타키모토
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Abstract

제 1 발명으로서, (A)히드록시에탄디포스폰산 및 (B)계면활성제를 함유하고, 20℃에 있어서의 pH가 5~9인 것을 특징으로 하는 액체 의치 세정제 조성물, 제 2 발명으로서 (A)히드록시에탄디포스폰산, (B)계면활성제, 및 (C)벤조산 또는 그 유도체를 함유하며, 농축형 제제인 것을 특징으로 하는 액체 의치 세정제 조성물, 및 제 3 발명으로서 (B)계면활성제 및 (E)증점제를 함유하고, 25℃에서의 점도가 20~100mPa·s인 농축형 제제인 것을 특징으로 하는 액체 의치 세정제 조성물을 제공한다. 본 발명에 의하면 의치의 스테인 오염 제거 효과가 우수한 액체 의치 세정제 조성물을 제공할 수 있다.

Description

액체 의치 세정제 조성물, 의치 세정 세트, 및 의치의 세정 방법
본 발명은 의치의 스테인 오염 제거 효과가 우수한 액체 의치 세정제 조성물, 이것을 사용한 의치 세정 세트, 및 의치의 세정 방법에 관한 것이다.
의치에 부착되는 오염은 덴쳐 플라크, 음식물 잔사, 스테인(착색 침착물), 치석 등이다. 또한, 덴쳐 플라크는 통상의 덴탈 플라크에 보이는 미생물 구성이나 구조와 유사하지만, 살균이 비교적 어려운 칸디다균(Candida albicans)의 구성비가 덴탈 플라크보다 높은 것이 보고되어 있다.
이들 의치 오염을 세정하기 위해 의치의 브러싱이나 의치 세정제에 의한 세정이 행해지고, 이들 모두를 행하는 경우도 있다. 의치는 치아뿐만 아니라 구개 점막이나 잇몸의 부분이 수지나 금속으로 만들어져 있기 때문에 오염의 대상이 되는 면적이 넓고, 오염도 눈에 띄기 쉽고, 특히 의치로의 스테인의 부착은 위생적·미적 관점으로부터도 바람직하지 않아 스테인 오염의 제거는 의치 세정제의 큰 타깃으로 되어 있다. 그러나 의치의 스테인 오염은 타액 단백질에 추가하여 음식물 등의 외래성 물질에 의한 수식을 받아 강고하게 부착되어 있는 점에서 만족스럽게 제거하는 것이 어려웠다.
종래 의치의 세정에 사용되는 의치 세정제는 과산화물을 주성분으로 하는 고체의 세정제를 물에 용해하고, 용해 시에 발포하는 것 같은 발포정 타입의 것이 보관성이 좋고, 작업도 간편한 점에서 주류이며, 예를 들면 산염기 반응에 의해 발포하는 유기산 및 탄산염과, 계면활성제를 함유하는 고체의 의치 세정제가 제안되어 있다(특허문헌 1: 일본 특허공개 평 11-181500호 공보).
그러나 상기와 같은 종래의 고체 타입의 세정제는 일반적으로 1회분 단위로 낱개 포장되어 있으며, 부분 의치와 같이 의치의 크기가 개인마다 크게 상이할 경우에 사용량의 조절을 할 수 없기 때문에 사용자의 불만이 되는 경우가 많다. 게다가 설정되어 있는 농도 범위에서, 또한 침지에 의한 화학 세정만으로는 세정력이 충분하다고는 말하기 어렵고, 단시간으로 스테인 오염을 제거하는 효과는 낮았다. 또한, 과산화물은 의치 열화의 걱정이 있을 뿐만 아니라, 만약 고농도로 침지 세정했을 경우에는 의치 금속이 변색될 가능성도 있었다.
그런데 부분 의치 장착자의 의치 장착 패턴은 다양화하고 있다. 하루 중 필요시만 의치를 장착하고, 취침 중에는 떼는 사용자가 주류이지만, 취침 중에도 의치를 계속해서 장착하는 의치 유저가 증가하고 있다. 이러한 취침 중에도 장착하는 의치 유저는, 예를 들면 아침, 잔존 치아를 닦고 있는 사이에 의치 세정하는 경우가 많은 점에서 종래의 하룻밤 침지보다 단시간으로 세정 가능한 수단이 요구된다. 단시간, 예를 들면 15분간 이내의 의치 세정에 사용하는 제제로서는 제제의 물로의 용해 시간을 요하는 종래의 정제나 분말제보다 액체 제제 쪽이 유리하며, 이 경우 콤팩트한 세정기를 사용한 의치 세정이 유효하다. 그러나 액체 제제로 의치의 스테인 오염을 만족스럽게 제거하는 것은 어려웠다.
이들의 점으로부터 과산화물이나 표백제를 포함하지 않고 의치로의 적용이 용이하며, 장시간의 세정 시간을 필요로 하지 않는 거품형상의 형태로 제공되는 의치 세정제가 제안되어 있다(특허문헌 2: 일본 특허공개 2007-254471호 공보). 그러나 이 기술은 약 50~99%w/w의 수상과 약 1~50%w/w의 수비혼화성 유상을 포함하는 에멀션이며, 사용 전에 흔들어 섞지 않으면 분리되어 있기 때문에 보존 중의 외관 안정성이 낮아 효과를 균일하게 지속시키는 것도 어렵다. 또한, 이 의치 세정제는 유상이 많기 때문에 의치에 적용해서 브러싱하고 있는 사이에 끈적임 등의 문제를 느낄 가능성이 있다. 또한, 표백제 성분을 포함하지 않고, 세정액의 pH도 낮기 때문에 브러싱을 병용해도 스테인 오염에 대한 제거력은 낮다.
또한, 특허문헌 3(일본 특허공개 소 63-14714호 공보)에는 의치로부터의 칸디다균 탈착능이 높고, 수용성 키틴, 키토산류를 포함하는 의치 세정제 조성물이 제안되어 있다. 특허문헌 4~6(일본 특허공개 2008-179615호 공보, 일본 특허공개 2010-6720호 공보, 일본 특허공개 2011-241167호 공보)에는 특정 계면활성제, 프로테아제 등을 함유하고, 덴쳐 바이오필름의 제거 효과 및 살균 효과가 우수한 농축 타입의 의치 세정용 액체 조성물이 제안되고, 특허문헌 7(특허공개 평 6-183942호 공보)에는 과산화물 및 히드록시에탄디포스폰산을 함유하고, 담배 타르 오염의 표백, 제거 효과가 우수한 액체 의치 세정제 및 의치 세정 방법이 제안되어 있지만, 스테인 오염 제거 효과는 불분명하다. 또한, 특허문헌 8, 9(일본 특허공개 2010-168352호 공보, 일본 특허공개 2010-280588호 공보)에는 아황산염과 함께 특정 계면활성제를 함유하고, 스테인 오염 제거력을 발휘하는 의치 세정용 액체 조성물이 제안되어 있다.
일본 특허공개 평 11-181500호 공보 일본 특허공개 2007-254471호 공보 일본 특허공개 소 63-14714호 공보 일본 특허공개 2008-179615호 공보 일본 특허공개 2010-6720호 공보 일본 특허공개 2011-241167호 공보 일본 특허공개 평 6-183942호 공보 일본 특허공개 2010-168352호 공보 일본 특허공개 2010-280588호 공보
본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 의치의 스테인 오염 제거 효과가 우수한 액체 의치 세정제 조성물, 이것을 사용한 의치 세정 세트, 및 의치의 세정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위해 예의 검토를 행한 결과, 제 1 발명으로서 액체 의치 세정제 조성물에 킬레이트제인 히드록시에탄디포스폰산과, 계면활성제를 조합해서 배합하고, 특정 pH 영역이면 의치에 부착된 스테인 오염에 대한 세정력이 향상되어 스테인 오염 제거 효과가 각별히 우수한 것을 발견했다.
즉, 본 제 1 발명에서는 (A)히드록시에탄디포스폰산과 (B)계면활성제를 함유하고, 20℃에 있어서의 pH가 5~9임으로써 의치의 스테인 오염 제거 효과가 우수한 액체 의치 세정제 조성물을 얻을 수 있다.
킬레이트제에 의한 스테인 오염 제거력은 충분하지 않고, 또한 계면활성제에 의한 스테인 오염 제거력도 충분하지는 않지만, 본 제 1 발명에서는 (A) 및 (B)성분을 조합하면 pH5 이상의 특정 영역의 액체 제제에 있어서 의외로 양 성분이 특이적이며, 또한 상승적으로 작용하고, 의치의 스테인 오염을 화학적으로 세정해서 제거하는 작용이 증강하여 각별히 우수한 스테인 오염 제거 효과를 나타낸다. 또한, 경시에 있어서의 제제의 균일성의 저하나, 향료 성분의 분리 등에 의한 층 분리, 탁함 및 변색이 억제되어 보존 안정성이 우수하며, 또한 비교적 단시간의 헹굼에 의해 의치의 끈적임이나 쓴맛을 억제할 수 있는 양호한 헹굼성을 부여하여 세정 후의 의치의 변형이라는 열화도 방지된다.
이 경우, 후술하는 비교예 I에 나타내는 바와 같이 (A)성분 또는 (B)성분의 단독 사용, 또는 (A)성분 이외의 킬레이트제와 (B)성분의 병용에서는 모두 스테인 제거율이 낮다. 이에 대하여 후술하는 실시예 I에 나타내는 바와 같이 본 제 1 발명에 있어서는 (A) 및 (B)성분을 병용하면 강고하게 부착된 스테인을 고율로 제거하는 우수한 스테인 오염 제거 효과를 부여한다.
또한, 본 발명자들은 제 2 발명으로서 사용 시에 물로 희석해서 의치에 적용하는 농축형 액체 의치 세정제 조성물에 히드록시에탄디포스폰산과 계면활성제와, 벤조산 또는 그 유도체를 조합해서 배합하면 의치의 스테인 오염 제거 효과 및 제균 효과가 우수하여 사용성도 양호해지는 것을 발견했다.
즉, 본 제 2 발명에서는 농축형 액체 의치 세정제 조성물에 (A)히드록시에탄디포스폰산과, (B)계면활성제, 특히 알킬아민옥시드와, (C)벤조산 또는 그 유도체를 조합해서 배합함으로써 사용 시에 물로 희석해도 높은 스테인 오염 제거력 및 칸디다균 살균력을 발휘하여 세정 효과 및 제균 효과가 우수하며, 또한 특히 세정기로 흘러 들어갈 때의 액체 흘림이나 액체 튐을 방지하여 세정기로의 넣기 쉬움이 향상되어 양호한 사용성을 확보할 수도 있다.
