KR20150111915A - 프로파일링된 금속 스트립들의 제조 방법 및 디바이스 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 프로파일링된 금속 스트립들 (1, 1') 의 제조 방법에 관한 것으로, 특히 스테인리스 강으로 이루어지고 미리 정의가능한 금속 두께를 갖는 금속 스트립 (1, 1') 이 코일 (4) 에 감기고 수개의 롤들 (2, 3, 2', 3') 을 포함하는 압연 스탠드 (W1 ~ W4) 를 통해 안내되며, 적어도, 금속 스트립 (1, 1') 과 효과적으로 상호작용하는 롤들 (2, 3) 에는 미리 정의가능한 토포그래피 (8, 9) 가 제공되고, 상기 토포그래피에 의해 250㎛ 초과의 프로파일 깊이들을 갖는 프로파일들이 롤들 (2, 3) 의 토포그래피 (8, 9) 의 기하학적 형상에 따라 금속 스트립 (1, 1') 의 양면에 형성될 수 있고, 금속 스트립 (1, 1') 은 금속 스트립의 프로파일링에 후속하여 코일 (5) 에 감기고, 필요하다면, 열적 후처리를 받게 된다.

Description

프로파일링된 금속 스트립들의 제조 방법 및 디바이스{METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING PROFILED METAL STRIPS}
본 발명은 프로파일링된 (profiled) 금속 스트립들의 제조 방법에 관한 것이다.
금속 성형 작동들에 의해 금속 보디들에 프로파일들을 형성하는 것이 일반적으로 공지되어 있다. 하지만, 이러한 금속 성형 기술은 높은 비용과 관련되어 있다.
KR 1996-0006031 A 는 양면에 새겨지는 스테인리스 강판을 개시한다. 후면에 새겨진 패턴이 전방 측에서 압축 (pressed out) 되어, 오목한 자국은 스테인리스 강판의 후방 측에 형성될 수 있고 양각화된 (embossed) 면은 전방 측에 형성된다. 후방 측에 형성된 패턴이 연속적인 균일한 패턴을 나타내는 반면 전방 측의 패턴은 불규직한 패턴을 야기한다. 예를 들어, 상부 양각화 롤 및 하부 양각화 롤을 포함하는 Sendzimir 압연 스탠드가 이 경우에 사용되고, 상부 양각화 롤은 패턴의 깊이에 의해 후방 패턴의 표면 전달 수 (surface transmission number) 를 제어하고, 상부 양각화 롤은 연속 작동하는 압연 스탠드에서 볼트 조임 (bolting) 에 의해 그리고 자동 제어 디바이스의 압하 (reduction) 조건의 변화에 의하여 나타난다.
이러한 방식으로 프로파일링된 스테인리스 강판들은 패턴화된 스트립들 및 시트들로 언급되고, 예를 들어, 회사 ThyssenKrupp Nirosta 의 03/2005 호, 제 4 권, 사업설명서 (Creative Accents: Patterned Strips and Sheets) 에서 설명되어 있다.
패터닝 작동 동안, 패턴 롤은 디자인을 표면에 새기기 위하여 일 측에서 보통 사용된다. 매끄러운 롤은 대향 측에서 통상적으로 활용된다. 패턴의 경미한 관통 새김 (through-impression) 은 이 경우에 후방 측에서 발생한다. 패턴 롤의 측면에서 새김 깊이는 최대 30 ㎛ 에 달한다. 후방 측에서 관통 새김이 1 ㎛ 미만일 지라도, 여전히 조악한 디자인으로 보인다.
각각의 경우들에서, 특히 거친 롤 또는 상이한 패턴을 갖는 롤은 예를 들어 KR 1996-0006031 A 에서 개시된 바와 같이 후방 측에서 사용된다. 패턴들이 기하학적으로 서로에 대해 정확하게 적합해지지 때문에, 새김의 깊이는 늘 그렇듯 각 측에서 대략 30 ㎛ 이하에 달한다. 이 경우에, 새김은 다른 롤의 경미한 관통 새김으로 보충된다.
새겨진 디자인들이 후방 측에서 다른 패턴의 관통 새김으로 인해 희미하게 나타나기 때문에 이 방법은 실제 적용들에서 우세하지 않다.
