KR20150045498A

KR20150045498A - 전장처리 가열가공장치

Info

Publication number: KR20150045498A
Application number: KR1020157007211A
Authority: KR
Inventors: 타케히코 아베
Original assignee: 타케히코 아베
Priority date: 2012-08-24
Filing date: 2013-08-26
Publication date: 2015-04-28
Also published as: JP2014042550A; WO2014030762A1; CN104736027B; CN104736027A; TW201416043A; JP5970297B2; TWI604814B; KR101677702B1

Abstract

본 발명은 전장처리 가열가공장치에 있어서 전기적 누설의 방지, 유해물질 발생의 방지, 프라이 시간의 단축, 프라이 식품의 유분 흡수율의 저하, 풍미 성분의 증가 등을 지속적으로 안정화하는 것을 과제로 한다.
기름을 수용하는 기름 불투과성의 바닥 있는 냄비형상 전극 안에 피가공물을 수용하는 기름 투과성의 바닥 있는 수용 전극을 배치하고, 냄비형상 전극을 접지하며, 수용 전극에 교번 고전압이 인가되어, 기름 중에 수용된 피가공물에 교번 고전압 전계를 인가하여 처리·가열을 하는 전장처리 가열가공장치의 냄비형상 전극과 수용 전극 사이에 기름 투과성의 바닥 있는 플로팅 전극을 배치하고, 플로팅 전극을 냄비형상 전극 및 수용 전극과 절연하고, 플로팅 전극은 전기적으로 접속하지 않는다. 수용 전극의 상단에 절연부재를 장착 혹은 절연 도료를 도포하는 것에 의한 절연 가공을 하고, 플로팅 전극의 바닥부와 냄비형상 전극의 바닥부 사이에 복수의 시스 히터를 배치한다.

Description

전장처리 가열가공장치{ELECTRIC FIELD PROCESSING HEAT-PROCESSING DEVICE}

식품 가공 장치로서, 주로 기름을 이용해서 튀김 식품을 제조하는 프라이어(fryer)가 알려져 있다.

본 발명은 프라이어, 특히 식품에 전장처리함으로써 가열 조리를 하는 전장처리 가열가공장치에 관한 것이다.

전장처리 가열 가공에서는 교번 전압을 인가함으로써 생긴 전계로 처리물 내부의 구성분자를 전기력선 방향을 따라 분극시키고, 분극한 구성분자를 반복해서 전기력선 방향으로 배향 정렬시키면서, 구성분자의 배열을 점차 규칙적으로 정렬시켜서 구성분자간에 혼재된 불순물 등을 제거하거나, 혹은 구성분자에 적극적으로 이온 공급을 하고, 동시에 구성분자에 유도전류를 흘림으로써 피처리물에 여러 효과를 부여하여 개질한다.

본 발명자 등에 의한 WO2004/110179호 공보에, 한쪽 전극에 양전위, 다른 쪽 전극에 음전위의 교번 전압을 인가하는 종래의 전장처리 가열가공장치 대신에, 복수개의 전극에 동(同)극성의 교번 전압을 인가해 전계를 발생시키고, 무한 원방(遠方) 공간에 대해서는 이(異)극성이 되는 교번 전압을 인가함으로써 피처리물을 가공하는 전장처리 가열가공장치가 기재되어 있다.

이극성의 교번 전압을 인가해 전계를 발생시키는 종래기술의 전장처리 가열가공장치에 비해, 동극성의 교번 전압을 인가하는 전장처리 가열가공장치는 복수개의 전극에 의해 전계가 균일하게 형성됨으로 인해 피처리물을 효율적으로 처리할 수 있다.

