KR101661185B1 - 화상 표시 장치의 제조 방법 및 그 제조 방법에 의해 제조된 화상 표시 장치 - Google Patents

화상 표시 장치의 제조 방법 및 그 제조 방법에 의해 제조된 화상 표시 장치 Download PDF

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Abstract

(과제) 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성 보호부 사이, 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성 터치 센서부 사이, 또는 투광성 터치 센서부와 수지제의 투광성 보호부 사이에 중합성 조성물을 개재시키고, 광을 조사해서 중합성 조성물을 중합하고, 화상 표시 장치를 제조하는 방법에 있어서, 수지제의 투광성 보호부나, 수지제의 보호막을 갖는 터치 센서나, 화상 표시부를 갖는 기부를 사이에 두고 광을 조사하는 경우이어도 중합성 조성물이 경화가능하며, 또한 경화된 중합성 조성물과 수지제의 투광성 보호부나 수지제의 보호막의 밀착성도 양호한 화상 표시 장치를 제조하는 방법을 제공한다.
(해결수단) (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물 및 380~780㎚의 가시광 영역에 흡수 파장을 갖는 광 중합개시제를 포함하고, 25℃의 점도가 500~50000m㎩·s인 중합성 조성물을 사용한다.

Description

화상 표시 장치의 제조 방법 및 그 제조 방법에 의해 제조된 화상 표시 장치{METHOD FOR MANUFACTURING IMAGE DISPLAY DEVICE AND IMAGE DISPLAY DEVICE MANUFACTURED BY THE MANUFACTURING METHOD}
본 발명은 예를 들면 스마트폰이나 타블렛 PC 등에 사용되는 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치의 제조 방법 및 그 제조 방법에 의해 제조된 화상 표시 장치에 관한 것이다.
종래, 이 종류의 화상 표시 장치로서는 예를 들면 도 9에 나타내는 액정 표시 장치(101)가 알려져 있다.
도 9에 나타낸 바와 같이 이 액정 표시 장치(101)는 액정 표시 패널(102) 상에 예를 들면 유리나 플라스틱으로 이루어지는 투명한 보호부(103)를 갖고 있다.
이 경우, 액정 표시 패널(102) 표면 및 편광판(도시하지 않음)을 보호하기 위해 보호부(103)와의 사이에 스페이서(104)를 개재시킴으로써 액정 표시 패널(102)과 보호부(103) 사이에 공극(105)이 형성되어 있다.
그러나 액정 표시 패널(102)과 보호부(103) 사이의 공극(105)의 존재에 의해 광의 산란이 생기고, 그것에 기인해서 콘트라스트나 휘도가 저하하고, 또한 공극(105)의 존재는 패널의 박형화의 방해가 되고 있다.
이러한 문제를 감안하여 액정 표시 패널과 보호부 사이의 공극에 수지를 충진하는 것(도 1 참조)도 제안되어 있다(예를 들면 특허문헌 1).
또한 최근, 휴대전화에 있어서는 스마트폰이 주류가 되고 있고, 타블렛 PC로 불리는 기기도 급속히 확산되고 있다. 이러한 기기에는 정전 용량 방식의 터치 패널이 탑재되어 있는 것이 일반적이다. 정전 용량 방식의 터치 패널의 일례로서 도 2 또는 도 3에 나타내는 아웃 셀형 정전 용량 방식 터치 패널 탑재 표시 장치 중의 터치 센서(7)와 보호부(3) 사이에 충진되는 중합물(층)(도 2 및 도 3에 기재된 5a의 중합물(층)), 표시부(2)와 터치 센서(7) 사이에 충진되는 중합물(층)(도 2 및 도 3에 기재된 5b의 중합물(층)), 커버 유리 터치 센서 일체형 정전 용량 방식 터치 패널 탑재 표시 장치 중의 표시부(2)와 터치 센서 일체형의 보호부(3) 사이에 충진되는 중합물(층)(도 4 및 도 5에 기재된 5b의 중합물(층)), 온 셀형 정전 용량 방식 터치 패널 탑재 표시 장치 중의 터치 센서를 표면에 갖는 표시부(2)와 보호부(3) 사이에 충진되는 중합물(층)(도 6에 기재된 5a의 중합물(층)) 및 인 셀형 정전 용량 방식 터치 패널 탑재 표시 장치 중의 터치 센서를 표면에 갖는 표시부(2)와 보호부(3) 사이에 충진되는 중합물(층)(도 7 및 도 8에 기재된 5a의 중합물(층))을 들 수 있다.
이들 중합물(층)을 제조하는 방법에는 크게 나누어 예를 들면 특허문헌 2에 기재된 바와 같이 아웃 셀형 정전 용량 방식 터치 패널 탑재 표시 장치 중의 터치 센서와 보호부 사이, 표시부와 터치 센서 사이, 커버 유리 터치 센서 일체형 정전 용량 방식 터치 패널 탑재 표시 장치 중의 표시부와 터치 센서 일체형의 보호부 사이, 온 셀형 정전 용량 방식 터치 패널 탑재 표시 장치 중의 터치 센서를 표면에 갖는 표시부와 보호부 사이, 또는 인 셀형 정전 용량 방식 터치 패널 탑재 표시 장치 중의 터치 센서를 표면에 갖는 표시부와 보호부 사이에 중합성 조성물을 개재시켜 자외선을 조사하고, 이 중합성 조성물을 중합시켜 중합물 층을 형성하는 공정을 갖는 화상 표시 장치의 제조 방법과, 아웃 셀형 정전 용량 방식 터치 패널 탑재 표시 장치 중의 터치 센서와 보호부 사이, 표시부와 터치 센서 사이, 커버 유리 터치 센서 일체형 정전 용량 방식 터치 패널 탑재 표시 장치 중의 표시부와 터치 센서 일체형의 보호부 사이, 온 셀형 정전 용량 방식 터치 패널 탑재 표시 장치 중의 터치 센서를 표면에 갖는 표시부와 보호부 사이, 또는 인 셀형 정전 용량 방식 터치 패널 탑재 표시 장치 중의 터치 센서를 표면에 갖는 표시부와 보호부 사이를 예를 들면 특허문헌 3에 기재된 바와 같은 광학 점착 시트를 사용하여 본딩하는 공정을 갖는 화상 표시 장치의 제조 방법이 있다.
전자의 방법에서는 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성 보호부 사이, 화상 표시부를 갖는 기부와 투광성 터치 센서부 사이, 또는 투광성 터치 센서부와 투광성 보호부 사이에 중합성 조성물을 개재시키키고, 본딩기 등을 사용해서 소정의 두께로 하고, 투광성 보호부 및/또는 투광성 터치 센서부의 전체면에 노광기를 사용해서 광을 조사하고, 중합성 조성물을 중합시켜 중합물 층을 형성하는 공정을 갖는 화상 표시 장치의 제조 방법이 행해지고 있다.
최근, 화상 표시 장치의 저비용화, 경량화, 내충격성 등을 향상시키기 위해 투광성 보호부에 유리가 아니라 폴리메틸메타크릴레이트 또는 폴리메틸메타크릴레이트와 폴리카보네이트의 적층체 등의 수지판을 사용하는 것이 검토되고 있다. 또한 터치 센서의 표면에는 시클로올레핀 폴리머 등의 환상 폴리올레핀 수지나 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 수지를 보호막으로서 사용하는 경우가 있고, 또한 표시부 상부의 편광판도 트리아세틸 셀룰로오스 등의 셀룰로오스 수지나 시클로올레핀 폴리머, 폴리메틸메타크릴레이트 등을 보호막으로서 사용하는 경우가 있다. 이들 수지판, 보호막에는 자외선 보호의 관점에서 자외선 흡수능이 부여되어 있는 것이 많다. 따라서 화상 표시부를 갖는 기부와 수지판을 본딩할 때는 수지판 너머로 자외선을 조사하거나 자외선 컷트 필터를 통한 후 수지판 너머로 자외선을 조사한다. 또는 가시광으로부터 적외 영역의 파장을 갖는 할로겐 램프나 가시광 영역의 LED 램프를 조사한다. 종래의 기술을 사용한 경우는 상기 조사 방법에서는 경화가 충분히 행해지지 않고, 또한 밀착성이 부족하기 때문에 고온 다습 하에서의 사용 시에 블리스터(발포 박리)가 발생할 우려가 있다.