본 발명은, 특히 스테인리스 강판의 전방 측 및 후방 측이 필요하다면 상이한 기하학적 형상의 프로파일들로 연속 작동으로 프로파일링 될 수 있는 방법을 이용가능하게 하는 목적에 기초하고, 최대 가능한 새김 깊이를 갖는 압연된 프로파일들이 형성되어야 한다.
추가로, 본 발명은, 최대 가능한 미리 정의가능한 새김 깊이를 갖는 상이한 프로파일들이 특히 스테인리스 강으로 이루어지는 시트의 양측에서 형성될 수 있는 디바이스를 이용가능하게 하는 것이 목적이다.
이러한 목적은 프로파일링된 금속 스트립들의 제조 방법으로 달성되고, 이 방법에서, 특히 스테인리스 강으로 이루어지고 미리 정의가능한 재료 두께를 갖는 금속 스트립이 코일에 감기고 또한 수개의 롤들을 포함하는 압연 스탠드를 통해 안내되고, 적어도, 금속 스트립과 효과적으로 상호작용하는 롤들에는 미리 정의가능한 토포그래피가 제공되어 있으며, 상기 토포그래피에 의해 250 ㎛ 초과의 프로파일 깊이들을 갖는 프로파일들이 롤들의 토포그래피의 기하학적 형상에 따라 금속 스트립의 양면에 형성될 수 있고, 금속 스트립은 금속 스트립의 프로파일링에 후속하여 코일에 감기고, 필요하다면, 열적 후처리를 받게 된다.
진보적인 방법의 유리한 개선들은 상응하는 절차상의 종속 청구항들에서 개시되어 있다.
또한, 본 발명의 목적은 수개의 롤들을 포함하는 압연 스탠드를 특징으로 하는 프로파일링된 금속 스트립들의 제조 디바이스로 달성되고, 적어도 하나의 상부 롤 및 적어도 하나의 하부 롤이 압력의 영향 하에서 금속 스트립의 상부면 및 하부면과 인접하고, 금속 스트립의 표면들과 인접하는 상부 롤 및 하부 롤에는 금속 스트립에서 형성될 250 ㎛ 초과의 프로파일 깊이를 갖는 프로파일에 상응하는 포지티브 및 네거티브 토포그래피가 제공되어 있다.
진보적인 디바이스의 유리한 개선들은 상응하는 목적성의 종속 청구항들에서 개시되어 있다.
종래 기술에 대조하여, 특히 스테인리스 강으로 이루어지는 권취된 시트들 (코일들) 의 대향 표면들은 그러므로 연속 작동으로 압연, 특히 냉간 압연에 의해 처리될 수 있고, 1000 ㎛ 를 초과하는 프로파일 깊이들이 실현될 수 있다.
시트의 각각의 상부 표면 및 하부 표면과 효과적으로 상호작용하는 상부 롤 표면 및 하부 롤 표면이, 서로 정확하게 적합해지는 두 개의 포지티브 및 네거티브 토포그래피들이 각각 제공되어 있다는 점에서 이는 달성된다.
종래 기술에서와 같이, 상응하는 프로파일들을 기술적으로 실현시키기 위하여 예를 들어 Sendzimir 압연 스탠드들과 같은 멀티-롤 압연 스탠드들을 활용하는 것이 또한 가능하다.
이하의 원리는 이러한 점에서 적용된다: 금속 스트립의 금속성 재료가 연화될수록, 사용된 롤들의 개수가 더 적게 선택될 수도 있다.
본 발명의 목적은, 금속 스트립들에 압연 방향으로 웨이브 구조가 제공되는 정도로, 바람직하게는 멀티-롤 스탠드에서, 연속 압연 프로세스, 특히 1 단계 또는 다단계 냉간 압연 프로세스의 도움으로 특히 스테인리스 강으로 이루어지는 금속 스트립들을 형성하는 것을 가능하게 한다. 게다가, 이러한 방식으로 사다리꼴 구조들, 벌지 (bulge) 구조들 또는 벌집 구조들을 갖는 스트립들을 제조하는 것이 또한 가능하다.
