KR20150111956A - 쇼트 처리 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은, 대형의 피처리 대상물의 전면(全面)을 표면 처리할 수 있는 쇼트 처리 장치에 관한 것이다.
피처리 대상물(W)은 서스펜딩부에 의해 매달리고, 서스펜딩부는 직진이동기구에 의해 피처리 대상물(W)의 반송 라인을 따라 직진이동된다. 피처리 대상물(W)은, 제 1 블라스트 챔버(16)에 반입되면, 원심식 투사기(42A~42L)의 투사에 의해 표면 처리된다. 복수의 원심식 투사기(42A~42L)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송라인에 대하여,
(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,
(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,
(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측,
(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측,
(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측, 및
(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측
의 임의의 조합으로부터 각각 교차하도록 복수로 설치되어 있다.

Description

쇼트 처리 장치{SHOT TREATMENT DEVICE}

본 발명은, 피처리 대상물에 대해 투사재를 투사하는 쇼트 처리 장치에 관한 것이다.

쇼트 블라스트(shot blast) 장치로서는, 예컨대, 금속제의 제품의 스케일(scale) 제거 등에 이용되는 크레인 서스펜딩식(crane-suspended) 쇼트 블라스트 장치가 알려져 있다(예컨대, 특허문헌 1 참조). 이러한 장치에서는, 반송로의 측면에 원심식(遠心式) 투사기가 배치되며, 제품 전면을 처리하도록 피처리 대상물인 제품을 크레인에 의해 매달아 소정 방향으로 이동시키면서, 투사재에 의해 처리된다. 상기 처리시, 제품 전체를 표면 처리하기 위하여, 반송 동안에 제품을 반전(反轉), 정회전시키거나 경동(傾動)시킨다.

일본 특허공표 공보 제2010－533072호

그러나, 피처리 대상물인 제품이 대형인 경우, 제품을 매단 상태로 원하는 대로 자유롭게 반전, 정회전이나 경동(傾動)을 시키기 어렵기 때문에, 제품의 전면(全面)을 표면 처리하기가 어렵다.

본 발명은, 상기 사실을 고려하여, 대형의 피처리 대상물의 전면을 표면 처리할 수 있는 쇼트 처리 장치를 얻는 것이 목적이다.

청구항 1에 기재하는 본 발명의 쇼트 처리 장치는,

피처리 대상물을 매다는 서스펜딩부와,

상기 서스펜딩부를 피처리 대상물의 반송 라인을 따라 직진이동시키는 직진이동기구와,

임펠러의 회전에 수반하여 상기 반송 라인 측을 향해 투사재를 투사하는 복수의 원심식 투사기를 구비하고, 상기 원심식 투사기는, 상기 투사기에 의해 투사된 투사재 방향의 중심선(이하, "투사방향 중심선" 또는 "투사기(들)의 투사방향 중심선"이라 함)이 상기 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측,

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측

의 임의의 조합으로부터 각각 교차하도록 설치되어 있다.

「반송방향의 비스듬한 앞쪽」, 「반송방향의 비스듬한 뒤쪽」은, 반송 라인으로부터 볼 때, 투사방향 중심선의, 반송 라인 상의 피처리 대상물과의 관계에 대해 말하는 것이다(이하의 각 단락의 기재에 있어서도 동일함)」.

청구항 1에 기재하는 본 발명의 쇼트 처리 장치에 의하면, 서스펜딩부가 피처리 대상물을 매달고, 서스펜딩부를 직진이동기구가 피처리 대상물의 반송 라인을 따라 직진이동시킨다. 그리고, 원심식 투사기가 임펠러의 회전에 수반하여 반송 라인 측을 향해 투사재를 투사한다. 여기서, 원심식 투사기는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측,

(5)측면에서 볼 때(반송 라인의 반송방향에 나란한 측방에서 볼 때) 비스듬한 상측, 및

(6)측면에서 볼 때(반송 라인의 반송방향에 나란한 측방에서 볼 때) 비스듬한 하측

의 임의의 조합으로부터 각각 교차하도록 복수로 설치되어 있다.

이 때문에, 복수의 원심식 투사기가 피처리 대상물을 향해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측,

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측의 임의의 조합으로부터 투사재를 투사한다.

따라서, 복수의 원심식 투사기는, 대형의 피처리 대상물의 전면을 표면 처리할 수 있다.

청구항 2에 기재하는 본 발명의 쇼트 처리 장치는, 청구항 1에 기재된 구성 및 구조에 있어서, 상기 원심식 투사기로서, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치된 제 1 투사기와,

투사방향 중심선이 상기 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 2 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치된 제 3 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 4 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치된 제 5 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 6 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치된 제 7 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 8 투사기를 구비한다.

청구항 2에 기재하는 본 발명의 쇼트 처리 장치에 의하면, 제 1 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제1 투사기는 피처리 대상물을 향해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 2 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 2 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 3 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 3 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 4 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 4 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 5 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 5 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 6 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 6 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 7 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 7 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 8 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 8 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5) 측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

청구항 3에 기재하는 본 발명의 쇼트 처리 장치는, 청구항 1에 기재된 구성에 있어서, 상기 원심식 투사기로서, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 또한,

(9)상면에서 볼 때 반송 라인을 따라서 그리고 반송 라인과 겹치는 방향으로 설치된 제 1 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 2 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 3 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(8)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 또한

(9)상면에서 볼 때 반송 라인을 따라서 그리고 반송 라인과 겹치는 방향으로 설치된 제 4 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 5 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 6 투사기를 구비한다.

청구항 3에 기재하는 본 발명의 쇼트 처리 장치에 의하면, 제 1 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 또한

(9)상면에서 볼 때 피처리 대상물의 반송 라인을 따라서 그리고 반송 라인과 겹치는 방향으로 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 1 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 2 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 2 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 3 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 3 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 4 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(8)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 또한

(9)상면에서 볼 때 피처리 대상물의 반송 라인을 따라서 그리고 반송 라인과 겹치는 방향으로 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 4 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(8)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 5 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 5 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 6 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 6 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

청구항 4에 기재하는 본 발명의 쇼트 처리 장치는, 청구항 1에 기재된 구성 및 구조에 있어서, 상기 원심식 투사기로서, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 수평이며 또한 상기 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽, 및

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측으로부터 교차하도록 설치된 제 1 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 수평이며 또한 상기 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽, 및

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측으로부터 교차하도록 설치된 제 2 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 3 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 4 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치된 제 5 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치된 제 6 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치된 제 7 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치된 제 8 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 9 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 10 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 수평이고 또한 상기 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽, 및

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측으로부터 교차하도록 설치된 제 11 투사기와,

상기 투사기의 투사방향 중심선이 수평이고 또한 상기 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽, 및

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측으로부터 교차하도록 설치된 제 12 투사기를 구비한다.

청구항 4에 기재하는 본 발명의 쇼트 처리 장치에 의하면, 제 1 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 수평이며 또한 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽, 및

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 1 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽, 및

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측에서 수평으로 투사재를 투사한다.

제 2 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 수평이며 또한 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽, 및

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 2 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽, 및

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측으로부터 수평으로 투사재를 투사한다.

제 3 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 3 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 4 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 제 4 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 5 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 5 투사기는 피처리 대상물을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 6 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 6 투사기는 피처리 대상물을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 7 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 7 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 8 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 8 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 9 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 9 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 10 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 10 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 11 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 수평이며 또한 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽, 및

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 11 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽, 및

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측으로부터 투사재를 수평으로 투사한다.

제 12 투사기는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 수평이며 또한 피처리 대상물의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽, 및

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 12 투사기는, 피처리 대상물을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽, 및

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측으로부터 투사재를 수평으로 투사한다.

청구항 5에 기재하는 본 발명의 쇼트 처리 장치는, 청구항 1~청구항 4 중 어느 한 항에 기재된 구성 및 구조에 있어서, 상기 반송 라인에 있어서 복수의 상기 원심식 투사기의 각각에 의해 투사재가 투사되는 투사 존(projection zones)이 해당 반송 라인을 따라 복수로 설정되며,

복수의 상기 투사 존에 대해 각각 반송방향 상류측에 설치되어 피처리 대상물의 통과를 검출하는 상류측 검출부와,

복수의 상기 투사 존에 대해 각각 반송방향 하류측에 설치되어 피처리 대상물의 통과를 검출하는 하류측 검출부와,

상기 원심식 투사기에 대한 투사재의 공급용이 되며, 상기 원심식 투사기에 대해 투사재의 공급 및 공급 정지가 가능한 투사재 공급부(supply units)와,

상기 상류측 검출부에 의한 검출 결과 및 상기 하류측 검출부에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물이 상기 투사 존의 어느 하나의 범위 내에 있는 것으로 판단한 경우에만 해당 투사 존에 투사재를 투사하도록 상기 투사재 공급부를 제어하는 제어부를 갖는다.

청구항 5에 기재하는 본 발명의 쇼트 처리 장치에 의하면, 피처리 대상물의 반송 라인에 있어서 복수의 원심식 투사기의 각각에 의해 투사재가 투사되는 투사 존이 해당 반송 라인을 따라 복수로 설정되어 있다. 또한, 투사 존끼리는 겹쳐 있어도 무방하며 떨어져 있어도 무방하다.

복수의 투사 존에 대해 각각 반송방향 상류측에는 상류측 검출부가 설치되고, 복수의 투사 존에 대해 각각 반송방향 하류측에는 하류측 검출부가 설치되어 있어, 상류측 검출부 및 하류측 검출부는, 피처리 대상물의 통과를 검출한다. 또, 원심식 투사기에 대한 투사재의 공급용이 된 투사재 공급부는, 원심식 투사기에 대하여 투사재의 공급 및 공급 정지를 할 수 있게 되어 있다. 그리고, 제어부는, 상류측 검출부에 의한 검출 결과 및 하류측 검출부에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물이 투사 존의 어느 하나의 범위 내에 있는 것으로 판단한 경우에만 해당 투사 존에 투사재를 투사하도록 투사재 공급부를 제어한다. 따라서, 원심식 투사기에 의한 낭비적인 투사를 억제할 수가 있다.

청구항 6에 기재하는 본 발명의 쇼트 처리 장치는, 청구항 1~청구항 5 중 어느 한 항에 기재된 구성 및 구조에 있어서, 상기 원심식 투사기에 의해 투사재가 투사되는 제 1 처리챔버와, 상기 제 1 처리챔버보다 피처리 대상물의 반송방향 하류측에 설치되며, 압축 공기와 함께 투사재를 분사하는 분사 노즐이 설치된 제 2 처리챔버를 갖는다.

청구항 6에 기재하는 본 발명의 쇼트 처리 장치에 의하면, 제 1 처리챔버에서는, 원심식 투사기에 의해 투사재가 투사됨에 따라 피처리 대상물의 표면이 처리된다.

제 1 처리챔버에서 표면 처리된 피처리 대상물은, 제 1 처리챔버보다 피처리 대상물의 반송방향 하류측에 설치된 제 2 처리챔버로 반송된다. 제 2 처리챔버에는, 압축 공기와 함께 투사재를 분사하는 분사 노즐이 설치되어 있다. 따라서, 분사 노즐로부터 피처리 대상물을 향해 압축 공기와 함께 투사재가 분사되면, 피처리 대상물의 표면이 더욱 처리된다.

청구항 7에 기재하는 본 발명의 쇼트 처리 장치는, 청구항 6에 기재된 구성 및 구조에 있어서, 닫힌(閉止) 상태에서 상기 제 1 처리챔버와 상기 제 2 처리챔버 사이의 유통로(流通路)를 차단할 수 있는 개폐 가능한 구획 도어(partition door)가 설치되어 있다.