이 경우, (A), (B), 및 (C)성분을 조합하면 상기 3성분이 특이적으로 상호 작용하여 각별히 현저한 작용 효과를 부여한다. 특히, 칸디다균 살균 작용이 우수한 (B)성분에 (A)성분을 병용함으로써 화학적인 스테인 오염 제거 작용이 증강하고, 이에 따라 다른 구강 내 세균에 비해 살균되기 어려운 칸디다균도 살균하는 우수한 제균 효과와, 강고하게 부착된 스테인 오염도 고율로 제거하는 각별히 우수한 세정 효과를 겸비할 수 있다. 또한, (C)성분이 특히 (B)성분과 병용하면 의외로 적절하게 증점하는 점도 조정 작용을 나타내고, 이에 따라 세정기에 투입할 때의 액체 흘림이나 액체 튐이 방지되어 세정기에 넣기 쉬워지며, 게다가 희석 시에는 물에 조속히 균일 분산해서 용해할 수 있는 적당한 점도가 되어 다른 증점제 등의 점도 조정 성분을 첨가하지 않아도 사용성이 우수하다.
또한, (A), (B), 및 (C)성분의 조합에 (D)멘톨을 더 배합하면 향료의 멘톨이 점도를 적절하게 조정한다는 예상 외의 작용을 나타내어 사용성이 보다 개선된다.
또한, 본 발명자들은 제 3 발명으로서 농축형 액체 의치 세정제 조성물에 계면활성제와 증점제를 조합해서 배합하고, 농축 타입으로서는 비교적 낮은 점도 범위로 설정하면 특히 세정기를 사용한 의치 세정에 있어서의 사용성 및 분산성이 우수하며, 또한 희석해서 세정 시에는 의치의 스테인 오염도 제거하는 우수한 세정 효과를 나타내는 것을 발견했다. 또한, 히드록시에탄디포스폰산을 배합하면 스테인 오염 제거 효과가 보다 향상하는 것을 발견했다.
즉, 본 제 3 발명에서는 농축형 액체 의치 세정제 조성물에 (B)계면활성제와 (E)증점제를 조합해서 배합하고, 25℃에서의 점도가 20~100mPa·s인 것에 의해 특히 초음파 세정기를 사용한 의치 세정에 있어서 우수한 사용성 및 분산성이 양립하여 세정기에 넣기 쉽고, 냉수에도 조속히 분산시킬 수 있고, 게다가 희석한 세정액에 의해 세정 시에는 의치의 스테인 오염을 화학적으로 제거할 수 있는 높은 세정 효과를 부여할 수 있다. 또한, (A)히드록시에탄디포스폰산을 배합함으로써 스테인 오염 제거 효과를 보다 높일 수도 있다.
더 상세하게 설명하면 상기 제 2 발명 및 제 3 발명에 의한 액체 의치 세정제 조성물은 세정기를 사용하여 물과 함께 세정기에 투입해서 희석하고, 조제한 세정액에 의치를 침지해서 세정하는 데에 적합한 농축형 액체 의치 세정제 조성물이다. 이 경우, 액체 의치 세정제 조성물을 사용하고, 예를 들면 15분간 이내, 또한 5분간 정도의 비교적 단시간으로 의치 세정하기 위해서는 세정기를 사용한 의치 침지가 적합하다. 이것에 추가하여 초음파를 사용하면 효율적으로도 보다 바람직하다. 그러나 의치 세정기, 특히 의치용의 초음파 세정기는 통상의 다목적의 초음파 세정기보다 소형인 경향이 있기 때문에 그 세정조 중에 액체 의치 세정제 조성물을 넣을 때에 세정기 외로의 튀어나옴이나 액체 튐 등의 사용성의 과제가 발생하기 쉽고, 상기 문제를 개선하기 위해서는 농축형의 액체 제제로 조제되어 있는 정도의 점도를 부여하는 것이 유효하다고 생각되었다. 한편, 농축형의 액체 제제를 물로 희석할 때에는 조속히 물에 균일 분산해서 용해하는 것이 요구되지만, 사용성 개선을 위해 점도를 부여해버리면, 특히 저온 시의 물로의 분산성이 악화되기 때문에 분산성도 양립시키는 것은 어려웠다. 이에 대하여 본 발명에 의한 농축형 액체 의치 세정제 조성물에서는 의외로 농축 타입으로서는 비교적 저점도인 특정 점도 범위에 있어서 우수한 사용성을 부여하여 양호한 분산성을 양립할 수도 있다.
본 발명에서는 의치 세정제에 일반적으로 사용되어 있는 과산화물 등을 배합하지 않아도 의치에 대한 충분한 스테인 오염 제거 효과가 얻어져 세정 효과가 우수하다. 그 세정 효과는 의치면에 강고하게 부착된 오염, 즉 주로 타액 단백질에 의해 의치면에 형성된 펠리클이라고 불리는 박막이 구강 내 환경인 타액 또는 음식물 등의 외래성 물질에 의한 수식을 받아 강하게 부착된 스테인 오염도 제거하는 각별히 우수한 것이다. 또한, 의치의 열화를 걱정하는 일 없이 세정할 수도 있다.
또한, 특허문헌 7(특허공개 평 6-183942호 공보)에 개시된 과산화수소 및 히드록시에탄디포스폰산을 함유하는 액체 의치 세정제는 pH가 낮고, 이것은 과산화수소 및 히드록시에탄디포스폰산에 의한 담배 타르 세정력의 개선이다. 특허문헌 7로부터 pH5 이상의 영역에서 (A) 및 (B)성분의 병용에 의해 강고한 스테인 오염도 제거할 수 있는 오염 제거 효과를 부여하는 것은 상기(想起)할 수 없다.
따라서, 본 발명은 하기 액체 의치 세정제 조성물, 이것을 사용한 의치 세정 세트, 및 의치의 세정 방법을 제공한다.
〔1〕
(A)히드록시에탄디포스폰산, 및
(B)계면활성제를 함유하고, 20℃에 있어서의 pH가 5~9인 것을 특징으로 하는 액체 의치 세정제 조성물.
〔2〕
〔1〕에 있어서, (B)계면활성제가 하기에 나타내는 (I)~(III)으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상인 액체 의치 세정제 조성물.
(I) 알킬기의 탄소수가 12~18개인 알킬아민옥시드 및 베타인 양성 계면활성제로부터 선택되는 양성 계면활성제
(II) 아실기의 탄소수가 8~18개인 아실아미노산염, 탄소수 8~18개의 알킬황산염, 및 탄소수 8~18개의 α-올레핀술폰산염으로부터 선택되는 음이온성 계면활성제
(III) 알킬기의 탄소수가 12~20개이며, 에틸렌옥사이드의 평균 부가몰수가 10~20몰인 폴리옥시에틸렌 경화 피마자유로부터 선택되는 비이온성 계면활성제
〔3〕
〔1〕 또는 〔2〕에 있어서, (A)성분을 0.05~5질량%, (B)성분을 0.1~10질량% 함유하는 액체 의치 세정제 조성물.
〔4〕
〔1〕 내지 〔3〕 중 어느 하나에 있어서, (B)/(A)가 질량비로서 0.06~50인 액체 의치 세정제 조성물.
〔5〕
(A)히드록시에탄디포스폰산,
(B)계면활성제, 및
(C)벤조산 또는 그 유도체를 함유하고, 농축형 제제인 것을 특징으로 하는 액체 의치 세정제 조성물.
〔6〕
〔5〕에 있어서, (B)계면활성제가 알킬기의 탄소수가 12~18개인 알킬아민옥시드인 액체 의치 세정제 조성물.
〔7〕
〔5〕 또는 〔6〕에 있어서, (A)성분을 0.5~5질량%, (B)성분을 1~10질량%, (C)성분을 0.1~1질량% 함유하는 액체 의치 세정제 조성물.
〔8〕
〔5〕 내지 〔7〕 중 어느 하나에 있어서, (D)멘톨을 0.05~0.5질량% 더 함유하는 액체 의치 세정제 조성물.
〔9〕
〔5〕 내지 〔8〕 중 어느 하나에 있어서, 25℃에서의 점도가 15~100mPa·s인 액체 의치 세정제 조성물.
〔10〕
(B)계면활성제, 및
(E)증점제를 함유하고, 25℃에서의 점도가 20~100mPa·s인 농축형 제제인 것을 특징으로 하는 액체 의치 세정제 조성물.
〔11〕
(A)히드록시에탄디포스폰산,
(B)계면활성제, 및
(E)증점제를 함유하고, 25℃에서의 점도가 20~100mPa·s인 농축형 제제인 것을 특징으로 하는 액체 의치 세정제 조성물.
〔12〕
〔10〕 또는 〔11〕에 있어서, (B)계면활성제가 하기에 나타내는 (I) 및 (II)로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상인 액체 의치 세정제 조성물.
(I) 알킬기의 탄소수가 12~18개인 알킬아민옥시드 및 베타인 양성 계면활성제로부터 선택되는 양성 계면활성제
(II) 아실기의 탄소수가 8~18개인 아실아미노산염, 탄소수 8~18개의 알킬황산염, 및 탄소수 8~18개의 α-올레핀술폰산염으로부터 선택되는 음이온성 계면활성제
〔13〕
〔10〕 내지 〔12〕 중 어느 하나에 있어서, (E)증점제가 알긴산 나트륨, 카르복시메틸셀룰로오스나트륨, 및 크산탄검으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 음이온성 수용성 고분자 화합물인 액체 의치 세정제 조성물.
〔14〕
〔10〕 내지 〔13〕 중 어느 하나에 있어서, (B)성분을 1~10질량%, (E)성분을 0.1~5질량% 함유하는 액체 의치 세정제 조성물.
〔15〕
〔11〕에 있어서, (A)성분을 0.5~10질량% 함유하는 액체 의치 세정제 조성물.
〔16〕
〔5〕 내지 〔15〕 중 어느 하나에 있어서, 사용 시에 물로 희석한 세정액을 의치에 적용하는 농축형 액체 의치 세정제 조성물로서, 물에서의 희석 배율이 10~100배 희석이며, 또한 상기 세정액 중의 (B)성분의 농도가 0.1질량% 이상인 액체 의치 세정제 조성물.
〔17〕
〔5〕 내지 〔16〕 중 어느 하나에 있어서, 25℃에 있어서의 pH가 5~9인 액체 의치 세정제 조성물.
〔18〕
〔1〕 내지 〔17〕 중 어느 하나에 있어서, 과산화물을 함유하지 않는 액체 의치 세정제 조성물.
〔19〕
〔1〕 내지 〔18〕 중 어느 하나에 있어서, 초음파 세정용인 액체 의치 세정제 조성물.
〔20〕
〔5〕 내지 〔17〕 중 어느 하나에 기재된 액체 의치 세정제 조성물이 플라스틱 보틀 용기에 수납된 농축형 액체 의치 세정제와, 상기 액체 의치 세정제 조성물 및 물이 투입되는 세정조를 갖는 의치 세정기를 구비하는 것을 특징으로 하는 의치 세정 세트.
