KR101687327B1

KR101687327B1 - 화상 표시 장치의 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 화상 표시 장치

Info

Publication number: KR101687327B1
Application number: KR1020140040084A
Authority: KR
Inventors: 카즈히코 오오가
Original assignee: 쇼와 덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2013-04-04
Filing date: 2014-04-03
Publication date: 2016-12-16
Also published as: KR20140120857A; CN104102379A; JP2014203265A; TW201444879A; JP6108918B2; CN104102379B; TWI608025B

Abstract

(과제) 화상 표시부와 투광성의 보호부 또는 터치 센서부 사이에 중합물층을 갖는 화상 표시 장치의 제조방법에 있어서, 접합기가 투광성의 보호부 또는 터치 센서부의 전면과 동등이상의 투광성의 부분을 갖고 있지 않는 경우라도 적응 가능하며, 깨끗한 화상을 제공할 수 있는 방법을 제공한다.
(해결 수단) 화상 표시부와 투광성의 보호부 또는 터치 센서부 사이에 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물 및 α-히드록시알킬페논계 광중합 개시제를 포함하고 또한 25℃의 점도가 500∼5000mPa·s인 중합성 조성물을 개재시켜 접합기 너머에 투광성의 보호부 또는 터치 센서부의 일부에 광을 조사하여 중합성 조성물의 일부를 중합(가중합)하고, 그 후, 접합기로부터 인출하고, 노광기를 사용하고, 투광성의 보호부 또는 터치 센서부의 전면에 광을 조사해서 중합(본중합)을 행한다.

Description

화상 표시 장치의 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 화상 표시 장치{METHOD FOR MANUFACTURING IMAGE DISPLAY DEVICE AND IMAGE DISPLAY DEVICE MANUFACTURED THEREBY}

본 발명은 예를 들면 스마트폰이나 태블릿 PC 등에 사용되는 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치의 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 화상 표시 장치에 관한 것이다.

종래, 이러한 종류의 화상 표시 장치로서는 예를 들면 도 9에 나타내는 액정 표시 장치(101)가 알려져 있다.

도 9에 나타낸 바와 같이, 이 액정 표시 장치(101)는 액정 표시 패널(102) 상에 , 예를 들면, 유리나 플라스틱으로 이루어지는 투명한 보호부(103)를 갖고 있다.

이 경우, 액정 표시 패널(102) 표면 및 편광판(도시 생략)을 보호하기 위해서 보호부(103)와의 사이에 스페이서(104)를 개재시킴으로써 액정 표시 패널(102)과 보호부(103) 사이에 공극(105)이 형성되어 있다.

그러나, 액정 표시 패널(102)과 보호부(103) 사이의 공극(105)의 존재에 의해 광의 산란이 일어나고, 그것에 기인해서 콘트라스트나 휘도가 저하되고, 또 공극(105)의 존재는 패널의 박형화의 방해로 되어 있다.

이러한 문제를 감안하여, 액정 표시 패널과 보호부 사이의 공극에 수지를 충전하는 것(도 1 참조)도 제안되어 있다(예를 들면 특허문헌 1).

또한, 최근, 휴대전화에 있어서는 스마트폰이 주류로 되어 있고, 태블릿 PC라고 불리는 기기도 급속히 퍼지고 있다. 이러한 기기에는 정전용량방식의 터치패널이 탑재되어 있는 것이 일반적이다. 정전용량방식의 터치패널의 일례로서 도 2 또는 도 3에 나타내는 아웃셀형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시 장치 중의 터치센서(7)와 보호부(3) 사이에 충전되는 중합물(층)(도 2 및 도 3에 기재된 5a의 중합물(층)), 표시부(2)와 터치센서(7) 사이에 충전되는 중합물(층)(도 2 및 도 3에 기재된 5b의 중합물(층)), 커버 유리-터치센서 일체형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시 장치 중의 표시부(2)와 터치센서 일체형의 보호부(3) 사이에 충전되는 중합물(층)(도 4 및 도 5에 기재된 5b의 중합물(층)), 온셀형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시 장치 중의 터치센서를 표면에 갖는 표시부(2)와 보호부(3) 사이에 충전되는 중합물(층)(도 6에 기재된 5a의 중합물(층)) 및 인셀형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시 장치 중의 터치센서를 표면에 갖는 표시부(2)와 보호부(3) 사이에 충전되는 중합물(층)(도 7 및 도 8에 기재된 5a의 중합물(층))을 들 수 있다.

이들 중합물(층)의 제조방법에는 크게 나눠서, 예를 들면, 특허문헌 2에 기재된 바와 같이, 아웃셀형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시 장치 중의 터치센서와 보호부 사이, 표시부와 터치센서 사이, 커버 유리-터치센서 일체형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시 장치 중의 표시부와 터치센서 일체형의 보호부 사이, 온셀형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시 장치 중의 터치센서를 표면에 갖는 표시부와 보호부 사이, 또는 인셀형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시 장치 중의 터치센서를 표면에 갖는 표시부와 보호부 사이에 중합성 조성물을 개재시켜 자외선을 조사하고, 이 중합성 조성물을 중합시켜서 중합물층을 형성하는 공정을 갖는 화상 표시 장치의 제조방법과, 아웃셀형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시 장치 중의 터치센서와 보호부 사이, 표시부와 터치센서 사이, 커버 유리-터치센서 일체형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시 장치 중의 표시부와 터치센서 일체형의 보호부 사이, 온셀형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시 장치 중의 터치센서를 표면에 갖는 표시부와 보호부 사이, 또는 인셀형 정전용량방식 터치패널 탑재 표시 장치 중의 터치센서를 표면에 갖는 표시부와 보호부 사이를, 예를 들면, 특허문헌 3에 기재된 바와 같은 광학 점착 시트를 사용해서 접합하는 공정을 갖는 화상 표시 장치의 제조방법이 있다.

전자의 방법에서는 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 보호부 사이, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 터치 센서부 사이, 또는 투광성의 터치 센서부와 투광성의 보호부 사이에 중합성 조성물을 개재시키고, 접합기 등을 사용해서 소정의 두께로 하고, 투광성의 보호부 및/또는 투광성의 터치 센서부의 전면에 노광기를 사용해서 광을 조사하고, 중합성 조성물을 중합시켜서 중합물층을 형성하는 공정을 갖는 화상 표시 장치의 제조방법이 행해지고 있다.

그러나, 접합기를 사용해서 소정의 두께로 할 경우에는 접합기 너머에 투광성의 보호부 및/또는 투광성의 터치 센서부의 전면에 광을 조사하는 것이 바람직하지만, 그 때는 접합기에 투광성의 보호부 또는 투광성의 터치 센서부의 전면과 동등이상의 투광성의 부분을 갖는 접합기를 사용할 필요가 있고, 접합 면적이 커짐에 따라서 접합기의 설계가 곤란해진다. 접합기가 투광성의 보호부 또는 투광성의 터치 센서부의 전면과 동등이상의 투광성의 부분을 갖고 있지 않는 경우에는 접합기 너머에 투광성의 보호부 및/또는 투광성의 터치 센서부의 전면에 광을 조사하는 것이 곤란해지므로, 중합성 조성물을 개재시킨 중합 전의 물품을 접합기로부터 인출하고, 노광기를 사용해서 투광성의 보호부 또는 투광성의 터치 센서부의 전면에 광을 조사하게 된다. 그러나, 중합 전의 중합성 조성물을 개재시킨 물품을 접합기로부터 인출하기 위해서 상기 물품으로 중합 전의 중합성 조성물이 누출되는 경우나, 두께 정밀도가 손상된다는 결점을 갖고 있었다.

이상의 종래 기술의 문제점을, 이하 도 10을 사용해서 보다 상세하게 설명한다. 중합 전의 중합성 조성물을 개재시킨 물품(11)에 접합기(12)를 겹치고, 물품(11)을 소정의 두께로 한다(공정 b). 또한, 12는 접합기를 상방에서 본 도면이며, 접합기의 접합 부분의 상면을 의미한다. 13은 투광성의 부분이다. 접합기(12)를 사용해서 소정의 두께로 된 물품(11)은 겹쳐짐이 해제되어 접합기(12)로부터 인출된다(공정 d). 접합기(12)로부터 인출된 물품(11)은 노광기의 램프(14)를 사용해서 물품(11)의 투광성의 보호부 또는 투광성의 터치 센서부의 전면에 광이 조사된다(공정 e). 이 광의 조사에 의해, 중합성 조성물이 중합되어 중합물층이 개재된 화상 표시 장치(1)가 얻어진다. (f)에 나타내는 화상 표시 장치(1)에 있어서 점모양이 부여된 부분은 중합성 조성물이 중합된 부분을 나타낸다. 이 종래 기술의 문제점은 공정 d에서 물품(11)을 접합기(12)로부터 인출한 후 공정 e에서 광조사를 행할 때까지의 동안에 중합성 조성물은 아직 액상이므로 물품(11)으로부터 중합성 조성물이 누출되거나, 두께가 변화되어 두께 정밀도가 손상된다는 점이다.

일본 특허 공개 2005-55641호 공보 일본 특허 공개 2009-186958호 공보 일본 특허 공개 2012-233060호 공보

본 발명은 상기 종래 기술이 갖는 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 접합기는 투광성의 보호부 또는 투광성의 터치 센서부의 전면과 동등이상의 투광성의 부분을 갖고 있지 않는 경우라도 적응 가능하며, 깨끗한 화상을 제공할 수 있는 신규인 화상 표시 장치의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

또한, 본 발명은 이 화상 표시 장치의 제조방법에 의해 제조된 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 연구를 거듭한 결과, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 보호부 사이, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 터치 센서부 사이, 및 투광성의 터치 센서부와 투광성의 보호부 사이 중에서 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시키고, 접합기 너머에 투광성의 보호부 및/또는 투광성의 터치 센서부의 일부에 광을 조사하고, 개재시킨 중합성 조성물의 광이 조사된 부분을 중합(가중합)하고, 그 후, 중합성 조성물을 개재시킨 중합 전의 시험 샘플을 접합기로부터 인출하고, 노광기를 사용해서 투광성의 보호부 및/또는 투광성의 터치 센서부의 전면에 광을 조사해서 중합(본중합)을 행함으로써 접합기가 투광성의 보호부 또는 투광성의 터치 센서부의 전면과 동등이상의 투광성의 부분을 갖고 있지 않는 경우라도 적응 가능하며, 또한, 상기 광중합성 조성물로서 특정 화합물을 포함하는 광중합성 조성물을 사용함으로써 본중합 후의 중합물에 있어서 가중합이 행해진 개소와 가중합이 행해지지 않은 개소의 경계의 근방에 경계선(굴절률차에 의해 생기는 선)이 발생하지 않고, 그 결과, 깨끗한 화상을 제공할 수 있는 것을 찾아내어 본 발명을 완성하기에 이르렀다.

즉, 본 발명(I)은,

화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 보호부 사이, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 터치 센서부 사이, 및 투광성의 터치 센서부와 투광성의 보호부 사이 중에서 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시키는 공정,

중합성 조성물의 일부에 투광성의 보호부 및 투광성의 터치 센서부에서 선택된 적어도 1개의 투광성의 부 너머에 광을 조사함으로써 중합성 조성물을 부분적으로 중합시키는 공정, 및

투광성의 보호부 및 투광성의 터치 센서부에서 선택된 적어도 1개의 투광성의 부의 전면에 광을 조사함으로써 부분적으로 중합된 개소를 포함하는 중합성 조성물을 중합하는 공정을 포함하는 화상 표시 장치의 제조방법으로서, 중합성 조성물은,

(성분 1) 아크릴로일기를 갖는 화합물 및 메타크릴로일기를 갖는 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물, 및

(성분 2) α-히드록시알킬페논계 광중합 개시제를 포함하고, 또한 중합성 조성물의 25℃의 점도가 500∼5000mPa·s인 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법에 관한 것이다.

본 발명(II)은 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 의해 제조하는 것이 가능한 화상 표시 장치에 관한 것이다.

또한 말하면 본 발명은 이하의 [1]∼[14]에 관한 것이다.

[1] 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 보호부 사이, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 터치 센서부 사이, 및 투광성의 터치 센서부와 투광성의 보호부 사이 중에서 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시키는 공정,

(성분 2) α-히드록시알킬페논계 광중합 개시제를 포함하고, 또한 중합성 조성물의 25℃의 점도가 500∼5000mPa·s인 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.

[2] [1]에 있어서, 중합성 조성물의 일부에 투광성의 보호부 및 투광성의 터치 센서부에서 선택된 적어도 1개의 투광성의 부 너머에 광을 조사함으로써 중합성 조성물을 부분적으로 중합시키는 공정에 있어서 광의 조사량은 365㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 적산 광량의 값으로 10∼1000mJ/㎠인 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.

[3] [1] 또는 [2]에 있어서, 중합성 조성물은,

(성분 3) 아실포스핀옥시드계 광중합 개시제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.

[4] [3]에 있어서, 성분 2와 성분 3의 비율이 질량비로 50:50∼95:5인 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.

[5] [1]~[4] 중 어느 하나에 있어서, 성분 1은,

수 평균 분자량이 1000∼40000인 아크릴로일기 함유 고분자 화합물 및 수 평균 분자량이 1000∼40000인 메타크릴로일기 함유 고분자 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 고분자 화합물, 및

분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물 및 분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.