이 전장처리 가열가공장치는 복수의 전극에 동극성의 교번 전압이 인가되어 있으므로, 양전위가 부여된 각 전극으로부터 무한 원방 공간으로 향하는 전기력선, 혹은 그 반대의 무한 원방 공간으로부터 음전위가 부여된 각 전극으로 향하는 전기력선이 각각 피처리물에 중첩되기 때문에, 보다 많은 전기력선이 피처리물을 지난다. 그렇기 때문에, 피처리물은 강력한 전계 내에 놓이게 됨으로써 종래기술에 비해 고전위가 된다.

그리고 인가 교번 전압의 반전과 함께 피처리물은 양의 고전위에서 음의 고전위로, 그리고 음의 고전위에서 양의 고전위로 반전을 반복하면서, 분극한 구성분자 레벨로 교번 배향 정렬을 반복하면서 피처리물의 개질·가열이 실시된다.

이것은 종래기술이 단순히 이극성의 전극간에서 생기는 교번 전계를 이용하는 것에 비해, 고전위로의 교번 배향 정렬이 되어, 피처리물의 개질·가열을 효율적으로 실시할 수 있다.

종래기술에 의한 전장처리 가열가공장치에서는 고전압이 도전성 선반으로부터 피처리물인 식품에 직접 인가되어, 고전압이 인가된 식품과 접지면의 전위차에 의해 개질·가열 처리가 이루어진다. 바꿔 말하면 접지면과 도전성 선반(올려놓인 식품)에는 이극성의 교번 전압이 인가된다.

공급되는 교번 고전압 미(微)전류의 예는 3000~10000V, 10~100mA이다.

도 12에 WO2007/124619(일본국 공표특허공보 2010-512172호)에 기재된 선행기술의 전장처리 가열가공장치를 나타낸다. 이 전장처리 가열가공장치는 앞서 언급한 WO2004/110179호 공보에 제시된 전장처리 가열가공장치를 개량한 것이다.

이 전장처리 가열가공장치는 기름 등의 유전율이 작은 유체를 다룬다.

전장처리 가열가공장치(101)는 열매체 유체를 수용하는 냄비형상 전극(110), 다공 금속판으로 이루어지는 원통 전극(103), 다공 금속판으로 이루어지는 하측 전극(104), 다공 금속판으로 이루어지는 상측 전극(105), 도시하지 않은 전장 형성용 전원장치로 구성된다.

원통 전극(103)은 냄비형상 전극(110)과 접촉하지 않도록 배치되어 있다.

전장 형성용 전원장치는 원통 전극(103), 하측 전극(104), 상측 전극(105)에 동극성의 교번 전압을 인가한다.

냄비형상 전극(110)은 대지(ground)(102)에 접속되어 있다.

냄비형상 전극(110) 안에 기름을 채우고, 식품 등을 하부 전극(104) 및 상부 전극(105)으로 구성되는 전장처리영역(106)에 수용하고, 윗뚜껑 전극(105)을 구동장치(107)를 이용해서 하강시켜 전장처리영역(106)에 존재하는 기름과 피처리물인 식품에 대해 전장을 인가하여 전장처리 가열 가공을 실시한다.

WO 2004/110179 A WO 2007/124619 A

식품을 기름으로 가열 처리하면, 프라이 찌꺼기, 도전성 물질, 극성을 가지는 물질 등이 발생하여, 전장처리 가열가공장치의 접지된 냄비형상 전극의 내벽면에 부착되거나 혹은 연쇄상 물질을 형성하여 전기적 누설상태를 발생시키는 경우가 있다.

본 발명의 제1 과제는 전기적 누설상태의 발생을 방지하는 것이다.

또한 프라이 가공 중에 가수분해 물질, 기름의 열변성 물질, 그들의 복합 중합 생성 물질, 트랜스 지방산 등 유해한 물질이 발생한다.

본 발명의 제2 과제는 이러한 유해한 물질들의 발생 억제, 및 이들의 분해 촉진 등을 지속적으로 안정화하는 것이다.

제3 과제는 프라이 시간의 단축, 프라이 식품의 유분 흡수율의 저하, 풍미(flavour) 성분의 증가 등을 지속적으로 안정화하는 것이다.

