KR20140088607A - 중합성 조성물, 중합물, 화상 표시 장치 및 그 제조 방법 - Google Patents

중합성 조성물, 중합물, 화상 표시 장치 및 그 제조 방법 Download PDF

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Abstract

화상 표시 장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재시키는 투명 광학 수지층을 형성하기 위한 중합성 조성물에 있어서, 화상 표시부의 번형에 기인하는 표시불량을 발생시키지 않고, 고휘도 및 고콘트라스트의 화상 표시를 가능하게 하고 또한 내열성이 양호하며, 또한 유전율이 낮은 중합성 조성물을 제공한다. 본 발명의 중합성 조성물은 (1) 수소첨가 폴리올레핀 폴리올과, 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 반응시켜서 얻어지는 우레탄(메타)아크릴레이트, (2) 탄소수 6이상의 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물, 및 (3) 광중합 개시제를 포함한다.

Description

중합성 조성물, 중합물, 화상 표시 장치 및 그 제조 방법{POLYMERIZABLE COMPOSITION, POLYMER, IMAGE DISPLAY DEVICE, AND METHOD FOR PRODUCING SAME}
본 발명은 예를 들면 스마트폰이나 태블릿 PC 등에 사용되는 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 사용되는 중합성 조성물, 상기 조성물을 중합해서 얻어지는 중합물, 상기 조성물을 사용한 화상 표시 장치의 제조 방법 및 그 제조 방법에 의해 제조된 화상 표시 장치에 관한 것이다.
현재, 스마트폰이나 태블릿 PC에서는 터치패널을 사용한 조작이 일반적으로 되어 있다. 이 터치패널은 표시 화면도 겸하고 있으며, 그러한 화상 표시 장치의 구조는 표면으로부터 순서대로 투광성의 보호부/터치 센서/LCD, 유기 EL 등의 화상 표시부라는 층구조로 되어 있는 것이 일반적이다. 이 층구조에 대해서 각 층의 보호 및 층간에서의 광의 반사, 산란을 방지할 목적으로 모든 층간 또는 일부의 층간에 투명 광학 수지층을 개재시키는 것이 일반적이다. 또한, 최근에서는 화상 표시 장치의 박형화를 위해서 터치 센서를 투광성의 보호부와 일체화한 화상 표시 장치가 시판되어 주목받고 있다.
그러한 화상 표시 장치의 대표적인 예인 화상 표시 장치의 층구조를 도 1 및 도 2에 나타낸다. 도 1의 화상 표시 장치(101)는 손가락이 접촉하는 투광성의 보호부(103)와 터치 센서(104) 사이와, 터치 센서(104)와 화상 표시부(105) 사이에 투명 광학 수지층(106)이 개재한다(전자를 투명 광학 수지층(106a), 후자를 투명 광학 수지층(106b)이라고 한다. 또한, 이 양자는 투명 광학 수지층(106)에 포함된다.). 또한, 도 2의 화상 표시 장치(102)는 박형화를 위해서 투광성의 보호부(103) 하면에 터치 센서(104)가 일체화되어 있고, 투명 광학 수지층(106)은 터치 센서(104)와 화상 표시부(105) 사이에 개재한다. 화상 표시 장치(101)의 투명 광학 수지층(106b) 및 화상 표시 장치(102)의 투명 광학 수지층(106)에 있어서는 손가락의 접촉에 의한 정전 용량 변화로 화상 표시부(105)가 오동작을 일으키는 것을 방지하기 위해서 유전율이 낮은 것이 요구된다.
그러한 시장의 요구에 대하여 예를 들면, 특허문헌 1이나 특허문헌 2에 폴리우레탄아크릴레이트 또는 폴리이소프렌 중합물의 무수 말레산 부가물과 2-히드록시에틸메타크릴레이트의 에스테르화물을 사용한 중합성 조성물이 개시되어 있다.
그러나, 폴리우레탄아크릴레이트를 사용한 경화성 조성물의 경화시의 체적 수축률은 커서(4.0%보다 크다) 응력에 의해 액정 표시 패널의 액정을 협지하는 광학 유리에 변형이 발생하여 액정 재료의 배향 흐트러짐 등의 표시 불량의 원인으로 되고 있다. 폴리이소프렌 중합물의 무수 말레산 부가물과 2-히드록시에틸메타크릴레이트의 에스테르화물을 사용한 경화성 조성물은 경화시의 체적 수축률이 작고, 유전율도 낮지만, 경화한 경화물의 내열 착색성이 커진다는 문제점을 갖고 있었다.
또, 특허문헌 3 및 4에는 2-히드록시에틸아크릴레이트, 수소첨가 폴리부타디엔디올 및 톨릴렌디이소시아네이트를 수산기/이소시아네이트기＞1의 배합비로 반응시켜서 얻어진 반응 혼합물 및 광중합 개시제를 함유하는 광경화성 방습 절연 도료가 개시되어 있다. 그러나, 투명 광학 수지에 관한 기재는 없고, 또한 그 유전율에 관한 기재도 없다.
일본 특허 공개 2008-282000호 공보 일본 특허 공개 2009-186958호 공보 일본 특허 공개 2008-291114호 공보 일본 특허 공개 2008-303362호 공보
본 발명은 상기 종래 기술이 갖는 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 화상 표시부의 변형에 기인하는 표시 불량을 발생시키지 않고 고휘도 및 고콘트라스트의 화상 표시를 가능하게 하고, 또한 내열성이 양호하며, 유전율이 더 낮은 박형의 화상 표시 장치를 제공하기 위한 중합성 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 이 중합성 조성물을 30∼300㎛의 두께로 도포하고, 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 상기 조성물에 조사하고, 중합시킴으로써 얻어지는 광학용 점착 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 이 중합성 조성물, 또는 그것을 중합시킴으로써 얻어지는 광학용 점착 시트를 사용한 화상 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 이 중합성 조성물을 사용한 화상 표시 장치의 제조 방법에 의해 제조된 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 이 중합성 조성물을 중합시킴으로써 얻어지는 광학용 점착 시트를 사용한 화상 표시 장치의 제조 방법에 의해 제조된 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 연구를 거듭한 결과, 특정 구조를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물을 포함하는 광중합성 조성물은 중합시의 체적 수축률은 작고 또한 중합에 의해 얻어진 중합물의 내열착색성이 작아지고, 또한 유전율이 낮아지는 것을 찾아내어 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명(I)은 화상 표시 장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재시키는 투명 광학 수지층을 형성하기 위한 중합성 조성물로서, 상기 중합성 조성물은,
(1) 수소첨가 폴리올레핀 폴리올과, 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 반응시켜서 얻어지는 우레탄(메타)아크릴레이트,
(2) 탄소수 6이상의 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물, 및
(3) 광중합 개시제를 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물에 관한 것이다.
본 발명(II)은 본 발명(I)의 중합성 조성물을 중합시켜서 얻어지는 중합물에 관한 것이다.
본 발명(III)은 화상 표시 장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재시키는 투명 광학 수지층으로서 사용되는 중합물로서, 23℃, 주파수 100kHz, 인가 전압 100mV의 조건하에서의 상기 중합물의 유전율이 3.0이하이며 또한 2매의 유리 사이에 존재하는 200㎛ 두께로 조정된 상기 중합물의 95℃에서 500시간의 조건으로 보존한 후의 JIS Z 8729에 기재된 색좌표 b*값이 1.0미만인 것을 특징으로 하는 중합물에 관한 것이다.
본 발명(IV)은 화상 표시부를 갖는 기부와, 투광성의 보호부와, 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재하는 투명 광학 수지층을 포함하는 화상 표시 장치의 제조 방법으로서, 상기 방법은,
본 발명(I)의 중합성 조성물을 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재시키는 공정, 및
광중합 개시제가 감광 가능한 광을 상기 중합성 조성물에 조사해서 투명 광학 수지층을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명(V)은 화상 표시부를 갖는 기부와, 투광성의 보호부와, 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재하는 투명 광학 수지층을 포함하는 화상 표시 장치의 제조 방법으로서, 상기 방법은,
본 발명(III)의 중합물을 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재시키는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명(VI)은 본 발명(I)의 중합성 조성물을 30∼300㎛의 두께로 도포하고, 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 상기 조성물에 조사하고, 중합시킴으로써 얻어지는 광학용 점착 시트에 관한 것이다.
본 발명(VII)은 화상 표시 장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재시키는 투명 광학 수지층으로서 사용되는 광학용 점착 시트로서, 23℃, 주파수 100kHz, 인가 전압 100mV의 조건하에서의 상기 광학용 점착 시트의 유전율이 3.0이하이며 또한 2매의 유리 사이에 존재하는 200㎛ 두께로 조정된 상기 중합물의 95℃에서 500시간의 조건으로 보존한 후의 JIS Z 8729에 기재된 색좌표 b*값이 1.0미만인 것을 특징으로 하는 광학용 점착 시트에 관한 것이다.
본 발명(VIII)은 화상 표시부를 갖는 기부와, 투광성의 보호부와, 상기 기부와 상기 보호부와 사이에 개재하는 투명 광학 수지층을 포함하는 화상 표시 장치의 제조 방법이며, 상기 방법은,
본 발명(VI) 또는 (VII)의 광학용 점착 시트를 사용해서 상기 기부와 상기 보호부를 접합하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명(IX)은 본 발명(IV), (V) 또는 (VIII)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 의해 제조된 화상 표시 장치에 관한 것이다.
다시 말하면, 본 발명은 이하의 [1]∼[14]에 관한 것이다.
[1]화상 표시 장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재시키는 투명 광학 수지층을 형성하기 위한 중합성 조성물로서, 그 중합성 조성물은,
(1) 수소첨가 폴리올레핀 폴리올과, 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 반응시켜서 얻어지는 우레탄(메타)아크릴레이트,
(2) 탄소수 6이상의 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물, 및
(3) 광중합 개시제를 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물.
[2] [1]에 있어서, (4) 수소첨가 석유 수지, 테르펜계 수소첨가 수지, 수소첨가 로진 에스테르, 및 수소첨가 폴리올레핀으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물.
[3] [1] 또는 [2]에 있어서, (5) 알콜성 수산기를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물.
[4] [1]∼[3] 중 어느 하나에 있어서, (6)수소첨가 폴리올레핀 폴리올을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물.
[5] [1]∼[4] 중 어느 하나에 있어서, (7)비수소첨가 폴리올레핀을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물.
[6] [1]∼[5] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 중합시켜서 얻어지는 중합물.
[7] 화상 표시 장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재시키는 투명 광학 수지층으로서 사용되는 중합물로서, 23℃, 주파수 100kHz, 인가 전압 100mV의 조건하에서의 상기 중합물의 유전율이 3.0이하이며 또한 2매의 유리 사이에 존재하는 200㎛ 두께로 조정된 상기 중합물의 95℃에서 500시간의 조건으로 보존한 후의 JIS Z 8729에 기재된 색좌표 b*값이 1.0미만인 것을 특징으로 하는 중합물.