[6] [1]~[4] 중 어느 하나에 있어서, 성분 1은,

우레탄아크릴레이트, 우레탄메타크릴레이트, 폴리이소프렌계 아크릴레이트, 폴리이소프렌계 메타크릴레이트, 폴리부타디엔계 아크릴레이트, 폴리부타디엔계 메타크릴레이트, 수첨 폴리이소프렌계 아크릴레이트, 수첨 폴리이소프렌계 메타크릴레이트, 수첨 폴리부타디엔계 아크릴레이트 및 수첨 폴리부타디엔계 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 고분자 화합물, 및

[7] [5] 또는 [6]에 있어서, 분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물 및 분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물은,

탄소수 8∼18의 탄화수소기를 갖는 아크릴레이트, 탄소수 8∼18의 탄화수소기를 갖는 메타크릴레이트, 에테르 결합을 갖는 아크릴레이트 및 에테르 결합을 갖는 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 화합물, 및

아크릴아미드계 화합물, 메타크릴아미드계 화합물, 알콜성 수산기 함유 아크릴레이트 및 알콜성 수산기 함유 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.

[8] [1]~[7] 중 어느 하나에 있어서, 중합성 조성물은,

(성분 4) 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 라디칼 중합을 억제하는 기능, 라디칼 중합을 금지하는 기능 및 광중합 개시 기능의 어느 것도 갖지 않는 탄소원자 및 수소원자로 구성된 화합물, 및, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 라디칼 중합을 억제하는 기능, 라디칼 중합을 금지하는 기능 및 광중합 개시 기능의 어느 것도 갖지 않는 탄소원자, 수소원자 및 산소원자로 구성된 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.

[9] [8]에 있어서, 성분 4는 25℃에서 액상인 화합물 및 25℃에서 고체인 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.

[10] [9]에 있어서, 성분 4는 25℃에서 액상인 화합물을 포함하고,

상기 25℃에서 액상인 화합물은 폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-프로필렌 공중합체 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부텐, 액상 폴리부타디엔, 액상 수첨 폴리부타디엔, 액상 폴리이소프렌, 액상 수첨 폴리이소프렌, 액상 폴리부타디엔 폴리올, 액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올, 액상 폴리이소프렌 폴리올 및 액상 수첨 폴리이소프렌 폴리올로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.

[11] [9]에 있어서, 성분 4는 25℃에서 액상인 화합물을 포함하고,

상기 25℃에서 액상인 화합물은 폴리에테르 폴리올, 폴리에스테르 폴리올 및 폴리카보네이트 폴리올로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.

[12] [9]에 있어서, 성분 4는 25℃에서 액상인 화합물을 포함하고,

상기 25℃에서 액상인 화합물은 액상 폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-프로필렌 공중합체 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부타디엔, 액상 수첨 폴리이소프렌, 액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올 및 액상 수첨 폴리이소프렌 폴리올로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.

[13] [9]에 있어서, 성분 4는 25℃에서 고체인 화합물을 포함하고,

상기 25℃에서 고체인 화합물은 수첨 석유 수지, 테르펜계 수첨 수지 및 수첨 로진에스테르로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.

[14] [1]∼[13] 중 어느 하나에 기재된 화상 표시 장치의 제조방법에 의해 제조하는 것이 가능한 화상 표시 장치.

(발명의 효과)

본 발명의 화상 표시 장치의 제조방법에 의하면, 접합기 너머에 투광성의 보호부 및/또는 투광성의 터치 센서부의 일부에 광을 조사하고, 중합성 조성물의 광이 조사된 부분을 중합(가중합)하고, 그 후, 부분적으로 중합된 중합성 조성물을 개재시킨 물품을 접합기로부터 인출하고, 노광기를 사용하고, 투광성의 보호부 또는 투광성의 터치 센서부의 전면에 광을 조사해서 중합(본중합)을 행하면 본중합 후의 중합물에 있어서 가중합이 행해진 개소와 가중합이 행해지지 않은 개소의 경계의 근방에 경계선(굴절률차에 의해 생기는 선)을 발생시키지 않고, 그 결과, 깨끗하고, 얼룩이 없는 화상 표시 장치를 제작할 수 있다.

도 1은 본 발명에 의한 표시 장치의 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명에 의한 표시 장치의 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명에 의한 표시 장치의 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명에 의한 표시 장치의 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 5는 본 발명에 의한 표시 장치의 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 6은 본 발명에 의한 표시 장치의 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 7은 본 발명에 의한 표시 장치의 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 8은 본 발명에 의한 표시 장치의 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 9는 종래 기술에 의한 표시 장치의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 10은 종래 기술에 의한 표시 장치의 제조 공정의 개략을 나타내는 도면이다.
도 11은 본 발명에 의한 표시 장치의 제조 공정의 개략을 나타내는 도면이다.

우선, 본 발명의 화상 표시 장치의 제조방법의 개요를 도 11을 참조해서 설명한다. 단, 본 발명은 도 11에 기재된 것에 한정되지 않는다. 도 11은 본 발명에 의한 표시 장치의 제조 공정의 개략을 나타내는 도면이다.

우선, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 보호부 사이, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 터치 센서부 사이, 및 투광성의 터치 센서부와 투광성의 보호부 사이 중에서 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시켜서 중합 전의 중합성 조성물을 개재시킨 물품(11)을 제작한다. 중합 전의 중합성 조성물을 개재시킨 물품(11)에 투광성의 부분(13)을 갖는 접합기(12)를 겹쳐 물품(11)을 소정의 두께로 한다(공정 b). 또한, 12는 접합기를 상방에서 본 도면이며, 접합기의 접합 부분의 상면을 의미한다. 이어서, 접합기(12) 너머에 투광성의 보호부 및/또는 투광성의 터치 센서부의 일부에 가노광용 램프(15)를 사용해서 광을 조사하고, 중합성 조성물을 부분적으로 중합(가중합)시킨다(공정 c). 접합기(12)를 사용해서 소정의 두께로 되고, 또한 부분적으로 중합된 개소를 포함하는 중합성 조성물이 개재되는 물품(11)은 겹쳐짐이 해제되어 접합기(12)로부터 인출된다(공정 d). 공정 d에 나타내어진 물품(11)에 있어서 점모양이 부여된 부분은 중합성 조성물이 중합된 부분을 나타낸다. 접합기(12)로부터 인출된 물품(11)은 그 후, 컨베이어 타입 등의 대형 노광기내의 램프(14)을 사용해서 물품(11)의 투광성의 보호부 및/또는 투광성의 터치 센서부의 전면에 광이 조사된다(공정 e). 이 광의 조사에 의해 중합성 조성물의 전면이 중합되고, 중합물층이 개재된 화상 표시 장치(1)가 얻어진다.

이하, 본 발명을 구체적으로 설명한다.

우선, 본 발명(I)에 대해서 설명한다.

본 발명(I)은 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 보호부 사이, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 터치 센서부 사이, 및 투광성의 터치 센서부와 투광성의 보호부 사이 중에서 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시키는 공정,

투광성의 보호부 및 투광성의 터치 센서부에서 선택되는 적어도 1개의 투광성의 부의 전면에 광을 조사함으로써 부분적으로 중합된 개소를 포함하는 중합성 조성물을 중합하는 공정을 포함하는 화상 표시 장치의 제조방법으로서, 중합성 조성물은,

(성분 1) 아크릴로일기를 갖는 화합물 및 메타크릴로일기 갖는 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물, 및

(성분 2) α-히드록시알킬페논계 광중합 개시제를 포함하고, 또한 중합성 조성물의 25℃의 점도가 500∼5000mPa·s인 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법이다.

우선, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 보호부 사이, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 터치 센서부 사이, 및 투광성의 터치 센서부와 투광성의 보호부 사이 중에서 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시키는 공정에 대해서 설명한다.

또한, 본 명세서에 기재된 「화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 보호부 사이」란 예를 들면, 도 1, 도 4, 도 5의 5b부나, 도 6∼도 8의 5a부를 의미한다. 또한, 본 명세서에 기재된 「화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 터치 센서부 사이」란 예를 들면, 도 2나 도 3의 5b부를 의미하고, 본 명세서에 기재된 「투광성의 터치 센서부와 투광성의 보호부 사이」란 예를 들면, 도 2나 도 3의 5a부를 의미한다.

화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 보호부 사이, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 터치 센서부 사이, 및 투광성의 터치 센서부와 투광성의 보호부 사이 중에서 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시키는 방법에는 특별히 제한은 없다.

화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 보호부 사이에 중합성 조성물을 개재시키는 경우에는 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부 상에 중합성 조성물을 도포하고, 그 후, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부의 중합성 조성물 도포면과 투광성의 보호부의 접합면을 중합성 조성물을 통해 접촉시켜도 투광성의 보호부의 접합면 상에 중합성 조성물을 도포하고, 그 후, 투광성의 보호부의 중합성 조성물 도포면과 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부의 접합면을 중합성 조성물을 통해 접촉시켜도 조금도 상관없으며, 특별히 제한은 없다.

또한, 중합성 조성물을 통해 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부의 중합성 조성물 도포면과 투광성의 보호부의 접합면을, 또는 투광성의 보호부의 중합성 조성물 도포면과 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부의 접합면을 접촉시킬 때에 중합성 조성물을 도포한 부를 상면으로 해서 접촉시켜도 중합성 조성물을 도포한 부를 하면으로 해서 접촉시켜도 조금도 상관없으며, 특별히 제한은 없다.

또한, 접촉시킨 후, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 보호부 사이에 있는 중합성 조성물을 펴서 넓혀 중합성 조성물의 두께를 소망의 두께로 조정하는 것이 필요하지만, 상면에 배치한 부의 자중만으로 펴서 넓혀도, 외부로부터 압력을 가해서 펴서 넓혀도 조금도 상관없고, 특별히 제한은 없다.

화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 터치 센서부 사이, 또는 투광성의 터치 센서부와 투광성의 보호부 사이에 중합성 조성물을 개재시키는 경우에 있어서도 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 보호부 사이에 중합성 조성물을 개재시키는 경우와 같으며, 특별히 제한은 없다.

또한, 이들 접합에는 접합기가 사용되는 것이 일반적이다. 그러나, 본 발명에 있어서 접합기를 사용하는 것은 필수적이지 않고, 접합기를 사용하지 않고 본 공정을 행해도 조금도 상관없다.

이어서, 중합성 조성물의 일부에 투광성의 보호부 및 투광성의 터치 센서부에서 선택되는 적어도 1개의 투광성의 부 너머에 광을 조사함으로써 중합성 조성물을 부분적으로 중합시키는 공정에 대해서 설명한다.

이 공정에서 사용되는 램프에 대해서는 후술의 성분 2 및 중합성 조성물이 성분 3을 포함하는 경우에는 성분 2 및 성분 3이 감광 가능한 광을 발할 수 있는 램프이면 특별히 제한은 없지만, 예를 들면, 메탈할라이드 램프, 고압 수은 램프, 초고압 UV 램프, Deep UV 램프, 크세논 램프 등을 사용할 수 있다.

또한, 본 공정에서는 투광성의 보호부 및 투광성의 터치 센서부에서 선택되는 적어도 1개의 투광성의 부 너머에 중합성 조성물의 일부에 광을 조사하게 된다. 여기에서 말하는 「일부」란 충전된 중합성 조성물의 전체 면적보다 적고 또한 본 공정 후부터 후술의 다음 공정이 개시될 때까지의 시간, 접합한 보호부, 터치 센서부, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부가 어긋나지 않을 정도의 면적이면 되는 것을 의미한다. 본 공정에서는 일반적으로는 충전된 중합성 조성물의 전체 면적에 대하여 3∼70%에 광을 조사하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 4∼65%, 더욱 바람직하게는 5∼60%이다. 충전된 중합성 조성물의 전체 면적의 3%미만에밖에 광을 조사하지 않는 경우에는 본 공정의 후부터 후술의 다음 공정이 개시될 때까지의 시간에 접합한 보호부, 터치 센서부, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부가 어긋나거나, 광을 조사하지 않는 부분의 중합성 조성물이 유동해서 접합한 면의 끝으로부터 흘러나와 버릴 가능성이 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다. 또한, 충전된 중합성 조성물의 전체 면적에 대하여 70%이상에 광을 조사하는 것은 접합 면적이 작은 경우에는 가능하지만, 접합의 면적이 커지면 접합기의 설계상의 큰 제약 사항이 되거나 또는 접합기의 덮개 너머에 그러한 대면적을 광조사하는 것은 노광기도 대규모인 것이 되지 않으면 안되어 실용적이라고는 할 수 없다.

또한, 본 공정에서 사용되는 광의 조사량은 365㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 적산 광량의 값으로 10∼1000mJ/㎠인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 100∼900mJ/㎠이며, 더욱 바람직하게는 130∼800mJ/㎠이다. 본 공정에서의 광의 조사량은 365㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 적산 광량의 값으로 10mJ/㎠미만의 경우에는 필요로 될수록 가중합이 진행되지 않는 것이 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다. 또한, 365㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 적산 광량의 값으로 1000mJ/㎠보다 많은 경우에는 중합성 조성물의 조성에 따라서는 가중합이 행해진 개소와 가중합이 행해지지 않은 개소의 경계의 근방에 경계선(굴절률차에 의해 생기는 선)이 발생해 버릴 가능성이 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다.

또한, 본 명세서에 기재된 「365㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 적산 광량의 값」이란 우시오 덴키 가부시키가이샤제 자외선 적산 광량계 UIT-250을 사용해서 측정된 적산 광량의 값이다.

또한, 본 공정에서 사용되는 광의 조도는 365㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 조도의 값으로 10∼400mW/㎠인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30∼300mW/㎠이며, 더욱 바람직하게는 50∼200mW/㎠이다. 10mW/㎠미만의 경우에는 조도부족으로 되고, 중합성 조성물의 종류에 따라서는 중합에 필요한 조도가 부족하게 될 가능성이 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다. 또한, 본 공정에서 사용되는 광의 조도는 365㎚를 검출하는 조도계를 사용해서 관측되는 에너지로 400mW/㎠보다 큰 경우에는 중합성 조성물의 종류에 따라서는 반응률이 90%미만밖에 진행되지 않는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다.