일본 특허 공개 2005-55641호 공보 일본 특허 공개 2009-186958호 공보 일본 특허 공개 2012-233060호 공보
본 발명은 상기 종래 기술이 갖는 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 투광성 보호부에 유리가 아니라 수지판을 사용한 경우나 터치 센서나 화상 표시부를 갖는 기부의 보호막을 사이에 두고 경화가능하며, 또한 수지판이나 보호막에의 밀착성도 양호한 신규한 화상 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한 본 발명은 이 화상 표시 장치의 제조 방법에 의해 제조된 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 연구를 거듭한 결과, 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부 사이, 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부 사이 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부와 수지제의 투광성 보호부 사이 중으로부터 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시킬 때에 적응가능하며, 또한 전기 광 중합성 조성물로서 특정 화합물을 포함하는 광 중합성 조성물을 사용함으로써 수지제의 투광성 보호부나 수지제의 보호막을 갖는 터치 센서나 화상 표시부를 갖는 기부 너머로 광을 조사하는 경우이어도 경화가능하며, 또한 수지제의 투광성 보호부나 수지제의 보호막과의 밀착성도 양호한 화상 표시 장치의 제조 방법을 제공할 수 있는 것을 찾아내어 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명(I)은
화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부를 갖는 화상 표시 장치 또는 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부와 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부를 갖는 화상 표시 장치의 제조 방법으로서,
그 방법은,
화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부 사이, 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부 사이, 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부와 수지제의 투광성 보호부 사이 중으로부터 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시키는 공정, 및
수지제의 투광성 보호부 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부로부터 선택된 적어도 1개의 투광성부를 사이에 두고 광을 조사함으로써 중합성 조성물을 중합하는 공정을 포함하고,
중합성 조성물은,
(성분 1) (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물, 및
(성분 2) 380~780㎚의 가시광 영역에 흡수 파장을 갖는 광 중합개시제를 포함하고,
중합성 조성물의 25℃의 점도가 500~50000m㎩·s인 것을 특징으로 하는 방법에 관한 것이다.
본 발명(II)은 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 의해 제조되는 것이 가능한 화상 표시 장치에 관한 것이다.
더 말하면, 본 발명은 이하의 [1]~[15]에 관한 것이다.
[1] 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부를 갖는 화상 표시 장치 또는 화상 표시부를 갖는 기부와, 수지제의 투광성 보호부와, 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부를 갖는 화상 표시 장치의 제조 방법으로서,
그 방법은,
화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부 사이, 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부 사이, 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부와 수지제의 투광성 보호부 사이 중으로부터 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시키는 공정, 및
수지제의 투광성 보호부 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부로부터 선택된 적어도 1개의 투광성부 너머로 광을 조사함으로써 중합성 조성물을 중합하는 공정을 포함하고,
중합성 조성물은,
(성분 1) (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물, 및
(성분 2) 380~780㎚의 가시광 영역에 흡수 파장을 갖는 광 중합개시제를 포함하고,
중합성 조성물의 25℃의 점도가 500~50000m㎩·s인 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[2] [1]에 있어서,
투광성 보호부 또는 터치 센서의 보호막은 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리카보네이트, 시클로올레핀 폴리머, 셀룰로오스 및 폴리에스테르로부터 선택되는 적어도 1종을 사용해서 제조되는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[3] [1] 또는 [2]에 있어서,
광 중합개시제는 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온-1, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)-페닐)티타늄, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[4] [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 있어서,
수지제의 투광성 보호부 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부로부터 선택된 적어도 1개의 투광성부 너머로 광을 조사함으로써 중합성 조성물을 중합하는 공정에 있어서, 광의 조사량은 405㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 적산 광량의 값으로 1000~10000mJ/㎠인 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[5] [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 있어서,
성분 1은 수 평균 분자량이 1000~40000인 (메타)아크릴로일기 함유 고분자 화합물 및 분자량 500 이하의 (메타)아크릴로일기 함유 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[6] [5]에 있어서,
상기 수 평균 분자량이 1000~40000인 (메타)아크릴로일기 함유 고분자 화합물은 우레탄 (메타)아크릴레이트인 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[7] [6]에 있어서,
우레탄 (메타)아크릴레이트는 수첨 다이머 디올과 디에스테르의 에스테르 교환 반응에 의해 얻어지는 폴리에스테르 폴리올로 이루어지는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[8] [5] 내지 [7] 중 어느 하나에 있어서,
분자량 500 이하의 (메타)아크릴로일기 함유 화합물은,
탄소수 8~18개의 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴레이트 및 에테르 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택된 화합물, 및
(메타)아크릴아미드계 화합물 및 알코올성 수산기 함유 (메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택된 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[9] [1] 내지 [8] 중 어느 하나에 있어서,
중합성 조성물은,
(성분 3) 탄소 원자 및 수소 원자만으로 구성된 화합물 또는 탄소 원자, 수소 원자 및 산소 원자만으로 구성된 화합물이며, 또한 에틸렌성 이중결합을 갖지 않는 화합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[10] [9]에 있어서,
성분 3은,
25℃에서 액상인 화합물 및 25℃에서 고체인 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[11] [10]에 있어서,
성분 3은 25℃에서 액상인 화합물을 포함하고,
상기 25℃에서 액상인 화합물은,
폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-프로필렌 공중합체 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부텐, 액상 폴리부타디엔, 액상 수첨 폴리부타디엔, 액상 폴리이소프렌, 액상 수첨 폴리이소프렌, 액상 폴리부타디엔 폴리올, 액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올, 액상 폴리이소프렌 폴리올 및 액상 수첨 폴리이소프렌 폴리올로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[12] [10]에 있어서,
성분 3은 25℃에서 액상인 화합물을 포함하고,
상기 25℃에서 액상인 화합물은,
폴리에테르 폴리올, 폴리에스테르 폴리올 및 폴리카보네이트 폴리올로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[13] [10]에 있어서,
성분 3은 25℃에서 액상인 화합물을 포함하고,
상기 25℃에서 액상인 화합물은 액상 폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-프로필렌 공중합체 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부타디엔, 액상 수첨 폴리이소프렌, 액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올 및 액상 수첨 폴리이소프렌 폴리올로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[14] [10]에 있어서,
성분 3은 25℃에서 고체인 화합물을 포함하고,
상기 25℃에서 고체인 화합물은 수첨 석유 수지, 테르펜계 수첨 수지 및 수첨 로진 에스테르로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
[15] [1] 내지 [14] 중 어느 하나에 기재된 화상 표시 장치의 제조 방법에 의해 제조되는 것이 가능한 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.
(발명의 효과)
본 발명의 화상 표시 장치의 제조 방법에 의하면 수지제의 투광성 보호부나, 수지제의 보호막을 갖는 터치 센서나, 화상 표시부를 갖는 기부 너머로 광을 조사하는 경우이어도 중합성 조성물이 경화가능하며, 경화된 중합성 조성물과 수지제의 투광성 보호부나 수지제의 보호막의 밀착성도 양호한 화상 표시 장치를 제조할 수 있다.
도 1은 화상 표시 장치의 제 1 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 2는 화상 표시 장치의 제 2 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 3은 화상 표시 장치의 제 3 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 4는 화상 표시 장치의 제 4 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 5는 화상 표시 장치의 제 5 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 6은 화상 표시 장치의 제 6 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 7은 화상 표시 장치의 제 7 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 8은 화상 표시 장치의 제 8 실시형태의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 9는 종래 기술에 의한 화상 표시 장치의 요부를 나타내는 단면도이다.
도 10은 화상 표시 장치의 제조 공정의 개략을 나타내는 도면이다.
도 11은 화상 표시 장치의 제조 공정의 다른 실시형태의 개략을 나타내는 도면이다.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명한다.
우선, 본 발명(I)에 대해서 설명한다.
본 발명(I)은 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부를 갖는 화상 표시 장치 또는 화상 표시부를 갖는 기부와, 수지제의 투광성 보호부와, 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부를 갖는 화상 표시 장치의 제조 방법으로서,
그 방법은,
화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부 사이, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부 사이, 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부와 수지제의 투광성 보호부 사이 중으로부터 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시키는 공정, 및
수지제의 투광성 보호부 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부로부터 선택된 적어도 1개의 투광성부 너머로 광을 조사함으로써 중합성 조성물을 중합하는 공정을 포함하고,
중합성 조성물은,
(성분 1) (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물, 및
(성분 2) 380~780㎚의 가시광을 흡수하는 광 중합개시제를 포함하고,
중합성 조성물의 25℃의 점도가 500~50000mPa·s인 것을 특징으로 하는 방법이다.
우선 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부 사이, 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부 사이, 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부와 수지제의 투광성 보호부 사이 중으로부터 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시키는 공정에 대해서 설명한다.
또한 본 명세서에 기재된 「화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부 사이」란 예를 들면 도 1, 도 4, 도 5의 5b부나 도 6~도 8의 5a부를 의미한다. 또한 본 명세서에 기재된 「화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부 사이」란 예를 들면 도 2나 도 3의 5b부를 의미하고, 본 명세서에 기재된 「수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부와 수지제의 투광성 보호부 사이」란 예를 들면 도 2나 도 3의 5a부를 의미한다.