〔21〕
의치 세정기의 세정조에 〔5〕 내지 〔17〕 중 어느 하나에 기재된 액체 의치 세정제 조성물과 물을 투입해서 희석하여 세정액을 조제한 후 상기 세정액에 의치를 침지하는 것을 특징으로 하는 의치의 세정 방법.
이 경우, 제 1, 2, 및 3 발명으로서 하기 액체 의치 세정제 조성물 등을 제공할 수 있다.
제 1 발명;
〔1-1〕
(A)히드록시에탄디포스폰산, 및
(B)계면활성제를 함유하고, 20℃에 있어서의 pH가 5~9인 것을 특징으로 하는 액체 의치 세정제 조성물.
제 2 발명;
〔2-1〕
(A)히드록시에탄디포스폰산,
(B')알킬아민옥시드, 및
(C)벤조산 또는 그 유도체를 함유하는 것을 특징으로 하는 농축형 액체 의치 세정제 조성물.
〔2-2〕
(D)멘톨을 0.05~0.5질량% 더 함유하는 〔2-1〕에 기재된 농축형 액체 의치 세정제 조성물.
〔2-3〕
조성물의 25℃에 있어서의 pH가 5~6.5인 〔2-1〕 또는 〔2-2〕에 기재된 농축형 액체 의치 세정제 조성물.
〔2-4〕
25℃에 있어서의 점도가 15~100mPa·s인 〔2-1〕 내지 〔2-3〕 중 어느 하나에 기재된 농축형 액체 의치 세정제 조성물.
제 3 발명;
〔3-1〕
(B)계면활성제 및 (E)증점제를 함유하고, 25℃에서의 점도가 20~100mPa·s인 것을 특징으로 하는 농축형 액체 의치 세정제 조성물.
〔3-2〕
(A)히드록시에탄디포스폰산을 더 함유하는 〔3-1〕에 기재된 농축형 액체 의치 세정제 조성물.
〔3-3〕
〔3-1〕 또는 〔3-2〕에 기재된 농축형 액체 의치 세정제 조성물이 가요성을 갖는 용기 본체부와 구경 5㎜ 이하의 주출구부를 갖는 플라스틱 보틀 용기에 수납되어서 이루어지는 액체 의치 세정제와, 상기 액체 의치 세정제 조성물 및 물이 투입되는 세정조를 구비한 의치 세정기로 이루어지는 의치 세정 세트.
〔3-4〕
의치 세정기의 세정조에 〔3-1〕 또는 〔3-2〕에 기재된 농축형 액체 의치 세정제 조성물과 물을 투입해서 희석하고, 세정액을 조제한 후 상기 세정액에 의치를 침지해서 세정하는 것을 특징으로 하는 의치의 세정 방법.
(발명의 효과)
본 제 1 발명에 의하면 의치의 스테인 오염 제거 효과가 우수한 액체 의치 세정제 조성물을 제공할 수 있다.
본 제 2 발명에 의하면 우수한 세정 효과 및 제균 효과를 내타내고, 또한 사용성이 우수한 농축형 액체 의치 세정제 조성물을 제공할 수 있다.
본 제 3 발명에 의하면 특히 세정기를 사용한 의치 세정에 있어서의 사용성 및 분산성이 우수하며, 또한 의치의 스테인 오염도 제거하는 우수한 세정 효과를 갖는 농축형 액체 의치 세정제 조성물을 제공할 수 있다.
이들 액체 의치 세정제 조성물은 의치를 침지시킴으로써 간단하며 또한 용이하게 비교적 단시간으로 세정할 수 있고, 의치의 크기에 따라 사용량의 조정도 가능하며, 예를 들면 잔존 치아를 양치하고 있는 동안에서의 부분 의치의 세정에도 적합하다. 또한, 세정에 의해 의치 금속을 상하게 하는 경우가 없다.
이하, 본 발명에 대해서 더 상세하게 설명한다. 본 제 1 발명의 액체 의치 세정제 조성물은 (A)히드록시에탄디포스폰산 및 (B)계면활성제를 함유하고, 20℃에 있어서의 pH가 5~9의 영역인 것을 특징으로 한다. 이 액체 의치 세정제 조성물은 액체 형태(거품상 형태는 아니다)로 의치에 적용된다.
(A)히드록시에탄디포스폰산(HEDP)의 배합량은 스테인 오염 제거 효과의 점으로부터 조성물 전체의 0.05~5%(질량%, 이하 마찬가지)가 바람직하며, 보다 바람직하게는 0.1~2%, 더 바람직하게는 0.2~2%이다. 배합량이 많을수록 스테인 오염 제거 효과는 높아지지만, 지나치게 많이 배합하지 않는 편이 제제 안정성의 점으로부터는 적합하다. 5%를 초과하면 의치 세정제의 보존 안정성이 악화되는 경우가 있다.
(B)계면활성제로서는 음이온성 계면활성제, 양성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제를 사용할 수 있지만, 바람직하게는 음이온성 계면활성제, 양성 계면활성제이다. 보다 바람직한 계면활성제는 후술과 같으며, 스테인 오염 제거 효과의 점으로부터 음이온성 계면활성제로서는 아실아미노산염, 양성 계면활성제로서는 알킬아민옥시드가 특히 바람직하며, 그 중에서도 라우로일글루탐산 나트륨, 라우릴디메틸아민옥시드가 바람직하다.
또한, 계면활성제는 1종 단독으로 또는 효과 발현의 점에서 2종 이상을 조합해서 사용할 수 있다.
음이온성 계면활성제로서는 알킬황산염, α-올레핀술폰산염, 아실아미노산염, 알킬인산염을 사용할 수 있다. 그 중에서도 스테인 오염 제거력의 점으로부터 탄소수 8~18개의 알킬황산염, 탄소수 8~18개의 α-올레핀술폰산염, 아실기의 탄소수가 8~18개인 아실아미노산염이 바람직하며, 보다 바람직하게는 아실아미노산염이다. 염으로서는 나트륨염, 칼륨염 등의 알칼리 금속염이 바람직하며, 나트륨염이 특히 바람직하다.
탄소수 8~18개의 알킬황산염으로서는 라우릴황산염, 미리스토일황산염 등을 들 수 있고, 특히 라우릴황산염이 바람직하다. 구체적으로는 TOHO Chemical Industry Co., Ltd.제나 BASF Ltd.제의 라우릴황산 나트륨 등의 시판품을 사용할 수 있다.
α-올레핀술폰산염의 바람직한 탄소수는 8~18개, 특히 14~16개이다. 그 중에서도 탄소수 14개의 α-올레핀술폰산염, 특히 나트륨염(일반명; 테트라데센술폰산 나트륨)이 바람직하다. 구체적으로는 구강용 제제에 사용 가능한 시판품, 예를 들면 LION SPECIALTY CHEMICALS CO., LTD.제의 상품명 「K LIPOLAN PJ-400CJ(분체)」나 「LIPOLAN LB-440(액체)」을 사용할 수 있다.
아실아미노산염은 아실기의 탄소수가 바람직하게는 8~18개, 특히 12~16개이며, 이러한 탄소수의 아실기를 갖는 아실글루탐산염, 아실아스파라긴산염, 아실사르코신염, 아실타우린염 등을 들 수 있다. 구체적으로는 라우로일글루탐산염, 미리스토일글루탐산염, 라우로일아스파라긴산염, 라우로일사르코신염, 라우로일메틸타우린염 등을 들 수 있다. 그 중에서도 산성 아실아미노산염인 아실글루탐산염, 아실아스파라긴산염, 특히 아실글루탐산염이 바람직하며, 특히 라우로일글루탐산염이 바람직하다. 염으로서는 알칼리 금속염이 바람직하며, 나트륨염이 특히 바람직하다. 구체적으로는 Asahi Kasei Chemicals Corp.제 등의 시판품을 사용할 수 있다.
양성 계면활성제로서는 알킬아민옥시드, 베타인형 양성 계면활성제를 들 수 있고, 특히 알킬아민옥시드가 바람직하다.
알킬아민옥시드로서는 바람직하게는 알킬기의 탄소수가 12~18개, 특히 12~16개인 알킬디메틸아민옥시드를 사용할 수 있고, 예를 들면 라우릴디메틸아민옥시드 등을 들 수 있다. 구체적으로 라우릴디메틸아민옥시드로서 LION SPECIALTY CHEMICALS CO., LTD.제의 상품명 「CADENAX DM12D-W」 등의 시판품을 사용할 수 있다.
베타인형 양성 계면활성제로서는, 예를 들면 2-알킬-N-카르복시메틸-N-히드록시에틸이미다졸리늄베타인이나, 야자유 지방산 아미도프로필베타인 등의 지방산 아미도프로필베타인, 라우릴디메틸아미노아세트산 베타인 등을 들 수 있고, 그 중에서도 2-알킬-N-카르복시메틸-N-히드록시에틸이미다졸리늄베타인, 지방산 아미도프로필베타인이 바람직하며, 지방산 아미도프로필베타인이 특히 바람직하다.
2-알킬-N-카르복시메틸-N-히드록시에틸이미다졸리늄베타인으로서는 상품명 ENAGICOL C-40H로서 LION SPECIALTY CHEMICALS CO., LTD.로부터 판매되어 있는 2-야자유 알킬-N-카르복시메틸-N-히드록시에틸이미다졸리늄베타인나트륨 수용액, 지방산 아미도프로필베타인으로서는 Degussa-Huls AG제의 야자유 지방산 아미도프로필베타인인 TEGO BETAIN CK, Sanyo Chemical Industries, Ltd.제의 LEBON 2000 등을 사용할 수 있다.
비이온성 계면활성제로서는 폴리에틸렌글리콜형, 특히 폴리옥시에틸렌알킬에테르 및 폴리옥시에틸렌 경화 피마자유가 바람직하다. 보다 바람직하게는 알킬기의 탄소수가 12~20개이며, 에틸렌옥사이드의 평균 부가몰수(이하, E.O. 부가몰수로 약기한다)가 10~20몰인 폴리옥시에틸렌알킬에테르 및/또는 E.O. 부가몰수가 5~60몰인 폴리옥시에틸렌 경화 피마자유를 사용할 수 있다.
폴리옥시에틸렌알킬에테르로서는, 예를 들면 EMALEX HC-60, EMALEX HC-100(NIHON EMULSION Co., Ltd.제), BLAUNON SR-705, 707(AOKI OIL INDUSTRIAL Co., Ltd.제) 등을 들 수 있다.
폴리옥시에틸렌 경화 피마자유로서는, 예를 들면 NIKKOL HCO-5, HCO-10, HCO-20, HCO-30(Nikko Chemicals Co., Ltd.제), BLAUNON RCW-20 OR(AOKI OIL INDUSTRIAL Co., Ltd.제) 등을 들 수 있다.