청구항 7에 기재하는 본 발명의 쇼트 처리 장치에 의하면, 상기 개폐 가능한 구획 도어는, 닫힌 상태에서 제 1 처리챔버와 제 2 처리챔버 사이의 유통로를 차단한다. 따라서, 구획 도어가 닫히면, 제 1 처리챔버와 제 2 처리챔버에서 동시에 피처리 대상물의 표면 처리를 할 수가 있다.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 관한 쇼트 처리 장치에 의하면, 대형의 피처리 대상물의 전면을 표면 처리할 수 있다는 뛰어난 효과를 갖는다.

도 1은 본 발명의 제 1 실시형태에 관한 쇼트 블라스트 장치를 나타내는 정면도이다.
도 2는 도 1의 2－2 화살선도이다.
도 3은 도 1의 3－3 화살선도이다.
도 4는 본 발명의 제 1 실시형태에 관한 쇼트 블라스트 장치를 나타내는 평면도이다.
도 5는 본 발명의 제 1 실시형태에 관한 쇼트 블라스트 장치의 출구 도어의 구동부를 나타내는 도면이다. 도 5(A)는 정면도이며, 도 5(B)는 측면도이다.
도 6은 본 발명의 제 1 실시형태에 관한 쇼트 블라스트 장치에 있어서의 제 2 블라스트 챔버의 내부를 나타내는 확대 평면도이다.
도 7은 본 발명의 제 1 실시형태에 관한 쇼트 블라스트 장치에 있어서의 원심식 투사기에 의한 투사를 설명하기 위한 모식적인 평면도이다.
도 8은 본 발명의 제 2 실시형태에 관한 쇼트 블라스트 장치에 있어서 피처리 대상물의 반송방향에서 본 원심식 투사기의 배치를 나타내는 모식도이다.
도 9는 도 8의 9－9 화살선도이다.
도 10은 본 발명의 제 3 실시형태에 관한 쇼트 블라스트 장치에 있어서 피처리 대상물의 반송방향에서 본 원심식 투사기의 배치를 나타내는 모식도이다.
도 11은 도 10의 11－11 화살선도이다.

［제 1 실시형태］

본 발명의 제 1 실시형태에 관한 쇼트 처리 장치로서의 쇼트 블라스트 장치에 대해 도 1~도 7을 이용하여 설명한다. 또한, 이들 도면에 있어서 적절히 나타내어지는 화살표 FR은 장치 정면에서 볼 때의 바로 앞쪽을 나타내고 있고, 화살표 UP는 장치 상방측을 나타내고 있으며, 화살표 LH는 장치 정면에서 볼 때의 좌측을 나타내고 있다. 또, 화살표 X는, 피처리 대상물(W)의 반송방향을 나타내고 있다.

도 1에는, 쇼트 처리 장치로서의 쇼트 블라스트 장치(10)가 정면도로 도시되어 있다. 도 1에서는, 도면 중 좌측으로부터 도면 중 우측을 향하는 방향이 피처리 대상물(W)의 반송방향(X)으로 되어 있다. 도 2에는, 도 1의 2－2 화살선의 측면도가 도시되어 있고, 도 3에는, 도 1의 3－3 화살선의 측면도가 도시되어 있다. 또, 도 4에는, 쇼트 블라스트 장치(10)가 평면도로 도시되어 있다. 단, 도 1에서는 집진기는 생략되어 있다.

(쇼트 블라스트 장치의 장치 개요)

우선, 쇼트 블라스트 장치(10)의 장치 개요에 대해 설명한다.

또한, 본 실시형태의 쇼트 블라스트 장치(10)에서는, 대형의 금속제품을 피처리 대상물(W)로 할 수 있는 크레인 서스펜딩식의 쇼트 블라스트 장치로 되어 있다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 쇼트 블라스트 장치(10)는, 피처리 대상물(W)의 반송방향(X)의 상류측으로부터 순서대로, 입구측 에이프런 챔버(apron chamber; 14), 제 1 처리챔버로서의 제 1 블라스트 챔버(16), 출구측 에이프런 챔버(18), 및 제 2 처리챔버로서의 제 2 블라스트 챔버(22)를 구비하고 있다. 입구측 에이프런 챔버(14)에 대한 반입구에는, 입구 도어(12)가 개폐 가능하게 설치되어 있다. 출구측 에이프런 챔버(18)와 제 2 처리 챔버(22)의 사이에는, 구획 도어로서의 중간 도어(20)가 개폐 가능하게 설치되어 있다. 중간 도어(20)는, 닫힌 상태에서 제 1 블라스트 챔버(16)와 제 2 블라스트 챔버(22) 사이의 유통로를 차단한다. 제 2 블라스트 챔버(22)의 반출구에는, 출구 도어(24)가 개폐 가능하게 설치되어 있다.

제 1 블라스트 챔버(16)에서는, 원심식 투사기(42, 상세한 내용은 후술함)에 의해 투사재가 투사된다. 즉, 제 1 블라스트 챔버(16)는, 피처리 대상물(W)에 대한 투사재의 투사에 의해 피처리 대상물(W)의 표면 가공(본 실시형태에서는, 스케일 제거(descaling) 등의 클리닝 및 폴리싱(cleaning and polishing) 처리, 쇼트 블라스트 처리)을 행하는 챔버이다.

제 1 블라스트 챔버(16)는, 천정부(16A)에 의해 장치 상방측의 공간과 이격(離隔)되어 이루어지는 동시에, 장치 배면측의 제 1 측벽부(16B)(도 2 참조) 및 장치 정면측의 제 2 측벽부(16C)에 의해, 반송방향(X)에 대한 좌우 양측의 외부 공간과 이격되어 이루어져 있다. 또, 제 1 블라스트 챔버(16)의 하방 측에 인접하는 공간은, 호퍼부(hopper section, 17)의 내부 공간으로 되어 있다.

이에 대해, 제 2 블라스트 챔버(22)는, 피처리 대상물(W)에 압축 공기와 함께 투사재가 분사됨에 따라 피처리 대상물(W)의 표면 가공(본 실시형태에서는, 클리닝 및 폴리싱 처리, 쇼트 블라스트 처리)을 행하는 챔버이다. 제 2 블라스트 챔버(22)는, 천정부(22A)에 의해 장치 상방측의 공간과 이격되어 이루어지는 동시에, 장치 배면측의 제 1 측벽부(22B)(도 4 참조) 및 장치 정면측의 제 2 측벽부(22C)에 의해, 반송방향(X)에 대한 좌우 양측의 외부 공간과 이격되어 이루어져 있다. 또, 제 2 블라스트 챔버(22)의 바닥면은 바닥벽부(22D)에 의해 구성되어 있다.

입구측 에이프런 챔버(14)의 하방 측에는, 투사재 수집용의 호퍼(26A)가 설치되고, 호퍼(26A)의 하방 측에는, 투사재 회수용의 제 1 벨트 컨베이어(26C)가 설치되어 있다. 제 1 벨트 컨베이어(26C)는, 수평으로 배치되어 도면 중 좌측으로부터 도면 중 우측을 향하는 방향을 반송방향으로 하며, 호퍼(26A)의 수직 하방(直下) 범위를 넘어 제 1 블라스트 챔버(16)의 반송방향 하류측의 하방 측까지 연장되어 있다.

또, 출구측 에이프런 챔버(18)의 하방 측에는 호퍼(28A)가 설치되고, 제 2 블라스트 챔버(22)의 하방 측에도 호퍼(28B)가 설치되어 있다. 호퍼(28A, 28B)는, 모두 투사재 수집용으로 되어 있다. 호퍼(28A, 28B)의 하방 측에는, 투사재 회수용의 제 2 벨트 컨베이어(28C)가 설치되어 있다. 제 2 벨트 컨베이어(28C)는, 수평으로 배치되어 도면 중 좌측으로부터 도면 중 우측을 향하는 방향을 반송방향으로 하며, 호퍼(28A)의 수직 하방 범위 및 호퍼(28B)의 수직 하방 범위를 포함하는 범위에 배치되는 동시에, 제 2 벨트 컨베이어(28C)의 최하류측이 제 1 블라스트 챔버(16)의 반송방향 하류측의 하방 측까지 연장되어 있다.

제 1 블라스트 챔버(16)의 하방 측에 있어서는, 호퍼부(17)의 하방 측에 제 2 호퍼(30A)가 설치되어 있다. 제 2 호퍼(30A)의 상단(上端)은, 제 1 벨트 컨베이어(26C)의 최하류측(도면 중 우측)에 인접 배치되는 동시에, 제 2 벨트 컨베이어(28C)의 최상류측(도면 중 좌측)에 인접 배치되어 있다.

제 2 호퍼(30A)의 하방 측에는, 스크류 컨베이어(screw conveyor; 30B)가 배치되어 있다. 스크류 컨베이어(30B)는, 수평으로 배치되어 장치 전후방향(도 1의 지면에 수직인 방향)을 길이방향으로 하고 있으며, 해당 길이방향을 따른 소정 방향을 향해 투사재를 반송하도록 되어 있다.

스크류 컨베이어(30B)의 반송방향 하류측에는, 장치 상하방향으로 연장되는 버킷 엘리베이터(bucket elevator; 32)의 하단부 측이 배치되어 있다. 버킷 엘리베이터(32)는, 스크류 컨베이어(30B)로부터 반송된 투사재를 상방 측을 향해 반송하게 되어 있다. 버킷 엘리베이터(32)의 상부 출구에 인접하는 위치에는 세퍼레이터(seperator; 34)가 설치되어 있다. 세퍼레이터(34)는, 버킷 엘리베이터(32)의 상부 출구로부터 배출된 투사재를 받아들여, 사용 가능한 투사재와 사용 불가능한 투사재 등으로 분급(分級)하게 되어 있다.

세퍼레이터(34)의 하방 측에 인접하는 위치에는 스크류 컨베이어(36)가 배치되어 있다. 스크류 컨베이어(36)는, 세퍼레이터(34)에서 사용 가능한 투사재를 배출하는 배출부에 통해 있다.

그리고, 스크류 컨베이어(36)는, 수평으로 배치되어 장치 전후방향(도 1의 지면에 수직인 방향)을 길이방향으로 하고 있으며, 해당 길이방향을 따른 장치 배면 측을 향해 투사재를 반송하게 되어 있다.

도 2에 나타내는 바와 같이, 스크류 컨베이어(36)의 반송방향 하류 측(도 2의 좌측)에는, 오버플로우 파이프(overflow pipe; 44)의 상단부가 접속되어 있다. 오버플로우 파이프(44)의 하단부는, 투사재 탱크(46)에 접속되어 있다. 이로써, 잉여(剩餘)의 투사재는 스크류 컨베이어(36)로부터 오버플로우 파이프(44)를 통과하여 투사재 탱크(46)에 저장된다.

한편, 도 1에 나타내는 바와 같이, 스크류 컨베이어(36)의 하방 측에는, 탱크를 통해 복수의 도입관(38)이 접속되어 있다. 이로써, 도입관(38)의 상단 개구에 투사재가 공급되게 되어 있다. 도입관(38)의 하단부는, 투사재 공급부로서의 유량조정장치(40)를 통해 원심식 투사기(42)에 접속되어 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 원심식 투사기(42)는 합계 12대가 설치되어 있으며, 이들은, 도면 중에서는, 부호 42A, 42B, 42C, 42D, 42E, 42F, 42G, 42H, 42I, 42J, 42K, 42L로 나타내어지지만, 이하에 있어서, 이들을 구별하지 않고 원심식 투사기를 설명하는 경우에는, 이들의 말미(末尾) 부분을 제외한 부호 42를 이용하여 설명하도록 한다.