또한, 본 명세서에 기재된 「365㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 조도의 값」이란 우시오 덴키 가부시키가이샤제 자외선 적산 광량계 UIT-250을 사용해서 측정된 조도의 값이다.

이어서, 투광성의 보호부 및 투광성의 터치 센서부에서 선택된 적어도 1개의 투광성의 부의 전면에 광을 조사함으로써 부분적으로 중합된 개소를 포함하는 중합성 조성물을 중합하는 공정에 대해서 설명한다.

이 공정에서 사용되는 램프에 대해서는 후술의 성분 2 및 중합성 조성물이 성분 3을 포함하는 경우에는 성분 2 및 성분 3이 감광 가능한 광을 발할 수 있는 램프이면 특별히 제한은 없지만, 예를 들면, 메탈할라이드 램프, 고압 수은 램프, 초고압 UV 램프, Deep UV 램프, 크세논 램프 등을 사용할 수 있다. 또한, 램프의 조사 면적이 투광성의 보호부나 투광성의 터치 센서부의 한쪽면 전체보다 크거나 또는 컨베이어 방식의 노광기 등의 투광성의 보호부나 투광성의 터치 센서부의 한쪽면 전체를 단시간에 광조사 가능한 장치를 사용하는 것이 바람직하다.

또한, 본 공정에서의 광의 조사량은 365㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 관측되는 에너지로 1000∼10000mJ/㎠인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1500∼9000mJ/㎠이며, 더욱 바람직하게는 2000∼8000mJ/㎠이다. 이러한 365㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계로서는 예를 들면, 우시오 덴키 가부시키가이샤제 자외선 적산 광량계 UIT-250 등을 들 수 있다.

이어서, 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물에 대해서 설명한다.

본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물의 25℃의 점도가 500∼5000mPa·s이며, 바람직하게는 650∼4700mPa·s이며, 보다 바람직하게는 800∼4500mPa·s이다. 25℃에서의 중합성 조성물 점도가 500mPa·s미만인 경우에는 보호부, 터치 센서부 또는 화상 표시부를 갖는 기부의 상면에 중합성 조성물을 도포하고, 그 도포한 면을 반전시켜 하면으로 하고, 접합에 사용하는 다른 한쪽의 부와 접합하는 방법을 취하는 경우에는 반전시켰을 때에 액이 도포면으로부터 흘러내려 버리는 경우가 있다. 또한, 보호부, 터치 센서부 또는 화상 표시부를 갖는 기부에 중합성 조성물을 도포하고, 접합에 사용하는 다른 한쪽의 부를 위에서부터 밀착하는 경우에는 도포한 중합성 조성물이 상기 중합성 조성물의 자중으로 흘러 버려 접합에 사용하는 다른 한쪽의 부를 위에서부터 밀착시킬 때에 공기가 혼입되어 접합한 것 중에 기포가 잔존한 상태로 되어 버린다. 25℃에서의 중합성 조성물의 점도가 5000mPa·s보다 높은 경우에는 2개의 접합에 사용하는 부를 중합성 조성물을 개재해서 겹친 후의 중합성 조성물의 유동성이 극단적으로 작아지고 특히, 접합 면적이 큰 경우에는 접합면의 전면에 중합성 조성물을 넓게 퍼지게 하는 데에 긴 시간이 필요하게 되어 버려 바람직하지 못하다.

또한, 본 명세서에 기재된 점도는 콘/플레이트형 점도계(Brookfield사제, 형식:DV-II+Pro, 스핀들의 형번:CPE-42)를 사용하고, 회전수 5rpm의 조건으로 측정된 점도의 값이다.

이어서, 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물의 성분인 성분 1에 대해서 설명한다.

성분 1은 아크릴로일기를 갖는 화합물 및 메타크릴로일기를 갖는 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물이다.

성분 1은 아크릴로일기와 메타크릴로일기 중 어느 하나, 또는 양쪽을 분자내에 갖는 화합물이다.

단, 상술과 같이 성분 1을 포함하는 중합성 조성물의 25℃에서의 점도는 500∼5000mPa·s가 아니면 안된다. 따라서, 이들의 조건을 용이하게 충족시키기 위해서는 성분 1은 수 평균 분자량이 1000∼40000인 아크릴로일기 함유 고분자 화합물 및 수 평균 분자량이 1000∼40000인 메타크릴로일기 함유 고분자 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 고분자 화합물, 및 분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물 및 분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물을 병용해서 사용하는 것이 바람직하다.

수 평균 분자량이 1000∼40000인 아크릴로일기 함유 고분자 화합물 및 수 평균 분자량이 1000∼40000인 메타크릴로일기 함유 고분자 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 고분자 화합물은 25℃에서의 점도는 500mPa·s보다 훨씬 큰 것이 많다. 이들 고분자 화합물과 분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물 및 분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물을 병용함으로써 용이하게 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물의 25℃에서의 점도를 500∼5000mPa·s로 조정할 수 있다.

또한, 재료면에서 보면 우레탄아크릴레이트, 우레탄메타크릴레이트, 폴리이소프렌계 아크릴레이트, 폴리이소프렌계 메타크릴레이트, 폴리부타디엔계 아크릴레이트, 폴리부타디엔계 메타크릴레이트, 수첨 폴리이소프렌계 아크릴레이트, 수첨 폴리이소프렌계 메타크릴레이트, 수첨 폴리부타디엔계 아크릴레이트 및 수첨 폴리부타디엔계 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종이상의 고분자 화합물, 및 분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물 및 분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물을 병용해서 사용하는 것이 바람직하다.

우레탄아크릴레이트란 1개이상의 우레탄 결합을 갖고 또한 1개이상의 아크릴레이트기를 갖는 화합물이다.

우레탄아크릴레이트로서는 폴리에스테르 폴리올계 우레탄아크릴레이트, 폴리이소프렌계 우레탄아크릴레이트, 폴리부타디엔계 우레탄아크릴레이트 및 수첨 폴리이소프렌계 우레탄아크릴레이트가 바람직하다.

우레탄메타크릴레이트란 1개이상의 우레탄 결합을 갖고 또한 1개이상의 메타크릴레이트기를 갖는 화합물이다.

우레탄메타크릴레이트로서는 폴리에스테르 폴리올계 우레탄메타크릴레이트, 폴리이소프렌계 우레탄메타크릴레이트, 폴리부타디엔계 우레탄메타크릴레이트 및 수첨 폴리이소프렌계 우레탄메타크릴레이트가 바람직하게 사용된다.

폴리이소프렌계 아크릴레이트란 분자 중에 폴리이소프렌 구조와 아크릴레이트기를 갖는 화합물이다.

폴리이소프렌계 아크릴레이트로서는 이소프렌-무수 말레산 공중합체의 히드록실기 함유 아크릴레이트 부가물, 폴리이소프렌 폴리올과 아크릴산의 에스테르화물, 폴리이소프렌 폴리올과 아크릴산 에스테르의 에스테르 교환 반응물 등이 바람직하게 사용된다.

폴리이소프렌계 메타크릴레이트란 분자 중에 폴리이소프렌 구조와 메타크릴레이트기를 갖는 화합물이다.

폴리이소프렌계 메타크릴레이트로서는 이소프렌-무수 말레산 공중합체의 히드록실기 함유 메타크릴레이트 부가물, 폴리이소프렌 폴리올과 메타크릴산의 에스테르화물, 폴리이소프렌 폴리올과 메타크릴산 에스테르의 에스테르 교환 반응물 등이 바람직하게 사용된다. 시판품에서는 폴리이소프렌 구조단위를 갖는 메타크릴로일기 함유 화합물인 쿠라프렌 UC-102, UC-203(가부시키가이샤 쿠라레제) 등을 들 수 있다.

폴리부타디엔계 아크릴레이트란 분자 중에 폴리부타디엔 구조와 아크릴레이트기를 갖는 화합물이다.

폴리부타디엔계 아크릴레이트로서는 부타디엔-무수 말레산 공중합체의 히드록실기 함유 아크릴레이트 부가물, 폴리부타디엔 폴리올과 아크릴산의 에스테르화물, 폴리부타디엔 폴리올과 아크릴산 에스테르의 에스테르 교환 반응물 등이 바람직하게 사용된다. 시판품에서는 폴리부타디엔 구조단위를 갖는 아크릴레이트인 NISSO-PB TEA-1000(니폰 소다 가부시키가이샤제) 등을 들 수 있다.

폴리부타디엔계 메타크릴레이트란 분자 중에 폴리부타디엔 구조와 메타크릴레이트기를 갖는 화합물이다.

폴리부타디엔계 메타크릴레이트로서는 부타디엔-무수 말레산 공중합체의 히드록실기 함유 메타크릴레이트 부가물, 폴리부타디엔 폴리올과 메타크릴산의 에스테르화물, 폴리부타디엔 폴리올과 메타크릴산 에스테르의 에스테르 교환 반응물 등이 바람직하게 사용된다. 시판품에서는 폴리부타디엔 구조단위를 갖는 메타크릴레이트인 NISSO-PB TE-2000(니폰 소다 가부시키가이샤제) 등을 들 수 있다.

수첨 폴리이소프렌계 아크릴레이트란 분자 중에 수첨 폴리이소프렌 구조와 아크릴레이트기를 갖는 화합물이다.

수첨 폴리이소프렌 폴리올과 아크릴산의 에스테르화물, 수첨 폴리이소프렌 폴리올과 아크릴산 에스테르의 에스테르 교환 반응물, 수첨 폴리이소프렌 폴리올과 이소시아네이트기 함유 아크릴레이트의 부가물, 수첨 폴리이소프렌 폴리올, 폴리이소시아네이트 및 알콜성 수산기 함유 아크릴레이트의 부가물 등이 바람직하게 사용된다.

수첨 폴리이소프렌계 메타크릴레이트란 분자 중에 수첨 폴리이소프렌 구조와 메타크릴레이트기를 갖는 화합물이다.

수첨 폴리이소프렌 폴리올과 메타크릴산의 에스테르화물, 수첨 폴리이소프렌 폴리올과 메타크릴산 에스테르의 에스테르 교환 반응물, 수첨 폴리이소프렌 폴리올과 이소시아네이트기 함유 메타크릴레이트의 부가물, 수첨 폴리이소프렌 폴리올, 폴리이소시아네이트 및 알콜성 수산기 함유 메타크릴레이트의 부가물 등이 바람직하게 사용된다.

수첨 폴리부타디엔계 아크릴레이트란 분자 중에 수첨 폴리부타디엔 구조와 아크릴레이트기를 갖는 화합물이다.

수첨 폴리부타디엔 폴리올과 아크릴산의 에스테르화물, 수첨 폴리부타디엔 폴리올과 아크릴산 에스테르의 에스테르 교환 반응물, 수첨 폴리부타디엔 폴리올과 이소시아네이트기 함유 아크릴레이트의 부가물, 수첨 폴리부타디엔 폴리올, 폴리이소시아네이트 및 알콜성 수산기 함유 아크릴레이트의 부가물 등이 바람직하게 사용된다. 시판품에서는 폴리부타디엔 구조단위를 갖는 아크릴레이트인 NISSO-PB TEAI-1000(니폰 소다 가부시키가이샤제) 등을 들 수 있다.

수첨 폴리부타디엔계 메타크릴레이트란 분자 중에 수첨 폴리부타디엔 구조와 메타크릴레이트기를 갖는 화합물이다.

수첨 폴리부타디엔 폴리올과 메타크릴산의 에스테르화물, 수첨 폴리부타디엔 폴리올과 메타크릴산 에스테르의 에스테르 교환 반응물, 수첨 폴리부타디엔 폴리올과 이소시아네이트기 함유 메타크릴레이트의 부가물, 수첨 폴리부타디엔 폴리올, 폴리이소시아네이트 및 알콜성 수산기 함유 메타크릴레이트의 부가물 등이 바람직하게 사용된다.

분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물이란 1분자 중에 아크릴로일기를 갖는 분자량 500이하의 화합물이다.

분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물로서는 예를 들면, 시클로헥실아크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸아크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜타닐에틸아크릴레이트, 4-tert-부틸시클로헥실아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트 등의 환상 지방족기를 갖는 아크릴레이트, 헥실아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트, 2-프로필헵틸아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실아크릴레이트, 이소옥타데실아크릴레이트, 2-헵틸운데실아크릴레이트 등의 쇄상 지방족기를 갖는 아크릴레이트, 메톡시에틸아크릴레이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 3-메틸-3-옥세타닐메틸아크릴레이트, 1,4-디옥사스피로[4.5]데크-2-일메틸아크릴레이트, (2-메틸-2-에틸-1,3-디옥솔란-4-일)메틸아크릴레이트 등의 분자 중에 에테르 결합을 갖는 아크릴레이트, α-아크릴옥시-γ-부티로락톤 등의 환상 에스테르를 갖는 아크릴로일기 함유 화합물, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 3-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시부틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-(o-페닐페녹시)프로필아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴아미드, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시-3-(o-페닐페녹시)프로필메타크릴레이트 등의 알콜성 수산기 함유 아크릴레이트, N,N-디메틸아크릴아미드, N,N-디에틸아크릴아미드, N-아크릴로일모리폴린, N-이소프로필아크릴아미드, N-tert-부틸아크릴아미드, N-메톡시메틸아크릴아미드, N-에톡시메틸아크릴아미드, N-n-부톡시메틸아크릴아미드, N-이소부톡시메틸아크릴아미드 등의 아크릴아미드계 화합물 등을 들 수 있다.