이러한 과제들을 해결하기 위해, 이 출원에서는 아래의 구성을 가지는 발명을 제공한다.

(1) 기름을 수용하는 기름 불투과성의 바닥 있는 냄비형상 전극 안에 피(被)가공물을 수용하는 기름 투과성의 바닥 있는 수용 전극이 배치되고, 상기 냄비형상 전극이 접지되며, 상기 수용 전극에 교번 고전압이 인가되어, 기름 중에 수용된 피가공물에 교번 고전압 전계를 인가하여 처리·가열을 하는 전장처리 가열가공장치로서, 상기 냄비형상 전극과 상기 수용 전극 사이에 기름 투과성의 바닥 있는 플로팅 전극(floating electrode)이 배치되고, 상기 플로팅 전극은 상기 냄비형상 전극 및 상기 수용 전극은 절연되며, 상기 플로팅 전극은 전기적으로 접속되어 있지 않은 전장처리 가열가공장치.

(2) 수용 전극의 상단에 절연부재를 장착 혹은 절연 도료를 도포하는 것에 의한 절연 가공이 되어 있는 전장처리 가열가공장치.

(3) 플로팅 전극의 측벽에 절연부재가 마련되고, 절연부재에 통전(通電)부재가 삽입 통과되어, 통전부재에 의해 상기 수용 전극에 통전되는 전장처리 가열가공장치.

(4) 플로팅 전극의 바닥부와 냄비형상 전극의 바닥부 사이에 복수의 시스 히터(sheath heater)가 배치되어 있는 전장처리 가열가공장치.

(5) 수용 전극의 형상은 뚜껑이 있고, 바닥이 있으며, 전주벽(全周壁)을 가지는 직사각형, 또는 다각형 혹은 원통 혹은 대략 반구(半球) 등이다.

(6) 냄비형상 전극, 플로팅 전극 및 수용 전극의 뚜껑은 서로 절연부재로 절연된 연결재로 연결되어 있다.

본 발명에 따른 전장처리 가열가공장치에서 플로팅 전극은 수용 전극에 대해 지속적이고도 규칙적으로 이극(異極)을 나타내게 된다. 따라서, 동극성의 고전압 미약전류가 인가되는 수용 전극 내의 기름과 프라이 식품의 계면에는 동전면(動電面)이 규칙적 지속적으로 형성되고, 또한 양쪽 전극간에서 지속적, 규칙적인 전하의 교환 이동도 발생한다. 나아가, 수용 전극의 전주벽의 선단부에서 플로팅 전극의 뚜껑부를 향한 방전도 억제하게 된다.

본 발명에 따른 전장처리 가열가공장치는 수용 전극 뚜껑의 외측면과 기름면(油面)을 대략 동일한 레벨로 사용함으로써 수용 전극 내에서 생기는 부유하는 프라이 찌꺼기, 도전성 물질, 극성을 가지는 물질 등은 수용 전극 내에 머물러 분극 유기 결합에 의해 비중 증가하고, 침전 하강 물질화, 혹은 증발 활성 물질화된다. 또한 플로팅 전극, 냄비형상 전극의 전주벽면으로의 이동 부착, 연쇄상 등의 형성도 속단(速斷)되어 전기적 누설상태를 억제할 수 있다. 나아가, 전계강도의 안정은 프라이 식품 내부의 전자 축적량도 안정시킨다.

본 발명에 따른 전장처리 가열가공장치에 의하면, 극성 화합 물질은 분극 응집 침전 강하 물질화되고, 수분·휘발성 물질 등은 증발 활성화가 촉진되어 수용 전극 내부, 즉 전장처리영역에 더해서, 프라이 영역 내의 기름은 안정 제어되어 프라이 식품에 대한 전장처리 효과도 고효율화된다.