예를 들어 Sendzimir 압연 스탠드의 높은 힘들은, 재료의 연성 (표면 확장) 를 완전히 활용하기 위해 그리고 종래 기술에서 보다 상당히 더 깊은 구조를 형성하는 것을 가능하게 하기 위해 의도되어 있다. 예를 들어, 1.1 ㎜ 의 유효 두께를 갖는 물결 모양의 판금이 0.50 ㎜ 의 초기의 두께를 갖는 편평한 재료로 형성될 수 있다. 물결 모양의 판금 구조에서, 물결 모양 간격은 적어도 판금 두께의 세 배에 상응해야 하지만, 대략 2㎝ 이하에 상응해야 한다.
전술한 바와 같이, 한편으로는 진보적인 방법, 그리고 다른 한편으로는 진보적인 디바이스는 최대 가능한 프로파일 깊이를 갖는 압연된 프로파일들을 제조하는 것을 가능하게 한다. 프로파일이 깊어질수록, 프로파일링된 판금의 굽힘 강도는 더 커진다. 프로파일의 새김은 판금의 변형 및 두께 감소와 관련된다. 프로파일 깊이는 찢어짐이 발생하기 직전까지 각각의 재료의 최대 변형성을 활용하도록 선택된다.
프로파일링된 코일들은 판금의 초기의 변형성을 복원시키기 위하여 압연 작동 이후에 어닐링될 수 있다. 어닐링된 프로파일은 적합한 성형 작동들에 의해 상당히 개선된 강도 및 감소된 판금 두께를 갖는 구성 요소들을 제조하는 것을 가능하게 한다.
웨이브 프로파일들에 더하여, 진보적인 방법 및 진보적인 디바이스 각각은 너브 프로파일들을 제조하는 것을 또한 가능하게 한다. 웨이브 프로파일들은 일 방향으로 증가된 상당한 강도를 보여준다. 동일한 파장 및 진폭에서, 너브 프로파일들은 웨이브 프로파일들의 강도 증가의 대략 절반으로 보여주지만, 모든 방향들에서 거의 동위체이다.
이하의 주변 조건들은 압연 작동 동안 최대 재료-의존적인 프로파일 깊이를 달성하는데 중요하고, 마찬가지로 웨이브 프로파일들 및 너브 프로파일들에 적용한다:
- 달리 판금이 상부 롤과 하부 롤 사이에서 더 이상 자유롭게 유동할 수 없기 때문에, 프로파일의 파장은 초기의 판금 두께의 3 배 보다 더 클 필요가 있다.
- 달리 정점에서 크랙의 위험이 매우 높기 때문에, 너브/웨이브 정점의 반지름은 초기의 판금 두께의 4 배 보다 더 클 필요가 있다.
- 달리 압연 작동 동안 롤들의 프로파일들을 균열시키는 위험이 증가하기 때문에, 압연 방향에 평행한 프로파일의 플랭크에서 각도 (초기 판금의 평면의 법선으로부터 측정됨) 는 30°초과일 필요가 있다.
- 이전의 기하학적 형상의 설명에 따라, 롤에서 프로파일의 진폭은 파장의 0.6 배 이하일 필요가 있다.
- 압연될 프로파일링된 판금의 진폭 또는 두께는 압연 하중으로 조절된다. 프로파일의 최대 깊이는 프로파일링될 각각의 재료에 대해 상응하는 재료/성형 파라미터들에 대한 문헌으로부터 결정된다.
진보적인 방법 및 진보적인 디바이스는 유형 1.4301 의 스테인리스 강판들을 처리하기 위해 바람직하게는 각각 의도되고, 이 목표 재료의 최대 두께 감소는 대략 45% 에 달해야 한다.
본 출원의 상정가능한 분야들은, 예를 들어, 열 교환기들, 연료 전지들용 양극 플레이트들, 촉매 컨버터 플레이트들 등 뿐만 아니라 장식 용도이다.
본 발명 목적의 예시적인 실시형태는 도면들에서 도시되어 있고, 더 상세하게 후술되어 있다.
도 1 은 금속 스트립을 프로파일링하기 위한 상이한 압연 스탠드들의 개략도를 도시한다.
도 2 는 변형 기준들의 도표를 도시한다.
도 3 은 후속의 냉간 변형 및 다른 코일링 작업과 함께 코일에 감겨진 금속 스트립의 개략적인 다이어그램을 도시한다.
도 4 및 도 5 는 각각의 금속 스트림에서 상이한 프로파일들을 형성하기 위한 상이한 롤 토포그래피들을 도시한다.