아크릴로일기 함유 화합물의 분자량의 하한은 한정되는 것은 아니지만, 아크릴로일기 함유 화합물의 분자량은 바람직하게는 86이상이다.

분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물이란 1분자 중에 메타크릴로일기를 갖는 분자량 500이하의 화합물이다.

분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물로서는 예를 들면, 이소보르닐메타크릴레이트, 디시클로펜테닐메타크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸메타크릴레이트, 디시클로펜타닐메타크릴레이트, 디시클로펜타닐에틸메타크릴레이트, 4-tert-부틸시클로헥실메타크릴레이트 등의 환상 지방족기를 갖는 메타크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트, 이소노닐메타크릴레이트, 2-프로필헵틸메타크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실메타크릴레이트, 이소옥타데실메타크릴레이트, 2-헵틸운데실메타크릴레이트 등의 쇄상 지방족기를 갖는 메타크릴레이트, 메톡시에틸메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르메타크릴레이트, 페녹시에틸메타크릴레이트, 3-메틸-3-옥세타닐메틸메타크릴레이트, 1,4-디옥사스피로[4.5]데크-2-일메틸메타크릴레이트, (2-메틸-2-에틸-1,3-디옥솔란-4-일)메틸메타크릴레이트 등의 분자 중에 에테르 결합을 갖는 메타크릴레이트, α-메타크릴옥시-γ-부티로락톤 등의 환상 에스테르를 갖는 메타크릴로일기 함유 화합물, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시-3-(o-페닐페녹시)프로필메타크릴레이트 등의 알콜성 수산기 함유 메타크릴레이트, N,N-디메틸메타크릴아미드, N,N-디에틸메타크릴아미드, N-메타크릴로일모리폴린, N-이소프로필메타크릴아미드, N-tert-부틸메타크릴아미드, N-메톡시메틸메타크릴아미드, N-에톡시메틸메타크릴아미드, N-n-부톡시메틸메타크릴아미드, N-이소부톡시메틸메타크릴아미드 등의 메타크릴아미드계 화합물 등을 들 수 있다.

메타크릴로일기 함유 화합물의 분자량의 하한은 한정되는 것은 아니지만, 메타크릴로일기 함유 화합물의 분자량은 바람직하게는 100이상이다.

이들 분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물이나 분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물 중에서 바람직한 조합은,

(a)시클로헥실아크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸아크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜타닐에틸아크릴레이트, 4-tert-부틸시클로헥실아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 헥실아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트, 2-프로필헵틸아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실아크릴레이트, 이소옥타데실아크릴레이트, 2-헵틸운데실아크릴레이트 등의 탄소수 8∼탄소수 18의 탄화수소기를 갖는 아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 디시클로펜테닐메타크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸메타크릴레이트, 디시클로펜타닐메타크릴레이트, 디시클로펜타닐에틸메타크릴레이트, 4-tert-부틸시클로헥실메타크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트, 이소노닐메타크릴레이트, 2-프로필헵틸메타크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실메타크릴레이트, 이소옥타데실메타크릴레이트, 2-헵틸운데실메타크릴레이트 등의 탄소수 8∼탄소수 18의 탄화수소기를 갖는 메타크릴레이트, 메톡시에틸아크릴레이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 3-메틸-3-옥세타닐메틸아크릴레이트, 1,4-디옥사스피로[4.5]데크-2-일메틸아크릴레이트, (2-메틸-2-에틸-1,3-디옥솔란-4-일)메틸아크릴레이트 등의 에테르 결합을 갖는 아크릴레이트 및 메톡시에틸메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르메타크릴레이트, 페녹시에틸메타크릴레이트, 3-메틸-3-옥세타닐메틸메타크릴레이트, 1,4-디옥사스피로[4.5]데크-2-일메틸메타크릴레이트, (2-메틸-2-에틸-1,3-디옥솔란-4-일)메틸메타크릴레이트 등의 에테르 결합을 갖는 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 화합물과,

(b)N,N-디메틸아크릴아미드, N,N-디에틸아크릴아미드, N-아크릴로일모리폴린, N-이소프로필아크릴아미드, N-tert-부틸아크릴아미드, N-메톡시메틸아크릴아미드, N-에톡시메틸아크릴아미드, N-n-부톡시메틸아크릴아미드, N-이소부톡시메틸아크릴아미드 등의 아크릴아미드계 화합물, N,N-디메틸메타크릴아미드, N,N-디에틸메타크릴아미드, N-메타크릴로일모리폴린, N-이소프로필메타크릴아미드, N-tert-부틸메타크릴아미드, N-메톡시메틸메타크릴아미드, N-에톡시메틸메타크릴아미드, N-n-부톡시메틸메타크릴아미드, N-이소부톡시메틸메타크릴아미드 등의 메타크릴아미드계 화합물, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 3-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시부틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-(o-페닐페녹시)프로필아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴아미드, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시-3-(o-페닐페녹시)프로필메타크릴레이트 등의 알콜성 수산기 함유 아크릴레이트, 및 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시-3-(o-페닐페녹시)프로필메타크릴레이트 등의 알콜성 수산기 함유 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 화합물을 병용하는 것이 바람직하다.

상기 화합물을 조합해서 사용함으로써 후술의 본 발명(II)의 화상 표시 장치 중의 중합물의 고온조건하에서의 착색을 억제할 수 있고 또한 후술의 본 발명(II)의 화상 표시 장치 중의 중합물의 고온다습하에서의 백화 현상을 억제할 수 있다.

상기 탄소수 8∼탄소수 18의 탄화수소기를 갖는 아크릴레이트, 상기 탄소수 8∼탄소수 18의 탄화수소기를 갖는 메타크릴레이트, 상기 에테르 결합을 갖는 아크릴레이트 및 상기 에테르 결합을 갖는 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 화합물과, 상기 아크릴아미드계 화합물, 상기 메타크릴아미드계 화합물, 상기 알콜성 수산기 함유 아크릴레이트 및 상기 알콜성 수산기 함유 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 화합물의 바람직한 사용 비율은 질량비로 40:60∼90:10이며, 더욱 바람직하게는 45:55∼85:15이며, 특히 바람직하게는 50:50∼80:20이다. 상기 탄소수 8∼탄소수 18의 탄화수소기를 갖는 아크릴레이트, 상기 탄소수 8∼탄소수 18의 탄화수소기를 갖는 메타크릴레이트, 상기 에테르 결합을 갖는 아크릴레이트 및 상기 에테르 결합을 갖는 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 화합물과, 상기 아크릴아미드계 화합물, 상기 메타크릴아미드계 화합물, 상기 알콜성 수산기 함유 아크릴레이트 및 상기 알콜성 수산기 함유 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 화합물의 사용 비율이 40:60보다 작은 경우에는 중합물의 내수성이 나빠지는 경우가 생긴다. 또한, 상기 탄소수 8∼탄소수 18의 탄화수소기를 갖는 아크릴레이트, 상기 탄소수 8∼탄소수 18의 탄화수소기를 갖는 메타크릴레이트, 상기 에테르 결합을 갖는 아크릴레이트 및 상기 에테르 결합을 갖는 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 화합물과, 상기 아크릴아미드계 화합물, 상기 메타크릴아미드계 화합물, 상기 알콜성 수산기 함유 아크릴레이트 및 상기 알콜성 수산기 함유 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 화합물의 사용 비율이 90:10보다 큰 경우에는 중합물의 고온다습하에서의 백화 현상이 일어날 가능성이 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다.

본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물 중의 성분 1의 사용량은 성분 1과 후술의 성분 4를 합친 총량에 대하여 25∼75질량%인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 30∼70질량%이며, 특히 바람직하게는 35∼65질량%이다. 성분 1의 사용량이 성분 1과 후술의 성분 4를 합친 총량에 대하여 25질량%미만인 경우에는 중합성 조성물을 중합해서 얻어지는 중합물의 도막강도가 부족하게 되는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다. 또한, 성분 1의 사용량이 성분 1과 후술의 성분 4를 합친 총량에 대하여 75질량%보다 많은 경우에는 중합시의 체적 수축률이 지나치게 커져 편광판이 변형되는 경우, 또는 접합된 부와 중합물의 계면에 큰 응력이 발생해서 결과적으로 접합된 부와 중합물의 밀착 강도가 저하되는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다.

또한, 성분 1 중의 수 평균 분자량이 1000∼40000인 아크릴로일기 함유 고분자 화합물 및 수 평균 분자량이 1000∼40000인 메타크릴로일기 함유 고분자 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 고분자 화합물과, 분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물 및 분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 화합물의 사용 비율은 질량비로 45:55∼85:15인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 질량비로 50:50∼80:20이다. 수 평균 분자량이 1000∼40000인 아크릴로일기 함유 고분자 화합물 및 수 평균 분자량이 1000∼40000인 메타크릴로일기 함유 고분자 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 고분자 화합물과, 분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물 및 분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 화합물의 사용 비율이 질량비로 45:55보다 작은 경우에는 중합시 체적 수축률이 지나치게 커질 경우, 또는 중합물의 도막강도가 부족하게 되는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다. 또한, 수 평균 분자량이 1000∼40000인 아크릴로일기 함유 고분자 화합물 및 수 평균 분자량이 1000∼40000인 메타크릴로일기 함유 고분자 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 고분자 화합물과, 분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물 및 분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 화합물의 사용 비율이 질량비로 80:20보다 큰 경우에는 중합성 조성물의 점도가 지나치게 높아지는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다.

또한, 성분 1 중의 우레탄아크릴레이트, 우레탄메타크릴레이트, 폴리이소프렌계 아크릴레이트, 폴리이소프렌계 메타크릴레이트, 폴리부타디엔계 아크릴레이트, 폴리부타디엔계 메타크릴레이트, 수첨 폴리이소프렌계 아크릴레이트, 수첨 폴리이소프렌계 메타크릴레이트, 수첨 폴리부타디엔계 아크릴레이트 및 수첨 폴리부타디엔계 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 고분자 화합물과, 분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물 및 분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 화합물의 사용 비율도 마찬가지로 질량비로 45:55∼85:15인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 질량비로 50:50∼80:20이다. 우레탄아크릴레이트, 우레탄메타크릴레이트, 폴리이소프렌계 아크릴레이트, 폴리이소프렌계 메타크릴레이트, 폴리부타디엔계 아크릴레이트, 폴리부타디엔계 메타크릴레이트, 수첨 폴리이소프렌계 아크릴레이트, 수첨 폴리이소프렌계 메타크릴레이트, 수첨 폴리부타디엔계 아크릴레이트 및 수첨 폴리부타디엔계 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 고분자 화합물과, 분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물 및 분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 화합물의 사용 비율이 질량비로 45:55보다 작은 경우에는 중합시 체적 수축률이 지나치게 커지는 경우, 또는 중합물의 도막강도가 부족하게 되는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다. 또한, 우레탄아크릴레이트, 우레탄메타크릴레이트, 폴리이소프렌계 아크릴레이트, 폴리이소프렌계 메타크릴레이트, 폴리부타디엔계 아크릴레이트, 폴리부타디엔계 메타크릴레이트, 수첨 폴리이소프렌계 아크릴레이트, 수첨 폴리이소프렌계 메타크릴레이트, 수첨 폴리부타디엔계 아크릴레이트 및 수첨 폴리부타디엔계 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 고분자 화합물과, 분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물 및 분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 화합물의 사용 비율이 질량비로 80:20보다 큰 경우에는 중합성 조성물의 점도가 지나치게 높아지는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다.

이어서, 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물의 성분인 성분 2에 대해서 설명한다.

성분 2는 α-히드록시알킬페논계 광중합 개시제이다.

α-히드록시알킬페논계 광중합 개시제로서는 예를 들면, 1-히드록시-시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-히드록시-1-{4-[4-(2-히드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]페닐}-2-메틸-프로판-1-온 등을 들 수 있다. 이들 화합물을 단독으로 사용해도, 2종류이상을 병용해도 조금도 상관없다.

또한, 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물에는 하기 성분 3을 사용할 수 있고 또한 사용하는 것이 바람직하다.

성분 3은 아실포스핀옥시드계 광중합 개시제이다.

아실포스핀옥시드계 광중합 개시제로서는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 2,6-디메톡시벤조일디페닐포스핀옥시드, 2,6-디클로로벤조일디페닐포스핀옥시드, 2,4,6-트리메틸벤조일메톡시페닐포스핀옥시드, 2,4,6-트리메틸벤조일에톡시페닐포스핀옥시드, 2,3,5,6-테트라메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)페닐포스핀옥시드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥시드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-4-프로필페닐포스핀옥시드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-1-나프틸포스핀옥시드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)페닐포스핀옥시드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥시드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥시드, 비스-(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥시드, (2,5,6-트리메틸벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥시드 등을 들 수 있다.

성분 2인 α-히드록시알킬페논계 광중합 개시제와 성분 3인 아실포스핀옥시드계 광중합 개시제의 사용 비율은 질량비로 50:50∼95:5인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 55:45∼93:7이며, 더욱 바람직하게는 58:42∼90:10이다. 성분 2인 α-히드록시알킬페논계 광중합 개시제와 성분 3인 아실포스핀옥시드계 광중합 개시제의 사용 비율이 95:5보다 커지면 아실포스핀옥시드계 광중합 개시제의 첨가 효과가 보여지지 않게 될 가능성이 있다. 또한, 성분 2인 α-히드록시알킬페논계 광중합 개시제와 성분 3인 아실포스핀옥시드계 광중합 개시제의 사용 비율이 50:50보다 작아지면 본중합 후의 중합물에 있어서 가중합이 행해진 개소와 가중합이 행해지지 않은 개소의 경계의 근방에 경계선(굴절률차에 의해 생기는 선)을 발생하지 않으므로 바람직한 것이라고는 할 수 없다.