화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부 사이, 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부 사이, 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부와 수지제의 투광성 보호부 사이 중으로부터 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시키는 방법에는 특별히 제한은 없다.
화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부 사이에 중합성 조성물을 개재시키는 경우에는 화상 표시부를 갖는 기부 상에 중합성 조성물을 도포하고, 그 후 화상 표시부를 갖는 기부의 중합성 조성물 도포면과 수지제의 투광성 보호부의 본딩면을 중합성 조성물을 통해 접촉시키거나 수지제의 투광성 보호부의 본딩면 상에 중합성 조성물을 도포하고, 그 후, 수지제의 투광성 보호부의 중합성 조성물 도포면과 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부의 본딩면을 중합성 조성물을 통해 접촉시켜도 전혀 상관없어 특별히 제한은 없다.
또한 중합성 조성물을 통해 화상 표시부를 갖는 기부의 중합성 조성물 도포면과 수지제의 투광성 보호부의 본딩면을, 또는 수지제의 투광성 보호부의 중합성 조성물 도포면과 화상 표시부를 갖는 기부의 본딩면을 접촉시킬 때에 중합성 조성물을 도포한 부를 상면으로 해서 접촉시키거나 중합성 조성물을 도포한 부를 하면으로 해서 접촉시켜도 전혀 상관없어 특별히 제한은 없다.
또한 접촉시킨 후, 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부 사이에 있는 중합성 조성물을 스프리딩하여 중합성 조성물의 두께를 소망의 두께로 조정하는 것이 필요하지만 상면에 배치된 부의 자중만으로 스프리딩하거나 외부로부터 압력을 가해 스프리닝해도 전혀 상관없어 특별히 제한은 없다.
화상 표시부를 갖는 기부와 투광성 터치 센서부 사이, 또는 투광성 터치 센서부와 수지제의 투광성 보호부 사이에 중합성 조성물을 개재시키는 경우에 있어서도 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부 사이에 중합성 조성물을 개재시키는 경우와 동일하여 특별히 제한은 없다.
또한 이들의 본딩에는 본딩기가 사용되는 것이 일반적이다. 그러나 본 발명에 있어서 본딩기를 사용하는 것은 필수적이지 않아 본딩기를 사용하지 않고 본 공정을 행해도 전혀 상관없다.
이어서 수지제의 투광성 보호부 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부로부터 선택되는 적어도 1개의 투광성부 너머로 광을 조사함으로써 중합성 조성물을 중합하는 공정에 대해서 설명한다.
도 10은 화상 표시 장치의 제조 공정의 개략을 나타내는 도면이다. 중합 전의 중합성 조성물을 개재시킨 물품(11)에 본딩기(12)를 중첩시켜 물품(11)을 소정의 두께로 한다(공정 b). 또한 12는 본딩기를 상방으로부터 본 도면이며, 본딩기의 본딩 부분의 상면을 의미한다. 13은 투광성의 부분이다. 본딩기(12)를 사용해서 소정의 두께로 된 물품(11)은 중첩이 해제되어 본딩기(12)로부터 인출된다(공정 d). 본딩기(12)로부터 인출된 물품(11)은 노광기의 램프(14)를 사용하고, 물품(11)의 수지제의 투광성 보호부 또는 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부의 전체면에 광이 조사된다(공정 e). 이 광의 조사에 의해 중합성 조성물이 중합되고, 중합물 층이 개재된 화상 표시 장치(1)가 얻어진다. (f)에 나타내는 화상 표시 장치(1)에 있어서 점 모양이 붙여진 부분은 중합성 조성물이 중합된 부분을 나타낸다.
이 공정에서 사용되는 램프에 대해서는 성분 2가 감광가능한 광을 낼 수 있는 램프이면 특별히 제한은 없지만 예를 들면 메탈 할라이드 램프, 고압 수은 램프, 초고압 UV 램프, Deep UV 램프, 크세논 램프, 할로겐 램프, LED 램프 등을 사용할 수 있다. 또한 램프의 조사 면적이 투광성 보호부나 투광성 터치 센서부의 편면 전체보다 크거나, 또는 컨베이어 방식의 노광기 등의 투광성 보호부나 투광성 터치 센서부의 편면 전체를 단시간으로 광 조사가능한 장치를 사용하는 것이 바람직하다.
또한 본 공정에서의 광의 조사량은 405㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 관측되는 에너지이며, 1000~10000mJ/㎠인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1500~9000mJ/㎠이며, 더욱 바람직하게는 2000~8000mJ/㎠이다. 이러한 405㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계로서는 예를 들면 IWASAKI ELECTRIC CO., LTD. 제작 EYE 자외선 적산 조도계 UVPF-A1 등을 들 수 있다.
또한 본 공정에서 사용되는 광의 조도는 405㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 조도의 값으로 10~400㎽/㎠인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30~300㎽/㎠이며, 더욱 바람직하게는 50~200㎽/㎠이다. 10㎽/㎠ 미만의 경우에는 조도가 부족해지고, 중합성 조성물의 종류에 따라서는 중합에 필요한 조도가 부족해 버릴 가능성이 있어 바람직한 것이라고는 말할 수 없다. 또한 본 공정에서 사용되는 광의 조도는 405㎚를 검출하는 조도계를 사용해서 관측되는 에너지이며, 400㎽/㎠보다 큰 경우에는 중합성 조성물의 종류에 따라서는 반응률이 90% 미만밖에 진행되지 않는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 말할 수 없다.
또한 본 명세서에 기재된 「405㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 조도의 값」이란 IWASAKI ELECTRIC CO., LTD. 제작 EYE 자외선 적산 조도계 UVPF-A1을 사용해서 측정된 조도의 값이다.
광의 조사는 통상 1회로 행할 수 있다. 그렇지만 광의 조사를 2회 이상으로 나누어 행해도 좋다.
또한 본딩기 너머로 중합성 조성물의 일부에 광을 조사(가노광)하고, 그 후, 본딩기로부터 인출하여 중합성 조성물의 전체면에 광을 조사(본노광)해도 좋다. 즉, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부 사이, 화상 표시 장치의 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부 사이, 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부와 수지제의 투광성 보호부 사이 중으로부터 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시키고, 이어서 중합성 조성물의 일부에 수지제의 투광성 보호부 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부로부터 선택된 적어도 1개의 투광성부 너머로 광을 조사함으로써 중합성 조성물을 부분적으로 중합시키고, 이어서 수지제의 투광성 보호부 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부로부터 선택된 적어도 1개의 투광성부의 전체면에 광을 조사함으로써 부분적으로 중합된 개소를 포함하는 중합성 조성물을 중합해도 좋다.
이 가노광과 본노광을 조합해서 화상 표시 장치를 제조하는 경우의 예를 도 11을 참조해서 설명한다.
우선 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부 사이, 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부 사이, 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부와 수지제의 투광성 보호부 사이 중으로부터 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시켜 중합 전의 중합성 조성물을 개재시킨 물품(11)을 제작한다. 중합 전의 중합성 조성물을 개재시킨 물품(11)에 투광성 부분(13)을 갖는 본딩기(12)를 중첩시켜 물품(11)을 소정의 두께로 한다(공정 b). 또한 12는 본딩기를 상방으로부터 본 도면이며, 본딩기의 본딩 부분의 상면을 의미한다. 이어서 본딩기(12) 너머로 수지제의 투광성 보호부 및/또는 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부의 일부에 가노광용 램프(15)를 사용해서 광을 조사하고, 중합성 조성물을 부분적으로 중합(가중합)시킨다(공정 c). 본딩기(12)를 사용해서 소정의 두께로 되고, 또한 부분적으로 중합된 개소를 포함하는 중합성 조성물이 개재되는 물품(11)은 중첩이 해제되어 본딩기(12)로부터 인출된다(공정 d). 공정 d에 나타내어진 물품(11)에 있어서 점 모양이 붙여진 부분은 중합성 조성물이 중합된 부분을 나타낸다. 본딩기(12)로부터 인출된 물품(11)은 그 후, 컨베이어 타입 등의 대형 노광기 내의 램프(14)를 사용하여 물품(11)의 수지제의 투광성 보호부 및/또는 수지제의 보호막을 갖는 투광성의 터치 센서부의 전체면에 광이 조사된다(공정 e). 이 광의 조사에 의해 중합성 조성물의 전체면이 중합되어 중합물 층이 개재된 화상 표시 장치(1)가 얻어진다.