양이온성 계면활성제로서는 알킬(탄소수 6~20개)트리메틸암모늄염, 디알킬(탄소수 6~20개)디메틸암모늄염, 및 알킬(탄소수 6~20개)디메틸벤질암모늄염 등의 제 4급 암모늄염, 알킬(탄소수 6~20개)아민염, 알킬(탄소수 6~20개)아민에틸렌옥사이드 부가물, 알킬피리디늄염 등이 예시된다.
(B)계면활성제의 배합량은 조성물 전체의 0.1~10%가 바람직하며, 보다 바람직하게는 0.2~6%이다. 0.1% 이상이면 스테인 오염 제거 효과가 충분히 우수하며, 10% 이하이면 충분하며 또한 적당한 헹굼성이 얻어진다. 10%를 초과하면 의치를 세정 후에 물로 헹궈도 끈적임이 제거되기 어렵거나, 의치 장착 시에 쓴맛을 느끼는 경우가 있다.
또한, 상기 (B)성분의 배합량의 범위 내에 있어서 각 계면활성제를 사용할 수 있다.
본 제 1 발명에 있어서 (A)성분과 (B)성분의 배합 비율을 나타내는 (B)/(A)는 질량비로서 0.06~50이 바람직하며, 보다 바람직하게는 0.15~25이다. 이 범위 내이면 스테인 오염 제거 효과가 보다 우수하며, 또한 제제의 보존 안정성도 우수하다. (B)/(A)가 0.06 미만이거나 50을 초과할 경우에는 의치 세정제의 보존 안정성이 뒤떨어지는 경우가 있다.
본 제 1 발명의 액체 의치 세정제 조성물에는 상기 성분에 추가하여 그 밖의 공지 성분을 필요에 따라 배합할 수 있다. 예를 들면, 향료, 용제, 착색제, 살균제 등을 들 수 있다.
향료로서는 스피어민트유, 페퍼민트유, 아니스유, 유칼리유, 윈터그린유, 카시아유, 클로브유, 티미유, 세이지유, 레몬유, 오렌지유, 박하유, 카르다몬유, 코리앤더유, 만다린유, 라임유, 라벤더유, 로즈메리유, 로렐유, 캐모마일유, 캐러웨이유, 마조람기름, 베이유, 레몬그라스유, 오리가남유, 파인니들유, 시나몬바크유 등의 천연 향료, 및 멘톨, 멘톤, 카르본, 에틸부틸레이트, 바닐린, 에틸말톨, 아네톨, 살리실산 메틸, 신나믹알데히드, 시네올, 오이게놀, 에틸바닐린, 말톨, 리모넨, 시트로넬롤, 리날롤, 리날릴아세테이트, 멘틸아세테이트, 피넨, 옥틸알데히드, 시트랄, 풀레곤, 카르빌아세테이트, 아니스알데히드, 진저올레오레진, 크레오솔, dl-캠퍼 등의 단품 향료, 또한 에틸아세테이트, 알릴시클로헥산프로피오네이트, 메틸안트라닐레이트, 에틸메틸페닐글리시데이트, 운데카락톤, 헥산알, 에틸알코올, 프로필알코올, 부탄올, 이소아밀알코올 등의 단품 향료 및/또는 천연 향료도 포함하는 각종 조합 향료 등 구강용 제제에 사용되는 공지의 향료를 통상량으로 사용할 수 있다.
용제로서는 통상 물(이온 교환수)이 사용되지만, 다가 알코올 등을 5~20% 정도 첨가할 수도 있다.
착색제로서는 적색 2호, 적색 3호, 적색 225호, 적색 226호, 황색 4호, 황색 5호, 황색 205호, 청색 1호, 청색 2호, 청색 201호, 청색 204호, 녹색 3호 등의 법정 색소, 카라멜 색소, 홍화 색소, 치자나무 색소, 코치닐 색소, 아나토 색소, 운모티탄, 산화티탄 등을 들 수 있다.
살균제로서는 이소프로필메틸페놀 등의 비이온성 살균제를 들 수 있다. 배합량은 본 발명의 효과를 방해하지 않는 범위에서 유효량이다.
또한, 본 발명에서는 의치 세정제 성분으로서 일반적으로 사용되어 있는 과탄산나트륨, 과붕산나트륨 등의 과산화물, 차아염소산 또는 그 염, 아황산염 등의 산화제나 표백제는 특히 의치의 열화 방지의 점으로부터 배합하지 않는(배합량 0%) 편이 좋다. 배합하는 경우에는 각각의 배합량이 0.03% 이하, 특히 0.01% 이하가 바람직하다.
본 제 1 발명의 액체 의치 세정제 조성물은 20℃에 있어서의 pH가 5~9이며, 바람직하게는 5.3~8이다. pH가 5 미만이면 스테인 오염 제거 효과가 뒤떨어지고, 또한 세정에 의해 의치가 변형되는 등의 악영향을 받는다. pH가 9 이상이면 제제의 보존 안정성이 악화된다.
pH는 자연 그대로이어도 좋지만, pH 조정제를 첨가해서 조정해도 좋다. pH 조정제로서는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 염산, 인산 또는 그 염, 시트르산 또는 그 염, 탄산나트륨, 탄산수소나트륨, 붕산 또는 그 염 등을 들 수 있다.
본 제 1 발명의 액체 의치 세정제 조성물은 통상의 방법으로 사용할 수 있고, 액체 의치 세정제 조성물을 희석하는 일 없이 그대로 사용할 수 있지만, 필요에 따라 농축 타입의 제제로서 사용해도 좋다. 즉, 액체 의치 세정제 조성물을 물로 희석한 희석액에 의치를 침지하여 사용해도 좋고, 침지해서 세정한 후에는 필요에 따라 물로 헹궈서 사용할 수 있다. 또한, 이 경우 의치를 침지 시에는 (A)성분, (B)성분의 사용 농도가 각각 상술한 배합량 범위와 마찬가지의 범위 내인 것이 바람직하고, pH가 상기 범위 내인 것이 바람직하며, 이들을 충족하는 희석액이 적합하다.
농축 타입으로 할 경우에는 물에 의한 희석 배율이 사용성 및 용해성의 점으로부터 조성물의 10~100배 희석, 특히 10~50배 희석했을 때에 (A)성분, (B)성분의 농도가 각각 상기 사용 농도 범위 내가 되도록 제제 농도를 설계하는 것이 바람직하다. 또한, 희석했을 때의 pH가 상기 범위 내가 되도록 설계하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 제제 중의 (A)성분의 농도가 5% 이하, 특히 2% 이하, (B)성분의 농도가 10% 이하, 특히 5% 이하인 농축 타입 제제로 조제하고, 사용할 때에는 희석 후의 수용액 중의 (A)성분의 농도가 0.05% 이상, 특히 0.1% 이상, (B)성분의 농도가 0.1% 이상, 특히 0.2% 이상이 되도록 설계할 수 있다.
의치의 침지 시간은 5분간 이상으로 하는 것이 바람직하며, 10분간 이상이 보다 바람직하고, 침지 시간의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 통상 8시간 이내, 특히 6시간 이내가 바람직하다. 또한, 칫솔 등으로 가볍게 오염을 뺀 후에 본 발명의 액체 의치 세정제 조성물을 사용해서 의치를 침지하면 더 효과적이다. 또한, 본 제 1 발명의 조성물은 액체상으로 분산성이 높은 점에서 공지의 초음파 세정기를 병용해서 세정해도 좋고, 이 경우 의치의 침지 시간은 15분간 이내, 특히 5분간 정도가 바람직하다. 또한, 칫솔이나 초음파 세정 등을 채용하면 보다 효율 좋게 의치 오염을 제거할 수 있다.
본 제 2 발명의 농축형 액체 세정제 조성물은 상기 (A) 및 (B)성분과, (C)벤조산 또는 그 유도체를 함유한다.
이 경우, 본 제 2 발명에 있어서 (A)성분의 배합량이나 (B)성분의 종류 등의 상세는 각각 상기 제 1 발명과 마찬가지이지만, (B)계면활성제는 칸디다균 살균력이 우수한 점에서 (B')알킬아민옥시드가 바람직하며, 알킬기의 탄소수가 12~18개인 것이 보다 바람직하다. 또한, (B)성분의 배합량은 바람직하게는 조성물 전체의 1~10%, 특히 3~10%이다. 배합량이 1% 이상이면 충분한 칸디다균 살균 효과 및 스테인 오염 제거 효과가 얻어진다. 10% 이하이면 제제의 저온 보존 안정성을 양호하게 유지할 수 있다.
(A)성분과 (B)성분의 배합 비율을 나타내는 (B)/(A)에 대해서는 본 제 1 발명과 마찬가지이다.
(C)벤조산 또는 그 유도체는 특히 (B)성분과 병용함으로써 점도 조정제로서 작용하고, 적당한 점도를 부여해서 사용성, 특히 세정용 용기에 흘러 들어갈 때의 액체 흘림의 없음 및 넣기 쉬움을 향상시킨다.
(C)벤조산 또는 그 유도체는 벤조산, 벤조산염, 및 벤조산 에스테르로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상이며, 특히 벤조산염, 특히 벤조산 나트륨이 바람직하다.
벤조산의 염으로서는 나트륨염 등의 알칼리 금속염이 바람직하며, 예를 들면 벤조산 나트륨 등을 들 수 있다. 벤조산의 에스테르로서는 탄소수 1~5개의 알코올과의 에스테르를 들 수 있고, 예를 들면 벤조산 메틸, 벤조산 에틸 등을 들 수 있다.
(C)벤조산 또는 그 유도체의 배합량은 사용성 향상의 점으로부터 조성물 전체의 0.1~1%가 바람직하며, 보다 바람직하게는 0.3~0.8%이다. 배합량이 0.1% 이상이면 적당한 점도가 되어 사용성(액체 흘림의 없음, 세정용 용기로의 넣기 쉬움)이 충분히 개선된다. 1% 이하이면 물로 희석할 때의 분산성을 양호하게 유지할 수 있다.
또한, 본 제 2 발명에서는 (B)성분과 (C)성분의 배합 비율이 특정 범위 내이면 보다 적당한 점도가 되어 사용성이 우수하다. (B)성분과 (C)성분의 배합 비율을 나타내는 (B)/(C)는 질량비로서 1~100이 바람직하며, 보다 바람직하게는 2~50이다.
본 제 2 발명에서는 향료로서 (D)멘톨을 배합하는 것이 더 바람직하다. (C)벤조산 또는 그 유도체와 함께 (D)멘톨을 병용해서 배합하면 증점성이 보다 향상되어 점도가 보다 적당해지고, 사용성(액체 흘림의 없음, 세정용 용기로의 넣기 쉬움)이 보다 개선된다.