본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물 중의 광중합 개시제의 사용량은 성분 1과 후술의 성분 4를 합한 총량 100질량부에 대하여 0.1∼10.0질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.2∼7.0질량부이며, 더욱 바람직하게는 0.3∼5.0질량부이다. 광중합 개시제의 사용량이 성분 1과 후술의 성분 4를 합한 총량 100질량부에 대하여 0.1질량부미만인 경우에는 광중합 개시제가 부족하게 되고, 중합이 불충분할 가능성이 있어 바람직한 것이 아니다. 또한, 광중합 개시제의 사용량이 성분 1과 후술의 성분 4를 합한 총량 100질량부에 대하여 10.0질량부보다 많은 경우에는 중합물의 분자량이 지나치게 작아지고, 중합물의 강도부족이 될 가능성이 있어 바람직한 것이 아니다.

또한, 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물 중에는 또한 하기 성분 4를 사용할 수 있고 또한 사용하는 것이 바람직하다.

성분 4는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 라디칼 중합을 억제하는 기능, 라디칼 중합을 금지하는 기능, 및 광중합 개시 기능의 어느 것도 갖지 않는 탄소원자 및 수소원자로 구성된 화합물, 및, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 라디칼 중합을 억제하는 기능, 라디칼 중합을 금지하는 기능, 및 광중합 개시 기능의 어느 것도 갖지 않는 탄소원자, 수소원자, 및 산소원자로 구성된 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물이다.

중합시의 체적 수축률을 낮게 억제할 목적으로 성분 4를 사용한다. 또한, 중합시의 체적 수축률을 억제하는 것 외에 유리나 아크릴 수지 등의 피착체에의 중합물의 밀착성을 증가시킬 목적으로 사용되는 경우도 있다.

성분 4로서는 25℃에서 액상인 화합물, 또는 25℃에서 고체인 화합물을 사용할 수 있다.

성분 4로서 사용되는 25℃에서 액상인 화합물로서는 예를 들면, 폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-프로필렌 공중합체 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부텐, 액상 폴리부타디엔, 액상 수첨 폴리부타디엔, 액상 폴리이소프렌, 액상 수첨 폴리이소프렌, 액상 폴리부타디엔 폴리올, 액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올, 액상 폴리이소프렌 폴리올, 액상 수첨 폴리이소프렌 폴리올, 수첨 다이머디올, 폴리에테르 폴리올, 폴리에스테르 폴리올, 폴리카보네이트 폴리올 등을 들 수 있다.

폴리(α-올레핀) 액상물이란 α-올레핀의 중합에 의해 제조되는 액상물이며, α-올레핀이란 탄소-탄소 이중 결합을 분자 말단에 1개 갖는 탄화수소 화합물이며, 예를 들면, 1-부텐, 1-펜텐, 1-헥센, 1-옥텐, 1-데센, 1-도데센, 1-테트라데센, 1-헥사데센, 1-옥타데센 등을 들 수 있다.

에틸렌-α-올레핀 공중합체 액상물이란 에틸렌과 α-올레핀을 공중합함으로써 제조되는 액상 중합물이다. α-올레핀이란 탄소-탄소 이중 결합을 분자 말단에 1개 갖는 탄화수소 화합물이며, 예를 들면, 1-부텐, 1-펜텐, 1-헥센, 1-옥텐, 1-데센, 1-도데센, 1-테트라데센, 1-헥사데센, 1-옥타데센 등을 들 수 있다.

프로필렌-α-올레핀 공중합체 액상물이란 프로필렌과 α-올레핀을 공중합함으로써 제조되는 액상 중합물이다. α-올레핀이란 탄소-탄소 이중 결합을 분자 말단에 1개 갖는 탄화수소 화합물이며, 예를 들면, 1-부텐, 1-펜텐, 1-헥센, 1-옥텐, 1-데센, 1-도데센, 1-테트라데센, 1-헥사데센, 1-옥타데센 등을 들 수 있다.

액상 폴리부텐이란 이소부텐의 단독중합, n-부텐의 단독중합, 이소부텐 및 n-부텐의 공중합 등의 이소부텐 또는 n-부텐을 (공)중합 성분에 포함하는 액상 중합물이며, 말단의 한쪽에 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 화합물이다. 액상 폴리부텐의 시판품으로서는 예를 들면, JX 닛코 세키유 에너지 가부시키가이샤제의 니폰 세키유 폴리부텐 LV-7, LV-50, LV-100, HV-15, HV-35, HV-50, HV-100, HV-300 등을 들 수 있다.

액상 수첨 폴리부텐이란 상기 액상 폴리부텐을 수첨해서 얻어지는 측쇄를 갖는 액상물이며, 예를 들면, 니치유 가부시키가이샤제의 팜릴4, 팜릴6, 팜릴18, 팜릴24, 팜릴EX 등을 들 수 있다.

액상 폴리부타디엔이란 상온에서 액상인 부타디엔 중합물이며, 예를 들면, 에보닉데구사제의 POLYVEST110, POLYVEST130이나 니폰 소다 가부시키가이샤제의 NISSO-PB B-1000, NISSO-PB B-2000, NISSO-PB B-3000 등을 들 수 있다.

액상 수첨 폴리부타디엔이란 부타디엔 중합물을 환원 수소화해서 얻어지는 상온에서 액상물이며, 예를 들면, 니폰 소다 가부시키가이샤제의 NISSO-PB BI-2000, NISSO-PB B-3000 등을 들 수 있다.

액상 폴리이소프렌이란 상온에서 액상인 이소프렌 중합물이며, 예를 들면, 가부시키가이샤 쿠라레제의 쿠라프렌 LIR-30 등을 들 수 있다.

액상 수첨 폴리이소프렌이란 이소프렌 중합물을 환원 수소화해서 얻어지는 상온에서 액상인 화합물이며, 가부시키가이샤 쿠라레제의 LIR-200 등을 들 수 있다.

액상 폴리부타디엔 폴리올이란 분자 말단에 수산기를 2개이상 갖고 또한 폴리부타디엔 구조단위를 갖는 상온에서 액상인 중합물이며, 예를 들면, 니폰 소다 가부시키가이샤제의 NISSO-PB G-1000, NISSO-PB G-2000, NISSO-PB G-3000, 이데미츠 쿄산 가부시키가이샤제의 Poly bd 등을 들 수 있다.

액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올이란 폴리부타디엔 폴리올 또는 폴리부타디엔폴리카르복실산을 환원 수소화해서 얻어지는 구조를 갖는 액상 폴리올이며, 니폰 소다 가부시키가이샤제의 NISSO-PB GI-1000, NISSO-PB GI-2000, NISSO-PB GI-3000 등을 들 수 있다.

액상 폴리이소프렌 폴리올이란 분자 말단에 수산기를 2개이상 갖고 또한 폴리이소프렌 구조단위를 갖는 상온에서 액상인 중합물이며, 예를 들면, 이데미츠 쿄산 가부시키가이샤제의 Poly ip 등을 들 수 있다.

액상 수첨 폴리이소프렌 폴리올이란 폴리이소프렌 폴리올 또는 폴리이소프렌 폴리카르복실산을 환원 수소화해서 얻어지는 구조를 갖는 액상 폴리올이며, 예를 들면, 이데미츠 쿄산 가부시키가이샤제의 에폴 등을 들 수 있다.

수첨 다이머디올이란 다이머산, 수첨 다이머산 및 그 저급 알콜 에스테르 중 적어도 1종을 촉매존재하에서 환원하고, 다이머산의 카르복실산 또는 카르복실레이트 부분을 알콜로 하고, 원료에 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 경우에는 그 이중 결합을 수소화한 디올를 주성분으로 한 것이다.

예를 들면, 수첨 다이머산을 환원해서 수첨 다이머디올을 제조한 경우에는 수첨 다이머디올의 주성분의 구조는 이하의 식(1) 및 식(2)으로 나타내어지는 구조이다.

(식 중, R⁸ 및 R⁹는 모두 알킬기이며, 또한 R⁸ 및 R⁹에 포함되는 각 탄소수, e 및 f의 합계는 30(즉, R⁸에 포함되는 탄소수+R⁹에 포함되는 탄소수+e+f=30)이다.)

(식 중, R¹⁰ 및 R¹¹은 모두 알킬기이며, 또한 R¹⁰ 및 R¹¹에 포함되는 각 탄소수, g 및 h의 합계는 34(즉, R¹⁰에 포함되는 탄소수+R¹¹에 포함되는 탄소수+g+h=34)이다.)

수첨 다이머디올의 시판품으로서는 예를 들면, PRIPOL(등록상표) 2033 등(쿠로다사제)이나 Sovermol(등록상표) 908(BASF사제)을 들 수 있다.

폴리에테르 폴리올로서는 예를 들면, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌글리콜, 프로필렌옥시드-테트라히드로푸란 공중합체 등을 들 수 있다.

폴리에스테르 폴리올로서는 폴리올과 폴리카르복실산의 중축합물 또는 폴리올과 폴리카르복실산의 에스테르의 에스테르 교환 반응물, 폴리올로의 환상 에스테르의 개환 중합물 등을 들 수 있다.

폴리카보네이트 폴리올로서는 폴리올과 포스겐의 중축합물, 또는 디메틸카보네이트, 디에틸카보네이트, 에틸렌카보네이트 등의 유기 탄산 에스테르류의 폴리올의 에스테르 교환 반응물을 들 수 있다.

본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물을 중합해서 얻어지는 중합물은 그 사용 개소(즉, 5a의 부위에 사용하거나, 또는 5b의 부위에 사용하거나)에 의해 구해지는 유전율이 다르다. 예를 들면, 도 2∼도 5의 5b의 부위에 사용되는 경우에는 중합물의 유전율은 낮은 것이 바람직하다. 또한, 도 2, 도 3 및 도 6∼도 8의 5a의 부위에 사용되는 경우에는 중합물의 유전율이 높은 것이 바람직하다.

중합물의 유전율을 높게 하는 경우에는 그 목적에 있어서 성분 4로서 사용되는 25℃에서 액상인 화합물로서 바람직한 것으로서는 폴리에테르 폴리올, 폴리에스테르 폴리올, 폴리카보네이트 폴리올이며, 더욱 바람직하게는 폴리에스테르 폴리올, 폴리카보네이트 폴리올이다.

폴리에테르 폴리올로서 바람직한 것은 폴리테트라메틸렌글리콜이다.

폴리에스테르 폴리올의 원료로서 사용되는 폴리올로서는 구체적으로는 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 1.8-옥탄디올, 1,9-노난디올, 2-메틸-1,8-옥탄디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 2,4-디에틸-1,5-펜탄디올, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판 등을 들 수 있고, 이들을 단독 또는 2종류이상을 병용해서 사용할 수 있다. 이들 중에서 바람직한 것으로서는 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올이며, 더욱 바람직한 것으로서는 1,5-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올 등이며, 가장 바람직한 것은 3-메틸-1,5-펜탄디올이다.

폴리에스테르 폴리올의 원료로서 사용되는 폴리카르복실산의 예로서는 구체적으로는 숙신산, 글루타르산, 메틸숙신산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세바신산, 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 1,1-시클로헥산디카르복실산, 1,3-시클로헥산디카르복실산, 1,4-시클로헥산디카르복실산, 2-시클로헥산-1,1-디카르복실산 등을 들 수 있고, 이들을 단독 또는 2종류이상을 병용해서 사용할 수 있다. 이들 중에서 바람직한 것으로서는 글루타르산, 메틸숙신산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 1,1-시클로헥산디카르복실산, 1,3-시클로헥산디카르복실산, 2-시클로헥산-1,1-디카르복실산, 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산이며, 더욱 바람직하게는 글루타르산, 메틸숙신산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산이다. 특히 바람직하게는 글루타르산, 메틸숙신산, 아디프산, 피멜산이다.

폴리에스테르 폴리올의 원료로서 사용되는 폴리카르복실산의 에스테르로서는 상기 폴리카르복실산의 저급 알킬에스테르가 일반적으로 사용된다.

또한, 폴리에스폴리올로서 환상 에스테르의 개환 중합물을 사용해도 좋다. 환상 에스테르의 개환 중합물을 사용할 경우에는 γ-부티로락톤이나 ε-카프로락톤 등을 들 수 있지만, ε-카프로락톤의 개환 중합물인 폴리에스테르 폴리올이 바람직하다.

폴리카보네이트 폴리올의 원료로서 사용되는 폴리올로서는 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 1.8-옥탄디올, 1,9-노난디올, 2-메틸-1,8-옥탄디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 2,4-디에틸-1,5-펜탄디올, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판 등을 들 수 있고, 이들을 단독 또는 2종류이상을 병용해서 사용할 수 있다. 이들 중에서 바람직한 것으로서는 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올이며, 더욱 바람직한 것으로서는 1,5-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올 등이며, 가장 바람직한 것은 3-메틸-1,5-펜탄디올이다.

중합물의 유전율을 낮게 하는 경우에는 폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-프로필렌 공중합체 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부텐, 액상 폴리부타디엔, 액상 수첨 폴리부타디엔, 액상 폴리이소프렌, 액상 수첨 폴리이소프렌, 액상 폴리부타디엔 폴리올, 액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올, 액상 폴리이소프렌 폴리올 및 액상 수첨 폴리이소프렌 폴리올이 바람직하게 사용되고, 또한, 내열성을 고려할 경우에는 액상 폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-프로필렌 공중합체 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부타디엔, 액상 수첨 폴리이소프렌, 액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올 및 액상 수첨 폴리이소프렌 폴리올이 바람직하다.