본 발명에 따른 전장처리 가열가공장치에서는 프라이 스피드가 25% 단축되고, 글루타민산이 1.2배 증가하고, 산화물이 7.1%, 과산화물이 10.7%, 트랜스 지방산이 10%, 유분 흡수율이 20% 감소하며, TMP 17.5% 이하에서는 사용시간을 2.2배 연장시킬 수 있다.

도 1은 본 발명의 전장처리 가열가공장치의 정면 단면도이다.
도 2는 본 발명의 전장처리 가열가공장치의 우측 단면도이다.
도 3은 본 발명의 전장처리 가열가공장치의 평면도이다.
도 4는 본 발명의 전장처리 가열가공장치의 냄비형상 전극의 정면 단면도이다.
도 5는 본 발명의 전장처리 가열가공장치의 냄비형상 전극의 우측 단면도이다.
도 6은 본 발명의 전장처리 가열가공장치의 수용 전극의 사시도이다.
도 7은 본 발명의 전장처리 가열가공장치의 플로팅 전극의 사시도이다.
도 8은 본 발명의 전장처리 가열가공장치의 급전부의 확대 단면도이다.
도 9는 본 발명의 전장처리 가열가공장치의 급전부의 확대 평면도이다.
도 10은 본 발명의 전장처리 가열가공장치의 급전부의 확대 측면도이다.
도 11은 본 발명의 전장처리 가열가공장치에서 사용하는 전원 회로이다.
도 12는 선행기술의 전장처리 가열가공장치의 측면 단면도이다.

이하, 도면을 참조해서 본 발명의 실시예를 설명한다.

본 실시예에 기술되어 있는 구성은 특별히 특정적 기술이 없는 한, 본 발명의 실시예의 범위를 그것에만 한정하는 취지는 아니다.

도 1에 본 발명의 전장처리 가열가공장치의 정면 단면도를, 도 2에 우측면 단면도를 나타낸다.

전장처리 가열가공장치(1)는 냄비형상 전극(6)에 수용 전극(2)이 수납되고, 냄비형상 전극(6)과 수용 전극(2) 사이에 플로팅 전극(3)이 수납된 3중 구조로 되어 있다.

62는 복수의 시스 히터(42(A~P))를 가열 제어하는 장치에 더해, 수용 전극(2)에 교번 고전압 미약전류를 공급함과 아울러 시스 히터(42)에 가열 전류를 공급하고, 그들 전체를 제어하는 장치 등을 수용하는 기계실이다.

기름을 수용하는 냄비형상 전극(6)은 기름 불투과성의 금속판으로 이루어지는 4장의 측벽판과 깔때기형상으로 형성된 기름 불투과성의 금속판으로 이루어지는 바닥판으로 구성되며, 상부에 윗뚜껑(51)이 힌지를 통해 장착되고, 전체가 거의 직육면체형상으로 되어 있다. 바닥판의 가장 바닥부에 수용되어 있던 기름을 배출하는 드레인 콕(drain cock)(54A)이 마련되어 있다.

수용 전극(2)은 금속망 혹은 금속격자로 이루어지는 4장의 기름 투과성 측벽판 및 금속망 혹은 금속격자로 이루어지는 기름 투과성의 바닥판(2)으로 구성되며, 상부에 중(中)뚜껑(07)이 힌지를 통해 장착되어 전체가 거의 직육면체형상으로 되어 있다.

플로팅 전극(3)은 4장의 금속망 혹은 금속격자로 이루어지는 기름 투과성의 측벽판 및 금속망 혹은 금속격자로 이루어지는 기름 투과성의 금속판으로 이루어지는 바닥판(11)으로 구성되며, 상부에 중뚜껑(16)이 힌지를 통해 장착되어 전체가 거의 직육면체형상으로 되어 있다.

냄비형상 전극(6), 수용 전극(2) 및 플로팅 전극(3)의 형상은 직육면체형상에 한정되지 않으며 다각통, 원통 혹은 반구 등으로 할 수도 있다.