또한, 작용 기서(機序)에 대해서는 불명이지만, 양자의 벤젠환이 사용성 개선에 어떠한 작용을 나타내어 관여하는 것으로 추측된다.
멘톨은 단독 향료로서 멘톨을 그대로 사용해도 좋지만, 예를 들면 박하유, 페퍼민트유 등의 멘톨을 포함하는 정유 등도 사용 가능하다.
멘톨의 배합량은 멘톨로서 조성물 전체의 0.05~0.5%가 바람직하다. 0.05% 이상이면 사용성이 충분히 개선되고, 0.5% 이하이면 문제 없이 배합할 수 있다.
또한, 본 제 3 발명의 농축형 액체 세정제 조성물은 상기 (B)성분과 (E)증점제를 함유하고, 또한 점도가 특정 범위인 것이며, 더 바람직하게는 (A)성분을 함유한다.
본 제 3 발명에 있어서 (B)성분의 종류 등의 상세는 각각 상기 제 1 발명과 마찬가지이지만, (B)성분의 배합량은 바람직하게는 조성물 전체의 1~10%, 특히 3~10%이다. 배합량이 1% 이상이면 세정력, 특히 스테인 오염 제거 효과가 충분히 얻어지는 희석 배율 설정의 점에서 유리하며, 10% 이하이면 제제의 저온에서의 보존 안정성이 충분히 우수하다.
(E)증점제로서는 수용성 고분자 화합물의 배합이 가능하지만, 제제의 점도 안정성의 점으로부터 음이온성의 수용성 고분자 화합물, 특히 알긴산 나트륨, 카르복시메틸셀룰로오스나트륨, 크산탄검이 바람직하며, 그 중에서도 제제의 점도 안정성과 분산성, 특히 초음파에 의한 분산성의 점으로부터 알긴산 나트륨, 카르복시메틸셀룰로오스나트륨이 바람직하다. 이들 수용성 고분자 화합물은 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 사용할 수도 있다.
또한, 고분자 화합물에 따라서는 초음파를 가해도 제제가 응집하여 분산되기 어려워지는 경우가 있지만, 본 제 3 발명에서는 (E)성분, 특히 상기 특정 수용성 고분자 화합물을 사용함으로써 이러한 응집이나 분산성 악화를 초래하는 일 없이 점도 조정할 수 있다.
(E)증점제의 배합량은 조성물의 점도가 적절 범위, 특히 25℃에서의 점도가 20~100mPa·s가 되도록 조정하여 적당히 설정할 수 있지만, 통상 조성물 전체의 0.1~5%의 범위인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 0.1~1%, 더 바람직하게는 0.2~0.6%이다. 배합량이 0.1% 이상이면 충분하며 또한 적절한 점도를 부여할 수 있다. 5% 이하이면 점도가 지나치게 높거나, 제형이 페이스트상 또는 겔상으로 되는 일 없이 액체 형태로 본 발명의 효과가 얻어진다.
본 제 3 발명에서는 킬레이트제, 특히 (A)히드록시에탄디포스폰산을 배합하는 것이 더 바람직하다. 히드록시에탄디포스폰산을 배합하면 스테인 오염 제거 효과가 보다 높아진다. 그 배합량은 조성물 전체의 0.5~10%가 바람직하며, 보다 바람직하게는 3~5%이다. 또한, (B)/(A)의 질량비는 0.1~20이 좋다.
본 발명에 의한 농축형 액체 의치 세정제 조성물에는 상기 성분에 추가하여 그 밖의 공지 성분을 필요에 따라 배합할 수 있다. 공지 성분의 상세는 상기 제 1 발명과 마찬가지이다.
또한, 제 2 발명에 있어서 (D)멘톨을 배합할 경우에는 (D)성분의 배합량의 범위 내에서 멘톨, 멘톨을 포함하는 스피어민트유, 페퍼민트유 등의 향료를 사용할 수 있다.
또한, 제 2 발명에 있어서는 (C)성분이 배합되어 있으면 그 이외에 증점제 등의 점도 조정 성분은 배합하지 않아도 좋지만(배합량 0%), 예를 들면 음이온성 수용성 고분자 화합물을 첨가할 경우 그 배합량은 5% 이하, 특히 0.1~1%가 좋다.
제 3 발명에 있어서는 (E)성분이 배합되어 있으면 (E)성분 이외의 점도 조정 성분은 배합하지 않아도 좋고(0%), (C)벤조산 또는 그 유도체는 무배합이어도 좋다.
본 발명에 의한 농축형 액체 의치 세정제 조성물은 25℃에 있어서의 점도가 사용성의 점으로부터 바람직하게는 15mPa·s 이상, 특히 20mPa·s 이상, 특히 25mPa·s 이상이며, 또한 100mPa·s 이하, 특히 80mPa·s 이하, 특히 60mPa·s 이하가 좋다.
이 경우, 본 제 2 발명에 있어서 25℃에 있어서의 점도는 사용성(액체 흘림의 없음, 세정용 용기로의 넣기 쉬움)의 점으로부터 15mPa·s 이상, 특히 15~100mPa·s가 바람직하며, 보다 바람직하게는 20~80mPa·s이다. 15mPa·s 이상이면 액체 흘림, 또한 세정용 용기로의 넣기 쉬움을 보다 개선할 수 있다. 100mPa·s 이하이면 냉수로 희석할 때의 분산성을 양호하게 유지할 수 있다.
본 제 3 발명에 있어서 25℃에 있어서의 점도는 세정기로의 넣기 쉬움(사용성) 및 분산성의 점으로부터 20~100mPa·s이며, 바람직하게는 20~80mPa·s, 보다 바람직하게는 25~60mPa·s이다. 점도가 20mPa·s 미만이면 세정기로의 넣기 쉬움이 뒤떨어진다. 100mPa·s를 초과하면 냉수에서의 분산성이 나빠 초음파 세정을 5분간 행해도 물에 분산되지 않아 완전히 용해하지 못하고 남는다.
본 발명에 있어서 점도는 B형 점도계(VISCOMETER TVB-10, Toki Sangyo Co., Ltd.제)를 사용하여 측정했다(이하 마찬가지).
농축형 액체 의치 세정제 조성물의 pH는 상술한 본 제 1 발명의 액체 의치 세정제 조성물과 마찬가지로 설정할 수 있지만, 적당한 점도를 부여해서 사용성을 개선하는 점에서 pH(25℃)가 5~9, 특히 5~6.5가 좋다.
이 경우, 본 제 2 발명에 있어서 pH(25℃)는 5~6.5가 좋다. 본 제 3 발명에 있어서 pH(25℃)는 5~9, 특히 5.3~8이 좋다. 희석이 완료된 세정액의 pH를 상기 범위로 설계하는 것이 바람직하다. 또한, pH는 자연 그대로이어도 좋지만, pH 조정제를 첨가해서 조정해도 좋다.
본 발명에 의한 농축형 액체 의치 세정제 조성물은 희석해서 사용하는 농축 타입의 액체 제제이며, 수돗물, 정제수 등의 물로 희석해서 얻어지는 희석액을 세정액으로서 사용하고, 이것에 의치를 침지함으로써 의치를 세정할 수 있는 것이며, 세정용 용기에 투입해서 사용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 농축형 액체 의치 세정제 조성물의 물에 의한 희석 배율은 사용성 및 용해성의 점으로부터 10~100배 희석, 특히 10~50배 희석이 좋다.
본 발명에서는 상기 희석 배율로 희석한 희석액을 의치 침지액으로서 사용할 수 있다. 이 경우, 희석액, 즉 희석이 완료된 세정액 중의 각 성분의 바람직한 농도는 (B)성분의 농도가 0.1% 이상, 특히 0.15% 이상, 특히 0.2% 이상이다. 또한, (A)성분의 바람직한 농도는 0.05% 이상, 특히 0.1% 이상이다. 각각의 농도가 상기와 같이 되도록 물로 희석해 사용하는 것이 살균 효과, 세정 효과, 및 사용성의 점에서 보다 바람직하다.
농축형 액체 의치 세정제 조성물에 있어서 의치의 세정 방법은 의치 세정용 용기에 투입한 상기 농도의 희석액 중에 의치를 침지하면 좋지만, 특히 희석액이 액체상으로 분산성도 높은 점에서 그 세정 기능을 현저히 높일 수 있는 초음파 세정을 병용한 세정기를 사용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 초음파를 사용하여 배합 성분을 분산시켜 의치 세정도 행할 수 있다. 세정 후에는 세정용 용기로부터 의치를 인출하고, 물로 헹구고나서 장착할 수 있다.
또한, 의치의 침지 시간은 5분간 이상, 특히 10분간 이상이 바람직하다. 침지 시간의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 통상 8시간 이내, 특히 6시간 이내로 하는 것이 바람직하다. 또한, 초음파 세정을 행할 경우에는 15분간 이하가 바람직하며, 특히 5분간 정도가 바람직하다.
초음파 세정은 주파수 25~120㎑가 바람직하며, 40~100㎑가 보다 바람직하다. 초음파 주파수가 상기 하한값 이상이면 세정 시의 소리가 작고, 또한 의치의 변형이나 갈라짐 등의 위해성 없이 세정할 수 있다. 초음파 주파수가 상기 상한값 이하이면 높은 세정력이 얻어진다. 또한, 출력은 5~200W가 바람직하며, 10~100W가 보다 바람직하다. 초음파 출력이 상기 하한값 이상이면 높은 세정력이 얻어진다. 초음파 출력이 상기 상한값 이하이면 의치의 변형이나 갈라짐 등의 위해성 없이 세정할 수 있다.
또한, 의치 세정기는 액체 제제를 넣어 이것에 의치를 침지하여 세정할 수 있는 세정조를 구비한 것이면 좋고, 공지의 것을 사용할 수 있다. 이 경우, 의치 세정기의 세정조는 의치의 총의치 또는 부분 의치를 넣는데에 알맞은 크기이면 특별히 제한은 없지만, 콤팩트하면 사용성(놓는 장소)이 좋기 때문에 바람직하다. 구체적으로는 세정조가 직경 또는 장경이 12㎝ 이하인 원 또는 타원형상인 것 또는 적어도 1변이 12㎝ 이하인 사각형상인 의치 세정기가 농축형 액체 의치 세정제 조성물을 넣기 쉬워 사용성의 점으로부터 적합하다. 세정조의 용량은 100~150㎖ 정도가 좋다.