[8] 화상 표시부를 갖는 기부와, 투광성의 보호부와, 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재하는 투명 광학 수지층을 포함하는 화상 표시 장치의 제조 방법으로서, 상기 방법은,
[1]∼[5] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재시키는 공정, 및
광중합 개시제가 감광 가능한 광을 상기 중합성 조성물에 조사해서 투명 광학 수지층을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[9] 화상 표시부를 갖는 기부와, 투광성의 보호부와, 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재하는 투명 광학 수지층을 포함하는 화상 표시 장치의 제조 방법으로서, 상기 방법은,
[7]에 기재된 중합물을 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재시키는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[10] 화상 표시 장치의 화상 표시부와, 투광성의 보호부 사이에 개재시키는 투명 광학 수지층으로서 사용되는 광학용 점착 시트를 제조하기 위한 중합성 조성물로서, 상기 중합성 조성물은 [1]∼[5] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물인 것을 특징으로 하는 중합성 조성물.
[11] [10]에 기재된 중합성 조성물을 30∼300㎛의 두께로 도포하고, 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 상기 조성물에 조사해서 중합시킴으로써 얻어지는 광학용 점착 시트.
[12] 화상 표시 장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재시키는 투명 광학 수지층으로서 사용되는 광학용 점착 시트로서, 23℃, 주파수 100kHz, 인가 전압 100mV의 조건하에서의 상기 광학용 점착 시트의 유전율이 3.0이하이며 또한 2매의 유리 사이에 존재하는 200㎛ 두께로 조정된 상기 중합물의 95℃에서 500시간의 조건으로 보존한 후의 JIS Z 8729에 기재된 색좌표 b*값이 1.0미만인 것을 특징으로 하는 광학용 점착 시트.
[13] 화상 표시부를 갖는 기부와, 투광성의 보호부와, 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재하는 투명 광학 수지층을 포함하는 화상 표시 장치의 제조 방법으로서, 상기 방법은,
[11] 또는 [12]에 기재된 광학용 점착 시트를 사용해서 상기 기부와 상기 보호부를 접합하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[14] [8], [9] 및 [13] 중 어느 하나에 기재된 화상 표시 장치의 제조 방법에 의해 제조된 화상 표시 장치.
(발명의 효과)
본 발명의 중합성 조성물에 의하면, 그것을 화상 표시 장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재시켜서 중합시켰을 때의 체적 수축에 의한 응력을 최소한으로 억제할 수 있으므로, 이 응력의 화상 표시부와 보호부에 대한 영향도 최소한으로 억제할 수 있다. 따라서, 본 발명의 화상 표시 장치에 의하면, 화상 표시부 및 보호부에 있어서 변형이 거의 발생하지 않는다.
또한, 본 발명의 중합물은 그 굴절율이 화상 표시부의 구성 패널이나 보호부의 구성 패널의 굴절율에 가까워 보호부와 중합물의 계면이나 중합물과 화상 표시부의 계면에서의 광의 반사가 억제된다.
또한, 본 발명의 중합물은 그 유전율이 낮아 손가락의 보호부에의 접촉에 의한 정전 용량 변화를 작게 할 수 있어 화상 표시부의 오작동이 억제된다.
이상의 결과, 본 발명의 화상 표시 장치에 의하면, 표시 불량이 없는 고휘도 및 고콘트라스트 표시가 가능하게 된다.
또한, 본 발명의 화상 표시 장치에 의하면, 화상 표시부와 보호부 사이에 중합물이 개재하므로, 충격에 강해진다.
또한, 본 발명의 중합물은 내열착색성이 양호하므로, 고휘도 및 고콘트라스트 표시를 장시간 지속시키는 것이 가능하다.
또한, 본 발명에 의하면, 터치 센서와 보호부를 일체화한 박형이며 또한 리워크시 비용이 낮은 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명에 의한 화상 표시 장치의 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명에 의한 화상 표시 장치의 다른 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명한다.
또한, 본 명세서에 있어서의 「(메타)아크릴로일기」란 아크릴로일기 및/또는 메타크릴로일기를 의미한다.
또한, 본 명세서에 기재된 「수소첨가 폴리올레핀 폴리올로부터 유도된 구조단위」란 폴리올레핀을 수소 환원한 구조를 갖고 또한 1분자 중에 2개이상의 알콜성 수산기를 갖는 화합물로부터 적어도 1개의 알콜성 수산기의 H를 제외한 구조를 의미한다.
우선, 본 발명(I)에 대해서 설명한다.
본 발명(I)은 상 표시 장치 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재시키는 투명 광학 수지층을 형성하기 위한 중합성 조성물로서, 상기 중합성 조성물은 하기 성분(1), (2) 및 (3)을 필수성분으로서 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물이다.
성분(1) 수소첨가 폴리올레핀 폴리올과, 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 반응시켜서 얻어지는 우레탄(메타)아크릴레이트
성분(2) 탄소수 6이상의 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물
성분(3) 광중합 개시제
우선, 본 발명(I)의 중합성 조성물의 필수 원료성분인 성분(1)에 대해서 설명한다.
본 발명(I)의 중합성 조성물의 필수 원료성분인 성분(1)은 수소첨가 폴리올레핀 폴리올과, 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 반응시켜서 얻어지는 우레탄(메타)아크릴레이트이다.
본 발명(I)의 중합성 조성물의 필수 원료성분인 성분(1)은 1분자 중에 수소첨가 폴리올레핀 폴리올로부터 유도된 구조단위와, 우레탄 결합을 1개 또는 2개와, 우레탄 결합과 동수의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이면 특별히 제한은 없다.
본 발명(I)의 중합성 조성물의 필수 원료성분인 성분(1)의 원료로 될 수 있는 수소첨가 폴리올레핀 폴리올은 폴리올레핀을 수소 환원한 구조를 갖고 또한 1분자 중에 2개이상의 알콜성 수산기를 갖는 화합물이면, 특별히 제한은 없다.
본 발명(I)의 중합성 조성물의 필수 원료성분인 성분(1)의 원료로 될 수 있는 수소첨가 폴리올레핀 폴리올로서는 예를 들면, 수소첨가 폴리부타디엔폴리올, 수소첨가 폴리이소프렌폴리올 등을 들 수 있다.
수소첨가 폴리부타디엔폴리올이란 폴리부타디엔폴리올을 수소 환원해서 얻어지는 화합물이다. 일반적으로 1,2-폴리부타디엔폴리올을 수소 환원한 것이 결정성이 없으므로 바람직하다. 수소첨가 폴리부타디엔디올로서는 예를 들면, 니폰 소다 가부시키가이샤제의 GI-1000, GI-2000 및 GI-3000 등을 들 수 있다.
수소첨가 폴리이소프렌폴리올이란 폴리이소프렌폴리올을 수소 환원해서 얻어지는 화합물이다. 수소첨가 폴리이소프렌폴리올로서는 예를 들면, 이데미츠 코산 가부시키가이샤제의 에폴 등을 들 수 있다.
본 발명(I)의 중합성 조성물의 필수 원료성분인 성분(1)의 원료로 될 수 있는 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물은 1분자 중에 이소시아나토기와 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이면, 특별히 제한은 없다.
본 발명(I)의 중합성 조성물의 필수 원료성분인 성분(1)의 원료로 될 수 있는 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물로서는 예를 들면, 2-이소시아나토에틸아크릴레이트, 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
2-이소시아나토에틸아크릴레이트로서는 예를 들면, 쇼와 덴코 가부시키가이샤제의 카렌즈 AOI(등록상표) 등을 들 수 있다.
2-이소시아나토에틸메타크릴레이트로서는 예를 들면, 쇼와 덴코 가부시키가이샤제의 카렌즈 MOI(등록상표) 등을 들 수 있다.
본 발명(I)의 중합성 조성물의 필수 원료성분인 성분(1)의 수소첨가 폴리올레핀 폴리올과, 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 반응시켜서 얻어지는 우레탄(메타)아크릴레이트는 일반적으로 이하의 방법에 의해 합성된다.
또한, 수소첨가 폴리올레핀 폴리올의 수산기 전체를 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물과 반응시켜도 수소첨가 폴리올레핀 폴리올의 수산기의 일부만을 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물과 반응시켜서 일부의 수산기를 남겨도 조금도 상관없다.
수소첨가 폴리올레핀 폴리올의 수산기 전체를 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물과 반응시킬 경우에는 수소첨가 폴리올레핀 폴리올의 수산기의 총수와, 사용한 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물의 이소시아나토기의 총수의 비가 1이상일 필요가 있다.
수소첨가 폴리올레핀 폴리올의 수산기의 일부만을 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물과 반응시켜서 일부의 수산기를 남길 경우에는 수소첨가 폴리올레핀 폴리올의 수산기의 총수보다 사용한 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물의 이소시아나토기의 총수를 적게 투입할 필요가 있다.
또한, 이 때 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물과 반응하지 않고 그대로 남는 수소첨가 폴리올레핀 폴리올이 존재할 수 있지만, 이 수소첨가 폴리올레핀 폴리올은 성분(6)의 수소첨가 폴리올레핀 폴리올에 포함된다.
제조 방법에는 특별히 제한은 없지만, 일반적으로 수소첨가 폴리올레핀 폴리올, 중합 금지제 및 필요에 따라서 우레탄화 촉매나 산화 방지제를 첨가해서 반응기내에 투입하고, 교반을 개시하여 반응기내의 온도를 40℃∼120℃, 바람직하게는 50℃∼100℃로 승온한다. 그 후, 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 적하 투입한다. 적하 동안 반응기내의 온도를 40℃∼130℃, 바람직하게는 50℃∼110℃로 제어한다. 적하 종료후, 교반을 계속하면서 반응기내의 온도를 40℃∼120℃, 바람직하게는 50℃∼100℃로 유지하여 반응을 완결시킨다.
다음에, 본 발명(I)의 필수성분인 성분(2)에 대해서 설명한다.
본 발명(I)의 필수성분인 성분(2)는 탄소수 6이상의 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물이다.
탄소수 6이상의 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물로서는 예를 들면, 벤질아크릴레이트 등의 방향족기를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물, 시클로헥실아크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸아크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜타닐에틸아크릴레이트, 4-tert-부틸시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 디시클로펜테닐메타크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸메타크릴레이트, 디시클로펜타닐메타크릴레이트, 디시클로펜타닐에틸메타크릴레이트, 4-tert-부틸시클로헥실메타크릴레이트 등의 환상 지방족기를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물, 메톡시트리에틸렌아크릴레이트, 에틸카르비톨아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트, 2-프로필헵틸아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실아크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트, 이소노닐메타크릴레이트, 2-프로필헵틸메타크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실메타크릴레이트 등의 쇄상 지방족기를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물 등을 들 수 있다.
이들 중에서 내열착색 성능을 고려하면 바람직한 것으로서는 시클로헥실아크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 디시클로펜타닐메타크릴레이트, 디시클로펜타닐에틸메타크릴레이트, 메톡시트리에틸렌아크릴레이트, 에틸카르비톨아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트, 2-프로필헵틸아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실아크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트, 이소노닐메타크릴레이트, 2-프로필헵틸메타크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실메타크릴레이트이며, 후술의 성분(4)의 희석 효율을 고려하면, 더욱 바람직하게는 라우릴아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트, 2-프로필헵틸아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실아크릴레이트, 이소노닐메타크릴레이트, 2-프로필헵틸메타크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실메타크릴레이트이며, 광중합 속도를 고려하면, 특히 바람직하게는 라우릴아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트, 2-프로필헵틸아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실아크릴레이트이다.