수용 전극(2)과 플로팅 전극(3) 사이에 복수의 절연 스페이서(08)가 배치되고, 플로팅 전극(3)과 냄비형상 전극(6) 사이에 복수의 절연 스페이서(17)가 배치되며, 수용 전극(2)과 플로팅 전극(3), 플로팅 전극(3)과 냄비형상 전극(6)은 서로 절연되어 있다.

복수의 시스 히터(42)는 플로팅 전극(3)의 바닥판과 냄비형상 전극(6)의 바닥판 사이에 배치되어 있다.

냄비형상 전극(6)의 윗뚜껑(51)과 플로팅 전극(3)의 중뚜껑(16)이 절연부재를 통해 선형상 연결부재로 연결되고, 플로팅 전극(3)의 중뚜껑과 수용 전극(2)의 내(內)뚜껑이 절연부재를 통해 선형상 연결부재로 연결되어 있으며, 냄비형상 전극(6)의 윗뚜껑(51)의 힌지가 장착된 단부(端部)와 반대측의 단부에 절연성 부재로 이루어지는 손잡이가 마련되어 있다.

손잡이를 끌어올리면, 타단(他端)의 힌지를 지점(支點)으로 해서 윗뚜껑(51)이 회전해서 들어올려지고, 윗뚜껑(51)과 선형상 연결부재(57)로 연결된 플로팅 전극(3)의 중뚜껑(16)이 힌지를 지점으로 해서 회전해서 들어올려지며, 중뚜껑(16)과 선형상 연결부재(55)로 연결된 수용 전극(2)의 내뚜껑(07)이 힌지를 지점으로 해서 회전해서 들어올려진다.

이것에 의해, 손잡이(60)로 윗뚜껑(51)을 개폐하면 중뚜껑(16) 및 내뚜껑(07)은 도 2에 51A, 16A, 07A로 나타낸 바와 같이 연동해서 개폐된다.

냄비형상 전극(6)과 플로팅 전극(3) 사이에 배치한 시스 히터(42)는 상하 구동 회전부의 핸들을 이용해서 상하로 구동한다. 이렇게 함으로써, 냄비형상 전극(6)의 내부를 세정할 수 있다.

냄비형상 전극(6)의 측벽 중 하나에 통전용 부재(5)가 장착되고, 플로팅 전극(3)의 측벽 중 하나에 통전용 절연부재(4)가 끼워지고, 수용 전극(2)의 측벽 중 하나에 통전부재(4)가 접속되어 있다.

수용 전극(2)과 플로팅 전극(3) 사이에 배치된 복수의 절연 스페이서(08), 플로팅 전극(3)과 냄비형상 전극(6) 사이에 배치된 복수의 절연 스페이서(17)는 기계실(62)에 수납된 변압기로부터 수용 전극(2)과 플로팅 전극(3)에 동극성의 교번 고전압 미약전류를 통전되는 전위에 대략 적합한 틈을 유지하는 스페이서로서 기능한다.

기계실(62)은 복수의 시스 히터(42(A~P))를 가열 제어하는 장치에 더해서, 수용 전극(2)에 동극성의 교번 고전압 미약전류를 공급하는 변압기 및 제어장치 등을 수납한다.

교번 고전압 미약전류는 냄비형상 전극(6)에 마련된 통전용 부재(5) 및 플로팅 전극(3)에 마련된 통전 공급부(4)를 경유해서 수용 전극(2)에 공급된다.

냄비형상 전극(6)은 50으로 접지되어 있다.

수용 전극(2)의 도전성 금속(03A, 03B, 03C, 03D)의 기름면으로부터 노출되는 부분(9A, 9B, 9C, 9D)에는 절연부재가 장착되거나 혹은 절연 시공이 되어 있다.

25는 수용 전극(2)의 받이 금구(receiving metal fitting)이고, 59는 기름면이다.