각 도입관(38)은, 원심식 투사기(42)에 대한 투사재 공급용의 배관으로 되어 있다. 유량조정장치(40)는, 원심식 투사기(42)에 대한 투사재의 공급용이 되며, 공지의 구조이기 때문에 상세한 설명은 생략하겠으나, 개폐 및 개폐량의 조정이 가능한 개폐 게이트(도시 생략)를 구비하고 있다. 유량조정장치(40)는, 제어부(84)(도면에서는 블록화하여 도시함)에 접속되어 있으며(접속 상태는 도시 생략), 개폐 게이트의 작동(개폐 및 개폐량의 조정)이 제어부(84)에 의해 제어되어 있다. 즉, 각 유량조정장치(40)는, 상기 개폐 게이트의 작동에 의해, 원심식 투사기(42)에 대하여 투사재의 공급 및 공급 정지가 가능하게 되는 동시에, 원심식 투사기(42)에 공급되는 투사재의 유량을 조정할 수 있게 되어 있다.

원심식 투사기(42)는, 회전 가능한 임펠러(impeller, 도시 생략)를 구비하며, 임펠러의 회전에 의해 투사재(쇼트, 본 실시형태에서는 일례로서 강구(鋼球))에 원심력을 부여할 수 있게 되어 있다. 그리고, 원심식 투사기(42)는, 상기 임펠러의 회전에 수반하여, 원심력으로 가속시킨 투사재를 제 1 블라스트 챔버(16)의 반송 라인(피처리 대상물(W)이 반송되는 반송 경로) 측을 향해 투사하게 되어 있다. 또, 원심식 투사기(42)에 의해 투사된 투사재는 끝으로 갈수록 넓어지는 형상(fan-like shape)으로 확대되어(도 1, 도 2 등의 2점 쇄선 참조) 피처리 대상물(W)에 부딪힌다. 또한, 복수의 원심식 투사기(42)의 배치 구성에 대해서는 상세한 내용은 후술하기로 한다.

또, 상술한 입구측 에이프런 챔버(14), 출구측 에이프런 챔버(18), 및 제 2 블라스트 챔버(22)의 각 챔버에는, 장치 정면 측 및 장치 배면 측에 흡출구(opening for suctioning)(48)가 형성되어 있다. 흡출구(48)는 덕트(duct, 50)를 통해 집진기(52)(도 2 참조)에 접속되어 있다. 이로써, 입구측 에이프런 챔버(14), 출구측 에이프런 챔버(18), 및 제 2 블라스트 챔버(22)의 각 챔버 내의 분진(粉塵)이 에어와 함께 흡출구(48) 및 덕트(50)를 통해 집진기(52)(도 2 참조)에 회수되게 되어 있다.

도 2에 나타내는 바와 같이, 집진기(52)에는 덕트(62)가 설치되고, 덕트(62)의 선단부는 팬(64)의 흡기 측에 접속되어 있다. 팬(64)의 배기 측에는, 머플러(muffler, 66)를 통해 배기 덕트(68)가 접속되어 있다. 팬(64)이 작동한 상태에서는, 집진기(52)에 회수된 분진(더스트)이 집진기(52)에서 여과되어, 여과된 공기(청정 공기, 클린 에어)가 덕트(62), 팬(64), 머플러(66), 및 배기 덕트(68)를 통과하여 배기되게 되어 있다.

집진기(52)의 하부에는 호퍼(54)가 설치되고, 호퍼(54)의 하방에는 스크류 컨베이어(56)가 수평으로 장치 전후방향(도 2의 좌우방향)을 따라 배치되어 있다. 스크류 컨베이어(56)는, 분진을 장치 바로 앞쪽으로부터 장치 안쪽(도 2의 우측에서 좌측)을 향해 반송하게 되어 있다. 스크류 컨베이어(56)의 반송방향 하류 측에는, 로터리 밸브(58)가 설치되며, 로터리 밸브(58)의 하방 측에 더스트 박스(60)가 설치되어 있다. 이로써, 호퍼(54)로 흐른 분진이 스크류 컨베이어(56)에 의해 로터리 밸브(58) 측으로 반송되어 더스트 박스(60)에 폐기된다.

도 1~도 4에 나타내는 바와 같이, 쇼트 블라스트 장치(10)의 상부에는, 레일(72)이 배치되어 있다. 레일(72)은, 장치 좌우방향을 길이방향으로 하여 수평으로 배치되며(도 1 및 도 4 참조), 피처리 대상물(W)이 반송되는 반송 라인을 따라 해당 반송 라인의 상방 측에 안내 경로를 형성하고 있다. 도 1 및 도 3에 나타내는 바와 같이, 상기 레일(72)은, 다수의 지지부재에 의해 지지되어 있다. 또, 도 2에 나타내는 바와 같이, 레일(72)은, 레일의 길이방향에 직교하는 수직면에 의해 형성된 종단면(縱斷面) 형상이 I자 형상으로 형성되어 있다.

도 2의 부분 확대도에 나타내는 바와 같이, 레일(72)에는, 주행 기구(74)가 주행 가능하게 탑재되어 있다. 주행 기구(74)는, 1대가 설치되어도 무방하며, 복수대가 설치되어도 무방하다. 주행 기구(74)는, 레일(72)의 종벽부(縱壁部)의 양측에 배치되는 좌우 한 쌍의 롤러(74A)를 구비하고 있다. 프레임(74B)에 고정된 모터(74M)의 회전축의 선단에는 롤러(74A)가 회전 가능하게 부착되어 있으며, 레일(72) 위를 이동할 수 있게 되어 있다. 프레임(74B)에는 롤러(74A)를 구동하는 모터(74M)가 고정되어 있다. 이로써, 주행 기구(74)는, 모터(74M)가 작동함으로써, 레일(72)의 길이방향을 따라(환언하면, 피처리 대상물의 반송 라인을 따라) 직진이동할 수 있게 되어 있다.

상기 주행 기구(74)에는, 호이스트(hoist)(소형의 와인드업 장치; 78)가 매달린 상태로 부착되어 있다. 호이스트(78)는 체인(78A)을 구비하며, 상기 체인(78A)의 하단에 피처리 대상물(W)을 매달기 위한 서스펜딩 부재(suspension member, 80)가 부착되어 있다. 서스펜딩 부재(80)의 하단에는 피처리 대상물(W)을 매다는 용도로 후크부(hooking part)가 설치되어 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 호이스트(78) 및 서스펜딩 부재(80)가, 피처리 대상물(W)을 매다는 서스펜딩부(76)를 구성하고 있다. 또, 레일(72) 및 주행 기구(74)가, 서스펜딩부(76)를 피처리 대상물(W)의 반송 라인을 따라 직진이동시키는 직진이동기구(mechanism for linear motion, 70)를 구성하고 있다.

또, 레일(72)의 소정 위치에는, 위치 검출용의 위치 검출 센서(82)가 설치되어 있다. 위치 검출 센서(82)는, 피처리 대상물(W)에 있어서의 반송방향 앞쪽의 단부(端部) 및 반송방향 뒤쪽의 단부의 통과를 검출할 수 있게 되어 있다. 위치 검출 센서(82)에는, 공지의 센서가 사용될 수 있다. 위치 검출 센서(82)는, 제어부(84)와 접속되어 있다. 제어부(84)는, 위치 검출 센서(82)의 검출 결과에 근거하여, 각종 제어를 행한다.

구체적으로는, 우선, 제어부(84)는, 도 4에 나타내는 입구 도어(12), 중간 도어(20), 출구 도어(24)를 피처리 대상물(W)의 반송에 맞추어 순차적으로 개폐하도록 제어한다. 여기서, 입구 도어(12), 중간 도어(20), 출구 도어(24)의 개폐 기구에 대해 간단하게 설명한다.

도 3에 나타내는 바와 같이, 출구 도어(24)는, 양쪽으로 열리는 슬라이드 도어(double sliding door)로 되어 있다. 출구 도어(24)의 상방 측에는, 도어 폭방향으로 연장되는 좌우 한 쌍의 레일(86)이 설치되어 있다. 도 5(B)에 나타내는 바와 같이, 출구 도어(24)는, 트롤리(trolley, 85)를 통해 레일(86)에 매달려 지지되어 있다. 도 3에 나타내는 바와 같이, 닫힌 상태의 출구 도어(24)의 상방 측이 되는 천정부에는, 도면 중의 상기 출구 도어(24) 양 사이드 측에, 도어 구동용의 모터(88)가 설치되어 있다.

도 5(B)에 나타내는 바와 같이, 모터(88)에는, 천정부에 설치된 체인 휠(chain wheel, 90)이 접속되어 있으며, 모터(88)의 작동에 의해 체인 휠(90)이 회전 구동된다. 도 5(A) 및 도 5(B)에 나타내는 바와 같이, 체인 휠(90)에는, 롤러 체인(92A)이 맞물려 있다. 롤러 체인(92A)에는, 어태치먼트(attachment, 92B)가 부착되어 있으며, 출구 도어(24)의 상단에 부착된 롤러 체인(92A)은, 모터(88) 및 체인 휠(90)의 회전력을 출구 도어(24)의 도어 폭방향의 직선 운동으로 변환하여 어태치먼트(92B)를 통해 출구 도어(24)에 전달한다. 즉, 모터(88)의 정회전, 또는 역회전에 의해, 출구 도어(24)가 개폐하게 되어 있다.

상기 모터(88)는, 상술한 제어부(84)에 접속되어 있다. 제어부(84)는, 도 2에 도시되는 위치 검출 센서(82)의 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물(W)이 출구 도어(24)에 가까워져 있는 것으로 판단한 경우에 출구 도어(24)를 개방하도록 모터(88)(도 5(B) 참조)를 제어하며, 피처리 대상물(W)이 출구 도어(24)의 사이를 통과한 것으로 판단한 경우에 출구 도어(24)를 폐쇄하도록 모터(88)(도 5(B) 참조)를 제어한다.

또한, 도 5(B)에 나타내는 바와 같이, 출구 도어(24)를 매달아 지지하여 고정할 때에는, 출구 도어의 양측의 맞물림을 적합하게 설정하기 위하여, 승강용의 볼트(93A)에 의해 출구 도어(24)의 양측의 높이 위치를 조정한 다음에 서스펜딩용 부재(93B)에 출구 도어(24)를 볼트(93C)로 고정한다. 또, 도 4에 나타내는 입구 도어(12) 및 중간 도어(20)도 출구 도어(24)와 마찬가지의 기구에 의해 개폐되게 되어 있다.

도 1 및 도 4에 나타내는 바와 같이, 제 2 블라스트 챔버(22)는, 제 1 블라스트 챔버(16)보다 피처리 대상물(W)의 반송방향 하류측에 설치되어 있다. 제 2 블라스트 챔버(22)에는, 압축 공기와 함께 투사재를 분사하는 분사 노즐(94)(에어 블라스트 노즐이라고도 함)이 설치되어 있다. 분사 노즐(94)은, 공지의 에어 블라스트 장치의 일부를 구성하고 있으며, 배관을 통해, 투사재를 저장한 가압 탱크(도시 생략) 및 압축 에어를 공급하는 컴프레서(compressor, 도시 생략)와 접속되어 있다. 제 2 블라스트 챔버(22)에서는, 반송된 피처리 대상물(W)에 표면 처리의 마무리가 좋지 않은 개소(箇所)가 있는 경우, 작업자(P)가 피처리 대상물(W)의 해당 개소를 향해 분사 노즐(94)을 유지시키고, 분사 노즐(94)로부터 투사재를 분사시킴으로써, 피처리 대상물(W)의 표면을 더욱 블라스트 처리하고 있다. 환언하면, 제 2 블라스트 챔버(22)는, 피처리 대상물(W)의 표면 처리의 수정용, 마무리용의 처리챔버로서 파악할 수 있다.