도 6 은 금속 스트립의 프로파일링 프로세스의 대표도를 도시한다.
도 7 은 프로파일링된 금속 스트립의 개략도를 도시한다.
도 8 은 대안으로 프로파일링된 금속 스트립의 개략도를 도시한다.
도 1 은 수개의 예시적인 압연 스탠드들 (W1 ~ W4) 의 개략도를 도시하고, 상기 압연 스탠드들에 의해 다양한 프로파일들이 예를 들어 스테인리스 강으로 이루어지는 금속 스트립 (1) 에서 형성될 수 있다. 이와 관련해서, 금속 스트립 (1) 과 직접적으로 효과적으로 상호작용하는 상부 작업 롤 (2) 및 하부 작업 롤 (3) 의 토포그래피는 특히 중요하다. 각각의 압연 스탠드들 (W1, W2, W3, W4) 은 측면도의 형태로 도시되어 있다. 금속 스트립 (1) 은 각각의 압연 스탠드들 (W1 ~ W4) 을 통해 화살표 방향으로 안내된다.
도 1 의 하부 부분은 상부 작업 롤 (2), 하부 작업 롤 (3), 및 이러한 작업 롤들 사이를 통과하는 금속 스트립 (1) 의 토포그래피들을 도시하고, 상기 토포그래피들은 이 경우에 길이방향 도면의 형태로 도시되어 있다. 이 예에서, 금속 스트립 (1) 에는 웨이브 구조가 제공되어야 한다.
도 2 는 웨이브 프로파일 또는 너브 프로파일을 형성하기 위하여 금속 스트립의 변형 기준들의 도표를 도시한다. 프로파일은 금속 스트립의 40 % 변형을 의미한다. 이러한 극단적인 변형은 선택된 강재들로 단지 달성될 수 있다. 달리 금속 스트립이 찢어지거나 각각의 압연 스탠드가 훼손되기 때문에, 도시된 치수들 (반지름들, 각도들 및 스트립 두께들) 은 정확하게 관찰되어야 한다. 상부 롤 및 하부 롤의 피팅 정확도는 매우 중요하다. 달리 압연 스탠드가 훼손되거나 심지어 부서질 수 있도록 롤들이 서로에 대해 이동할 것이기 때문에, 1 % 미만의 치수 편차들은 관찰될 필요가 있다.
도 3 은 코일 (4) 에 감겨진 금속 스트립 (1') 의 개략도를 도시한다. 압연 방향은 화살표로 나타내어 졌다. 도 1 을 고려하여, 이 도면은 상부 롤 (2) 및 하부 롤 (3) 을 포함하는 이른바 4-high 압연 스탠드 (W1) 를 단지 도시한다. 상응하는 힘들 (F) 은 롤들 (2, 3) 과 효과적으로 상호작용하는 추가의 롤들 (2', 3') 에 의해 금속 스트립 (1') 의 방향으로 가해진다. 금속 스트립 (1') 이 압연 스탠드 (W1) 를 통과한 후에, 금속 스트립 (1') 은 다른 코일 (5) 에 한 번 더 감겨진다.
도 4 및 도 5 는 도 3 의 개선들을 나타낸다. 상부 롤 (2) 및 하부 롤 (3) 만이 더 나은 개요를 제공하기 위하여 도시되어 있다. 금속 스트립 (1') 을 향하는 롤들 (2, 3) 의 표면들 (6, 7) 에는 상이한 너브 구조들을 형성하기 위하여 상이한 토포그래피들 (8, 9) 이 제공되어 있고, 상기 토포그래피들은 금속 스트립 (1') 이 상부 롤 (2) 과 하부 롤 (3) 사이에서 자유롭게 유동할 수 있도록 도 4 및 도 5 에 도시된 바와 같이 서로에 맞물린다.
예를 들어, 재료 유형 1.4301 의 스테인리스 강판이 프로파일링되어야 한다면, 이 조치는 최대 45% 의 두께 감소를 허용한다. 롤들 (2, 3) 의 각각의 토포그래피들 (8, 9) 에 의해 조절될 수 있는 금속 스트립 (1') 에서 프로파일들 (10, 11) 은 도 4 및 도 5 의 오른쪽 부분에 도시되어 있다.