성분(2)의 사용량은 본 발명(I)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 10∼30질량%인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 13∼25질량%이며, 특히 바람직하게는 15∼22질량%이다. 성분(2)의 사용량이 본 발명(I)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 10질량% 미만이면 본 발명(I)의 중합성 조성물의 점도가 높아지는 경우가 있여 바람직하지 못하다. 또한, 성분(2)의 사용량이 본 발명(I)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 30질량%보다 많은 경우에는 본 발명(I)의 중합성 조성물의 중합시의 체적 수축률이 커질 가능성이 있어 바람직한 것은 아니다.
다음에, 본 발명(I)의 중합성 조성물의 필수성분인 성분(3)에 대해서 설명한다.
본 발명(I)의 필수성분인 성분(3)은 광중합 개시제이다.
성분(3)의 광중합 개시제는 근적외선, 가시광선, 자외선 등의 광의 조사에 의해 라디칼 중합의 개시에 기여하는 라디칼을 발생하는 화합물이면 특별히 제한은 없다.
성분(3)의 광중합 개시제로서는 구체적으로는 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 디에톡시아세토페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 1,2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, α-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-(4-이소프로필페닐)프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-(4-도데실페닐)프로판-1-온, 및 2-히드록시-2-메틸-1-[(2-히드록시 에톡시)페닐]프로판온, 벤조페논, 2-메틸벤조페논, 3-메틸벤조페논, 4-메틸벤조페논, 4-메톡시벤조페논, 2-클로로벤조페논, 4-클로로벤조페논, 4-브로모벤조페논, 2-카르복시벤조페논, 2-에톡시카르보닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 벤조페논테트라카르복실산 또는 그 테트라메틸에스테르, 4,4'-비스(디알킬아미노)벤조페논류(예를 들면 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디시클로헥실아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디히드록시에틸아미노)벤조페논), 4-메톡시-4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디메톡시벤조페논, 4-디메틸아미노벤조페논, 4-디메틸아미노아세토페논, 벤질, 안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 2-메틸안트라퀴논, 페난트라퀴논, 플루올레논, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부타논, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-1-프로판온, 2-히드록시-2-메틸-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판올올리고머, 벤조인, 벤조인에테르류(예를 들면 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인페닐에테르, 벤질디메틸케탈), 아크리돈, 클로로아크리돈, N-메틸아크리돈, N-부틸아크리돈, N-부틸-클로로아크리돈, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,6-디메톡시벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,6-디클로로벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일메톡시페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일에톡시페닐포스핀옥사이드, 2,3,5,6-테트라메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 벤조일디-(2,6-디메틸페닐)포스포네이트 등을 들 수 있다. 비스아실포스핀옥사이드류로서는 비스-(2,6-디클로로벤조일)페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-4-프로필페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-1-나프틸포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드, (2,5,6-트리메틸벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드, 2-이소프로필티오크산톤, 4-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다.
또, 광중합 개시제로서 메탈로센 화합물을 사용할 수도 있다. 메탈로센 화합물로서는 중심금속이 Fe, Ti, V, Cr, Mn, Co, Ni, Mo, Ru, Rh, Lu, Ta, W, Os, Ir 등으로 대표되는 천이 원소를 사용할 수 있고, 예를 들면, 비스(η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스[2,6-디플루오로-3-(피롤-1-일)페닐]티타늄을 들 수 있다.
이들 광중합 개시제는 각각 단독으로, 또는 2종이상을 조합해서 사용할 수 있다.
이들 중에서 바람직한 것으로서는 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,3,5,6-테트라메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드이며, 특히 바람직한 것으로서는 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드이며, 가장 바람직하게는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드의 단독 사용, 또는 1-히드록시시클로헥실페닐케톤과 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드의 병용이다.
또, 도 1이나 도 2에 있어서의 투광성의 보호부(103)에는 화상 표시부(105)에 대한 자외선 보호의 관점에서 자외선 영역을 커트하는 기능이 부여되어 있는 것이 많다. 그 경우, 가시광 영역에서도 감광 가능한 광중합 개시제인 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,3,5,6-테트라메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드를 사용하는 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드이다.
성분(3)의 사용량은 본 발명(I)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.1∼4.0질량%인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.3∼3.0질량%이며, 특히 바람직하게는 0.5∼2.0질량%이다. 성분(3)의 사용량이 본 발명(I)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.1질량% 미만이면 중합 개시제의 중합 개시 성능 부족이 되는 경우가 있어 바람직하지 못하다. 또한, 성분(3)의 사용량이 본 발명(I)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 4.0질량%보다 많아지면 후술의 본 발명(II)의 중합물을 고온환경하에 둔 경우에 착색되기 쉬워지는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다.
또한, 본 발명(I)의 중합성 조성물에는 하기 성분(4)를 포함할 수 있어 또한 바람직하다.
성분(4) 수소첨가 석유 수지, 테르펜계 수소첨가 수지, 수소첨가 로진 에스테르, 및 수소첨가 폴리올레핀으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종
수소첨가 석유 수지란 석유계 수지를 수소 환원해서 얻어지는 수지이다. 수소첨가 석유 수지의 원료인 석유계 수지로서는 지방족계 석유 수지, 방향족계 석유 수지, 지방족-방향족 공중합계 석유 수지, 지환족계 석유 수지, 디시클로펜타디엔 수지 및 이들의 수소첨가물 등의 변성물을 들 수 있다. 합성 석유 수지는 C5계이어도, C9계이어도 좋다.
테르펜계 수소첨가 수지란 테르펜계 수지를 수소 환원해서 얻어지는 수지이다. 테르펜계 수소첨가 수지의 원료인 테르펜계 수지로서는 β-피넨 수지, α-피넨 수지, β-리모넨 수지, α-리모넨 수지, 피넨-리모넨 공중합 수지, 피넨-리모넨-스티렌 공중합 수지, 테르펜-페놀 수지, 방향족 변성 테르펜 수지 등을 들 수 있다. 이들 테르펜계 수지의 대부분은 극성기를 갖지 않는 수지이다.
수소첨가 로진 에스테르란 로진계 수지를 수소첨가해서 얻어지는 수소첨가 로진을 에스테르화 또는 로진을 에스테르화해서 얻어지는 로진 에스테르를 수소 환원해서 얻어진 수지이다. 로진계 수지 점착 부여제로서는 검 로진, 톨유 로진, 우드 로진, 불균화 로진, 중합 로진, 말레인화 로진 등의 변성 로진 등을 들 수 있다.
수소첨가 폴리올레핀이란 폴리올레핀을 수소 환원한 화합물이다.
수소첨가 폴리올레핀으로서는 예를 들면, 수소첨가 폴리부타디엔, 수소첨가 폴리이소프렌, 수소첨가 폴리부텐 등을 들 수 있다.
수소첨가 폴리 부타디엔이란 폴리부타디엔을 수소 환원한 화합물이다. 일반적으로 1,2-폴리부타디엔을 수소 환원한 것이 결정성이 없으므로 바람직하다. 본 발명(I)의 중합성 조성물에 사용할 경우에는 수 평균 분자량은 30000이하인 것이 본 발명(I)의 중합성 조성물의 점도를 지나치게 높게 하지 않기 위해서는 바람직하다.
수소첨가 폴리이소프렌이란 폴리이소프렌을 수소 환원한 화합물이다. 수 평균 분자량은 30000이하인 것이 본 발명(I)의 중합성 조성물의 점도를 지나치게 높게 하지 않기 위해서는 바람직하다.
수소첨가 폴리 부텐이란 폴리부텐을 수소 환원한 화합물이다. 수 평균 분자량은 30000이하인 것이 본 발명(I)의 중합성 조성물의 점도를 지나치게 높게 하지 않기 위해서는 바람직하다.
이들 성분(4)의 화합물은 각각 단독으로, 또는 2종이상을 조합해서 사용할 수 있다.
이들 중에서 바람직한 것으로서는 수소첨가 석유 수지, 테르펜계 수소첨가 수지 중 어느 하나 또는 수소첨가 석유 수지, 테르펜계 수소첨가 수지 중 어느 하나와 수소첨가 폴리올레핀의 조합이며, 더욱 바람직하게는 테르펜계 수소첨가 수지, 또는 테르펜계 수소첨가 수지와 수소첨가 폴리올레핀의 조합이다.
또한, 테르펜계 수소첨가 수지 중에서는 고온환경하에서 보존한 경우의 착색이 적으므로, β-피넨 수지, α-피넨 수지, β-리모넨 수지, α-리모넨 수지, 피넨-리모넨 공중합 수지 등의 방향환을 갖지 않는 테르펜계 공중합 수지가 바람직하다.
본 발명(I)의 중합성 조성물에 성분(4)를 사용할 경우에는 성분(4)의 사용량은 성분(4) 이외의 조성물 중의 성분에 의해 일률적으로는 말할 수 없지만, 성분(1)과 성분(4)의 총량이 본 발명(I)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 40∼90질량%인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 41∼87질량%이며, 특히 바람직하게는 43∼85질량%이다. 성분(1)과 성분(4)의 총량이 본 발명(I)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 40질량%미만인 경우에는 중합시의 체적 수축률이 커지는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다. 또한, 성분(1)과 성분(4)의 총량이 본 발명(I)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 90질량%보다 많아지면 본 발명(I)의 중합성 조성물의 점도는 높아지는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다.
또한, 본 발명(I)의 중합성 조성물에는 하기 성분(5)를 포함할 수 있어 또한 바람직하다.
성분(5) 알콜성 수산기를 갖는 아크릴로일기 함유 화합물
성분(5)는 알콜성 수산기와 아크릴로일기를 동일분자내에 갖고 있는 화합물이면 특별히 제한은 없다.
알콜성 수산기를 갖는 아크릴로일기 함유 화합물로서는 예를 들면, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 3-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시부틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-(o-페닐페녹시)프로필아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴아미드, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시-3-(o-페닐페녹시)프로필메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
본 발명(I)의 중합성 조성물에 사용한 경우에 상용성을 고려하면 이들 중에서 바람직한 것으로서는 2-히드록시에틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-(o-페닐페녹시)프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트이며, 더욱 바람직한 것은 4-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트이며, 가장 바람직한 것은 2-히드록시프로필메타크릴레이트이다.
또한, 본 발명(I)의 중합성 조성물에는 하기 성분(6)을 포함할 수 있어 또한 바람직하다.
성분(6) 수소첨가 폴리올레핀 폴리올
성분(6)은 성분(1), 성분(4) 및 성분(5)의 상용성을 늘리기 위해서 사용된다. 또한, 후술의 본 발명(II)의 중합물의 유전율을 낮출 필요성이 있는 경우나 중합시의 체적 수축률을 더욱 낮게 억제할 목적으로 바람직하게 사용된다.
수소첨가 폴리올레핀 폴리올은 본 발명(I)의 중합성 조성물의 필수 원료성분인 성분(1)의 원료가 될 수 있는 수소첨가 폴리올레핀 폴리올과 같은 것이다.