제 2 블라스트 챔버(22)에는, 장치 배면측의 제 1 측벽부(22B) 및 장치 정면측의 제 2 측벽부(22C)에 각각 작업자 출입용의 출입문(96)이 설치되어 있다. 도 4에 나타내는 바와 같이, 제 2 블라스트 챔버(22)의 천정부(22A)에는, 복수의 조명등(98)이 배치되어 있다. 복수의 조명등(98)의 조명에 의해 제 2 블라스트 챔버(22) 내부는 밝게 비추어져, 작업자(P)의 작업 환경이 양호하게 확보된다. 또한, 각 작업자(P)는, 우주복과 같은 블라스트 처리 작업용의 방호복을 착용하며, 방호복 내에는 신선한 공기(fresh air)가 공급된다. 이로써, 쾌적한 작업을 할 수 있는 환경이 유지된다.

도 6에는, 제 2 블라스트 챔버(22)의 내부를 확대한 평단면도가 도시되어 있다. 제 2 블라스트 챔버(22)의 바닥벽부(22D)(바닥면)에는, 그 전면(全面)에 그레이팅(grating, 100)이 부설(敷設)되어 있다. 그레이팅(100)이 부설됨에 따라, 투사재의 퇴적이 억제되어 작업 환경이 향상된다. 또한, 도 6에서는, 그레이팅(100)의 하측의 구성을 도시하기 위해, 그레이팅(100)의 일부가 떼어진 상태로 도시되어 있다. 그레이팅(100)의 아래에는, 그레이팅 받이(support for a grating, 102)가 배치되어 있다. 그레이팅 받이(102)가 배치됨으로써, 그레이팅(100)이 강고하게 유지되어 있다.

(원심식 투사기의 배치)

다음으로, 도 1 등에 도시된 원심식 투사기(42)의 배치에 대해 설명한다. 도 7에는, 원심식 투사기(42)에 의한 투사를 설명하기 위한 모식적인 평면도가 도시되어 있다. 또한, 도 7에서는, 도면을 보기 쉽게 하기 위해, 도 7에서 모식적으로 나타내는 원심식 투사기(42)의 동그라미 안의 번호는, 투사기 숫자(예컨대, 제 1 투사기의 경우는 1)와 일치시켰다.

도 1 및 도 7에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 쇼트 블라스트 장치(10)에 있어서의 원심식 투사기(42)는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이, 피처리 대상물의 반송라인에 대하여,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측,

(5)측면에서 볼 때(반송 라인의 반송방향에 나란한 측방에서 볼 때) 비스듬한 상측, 및

(6)측면에서 볼 때(반송 라인의 반송방향에 나란한 측방에서 볼 때) 비스듬한 하측

의 임의의 조합으로부터 각각 교차하도록 복수로 설치되어 있다.

이하, 원심식 투사기(42)의 배치에 관하여 구체적으로 설명한다.

제 1 블라스트 챔버(16)에 있어서의 피처리 대상물(W)의 반송방향(X)의 상류측에는, 투사기가 이하와 같이 설치되어 있다.

장치 배면측의 제 1 측벽부(16B)에 제 1 투사기(42A),

장치 정면측의 제 2 측벽부(16C)에 제 2 투사기(42B),

장치 상측의 천정부(16A)에 제 3 투사기(42C), 제 4 투사기(42D),

장치 하측의 호퍼부(17)에 제 5 투사기(42E), 및 제 6 투사기(42F).

장치 정면에서 볼 때의 도 1에서는, 제 1 투사기(42A)는, 제 2 투사기(42B)와 장치 전후방향(도 1의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다. 도 7에 도시된 제 1 투사기(42A)는, 투사방향 중심선(CL1)이 수평이며 또한 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

이에 대해, 제 2 투사기(42B)는, 투사방향 중심선(CL2)이 수평이며 또한 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

제 3 투사기(42C)는, 피처리 대상물(W)의 반송방향으로 볼 때 레일(72)보다 좌측에 배치된다.

장치 정면에서 볼 때의 도 1에서는, 제 4 투사기(42D)와 장치 전후방향(도 1의 지면(紙面)에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

도 7에 도시된 제 3 투사기(42C)는, 투사방향 중심선(CL3)이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

제 4 투사기(42D)는, 피처리 대상물(W)의 반송방향으로 볼 때 레일(72)보다 우측에 배치된다. 투사방향 중심선(CL4)이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

도 7에 나타내는 바와 같이, 제 5 투사기(42E)는, 피처리 대상물(W)의 반송방향으로 볼 때 레일(72)보다 좌측에 배치된다.

장치 정면에서 볼 때의 도 1에서는, 제 6 투사기(42F)와 장치 전후방향(도 1의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

도 7에 도시된 제 5 투사기(42E)는, 투사방향 중심선(CL5)이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

제 6 투사기(42F)는, 피처리 대상물(W)의 반송방향으로 볼 때 레일(72)보다 우측에 배치된다. 투사방향 중심선(CL6)이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

한편, 도 1 및 도 7에 나타내는 바와 같이, 제 1 블라스트 챔버(16)에 있어서의 피처리 대상물(W)의 반송방향(X)의 하류 측에는, 투사기가 하기와 같이 설치되어 있다.

장치 하측의 호퍼부(17)에 제 7 투사기(42G) 및, 제 8 투사기(42H),

장치 상측의 천정부(16A)에 제 9 투사기(42I) 및, 제 10 투사기(42J),

장치 배면 측의 제 1 측벽부(16B)에 제 11 투사기(42K), 및

장치 정면 측의 제 2 측벽부(16C)에 제 12 투사기(42L).

도 7에 나타내는 바와 같이, 제 7 투사기(42G)는, 피처리 대상물(W)의 반송방향으로 볼 때 레일(72)보다 좌측에 배치되어 있다.

제 7 투사기(42G)는, 도 2에서는, 제 5 투사기(42E)와 장치 좌우방향(도 2의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

또, 제 7 투사기(42G)는, 장치 정면에서 볼 때의 도 1에서는, 제 8 투사기(42H)와 장치 전후방향(도 1의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

도 7에 도시된 제 7 투사기(42G)는, 투사방향 중심선(CL7)이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

제 8 투사기(42H)는, 피처리 대상물(W)의 반송방향으로 볼 때 레일(72)보다 우측에 배치되어 있다.

제 8 투사기(42H)는, 도 2에서는, 제 6 투사기(42F)와 장치 좌우방향(도 2의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

도 7에 도시된 제 8 투사기(42H)는, 투사방향 중심선(CL8)이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 45°전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

제 9 투사기(42I)는, 피처리 대상물(W)의 반송방향으로 볼 때 레일(72)보다 좌측에 배치된다. 장치 정면에서 볼 때의 도 1에서는, 제 9 투사기(42I)는, 제 10 투사기(42J)와 장치 전후방향(도 1의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

도 7에 도시된 제 9 투사기(42I)는, 투사방향 중심선(CL9)이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

제 10 투사기(42J)는, 피처리 대상물(W)의 반송방향으로 볼 때 레일(72)보다 우측에 배치되어 있다. 제 10 투사기(42J)는, 투사방향 중심선(CL10)이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

또, 제 11 투사기(42K)는, 장치 정면에서 볼 때의 도 1에서는, 제 12 투사기(42L)와 장치 전후방향(도 1의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

도 7에 도시된 제 11 투사기(42K)는, 투사방향 중심선(CL11)이 수평이며 또한 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽, 및

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

또, 제 12 투사기(42L)는, 투사방향 중심선(CL12)이 수평이며 또한 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽, 및

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

이상과 같이, 합계 12대의 원심식 투사기(42)는, 피처리 대상물(W)의 평면에 대해 절삭력이 증가하는 입사(入射) 각도가 되도록 기울어져 설치되어 있다.

또, 본 실시형태에서는, 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 있어서 복수의 원심식 투사기(42)의 각각에 의해 투사재가 투사되는 투사 존(zone)이 해당 반송 라인을 따라 복수(합계 6개)로 설정되어 있다.

제 1 투사 존은, 제 1 투사기(42A) 및 제 2 투사기(42B)에 의해 투사재가 투사되는 존이며, 반송 라인에서 투사방향 중심선(CL1, CL2)을 포함하는 범위로 설정되어 있다.

제 2 투사 존은, 제 3 투사기(42C) 및 제 4 투사기(42D)에 의해 투사재가 투사되는 존이며, 반송 라인에서 투사방향 중심선(CL3, CL4)을 포함하는 범위로 설정되어 있다.

제 3 투사 존은, 제 5 투사기(42E) 및 제 6 투사기(42F)에 의해 투사재가 투사되는 존이며, 반송 라인에서 투사방향 중심선(CL5, CL6)을 포함하는 범위로 설정되어 있다.

제 4 투사 존은, 제 7 투사기(42G) 및 제 8 투사기(42H)에 의해 투사재가 투사되는 존이며, 반송 라인에서 투사방향 중심선(CL7, CL8)을 포함하는 범위로 설정되어 있다.

제 5 투사 존은, 제 9 투사기(42I) 및 제 10 투사기(42J)에 의해 투사재가 투사되는 존이며, 반송 라인에서 투사방향 중심선(CL9, CL10)을 포함하는 범위로 설정되어 있다.

제 6 투사 존은, 제 11 투사기(42K) 및 제 12 투사기(42L)에 의해 투사재가 투사되는 존이며, 반송 라인에서 투사방향 중심선(CL11, CL12)을 포함하는 범위로 설정되어 있다.

또, 제 1 투사 존에 대해서는, 반송방향 상류측에 상류측 검출부(A1)가 설치되는 동시에, 반송방향 하류측에 하류측 검출부(A2)가 설치되어 있다.

제 2 투사 존에 대해서는, 반송방향 상류측에 상류측 검출부(B1)가 설치되는 동시에, 반송방향 하류측에 하류측 검출부(B2)가 설치되어 있다.

제 3 투사 존에 대해서는, 반송방향 상류측에 상류측 검출부(C1)가 설치되는 동시에, 반송방향 하류측에 하류측 검출부(C2)가 설치되어 있다.

제 4 투사 존에 대해서는, 반송방향 상류측에 상류측 검출부(D1)가 설치되는 동시에, 반송방향 하류측에 하류측 검출부(D2)가 설치되어 있다.

제 5 투사 존에 대해서는, 반송방향 상류측에 상류측 검출부(E1)가 설치되는 동시에, 반송방향 하류측에 하류측 검출부(E2)가 설치되어 있다.

제 6 투사 존에 대해서는, 반송방향 상류측에 상류측 검출부(F1)가 설치되는 동시에, 반송방향 하류측에 하류측 검출부(F2)가 설치되어 있다.

상류측 검출부(A1, B1, C1, D1, E1, F1) 및 하류측 검출부(A2, B2, C2, D2, E2, F2)는, 상술한 위치 검출 센서(82)(도 2 참조)로 구성되어 제어부(84)에 접속되어 있으며(접속 상태는 도시 생략), 피처리 대상물(W)의 반송방향 앞쪽의 단부(端部) 및 반송방향 뒤쪽의 단부를 검출하도록 되어 있다. 제어부(84)는, 상류측 검출부(A1, B1, C1, D1, E1, F1)에 의한 검출 결과 및 하류측 검출부(A2, B2, C2, D2, E2, F2)에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물(W)이 투사 존의 어느 범위 내에 있는 것으로 판단한 경우에만 해당 투사 존에 투사재를 투사하도록 유량조정장치(40)(도 1 참조)에 있어서의 개폐 게이트의 작동을 제어한다.