또한 이 가노광과 본노광을 조합해서 화상 표시 장치를 제조하는 경우의 예에서는 수지제의 투광성 보호부 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부로부터 선택되는 적어도 1개의 투광성부 너머로 중합성 조성물의 일부에 광을 조사하게 된다. 여기서 말하는 「일부」란 충진된 중합성 조성물의 전체 면적보다 적고 또한 본 공정 후부터 후술의 다음 공정이 개시되기 까지의 시간, 본딩된 보호부, 터치 센서부, 화상 표시부를 갖는 기부가 어긋나지 않을 정도의 면적이면 좋은 것을 의미한다. 이 가노광의 공정에서는 일반적으로는 충진된 중합성 조성물의 전체 면적에 대하여 3~70%에 광을 조사하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 4~65%, 더욱 바람직하게는 5~60%이다. 충진된 중합성 조성물의 전체 면적의 3% 미만밖에 광을 조사하지 않는 경우에는 본 공정 후부터 후술의 다음 공정이 개시되기 까지의 시간에 본딩된 보호부, 터치 센서부, 화상 표시부를 갖는 기부가 어긋나거나 광을 조사하지 않는 부분의 중합성 조성물이 유동하여 본딩된 면의 가장자리로부터 흘러나와 버릴 가능성이 있어 바람직한 것이라고는 말할 수 없다. 또한 충진된 중합성 조성물의 전체 면적에 대하여 70% 이상에 광을 조사하는 것은 본딩 면적이 작은 경우에는 가능하지만 본딩 면적이 커지면 본딩기의 설계상 큰 제약 사항이 되거나 또는 본딩기 뚜껑 너머로 그러한 대면적을 광 조사하는 것은 노광기도 방대한 것이 되지 않으면 안되어 실용적이라고는 말할 수 없다.
이 가노광의 공정에서 사용되는 램프에 대해서는 성분 2가 감광가능한 광을 낼 수 있는 램프이면 특별히 제한은 없지만 예를 들면 메탈 할라이드 램프, 고압 수은 램프, 초고압 UV 램프, Deep UV 램프, 크세논 램프, 할로겐 램프, LED 램프 등을 사용할 수 있다.
이 가노광의 공정에서 사용되는 광의 조사량은 405㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 적산 광량의 값으로 10~1000mJ/㎠인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 100~900mJ/㎠이고, 더욱 바람직하게는 130~800mJ/㎠이다. 이 가노광의 공정에서의 광의 조사량은 405㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 적산 광량의 값으로 10mJ/㎠ 미만인 경우에는 필요로 되는 만큼 가중합이 진행되지 않는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 말할 수 없다. 또한 405㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 적산 광량의 값으로 1000mJ/㎠보다 많은 경우에는 중합성 조성물의 조성에 따라서는 가중합이 행해진 개소와 가중합이 행해지지 않았던 개소의 경계의 근방에 경계선(굴절률차에 의해 생기는 선)이 발생되어 버릴 가능성이 있어 바람직한 것이라고는 말할 수 없다.
또한 본 명세서에 기재된 「405㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 적산 광량의 값」이란 USHIO INC. 제작 자외선 적산 광량계 UIT-250을 사용해서 측정된 적산 광량의 값이다.
또한 이 가노광의 공정에서 사용되는 광의 조도는 405㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 조도의 값으로 10~400㎽/㎠인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30~300㎽/㎠이고, 더욱 바람직하게는 50~200㎽/㎠이다. 10㎽/㎠ 미만의 경우에는 조도가 부족해지고, 중합성 조성물의 종류에 따라서는 중합에 필요한 조도가 부족해 버릴 가능성이 있어 바람직한 것이라고는 말할 수 없다. 또한 본 공정에서 사용되는 광의 조도는 405㎚를 검출하는 조도계를 사용해서 관측되는 에너지이며, 400㎽/㎠보다 큰 경우에는 중합성 조성물의 종류로 따라서는 반응률이 90% 미만밖에 진행되지 않는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 말할 수 없다.
또한 본 명세서에 기재된 「405㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 조도의 값」이란 IWASAKI ELECTRIC CO., LTD. 제작 EYE 자외선 적산 조도계 UVPF-A1을 사용해서 측정된 조도의 값이다.
가노광을 행했을 때는 그 후 본노광을 행한다. 본노광은 수지제의 투광성 보호부 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부로부터 선택된 적어도 1개의 투광성부의 전체면에 광을 조사함으로써 중합성 조성물을 중합하는 공정이다.
이 공정에서 사용되는 램프에 대해서는 성분 2가 감광가능한 광을 낼 수 있는 램프이면 특별히 제한은 없지만 예를 들면 메탈 할라이드 램프, 고압 수은 램프, 초고압 UV 램프, Deep UV 램프, 크세논 램프, 할로겐 램프, LED 램프 등을 사용할 수 있다. 또한 램프의 조사 면적이 투광성 보호부나 투광성 터치 센서부의 편면 전체보다 크거나, 또는 컨베이어 방식의 노광기 등의 투광성 보호부나 투광성 터치 센서부의 편면 전체를 단시간으로 광 조사가능한 장치를 사용하는 것이 바람직하다.
또한 본노광의 공정에서의 광의 조사량은 405㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 관측되는 에너지이며, 1000~10000mJ/㎠인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1500~9000mJ/㎠이며, 더욱 바람직하게는 2000~8000mJ/㎠이다. 이러한 405㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계로서는 예를 들면 IWASAKI ELECTRIC CO., LTD. 제작 EYE 자외선 적산 조도계 UVPF-A1 등을 들 수 있다.
이어서 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물에 대해서 설명한다.
본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물의 25℃의 점도가 500~50000m㎩·s이며, 바람직하게 650~47000m㎩·s이며, 보다 바람직하게는 800~45000m㎩·s이다. 25℃에서의 중합성 조성물의 점도가 500m㎩·s 미만인 경우에는 보호부, 터치 센서부 또는 화상 표시부를 갖는 기부의 상면에 중합성 조성물을 도포하고, 그 도포한 면을 반전시켜 하면으로 해서 본딩에 사용하는 다른 한쪽의 부와 본딩하는 방법을 취하는 경우에는 반전시켰을 때에 액이 도포면으로부터 흘러내려 버리는 경우가 있다. 또한 보호부, 터치 센서부 또는 화상 표시부를 갖는 기부에 중합성 조성물을 도포하고, 본딩에 사용하는 다른 한쪽의 부를 위에서부터 밀착시키는 경우에는 도포한 중합성 조성물이 그 중합성 조성물의 자중으로 흘러버리고, 본딩에 사용하는 다른 한쪽의 부를 위에서부터 밀착시킬 때에 공기를 끌어들여 본딩시킨 것 중에 기포가 잔존한 채로 되어 버린다. 25℃에서의 중합성 조성물의 점도가 50000m㎩·s 보다 높은 경우에는 2개의 본딩에 사용하는 부를 중합성 조성물을 사이에 두고 포갠 후의 중합성 조성물의 유동성이 극단적으로 작아지고, 특히 본딩 면적이 큰 경우에는 본딩면의 전체면에 중합성 조성물을 널리 퍼뜨리는데 장시간이 필요로 되어 버려 바람직하지 않다.
또한 본 명세서에 기재된 점도는 콘/플레이트형 점도계(Brookfield사 제작, 형식: DV-II+Pro, 스핀들의 형번: CPE-42)를 사용하고, 회전수 5rpm의 조건으로 측정된 점도의 값이다.
이어서 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물의 성분인 성분 1에 대해서 설명한다.
성분 1은 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이다.
여기서 (메타)아크릴로일기란 아크릴로일기 및/또는 메타크릴로일기를 의미한다. 즉, 성분 1은 아크릴로일기와 메타크릴로일기 중 어느 하나 또는 양쪽을 분자 내에 갖는 화합물이다.
단, 상술과 같이 성분 1을 포함하는 중합성 조성물의 25℃에서의 점도는 500~50000m㎩·s가 아니면 안된다. 따라서 이들 조건을 용이하게 충족시키기 위해서는 성분 1은 수 평균 분자량이 1000~40000인 (메타)아크릴로일기 함유 고분자 화합물 및 분자량 500 이하의 (메타)아크릴로일기 함유 화합물을 병용해서 사용하는 것이 바람직하다.
수 평균 분자량이 1000~40000인 (메타)아크릴로일기 함유 고분자 화합물은 25℃에서의 점도는 500m㎩·s 보다 매우 큰 것이 많다. 이들 고분자 화합물과 분자량 500 이하의 (메타)아크릴로일기 함유 화합물을 병용함으로써 용이하게 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물의 25℃에서의 점도를 500~50000m㎩·s로 조정할 수 있다.
본원에 있어서의 수 평균 분자량은 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)로 측정된 폴리스티렌 환산값이다.