성분(6)의 바람직한 사용 방법은 수소첨가 폴리올레핀 폴리올과, 수소첨가 석유 수지와 테르펜계 수소첨가 수지 중 적어도 한쪽의 병용이며, 가장 바람직하게는 수소첨가 폴리올레핀 폴리올과 테르펜계 수소첨가 수지의 병용이다.
또한, 본 발명(I)의 중합성 조성물에는 하기 성분(7)을 포함할 수 있어 또한 바람직하다.
성분(7) 비수소첨가 폴리올레핀
성분(7)은 성분(1), 성분(4) 및 성분(5)의 상용성을 늘리고, 또 희석 효과에 의해 점도를 저감하기 위해서 사용된다.
비수소첨가 폴리올레핀이란 예를 들면, 폴리부타디엔, 폴리이소프렌, 폴리부텐, α-올레핀 중합물, 에틸렌-α-올레핀 공중합물 등을 들 수 있다.
또, 본 발명(I)의 중합성 조성물의 중합시의 체적 수축률은 4.0%이하인 것이 바람직하고, 3.0%이하인 것이 보다 바람직하다. 본 발명(I)의 중합성 조성물의 중합시의 체적 수축률이 4.0%보다도 큰 경우에는 중합성 조성물이 중합할 때에 중합물에 축적되는 내부응력이 지나치게 커져 투명 광학 수지층(106)과 투광성의 보호부(103) 또는 터치 센서(104) 또는 화상 표시부(105)의 계면에 변형이 생겨버려 바람직한 것이라고는 할 수 없다.
중합물의 23℃에 있어서의 인장 탄성률은 1×107Pa이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1×103∼1×106Pa이다.
또한, 본 명세서에 기재된 인장 탄성률은 500mm/min의 인장속도로 시험을 행했을 때의 값이다.
중합물의 23℃에 있어서의 인장 탄성률이 1×107Pa보다 크면 투광성의 보호부(103) 또는 터치 센서(104) 또는 화상 표시부(105)에 대하여 중합성 조성물의 중합시에 체적 수축에 의한 응력의 영향에 의해 변형이 생기는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다.
본 발명(I)의 중합성 조성물의 25℃에 있어서의 점도가 5000mPa·s이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 4000mPa·s이하이다.
또한, 본 명세서에 기재된 점도는 콘/플레이트형 점도계(Brookfield사제, 형식:DV-II+Pro, 스핀들의 형번:CPE-42)를 사용해서 온도 25.0℃, 회전수 10rpm의 조건으로 측정한 값이다.
25℃에 있어서의 본 발명(I)의 중합성 조성물의 점도가 5000mPa·s보다 높아지면 본 발명(I)의 중합성 조성물을 디스펜서를 사용한 선긋기 도포법으로 도포하는 경우에는 도포후의 퍼짐이 억제되고, 그 결과, 필요 개소에 균일한 두께로 상기 조성물이 널리 퍼지지 않게 되는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다.
본 발명(I)의 중합성 조성물은 필요에 따라서 중합 금지제, 산화 방지제, 소포제, 개질제 등을 임의로 첨가할 수 있다.
중합 금지제로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 페노티아진, 히드로퀴논, p-메톡시페놀, p-벤조퀴논, 나프토퀴논, 페난스라퀴논, 톨루퀴논, 2,5-디아세톡시-p-벤조퀴논, 2,5-디카프록시-p-벤조퀴논, 2,5-아실옥시-p-벤조퀴논, p-t-부틸카테콜, 2,5-디-t-부틸히드로퀴논, p-tert-부틸카테콜, 모노-t-부틸히드로퀴논, 2,5-디-t-아밀히드로퀴논, 디-t-부틸·파라크레졸히드로퀴논모노메틸에테르, 알파나프톨, 아세토아미딘아세테이트, 아세토아미딘설페이트, 페닐히드라진 염산염, 히드라진 염산염, 트리메틸벤질암모늄클로라이드, 라우릴피리디늄클로라이드, 세틸트리메틸암모늄클로라이드, 페닐트리메틸암모늄클로라이드, 트리메틸벤질암모늄옥잘레이트, 디(트리메틸벤질암모늄)옥잘레이트, 트리메틸벤질암모늄말레이트, 트리메틸벤질암모늄타르타르레이트, 트리메틸벤질암모늄글리콜레이트, 페닐-β-나프틸아민, 파라벤질아미노페놀, 디-β-나프틸파라페닐렌디아민, 디니트로벤젠, 트리니트로톨루엔, 피크린산, 시클로헥사논옥심, 피로갈롤, 탄닌산, 레조르신, 트리에틸아민 염산염, 디메틸아닐린 염산염 및 디부틸아민 염산염 등을 들 수 있다.
이들은 단독으로도 또는 2종이상을 적당히 조합해서 사용할 수 있다.
이들 중에서도, 히드로퀴논, p-메톡시페놀, p-벤조퀴논, 나프토퀴논, 페난트라퀴논, 2,5-디아세톡시-p-벤조퀴논, 2,5-디카프록시-p-벤조퀴논, 2,5-아실옥시-p-벤조퀴논, p-t-부틸카테콜, 2,5-디-t-부틸히드로퀴논, p-tert-부틸카테콜, 모노-t-부틸히드로퀴논, 2,5-디-t-아밀히드로퀴논, 디-t-부틸·파라크레졸히드로퀴논모노메틸에테르 및 페노티아진이 바람직하게 사용된다.
통상, 중합 금지제는 본 발명(I)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01∼5질량%의 첨가량이 되도록 조정할 수 있다. 단, 중합 금지제의 양은 성분(2)나 성분(5)에 미리 포함되어 있는 중합 금지제를 가미한 값이다. 즉, 일반적으로는 본 발명(I)의 성분(2)나 성분(5)에 미리 중합 금지제가 포함되어 있지만, 이 중합 금지제와 새롭게 첨가하는 중합 금지제의 총량을 합한 양이 본 발명(I)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01∼5질량%의 첨가량이 되는 것을 의미한다.
산화 방지제로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 옥타데실-3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 티오디에틸렌비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤젠프로판산의 탄소수 7∼9의 알킬에스테르, 4,6-비스(옥틸티오메틸)-o-크레졸, 3,9-비스[2-[3-(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시]-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]-운데칸, 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(2-tert-부틸-5-메틸페놀), N,N',N"-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5-tert-부틸페닐)부탄, 1,1-비스(2-메틸-4-히드록시-5-tert-부틸페닐)부탄 등을 들 수 있다. 이들 중에서 바람직한 것은 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 옥타데실-3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트이며, 가장 바람직한 것은 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]이다.
통상, 산화 방지제는 본 발명(I)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01∼5질량%의 첨가량이 되도록 조정할 수 있다. 단, 중합 금지제의 양은 성분(4) 등의 다른 성분에 미리 포함되어 있는 산화 방지제를 가미한 값이다. 즉, 일반적으로는 본 발명(I)의 성분(4) 등에 미리 산화 방지제가 포함되어 있는 경우가 있지만, 이 산화 방지제와 새롭게 첨가하는 산화 방지제의 총량을 합한 양이 본 발명(I)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01∼5질량%의 첨가량이 되는 것을 의미한다.
개질제로서는 예를 들면, 레벨링성을 향상시키기 위한 레벨링제 등을 들 수 있다. 레벨링제로서는 예를 들면, 폴리에테르 변성 디메틸폴리실록산 공중합물, 폴리에스테르 변성 디메틸폴리실록산 공중합물, 폴리에테르 변성 메틸알킬폴리실록산 공중합물, 아랄킬 변성 메틸알킬폴리실록산 공중합물, 아크릴에스테르 공중합물 등을 사용할 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도, 2종이상 조합해서 사용해도 좋다. 본 발명(I)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 본 발명(I)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01∼5질량% 첨가할 수 있다. 0.01질량%미만인 경우에는 레벨링제의 첨가 효과가 발현되지 않을 가능성이 있다. 또한, 5질량%보다 많은 경우에는 본 발명(I)의 중합성 조성물에 탁도가 생기는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다.
소포제는 문자 그대로, 본 발명(I)의 중합성 조성물을 도포할 때에 발생 또는 잔존하는 기포를 없애거나 또는 억제하는 작용을 갖는 것이면 특별히 제한은 없다.
본 발명(I)의 중합성 조성물에 사용되는 소포제로서는 폴리부타디엔계 화합물, 아세틸렌디올계 화합물 등 공지의 소포제로 본 발명(I)의 중합성 조성물을 흐리게 하기 어려운 것을 들 수 있다. 그 구체예로서는 예를 들면, 닷포 SN-348(산노푸코 가부시키가이샤제), 닷포 SN-354(산노푸코 가부시키가이샤제), 닷포 SN-368(산노푸코 가부시키가이샤제), 디스파론 230HF(구쓰모토 카세이 가부시키가이샤제) 등의 아크릴 중합체계 소포제, 서피놀 DF-110D (닛신 카가쿠 고교 가부시키가이샤제), 서피놀 DF-37(닛신 카가쿠 고교 가부시키가이샤제) 등의 아세틸렌디올계 소포제 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도, 2종이상 조합해서 사용해도 좋다. 통상, 본 발명(I)의 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.001∼5질량% 첨가할 수 있다. 0.01질량%미만인 경우에는 소포제의 첨가 효과가 발현되지 않을 가능성이 있다. 또한, 5질량%보다 많은 경우에는 본 발명(I)의 중합성 조성물에 탁도가 생기는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다.
다음에, 본 발명(II)의 중합물에 대해서 설명한다.
본 발명(II)은 본 발명(I)의 중합성 조성물을 중합해서 얻어지는 중합물이다.
본 발명(II)의 중합물의 구체적인 제조 방법으로서는 우선, 디스펜서 등을 사용해서 본 발명(I)의 중합성 조성물을 기재에 도포한다. 이어서, 상기 기재와 또 하나의 기재를 스페이서를 통해 중합성 조성물을 끼워넣도록 중합하고, 그 후, 고압 수은등, 메탈할라이드 램프, LED 등을 광원으로 해서 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 상기 어느 하나의 기재를 통해 조사하여 본 발명(I)의 중합성 조성물을 중합함으로써, 본 발명(II)의 중합물이 얻어진다.
25℃에 있어서의 본 발명(II)의 중합물의 굴절율은 1.45∼1.55인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1.48∼1.52이다. 25℃에 있어서의 굴절율이 1.45미만 또는 1.55보다 커지는 경우, 투광성의 보호부의 재질인 광학 유리나 폴리메타크릴산 메틸 등의 아크릴 수지의 굴절율에 비해서 지나치게 낮아지므로, 화상 표시부로부터 투광성의 보호부에 이르는 사이의 계면에 있어서의 굴절율차가 다소 커지고, 화상 표시부로부터 영상광의 산란 및 감쇠가 다소 커져 바람직한 것이라고는 할 수 없다.
다음에, 본 발명(III)의 중합물에 대해서 설명한다.
본 발명(III)의 중합물은 화상 표시 장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재시키는 투명 광학 수지층으로서 사용되는 중합물이다.