또한, 성분 4로서 25℃에서 고체인 화합물을 사용할 수도 있다.

성분 4로서 사용되는 25℃에서 고체인 화합물로서는 분자내에 탄소-탄소 불포화 결합을 갖지 않는 화합물인 것이 바람직하다.

이러한 화합물로서는 25℃에서 고체인 에폭시 수지, 25℃에서 고체인 폴리에스테르 수지, 25℃에서 고체인 폴리올 수지나, 25℃에서 고체인 수첨 석유 수지, 테르펜계 수첨 수지, 수첨 로진에스테르 등을 들 수 있다.

고유전율의 중합물을 목적으로 한 중합성 조성물에 사용되는 경우, 이들 중에서 특히 바람직한 것으로서는 수첨 로진에스테르이다.

저유전율의 중합물을 목적으로 한 중합성 조성물에 사용되는 경우, 이들 중에서 특히 바람직한 것으로서는 수첨 석유 수지, 테르펜계 수첨 수지이다.

수첨 석유 수지란 석유계 수지를 수소 환원해서 얻어지는 수지이다. 수첨 석유 수지의 원료인 석유계 수지로서는 지방족계 석유 수지, 방향족계 석유 수지, 지방족-방향족 공중합계 석유 수지, 지환족계 석유 수지, 디시클로펜타디엔 수지 및 이들의 수첨물 등의 변성물을 들 수 있다. 합성 석유 수지는 C5계이어도, C9계이어도 좋다.

테르펜계 수첨 수지란 테르펜계 수지를 환원 수소화해서 얻어지는 수지이다. 테르펜계 수첨 수지의 원료인 테르펜계 수지로서는 β-피넨 수지, α-피넨 수지, β-리모넨 수지, α-리모넨 수지, 피넨 -리모넨 공중합 수지, 피넨 -리모넨-스티렌 공중합 수지, 테르펜-페놀 수지, 방향족 변성 테르펜 수지 등을 들 수 있다. 이들 테르펜계 수지의 대부분은 극성기를 갖지 않는 수지이다.

수첨 로진에스테르란 로진계 수지를 수첨해서 얻어지는 수첨 로진을 에스테르화 또는 로진을 에스테르화해서 얻어지는 로진에스테르를 수소환원해서 얻어진 수지이다. 로진계 수지 점착 부여제로서는 검 로진, 톨유 로진, 우드 로진, 불균화 로진, 중합 로진, 말레인화 로진 등의 변성 로진 등을 들 수 있다.

또한, 본 명세서에 있어서는 다가 알콜의 일부 알콜성 수산기가 수첨 로진으로 에스테르화된 화합물도, 다가 알콜의 모든 알콜성 수산기가 수첨 로진으로 에스테르화된 화합물도 모두 수첨 로진에스테르에 포함된다고 정의한다.

또한, 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물과 점도나 중합물의 피착체에의 밀착성의 밸런스를 취하기 위해서 성분 4의 화합물로서는 25℃에서 액상인 화합물과, 25℃에서 고체인 화합물을 병용할 수 있고 또한 바람직하다.

성분 4에 있어서 25℃에서 액상인 화합물과, 25℃에서 고체인 화합물을 병용할 경우의 바람직한 병용 비율은 질량비로 90:10∼10:90이며, 더욱 바람직하게는 80:20∼20:80이다.

본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물 중의 성분 4의 사용량은 성분 1과 성분 4를 합친 총량에 대하여 25∼75질량%인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 30∼70질량%이며, 특히 바람직하게는 35∼65질량%이다. 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물 중의 성분 4의 사용량이 성분 1과 성분 4를 합친 총량에 대하여 25질량% 미만이면 성분 4를 첨가한 효과(즉, 중합시의 체적 수축률의 저감 효과)가 얻어지지 않게 되는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다. 또한, 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물 중의 성분 4의 사용량이 성분 1과 성분 4를 합친 총량에 대하여 75질량%보다 많아지면 중합성 조성물을 중합해서 얻어지는 중합물의 도막 강도가 지나치게 낮아지는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다.

본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물은 필요에 따라서 중합 금지제, 산화 방지제, 개질제 등을 임의로 첨가할 수 있다.

중합 금지제로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 페노티아진, 히드로퀴논, p-메톡시페놀, p-벤조퀴논, 나프토퀴논, 페난스라퀴논, 톨루퀴논, 2,5-디아세톡시-p-벤조퀴논, 2,5-디카프록시-p-벤조퀴논, 2,5-아실옥시-p-벤조퀴논, p-t-부틸카테콜, 2,5-디-t-부틸히드로퀴논, p-tert-부틸카테콜, 모노-t-부틸히드로퀴논, 2,5-디-t-아밀히드로퀴논, 디-t-부틸·파라크레졸히드로퀴논모노메틸에테르, 알파나프톨, 아세트아미딘아세테이트, 아세트아미딘설페이트, 페닐히드라진 염산염, 히드라진 염산염, 트리메틸벤질암모늄클로라이드, 라우릴피리디늄클로라이드, 세틸트리메틸암모늄클로라이드, 페닐트리메틸암모늄클로라이드, 트리메틸벤질암모늄옥잘레이트, 디(트리메틸벤질암모늄)옥잘레이트, 트리메틸벤질암모늄말레이트, 트리메틸벤질암모늄터탈레이트, 트리메틸벤질암모늄글리콜레이트, 페닐-β-나프틸아민, 파라벤질아미노페놀, 디-β-나프틸파라페닐렌디아민, 디니트로벤젠, 트리니트로톨루엔, 피크린산, 시클로헥사논옥심, 피로갈롤, 탄닌산, 레조르신, 트리에틸아민 염산염, 디메틸아닐린 염산염 및 디부틸아민 염산염 등을 들 수 있다.

이들은 단독으로도, 또는 2종이상을 적당히 조합해서 사용할 수 있다.

이들 중에서도 히드로퀴논, p-메톡시페놀, p-벤조퀴논, 나프토퀴논, 페난스라퀴논, 2,5-디아세톡시-p-벤조퀴논, 2,5-디카프록시-p-벤조퀴논, 2,5-아실옥시-p-벤조퀴논, p-t-부틸카테콜, 2,5-디-t-부틸히드로퀴논, p-tert-부틸카테콜, 모노-t-부틸히드로퀴논, 2,5-디-t-아밀히드로퀴논, 디-t-부틸·파라크레졸히드로퀴논모노메틸에테르 및 페노티아진이 바람직하게 사용된다.

통상, 중합 금지제는 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01∼5질량%의 첨가량이 되도록 조정할 수 있다. 단, 중합 금지제의 양은 성분 1에 미리 포함되어 있는 중합 금지제를 가미한 값이다. 즉, 일반적으로는 성분 1에 미리 중합 금지제가 포함되어 있지만, 이 중합 금지제와 새롭게 첨가하는 중합 금지제의 총량을 합한 양이 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01∼5질량%의 첨가량이 되는 것을 의미한다.

산화 방지제로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 옥타데실-3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 티오디에틸렌비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤젠프로판산의 탄소수 7∼9의 알킬에스테르, 4,6-비스(옥틸티오메틸)-o-크레졸, 3,9-비스[2-[3-(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시]-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]-운데칸, 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(2-tert-부틸-5-메틸페놀), N,N',N"-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5-tert-부틸페닐)부탄, 1,1-비스(2-메틸-4-히드록시-5-tert-부틸페닐)부탄 등을 들 수 있다. 이들 중에서 바람직한 것은 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 옥타데실-3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트이며, 가장 바람직한 것은 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]이다.

통상, 산화 방지제는 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01∼5질량%의 첨가량이 되도록 조정할 수 있다. 단, 중합 금지제의 양은 성분 4 등의 다른 성분에 미리 포함되어 있는 산화 방지제를 가미한 값이다. 즉, 일반적으로는 성분 4 등에 미리 산화 방지제가 포함되어 있는 경우가 있지만, 이 산화 방지제와 새롭게 첨가하는 산화 방지제의 총량을 합한 양이 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01∼5질량%의 첨가량이 되는 것을 의미한다.

개질제로서는 예를 들면, 레벨링성을 향상시키기 위한 레벨링제 등을 들 수 있다. 레벨링제로서는 예를 들면, 폴리에테르 변성 디메틸폴리실록산 공중합물, 폴리에스테르 변성 디메틸폴리실록산 공중합물, 폴리에테르 변성 메틸알킬폴리실록산 공중합물, 아랄킬 변성 메틸알킬폴리실록산 공중합물, 아크릴에스테르 공중합물 등을 사용할 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도, 2종이상 조합해서 사용해도 좋다. 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01∼5질량% 첨가할 수 있다. 0.01질량%미만의 경우에는 레벨링제의 첨가 효과가 발현되지 않을 가능성이 있다. 또한, 5질량%보다 많은 경우에는 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물에 탁도가 생기는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 할 수 없다.

25℃에 있어서의 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물을 중합해서 얻어지는 중합물의 굴절률은 1.48∼1.52가 바람직하다. 25℃에 있어서의 굴절률이 1.48미만 또는 1.52보다 커지는 경우 보호부의 재질인 광학 유리나 폴리메타크릴산 메틸 등의 아크릴 수지의 굴절률에 비해서 굴절차가 지나치게 커지므로, 표시부로부터 보호부에 이르는 사이의 계면에 있어서의 굴절률차가 다소 커지고, 표시부로부터 영상광의 산란 및 감쇠가 다소 커져 바람직한 것이라고는 할 수 없다.

마지막으로 본 발명(II)에 대해서 설명한다.

본 발명(II)은 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 의해 제조하는 것이 가능한 화상 표시 장치이다.

본 발명(II)의 화상 표시 장치는 표시 장치의 본체가 광학 유리로 형성되어 있는 경우, 일반적으로 그 굴절률(n_D)은 1.49∼1.52가 된다. 또한, 굴절률(n_D)이 1.55정도인 강화 유리도 존재한다.

예를 들면, 도 1의 경우, 보호부(3)는 표시부(2)와 같은 정도의 크기의 판상, 시트상 또는 필름상의 투광성 부재로 형성되어 있다. 이 투광성 부재로서는 예를 들면, 광학 유리나 플라스틱(폴리메타크릴산 메틸 등의 아크릴 수지 등)을 바람직하게 사용할 수 있다. 보호부(3)의 표면 또는 이면에는 반사 방지막, 차광막, 시야각 제어막 등의 광학층을 형성해도 좋다.

보호부(3)가 아크릴 수지로 형성되어 있는 경우에는 일반적으로 그 굴절률(n_D)은 1.49∼1.51이 된다.

보호부(3)는 표시부(2)의 둘레가장자리부에 설치된 스페이서(4)를 통해 표시부(2) 상에 설치되어 있다. 이 스페이서(4)의 두께는 0.05∼1.5mm정도이며, 이것에 의해 화상 표시부(2)와 보호부(3)의 표면간 거리가 1mm정도로 유지된다.

또한, 보호부(3)의 둘레가장자리부에는 휘도 및 콘트라스트를 향상시키기 위해서 도시가 생략된 프레임상의 차광부가 설치되어 있다.

또한, 예를 들면, 도 2나 도 3의 경우, 표시부(2)와 보호부(3) 사이에는 중합물층(5a,5b)이 개재되어 있다. 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 의해 제조된 화상 표시 장치의 경우에는 이 중합물층(5a)이나 중합물층(5b)에는 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 사용되는 중합성 조성물을 중합해서 얻어지는 중합물이 개재되므로 가시광영역의 투과율이 90%이상이 된다. 여기에서, 중합물층(5a)이나 중합물층(5b)의 두께는 10∼500㎛이 되도록 하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 10∼350㎛이며, 더욱 바람직하게는 10∼300㎛이다. 또한, 중합물층(5a)이나 중합물층(5b)에는 상기 중합물이 개재되므로 25℃에 있어서의 굴절률(n_D)은 1.45∼1.55, 바람직하게는 1.48∼1.52가 되므로 표시부(2)나 보호부(3)의 굴절률과 거의 동등해지므로 바람직하다. 이것에 의해, 화상 표시부(2)로부터의 영상광의 휘도나 콘트라스트를 향상시키고, 시인성을 향상시킬 수 있다.

본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 의해 화상 표시 장치를 제조할 경우, 중합물층(5a)이나 중합물층(5b)에는 상기 중합물이 개재되므로 23℃에 있어서의 인장 탄성률을 1×10⁷Pa이하, 바람직하게는 1×10³∼1×10⁶Pa가 된다. 따라서, 표시부 및 보호부에 대하여 중합성 조성물의 중합시에 체적 수축에 기인하는 응력의 영향에 의한 변형의 발생을 방지할 수 있다.

본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조방법에 의해 화상 표시 장치를 제조할 경우, 중합물층(5a)이나 중합물층(5b)에는 상기 중합물이 개재되므로 중합성 조성물의 중합시의 체적 수축률이 4.0%이하, 바람직하게는 3.5%이하, 더욱 바람직하게는 2.7%이하가 된다. 이것에 의해, 중합성 조성물이 중합될 때에 중합물층에 축적되는 내부 응력을 저감시킬 수 있어 중합물층(5a)과 터치패널(7) 또는 보호부(3)의 계면이나, 중합물층(5b)과 터치패널(7), 표시부(2) 또는 보호부(3)의 계면에 변형이 생기는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 중합성 조성물을 터치센서(7)와 보호부(3) 사이, 터치센서(7)와 표시부(2) 사이, 또는 표시부(2)와 보호부(3) 사이에 개재시키고, 그 중합성 조성물을 중합시킨 경우에 중합물층(5a 또는 5b)과, 표시부(2), 보호부(3), 터치패널(7)의 계면에서 생기는 광의 산란을 저감시킬 수 있고, 표시 화상의 휘도를 높임과 아울러 시인성을 향상시킬 수 있다.