(작용·효과)

다음으로, 상기 실시형태의 작용 및 효과에 대해 설명한다.

도 2에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에 관한 쇼트 블라스트 장치(10)에서는, 서스펜딩부(76)가 피처리 대상물(W)을 매달고, 서스펜딩부(76)를 직진이동기구(70)가 피처리 대상물(W)의 반송 라인을 따라 직진이동시킨다. 이때, 피처리 대상물(W)은, 도 4에 도시된 입구 도어(12)가 개방됨에 따라 쇼트 블라스트 장치(10)의 장치 본체 내에 반입되며, 입구측 에이프런 챔버(14)를 통해 제 1 블라스트 챔버(16)에 반입된다. 입구 도어(12)는, 피처리 대상물(W)의 장치 본체 내로의 반입 후에 폐쇄된다. 제 1 블라스트 챔버(16)에는 원심식 투사기(42)가 설치되어 있으며, 원심식 투사기(42)가 임펠러의 회전에 수반하여 반송 라인 측을 향해 투사재를 투사함으로써, 피처리 대상물(W)이 쇼트 블라스트 처리된다.

여기서, 도 7에 모식적으로 나타내는 바와 같이, 원심식 투사기(42)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

수평방향으로,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측,

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측

의 임의의 조합으로부터 각각 교차하도록 복수로 설치되어 있다.

이 때문에, 복수의 원심식 투사기(42)가 피처리 대상물(W)을 향해 그 투사방향 중심선이

수평방향으로,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측,

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측

의 임의의 조합으로부터 투사재를 투사한다.

따라서, 본 실시형태에서는, 대형의 피처리 대상물(W)을 선회, 반전, 승강 등을 시키지 않아도, 복수의 원심식 투사기(42)가 대형의 피처리 대상물(W)의 전면(全面)을 표면 처리할 수가 있다.

이하, 원심식 투사기(42)에 의한 투사에 대해 구체적으로 설명한다.

우선, 피처리 대상물(W)이 제 1 블라스트 챔버(16)에 반입되면, 제 1 투사기(42A) 및 제 2 투사기(42B)에 의한 투사재의 투사가 개시된다.

제 1 투사기(42A)는, 투사방향 중심선(CL1)이 수평이며 또한 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽, 및

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 1 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽, 및

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측으로부터 수평으로 투사재를 투사한다.

제 2 투사기(42B)는, 투사방향 중심선(CL2)이 수평이며 또한 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽, 및

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 2 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽, 및

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측으로부터 수평으로 투사재를 투사한다.

또, 제 1 투사기(42A) 및 제 2 투사기(42B)에 의해 투사재가 투사되는 제 1 투사 존에 대해 반송방향 상류측에는 상류측 검출부(A1)가 설치되어 있고, 상기 제 1 투사 존에 대해 반송방향 하류측에는 하류측 검출부(A2)가 설치되어 있다. 상류측 검출부(A1) 및 하류측 검출부(A2)는, 피처리 대상물(W)의 통과를 검출한다.

그리고, 제어부(84)는, 상류측 검출부(A1)에 의한 검출 결과 및 하류측 검출부(A2)에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물(W)이 상기 제 1 투사 존의 범위 내에 있는 것으로 판단한 경우에 해당 제 1 투사 존에 투사재를 투사하도록, 제 1 투사기(42A) 및 제 2 투사기(42B)에 각각 접속되는 유량조정장치(40)(도 1 등 참조)의 개폐 게이트를 개방하도록 제어한다.

또, 제어부(84)는, 상류측 검출부(A1)에 의한 검출 결과 및 하류측 검출부(A2)에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물(W)이 상기 제 1 투사 존의 범위 내에는 존재하지 않는 것으로 판단한 경우에, 제 1 투사기(42A) 및 제 2 투사기(42B)에 각각 접속되는 유량조정장치(40)(도 1 등 참조)의 개폐 게이트를 폐쇄하도록 제어한다. 따라서, 제 1 투사기(42A) 및 제 2 투사기(42B)에 의한 낭비적인 투사를 억제할 수가 있다.

제 1 투사기(42A) 및 제 2 투사기(42B)에 의한 투사재의 투사가 개시된 후에, 제 3 투사기(42C) 및 제 4 투사기(42D)에 의한 투사재의 투사가 개시된다.

제 3 투사기(42C)는, 투사방향 중심선(CL3)이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 3 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 4 투사기(42D)는, 투사방향 중심선(CL4)이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 제 4 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

또, 제 3 투사기(42C) 및 제 4 투사기(42D)에 의해 투사재가 투사되는 제 2 투사 존에 대해 반송방향 상류측에는 상류측 검출부(B1)가 설치되어 있고, 상기 제 2 투사 존에 대해 반송방향 하류측에는 하류측 검출부(B2)가 설치되어 있다. 상류측 검출부(B1) 및 하류측 검출부(B2)는, 피처리 대상물(W)의 통과를 검출한다.

그리고, 제어부(84)는, 상류측 검출부(B1)에 의한 검출 결과 및 하류측 검출부(B2)에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물(W)이 상기 제 2 투사 존의 범위 내에 있는 것으로 판단한 경우에 해당 제 2 투사 존에 투사재를 투사하도록, 제 3 투사기(42C) 및 제 4 투사기(42D)에 각각 접속되는 유량조정장치(40)(도 1 등 참조)의 개폐 게이트를 개방하도록 제어한다.

또, 제어부(84)는, 상류측 검출부(B1)에 의한 검출 결과 및 하류측 검출부(B2)에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물(W)이 상기 제 2 투사 존의 범위 내에는 존재하지 않는 것으로 판단한 경우에, 제 3 투사기(42C) 및 제 4 투사기(42D)에 각각 접속되는 유량조정장치(40)(도 1 등 참조)의 개폐 게이트를 폐쇄하도록 제어한다. 따라서, 제 3 투사기(42C) 및 제 4 투사기(42D)에 의한 낭비적인 투사를 억제할 수가 있다.

제 3 투사기(42C) 및 제 4 투사기(42D)에 의한 투사재의 투사가 개시된 후에, 제 5 투사기(42E) 및 제 6 투사기(42F)에 의한 투사재의 투사가 개시된다.

제 5 투사기(42E)는, 투사방향 중심선(CL5)이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 5 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 6 투사기(42F)는, 투사방향 중심선(CL6)이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 6 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

또, 제 5 투사기(42E) 및 제 6 투사기(42F)에 의해 투사재가 투사되는 제 3 투사 존에 대해 반송방향 상류측에는 상류측 검출부(C1)가 설치되어 있고, 상기 제 3 투사 존에 대해 반송방향 하류측에는 하류측 검출부(C2)가 설치되어 있다. 상류측 검출부(C1) 및 하류측 검출부(C2)는, 피처리 대상물(W)의 통과를 검출한다.

그리고, 제어부(84)는, 상류측 검출부(C1)에 의한 검출 결과 및 하류측 검출부(C2)에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물(W)이 상기 제 3 투사 존의 범위 내에 있는 것으로 판단한 경우에 해당 제 3 투사 존에 투사재를 투사하도록, 제 5 투사기(42E) 및 제 6 투사기(42F)에 각각 접속되는 유량조정장치(40)(도 1 등 참조)의 개폐 게이트를 개방하도록 제어한다.

또, 제어부(84)는, 상류측 검출부(C1)에 의한 검출 결과 및 하류측 검출부(C2)에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물(W)이 상기 제 3 투사 존의 범위 내에는 존재하지 않는 것으로 판단한 경우에, 제 5 투사기(42E) 및 제 6 투사기(42F)에 각각 접속되는 유량조정장치(40)(도 1 등 참조)의 개폐 게이트를 폐쇄하도록 제어한다. 따라서, 제 5 투사기(42E) 및 제 6 투사기(42F)에 의한 낭비적인 투사를 억제할 수가 있다.

제 5 투사기(42E) 및 제 6 투사기(42F)에 의한 투사재의 투사가 개시된 후에, 제 7 투사기(42G) 및 제 8 투사기(42H)에 의한 투사재의 투사가 개시된다.

제 7 투사기(42G)는, 투사방향 중심선(CL7)이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 7 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 8 투사기(42H)는, 투사방향 중심선(CL8)이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 8 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

또, 제 7 투사기(42G) 및 제 8 투사기(42H)에 의해 투사재가 투사되는 제 4 투사 존에 대해 반송방향 상류측에는 상류측 검출부(D1)가 설치되어 있고, 상기 제 4 투사 존에 대해 반송방향 하류측에는 하류측 검출부(D2)가 설치되어 있다. 상류측 검출부(D1) 및 하류측 검출부(D2)는, 피처리 대상물(W)의 통과를 검출한다.

그리고, 제어부(84)는, 상류측 검출부(D1)에 의한 검출 결과 및 하류측 검출부(D2)에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물(W)이 상기 제 4 투사 존의 범위 내에 있는 것으로 판단한 경우에 해당 제 4 투사 존에 투사재를 투사하도록, 제 7 투사기(42G) 및 제 8 투사기(42H)에 각각 접속되는 유량조정장치(40)(도 1 등 참조)의 개폐 게이트를 개방하도록 제어한다.

또, 제어부(84)는, 상류측 검출부(D1)에 의한 검출 결과 및 하류측 검출부(D2)에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물(W)이 상기 제 4 투사 존의 범위 내에는 존재하지 않는 것으로 판단한 경우에, 제 7 투사기(42G) 및 제 8 투사기(42H)에 각각 접속되는 유량조정장치(40)(도 1 등 참조)의 개폐 게이트를 폐쇄하도록 제어한다. 따라서, 제 7 투사기(42G) 및 제 8 투사기(42H)에 의한 낭비적인 투사를 억제할 수가 있다.

제 7 투사기(42G) 및 제 8 투사기(42H)에 의한 투사재의 투사가 개시된 후에, 제 9 투사기(42I) 및 제 10 투사기(42J)에 의한 투사재의 투사가 개시된다.

제 9 투사기(42I)는, 투사방향 중심선(CL9)이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 9 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 10 투사기(42J)는, 투사방향 중심선(CL10)이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 10 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

또, 제 9 투사기(42I) 및 제 10 투사기(42J)에 의해 투사재가 투사되는 제 5 투사 존에 대해 반송방향 상류측에는 상류측 검출부(E1)가 설치되어 있고, 상기 제 5 투사 존에 대해 반송방향 하류측에는 하류측 검출부(E2)가 설치되어 있다. 상류측 검출부(E1) 및 하류측 검출부(E2)는, 피처리 대상물(W)의 통과를 검출한다.

그리고, 제어부(84)는, 상류측 검출부(E1)에 의한 검출 결과 및 하류측 검출부(E2)에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물(W)이 상기 제 5 투사 존의 범위 내에 있는 것으로 판단한 경우에 해당 제 5 투사 존에 투사재를 투사하도록, 제 9 투사기(42I) 및 제 10 투사기(42J)에 각각 접속되는 유량조정장치(40)(도 1 등 참조)의 개폐 게이트를 개방하도록 제어한다.