23℃에 있어서의 본 발명(III)의 중합물의 유전율은 주파수 100kHz, 인가 전압 100mV의 조건하에서 3.2이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 3.0이하이다. 23℃, 주파수 100kHz, 인가 전압 100mV의 조건하에 있어서의 유전율이 3.2보다 큰 중합물을 터치 센서(104)와 화상 표시부(105) 사이에 개재시키면 터치패널에 손가락으로 접촉함으로써의 투명 광학 수지층의 정전용량의 변화가 커지므로 화상 표시부의 오작동의 가능성이 높아져 바람직한 것이라고는 할 수 없다.
본 발명(III)의 중합물을 2매의 유리 사이에 200㎛의 두께로 조정한 것을 95℃에서 500시간의 조건으로 보존한 후의 JIS Z 8729에 기재된 색좌표 b*값은 1.5미만이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1.0미만이다. 색좌표 b*값이 1.5이상이 될 경우, 화상 표시 장치의 계속 사용에 있어서 사용 초기에 비해서 화상의 색미가 변화되어 버려 바람직한 것이라고는 할 수 없다.
상기한 바와 같은 특성을 갖는 본 발명(III)의 중합물은 예를 들면, 본 발명(I)의 중합성 조성물을 중합함으로써 얻을 수 있다.
다음에, 본 발명(IV)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 대해서 설명한다.
본 발명(IV)은 화상 표시부를 갖는 기부와, 투광성의 보호부와, 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재하는 투명 광학 수지층을 포함하는 화상 표시 장치의 제조 방법으로서, 상기 방법은,
본 발명(I)의 중합성 조성물을 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재시키는 공정, 및
광중합 개시제가 감광 가능한 광을 상기 중합성 조성물에 조사해서 투명 광학 수지층을 형성하는 공정을 포함한다.
이하에, 화상 표시 장치의 바람직한 실시형태를 도면을 참조해서 보다 구체적으로 설명한다. 또한, 각 도면 중, 동일부호는 동일 또는 동등한 구성 요소를 나타내고 있다.
도 1 및 도 2은 본 발명에 의한 화상 표시 장치의 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다. 도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 본 실시형태의 화상 표시 장치(101,102)는 도시가 생략된 구동 회로에 접속되어 소정의 화상 표시를 행하는 화상 표시부(105)와, 이 화상 표시부(105)에 소정의 거리를 두고 근접 대향 배치된 투광성의 보호부(103)와, 손가락으로 접촉했을 때의 정전용량의 변화를 검지하는 터치 센서(104)와, 투명 광학 수지층(106)을 갖고 있다. 투명 광학 수지층(106)은 화상 표시 장치(101)에 있어서는 투광성의 보호부(103)와 터치 센서(104) 사이(투명 광학 수지층(106a)) 및 터치 센서(104)와 화상 표시부(105) 사이(투명 광학 수지층(106b))에 존재하고, 화상 표시 장치(102)에 있어서는 터치 센서(104)와 화상 표시부(105) 사이에 존재한다. 따라서, 화상 표시 장치(101)의 투명 광학 수지층(106b) 및, 화상 표시 장치(102)의 투명 광학 수지층(106)의 정전용량의 변화가 크면 화상 표시부(105)에서 오작동이 생길 가능성이 높아지므로 그 유전율이 낮은 것이 요구된다.
또한, 본 명세서에 기재된 「화상 표시 장치」로서는 화상을 표시하는 장치이면, 특별히 한정되는 것은 아니고, 여러가지 것에 적용할 수 있다. 예를 들면, 휴대전화, 휴대 게임기기 등의 액정 표시 장치를 들 수 있다. 본 실시형태의 화상 표시부(105)는 이러한 액정 표시 장치의 액정 표시 패널이다.
본 실시형태의 화상 표시 장치의 제조 방법을 설명한다. 또한, 본 명세서에 기재된 「화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 보호부 사이」란 화상 표시부(105)와, 투광성의 보호부(103) 사이의 모든 부분을 의미하고, 예를 들면, 도 1의 106a와 106b 모두 「화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 보호부 사이」라는 표현에 포함되는 것을 의미한다.
본 실시형태의 화상 표시 장치의 제조 방법으로서, 예를 들면 우선, 화상 표시부(105) 상에 본 발명(I)의 중합성 조성물을 소정량 적하한다.
그리고, 화상 표시부(105) 상에 투광성의 보호부(103)를 배치하고, 화상 표시부(105)와 투광성의 보호부(103) 사이의 공극에 본 발명(I)의 중합성 조성물을 간극없이 충전한다.
그 후, 투광성의 보호부(103)를 통해 본 발명(I)의 중합성 조성물에 대하여 본 발명(I)의 중합성 조성물의 필수성분인 성분(3)이 감광 가능한 광을 조사함으로써 본 발명(I)의 중합성 조성물을 중합시켜서 투명 광학 수지층(106)을 얻는다. 이것에 의해, 목적으로 하는 화상 표시 장치를 얻는다.
또한, 화상 표시부(105)와 투광성의 보호부(103) 사이에 터치 센서(104)를 설치하는 경우에는 화상 표시부(105) 상에 본 발명(I)의 중합성 조성물을 소정량 적하한 후, 터치 센서(104)를 배치하고, 화상 표시부(105)와 터치 센서(104) 사이의 공극에 본 발명(I)의 중합성 조성물을 간극없이 충전한다. 이어서, 터치 센서(104) 상에 본 발명(I)의 중합성 조성물을 소정량 적하하고, 그 위에 투광성의 보호부(103)를 배치하고, 터치 센서(104)와 투광성의 보호부(103) 사이의 공극에 본 발명(I)의 중합성 조성물을 간극없이 충전하고, 그 후, 투광성의 보호부(103)를 통해 본 발명(I)의 중합성 조성물이 감광 가능한 광을 조사함으로써 본 발명(I)의 중합성 조성물을 중합시켜서 투명 광학 수지층(106a 및 106b)을 얻는 것에 의해 목적으로 하는 화상 표시 장치를 얻는다. 터치 센서(104)와 투광성의 보호부(103) 사이에 투명 광학 수지층(106a)을 형성하지 않는 경우에는 나중의 본 발명(I)의 중합성 조성물의 적하는 행하지 않는다.
이 화상 표시 장치에 의하면, 투명 광학 수지층(106)과 투광성의 보호부(103)의 굴절율이 동등하기 때문에 휘도나 콘트라스트를 높여서 시인성을 향상시킬 수 있다.
또한, 투광성의 보호부(103)와 화상 표시부(105)에 대하여 중합성 조성물의 중합시의 체적 수축에 의해 야기되는 응력의 영향을 최소한으로 억제할 수 있으므로, 투광성의 보호부(103)와 화상 표시부(105)에 있어서 변형이 거의 발생하지 않고, 그 결과, 화상 표시부(105)에 변형이 발생하지 않으므로 표시 불량이 없는 고휘도 및 고콘트라스트의 화상 표시가 가능하게 된다.
또한, 도 1의 투명 광학 수지층(106b), 및 도 2의 투명 광학 수지층(106)을 본 발명(I)의 중합성 조성물을 중합시켜서 얻은 경우, 투명 광학 수지층(106)의 유전율이 낮기 때문에 정전용량의 변화가 작고, 화상 표시부(105)가 오작동을 일으킬 가능성이 낮아지므로, 표시 불량이 없는 화상 표시가 가능하게 된다.
또한, 투명 광학 수지층(106)의 내열착색성이 양호하기 때문에 장기간에 걸쳐 표시 불량이 없는 고휘도 및 고콘트라스트의 화상 표시가 가능하게 된다.
또한, 투광성의 보호부(103)와 화상 표시부(105) 사이에 투명 광학 수지층(106)이 존재하므로 충격에 강해진다.
다음에, 본 발명(V)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 대해서 설명한다.
본 발명(V)은 화상 표시부를 갖는 기부와, 투광성의 보호부와, 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재하는 투명 광학 수지층을 포함하는 화상 표시 장치의 제조 방법으로서, 상기 방법은,
본 발명(III)의 중합물을 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재시키는 공정을 포함한다.
본 발명(V)의 화상 표시 장치의 제조 방법에서 본 실시형태의 화상 표시 장치를 제조하는 방법으로서는 예를 들면, 우선, 화상 표시부(105) 상에 본 발명(I)의 중합성 조성물을 소정량 적하한다.
그리고, 화상 표시부(105) 상에 투광성의 보호부(103)를 배치하고, 화상 표시부(105)와 투광성의 보호부(103) 사이의 공극에 본 발명(I)의 중합성 조성물을 간극없이 충전한다.
그 후, 투광성의 보호부(103)를 통해 본 발명(I)의 중합성 조성물에 대하여 본 발명(I)의 중합성 조성물의 필수성분인 성분(3)이 감광 가능한 광을 조사함으로써 본 발명(I)의 중합성 조성물을 중합시킨다. 이것에 의해, 본 발명(III)의 중합물로 이루어지는 투명 광학 수지층(106)을 얻는다. 이것에 의해, 목적으로 하는 화상 표시 장치를 얻는다.
본 발명(V)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 의하면, 본 발명(IV)의 화상 표시 장치의 제조 방법과 동등한 효과가 얻어진다.
다음에, 본 발명(VI)의 광학용 점착 시트에 대해서 설명한다.
본 발명(VI)은 본 발명(I)의 중합성 조성물을 30∼300㎛의 두께로 도포하고, 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 상기 조성물에 조사해서 중합시킴으로써 얻어지는 광학용 점착 시트이다.
본 발명(VI)의 광학용 점착 시트는 기재를 갖는 것이어도, 기재를 갖지 않고 점착제층만으로 이루어지는 양면 점착 시트이어도 좋다. 또한, 점착제층은 단일층으로 이루어지는 것이어도 복수층이 적층되어 있어도 좋다. 그 중에서도 투명성의 확보나, 형상 추종성의 관점에서는 기재를 갖지 않고 점착제층만으로 이루어지는 양면 점착 시트인 것이 바람직하다.
본 발명(VI)의 광학용 점착 시트의 구체적인 제조 방법을 이하에 설명한다. 이형 PET 필름에 본 발명(I)의 중합성 조성물을 도포하고, 도포한 조성물에 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 조사해서 광경화시킴으로써 본 발명(VI)의 광학용 점착 시트를 얻을 수 있다. 본 발명(VI)의 광학용 점착 시트의 막두께는 5∼500㎛로 하는 것이 바람직하고, 30∼300㎛로 하는 것이 보다 바람직하다. 본 발명(VI)의 광학용 점착 시트의 막두께가 5㎛보다 얇아지면 점착 시트의 접합이 곤란하게 되고, 500㎛보다 두꺼워지면 막두께의 제어가 곤란하게 되는 경향이 있다.
또, 본 발명의 본 발명(I)의 중합성 조성물은 도포시의 점도조정을 목적으로 해서 유기용매를 사용해서 용액으로 해도 좋다. 사용되는 유기용매로서는 예를 들면, 메틸에틸케톤, 아세톤, 아세트산 에틸, 테트라히드로푸란, 디옥산, 시클로헥사논, n-헥산, 톨루엔, 크실렌, n-프로판올, 이소프로판올 등을 들 수 있다. 이들 유기용매는 단독으로 사용해도 좋고, 또 2종이상을 혼합해도 좋다.