본 발명, 특히 제 3 발명에 의한 농축형 액체 의치 세정제 조성물은 액체 제제용의 일반적인 공지의 용기에 수납할 수 있지만, 수납 용기 본체는 가요성을 갖고, 외부로부터 손가락 등으로 누름으로써 수납된 내용물(농축형 액체 의치 세정제 조성물)이 상기 본체부로부터 배출되어 세정기에 주출(注出)할 수 있는 용기가 바람직하며, 이러한 재질, 형상의 용기가 좋다. 예를 들면, 가요성을 갖는 본체부의 상부에 5㎜ 이하의 구경의 주출구부를 구비한 플라스틱 보틀 용기에 수납하는 것이 바람직하며, 이 경우 용기 본체의 재질은 PET(폴리에틸렌테레프탈레이트), HDPE(고밀도 폴리에틸렌) 등이 적합하다. 또한, 주출구부는 특히 세정기로의 투입성의 점으로부터 구경 5㎜ 이하, 바람직하게는 0.5~5㎜, 보다 바람직하게는 1~3㎜의 주출구이다.
실시예
이하, 실시예 및 비교예, 처방예를 나타내어 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 하기 실시예에 제한되는 것은 아니다. 또한, 하기 예에 있어서 %는 특별히 언급하지 않는 한 모두 질량 백분율을 나타낸다.
[실시예 I, 비교예 I]
표 1~표 5에 나타내는 조성의 액체 의치 세정제 조성물을 상법에 따라 조제하여 의치 세정액을 얻었다. 얻어진 의치 세정액을 샘플로서 사용하여 하기 <실험 I>에 나타내는 방법으로 평가를 행했다. 결과를 표에 병기했다.
또한, pH는 수산화나트륨(NaOH)으로 조정하고, 20℃에서 측정했다.
사용한 주원료를 하기에 나타낸다.
(A)히드록시에탄디포스폰산(HEDP):
LION SPECIALTY CHEMICALS CO., LTD.제(상품명: FELIOX 115-A)
(B)라우릴디메틸아민옥시드:
LION SPECIALTY CHEMICALS CO., LTD.제(상품명: CADENAX DM12D-W)
(B)라우로일글루탐산 나트륨:
Asahi Kasei Chemicals Corp.제(상품명: AMINOSURFACT ALMS-P1)
(B)미리스토일글루탐산 나트륨:
Asahi Kasei Chemicals Corp.제(상품명: AMINOSURFACT AMMS-P1)
(B)라우로일아스파라긴산 나트륨:
Asahi Kasei Chemicals Corp.제(상품명: AMINO FORMER FLMS-P1)
(B)라우릴황산 나트륨: TOHO Chemical Industry Co., Ltd.제
(B)야자유 지방산 아미도프로필베타인(30% 수용액):
Sanyo Chemical Industries, Ltd.제(상품명: LEBON2000)
(B)폴리옥시에틸렌(20) 경화 피마자유
Nikko Chemicals Co., Ltd.제(상품명: NIKKOL HCO-20)
에틸렌디아민4아세트산(비교품)
Wako Pure Chemical Industries Ltd.제
시트르산(비교품)
Wako Pure Chemical Industries Ltd.제
<실험 I>
실험 1-1: 스테인 오염 제거 효과 <1-1>의 평가
(1) 타닌철 스테인 부착 아크릴판 1의 제작 방법
아크릴판 표면(KURARAY CO., LTD.제, 세로 10㎜×가로 10㎜×두께 5㎜)을 샌드블라스트로 처리 후 중성 세제를 넣은 초음파 세정기(상품명: 초음파 세정기 AU-80C, Aiwa Medical Industry Co., Ltd.제)에 5분간 걸쳐 물로 헹궈서 세정했다. 상기 초음파 세정을 3회 반복한 후 자연 건조하여 타닌철 스테인 부착 전의 아크릴판의 Lab값(L0)을 측정했다. 상기 아크릴판에 대하여 0.5% 알부민 수용액→타닌 추출액→0.6% 시트르산 철(III)암모늄 수용액이라는 순서로 이들에 30분간씩 반복하여 침지하는 조작을 3회 반복하고, 상온에서 1일 풍건한 후 유수로 세정하고, 다시 풍건해서 착색 아크릴판 1을 제작했다. 또한, 타닌 추출액은 비등시킨 이온 교환수 1,200mL 중에 일본 차(ITO EN, LTD.제) 50g, 홍차(Lipton Ltd.제, BRISK TEA BAG) 5봉지, 인스턴트 커피(Nestle S.A.제, NESCAFE) 12g을 넣어서 하룻밤 방치하고, 일본 차 및 홍차를 여과에 의해 제거하여 제작했다.
제작한 착색 아크릴판 1의 표면의 색을 측정하고, 그 값을 Lab값(L1)으로 했다.
(2) 타닌철 스테인 제거 효과 <1-1>의 평가 방법
샘플의 의치 세정액 약 50g을 비커에 넣고, 상기 (1)에서 제작한 타닌철 스테인 부착 아크릴판 1을 5분간 침지하여 유수하에서 헹궈서 세정하고, 건조한 후의 아크릴판 1의 Lab값(L2)을 측정했다. 이하의 식으로부터 타닌철 스테인 제거율을 구했다.
타닌철 스테인 제거율(%)=〔(L1-L2)/(L1-L0)〕×100
(3) 세정력의 평가 기준
타닌철 스테인 제거율로부터 이하의 평가 기준에 따라 스테인 오염 제거 효과를 평가했다.
평가 기준
A: 타닌철 스테인 제거율 70% 이상
B: 타닌철 스테인 제거율 60% 이상 70% 미만
C: 타닌철 스테인 제거율 50% 이상 60% 미만
D: 타닌철 스테인 제거율 30% 이상 50% 미만
E: 타닌철 스테인 제거율 30% 미만
실험 1-2: 스테인 오염 제거 효과 <1-2>의 평가
(1) 타닌철 스테인 부착 아크릴판 2(짙은 스테인 오염)의 제작 방법
아크릴판 표면(KURARAY CO., LTD.제, 세로 10㎜×가로 10㎜×두께 5㎜)을 샌드블라스트로 처리 후 중성 세제를 넣은 초음파 세정기(상품명: 초음파 세정기 AU-80C, Aiwa Medical Industry Co., Ltd.제)에 5분간 걸쳐 물로 헹궈서 세정했다. 상기 초음파 세정을 3회 반복한 후 자연 건조하고, 타닌철 스테인 부착 전의 아크릴판의 Lab값(L0)을 측정했다. 상기 아크릴판에 대하여 0.5% 알부민 수용액→타닌 추출액→0.6% 시트르산 철(III)암모늄 수용액이라는 순서로 이들에 30분간씩 반복하여 침지하는 조작을 10회 반복하고, 상온에서 1일 풍건한 후 유수로 세정하고, 다시 풍건해서 착색 아크릴판 2를 제작했다. 또한, 타닌 추출액의 제작 방법은 실험 1-1과 마찬가지이다.
제작한 착색 아크릴판 2의 표면의 색을 측정하고, 그 값을 Lab값(L1)으로 했다.
(2) 타닌철 스테인 제거 효과 <1-2>의 평가 방법
샘플의 의치 세정액 약 130mL를 초음파 세정기의 세정조에 주입한 후 상기 방법으로 제작한 타닌철 스테인 부착 아크릴판 2를 침지하여 5분간의 초음파 세정 처리(주파수: 42㎑, 출력: 17W)를 행했다. 초음파 세정 처리 후 유수하에서 헹궈서 세정하고, 건조한 후의 아크릴판 2의 Lab값(L2)을 측정했다. 이하의 식으로부터 타닌철 스테인 제거율을 구했다.
타닌철 스테인 제거율(%)=〔(L1-L2)/(L1-L0)〕×100
(3) 세정력의 평가 기준
타닌철 스테인 제거율로부터 이하의 평가 기준에 따라 아크릴판의 스테인 오염 제거 효과를 평가했다.
평가 기준
A: 타닌철 스테인 제거율 70% 이상
B: 타닌철 스테인 제거율 50% 이상 70% 미만
C: 타닌철 스테인 제거율 30% 이상 50% 미만
D: 타닌철 스테인 제거율 30% 미만
또한, 표 1~표 4에 나타내는 조성의 액체 의치 세정제 조성물에 대해서는 하기 실험 2~5에 나타내는 방법으로도 평가했다. 결과를 각 표의 하란에 별표로서 병기했다.
실험 2: 의치 세정제의 보존 안정성의 평가
샘플의 의치 세정액 약 78g을 덮개가 부착된 80mL 투명 PET 용기에 충전하고, 저온(-5℃) 조건하에서 1개월간 정치해서 보존 후에 실온으로 되돌렸을 때의 외관 안정성(균일성의 변화·침전물의 유무·층분리의 유무·변색의 유무)을 하기 평가 기준으로 평가했다.
평가 기준
A: 균일성·층분리·탁함·변색의 모든 항목에서 변화가 확인되지 않았다
B: 균일성·층분리·탁함·변색 중 어느 하나의 항목에서 품질상 문제가 되지 않는 레벨의 변화가 확인되었다
C: 균일성·층분리·탁함·변색 중 어느 하나의 항목에서 품질상 약간 문제가 되는 변화가 확인되었다
D: 균일성·층분리·탁함·변색 중 어느 하나의 항목에서 품질상 큰 문제가 되는 레벨의 변화가 확인되었다
실험 3: 의치의 변형의 평가
샘플의 의치 세정액 48g을 덮개가 부착된 투명 유리 용기에 충전하고, 그 안에 의치 재료인 아크릴 레진(상품명: ACRON, GC Corporation제)으로 제작한 블록(세로 20㎜×가로 30㎜×두께 5㎜)을 침지하고, 40℃ 조건하에서 1개월간 정치했다. 그 후 블록을 인출하고, 수세하여 건조 후 질량을 측정했다. 침지 전의 초기 질량 및 침지 처리 후의 질량을 각각 M1, M2로 해서 하기 식에 따라 의치의 변형률을 구했다.
의치의 변형율(%)=(M1-M2)/M1×100
평가 기준
A: 의치의 변형율이 3% 미만
B: 의치의 변형율이 3% 이상 5% 미만
C: 의치의 변형율이 5% 이상 7% 미만
D: 의치의 변형율이 7% 이상
실험 4: 헹군 후의 끈적임의 평가
샘플의 의치 세정제 약 200mL를 300mL 유리 비커에 넣고, 그 안에 부분 의치 모형(형번: #D007 자성 어태치먼트(상악 풀), Quest Co., Ltd.제)을 실온에서 5분간 침지했다. 그 후 부분 의치 모형을 인출하고, 유수하에서 헹궜을 때의 끈적임에 대해서 하기 평가 기준으로 관능 평가를 행했다.