또, 제어부(84)는, 상류측 검출부(E1)에 의한 검출 결과 및 하류측 검출부(E2)에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물(W)이 상기 제 5 투사 존의 범위 내에는 존재하지 않는 것으로 판단한 경우에, 제 9 투사기(42I) 및 제 10 투사기(42J)에 각각 접속되는 유량조정장치(40)(도 1 등 참조)의 개폐 게이트를 폐쇄하도록 제어한다. 따라서, 제 9 투사기(42I) 및 제 10 투사기(42J)에 의한 낭비적인 투사를 억제할 수가 있다.

제 9 투사기(42I) 및 제 10 투사기(42J)에 의한 투사재의 투사가 개시된 후에, 제 11 투사기(42K) 및 제 12 투사기(42L)에 의한 투사재의 투사가 개시된다.

제 11 투사기(42K)는, 투사방향 중심선(CL11)이 수평이며 또한 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽, 및

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 11 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽, 및

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측으로부터 투사재를 수평으로 투사한다.

제 12 투사기(42L)는, 투사방향 중심선(CL12)이 수평이며 또한 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽, 및

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 12 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽, 및

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측으로부터 투사재를 수평으로 투사한다.

또, 제 11 투사기(42K) 및 제 12 투사기(42L)에 의해 투사재가 투사되는 제 6 투사 존에 대해 반송방향 상류측에는 상류측 검출부(F1)가 설치되어 있고, 상기 제 6 투사 존에 대해 반송방향 하류측에는 하류측 검출부(F2)가 설치되어 있다. 상류측 검출부(F1) 및 하류측 검출부(F2)는, 피처리 대상물(W)의 통과를 검출한다.

그리고, 제어부(84)는, 상류측 검출부(F1)에 의한 검출 결과 및 하류측 검출부(F2)에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물(W)이 상기 제 6 투사 존의 범위 내에 있는 것으로 판단한 경우에 해당 제 6 투사 존에 투사재를 투사하도록, 제 11 투사기(42K) 및 제 12 투사기(42L)에 각각 접속되는 유량조정장치(40)(도 1 등 참조)의 개폐 게이트를 개방하도록 제어한다.

또, 제어부(84)는, 상류측 검출부(F1)에 의한 검출 결과 및 하류측 검출부(F2)에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물(W)이 상기 제 6 투사 존의 범위 내에는 존재하지 않는 것으로 판단한 경우에, 제 11 투사기(42K) 및 제 12 투사기(42L)에 각각 접속되는 유량조정장치(40)(도 1등 참조)의 개폐 게이트를 폐쇄하도록 제어한다. 따라서, 제 11 투사기(42K) 및 제 12 투사기(42L)에 의한 낭비적인 투사를 억제할 수가 있다.

또, 본 실시형태에서는, 도 4에 도시된 제 1 블라스트 챔버(16)에서 표면 처리된 피처리 대상물(W)이 중간 도어(20)의 바로 앞까지 반송되면, 중간 도어(20)가 개방되어, 피처리 대상물(W)이 제 2 블라스트 챔버(22)에 반송된다. 제 2 블라스트 챔버(22)에는, 압축 공기와 함께 투사재를 분사하는 분사 노즐(94)이 설치되어 있다. 따라서, 분사 노즐(94)로부터 피처리 대상물(W)을 향해 압축 공기와 함께 투사재가 분사되면, 피처리 대상물(W)의 표면이 더욱 처리될 수 있다.

보다 구체적으로는, 제 2 블라스트 챔버(22)에서는, 중간 도어(20) 및 출구 도어(24)가 폐쇄된 상태에서, 피처리 대상물(W)이 바닥벽부(22D)(도 6 참조)로 하강하여, 접지면(接地面) 이외의 부위의 마무리 필요 부위(국부)에 쇼트 블라스트 처리가 이루어지며, 그 후, 피처리 대상물(W)이 매달려 상기한 접지면의 마무리 필요 부위(국부)에 쇼트 블라스트 처리가 이루어진다. 제 2 블라스트 챔버(22)에서의 쇼트 블라스트 처리는, 작업자(P)가 피처리 대상물(W)의 마무리 필요 부위를 향해 분사 노즐(94)을 유지시키며, 분사 노즐(94)로부터 압축 공기와 함께 투사재를 분사함으로써 이루어진다.

또한, 제 2 블라스트 챔버(22)에서 마무리 처리가 이루어지는 것은, 예컨대, 피처리 대상물(W)에 구멍이나 돌기 등이 있는 경우이다.

또, 제 1 블라스트 챔버(16)와 제 2 블라스트 챔버(22) 사이의 유통로는, 중간 도어(20)가 폐쇄됨으로써 차단되므로, 중간 도어(20)가 닫힘에 따라 제 1 블라스트 챔버(16)와 제 2 블라스트 챔버(22)에서 동시에(병행하여) 피처리 대상물(W)의 표면 처리를 할 수가 있다. 즉, 낭비적인 대기 시간을 없앨 수가 있다. 그 후, 출구 도어(24)가 개방되어 피처리 대상물이 제 2 블라스트 챔버(22)로부터 반출된 후, 출구 도어(24)가 폐쇄됨에 따라, 일련의 쇼트 블라스트 처치가 완료된다.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 관한 쇼트 블라스트 장치(10)에 의하면, 대형의 피처리 대상물(W)의 전면을 표면 처리할 수가 있다.

여기서, 종래 구조의 쇼트 블라스트 장치와 비교하면서, 보충 설명하도록 한다. 예컨대, 크레인 서스펜딩식의 쇼트 블라스트 장치로서, 반송 라인 측방의 측벽에 원심식 투사기가 고정되고 또한 피처리 대상물을 선회, 반전, 승강, 경사 등을 시키면서 투사하는 것과 같은 종래 구조에 관한 장치에서는, 숙련된 작업자가 아니면 피처리 대상물의 전면을 표면 처리하기가 어렵다는 문제점이 있다. 즉, 이러한 종래 구조에 관한 쇼트 블라스트 장치에서는, 예컨대, 반전기(反轉機)에 의해 피처리 대상물을 임의적으로 경사 등을 시키면서 승강 호이스트에 의해 승강시키는 작업을 행하기 때문에, 피처리 대상물의 세팅(보다 구체적으로는, 호이스트나 크레인에 의한, 피처리 대상물의 서스펜딩 중심(重心)이나, 반전시의 안정성 등을 고려한 매달기) 및 피처리 대상물의 반전 위치의 결정이 어렵다. 그 결과, 숙련된 작업자가 아니면 피처리 대상물의 전면을 쇼트 블라스트 처리하기가 어렵다. 또, 이러한 종래 구조에 관한 쇼트 블라스트 장치를 이용하여 피처리 대상물의 전면을 쇼트 블라스트 처리하면, 낭비되는 투사가 매우 많아지는 문제점도 있다.

이에 대해, 본 실시형태에서는, 숙련된 작업자가 조작하지 않아도, 투사재를 최소한으로 유지하면서, 대형의 피처리 대상물(W)의 전면을 표면 처리할 수 있다.

또, 상기의 종래 구조에 관한 쇼트 블라스트 장치에서는, 천정면의 반전용 체인 슬링(chain sling)이 반전 각도에 따라 이동가능하기 때문에, 피처리 대상물의 반송방향에 있어서의 천정 시일(seal)과 상기 반송방향에 직교하는 방향의 천정 시일이 필요해져, 시일 구조가 복잡해진다. 이에 대해, 본 실시형태에서는, 그러한 시일 구조의 복잡화라는 문제도 발생하지 않는다.

［제 2 실시형태］

다음으로, 본 발명의 제 2 실시형태에 관한 쇼트 처리 장치로서의 쇼트 블라스트 장치(110)에 대해, 도 8 및 도 9를 이용하여 설명한다. 도 8에는, 피처리 대상물(W)의 반송방향으로 본 원심식 투사기(42)의 배치가 도시되어 있으며, 도 9에는, 도 8의 9－9 화살선도가 도시되어 있다. 또한, 제 2 실시형태는, 원심식 투사기(42)로서, 제 1 투사기(42M), 제 2 투사기(42N), 제 3 투사기(42O), 제 4 투사기(42P), 제 5 투사기(42Q), 제 6 투사기(42R), 제 7 투사기(42S), 및 제 8 투사기(42T)의 8대를 설치한 점이 특징이며, 다른 구성은, 제 1 실시형태와 거의 같은 구성으로 되어 있다. 따라서, 제 1 실시형태와 실질적으로 같은 구성부에 대해서는, 동일 부호를 붙이고 설명을 생략한다.

도 8에 나타내는 바와 같이, 제 1 블라스트 챔버(16)에 있어서 실내 공간과 장치 상방측의 공간을 구획 형성하는 천정부(16D)는, 피처리 대상물(W)의 반송 라인과 동일 평면에 있어서의 반송방향과 직교하는 부분의 폭(반송라인을 포함하며 반송라인에 의해 형성된 수평면에 수직인 평면에서 측정된 대향하는 각 천정부(16D) 상단부 간의 거리)이 피처리 대상물(W)의 반송방향과 직교하는 중앙부의 폭(상기 수평면과 상기 반송라인의 방향에 직교하는 평면에 의해 형성된, 대향하는 천정부(16D)의 각 하단부 간의 거리)보다 좁게 설정되어 있다.

쇼트 블라스트 장치(110)에 있어서의 원심식 투사기(42)는, 상기 투사기의 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송라인에 대하여,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측,

(5)측면에서 볼 때(반송 라인의 반송방향에 나란한 측방에서 볼 때) 비스듬한 상측, 및

(6)측면에서 볼 때(반송 라인의 반송방향에 나란한 측방에서 볼 때) 비스듬한 하측

의 임의의 조합으로부터 각각 교차하도록 복수로 설치되어 있다.

이하, 구체적으로 설명한다.

도 8 및 도 9에 나타내는 바와 같이, 제 1 블라스트 챔버(16)에 있어서의 피처리 대상물(W)의 반송방향(X)의 상류측에는, 장치 하측의 호퍼부(17)에 제 1 투사기(42M) 및 제 3 투사기(42O)가 설치되는 동시에, 장치 상측의 천정부(16D)에 제 2 투사기(42N) 및 제 4 투사기(42P)가 설치되어 있다.

장치 하측의 제 1 투사기(42M)는, 피처리 대상물(W)의 반송라인의 반송방향으로 볼 때 반송 폭방향 좌측에 배치되어 있고, 장치 정면에서 볼 때의 도 9에서는, 제 3 투사기(42O)와 장치 전후방향(도 9의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

도 8에 도시된 제 1 투사기(42M)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

장치 상측의 제 2 투사기(42N)는, 피처리 대상물(W)의 반송라인의 반송방향으로 볼 때 반송 폭방향 좌측에 배치되어 있고, 장치 정면에서 볼 때의 도 9에서는, 제 4 투사기(42P)와 장치 전후방향(도 9의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

도 8에 도시된 제 2 투사기(42N)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

장치 하측의 제 3 투사기(42O)는, 피처리 대상물(W)의 반송라인의 반송방향으로 볼 때 반송 폭방향 우측에 배치되어 있다.

제 3 투사기(42O)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

장치 상측의 제 4 투사기(42P)는, 피처리 대상물(W)의 반송라인의 반송방향으로 볼 때 반송 폭방향 우측에 배치되어 있다.

제 4 투사기(42P)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 45°전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

도 8 및 도 9에 나타내는 바와 같이, 제 1 블라스트 챔버(16)에 있어서의 피처리 대상물(W)의 반송방향(X)의 하류측에는, 장치 하측의 호퍼부(17)에 제 5 투사기(42Q) 및 제 7 투사기(42S)가 설치되는 동시에, 장치 상측의 천정부(16D)에 제 6 투사기(42R) 및 제 8 투사기(42T)가 설치되어 있다.