다음에, 본 발명(VII)의 광학용 점착 시트에 대해서 설명한다.
본 발명(VII)은 화상 표시 장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재시키는 투명 광학 수지층으로서 사용되는 광학용 점착 시트이다.
23℃에 있어서의 본 발명(VII)의 광학용 점착 시트의 유전율은 주파수 100kHz, 인가 전압 100mV의 조건하에서 3.2이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 3.0이하이다. 23℃, 주파수 100kHz, 인가 전압 100mV의 조건하에 있어서의 유전율이 3.2보다 큰 광학용 점착 시트를 터치 센서(104)와 화상 표시부(105) 사이에 개재시키면 터치패널에 손가락으로 접촉하는 것에 의한 투명 광학 수지층의 정전용량의 변화가 커지므로 화상 표시부의 오작동의 가능성이 높아져 바람직한 것이라고는 할 수 없다.
본 발명(VII)의 광학용 점착 시트를 200㎛의 두께로 조정하고, 2매의 유리를 접합한 것을 95℃에서 500시간의 조건으로 보존한 후의 JIS Z 8729에 기재된 색좌표 b*값은 1.5미만이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1.0미만이다. 색좌표 b*값이 1.5이상이 될 경우, 화상 표시 장치의 계속 사용에 있어서 사용 초기에 비해서 화상의 색미가 변화되어버려 바람직한 것이라고는 할 수 없다.
상기한 바와 같은 특성을 갖는 본 발명(VII)의 광학용 점착 시트는 예를 들면, 본 발명(I)의 중합성 조성물을 30∼300㎛의 두께로 도포하고, 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 상기 조성물에 조사하고, 중합시킴으로써 얻을 수 있다.
다음에, 본 발명(VIII)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 대해서 설명한다.
본 발명(VIII)은 화상 표시부를 갖는 기부와, 투광성의 보호부와, 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재하는 투명 광학 수지층을 포함하는 화상 표시 장치의 제조 방법으로서, 상기 방법은,
본 발명(VI) 또는 (VII)의 광학용 점착 시트를 사용해서 상기 기부와 상기 보호부를 접합하는 공정을 포함한다.
본 발명(VIII)의 화상 표시 장치의 제조 방법에서 본 실시형태의 화상 표시 장치를 제조하는 방법으로서는 예를 들면, 우선, 화상 표시부(105) 상에 본 발명(VI) 또는 (VII)의 광학용 점착 시트를 붙인다. 그리고, 본 발명(VI) 또는 (VII)의 광학용 점착 시트를 개재해서 화상 표시부(105)와 투광성의 보호부(103)를 접합한다. 이것에 의해, 본 발명(VI) 또는 (VII)의 광학용 점착 시트에 의해 이루어지는 투명 광학 수지층(106)을 얻는다. 이것에 의해, 목적으로 하는 화상 표시 장치를 얻는다.
또한, 화상 표시부(105)와 투광성의 보호부(103) 사이에 터치 센서(104)를 형성하는 경우에는 화상 표시부(105) 상에 본 발명(VI) 또는 (VII)의 광학용 점착 시트를 붙인 후, 터치 센서(104)를 붙이고, 이어서, 본 발명(VI) 또는 (VII)의 광학용 점착 시트를 붙이거나 또는 붙이지 않고, 투광성의 보호부(103)를 접합하는 것에 의해 목적으로 하는 화상 표시 장치를 얻는다.
본 발명(VIII)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 의하면, 본 발명(IV)의 화상 표시 장치의 제조 방법과 동등한 효과가 얻어진다.
다음에, 본 발명(IX)의 화상 표시 장치에 대해서 설명한다.
본 발명(IX)은 본 발명(IV), 본 발명(V), 및 본 발명(VIII) 중 어느 하나의 화상 표시 장치의 제조 방법에 의해 제조된 화상 표시 장치이다.
본 발명(IX)의 화상 표시 장치는 액정 표시 패널의 본체가 광학 유리로 형성되어 있는 경우, 일반적으로 그 굴절율(nD)은 1.49∼1.52가 된다. 또한, 굴절율(nD)이 1.55정도인 강화 유리도 존재한다.
투광성의 보호부(103)는 화상 표시부(105)와 같은 정도의 크기의 판상, 시트 상 또는 필름상의 투광성 부재로 형성되어 있다. 이 투광성 부재로서는 예를 들면, 광학 유리나 플라스틱(폴리메타크릴산 메틸 등의 아크릴 수지 등)을 바람직하게 사용할 수 있다. 보호부(105)의 표면 또는 이면에는 반사 방지막, 차광막, 시야각 제어막 등의 광학층을 형성해도 좋다.
투광성의 보호부(103)가 아크릴 수지로 형성되어 있는 경우에는 일반적으로 그 굴절율(nD)은 1.49∼1.51이 된다.
투광성의 보호부(103), 또는 투광성의 보호부(103) 및 그것과 일체화된 터치 센서(104)는 화상 표시부(105)의 둘레가장자리부에 설치된 스페이서를 통해 화상 표시부(105) 상에 설치할 수 있다. 이 스페이서의 두께는 0.05∼1.5mm정도이며, 이것에 의해 화상 표시부(2)와 투광성의 보호부(103) 및 그것과 일체화한 터치 센서(104)의 표면간 거리가 1mm정도로 유지된다.
또한, 투광성의 보호부(103) 및 그것과 일체화된 터치 센서(104)의 둘레가장자리부에는 휘도 및 콘트라스트를 향상시키기 위해서 도시가 생략된 프레임상의 차광부가 설치되어 있다.
화상 표시부(105)와 투광성의 보호부(103) 사이에는 투명 광학 수지층(106)이 개재되어 있다. 투명 광학 수지층(106)에는 본 발명(II)의 중합물, 본 발명(III)의 중합물, 본 발명(VI)의 광학용 점착 시트 및 본 발명(VII) 중 어느 하나의 광학용 점착 시트가 개재하므로 가시광영역의 투과율이 90%이상이 된다. 여기에서, 투명 광학 수지층(106)의 두께는 30∼300㎛가 되도록 하는 것이 바람직하다.
또한, 투명 광학 수지층(106)에는 본 발명(II)의 중합물, 본 발명(III)의 중합물, 본 발명(VI)의 광학용 점착 시트 및 본 발명(VII)의 광학용 점착 시트가 개재하므로 25℃에 있어서의 굴절율(nD)은 1.45∼1.55, 바람직하게는 1.48∼1.52가 되므로, 화상 표시부(105)나 투광성의 보호부(103)의 굴절율과 거의 동등해지므로 바람직하다. 이것에 의해, 화상 표시부(105)로부터의 영상광의 휘도나 콘트라스트를 높여 시인성을 향상시킬 수 있다.
투명 광학 수지층(106)에는 본 발명(II)의 중합물, 본 발명(III)의 중합물, 본 발명(VI)의 광학용 점착 시트, 및 본 발명(VII)의 광학용 점착 시트 중 어느 하나가 개재하므로 23℃에 있어서의 인장 탄성률이 바람직하게는 1×107Pa이하, 보다 바람직하게는 1×103∼1×106Pa가 된다. 그 결과, 화상 표시부(105) 및 투광성의 보호부(103) 및 그것과 일체화된 터치 센서(104)에 대하여 중합성 조성물의 중합시에 체적 수축에 기인하는 응력의 영향에 의한 변형의 발생을 방지할 수 있다.
화상 표시 장치(101)에 있어서의 투명 광학 수지층(106b), 또는 화상 표시 장치(102)에 있어서의 투명 광학 수지층(106)에는 본 발명(II)의 중합물, 본 발명(III)의 중합물, 본 발명(VI)의 광학용 점착 시트, 및 본 발명(VII)의 광학용 점착 시트 중 어느 하나가 개재하므로 23℃에 있어서의 유전율이 주파수 100kHz, 인가 전압 100mV의 조건하에서 바람직하게는 3.2이하 보다 바람직하게는 3.0이하가 된다. 그 결과, 정전용량의 변화가 작아져 화상 표시부(105)의 오작동의 가능성이 낮아 표시 불량이 없는 화상 표시가 가능하게 된다.
또, 투명 광학 수지층(106)에는 본 발명(I)의 중합성 조성물을 충전해서 광중합함으로써 얻어지는 본 발명(II)의 중합물이 개재하므로 중합성 조성물의 중합시의 체적 수축률이 바람직하게는 4.0%이하, 보다 바람직하게는 3.0%이하가 된다. 이것에 의해, 중합성 조성물이 중합될 때에 투명 광학 수지층에 축적되는 내부응력을 저감시킬 수 있어 투명 광학 수지층(106)과 투광성의 보호부(103), 또는 투명 광학 수지층(106)과 화상 표시부(105)의 계면에 변형이 생기는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 중합성 조성물을 화상 표시부(105)와 투광성의 보호부(103) 사이에 개재시키고, 그 중합성 조성물을 중합시킨 경우에, 투명 광학 수지층(106)과 투광성의 보호부(103), 또는 투명 광학 수지층(106)과 화상 표시부(105)의 계면에서 발생되는 광의 산란을 저감시킬 수 있어 표시 화상의 휘도를 높임과 아울러 시인성을 향상시킬 수 있다.
여기서, 사용되는 광학 유리판으로서는 액정셀의 액정을 협지하는 유리판이나 액정셀의 보호판으로서 사용되고 있는 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 사용되는 아크릴 수지판으로서는 액정셀의 보호판으로서 사용되고 있는 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 이들 광학 유리판이나 아크릴 수지판의 평균 표면 조도는 통상 1.0nm이하이다.
또, 화상 표시부(105)와 투광성의 보호부(103) 사이에 본 발명(II)의 중합물, 본 발명(III)의 중합물, 본 발명(VI)의 광학용 점착 시트, 및 본 발명(VII)의 광학용 점착 시트 중 어느 하나에 의해 투명 광학 수지층(106)이 개재하고 있으므로 충격에 강하다.
또, 본 발명(IX)의 화상 표시 장치는 여러가지 형태를 취할 수 있다. 예를 들면, 액정 표시 장치 뿐만 아니라, 예를 들면, 유기 EL, 플라즈마 디스플레이 장치 등의 여러가지 패널 디스플레이에 적용할 수 있다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에만 제한되는 것은 아니다.
<점도의 측정>
점도는 이하의 방법에 의해 측정했다.
시료 1mL를 사용하고, 콘/플레이트형 점도계(Brookfield사제, 형식:DV-II+Pro, 스핀들의 형번:CPE-42)를 사용하고, 온도 25.0℃, 회전수 10rpm의 조건으로 점도가 거의 일정해졌을 때의 값을 측정했다.
<수 평균 분자량>
수 평균 분자량은 하기 조건으로 GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 값이다.