또한, 상기 중합물을 중합물층(5b)에 사용할 경우에는 이들 중합물의 유전율이 낮으므로 중합물층(5b)의 두께를 얇게 할 수 있다.

본 발명(II)의 화상 표시 장치에 사용되는 광학 유리판으로서는 액정셀의 액정을 협지하는 유리판이나 액정셀의 보호판으로서 사용되고 있는 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 사용되는 아크릴 수지판으로서는 액정셀의 보호판으로서 사용되고 있는 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 이들 광학 유리판이나 아크릴 수지판의 평균 표면 조도는 통상 1.0㎚이하이다.

또한, 본 발명(II)의 화상 표시 장치는 표시부(2)와 보호부(3) 사이에 상기 중합물로 이루어지는 중합물층(5a나 5b)이 충전되어 있으므로 충격에 강하다.

또한, 표시부(2)와 보호부(3) 사이에 공극을 형성하고 있던 종래예에 비해서 박형으로 형성할 수 있다.

또한, 본 발명(II)의 화상 표시 장치는 여러 형태를 취할 수 있다. 예를 들면, 도 3, 도 5, 도 8에 나타낸 바와 같이, 스페이서(4)를 생략해서 화상 표시 장치(1)를 제조해도 좋다. 도 3의 중합물층(5b)의 경우에는 예를 들면, 표시부(2) 상의 편광판(6a) 상에 중합성 조성물을 도포하고, 그 위에 터치센서(7)를 겹치고, 상술과 같이 광중합을 행함으로써 얻어진다.

또한, 도 5의 중합물층(5b)의 경우에는 예를 들면, 표시부(2) 상의 편광판(6a) 상에 중합성 조성물을 도포하고, 그 위에 터치센서 일체형 보호부(3)를 겹치고, 상술과 같이 광중합을 행함으로써 얻어진다.

또한, 도 8의 중합물층(5a)의 경우에는 예를 들면, 중합성 조성물을 도포하고, 그 위에 보호부(3)를 겹치고, 상술과 같이 광중합을 행함으로써 얻어진다.

또한, 본 발명은 상술한 액정 표시 장치 뿐만 아니라, 예를 들면, 유기 EL, 플라즈마 디스플레이 장치 등의 여러가지 패널 디스플레이에 적용할 수 있다.

(실시예)

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에만 제한되는 것은 아니다.

<점도의 측정>

점도는 이하의 방법에 의해 측정했다.

시료 1mL를 사용하고, 콘/플레이트형 점도계(Brookfield사제, 형식:DV-II+Pro, 스핀들의 형번:CPE-42)를 사용하고, 온도 25.0℃, 회전수 5rpm의 조건으로 점도가 거의 일정해졌을 때의 값을 측정했다.

<수산기가의 측정>

JIS K 0070에 준거해서 측정했다.

<수 평균 분자량>

수 평균 분자량은 하기 조건으로 GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 값이다.

장치명:니폰 분코 가부시키가이샤제 HPLC 유닛 HSS-2000

컬럼:Shodex 컬럼 LF-804

이동상:테트라히드로푸란

유속:1.0mL/min

검출기:니폰 분코 가부시키가이샤제 RI-2031Plus

온도:40.0℃

시료량:샘플 루프 100μL

시료 농도:0.5질량% 전후로 조제

<자외선 적산 광량>

자외선 적산 광량계 「UIT-250」(우시오 덴키 가부시키가이샤제)을 사용해서 측정된 적산 광량의 값이다.

<조도>

자외선 적산 광량계 「UIT-250」(우시오 덴키 가부시키가이샤제)을 사용해서 측정된 조도의 값이다.

(실시 합성예 1)

교반 장치 및 증류 장치를 구비한 500mL의 반응 용기 중에 Pripol(등록상표) 2033(쿠로다제 수첨 다이머디올, 수산기가 202mgKOH/g) 322.2g, 세바신산 디메틸(도쿄 카세이 고교 가부시키가이샤제) 87.5g, 디옥틸 주석 옥시드(상품명:DOTO, 홋코 카가쿠 고교 가부시키가이샤제) 0.18g을 투입하고, 약 170℃, 상압하부터 시작해서 메탄올을 유출시키면서 감압하면서 에스테르 교환 반응을 행했다. 메탄올의 총 증류량은 24.4g이었다. 수산기가 58.1mgKOH/g인 폴리에스테르 폴리올(이하, 폴리에스테르 폴리올 A라고 기재한다.)을 얻었다.

(실시 합성예 2)

교반 장치, 온도계, 적하 로트 및 콘덴서를 구비한 100mL의 반응 용기에 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트와 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트의 혼합물(상품명:VESTANAT(등록상표) TMDI, 에보닉데구사제) 21.89g, 디옥틸주석디라울레이트 12mg 및 p-메톡시페놀 24mg을 반응 용기에 투입하고, 4-히드록시부틸아크릴레이트 15.16g을, 적하 로트를 사용해서 적하 투입했다. 적하 중, 반응 용기내의 온도는 70℃이하가 되도록 했다. 적하 종료후, 2시간, 반응기내의 온도를 65∼70℃로 유지한 채, 교반을 계속해서 반응 생성물(이하, 반응 생성물 α라고 기재한다.)을 얻었다.

교반 장치, 온도계 및 콘덴서를 구비한 300mL의 반응 용기에 상술의 폴리에스테르 폴리올 A 178.9g, Pripol(등록상표) 2033(쿠로다제 수첨 다이머디올, 수산기가 202mgKOH/g) 1.1g 및 디옥틸주석디라울레이트 12mg을 투입하고, 교반을 개시했다. 그 후, 60℃로 온도를 유지한 반응 생성물 α 33.7g을 수회로 나누어서 반응 용기내에 투입했다. 그 동안 반응기내의 온도는 70℃보다 높아지지 않도록 했다. 그 후, 반응기내의 온도를 65∼70℃로 유지해서 교반을 계속했다. IR로 이소시아네이트기의 C=O 신축 진동의 흡수가 없어진 것을 확인해서 반응을 종료하고, 수 평균 분자량 2300인 우레탄아크릴레이트(이하, 「우레탄아크릴레이트 1」이라고 기재한다.)를 얻었다.

(실시 합성예 3)

교반기 및 증류 장치가 부착된 1리터 4구 플라스크에 수첨 폴리부타디엔 폴리올(니폰 소다 가부시키가이샤제, 상품명:NISSO-PB GI-3000, 수산기가 31.9mgKOH/g) 540.0g, 아크릴산 n-부틸 162.0g, 디옥틸주석디라울레이트 0.81g 및 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트](BASF사제, 상품명:IRGANOX1010) 3.51g을 투입하고, 공기 기류하에서 130℃로 가열해서 생성되는 n-부탄올 및 아크릴산 n-부틸의 혼합액을 환류하면서 10시간정도에 걸쳐서 서서히 반응계외로 증류제거했다. n-부탄올 및 아크릴산 n-부틸이 나오지 않게 된 후, 진공 펌프를 사용해서 반응계내를 10kPa까지 감압으로 하고, 다시 n-부탄올과 아크릴산 n-부틸을 계외로 증류제거했다. 1.5시간정도 50Pa 유지한 후, 반응기를 냉각하고, 수 평균 분자량 3625인 수첨 폴리부타디엔아크릴레이트(이하, 「수첨 폴리부타디엔아크릴레이트 1」이라고 기재한다.)를 얻었다.

(실시 합성예 4)

교반기 및 증류 장치가 부착된 1리터 4구 플라스크에 수첨 폴리이소프렌 폴리올(이데미츠 쿄산 가부시키가이샤제, 상품명:에폴, 수산기가 49.9) 540.0g, 아크릴산 n-부틸 162.0g, 디옥틸주석디라울레이트 0.81g 및 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트](BASF사제, 상품명:IRGANOX(등록상표) 1010) 3.51g을 투입하고, 공기 기류하에서 130℃로 가열해서 생성되는 n-부탄올 및 아크릴산 n-부틸의 혼합액을 환류하면서 10시간정도에 걸쳐서 서서히 반응계외로 증류제거했다. n-부탄올 및 아크릴산 n-부틸이 나오지 않게 된 후, 진공 펌프를 사용해서 반응계내를 10kPa까지 감압으로 하고, 다시 n-부탄올과 아크릴산 n-부틸을 계외로 증류제거했다. 1.5시간정도 50Pa 유지한 후, 반응기를 냉각해서 수 평균 분자량 2357인 수첨 폴리이소프렌아크릴레이트(이하, 「수첨 폴리이소프렌아크릴레이트 1」이라고 기재한다.)를 얻었다.

(실시 합성예 5)

콘덴서, 적하 로트, 온도계 및 교반기가 부착된 300mL 세퍼러블 플라스크에 폴리부타디엔 폴리올(수산기가 47.1mgKOH/g, 상품명:NISSO-PB G-2000, 니폰 소다 가부시키가이샤제) 180g 및 디옥틸주석디라울레이트 20mg을 넣고, 오일배스를 사용하고, 내온을 50℃로 승온했다. 그 후, 2-이소시아네이트에틸메타크릴레이트(상품명:카렌즈 MOI, 쇼와 덴코 가부시키가이샤제) 22.86g을 적하 로트로부터 15분에 걸쳐서 적하했다. 적하하고 있는 동안 내온이 70℃를 초과하지 않도록 했다. 적하 종료후, 70±2℃의 내온을 관리해서 교반을 계속했다. 적외 흡수 스펙트럼으로 이소시아네이트기의 C=O 신축 진동의 흡수가 보여지지 않게 되었으므로, 교반을 중지하여 반응을 종료하고, 수 평균 분자량 2560인 폴ㄹ부타디엔우레탄메타크릴레이트(이하, 「우레탄메타크릴레이트 1」)를 얻었다.

(실시 합성예 6)

교반 장치 및 증류 장치를 구비한 5L의 반응 용기 중에 Pripol(등록상표) 2033(쿠로다제 수첨 다이머디올, 수산기가 202mgKOH/g) 3200g, Pripol(등록상표) 1009(쿠로다제 수첨 다이머산, 산가 194mgKOH/g) 1018g, 상압하에 질소를 통과시키면서 200℃로 가열하고, 반응에 의해 생성하는 물을 증류제거하면서 축합반응시켰다. 생성물의 산가가 20이하가 된 시점에서 테트라이소프로필티타네이트 0.08g을 첨가하고, 진공 펌프에 의해 서서히 진공도를 높여서 반응을 행하고, 수 평균 분자량 1055의 폴리에스테르 폴리올(이하, 폴리에스테르 폴리올 B라고 기재한다.)을 얻었다.

(실시 합성예 7)

콘덴서, 적하 로트, 온도계 및 교반기가 부착된 300mL 세퍼러블 플라스크에 폴리에스테르 폴리올 B 180g 및 디옥틸주석디라울레이트 20mg을 넣고, 오일배스를 사용해서 내온을 50℃로 승온했다. 그 후, 2-이소시아네이트에틸아크릴레이트(상품명;카렌즈 AOI, 쇼와 덴코 가부시키가이샤제) 24g을 적하 로트로부터 15분에 걸쳐서 적하했다. 적하하고 있는 동안 내온이 70℃를 초과하지 않도록 했다. 적하 종료후, 70±2℃의 내온을 관리해서 교반을 계속했다. 적외 흡수 스펙트럼으로 이소시아네이트기의 C=O 신축 진동의 흡수가 보여지지 않게 되었으므로, 교반을 중지하여 반응을 종료하고, 수 평균 분자량 1196인 폴리우레탄아크릴레이트(이하, 「우레탄아크릴레이트 2」)를 얻었다.

(실시 배합예 1)

라우릴아크릴레이트(상품명:브렘머 LA, 니치유 가부시키가이샤제) 14.5질량부, 테르펜계 수첨 수지(상품명:CLEARON(등록상표) K100, 야스하라케미컬 가부시키가이샤제) 24.0질량부, 콘덴서, 온도계 및 교반기가 부착된 200mL 4구 세퍼러블 환저 플라스크 중에 넣어 교반하면서 오일배스를 사용하고, 200mL 4구 세퍼러블 환저 플라스크내의 온도를 90℃로 승온했다. 테르펜계 수첨 수지가 라우릴아크릴레이트에 완전히 용해된 것을 확인하고, 온도를 50℃이하까지 냉각했다.

그 후, 상기 수첨 폴리이소프렌아크릴레이트 120.0질량부, 2-히드록시프로필메타크릴레이트(가부시키가이샤 니폰 쇼쿠바이제) 3.5질량부, 수첨 폴리부타디엔 폴리올(상품명:NISSO-PB GI-1000, 니폰 소다 가부시키가이샤제) 20질량부, 수첨 다이머디올(상품명:Pripol2033, 쿠로다사제) 17.0질량부, 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트](상품명:IRGANOX(등록상표) 1010, BASF사제) 1.0질량부, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(상품명:Irgacure(등록상표) 184, BASF사제) 0.8질량부 및 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드(상품명:SpeedCure TPO, Lambson제) 0.4질량부를 상기 200mL 4구 환저 플라스크 중에 넣고, 교반하면서 오일배스를 사용하고, 73℃로 승온하고, 용액이 균일해질 때까지 교반을 계속해서 25℃에서의 점도가 3500mPa·s인 미황색 균일 용액을 얻었다.