도 6 은 도 5 에 상응하지만, 사시도로 도시한다. 이 도면은 상부 롤 (2), 하부 롤 (3) 및 금속 스트립 (1') 을 도시한다. 압연 방향은 이 경우에 화살표로 또한 나타내어진다. 도시되지 않은 코일로부터 풀어지는 금속 스트립 (1') 은 롤들 (2, 3) 을 통해 안내되고, 프로파일 (11) 은 그 후에 실현된다. 도 3 에 따라, 이 프로파일링된 금속 스트립 (1') 은 그 후에 코일에 한 번 더 감겨질 수 있다. 프로파일링된 금속 스트립 (1') 의 의도된 용도에 따라, 프로파일링된 코일들은 판금의 초기의 변형성을 복귀시키기 위해 압연 작동 이후에 어닐링 프로세스를 거치게 될 수 있다. 이러한 어닐링된 프로파일은 적합한 성형 조치들에 의해 상당히 개선된 강도 및 감소된 판금 두께를 갖는 구성 요소들을 제조하는 것을 가능하게 한다.
도 7 은 프로파일링된 금속 스트립 (1') 의 단면의 개략도를 도시한다. 이 경우에, 예를 들어, 도 6 에 따른 프로파일들 (11) 은 금속 스트립 (1') 에서 형성될 수 있다.
도 8 은 프로파일들 (12) 이 웨이브 구조의 형태로 실현되는 금속 스트립 (1') 의 실시형태의 개략도를 도시한다.

Claims (13)

  1. 프로파일링된 (profiled) 금속 스트립들 (1, 1') 의 제조 방법으로서,
    특히 스테인리스 강으로 이루어지고 미리 정의가능한 재료 두께를 갖는 금속 스트립 (1, 1') 이 코일 (4) 에 감기고 또한 수개의 롤들 (2, 3, 2', 3') 을 포함하는 압연 스탠드 (W1 ~ W4; rolling stand) 를 통해 안내되며,
    적어도, 상기 금속 스트립 (1, 1') 과 효과적으로 상호작용하는 롤들 (2, 3) 에는 미리 정의가능한 토포그래피 (8, 9; topography) 가 제공되고, 상기 토포그래피에 의해 250 ㎛ 초과의 프로파일 깊이들을 갖는 프로파일들 (10, 11, 12) 이 상기 롤들 (2, 3) 의 상기 토포그래피 (8, 9) 의 기하학적 형상에 따라 상기 금속 스트립 (1, 1') 의 양면에 형성될 수 있고,
    상기 금속 스트립 (1, 1') 은 상기 금속 스트립의 프로파일링에 후속하여 코일 (5) 에 감기고, 필요하다면, 열적 후처리를 받게 되는 것을 특징으로 하는, 프로파일링된 금속 스트립들 (1, 1') 의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    250 ㎛ 초과의 프로파일 깊이들을 갖는 너브 구조들 (10, 11) 또는 웨이브 구조들 (12) 이 상기 코일 (4) 로부터 풀어지는 상기 금속 스트립 (1, 1') 에서 형성되는 것을 특징으로 하는, 프로파일링된 금속 스트립들 (1, 1') 의 제조 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    적어도 4 개의 롤들 (2, 3, 2', 3'), 특히 6 내지 20 개의 롤들을 갖는 압연 스탠드들 (W1-W4) 이 상기 금속 스트립 (1, 1') 을 프로파일링하기 위해 사용되는 것을 특징으로 하는, 프로파일링된 금속 스트립들 (1, 1') 의 제조 방법.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 한 항에 있어서,
    이하의 주변 조건들 중 적어도 하나가 웨이브 프로파일들 (12) 또는 너브 프로파일들 (10, 11) 에 대해 최대의 재료-의존적인 프로파일 깊이를 달성하기 위하여 실행되는 것을 특징으로 하는, 프로파일링된 금속 스트립들 (1, 1') 의 제조 방법:
    1. 토포그래피 프로파일의 파장이 초기의 판금 두께의 3 배 보다 크다.
    2. 토포그래피 프로파일의 너브/웨이브 정점 (crest) 에서 반지름이 초기의 판금 두께의 0.4 배 보다 크다.
    3. 압연 방향에 평행한 토포그래피 프로파일의 플랭크 (flank) 에서 각도가 30°보다 크다.