도 3에 전장처리 가열가공장치(1)의 내부 구성을 평면도로 나타낸다.

도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 전장처리 가열가공장치(1)는 4장의 금속판으로 형성된 냄비형상 전극(6)에 4장의 금속망 혹은 금속격자로 형성된 플로팅 전극(3)이 수납되고, 플로팅 전극(3)이 금속망 혹은 금속격자로 이루어지는 수용 전극(2)이 수납되며, 냄비형상 전극(6)과 플로팅 전극(3)은 절연 스페이서(17)에 의해 절연되고, 플로팅 전극(3)과 수용 전극(2)은 절연 스페이서(8)에 의해 절연되어 있다.

42는 복수의 시스 히터이고, 54B는 시스 히터를 상하시킬 때 사용하는 핸들이다.

도 4에 냄비형상 전극(6)의 정면도를, 도 5에 우측면도를 나타낸다.

냄비형상 전극(6)은 금속판(41A, 41B, 41C, 41D)과 깔때기형상으로 형성된 바닥판(52)으로 구성되고, 바닥판(52)의 가장 바닥부에 수납되어 있는 기름을 배출하기 위한 드레인 콕(54A)이 마련되며, 금속판(41A)에 힌지(61)를 통해 윗뚜껑(51)이 장착되어 있다.

본 발명의 전장처리 가열가공장치를 사용할 때는 냄비형상 전극(6) 드레인 콕(54A)을 닫은 상태로 59로 표시한 위치까지 기름이 수용되며, 사용이 끝난 기름은 드레인 콕(54A)을 개방해서 배출한다.

도 6에 플로팅 전극(3)의 사시도를 나타낸다.

플로팅 전극(3)의 전체 형상은 직육면체이며, 다공상 혹은 그물코상의 도전성 금속(12A, 12B, 12C, 12D)과 금속망 혹은 금속격자로 이루어지는 바닥판(11) 및 도전성 금속(12A)에 힌지(14, 15)를 통해 장착된 중뚜껑(16)으로 구성되어 있다.

여기에 나타낸 예는 중뚜껑(16)이 열린 상태이다.

플로팅 전극(3)의 바닥부에는 절연 스페이서(17)가 배치되고, 플로팅 전극(3)은 절연 스페이서(17)에 의해 냄비형상 전극(6)으로부터 절연되어 있다.

냄비형상 전극(6)과 플로팅 전극(3) 사이는 공극에 의해 떨어져 있다.

플로팅 전극(3)은 어디에도 전기적으로 접속되어 있지 않다. 그렇기 때문에, 전장처리 가열가공장치를 사용하고 있을 때에 플로팅 전극(3)은 전기적으로 떠 있다.

4는 플로팅 전극(3)에 수납되는 수용 전극(2)에 교번 고전압 미약전류를 공급하기 위한 통전 공급부이며, 플로팅 전극(3)과는 절연되어 있다.

도 7에 수용 전극(2)의 사시도를 나타낸다.

수용 전극(2)의 전체 형상은 직육면체이며, 다공상 혹은 그물코상의 도전성 금속(3A, 3B, 3C, 3D)과 금속망 혹은 금속격자로 이루어지는 바닥판(21) 및 도전성 금속(3A)에 힌지(5, 6)를 통해 장착된 내뚜껑(7)으로 구성되어 있다.

여기에 나타낸 예는 내뚜껑(7)이 열린 상태이다.

수용 전극(2)의 바닥부에는 절연 스페이서(8)가 배치되고, 수용 전극(2)은 절연 스페이서(8)에 의해 플로팅 전극(3)으로부터 절연되어 있다.

또한 도전성 금속(3A, 3B, 3C, 3D)의 기름면으로부터 노출되는 부분(9A, 9B, 9C, 9D)에는 절연부재를 장착 혹은 절연 도료를 도포하는 등의 절연 시공이 되어 있다.