장치명:니폰 분코 가부시키가이샤제 HPLC 유닛 HSS-2000
컬럼:Shodex 컬럼 LF-804
이동상:테트라히드로푸란
유속:1.0mL/min
검출기:니폰 분코 가부시키가이샤제 RI-2031Plus
온도:40.0℃
시료량:샘플 루프 100μL
시료농도:0.5wt% 전후로 조제
(실시 합성예 1)
콘덴서, 적하 로트, 온도계 및 교반기가 부착된 300mL 세퍼러블 플라스크에 수소첨가 말단 수산기 함유 폴리부타디엔(수산기가 47.1mgKOH/g, 상품명;NISSO-PB GI-2000, 니폰 소다 가부시키가이샤제) 180g 및 디옥틸주석디라울레이트 20mg을 넣고, 오일 배스를 사용해서 내온을 50℃로 승온했다. 그 후, 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트(상품명;카렌즈 MOI, 쇼와 덴코 가부시키가이샤제) 22.86g을 적하 로트로부터 15분에 걸쳐서 적하했다. 적하하고 있는 동안 내온이 70℃를 초과하지 않도록 했다. 적하 종료후, 70±2℃의 내온을 관리하고, 교반을 계속했다. 적외 흡수 스펙트럼으로 이소시아나토기의 C=O 신축 진동의 흡수가 보여지지 않게 되었으므로, 교반을 중지하고 반응을 종료하여 우레탄메타크릴레이트(이후, 우레탄메타크릴레이트 A)를 얻었다. 우레탄메타크릴레이트 A의 25℃에서의 점도는 94500mPa·s였다.
(실시 합성예 2)
콘덴서, 적하 로트, 온도계 및 교반기가 부착된 300mL 세퍼러블 플라스크에 수소첨가 말단 수산기 함유 폴리부타디엔(수산기가 47.1mgKOH/g, 상품명;NISSO-PB GI-3000, 니폰 소다 가부시키가이샤제) 180g 및 디옥틸 주석 디라울레이트 19mg을 넣고, 오일 배스를 사용해서 내온을 50℃로 승온했다. 그 후, 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트(상품명;카렌즈 MOI, 쇼와 덴코 가부시키가이샤제) 14.4g을 적하 로트로부터 15분에 걸쳐서 적하했다. 적하하고 있는 동안, 내온이 70℃를 초과하지 않도록 했다. 적하 종료후, 70±2℃의 내온을 관리하여 교반을 계속했다. 적외 흡수 스펙트럼으로 이소시아나토기의 C=O 신축 진동의 흡수가 보여지지 않게 되었으므로, 교반을 중지하여 반응을 종료하고, 우레탄메타크릴레이트(이후, 우레탄메타크릴레이트 B)를 얻었다. 우레탄메타크릴레이트 B의 25℃에서의 점도는 19900mPa·s였다.
(실시 배합예 1)
상기 우레탄 메타크릴레이트 A 50g, 라우릴아크릴레이트(상품명:브렘머 LA, 니치유 가부시키가이샤제) 49g, 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트](상품명:IRGANOX(등록상표) 1010, BASF제) 1g 및 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드(상품명:SpeedCure TPO, Lambson제) 1g을 자전·공전 믹서(가부시키가이샤 신키제, 상품명:아와토리렌타로 ARE-310)를 사용해서 혼합했다. 이 배합물을 중합성 조성물 A1로 했다. 중합성 조성물 A1의 25℃에서의 점도는 2500mPa·s였다.
(실시 배합예 2∼5 및 비교 배합예 1∼2)
실시 배합예 1과 같은 방법에 의해 표 1에 나타내는 배합 조성에 따라서 배합했다. 실시 배합예 2∼5에서 조제한 배합물을 각각 중합성 조성물 A2∼A5로 하고, 비교 배합예 1 및 비교 합성예 2에서 조제한 배합물을 각각 중합성 조성물 B1과 중합성 조성물 B2로 했다.
또한, 표 1 중에 기재된 실시 배합예 및 비교 배합예의 각 성분의 숫자의 단위는 「질량부」이다.
Figure pct00001
※1 우레탄아크릴레이트 자광 UV-3000B(폴리에스테르 타입의 우레탄아크릴레이트, 니혼 고세이 카가쿠 고교 가부시키가이샤제)
※2 쿠라프렌 UC-203(폴리이소프렌 중합물의 무수 말레산 부가물과 2-히드록시에틸메타크릴레이트의 에스테르화물, 가부시키가이샤 쿠라레제)
※3 이소보르닐아크릴레이트(상품명:IBXA, 오사카 유키 카가쿠 고교 가부시키가이샤제)
※4 디시클로펜테닐옥시에틸메타크릴레이트(상품명:FA-512M, 히타치 카세이 고교 가부시키가이샤제)
※5 라우릴아크릴레이트(상품명;브렘머 LA, 니치유 가부시키가이샤제)
※6 2-히드록시프로필메타크릴레이트(상품명:HPMA, 미츠비시레이온 가부시키가이샤제)
※7 2-히드록시부틸메타크릴레이트(상품명:라이트에스테르 HOB(N), 교에이샤 카가쿠 가부시키가이샤제)
※8 테르펜계 수소첨가 수지 CLEARON(등록상표) P85(야스하라케미컬 가부시키가이샤제)
※9 테르펜계 수소첨가 수지 CLEARON(등록상표) P105(야스하라케미컬 가부시키가이샤제)
※10 테르펜계 수소첨가 수지 CLEARON(등록상표) M105(야스하라케미컬 가부시키가이샤제)
※11 수소첨가 폴리부타디엔폴리올 GI-2000(니폰 소다 가부시키가이샤제)
※12 수소첨가 폴리부타디엔 BI-2000(니폰 소다 가부시키가이샤제)
※13 POLYVEST 110(화합물명:액상 폴리부타디엔, 에보닉데구사제)
※14 IRGANOX1010(화합물명:펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], BASF제)
※15 광중합 개시제 SpeedCure TPO(화합물명:2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, Lambson제)
※16 광중합 개시제 IRGACURE 184(화합물명:1-히드록시시클로헥실페닐케톤, BASF제)
<시험편의 작성 방법 및 초기의 광학 특성 평가>
상기 중합성 조성물 A1∼A5, 중합성 조성물 B1 및 중합성 조성물 B2를 각각 바코터를 사용해서 막두께가 200㎛가 되도록 유리판(50mm×50mm×0.7mm, 유리의 종류 상품명:EAGLE XG(등록상표), CORNING제)에 도포하고, 동종동형의 유리판으로 끼워넣고, 메탈할라이드 램프를 사용한 컨베이어식 자외선 조사 장치(가부시키가이샤 디에스 유아사라이팅제, 상품명:GSN2-40)를 사용해서 유리판 너머로 조사 강도 190mW/㎠(365nm의 값), 조사량 2800mJ/㎠(365nm의 값)의 조건으로 자외선을 조사해서 중합시키고, 유리판에 끼워진 막두께가 약 200㎛인 평가 시험용 중합물막을 얻었다. 중합성 조성물 A1∼A3, 중합성 조성물 B1 및 중합성 조성물 B2를 사용해서 제조된 상기 유리판에 끼워진 막두께가 약 200㎛인 평가 시험용 중합물막을 각각 시험편 A1∼A5, 시험편 B1 및 시험편 B2로 했다. 이들 시험편의 전체 광선 투과율, b*를 후술의 방법에 의해 측정했다. 그 결과를 표 3에 기재한다.
<전체 광선 투과율의 측정>
2매의 유리판(50mm×50mm×0.7mm, 유리의 종류 상품명:EAGLE XG(등록상표), CORNING제) 사이에 200㎛ 두께의 증류수를 넣은 것을 레퍼런스로 사용해서 상기 시험편 A1∼A5, 시험편 B1 및 시험편 B2의 전체 광선 투과율을 JIS K 7361-1에 준거해서 측정했다.
<b*의 측정>
2매의 유리판(50mm×50mm×0.7mm, 유리의 종류 상품명:EAGLE XG(등록상표), CORNING제) 사이에 200㎛ 두께의 증류수를 넣은 것을 레퍼런스로 사용하고, 상기 시험편 A1∼A5, 시험편 B1 및 시험편 B2의 b*를 JIS Z 8729에 준거해서 측정했다.
<헤이즈의 측정>
2매의 유리판(50mm×50mm×0.7mm, 유리의 종류 상품명:EAGLE XG(등록상표), CORNING제) 사이에 200㎛ 두께의 증류수를 넣은 것을 레퍼런스로 사용하고, 상기 시험편 A1∼A5, 시험편 B1 및 시험편 B2의 헤이즈를 JIS K 7136에 준거해서 측정했다.
<굴절율의 측정>
2매의 실리콘으로 코팅된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 사용하고, 그 사이에 중합성 조성물 A1∼A5, 중합성 조성물 B1 및 중합성 조성물 B2를 막두께가 200㎛가 되도록 끼워넣고, 메탈할라이드 램프를 사용한 컨베이어식 자외선 조사 장치(가부시키가이샤 디에스 유아사라이팅제, 상품명:GSN2-40)를 사용하고, 실리콘으로 코팅된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 너머로 조사 강도 190mW/㎠(365nm의 값), 조사량 2800mJ/㎠(365nm의 값)의 조건으로 자외선을 조사해서 중합시키고, 실리콘으로 코팅된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름에 끼워진 막두께가 약 200㎛인 평가 시험용의 중합물막을 얻었다. 이 중합물막을 실리콘으로 코팅된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름으로부터 박리하고, JIS K 7105에 준거해서 측정했다. 그 결과를 표 2에 기재한다.
<유전율의 측정>
2매의 실리콘으로 코팅된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 사용하고, 그 사이에 중합성 조성물 A1∼A5, 중합성 조성물 B1 및 중합성 조성물 B2를 막두께가 2mm가 되도록 끼워넣고, 메탈할라이드 램프를 사용한 컨베이어식 자외선 조사 장치(가부시키가이샤 디에스 유아사라이팅제, 상품명:GSN2-40)를 사용해서 실리콘으로 코팅된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 너머로 조사 강도 190mW/㎠(365nm의 값), 조사량 2800mJ/㎠(365nm의 값)의 조건으로 자외선을 조사해서 중합시키고, 실리콘으로 코팅된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름에 끼워진 막두께가 약 2mm인 평가 시험용의 중합물막을 얻었다. 이 중합물막을 실리콘으로 코팅된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름으로부터 박리하고, 임피던스 애널라이저(아지레이트 테크놀노로지 가부시키가이샤제, 상품명:4294A 프레시젼 임피던스 애널라이저 40Hz-110MHz)를 사용해서 측정했다. 그 결과를 표 2에 기재한다.
또한, 중합성 조성물 A1∼A5, 중합성 조성물 B1 및 중합성 조성물 B2를 중합해서 얻어진 실리콘으로 코팅된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 박리한 중합물막을 각각 중합물막 A1∼A5, 중합물막 B1 및 중합물막 B2로 한다.
<중합시의 체적 수축률의 측정>
중합전의 중합성 조성물 A1∼A5, 중합성 조성물 B1 및 중합성 조성물 B2와, 이들의 중합물(즉, 중합물막 A1∼A5, 중합물막 B1 및 중합물막 B2)의 밀도를 자동 비중계(형식:DMA-220H, 신코 덴시 가부시키가이샤제)를 사용해서 23℃의 온도조건으로 측정하고, 하기 식으로부터 중합시의 체적 수축률을 구했다.
중합시의 체적 수축률(%)=(중합물의 밀도-중합성 조성물의 밀도)/(중합물의 밀도)×100
그 결과를 표 2에 기재한다.