장치 하측의 제 5 투사기(42Q)는, 피처리 대상물(W)의 반송라인의 반송방향으로 볼 때 반송 폭방향 좌측에 배치되어 있다.

또한, 제 5 투사기(42Q)는, 피처리 대상물(W)의 반송방향과 직교하는 측면에서 본 도 8에서는, 제 1 투사기(42M)와 장치 좌우방향(도 8의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치된다.

상기 제 5 투사기는, 장치 정면에서 볼 때의 도 9에서는, 제 7 투사기(42S)와 장치 전후방향(도 9의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

제 5 투사기(42Q)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

장치 상측의 제 6 투사기(42R)는, 피처리 대상물(W)의 반송라인의 반송방향으로 볼 때 반송 폭방향 좌측에 배치되어 있다.

제 6 투사기(42R)는, 피처리 대상물(W)의 반송방향과 직교하는 측면에서 본 도 8에서는, 제 2 투사기(42N)와 장치 좌우방향(도 8의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

상기 제 6 투사기는, 장치 정면에서 볼 때의 도 9에서는, 제 8 투사기(42T)와 장치 전후방향(도 9의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

제 6 투사기(42R)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 비스듬한 상측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

장치 하측의 제 7 투사기(42S)는, 피처리 대상물(W)의 반송라인의 반송방향으로 볼 때 반송 폭방향 우측에 배치되어 있다.

제 7 투사기(42S)는, 피처리 대상물(W)의 반송방향과 직교하는 측면에서 본 도 8에서는, 제 3 투사기(42O)와 장치 좌우방향(도 8의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

제 7 투사기(42S)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

장치 상측의 제 8 투사기(42T)는, 피처리 대상물(W)의 반송라인의 반송방향으로 볼 때 반송 폭방향 우측에 배치되어 있다.

제 8 투사기(42T)는, 피처리 대상물(W)의 반송방향과 직교하는 측면에서 본 도 8에서는, 제 4 투사기(42P)와 장치 좌우방향(도 8의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

제 8 투사기(42T)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

피처리 대상물(W)의 반송 라인에 있어서 복수의 원심식 투사기(42)의 각각에 의해 투사재가 투사되는 투사 존이 해당 반송 라인을 따라 복수(본 실시형태에서는 일례로서 상류측과 하류측의 합계 2개)로 설정되어 있다. 또, 제 1 실시형태와 마찬가지로, 복수의 투사 존에 대해 각각 반송방향 상류측에는, 상류측 검출부(도시 생략)가 설치되는 동시에, 복수의 투사 존에 대해 각각 반송방향 하류측에는, 하류측 검출부(도시 생략)가 설치되어 있다. 상기 상류측 검출부 및 상기 하류측 검출부는, 피처리 대상물(W)의 통과를 검출한다.

또, 제 1 실시형태와 마찬가지로, 제어부(84)는, 상기 상류측 검출부에 의한 검출 결과 및 상기 하류측 검출부에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물(W)이 투사 존의 어느 범위 내에 있는 것으로 판단한 경우에만 해당 투사 존에 투사재를 투사하도록 유량조정장치(40)의 개폐 게이트의 작동을 제어한다.

(작용·효과)

다음으로, 상기 실시형태의 작용 및 효과에 대해 설명한다.

제 1 투사기(42M)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 1 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 2 투사기(42N)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 2 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 3 투사기(42O)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 3 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 4 투사기(42P)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 4 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 5 투사기(42Q)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 5 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 6 투사기(42R)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 6 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 7 투사기(42S)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 7 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 8 투사기(42T)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 8 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

이상 설명한 바와 같이, 본 실시형태에 관한 쇼트 블라스트 장치(110)에 의하면, 대형의 피처리 대상물(W)의 전면을 표면 처리할 수 있다.

［제 3 실시형태］

다음으로, 본 발명의 제 3 실시형태에 관한 쇼트 처리 장치로서의 쇼트 블라스트 장치(120)에 대해, 도 10 및 도 11을 이용하여 설명한다. 도 10에는, 피처리 대상물(W)의 반송방향으로 본 원심식 투사기(42)의 배치가 도시되어 있으며, 도 11에는, 도 10의 11－11 화살선도가 도시되어 있다. 또한, 제 3 실시형태는, 원심식 투사기(42)로서 제 1 투사기(42U), 제 2 투사기(42V), 제 3 투사기(42W), 제 4 투사기(42X), 제 5 투사기(42Y), 및 제 6 투사기(42Z)의 6대를 설치한 점이 특징이며, 다른 구성은, 제 1, 제 2 실시형태와 거의 같은 구성으로 되어 있다. 따라서, 제 1, 제 2 실시형태와 실질적으로 같은 구성부에 대해서는, 동일 부호를 붙이고 설명을 생략한다.

쇼트 블라스트 장치(120)에 있어서의 원심식 투사기(42)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물의 반송라인에 대하여,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측,

(5)측면에서 볼 때(반송 라인의 반송방향에 나란한 측방에서 볼 때) 비스듬한 상측, 및

(6)측면에서 볼 때(반송 라인의 반송방향에 나란한 측방에서 볼 때) 비스듬한 하측

의 임의의 조합으로부터 각각 교차하도록 복수로 설치되어 있다.

이하, 구체적으로 설명한다.

도 10 및 도 11에 나타내는 바와 같이, 제 1 블라스트 챔버(16)에 있어서의 피처리 대상물(W)의 반송방향(X)의 상류측에는, 장치 하측의 호퍼부(17)에 제 1 투사기(42U)가 설치되는 동시에, 장치 상측의 천정부(16D)에 제 2 투사기(42V) 및 제 3 투사기(42W)가 설치되어 있다.

장치 하측의 제 1 투사기(42U)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(7)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(6)측면에서 볼 때 비스듬한 하측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록, 또한

(9)상면에서 볼 때 피처리 대상물(W)의 반송 라인을 따라서 그리고 반송 라인과 겹치는 방향으로 설치되어 있다.

장치 상측의 제 2 투사기(42V)는, 피처리 대상물(W)의 반송라인의 반송방향으로 볼 때 반송 폭방향 좌측에 배치되어 있다.

장치 정면에서 볼 때의 도 11에서는, 상기 제 2 투사기(42V)는 제 3 투사기(42W)와 장치 전후방향(도 11의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

도 10에 도시된 제 2 투사기(42V)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

장치 상측의 제 3 투사기(42W)는, 피처리 대상물(W)의 반송방향으로 볼 때 반송 폭방향 우측에 배치되어 있다.

제 3 투사기(42W)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

도 10 및 도 11에 나타내는 바와 같이, 제 1 블라스트 챔버(16)에 있어서의 피처리 대상물(W)의 반송방향(X)의 하류측에는, 장치 하측의 호퍼부(17)에 제 4 투사기(42X)가 설치되는 동시에, 장치 상측의 천정부(16D)에 제 5 투사기(42Y) 및 제 6 투사기(42Z)가 설치되어 있다.

장치 하측의 제 4 투사기(42X)는, 피처리 대상물(W)의 반송방향과 직교하는 측면에서 본 도 10에서는, 제 1 투사기(42U)와 장치 좌우방향(도 10의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

도 11에 도시된 제 4 투사기(42X)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(8)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록, 또한

(9)상면에서 볼 때 피처리 대상물(W)의 반송 라인을 따라서 그리고 반송 라인과 겹치는 방향으로 설치되어 있다.

도 10 및 도 11에 나타내는 바와 같이, 장치 상측의 제 5 투사기(42Y)는, 피처리 대상물(W)의 반송라인의 반송방향으로 볼 때 반송 폭방향 좌측에 배치되어 있다.

상기 제 5 투사기는, 피처리 대상물(W)의 반송방향과 직교하는 측면에서 본 도 10에서는, 제 2 투사기(42V)와 장치 좌우방향(도 10의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

상기 제 5 투사기는, 장치 정면에서 볼 때의 도 11에서는, 제 6 투사기(42Z)와 장치 전후방향(도 11의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

제 5 투사기(42Y)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

장치 상측의 제 6 투사기(42Z)는, 피처리 대상물(W)의 반송라인의 반송방향으로 볼 때 반송 폭방향 우측에 배치된다.

상기 제 6 투사기는, 피처리 대상물(W)의 반송방향과 직교하는 측면에서 본 도 10에서는, 제 3 투사기(42W)와 장치 좌우방향(도 10의 지면에 수직인 방향)으로 겹치는 위치에 배치되어 있다.

제 6 투사기(42Z)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 45° 전후(35°~55°)로 교차하도록 설치되어 있다.

피처리 대상물(W)의 반송 라인에 있어서 복수의 원심식 투사기(42)의 각각에 의해 투사재가 투사되는 투사 존이 해당 반송 라인을 따라 복수(본 실시형태에서는 일례로서 상류측과 하류측의 합계 2개)로 설정되어 있다.

또, 제 1, 제 2 실시형태와 마찬가지로, 복수의 투사 존에 대해 각각 반송방향 상류 측에는, 상류측 검출부(도시 생략)가 설치되는 동시에, 복수의 투사 존에 대해 각각 반송방향 하류측에는, 하류측 검출부(도시 생략)가 설치되어 있어, 상기 상류측 검출부 및 상기 하류측 검출부는, 피처리 대상물(W)의 통과를 검출한다.

또, 제 1, 제 2 실시형태와 마찬가지로, 제어부(84)는, 상기 상류측 검출부에 의한 검출 결과 및 상기 하류측 검출부에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물(W)이 투사 존의 어느 범위 내에 있는 것으로 판단한 경우에만 해당 투사 존에 투사재를 투사하도록 유량조정장치(40)의 개폐 게이트의 작동을 제어한다.

(작용·효과)

다음으로, 상기 실시형태의 작용 및 효과에 대해 설명한다.

도 10 및 도 11에 도시된 제 1 투사기(42U)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(7)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록, 또한

(9)상면에서 볼 때 반송 라인을 따라서 그리고 반송 라인과 겹치는 방향으로 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 1 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(7)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 2 투사기(42V)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 2 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 3 투사기(42W)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 3 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 4 투사기(42X)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(8)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록, 또한

(9)상면에서 볼 때 피처리 대상물(W)의 반송 라인을 따라서 그리고 반송 라인과 겹치는 방향으로 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 4 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(8)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽, 및

(6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 투사재를 투사한다.

제 5 투사기(42Y)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 5 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

제 6 투사기(42Z)는, 투사방향 중심선이 피처리 대상물(W)의 반송 라인에 대해,

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치되어 있다.

따라서, 상기 제 6 투사기는, 피처리 대상물(W)을 향해

(1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,

(4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및

(5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 투사재를 투사한다.

이상 설명한 바와 같이, 본 실시형태에 관한 쇼트 블라스트 장치(120)에 의하면, 대형의 피처리 대상물(W)의 전면을 표면 처리할 수가 있다.

［실시형태의 보충 설명］

또한, 상기 실시형태에서는, 쇼트 처리 장치가 쇼트 블라스트 장치(10, 110, 120)로 되어 있지만, 쇼트 처리 장치는, 쇼트 피닝(shot peening) 장치여도 무방하며, 쇼트 블라스트 장치 겸 쇼트 피닝 장치여도 무방하다.

또, 상기 실시형태의 변형예로서, 하류측 검출부를 설치하지 않는 구성으로 하고, 제어부는, 상류측 검출부에 의한 검출 결과 및 서스펜딩부의 이동 속도에 근거하여, 피처리 대상물이 상기 투사 존의 어느 범위 내에 있는 것으로 판단한 경우에만 해당 투사 존에 투사재를 투사하도록 투사재 공급부를 제어하는 구성이어도 무방하다.