수용 전극(2)에는 플로팅 전극(3)에 마련된 통전 공급부(4)를 경유해서 교번 고전압 미약전류가 공급된다.

도 8~도 10에 의해 급전부의 구성을 설명한다.

도 8은 도 2의 급전부 부근을 확대해서 나타낸 것이다.

플로팅 전극(3)에 장착되어, 수용 전극(2)에 동극성의 교번 고전압 미약전류를 통전하는 통전부재(4)는 냄비형상 전극(6)의 안쪽 벽면(41A)에 배치된 받이부재(receiving member)의 받이 금구에 꽂아넣는 도전성 금속으로 이루어지는 꽂음부(21)를 폴리테트라플루오로에틸렌 혹은 고온 소결 세라믹 등을 가공한 나사식 오목형 부재(23)와 나사식 볼록형 부재(24)를 조합하여, 나사식 오목형 부재(23)와 나사식 볼록형 부재(24)의 심부(芯部;core part)를 도전성 금속인 꽂음부(21)의 심부 통과부를 절연 피복(22)하여 통과시키고, 또한 오목형 부재(23)와 볼록형 부재(24)는 플로팅 전극(3)의 이전 항(項)의 다공상 혹은 그물코상의 도전성 금속(12A)을 끼우는 형태로 장착된다.

또한 절연 피복부(22)의 선단은 오목형 부재(23)의 선단에서 수용 전극(2)의 안쪽 벽(03A)에 통전하기 위한 도전성 금속으로 이루어지는 받이 금구(25)가 고정 장착(26)되고, 아울러 수용 전극 받이 금구(25)의 선단부에는 수용 전극(2)의 바닥부(02)를 고정하는 클로우(claw)형상 금구(27)가 마련되어 있다.

이렇게 해서, 기계실(62)에 수납된 변압기로부터의 동극성의 고전압 미약전류를 수용 전극(2)의 안쪽 벽(03A)을 통해 수용 전극(2)에 인가한다.

도 9에 도 8에 나타낸 급전부의 평면도를 나타낸다.

플로팅 전극(3)에 장착된 통전부재(4)의 접속 받이 부재(5)는 외부에 설치된 기계실(62)에 수납된 변압기로부터의 내압 통전 피복선(31)이 냄비형상 전극(6)의 안쪽 벽면(41A)을 관통하고, 또한 절연부재(32, 33)를 관통하여, 받이 금구(35)에 선단(39)이 고정되고, 안쪽 벽면(41A)의 관통 부분(38)은 실드 고정된다. 접속 받이 부재(5)의 받이 금구(35)는 절연부재(36A, 36B)로 양측에서 복수의 절연 나사(37)로 절연부재(33)에 끼워넣는 형태로 고정된다. 절연부재(32, 33)는 복수의 절연 나사(34)로 냄비형상 전극(6)의 안쪽 벽면(41A)에 고정되어 있다.

도 10에 도 8 및 도 9에 나타낸 급전부의 측면도를 나타낸다.

접속 받이 부재(5)는 도전성 금속으로 이루어지며 대지(50)에 접속되는 냄비형상 전극(6)의 안쪽 벽면(41A)의 대략 중앙부에서, 또 냄비형상 전극(6)의 안쪽 벽면(41A)의 상측에 마련된 시스 히터(42)의 상하 구동 회전부(43)에 장착된 복수의 상하 구동식 시스 히터(42)의 배열 틈새에 포켓 형태의 꽂기 받이부(35)를 중심부에 마련한 받이 금구(35)의 양측을 절연부재(36A, 36B)와 복수의 절연 나사(37)로 억제하여 고정된다.

도 11에 본 발명의 전장처리 가열가공장치에서 사용하는 전원회로를 나타낸다.