또한 재료면에서 보면 우레탄 (메타)아크릴레이트 및 분자량 500 이하의 (메타)아크릴로일기 함유 화합물을 병용해서 사용하는 것이 바람직하다. 즉, 상기 수 평균 분자량이 1000~40000인 (메타)아크릴로일기 함유 고분자 화합물이 우레탄 (메타)아크릴레이트인 것이 바람직하다.
우레탄 (메타)아크릴레이트란 1개 이상의 우레탄 결합을 갖고 또한 1개 이상의 (메타)아크릴레이트기를 갖는 화합물이다.
우레탄 (메타)아크릴레이트로서는 폴리에스테르 폴리올계 우레탄 (메타)아크릴레이트, 폴리이소프렌계 우레탄 (메타)아크릴레이트, 폴리부타디엔계 우레탄 (메타)이크릴레이트 및 수첨 폴리이소프렌계 우레탄 (메타)아크릴레이트가 바람직하다.
우레탄 (메타)아크릴레이트란 폴리올과 폴리이소시아네이트와 수산기 함유(메타)아크릴레이트 또는 폴리올과 이소시아나토기 함유(메타)아크릴레이트를 반응시킴으로써 얻어지는 화합물이다. 이 때 선택되는 폴리올, 폴리이소시아네이트, 수산기 함유 (메타)아크릴레이트, 이소시아나토기 함유 (메타)아크릴레이트에 특별히 제한은 없다.
우레탄 (메타)아크릴레이트의 제조 원료로서의 폴리올의 구체예로서는 수첨다이머 디올(쇄상의 것), 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 네오펜틸 글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 2-메틸-1,8-옥탄디올, 1,9-노난디올, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 2,4-디에틸-1,5-펜탄디올, 1,10-데칸디올, 1,12-도데칸디올, 폴리올레핀 폴리올, 수첨 폴리올레핀 폴리올 등의 다이머 디올 이외의 쇄상 지방족 폴리올, 수첨 다이머 디올(지환 구조를 갖는 것), 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,3-시클로헥산디메탄올, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸디메탄올, 2-메틸시클로헥산-1,1-디메탄올 등의 다이머 디올 이외의 지환 구조를 갖는 폴리올, 트리머 트리올, p-크실릴렌글리콜, 비스페놀A 에틸렌 옥사이드 부가물, 비스페놀F 에틸렌 옥사이드 부가물, 비페놀에틸렌 옥사이드 부가물 등의 방향환을 갖는 폴리올, 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 폴리테트라메틸렌 글리콜 등의 폴리에테르 폴리올, 폴리헥사메틸렌 아디페이트, 폴리헥사메틸렌 숙시네이트, 폴리카프로락톤 등의 폴리에스테르 폴리올, α,ω-폴리(1,6-헥실렌카보네이트)디올, α,ω-폴리(3-메틸-1,5-펜틸렌카보네이트)디올, α,ω-폴리[(1,6-헥실렌:3-메틸-펜타메틸렌)카보네이트]디올, α,ω-폴리[(1,9-노닐렌:2-메틸-1,8-옥틸렌)카보네이트]디올 등의 (폴리)카보네이트 디올, 다이머 디올과 디에스테르의 에스테르 교환 반응에 의해 얻어지는 폴리에스테르 폴리올, 수첨 다이머산으로부터 유도되는 구조 단위 및 수첨 다이머 디올로부터 유도되는 구조 단위를 갖는 폴리에스테르 폴리올을 들 수 있고, 시판품으로서는 Daicel Corporation. 제작의 상품명 PLACCEL, CD-205, 205PL, 205HL, 210, 210PL, 210HL, 220, 220PL, 220HL, KURARAY CO., LTD. 제작의 상품명 Kuraray Polyol C-590, C-1065N, C-1015N, C-2015N 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로, 또는 2종 이상을 적당히 조합해서 사용해도 좋다. 또한, 주로 기재에의 밀착성의 관점에서 방향환을 갖는 폴리올, 폴리에테르 폴리올, (폴리)카보네이트 디올, 폴리에스테르 폴리올이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 다이머 디올과 디에스테르의 에스테르 교환 반응에 의해 얻어지는 폴리에스테르 폴리올이다.
우레탄 (메타)이크릴레이트의 제조 원료로서의 폴리이소시아네이트의 구체예 로서는 1,4-시클로헥산디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 메틸렌비스(4-시클로헥실이소시아네이트), 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 1,3-크실릴렌디이소시아네이트, 1,4-크실릴렌디이소시아네이트, 리신트리이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산메틸렌디이소시아네이트 및 노르보르난디이소시아네이트 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로도, 또는 2종 이상을 적당히 조합해서 사용해도 좋다. 수산기 함유 (메타)아크릴레이트로서는 예를 들면 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 3-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시부틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-(o-페닐페녹시)프로필아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴아미드, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시-3-(o-페닐페녹시)프로필메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 단독이어도, 또는 2종 이상을 적당히 조합해서 사용해도 좋다. 이소시아나토기 함유 (메타)아크릴레이트로서는 2-이소시아나토에틸아크릴레이트, 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 단독이어도, 또는 2종 이상을 적당히 조합해서 사용해도 좋다.
우레탄 (메타)아크릴레이트 중에서도 수첨 다이머 디올과 디에스테르의 에스테르 교환 반응에 의해 얻어지는 폴리에스테르 폴리올의 잔기를 포함하는 우레탄 (메타)아크릴레이트가 바람직하다. 여기서 폴리에스테르 폴리올의 잔기란 폴리에스테르 폴리올로부터 그 중 적어도 2개의 히드록실기의 수소를 제거한 나머지를 말한다.
폴리에스테르 폴리올의 원료인 디에스테르로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만 예를 들면 세바스산 메틸 등을 들 수 있다.
폴리에스테르 폴리올의 원료인 수첨 다이머 디올이란 다이머산, 수첨 다이머산 및 그 저급 알코올 에스테르 중 적어도 1종을 촉매 존재 하에서 환원하고, 다이머산의 카르복실산 또는 카르복실레이트 부분을 알코올로 하고, 원료에 탄소-탄소이중결합을 갖는 경우에는 그 이중결합을 수소화한 디올을 주성분으로 한 것이다.
다이머산이란 에틸렌성 이중결합을 2~4개 갖는 탄소수 14~22개의 지방산(이하, 불포화 지방산 A라고 한다), 바람직하게는 에틸렌성 이중결합을 2개 갖는 탄소수 14~22개의 지방산과 에틸렌성 이중결합을 1~4개 갖는 탄소수 14~22개의 지방산(이하, 불포화 지방산 B라고 한다), 바람직하게는 에틸렌성 이중결합을 1개 또는 2개 갖는 탄소수 14~22개의 지방산을 이중결합부에서 반응하여 얻어지는 이량체 산을 말하는 것으로 한다. 상기에서 불포화 지방산 A로서는 테트라데카디엔산, 헥사데카디엔산, 옥타데카디엔산(리놀레산 등), 에이코사디엔산, 도코사디엔산, 옥타데카트리엔산(리놀렌산 등), 에이코사테트라엔산(아라키돈산 등) 등을 들 수 있고, 리놀레산이 가장 바람직하다. 또한 불포화 지방산 B로서는 상기 예시된 것에 더불어 에틸렌성 이중결합을 1개 갖는 탄소수 14~22개의 지방산으로서의 테트라데센산(츠즈산, 피세테르산, 미리스트올레산, 헥사데센산(팔미트올레산 등), 옥타데센산(올레산, 엘라이드산, 박센산 등), 에이코센산(가돌레산 등), 도코센산(에루크산, 세톨레산, 브라시드산 등) 등을 들 수 있고, 올레산 또는 리놀레산이 가장 바람직하다.
수첨 다이머란 상기 다이머산의 탄소-탄소 이중결합을 수소화해서 얻어지는 포화 디카르복실산을 말하는 것으로 한다.
상기 다이머산으로서 예를 들면 리놀레산과 리놀레산 또는 올레산으로부터 제조되는 탄소수 36개의 다이머산을 원료로서 사용한 경우에는 수첨 다이머산의 주성분의 구조는 이하의 식(1) 및 식(2)으로 나타내어지는 구조이다.
Figure 112014075737862-pat00001
[식 중, R4 및 R5는 알킬기이며, 또한 R4 및 R5에 포함되는 각 탄소수, a 및 b의 합계는 28(즉, R4에 포함되는 탄소수＋R5에 포함되는 탄소수＋a＋b=28)이다]
Figure 112014075737862-pat00002
[식 중, R6 및 R7은 알킬기이며, 또한 R6 및 R7에 포함되는 각 탄소수, c 및 d의 합계는 32(즉, R6에 포함되는 탄소수＋R7에 포함되는 탄소수＋c＋d=32)이다]
수첨 다이머산의 시판품으로서는 예를 들면 PRIPOL(등록상표) 1009 등(Croda사 제작), EMPOL(등록상표) 1008 및 EMPOL (등록상표) 1062(BASF사 제작)를 들 수 있다.