평가 기준
A: 의치의 끈적임이 5초 미만의 헹굼으로 느껴지지 않게 된다
B: 의치의 끈적임이 5초 이상 10초 미만의 헹굼으로 느껴지지 않게 된다
C: 의치의 끈적임이 10초 이상 15초 미만의 헹굼으로 느껴지지 않게 된다
D: 의치의 끈적임이 15초 이상 30초 이하 헹군 후에 느껴지지 않게 된다
실험 5: 장착 시의 쓴맛의 평가
샘플의 의치 세정제 약 100mL를 150mL 유리 비커에 넣고, 그 안에 투명 아크릴판(KURARAY CO., LTD., 세로 20㎜×가로 30㎜×두께 2㎜)을 실온에서 5분간 침지했다. 그 후 투명 아크릴판을 인출하고, 유수하에서 10초간 헹군 후 구강 내에 넣어 그 때에 느낀 쓴맛에 대해서 하기 평가 기준에 의거하여 관능 평가했다.
평가 기준
A: 쓴맛이 전혀 느껴지지 않는다
B: 쓴맛이 거의 느껴지지 않는다
C: 쓴맛이 약간 느껴져서 신경쓰인다
D: 쓴맛이 강하게 느껴져서 신경쓰인다
Figure pct00001
Figure pct00002
Figure pct00003
Figure pct00004
*; 야자유 지방산 아미도프로필베타인의 순수 분량.
Figure pct00005
[실시예 II, 비교예 II]
표 6, 표 7에 나타내는 조성의 농축형 액체 의치 세정제 조성물을 상법에 따라 조제하고, 하기 <실험 II>에 나타내는 방법으로 평가했다. 결과를 표에 병기했다.
또한, pH(25℃)는 수산화나트륨(NaOH)으로 조정했다.
조성물의 점도는 하기 조건에서 측정한 값이다.
·점도계: VISCOMETER TVB-10(Toki Sangyo Co., Ltd.제)
·로터 No.: M1
·회전수: 50rpm
·측정 시간: 60초
또한, 실시예 II-1의 의치 세정제 조성물은 보존(50℃에서 1개월간)에 의한 물성 변화가 없어 보존 안정성이 우수한 조성물이었다.
<실험 II>
실험 1: 살균 효과의 평가
(1) 피검 균액의 조제
칸디다균(Candida albicans ATCC10231)을 Difco corporation제 Potato Dextrose Agar 배지(PDA 배지)에 백금이로 식균(植菌)하고, 25℃에서 24시간 배양해서 기균(起菌)했다. 또한, 백금이를 사용하여 증식한 콜로니를 PDA 배지에 식균하고, 25℃에서 48시간 전 배양을 행했다. 증식한 콜로니를 백금이로 채취하고, 생리 식염수에 현탁 후의 탁도가 OD660㎚=2.0이 되도록 조제했다.
(2) 피검 샘플의 조제
조제한 농축형 액체 의치 세정제 조성물을 물로 20배 희석해서 세정제 희석액을 조제하고, 샘플로서 사용했다.
(3) 칸디다균에 대한 살균력의 평가 방법
상기 (2)에서 조제한 샘플의 세정제 희석액 4mL 중에 상기 (1)에서 조제한 피검 균액 0.1mL를 첨가하고, 보텍스 믹서로 혼화 후 실온에서 5분간 방치했다. 그 후 상기 혼화액 0.444mL를 Daigo Corporation제 SCDLP 액체 배지 4mL와 혼합하여 반응을 불활화시켰다(이 단계에서 101 희석). 계속해서, 불활화 배지로 10배 희석 계열을 작성하고, 101, 103, 105 희석액을 50㎕씩 PDA 배지에 도말하고, 25℃에서 배양 후 생육한 콜로니수를 카운트하여 생균수를 산출했다.
얻어진 생균수로부터 하기 평가 기준에 의해 칸디다균에 대한 살균력을 판정했다.
칸디다균에 대한 살균력의 평가 기준
A: 5분간의 작용에서 대수 감소값이 3Log10 이상
B: 5분간의 작용에서 대수 감소값이 3Log10 미만
실험 2: 의치 오염에 대한 세정 효과의 평가
상기 <실험 I>의 실험 1-1과 마찬가지로 하여 타닌철 스테인 부착 아크릴판을 제작하고, 마찬가지로 하여 Lab값(L1)을 측정했다.
조제한 농축형 액체 의치 세정제 조성물을 물로 20배 희석해서 세정제 희석액을 조제하고, 샘플로서 사용하여 상기 세정제 희석액 100mL에 제작한 타닌철 스테인 부착 아크릴판을 침지하는 이외에는 <실험 I>의 실험 1-1과 마찬가지로 하여 타닌철 스테인 제거율을 구했다.
얻어진 타닌철 스테인 제거율로부터 하기 평가 기준에 따라 스테인 제거력을 판정했다.
스테인 제거력의 평가 기준
A: 타닌철 스테인 제거율 50% 이상
B: 타닌철 스테인 제거율 40% 이상 50% 미만
C: 타닌철 스테인 제거율 30% 이상 40% 미만
D: 타닌철 스테인 제거율 30% 미만
실험 3: 사용성(액체 흘림의 없음, 세정용 용기로의 넣기 쉬움)의 평가
(1) 피검 샘플의 조제
조제한 농축형 액체 의치 세정제 조성물(원액)을 그대로 세정제로서 샘플에 사용했다.
(2) 사용성의 평가 방법
평가자 10인을 사용한 관능 시험에 의해 평가했다. 내용량 250mL의 PET제의 플라스틱 보틀 용기 본체에 샘플 약 250mL를 충전하고, 병의 주출구를 내경 2㎜의 주출구를 갖는 힌지 캡으로 봉했다. 이 플라스틱 보틀 용기를 한손으로 들고 힌지 캡의 덮개를 제거하여 내경 2㎜의 주출구로부터 세정용 용기의 세정조(직경 약 7.5㎝, 깊이 약 5㎝의 원형)에 샘플을 약 5g 주입했을 때의 사용성으로서 액체 흘림의 없음, 세정용 용기로의 넣기 쉬움을 하기 평가 기준에 의해 평가했다. 또한, 실시예의 세정제는 모두 세정용 용기에 주입하면 물에 조속히 분산되었다.
여기에서 세정용 용기로의 넣기 쉬움이란 투입 시에 용기 외로의 액체 튐이 방지됨으로써 달성된다.
액체 흘림의 없음 평가 기준
4점: 전혀 액체를 흘리지 않음
3점: 힌지 캡의 입구 근처에 액체를 흘림
2점: 힌지 캡의 나사 근처 부분까지 액체를 흘림
1점: 보틀까지 액체를 흘림
세정용 용기로의 넣기 쉬움의 평가 기준
4점: 매우 넣기 쉽다
3점: 약간 넣기 쉽다
2점: 약간 넣기 어렵다
1점: 매우 넣기 어렵다
액체 흘림의 없음, 세정용 용기로의 넣기 쉬움의 각각에 대해서 10인의 평가 결과를 평균하고, 평균값으로부터 하기 평가 기준으로 평가했다.
A: 3.5점 이상 4.0점 이하
B: 3.0점 이상 3.5점 미만
C: 2.0점 이상 3.0점 미만
D: 2.0점 미만
사용한 주원료의 상세를 하기에 나타낸다.
(A)히드록시에탄디포스폰산: Italmatch Japan Ltd.제(상품명: DEQUEST 2010)
(B)라우릴디메틸아민옥시드: LION SPECIALTY CHEMICALS CO., LTD.제(상품명: CADENAX DM12D-W)
(C)벤조산 나트륨: FUSHIMI Pharmaceutical Co., Ltd.제(상품명: 벤조산 나트륨)
(D)박하유: 멘톨 농도 39%, SHIONO KORYO KAISHA, LTD.제
Figure pct00006
Figure pct00007
또한, 표 6 중의 실시예 II의 농축형 액체 의치 세정제 조성물은 후술하는 실험 2와 마찬가지의 방법으로 분산성의 평가를 행한 결과, 결과는 모두 A평가이며, 양호한 분산성을 갖고 있었다.
[실시예 III, 비교예 III]
표 8, 표 9에 나타내는 조성의 농축형 액체 의치 세정제 조성물을 상법에 따라 조제하고, 하기 <실험 III>에 나타내는 방법으로 평가했다. 결과를 표에 병기했다.
조성물의 점도는 하기 조건에서 측정한 값이다.
·점도계: VISCOMETER TVB-10(Toki Sangyo Co., Ltd.제)
·로터 No.: M1(실시예, 비교예 2), M2(비교예 1,3,4)
·회전수: 50rpm
·측정 시간: 60초
사용한 주원료를 하기에 나타낸다.
(B)라우릴디메틸아민옥시드:
LION SPECIALTY CHEMICALS CO., LTD.제(상품명: CADENAX DM12D-W)
(B)라우릴황산 나트륨: BASF Japan Ltd.제(상품명: Texapon OC-P)
(B)α-올레핀술폰산 나트륨:
LION SPECIALTY CHEMICALS CO., LTD.제(상품명: LIPOLAN LB-440)
(B)야자유 지방산 아미도프로필베타인(30% 수용액):
Sanyo Chemical Industries, Ltd.제(상품명: LEBON 2000)
(E)알긴산 나트륨: KIMICA Corporation제(상품명: KIMICA ALGIN)
(E)카르복시메틸셀룰로오스나트륨:
Daicel Corporation제(에테르화도: 0.87~0.92)
(E)크산탄검: CP Kelco Inc.제(상품명: MONAT GUM DA)
(A)히드록시에탄디포스폰산:
Italmatch Japan Ltd.제(상품명: DEQUEST 2010)
<실험 III>
실험 1: 사용성(세정기로의 넣기 쉬움)의 평가
상기 실시예 II의 실험예 3과 마찬가지로 하여 농축형 액체 의치 세정제 조성물을 샘플로서 사용하고, 세정기로의 넣기 쉬움을 마찬가지의 기준으로 평가하고, 10인의 평가 결과를 평균하여 마찬가지의 기준으로 판정했다. A 및 B의 넣기 쉬움이 달성되는 것을 세정기의 세정조에 넣기 쉬워 사용성이 양호한 제제라고 판단했다.
여기에서 넣기 쉬움이란 세정조에 투입 시에 용기 외로의 튀어나옴이나 액체 튐이 방지되어 세정조의 주위를 더럽히지 않고, 세정조 내에 넣고 싶은 양을 정확하게 넣을 수 있는 것이다.
실험 2: 분산성의 평가
(1) 피검 샘플의 조제
조제한 농축형 액체 의치 세정제 조성물 각각에 청색 1호를 0.001% 더 첨가하여 청색을 정색(呈色)하고, 이것을 샘플로서 사용했다.
(2) 분산성의 평가 방법
청색을 정색한 샘플을 실험예 1과 마찬가지의 용기에 수납하고, 마찬가지로 하여 초음파 세정기의 세정조(직경 12㎝의 대략 원형)에 샘플을 약 5g 주입하고, 0℃에서 보관한 냉수를 130㎖ 주입한 후 초음파 세정(주파수: 42㎑, 출력: 17W)을 개시하고, 개시하여 5분간 경과 후의 세정액의 흡광도(630㎚)를 측정했다(A1). 또한, 샘플이 냉수에 완전히 용해될 때까지 계속하고, 용해된 상태에서의 흡광도를 측정하여(A0) 다음 식으로부터 분산율을 구하고, 하기 기준에 의해 분산성을 평가했다.