    4. 주어진 반지름 및 각도에서, 롤들 (2, 3) 에서의 토포그래피 프로파일의 진폭이 파장의 0.6 배보다 작거나 같다.
    5. 압연될 프로파일링된 판금의 진폭 또는 두께가 압연 하중 (rolling force) 으로 조절된다.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 한 항에 있어서,
    유형 1.4301 의 재료가 스테인리스 강으로 이루어지는 금속 스트립 (1, 1') 에서 사용되고, 압연 작동의 코스 동안 상기 재료의 최대 두께 감소가 최대 45 % 에 달하는 것을 특징으로 하는, 프로파일링된 금속 스트립들 (1, 1') 의 제조 방법.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 한 항에 있어서,
    포지티브 및 네거티브 표면 토포그래피들 (8, 9) 은 상기 금속 스트립 (1, 1') 과 효과적으로 상호작용하는 상기 롤들에서 형성되고, 금속 스트립 재료의 유동을 손상시키지 않으면서 적어도 부분적으로 서로에 맞물려서, 250 ㎛ 초과의, 특히 1000 ㎛ 초과의 새김 (impression) 깊이들이 미리 정의가능한 압연 하중 (F) 에서 실현될 수 있는 것을 특징으로 하는, 프로파일링된 금속 스트립들 (1, 1') 의 제조 방법.
  7. 프로파일링된 금속 스트립들 (1, 1') 의 제조 디바이스로서,
    상기 디바이스는 수개의 롤들 (2, 3, 2', 3') 을 포함하는 압연 스탠드 (W1-W4) 를 특징으로 하고,
    적어도 하나의 상부 롤 (2) 및 적어도 하나의 하부 롤 (3) 은 압력의 영향 하에서 상기 금속 스트립 (1, 1') 의 상부 표면 및 하부 표면과 인접하며,
    상기 금속 스트립 (1, 1') 의 표면들에 인접하는 상기 상부 롤 (2) 및 상기 하부 롤 (3) 에는, 상기 금속 스트립 (1, 1') 에 형성될 250 ㎛ 초과의 프로파일 깊이를 갖는 프로파일 (10, 11, 12) 에 상응하는 포지티브 및 네거티브 토포그래피 (8, 9) 가 제공되는 것을 특징으로 하는, 프로파일링된 금속 스트립들 (1, 1') 의 제조 디바이스.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 롤들 (2, 3) 의 토포그래픽 표면 프로파일들 (8, 9) 은, 서로의 사이에 상기 금속 스트립 (1, 1') 을 안내하면서, 정의된 맞물림 요소로 서로의 내측에 놓이는 것을 특징으로 하는, 프로파일링된 금속 스트립들 (1, 1') 의 제조 디바이스.
  9. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
    롤 토포그래피 (8, 9) 의 파장 (λ) 이 상기 금속 스트립 (1, 1') 의 초기의 판금 두께의 3 배 보다 큰 것을 특징으로 하는, 프로파일링된 금속 스트립들 (1, 1') 의 제조 디바이스.
  10. 제 7 항 내지 제 9 항 중 한 항에 있어서,
    너브/웨브 정점의 반지름 (r) 은 상기 금속 스트립 (1, 1') 의 초기의 판금 두께의 0.4 배 보다 큰 것을 특징으로 하는, 프로파일링된 금속 스트립들 (1, 1') 의 제조 디바이스.
  11. 제 7 항 내지 제 10 항 중 한 항에 있어서,
    상기 압연 방향에 평행한 토포그래피 프로파일 (8, 9) 의 프랭크에서 각도 (α) 는 30°보다 큰 것을 특징으로 하는, 프로파일링된 금속 스트립들 (1, 1') 의 제조 디바이스.
  12. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
    주어진 기하학 (r, α) 에서 상기 롤들 (2, 3) 의 토포그래피 프로파일 (8, 9) 의 진폭이 파장의 0.6 배보다 작거나 같은 것을 특징으로 하는, 프로파일링된 금속 스트립들 (1, 1') 의 제조 디바이스.
  13. 제 7 항 내지 제 12 항 중 한 항에 있어서,
    압연될 상기 금속 스트립 (1, 1') 의 두께는 압연 하중 (F) 으로 조절될 수 있는 것을 특징으로 하는, 프로파일링된 금속 스트립들 (1, 1') 의 제조 디바이스.
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