수첨 다이머 디올이란 상술한 대로 다이머산, 수첨 다이머산 및 그 저급 알코올 에스테르 중 적어도 1종을 촉매 존재 하에서 환원하여 다이머산의 카르복실산 또는 카르복실레이트 부분을 알코올로 하고, 원료에 탄소-탄소 이중결합을 갖는 경우에는 그 이중결합을 수소화한 디올을 주성분으로 한 것이지만 예를 들면 식(1) 및 식(2)으로 나타내어지는 구조의 화합물을 주성분으로 하는 수첨 다이머산을 환원해서 수첨 다이머 디올을 제조한 경우에는 수첨 다이머 디올의 주성분의 구조는 이하의 식(3) 및 식(4)으로 나타내어지는 구조이다.
Figure 112014075737862-pat00003
[식 중, R8 및 R9는 알킬기이며, 또한 R8 및 R9에 포함되는 각 탄소수, e 및 f의 합계는 30(즉, R8에 포함되는 탄소수＋R9에 포함되는 탄소수＋e＋f=30)이다]
Figure 112014075737862-pat00004
[식 중, R10 및 R11은 알킬기이며, 또한 R10 및 R11에 포함되는 각 탄소수, g 및 h의 합계는 34(즉, R10에 포함되는 탄소수＋R11에 포함되는 탄소수＋g+h=34)이다]
수첨 다이머 디올의 시판품으로서는 예를 들면 PRIPOL(등록상표) 2033등(Croda사 제작)이나 Sovermol(등록상표) 908(BASF사 제작)을 들 수 있다.
또한 우레탄 (메타)아크릴레이트로서 수첨 다이머산으로부터 유도되는 구조 단위 및 수첨 다이머 디올로부터 유도되는 구조 단위를 갖는 폴리에스테르 폴리올의 잔기를 포함하는 우레탄 (메타)아크릴레이트도 또한 바람직하게 사용할 수 있다.
수첨 다이머산으로부터 유도되는 구조 단위 및 수첨 다이머 디올로부터 유도되는 구조 단위를 갖는 폴리에스테르 폴리올은 상기 수첨 다이머산을 필수성분으로 하는 산 성분과 상기 수첨 다이머 디올을 필수성분으로 하는 폴리올 성분을 에스테르화 촉매의 존재 하에서 축합반응을 행함으로써 제조할 수 있다.
또한 수첨 다이머산으로부터 유도되는 구조 단위 및 수첨 다이머 디올로부터 유도되는 구조 단위를 갖는 폴리에스테르 폴리올은 수첨 다이머산을 필수성분으로 하는 산의 저급 알킬에스테르와 상기 수첨 다이머 디올을 필수성분으로 하는 폴리올 성분을 에스테르 교환 촉매의 존재 하에서 에스테르 교환 반응을 행함으로써도 제조할 수 있다.
분자량 500 이하의 (메타)아크릴로일기 함유 화합물이란 한 분자 중에 (메타)아크릴로일기를 갖는 분자량 500 이하의 화합물이다.
분자량 500 이하의 (메타)아크릴로일기 함유 화합물로서는 예를 들면 시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 이소보르닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐에틸 (메타)아크릴레이트, 4-tert-부틸시클로헥실 (메타)아크릴레이트 등의 환상 지방족기를 갖는 (메타)아크릴레이트, 헥실 (메타)아크릴레이트, 라우릴 (메타)아크릴레이트, 이소데실 (메타)아크릴레이트, 2-에틸 헥실 (메타)아크릴레이트, 이소노닐 (메타)아크릴레이트, 이소스테아릴 (메타)아크릴레이트, 2-프로필헵틸 (메타)아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실 (메타)아크릴레이트, 이소옥타데실 (메타)아크릴레이트, 2-헵틸운데실 (메타)아크릴레이트 등의 쇄상 지방족기를 갖는 (메타)아크릴레이트, 메톡시에틸 (메타)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 (메타)아크릴레이트, 페녹시에틸 (메타)이크릴레이트, 3-메틸-3-옥세타닐메틸 (메타)아크릴레이트, 1,4-디옥사스피로[4.5]데카-2-일메틸 (메타)아크릴레이트, (2-메틸-2-에틸-1,3-디옥솔란-4-일)메틸 (메타)아크릴레이트 등의 분자 중에 에테르 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트, α-(메타)아크릴옥시-γ-부티로락톤 등의 환상 에스테르를 갖는 (메타)아크릴로일기 함유 화합물, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 3-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-(o-페닐페녹시)프로필 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴아미드 등의 알코올성 수산기 함유 (메타)아크릴레이트, N,N-디메틸 (메타)아크릴아미드, N,N-디에틸 (메타)아크릴아미드, N-(메타)아크릴로일모르폴린, N-이소프로필 (메타)아크릴아미드, N-tert-부틸 (메타)아크릴아미드, N-메톡시메틸 (메타)아크릴아미드, N-에톡시메틸 (메타)아크릴아미드, N-n-부톡시메틸 (메타)아크릴아미드, N-이소부톡시메틸 (메타)아크릴아미드 등의 (메타)아크릴아미드계 화합물 등을 들 수 있다.
아크릴로일기 함유 화합물의 분자량의 하한은 한정되는 것은 아니지만 아크릴로일기 함유 화합물의 분자량은 바람직하게는 86 이상이다.
메타크릴로일기 함유 화합물의 분자량의 하한은 한정되는 것은 아니지만 메타크릴로일기 함유 화합물의 분자량은 바람직하게는 100 이상이다.
이들 분자량 500 이하의 (메타)아크릴로일기 함유 화합물 중에서 바람직한 조합은,
(a) 시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 이소보르닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸 (메타)이크릴레이트, 디시클로펜타닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐에틸 (메타)아크릴레이트, 4-tert-부틸시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 헥실 (메타)아크릴레이트, 라우릴 (메타)아크릴레이트, 이소데실 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 이소스테아릴 (메타)아크릴레이트, 이소노닐 (메타)아크릴레이트, 2-프로필부틸 (메타)아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필헥실 (메타)아크릴레이트, 이소옥타데실 (메타)아크릴레이트, 2-헵틸운데실 (메타)아크릴레이트 등의 탄소수 8개~탄소수 18개의 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴레이트 및 메톡시에틸 (메타)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 (메타)아크릴레이트, 페녹시에틸 (메타)아크릴레이트, 3-메틸-3-옥세타닐메틸 (메타)아크릴레이트, 1,4-디옥사스피로[4.5]데카-2-일메틸 (메타)아크릴레이트, (2-메틸-2-에틸-1,3-디옥솔란-4-일)메틸 (메타)아크릴레이트 등의 에테르 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택된 화합물과,
(b) N,N-디메틸 (메타)아크릴아미드, N,N-디에틸 (메타)아크릴아미드, N-(메타)아크릴로일모르폴린, N-이소프로필 (메타)아크릴아미드, N-tert-부틸 (메타)아크릴아미드, N-메톡시메틸 (메타)아크릴아미드, N-에톡시메틸 (메타)아크릴아미드, N-n-부톡시메틸 (메타)아크릴아미드, N-이소부톡시메틸 (메타)아크릴아미드, N-(2-히드록시에틸) (메타)아크릴아미드 등의 (메타)아크릴아미드계 화합물 및 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 3-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시3-(o-페닐페녹시)프로필 (메타)아크릴레이트 등의 알코올성 수산기 함유 (메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택된 화합물을 병용하는 것이 바람직하다.
상기 화합물을 조합해서 사용함으로써 후술의 본 발명(II)의 화상 표시 장치 중의 중합물의 고온 조건 하에서의 착색을 억제할 수 있고 또한 후술의 본 발명(II)의 화상 표시 장치 중의 중합물의 고온 다습 하에서의 백화 현상을 억제할 수 있다.
상기 탄소수 8개~탄소수 18개의 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴레이트 및 상기 에테르 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택된 화합물과 상기 (메타)아크릴아미드계 화합물 및 상기 알코올성 수산기 함유 (메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택된 화합물의 바람직한 사용 비율은 질량비로 40:60~90:10이며, 더욱 바람직하게는 45:55~85:15이며, 특히 바람직하게는 50:50~80:20이다. 상기 탄소수 8개~탄소수 18개의 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴레이트 및 상기 에테르 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택된 화합물과, 상기 (메타)아크릴아미드계 화합물 및 상기 알코올성 수산기 함유(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택된 화합물의 사용 비율이 40:60보다 작은 경우에는 중합물의 내수성이 악화되는 경우가 생긴다. 또한 상기 탄소수 8개~탄소수 18개의 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴레이트 및 상기 에테르 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택된 화합물과, 상기 (메타)아크릴아미드계 화합물 및 상기 알코올성 수산기 함유 (메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택된 화합물의 사용 비율이 90:10보다 큰 경우에는 중합물의 고온 다습 하에서의 백화 현상이 일어날 가능성이 있어 바람직한 것이라고는 말할 수 없다.