(실시 배합예 2∼실시 배합예 14 및 비교 배합예 1∼비교 배합예 5)

실시 배합예 1과 같은 방법에 의해 표 1 및 표 2에 나타내는 배합 조성에 따라서 배합했다. 실시 배합예 2∼실시 배합예 14에서 조제한 배합물을 각각 중합성 조성물 A2∼중합성 조성물 A14로 하고, 비교 배합예 1∼비교 배합예 5에서 조제한 배합물을 각각 중합성 조성물 B1∼중합성 조성물 B5로 했다.

또한, 표 1 및 표 2의 숫자는 특별히 기재하지 않는 한 「질량부」를 의미한다.

※1 쿠라프렌(등록상표) UC-203(폴리이소프렌 중합물의 무수 말레산 부가물과 2-히드록시에틸메타크릴레이트의 에스테르화물, 가부시키가이샤 쿠라레제, 수 평균 분자량 2.5만)

※2 Ebecryl(등록상표) 230(우레탄아크릴레이트, 다이셀 사이텍 가부시키가이샤, 수 평균 분자량 5000)

※3 디시클로펜테닐옥시에틸메타크릴레이트(상품명:FA-512M, 히타치 카세이 고교 가부시키가이샤제, 분자량 262.35)

※4 라우릴아크릴레이트(상품명:브렘머 LA, 니치유 가부시키가이샤제, 분자량 240.38)

※5 2-히드록시프로필메타크릴레이트(가부시키가이샤 니폰 쇼쿠바이제, 분자량 144.17)

※6 2-히드록시부틸메타크릴레이트(상품명:라이트 에스테르 HOB(N), 교에이샤 카가쿠 가부시키가이샤제, 분자량 158.20)

※7 4-히드록시부틸아크릴레이트(상품명:4HBA, 오사카 유키 카가쿠 고교 가부시키가이샤제, 분자량 144.17)

※8 N-아크릴로일모르폴린(상품명:ACMO, 가부시키가이샤 코우진제, 분자량 141.17)

※9 트리시클로[5,2,1,0^2,6]데칸디메탄올디아크릴레이트(상품명:DCP-A, 교에이샤 카가쿠 가부시키가이샤제, 분자량 304.39)

※10 테르펜계 수첨 수지 CLEARON(등록상표) P85(야스하라 케미컬 가부시키가이샤제)

※11 테르펜계 수첨 수지 CLEARON(등록상표) K100(야스하라 케미컬 가부시키가이샤제)

※12 수첨 폴리부타디엔 폴리올 NISSO-PB GI-1000(니폰 소다 가부시키가이샤제)

※13 수첨 폴리부타디엔 폴리올 NISSO-PB GI-2000(니폰 소다 가부시키가이샤제)

※14 폴리(α-올레핀) 액상물 Spectrasyn40(에쿠손모빌 가부시키가이샤제)

※15 수첨 다이머디올(상품명:Pripol2033, 쿠로다사제)

※16 액상 폴리부타디엔 POLYVEST 110(에보닉데구사제)

※17 IRGANOX(등록상표) 1010(화합물명:펜타에리스리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], BASF제)

※18 광중합 개시제 SpeedCure TPO(화합물명:2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, Lambson제)

※19 광중합 개시제 IRGACURE 184(화합물명:1-히드록시시클로헥실페닐케톤, BASF제)

<굴절률 측정용 중합물막의 제작 방법>

2매의 실리콘으로 코팅된 PET 필름을 사용하고, 그 동안에 중합성 조성물 A1∼중합성 조성물 A14, 중합성 조성물 B1∼중합성 조성물 B5를 막두께가 1.2mm가 되도록 끼워넣고, 메탈할라이드 램프를 사용한 컨베이어식 자외선 조사 장치(가부시키가이샤 디에스 유아사라이팅제, 상품명:GSN2-40)를 사용하고, 실리콘으로 코팅된 PET 필름 너머에 조사 강도 190mW/㎠(365㎚의 값), 조사량 5000mJ/㎠ (365㎚의 값)의 조건으로 자외선을 조사해서 중합시켜 실리콘으로 코팅된 PET 필름에 끼워진 막두께 약 1.2mm의 평가 시험용 중합물막을 얻었다.

또한, 중합성 조성물 A1∼중합성 조성물 A14, 중합성 조성물 B1∼중합성 조성물 B5로부터 얻어진 중합물막을 각각 중합물막 A1∼중합물막 A14, 중합물막 B1∼중합물막 B5로 한다.

<중합물막의 굴절률 측정>

상기 막두께 약 1.2mm의 중합물막 A1∼중합물막 A14, 중합물막 B1∼중합물막 B5를 사용해서 JIS K 7105에 준거해서 25℃에서의 굴절률을 측정했다. 그 결과를 표 3에 기재한다.

<중합시의 체적 수축률 측정>

중합성 조성물 A1∼중합성 조성물 A14, 중합성 조성물 B1∼중합성 조성물 B5와, 상기 <굴절률 측정용 중합물막의 제작 방법>의 항에서 기재한 것과 동일한 방법으로 막두께만을 2mm로 바꾼 막두께 약 2mm의 중합물막 A1∼중합물막 A14, 중합물막 B1∼중합물막 B5의 밀도를 자동 비중계(형식:DMA-220H, 신코 덴시 가부시키가이샤제)를 사용해서 23℃의 온도조건으로 측정하고, 하기의 식으로부터 중합시의 체적 수축률을 구했다.

중합시의 체적 수축률(%)=(중합물막의 밀도-중합성 조성물의 밀도)/(중합물의 밀도)×100

그 결과를 표3에 기재한다.

<인장 탄성률의 측정>

상기 방법으로 제조한 막두께 약 1.2mm의 중합물막 A1∼중합성 조성물 A14, 중합물막 B1∼중합물막 B5를 인장 시험기(Shimadzu Corporation사제, EZ Test/CE)에 고정하고, 23℃에 있어서 인장 속도 500mm/min으로 시험을 행하여 인장 탄성률을 구했다. 그 결과를 표 3에 기재한다.

<경계선 유무의 확인용 중합물막의 제작 방법과 중합물막 경계선의 유무에 관한 평가>

상기 중합성 조성물 A1∼중합성 조성물 A14, 중합성 조성물 B1∼중합성 조성물 B5를 각각 디스펜서(형번:ML-5000XII, 무사시 엔지니어링 가부시키가이샤제)를 사용해서 유리판(10mm×10mm×0.7mm, 유리의 종류 상품명:EAGLE XG(등록상표), CORNING제) 상에 도포하고, 반자동식 접합 장치(형번:JE1010B-D4, 조우요우 코가쿠 가부시키가이샤제)를 사용해서 다른 한장의 동종동형의 유리판으로 끼우고, 중합성 조성물의 막두께가 200㎛가 되도록 조정했다(도 11 참조). 그 후, 이 유리로 끼워진 막두께 200㎛의 중합성 수지 조성물의 일부를 메탈할라이드 스폿 램프(형번:RIGHTINGCURE LC5, 하마마쯔 호토니쿠스 가부시키가이샤제)(15)를 사용하고, 상기 반자동식 접합 장치(12)의 투명판 및 유리판 너머에 조도 190mW/㎠(365㎚의 조도), 조사량 500mJ/㎠ (365㎚의 적산 광량)의 조건으로 자외선을 조사해서 중합성 조성물의 일부를 중합(가중합)시켰다. 그 후, 부분적으로 중합된 중합성 조성물이 끼워진 2매의 유리판을 반자동식 접합 장치(형번:JE1010B-D4, 조우요우 코가쿠 가부시키가이샤제)(12)로부터 인출하고, 메탈할라이드 램프(14)를 탑재한 컨베이어식 자외선 조사 장치(가부시키가이샤 디에스 유아사라이팅제, 상품명:GSN2-40)를 사용하고, 유리판 너머에 조사 강도 190mW/㎠(365㎚의 조도), 조사량 3000mJ/㎠(365㎚의 적산 광량)의 조건으로 자외선을 유리의 전면에 조사하고, 중합(본중합)시켜 유리판에 끼워져 있던 막두께 약 200㎛의 중합물막을 얻었다.

이들 유리판에 끼워진 막두께 약 200㎛의 중합물막의 가중합된 부분과, 가중합을 하지 않고 본중합만을 한 부분의 계면부근에 선이 발생되어 있는지의 여부에 대해서 육안으로 관찰했다.

그 결과를 표 3에 기재한다.

○:중합물막의 가중합된 부분과, 가중합을 하지 않고 본중합만을 한 부분의 계면부근에 (경계)선은 발생되지 않는다.

×:중합물막의 가중합된 부분과, 가중합을 하지 않고 본중합만을 한 부분의 계면부근에 (경계)선이 발생된다.

(산업상의 이용 가능성)

이상과 같이, 본 발명의 제조방법을 사용함으로써 접합기가 투광성의 보호부 또는 투광성의 터치 센서부의 전면과 동등이상의 투광성 부분을 갖고 있지 않은 경우라도 적응 가능하며, 또한, 광중합성 조성물로서 특정 화합물을 포함하는 광중합성 조성물을 사용함으로써 본중합 후의 중합물에 있어서 가중합이 행해진 개소와 가중합이 행해지지 않은 개소의 경계의 근방에 경계선(굴절률차에 의해 생기는 선)이 발생하지 않고, 그 결과, 깨끗한 표시 화상을 제공할 수 있다.

따라서, 본 발명의 제조방법을 화상 표시 장치의 제조방법에 사용하는 것은 유용하다.

1: 표시 장치
2: 표시부
3: 보호부
4: 스페이서
5a, 5b: 중합물 또는 중합물층
6a, 6b: 편광판
7: 터치센서

Claims

화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 보호부 사이, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성의 터치 센서부 사이, 및 투광성의 터치 센서부와 투광성의 보호부 사이 중에서 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시키는 공정,
중합성 조성물의 일부에 투광성의 보호부 및 투광성의 터치 센서부에서 선택된 적어도 1개의 투광성의 부 너머에 광을 조사함으로써 중합성 조성물을 부분적으로 중합시키는 공정, 및
투광성의 보호부 및 투광성의 터치 센서부에서 선택된 적어도 1개의 투광성의 부의 전면에 광을 조사함으로써 부분적으로 중합된 개소를 포함하는 중합성 조성물을 중합하는 공정을 포함하는 화상 표시 장치의 제조방법으로서,
중합성 조성물은 하기 성분 1, 2, 4-1 및 4-2를 포함하고, 또한 중합성 조성물의 25℃의 점도가 500∼5000mPa·s인 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.
(성분 1) 수 평균 분자량이 1000∼40000인 아크릴로일기 함유 고분자 화합물 및 수 평균 분자량이 1000∼40000인 메타크릴로일기 함유 고분자 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 고분자 화합물, 및
분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물 및 분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물
(성분 2) α-히드록시알킬페논계 광중합 개시제
(성분 4-1) 25℃에서 액상인 화합물로서, 폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부텐, 액상 폴리부타디엔, 액상 수첨 폴리부타디엔, 액상 폴리이소프렌, 액상 수첨 폴리이소프렌, 액상 폴리부타디엔 폴리올, 액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올, 액상 폴리이소프렌 폴리올 및 액상 수첨 폴리이소프렌 폴리올로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물
(성분 4-2) 25℃에서 고체인 화합물로서, 수첨 석유 수지, 테르펜계 수첨 수지 및 수첨 로진에스테르로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물
제 1 항에 있어서,
중합성 조성물의 일부에 투광성의 보호부 및 투광성의 터치 센서부에서 선택된 적어도 1개의 투광성의 부 너머에 광을 조사함으로써 중합성 조성물을 부분적으로 중합시키는 공정에 있어서, 광의 조사량은 365㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 적산 광량의 값으로 10∼1000mJ/㎠인 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
중합성 조성물은,
(성분 3) 아실포스핀옥시드계 광중합 개시제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.
제 3 항에 있어서,
성분 2와 성분 3의 비율이 질량비로 50:50∼95:5인 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.
삭제
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
성분 1은,
우레탄아크릴레이트, 우레탄메타크릴레이트, 폴리이소프렌계 아크릴레이트, 폴리이소프렌계 메타크릴레이트, 폴리부타디엔계 아크릴레이트, 폴리부타디엔계 메타크릴레이트, 수첨 폴리이소프렌계 아크릴레이트, 수첨 폴리이소프렌계 메타크릴레이트, 수첨 폴리부타디엔계 아크릴레이트 및 수첨 폴리부타디엔계 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 고분자 화합물, 및
분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물 및 분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.
제 1 항에 있어서,
분자량 500이하의 아크릴로일기 함유 화합물 및 분자량 500이하의 메타크릴로일기 함유 화합물로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물은,
탄소수 8∼18의 탄화수소기를 갖는 아크릴레이트, 탄소수 8∼18의 탄화수소기를 갖는 메타크릴레이트, 에테르 결합을 갖는 아크릴레이트 및 에테르 결합을 갖는 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 화합물, 및
아크릴아미드계 화합물, 메타크릴아미드계 화합물, 알콜성 수산기 함유 아크릴레이트 및 알콜성 수산기 함유 메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.
삭제
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삭제
삭제
제 1 항에 있어서,
상기 25℃에서 액상인 화합물은 액상 폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부타디엔, 액상 수첨 폴리이소프렌, 액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올 및 액상 수첨 폴리이소프렌 폴리올로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조방법.
삭제
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 화상 표시 장치의 제조방법에 의해 제조하는 것이 가능한 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.