또, 다른 변형예로서, 하류측 검출부를 설치하지 않고, 반송방향의 최상류측으로 설정된 투사 존의 반송방향 상류측에만 검출부(피처리 대상물의 통과를 검출하는 구성부)를 설치하는 구성으로 한다.

제어부는, 상기 상류측 검출부에 의한 검출 결과 및 서스펜딩부의 이동 속도에 근거하여, 피처리 대상물이 상기 투사 존의 어느 범위 내에 있는 것으로 판단한 경우에만 해당 투사 존에 투사재를 투사하도록 투사재 공급부를 제어하는 구성이어도 무방하다.

또, 상기 실시형태의 변형예로서, 제 2 블라스트 챔버(22)(제 2 처리챔버)를 설치하지 않는 구성도 채용할 수 있다.

또, 상기 실시형태에서는, 도 1 등에 도시된 중간 도어(20, 구획 도어)가 설치되어 있으나, 처리량이 적은 경우에는, 중간 도어(구획 도어)를 설치하지 않는 구성도 가능하다. 또, 상기 실시형태의 출구 도어(24)를 설치하지 않고, 쇼트 블라스트 처리 후에 피처리 대상물의 반송방향을 반입시와는 반대의 방향으로 하여 반입 포트 측으로부터 피처리 대상물을 반출하는 구성으로 하여도 무방하다. 또, 입구 도어(12), 중간 도어(20, 구획 도어), 출구 도어(24) 중 적어도 어느 하나에 대신하여, 이중 또는 삼중의 이른바 고무 커튼을 배치하여도 무방하다.

또, 상기 실시형태의 변형예로서, 제 1 블라스트 챔버(16)에 반입된 피처리 대상물(W)의 높이 위치를 바꾸어 제 1 블라스트 챔버(16) 내부를 복수 회 통과시키는 것과 같은 구성을 채용하여도 무방하다. 또, 피처리 대상물(W)을 임의의 위치에서 정지 또는 저속(통상의 반송 속도보다 저속) 이동시켜, 임의의 클리닝 및 폴리싱 마무리를 선택시키도록 하여도 무방하다.

또한, 투사의 정지를 피처리 대상물의 임의의 위치에서 행함으로써, 불필요한 개소의 투사를 없애는 것과 같은 방법을 채용하여도 무방하다.

또한, 상기 실시형태 및 상술한 복수의 변형예는, 적절히 조합하여 실시할 수 있다.

이상, 본 발명의 일례에 대해 설명하였으나, 본 발명은, 상기로 한정되는 것은 아니며, 상기 이외에도, 당업자라면, 그 주지(主旨)를 벗어나지 않는 범위 내에 있어서 다양하게 변형하여 실시할 수 있음은 물론이다.

본 출원은, 일본에서 2013년 1월 30일에 출원된 일본 특허출원 제2013-015672호에 근거하고 있으며, 그 내용은 본 출원의 내용으로서, 그 일부를 형성한다.

또, 본 발명은 본 명세서의 상세한 설명에 의해 더욱 완전하게 이해될 수 있을 것이다. 그러나, 상세한 설명 및 특정의 실시예는, 본 발명의 바람직한 실시형태로서, 설명의 목적을 위해서만 기재되어 있는 것이다. 상기 상세한 설명으로부터, 각종 변경, 개변(改變)이, 당업자에게는 명백한 것이기 때문이다.

출원인은, 기재된 실시형태 중 어느 것도 대중에 헌상(獻上)할 의도는 없으며, 개시된 개변, 대체안 중, 특허청구범위 내에 문언(文言)상 포함되지 않을지 모르는 것도, 균등론 하에서의 발명의 일부로 한다.

본 명세서 혹은 청구범위의 기재에 있어서, 명사 및 그와 마찬가지인 지시어의 사용은, 특별히 지시되지 않는 한, 또는 문맥에 따라 명료하게 부정되지 않는 한, 단수 및 복수의 양방을 포함하는 것으로 해석되어야 한다. 본 명세서에서 제공된 예시 또는 예시적인 용어(예컨대, 「등」)는 모두, 단순히 본 발명을 설명하기 쉽게 한다는 의도에 따라 사용된 것에 불과하며, 특별히 청구범위에 기재하지 않는 한 본 발명의 범위에 제한을 가하는 것은 아니다.

10; 쇼트 블라스트 장치(쇼트 처리 장치)
16; 제 1 블라스트 챔버(제 1 처리챔버)
20; 중간 도어(구획 도어)
22; 제 2 블라스트 챔버(제 2 처리챔버)
40; 유량조정장치(투사재 공급부)
42A; 제 1 투사기(원심식 투사기)
42B; 제 2 투사기(원심식 투사기)
42C; 제 3 투사기(원심식 투사기)
42D; 제 4 투사기(원심식 투사기)
42E; 제 5 투사기(원심식 투사기)
42F; 제 6 투사기(원심식 투사기)
42G; 제 7 투사기(원심식 투사기)
42H; 제 8 투사기(원심식 투사기)
42I; 제 9 투사기(원심식 투사기)
42J; 제 10 투사기(원심식 투사기)
42K; 제 11 투사기(원심식 투사기)
42L; 제 12 투사기(원심식 투사기)
42M; 제 1 투사기(원심식 투사기)
42N; 제 2 투사기(원심식 투사기)
42O; 제 3 투사기(원심식 투사기)
42P; 제 4 투사기(원심식 투사기)
42Q; 제 5 투사기(원심식 투사기)
42R; 제 6 투사기(원심식 투사기)
42S; 제 7 투사기(원심식 투사기)
42T; 제 8 투사기(원심식 투사기)
42U; 제 1 투사기(원심식 투사기)
42V; 제 2 투사기(원심식 투사기)
42W; 제 3 투사기(원심식 투사기)
42X; 제 4 투사기(원심식 투사기)
42Y; 제 5 투사기(원심식 투사기)
42Z; 제 6 투사기(원심식 투사기)
70; 직진이동기구
76; 서스펜딩부
84; 제어부
94; 분사 노즐
110; 쇼트 블라스트 장치(쇼트 처리 장치)
120; 쇼트 블라스트 장치(쇼트 처리 장치)
A1, B1, C1, D1, E1, F1; 상류측 검출부
A2, B2, C2, D2, E2, F2; 하류측 검출부
CL1, CL2, CL3, CL4, CL5, CL6, CL7, CL8, CL9, CL10, CL11, CL12; 투사방향 중심선
W; 피처리 대상물

Claims (7)

1. 쇼트 처리 장치로서,
   피처리 대상물을 매다는 서스펜딩(suspending, 吊下)부와,
   상기 서스펜딩부를 피처리 대상물의 반송 라인을 따라 직진이동시키는 직진이동기구와,
   임펠러(impeller)의 회전에 수반하여 상기 반송 라인 측을 향해 투사재를 투사하며, 원심식 투사기에 의해 투사된 투사재의 방향의 중심선(이하, "투사방향 중심선" 또는 "투사기(들)의 투사방향 중심선"이라 함)이 상기 반송 라인에 대해,
   (1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,
   (2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,
   (3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측,
   (4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측,
   (5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측, 및
   (6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측
   의 임의의 조합으로부터 각각 교차하도록 복수로 설치된 원심식(遠心式) 투사기
   를 갖는 쇼트 처리 장치.
2. 제 1항에 있어서,
   상기 원심식 투사기로서,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,
   (3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및
   (6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치된 제 1 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,
   (3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및
   (5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 2 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,
   (4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및
   (6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치된 제 3 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,
   (4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및
   (5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 4 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,
   (3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및
   (6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치된 제 5 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,
   (3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및
   (5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 6 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,
   (4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및
   (6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치된 제 7 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,
   (4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및
   (5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 8 투사기
   를 구비하는 쇼트 처리 장치.
3. 제 1항에 있어서,
   상기 원심식 투사기로서,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,
   (6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록, 또한
   (9)상면에서 볼 때 반송 라인을 따라서 그리고 반송 라인과 겹치는 방향으로 설치된 제 1 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,
   (3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및
   (5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 2 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,
   (4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및
   (5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 3 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (8)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,
   (6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록, 또한
   (9)상면에서 볼 때 반송 라인을 따라서 그리고 반송 라인과 겹치는 방향으로 설치된 제 4 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,
   (3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및
   (5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 5 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,
   (4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및
   (5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 6 투사기
   를 구비하는 쇼트 처리 장치.
4. 제 1항에 있어서,
   상기 원심식 투사기로서,
   투사방향 중심선이 수평이며 또한 상기 반송 라인에 대해,
   (2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽, 및
   (3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측으로부터 교차하도록 설치된 제 1 투사기와,
   투사방향 중심선이 수평이며 또한 상기 반송 라인에 대해,
   (2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽, 및
   (4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측으로부터 교차하도록 설치된 제 2 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,
   (3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및
   (5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 3 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,
   (4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및
   (5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 4 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,
   (3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및
   (6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치된 제 5 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (2)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 뒤쪽,
   (4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및
   (6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치된 제 6 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,
   (3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및
   (6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치된 제 7 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,
   (4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및
   (6)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 하측으로부터 교차하도록 설치된 제 8 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,
   (3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측, 및
   (5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 9 투사기와,
   투사방향 중심선이 상기 반송 라인에 대해,
   (1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽,
   (4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측, 및
   (5)측면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 상측으로부터 교차하도록 설치된 제 10 투사기와,
   투사방향 중심선이 수평이며 또한 상기 반송 라인에 대해,
   (1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽, 및
   (3)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 좌측으로부터 교차하도록 설치된 제 11 투사기와,
   투사방향 중심선이 수평이며 또한 상기 반송 라인에 대해,
   (1)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 앞쪽, 및
   (4)상면에서 볼 때 반송방향의 비스듬한 우측으로부터 교차하도록 설치된 제 12 투사기
   를 구비하는 쇼트 처리 장치.
5. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 반송 라인에 있어서 복수의 상기 원심식 투사기에 의해 투사재가 투사되는 투사 존(zone)이 해당 반송 라인을 따라 복수로 설치되고,
   복수의 상기 투사 존에 대해 각각 반송방향 상류측에 설치되며 피처리 대상물의 통과를 검출하는 상류측 검출부와,
   복수의 상기 투사 존에 대해 각각 반송방향 하류측에 설치되며 피처리 대상물의 통과를 검출하는 하류측 검출부와,
   상기 원심식 투사기에 대한 투사재의 공급용이 되며 상기 원심식 투사기에 대해 투사재의 공급이나 공급 정지가 가능한 투사재 공급부와,
   상기 상류측 검출부에 의한 검출 결과 및 상기 하류측 검출부에 의한 검출 결과에 근거하여, 피처리 대상물이 상기 투사 존의 어느 범위 내에 있는 것으로 판단한 경우에만, 상기 원심식 투사기가 해당 투사 존에 투사재를 투사하도록, 상기 투사재 공급부를 제어하는 제어부
   를 갖는 쇼트 처리 장치.
6. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 원심식 투사기에 의해 투사재가 투사되는 제 1 처리챔버와,
   상기 제 1 처리챔버보다 피처리 대상물의 반송방향 하류측에 설치되며, 압축 공기와 함께 투사재를 분사하는 분사 노즐이 설치된 제 2 처리챔버
   를 구비하는 쇼트 처리 장치.
7. 제 6항에 있어서,
   상기 제 1 처리챔버와 상기 제 2 처리챔버 사이의 유통로를 개폐하는 구획 도어가 설치되어 있는, 쇼트 처리 장치.

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