본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물 중의 성분 1의 사용량은 성분 1과 후술의 성분 3을 합한 총량에 대하여 25~75질량%인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 30~70질량%이며, 특히 바람직하게는 35~65질량%이다. 성분 1의 사용량이 성분 1과 후술의 성분 3을 합한 총량에 대하여 25질량% 미만인 경우에는 중합성 조성물을 중합해서 얻어지는 중합물의 도막 강도가 부족해지는 경우기 있어 바람직한 것이라고는 말할 수 없다. 또한 성분 1의 사용량이 성분 1과 후술의 성분 3을 합한 총량에 대하여 75질량%보다 많은 경우에는 중합 시의 체적 수축률이 지나치게 커지고, 편광판이 뒤틀리는 경우, 또는 본딩된 부와 중합물의 계면에 큰 응력이 발생하고, 결과로서 본딩된 부와 중합물의 밀착 강도가 저하하는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 말할 수 없다.
또한 성분 1 중의 수 평균 분자량이 1000~40000인 (메타)아크릴로일기 함유 고분자 화합물과 분자량 500 이하의 (메타)아크릴로일기 함유 화합물의 사용 비율은 질량비로 45:55~85:15인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 질량비로 50:50~80:20이다. 수 평균 분자량이 1000~40000인 (메타)아크릴로일기 함유 고분자 화합물과 분자량 500 이하의 (메타)아크릴로일기 함유 화합물의 사용 비율이 질량비로 45:55보다 작은 경우에는 중합 시 체적 수축률이 지나치게 커지는 경우, 또는 중합물의 도막 강도가 부족해지는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 말할 수 없다. 또한 수 평균 분자량이 1000~40000인 (메타)아크릴로일기 함유 고분자 화합물과 분자량 500 이하의 (메타)아크릴로일기 함유 화합물의 사용 비율이 질량비로 80:20보다 큰 경우에는 중합성 조성물의 점도가 지나치게 높아지는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 말할 수 없다.
이어서 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물의 성분인 성분 2에 대해서 설명한다.
성분 2는 380~780㎚의 가시광 영역에 흡수 파장을 갖는 광 중합개시제이다.
380~780㎚의 가시광 영역에 흡수 파장을 갖는 광 중합개시제로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온-1(흡수 파장 200~430㎚), 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드(흡수 파장 200~450㎚), 비스(η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)-페닐)티타늄(흡수 파장 200~500㎚), 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드(흡수 파장 200~420㎚) 등을 들 수 있다. 이들 중에서 경화 후의 투명성을 높이기 위해서는 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드가 바람직하게 사용된다. 이들 화합물을 단독으로 사용해도, 2종류 이상을 병용해도 상관없다.
또한 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물에는 성분 2 이외의 광 중합개시제를 병용해도 상관없다. 경화성의 관점에서 모든 광 중합개시제의 합계량에 대하여 성분 2 이외의 광 중합개시제는 40㏖% 이하인 것이 바람직하다.
병용하는 광 중합개시제로서는 다른 아실포스핀옥시드계나 α-히드록시알킬페논계를 들 수 있다.
다른 아실포스핀옥시드계 광 중합개시제로서는 2,6-디메톡시벤조일디페닐포스핀옥시드, 2,6-디클로로벤조일디페닐포스핀옥시드, 2,4,6-트리메틸벤조일메톡시페닐포스핀옥시드, 2,4,6-트리메틸벤조일에톡시페닐포스핀옥시드, 2,3,5,6-테트라메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)페닐포스핀옥시드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥시드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-4-프로필페닐포스핀옥시드, 비스-(2,6-디클로로벤조일)-1-나프틸포스핀옥시드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)페닐포스핀옥시드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥시드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥시드, (2,5,6-트리메틸벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥시드 등을 들 수 있다.
α-히드록시알킬페논계 광 중합개시제로서는 예를 들면 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-히드록시-1-{4-[4-(2-히드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]페닐}-2-메틸-프로판-1-온 등을 들 수 있다.
본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물 중의 광 중합개시제의 사용량은 성분 1과 후술의 성분 3을 합한 총량 100질량부에 대하여 0.1~10.0질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.2~7.0질량부이며, 더욱 바람직하게는 0.3~5.0질량부이다. 여기서 광 중합개시제의 사용량이란 성분 2의 광 중합개시제 및 성분 2 이외의 광 중합개시제의 합계량이다. 광 중합개시제의 사용량이 성분 1과 후술의 성분 3을 합한 총량 100질량부에 대하여 0.1질량부 미만인 경우에는 광 중합개시제가 부족하고, 중합이 불충분해질 가능성이 있어 바람직한 것은 아니다. 또한 광 중합개시제의 사용량이 성분 1과 후술의 성분 3을 합한 총량 100질량부에 대하여 10.0질량부보다 많은 경우에는 중합물의 분자량이 지나치게 작지고, 중합물의 강도 부족이 될 가능성이 있어 바람직한 것은 아니다.
또한 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물 중에는 하기 성분 3을 더 사용할 수 있고 또한 사용하는 것이 바람직하다.
성분 3은 탄소 원자 및 수소 원자만으로 구성된 화합물, 또는 탄소 원자, 수소 원자 및 산소 원자만으로 구성된 화합물이며, 또한 에틸렌성 이중결합을 갖지 않는 화합물이다.
성분 3은 (메타)아크릴로일기, 라디컬 중합을 억제하는 기능, 라디컬 중합을 금지하는 기능 및 광 중합 개시 기능을 모두 갖지 않는 탄소 원자 및 수소 원자로 구성된 화합물, 및 (메타)아크릴로일기, 라디컬 중합을 억제하는 기능, 라디컬 중합을 금지하는 기능 및 광 중합 개시 기능을 모두 갖지 않는 탄소 원자, 수소 원자 및 산소 원자로 구성된 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물이라고 바꿔 말할 수도 있다.
중합 시의 체적 수축률을 낮게 억제하는 목적으로 성분 3을 사용한다. 또한 중합 시의 체적 수축률을 억제하는 것 외 수지 등의 피착체에의 중합물의 밀착성을 증가시키는 목적으로 사용되는 경우도 있다.
성분 3으로서는 25℃에서 액상인 화합물, 또는 25℃에서 고체인 화합물을 사용할 수 있다.
성분 3으로서 사용되는 25℃에서 액상인 화합물로서는 예를 들면 폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-프로필렌 공중합체 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부텐, 액상 폴리부타디엔, 액상 수첨 폴리부타디엔, 액상 폴리이소프렌, 액상 수첨 폴리이소프렌, 액상 폴리부타디엔 폴리올, 액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올, 액상 폴리이소프렌 폴리올, 액상 수첨 폴리이소프렌 폴리올, 수첨 다이머 디올, 폴리에테르 폴리올, 폴리에스테르 폴리올, 폴리카보네이트 폴리올 등을 들 수 있다.
폴리(α-올레핀) 액상물이란 α-올레핀의 중합에 의해 제조되는 액상물이며, α-올레핀이란 탄소-탄소 이중결합을 분자 말단에 1개 갖는 탄화수소 화합물이며, 예를 들면 1-부텐, 1-펜텐, 1-헥센, 1-옥텐, 1-데센, 1-도데센, 1-테트라데센, 1-헥사데센, 1-옥타데센 등을 들 수 있다.
에틸렌-프로필렌 공중합체 액상물이란 에틸렌과 프로필렌을 공중합함으로써 제조되는 공중합체 중 액상인 것을 말한다.
에틸렌-α-올레핀 공중합체 액상물이란 에틸렌과 α-올레핀을 공중합함으로써 제조되는 액상 중합물이다. α-올레핀이란 상술한 바와 같다.
프로필렌-α-올레핀 공중합체 액상물이란 프로필렌과 α-올레핀을 공중합함으로써 제조되는 액상 중합물이다. α-올레핀이란 상술한 바와 같다.
액상 폴리부텐이란 이소부텐의 단독 중합물, n-부텐의 단독 중합물, 이소부텐 및 n-부텐의 공중합물 등의 이소부텐 또는 n-부텐을 (공)중합 성분에 포함하는 액상 중합물이며, 말단의 한쪽에 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 화합물이다. 액상 폴리부텐의 시판품으로서는 예를 들면 JX Nippon OIL & Energy Corporation 제작의 Nippon OIL Poly Butene LV-7, LV-50, LV-100, HV-15, HV-35, HV-50, HV-100, HV-300 등을 들 수 있다.