<인장 탄성률의 측정>
중합물막 A1∼A5, 중합물막 B1 및 중합물막 B2를 인장 시험기(가부시키가이샤 Shimadzu Corporation제, EZ Test/CE)에 고정하고, 23℃에 있어서 인장속도 500mm/min으로 시험을 행하여 인장 탄성률을 구했다. 그 결과를 표 2에 기재한다.
<고온조건하에서 보존했을 때의 전체 광선 투과율, b*값의 측정>
상기 시험편 A1∼A5, 시험편 B1 및 시험편 B2를 각각 70℃, 85℃ 및 95℃의 항온기에 넣어 500시간 경과후의 시험편을 사용해서 상기 방법에 의해 전체 광선 투과율 b*를 측정했다. 그 결과를 표 3에 기재한다.
Figure pct00002
Figure pct00003
표 2, 표 3의 결과로부터 본 발명(I)의 중합성 조성물은 중합시의 체적 수축률이 낮고, 또한 본 발명(I)의 중합성 조성물을 중합해서 얻어진 중합물막은 고온조건으로 장기간 보존했을 경우에도 착색이나 흐림 등의 외관변화가 일어나기 어려워 양호한 광투과성을 유지할 수 있는 것을 알 수 있었다.
(산업상의 이용 가능성)
이상과 같이, 본 발명(I)의 중합성 조성물은 중합시의 체적 수축률이 낮고,또한 본 발명(I)의 중합성 조성물을 중합해서 얻어진 중합물막은 고온조건으로 장기간 보존했을 경우에도 착색이나 흐림 등의 외관변화가 일어나기 어려워 양호한 광투과성을 유지할 수 있으므로, 상기 중합물막을 화상 표시 장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재시키는 투명 광학 수지층으로서 사용한 경우에는 양호한 광학 점착층을 제공할 수 있다.
따라서, 상기 중합물을 화상 표시 장치에 사용하는 것은 유용하다.
101, 102: 화상 표시 장치
103: 투광성의 보호부
104: 터치 센서
105: 화상 표시부
106, 106a, 106b: 투명 광학 수지층

Claims (14)

  1. 화상 표시 장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재시키는 투명 광학 수지층을 형성하기 위한 중합성 조성물로서, 그 중합성 조성물은,
    (1) 수소첨가 폴리올레핀 폴리올과, 이소시아나토기 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 반응시켜서 얻어지는 우레탄(메타)아크릴레이트,
    (2) 탄소수 6이상의 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물, 및
    (3) 광중합 개시제를 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    (4) 수소첨가 석유 수지, 테르펜계 수소첨가 수지, 수소첨가 로진 에스테르, 및 수소첨가 폴리올레핀으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    (5) 알콜성 수산기를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    (6) 수소첨가 폴리올레핀 폴리올을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    (7) 비수소첨가 폴리올레핀을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중합성 조성물.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물을 중합시켜서 얻어지는 것을 특징으로 하는 중합물.
  7. 화상 표시 장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재시키는 투명 광학 수지층으로서 사용되는 중합물로서, 23℃, 주파수 100kHz, 인가 전압 100mV의 조건하에서의 상기 중합물의 유전율이 3.0이하이며 또한 2매의 유리 사이에 존재하는 200㎛ 두께로 조정된 상기 중합물의 95℃에서 500시간의 조건으로 보존한 후의 JIS Z 8729에 기재된 색좌표 b*값이 1.0미만인 것을 특징으로 하는 중합물.
  8. 화상 표시부를 갖는 기부와, 투광성의 보호부와, 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재하는 투명 광학 수지층을 포함하는 화상 표시 장치의 제조 방법으로서, 그 방법은,
    제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물을 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재시키는 공정, 및
    광중합 개시제가 감광 가능한 광을 상기 중합성 조성물에 조사해서 투명 광학 수지층을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  9. 화상 표시부를 갖는 기부와, 투광성의 보호부와, 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재하는 투명 광학 수지층을 포함하는 화상 표시 장치의 제조 방법으로서, 그 방법은,
    제 7 항에 기재된 중합물을 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재시키는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  10. 화상 표시 장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재시키는 투명 광학 수지층으로서 사용되는 광학용 점착 시트를 제조하기 위한 중합성 조성물로서, 그 중합성 조성물은 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물인 것을 특징으로 하는 중합성 조성물.
  11. 제 10 항에 기재된 중합성 조성물을 30∼300㎛의 두께로 도포하고, 광중합 개시제가 감광 가능한 광을 그 조성물에 조사해서 중합시킴으로써 얻어지는 것을 특징으로 하는 광학용 점착 시트.
  12. 화상 표시 장치의 화상 표시부와 투광성의 보호부 사이에 개재시키는 투명 광학 수지층으로서 사용되는 광학용 점착 시트로서, 23℃, 주파수 100kHz, 인가 전압 100mV의 조건하에서의 상기 광학용 점착 시트의 유전율이 3.0이하이며 또한 2매의 유리 사이에 존재하는 200㎛ 두께로 조정된 상기 중합물의 95℃에서 500시간의 조건으로 보존한 후의 JIS Z 8729에 기재된 색좌표 b*값이 1.0미만인 것을 특징으로 하는 광학용 점착 시트.
  13. 화상 표시부를 갖는 기부와, 투광성의 보호부와, 상기 기부와 상기 보호부 사이에 개재되는 투명 광학 수지층을 포함하는 화상 표시 장치의 제조 방법으로서, 그 방법은,
    제 11 항 또는 제 12 항에 기재된 광학용 점착 시트를 사용해서 상기 기부와 상기 보호부를 접합하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  14. 제 8 항, 제 9 항 또는 제 13 항 중 어느 한 항에 기재된 화상 표시 장치의 제조 방법에 의해 제조된 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.
KR1020147015071A 2012-03-12 2013-02-28 중합성 조성물, 중합물, 화상 표시 장치 및 그 제조 방법 KR101701183B1 (ko)

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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015520787A (ja) * 2012-05-22 2015-07-23 ヘンケル ユーエス アイピー エルエルシー 光学的に透明な光硬化性液状接着剤
KR102201622B1 (ko) * 2013-06-06 2021-01-12 요코하마 고무 가부시키가이샤 광 경화성 수지 및 광 경화성 수지 조성물
JP6270145B2 (ja) * 2014-04-30 2018-01-31 荒川化学工業株式会社 光学用紫外線硬化型接着剤組成物、該硬化層および光学部材
KR102485692B1 (ko) * 2015-12-28 2023-01-05 아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 폴리이미드계 접착제
CN105859586A (zh) * 2016-04-15 2016-08-17 江苏利田科技股份有限公司 一种2官能度聚碳酸酯聚氨酯丙烯酸酯及其制备方法和应用
JP7322454B2 (ja) * 2018-03-29 2023-08-08 三菱ケミカル株式会社 粘着シート、積層シート及びそれを用いた画像表示装置
US11773202B2 (en) 2019-01-11 2023-10-03 Nitto Shinko Corporation Curable compound, curable composition, and method for producing curable composition
JP7449068B2 (ja) 2019-01-11 2024-03-13 日東シンコー株式会社 硬化性組成物
JP7382214B2 (ja) 2019-01-11 2023-11-16 日東シンコー株式会社 硬化性化合物、硬化性組成物、及び、硬化性組成物の製造方法
US20220081504A1 (en) * 2019-01-11 2022-03-17 Nitto Shinko Corporation Curable composition
CN112346602A (zh) * 2019-08-08 2021-02-09 英属维尔京群岛商天材创新材料科技股份有限公司 触控面板及其制作方法
DE102021130504A1 (de) 2021-11-22 2023-05-25 Delo Industrie Klebstoffe Gmbh & Co. Kgaa Strahlungshärtbare Stempelmasse, Verwendung der Masse und Verfahren zur Herstellung von gemusterten Erzeugnissen
JP7087213B1 (ja) * 2022-01-11 2022-06-20 第一工業製薬株式会社 二液硬化型ポリウレタン樹脂組成物

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04183770A (ja) * 1990-11-16 1992-06-30 Osaka Organic Chem Ind Ltd 放射線硬化型粘着剤組成物
JP2002309185A (ja) * 2001-04-13 2002-10-23 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物
JP2008282000A (ja) 2006-07-14 2008-11-20 Sony Chemical & Information Device Corp 樹脂組成物及び表示装置
JP2008291114A (ja) 2007-05-24 2008-12-04 Hitachi Chem Co Ltd 光硬化性樹脂組成物、実装回路板用の光硬化性防湿絶縁塗料、電子部品及びその製造方法
JP2008303362A (ja) 2007-06-11 2008-12-18 Hitachi Chem Co Ltd 光硬化性防湿絶縁塗料、この光硬化性防湿絶縁塗料を用いて防湿絶縁された電子部品及びその製造方法
JP2009096813A (ja) * 2007-10-12 2009-05-07 Mitsubishi Rayon Co Ltd 硬化性組成物、その硬化物
JP2009186958A (ja) 2007-04-09 2009-08-20 Sony Chemical & Information Device Corp 画像表示装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4590893B2 (ja) * 2004-03-23 2010-12-01 Ｊｓｒ株式会社 接着剤用液状硬化性樹脂組成物
JP2009235296A (ja) * 2008-03-28 2009-10-15 Asahi Kasei E-Materials Corp 低極性プレポリマー及びそれを含む感光性樹脂組成物
JP5646812B2 (ja) * 2008-12-15 2014-12-24 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー アクリル系熱伝導性シートおよびその製造方法
JP5472685B2 (ja) * 2009-05-27 2014-04-16 Ｄｉｃ株式会社 飛散防止粘着シート
JP5715330B2 (ja) * 2009-08-04 2015-05-07 株式会社ブリヂストン 光硬化性樹脂組成物及びそれからなる粘着シート
JP2011154162A (ja) * 2010-01-27 2011-08-11 Dainippon Printing Co Ltd コントラスト向上フィルタ転写シート
JP5603130B2 (ja) * 2010-05-07 2014-10-08 株式会社ブリヂストン 硬化物の製造方法、並びに硬化物、電子部品用シール材及び電子部品用ガスケット材

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04183770A (ja) * 1990-11-16 1992-06-30 Osaka Organic Chem Ind Ltd 放射線硬化型粘着剤組成物
JP2002309185A (ja) * 2001-04-13 2002-10-23 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物
JP2008282000A (ja) 2006-07-14 2008-11-20 Sony Chemical & Information Device Corp 樹脂組成物及び表示装置
JP2009186958A (ja) 2007-04-09 2009-08-20 Sony Chemical & Information Device Corp 画像表示装置
JP2008291114A (ja) 2007-05-24 2008-12-04 Hitachi Chem Co Ltd 光硬化性樹脂組成物、実装回路板用の光硬化性防湿絶縁塗料、電子部品及びその製造方法
JP2008303362A (ja) 2007-06-11 2008-12-18 Hitachi Chem Co Ltd 光硬化性防湿絶縁塗料、この光硬化性防湿絶縁塗料を用いて防湿絶縁された電子部品及びその製造方法
JP2009096813A (ja) * 2007-10-12 2009-05-07 Mitsubishi Rayon Co Ltd 硬化性組成物、その硬化物

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