수용 전극(2)에 통전하는 변압기(60)는 상용 주파수의 전원(65)을 이용해서 2차측의 일극(一極)에 저항기(66)를 개장(介裝)하여 선단을 다른 일극(67)에 접속하고, 내압선(68)에 의해 도 8에서 설명한 접속 받이부재(5)에 접속된다. 1차측에는 전원 스위치(70)와 퓨즈가 접속된다. 71은 동작 표시등이다. 또 72는 도 1 및 도 2에서 설명한 접지 전극의 뚜껑(51) 개폐와 연동되는 스위치이며, 73은 진동정지 고온정지 장치와 연동되는 스위치이며, 74는 가동등이다.

공급되는 교번 고전압 미약전류는 일례로서 3000~10000V, 10~100mA이다.

본 사업의 산업화에 관해, 기술의 제품화는 제조설비와 기술은 종래설비와 종래기술의 재이용으로 충분히 전개할 수 있으며, 또한 기초적 연구도 불필요하다고 인정되며,

제품판매의 경제적 효과로는, 본 발명의 전장처리 가열가공장치에 의한 경제적 효과로는 작업시간의 단축, 생산원가의 저감, 대체 가공에 의한 신제품 생산 등의 산업상 효과가 있다. 또한 기름자원의 소비 절감, 폐유 등의 배출량 절감, 작업환경의 개선 등, 사회적 효과로는 인체의 유분 섭취량, 트랜스 지방산의 섭취량 등 절감에 따른 생활 습관병의 발생 진행 억제 등 환경 위생상의 효과가 얻어진다.

1: 전장처리 가열가공장치
2: 전극
3A, 3B, 3C, 3D: 수용 전극의 측벽
02: 수용 전극의 바닥
07: 수용 전극의 내뚜껑
3: 플로팅 전극
12A, 12B, 12C, 12D: 플로팅 전극의 측벽
16, 16A: 플로팅 전극의 중뚜껑
4: 급전부재
5: 접속 받이부
6: 냄비형상 전극
41A, 41B, 41C, 41D: 냄비형상 전극의 측벽
51, 51A: 냄비형상 전극의 외(外)뚜껑
52: 냄비형상 전극의 바닥
08, 17: 절연 스페이서
5, 6, 14, 15: 힌지
54A: 드레인 콕
9A, 9B, 9C, 9D: 수용 전극 상부의 절연 부분
42: 시스 히터
50: 대지
62: 기계실
59: 기름면(油面)

Claims

기름을 수용하는 기름 불투과성의 바닥 있는 냄비형상 전극 안에 피(被)가공물을 수용하는 기름 투과성의 바닥 있는 수용 전극이 배치되고,
상기 냄비형상 전극이 접지되며,
상기 수용 전극에 교번 고전압이 인가되어,
기름 중에 수용된 피가공물에 교번 고전압 전계를 인가하여 처리·가열을 하는 전장처리 가열가공장치로서,
상기 냄비형상 전극과 상기 수용 전극 사이에 기름 투과성의 바닥 있는 플로팅 전극이 배치되고,
상기 플로팅 전극은 상기 냄비형상 전극 및 상기 수용 전극은 절연되고,
상기 플로팅 전극은 전기적으로 접속되어 있지 않은 것을 특징으로 하는 전장처리 가열가공장치.
제1항에 있어서,
상기 수용 전극의 상단에 절연부재를 장착 혹은 절연 도료를 도포하는 것에 의한 절연 가공이 되어 있는 것을 특징으로 하는 전장처리 가열가공장치.
제1항에 있어서,
상기 플로팅 전극의 측벽에 절연부재가 마련되고,
상기 절연부재에 통전(通電)부재가 삽입 통과되며,
상기 통전부재에 의해 상기 수용에 통전되는 것을 특징으로 하는 전장처리 가열가공장치.
제1항에 있어서,
상기 플로팅 전극의 바닥부와 상기 냄비형상 전극의 바닥부 사이에 복수의 시스 히터가 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 전장처리 가열가공장치.