분산율(%)=A1/A0×100
평가 기준
A: 분산율이 100%
B: 분산율이 90% 이상 100% 미만
C: 분산율이 80% 이상 90% 미만
D: 분산율이 80% 미만
실험 3-1: 세정력 <3-1>의 평가
상기 <실험 I>의 실험 1-1과 마찬가지로 하여 타닌철 스테인 부착 아크릴판을 제작하고, 마찬가지로 하여 Lab값(L1)을 측정했다.
조제한 농축형 액체 의치 세정제 조성물을 이온 교환수로 20배로 희석한 세정제 희석액을 조제하여 샘플로서 사용하고, 상기 세정제 희석액 130mL에 제작한 타닌철 스테인 부착 아크릴판을 침지하는 이외에는 <실험 I>의 실험 1-1과 마찬가지로 하여 타닌철 스테인 제거율을 구했다.
타닌철 스테인 제거율로부터 하기 평가 기준에 따라 스테인 제거력을 평가했다.
세정력의 평가 기준
A: 타닌철 스테인 제거율 60% 이상
B: 타닌철 스테인 제거율 50% 이상 60% 미만
C: 타닌철 스테인 제거율 30% 이상 50% 미만
D: 타닌철 스테인 제거율 30% 미만
실험 3-2: 세정력 <3-2>(초음파 세정)의 평가
상기 <실험 I>의 실험 1-2와 마찬가지로 하여 타닌철 스테인 부착 아크릴판을 제작하고, 마찬가지로 하여 Lab값(L1)을 측정했다.
조제한 농축형 액체 의치 세정제 조성물을 이온 교환수로 20배로 희석한 세정제 희석액을 조제하고, 샘플로서 사용했다.
세정력 평가 샘플 약 130㎖를 초음파 세정기의 세정조에 주입한 후 제작한 타닌철 스테인 부착 아크릴판을 침지하고, 5분간의 초음파 세정 처리(주파수: 42㎑, 출력: 26W)를 행했다. 초음파 세정 처리 후 유수하에서 헹궈서 세정하고, 건조한 후의 아크릴판의 Lab값(L2)을 측정하여 실험 3-1과 마찬가지로 하여 타닌철 스테인 제거율을 구하고, 마찬가지의 기준에 따라 아크릴판의 스테인 세정력을 평가했다.
*; 야자유 지방산 아미도프로필베타인의 순수 분량
또한, 실시예 III의 No. 1, 14의 농축형 액체 의치 세정제 조성물의 희석 배율을 30배로 한 이외에는 상기와 마찬가지로 하여 세정력을 평가한 결과, 세정력 <3-1> A, 세정력 <3-2> A이었다.
Figure pct00009
이하, 처방예를 나타낸다. 사용 원료는 상기와 마찬가지이다.
[처방예 1] 액체 의치 세정제
(A)히드록시에탄디포스폰산 3%
(B)라우릴디메틸아민옥시드 6
(C)벤조산 나트륨 0.5
수산화나트륨 적량
물 나머지
합계 100%
pH=6.0, (B)/(A)=2.0
[처방예 2] 액체 의치 세정제
(A)히드록시에탄디포스폰산 2%
(B)라우릴디메틸아민옥시드 3
(C)벤조산 나트륨 0.5
수산화나트륨 적량
물 나머지
합계 100%
pH=6.0, (B)/(A)=1.5
[처방예 3] 액체 의치 세정제
(A)히드록시에탄디포스폰산 2%
(B)라우릴디메틸아민옥시드 1
(C)벤조산 나트륨 0.5
수산화나트륨 적량
물 나머지
합계 100%
pH=6.0, (B)/(A)=0.5
[처방예 4] 액체 의치 세정제
(A)히드록시에탄디포스폰산 3%
(B)라우로일글루탐산 나트륨 6
(C)벤조산 나트륨 0.5
수산화나트륨 적량
물 나머지
합계 100%
pH=6.0, (B)/(A)=2.0
[처방예 5] 액체 의치 세정제
(A)히드록시에탄디포스폰산 2%
(B)라우로일글루탐산 나트륨 3
(C)벤조산 나트륨 0.5
수산화나트륨 적량
물 나머지
합계 100%
pH=6.0, (B)/(A)=1.5
[처방예 6] 액체 의치 세정제
(A)히드록시에탄디포스폰산 2%
(B)라우로일글루탐산 나트륨 1
(C)벤조산 나트륨 0.5
수산화나트륨 적량
물 나머지
합계 100%
pH=6.0, (B)/(A)=0.5
[처방예 7] 농축형 액체 의치 세정제
(A)히드록시에탄디포스폰산 3%
(B)라우릴디메틸아민옥시드 6
(C)벤조산 메틸 0.5
(D)박하유 0.5
(멘톨량 0.195)
글리세린 10
수산화나트륨 적량
물 나머지
합계 100%
(B)/(C)=12, (B)/(A)=2.0
pH(25℃)6, 점도 35.3mPa·s
[처방예 8] 농축형 액체 의치 세정제
(A)히드록시에탄디포스폰산 3%
(B)라우릴디메틸아민옥시드 6
(C)벤조산 에틸 0.5
(D)박하유 0.5
(멘톨량 0.195)
글리세린 10
수산화나트륨 적량
물 나머지
합계 100%
(B)/(C)=12, (B)/(A)=2.0
pH(25℃)6, 점도 39.3mPa·s
[처방예 9] 농축형 액체 의치 세정제
(A)히드록시에탄디포스폰산 3%
(B)라우릴디메틸아민옥시드 6
(C)벤조산 부틸 0.5
(D)박하유 0.5
(멘톨량 0.195)
글리세린 10
수산화나트륨 적량
물 나머지
합계 100%
(B)/(C)=12, (B)/(A)=2.0
pH(25℃)6, 점도 46.1mPa·s

Claims (21)

  1. (A)히드록시에탄디포스폰산, 및
    (B)계면활성제를 함유하고, 20℃에 있어서의 pH가 5~9인 것을 특징으로 하는 액체 의치 세정제 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    (B)계면활성제가 하기에 나타내는 (I)~(III)으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상인 액체 의치 세정제 조성물.
    (I) 알킬기의 탄소수가 12~18개인 알킬아민옥시드 및 베타인 양성 계면활성제로부터 선택되는 양성 계면활성제
    (II) 아실기의 탄소수가 8~18개인 아실아미노산염, 탄소수 8~18개의 알킬황산염, 및 탄소수 8~18개의 α-올레핀술폰산염으로부터 선택되는 음이온성 계면활성제
    (III) 알킬기의 탄소수가 12~20개이며, 에틸렌옥사이드의 평균 부가몰수가 10~20몰인 폴리옥시에틸렌 경화 피마자유로부터 선택되는 비이온성 계면활성제
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    (A)성분을 0.05~5질량%, (B)성분을 0.1~10질량% 함유하는 액체 의치 세정제 조성물.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    (B)/(A)가 질량비로서 0.06~50인 액체 의치 세정제 조성물.
  5. (A)히드록시에탄디포스폰산,
    (B)계면활성제, 및
    (C)벤조산 또는 그 유도체를 함유하고, 농축형 제제인 것을 특징으로 하는 액체 의치 세정제 조성물.
  6. 제 5 항에 있어서,
    (B)계면활성제가 알킬기의 탄소수가 12~18개인 알킬아민옥시드인 액체 의치 세정제 조성물.
  7. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,
    (A)성분을 0.5~5질량%, (B)성분을 1~10질량%, (C)성분을 0.1~1질량% 함유하는 액체 의치 세정제 조성물.
  8. 제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    (D)멘톨을 0.05~0.5질량% 더 함유하는 액체 의치 세정제 조성물.
  9. 제 5 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    25℃에서의 점도가 15~100mPa·s인 액체 의치 세정제 조성물.
  10. (B)계면활성제, 및
    (E)증점제를 함유하고, 25℃에서의 점도가 20~100mPa·s인 농축형 제제인 것을 특징으로 하는 액체 의치 세정제 조성물.
  11. (A)히드록시에탄디포스폰산,
    (B)계면활성제, 및
    (E)증점제를 함유하고, 25℃에서의 점도가 20~100mPa·s인 농축형 제제인 것을 특징으로 하는 액체 의치 세정제 조성물.
  12. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
    (B)계면활성제가 하기에 나타내는 (I) 및 (II)로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상인 액체 의치 세정제 조성물.
    (I) 알킬기의 탄소수가 12~18개인 알킬아민옥시드 및 베타인 양성 계면활성제로부터 선택되는 양성 계면활성제
    (II) 아실기의 탄소수가 8~18개인 아실아미노산염, 탄소수 8~18개의 알킬황산염, 및 탄소수 8~18개의 α-올레핀술폰산염으로부터 선택되는 음이온성 계면활성제
  13. 제 10 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    (E)증점제가 알긴산 나트륨, 카르복시메틸셀룰로오스나트륨, 및 크산탄검으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 음이온성 수용성 고분자 화합물인 액체 의치 세정제 조성물.
  14. 제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    (B)성분을 1~10질량%, (E)성분을 0.1~5질량% 함유하는 액체 의치 세정제 조성물.
  15. 제 11 항에 있어서,
    (A)성분을 0.5~10질량% 함유하는 액체 의치 세정제 조성물.
  16. 제 5 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
    사용 시에 물로 희석한 세정액을 의치에 적용하는 농축형 액체 의치 세정제 조성물로서, 물에서의 희석 배율이 10~100배 희석이며, 또한 상기 세정액 중의 (B)성분의 농도가 0.1질량% 이상인 액체 의치 세정제 조성물.
  17. 제 5 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
    25℃에 있어서의 pH가 5~9인 액체 의치 세정제 조성물.
  18. 제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
    과산화물을 함유하지 않는 액체 의치 세정제 조성물.
  19. 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,
    초음파 세정용인 액체 의치 세정제 조성물.
  20. 제 5 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 기재된 액체 의치 세정제 조성물이 플라스틱 보틀 용기에 수납된 농축형 액체 의치 세정제와, 상기 액체 의치 세정제 조성물 및 물이 투입되는 세정조를 갖는 의치 세정기를 구비하는 것을 특징으로 하는 의치 세정 세트.
  21. 의치 세정기의 세정조에 제 5 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 기재된 액체 의치 세정제 조성물과 물을 투입해서 희석하여 세정액을 조제한 후, 상기 세정액에 의치를 침지하는 것을 특징으로 하는 의치의 세정 방법.
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