액상 수첨 폴리부텐이란 상기 액상 폴리부텐을 수소 첨가해서 얻어지는 측쇄를 갖는 액상물이며, 예를 들면 NOF CORPORATION 제작의 팜릴 4, 팜릴 6, 팜릴 18, 팜릴 24, 팜릴 EX 등을 들 수 있다.
액상 폴리부타디엔이란 상온에서 액상인 부타디엔 중합물이며, 예를 들면 Evonik Degussa 제작의 POLYVEST110, POLYVEST 130이나 NIPPON SODA CO., LTD. 제작의 NISSO-PB B-1000, NISSO-PB B-2000, NISSO-PB B-3000 등을 들 수 있다.
액상 수첨 폴리부타디엔이란 부타디엔 중합물을 환원 수소화해서 얻어지는 상온에서 액상인 물질이며, 예를 들면 NIPPON SODA CO., LTD. 제작의 NISSO-PB BI-2000, NISSO-PB B-3000 등을 들 수 있다.
액상 폴리이소프렌이란 상온에서 액상인 이소프렌 중합물이며, 예를 들면 KURARAY CO., LTD. 제작의 쿠라프렌 LIR-30 등을 들 수 있다.
액상 수첨 폴리이소프렌이란 이소프렌 중합물을 환원 수소화해서 얻어지는 상온에서 액상인 물질이며, KURARAY CO., LTD. 제작의 LIR-200 등을 들 수 있다.
액상 폴리부타디엔 폴리올이란 분자 말단에 수산기를 2개 이상 갖고 또한 폴리부타디엔 구조 단위를 갖는 상온에서 액상인 중합물이며, 예를 들면 NIPPON SODA CO., LTD. 제작의 NISSO-PB G-1000, NISSO-PB G-2000, NISSO-PB G-3000, Idemitsu Kosan Co., Ltd. 제작의 Poly bd 등을 들 수 있다.
액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올이란 폴리부타디엔 폴리올 또는 폴리부타디엔폴리카르복실산을 환원 수소화해서 얻어지는 구조를 갖는 액상 폴리올이며, NIPPON SODA CO., LTD. 제작의 NISSO-PB GI-1000, NISSO-PB GI-2000, NISSO-PB GI-3000 등을 들 수 있다.
액상 폴리이소프렌 폴리올이란 분자 말단에 수산기를 2개 이상 갖고 또한 폴리이소프렌 구조 단위를 갖는 상온에서 액상인 중합물이며, 예를 들면 Idemitsu Kosan Co., Ltd. 제작의 Poly ip 등을 들 수 있다.
액상 수첨 폴리이소프렌 폴리올이란 폴리이소프렌 폴리올 또는 폴리이소프렌 폴리카르복실산을 환원 수소화해서 얻어지는 구조를 갖는 액상 폴리올이며, 예를 들면 Idemitsu Kosan Co., Ltd. 제작의 EPOL 등을 들 수 있다.
수첨 다이머 디올이란 상술한 바와 같다.
폴리에테르 폴리올로서는 예를 들면 폴리프로필렌 글리콜, 폴리테트라메틸렌 글리콜, 프로필렌-옥시드-테트라히드로푸란 공중합체 등을 들 수 있다.
폴리에스테르 폴리올로서는 폴리올과 폴리카르복실산의 중축합물, 또는 폴리올과 폴리카르복실산 에스테르의 에스테르 교환 반응물, 폴리올에의 환상 에스테르의 개환 중합물 등을 들 수 있다.
폴리카보네이트 폴리올로서는 폴리올과 포스겐의 중축합물, 또는 디메틸카보네이트, 디에틸카보네이트, 에틸렌카보네이트 등의 유기 탄산 에스테르류와의 폴리올의 에스테르 교환 반응물을 들 수 있다.
본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물을 중합해서 얻어지는 중합물은 그 사용 개소(즉, 5a의 부위에 사용하거나, 또는 5b의 부위에 사용하거나)에 의해 구해지는 유전율이 다르다. 예를 들면 도 2~도 5의 5b의 부위에 사용되는 경우에는 중합물의 유전율은 낮은 것이 바람직하다. 또한 도 2, 도 3 및 도 6~도 8의 5a의 부위에 사용되는 경우에는 중합물의 유전율이 높은 것이 바람직하다.
폴리에스테르 폴리올의 원료로서 사용되는 폴리올로서는 구체적으로는 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸 글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 1,8-옥탄디올, 1,9-노난디올, 2-메틸-1,8-옥탄디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 2,4-디에틸-1,5-펜탄디올, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판 등을 들 수 있고, 이들을 단독 또는 2종류 이상을 병용해서 사용할 수 있다. 이들 증에서 바람직한 것으로서는 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸 글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올이며, 더욱 바람직한 것으로서는, 1,5-펜탄디올, 네오펜틸 글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올 등이며, 가장 바람직한 것은 3-메틸-1,5-펜탄디올이다.
폴리에스테르 폴리올의 원료로서 사용되는 폴리카르복실산의 예로서는 구체적으로는 숙신산, 글루타르산, 메틸숙신산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세바스산, 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 1,1-시클로헥산디카르복실산, 1,3-시클로헥산디카르복실산, 1,4-시클로헥산디카르복실산, 2-메틸시클로헥산-1,1-디카르복실산 등을 들 수 있고, 이들을 단독 또는 2종류 이상을 병용해서 사용할 수 있다. 이들 중에서 바람직한 것으로서는 글루타르산, 메틸숙신산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 1,1-시클로헥산디카르복실산, 1,3-시클로헥산디카르복실산, 2-시클로헥산-1,1-디카르복실산, 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산이며, 더욱 바람직하게는 글루타르산, 메틸숙신산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산이다. 특히 바람직하게는 글루타르산, 메틸숙신산, 아디프산, 피멜산이다.
폴리에스테르 폴리올의 원료로서 사용되는 폴리카르복실산의 에스테르로서는 상기 폴리카르복실산의 저급 알킬에스테르가 일반적으로 사용된다.
또한 폴리에스테르 폴리올로서 환상 에스테르의 개환 중합물을 사용해도 좋다. 환상 에스테르의 개환 중합물을 사용하는 경우에는 γ-부티로락톤이나 ε-카프로락톤 등을 들 수 있지만, ε-카프로락톤의 개환 중합물인 폴리에스테르 폴리올이 바람직하다.
폴리카보네이트 폴리올의 원료로서 사용되는 폴리올로서는 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸 글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 1,8-옥탄디올, 1,9-노난디올, 2-메틸-1,8-옥탄디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 2,4-디에틸-1,5-펜탄디올, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판 등을 들 수 있고, 이들을 단독 또는 2종류 이상을 병용해서 사용할 수 있다. 이들 중에서 바람직한 것으로서는 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸 글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올이며, 더욱 바람직한 것으로서는 1,5-펜탄디올, 네오펜틸 글리콜, 3-메틸-1,5-펜탄디올 등이며, 가장 바람직한 것은 3-메틸-1,5-펜탄디올이다.
중합물의 유전율을 높게 하는 경우에는 그 목적에 있어서 성분 3으로서 사용되는 25℃에서 액상인 화합물로서 바람직한 것으로서는 폴리에테르 폴리올, 폴리에스테르 폴리올, 폴리카보네이트 폴리올이며, 더욱 바람직하게는 폴리에스테르 폴리올, 폴리카보네이트 폴리올이다.
폴리에테르 폴리올로서 바람직한 것은 폴리테트라메틸렌 글리콜이다.
중합물의 유전율을 낮게 하는 경우에는 폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-프로필렌 공중합체 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부텐, 액상 폴리부타디엔, 액상 수첨 폴리부타디엔, 액상 폴리이소프렌, 액상 수첨 폴리이소프렌, 액상 폴리부타디엔 폴리올, 액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올, 액상 폴리이소프렌 폴리올 및 액상 수첨 폴리이소프렌 폴리올이 바람직하게 사용되고, 또한 내열성을 고려하는 경우에는 액상 폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-프로필렌 공중합체 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부타디엔, 액상 수첨 폴리이소프렌, 액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올 및 액상 수첨 폴리이소프렌 폴리올이 바람직하다.
또한 성분 3으로서 25℃에서 고체인 화합물을 사용할 수도 있다.
성분 3으로서 사용되는 25℃에서 고체인 화합물로서는 분자 내에 탄소-탄소 불포화 결합을 갖지 않는 화합물인 것이 바람직하다.
이러한 화합물로서는 25℃에서 고체인 에폭시 수지, 25℃에서 고체인 폴리에스테르 수지, 25℃에서 고체인 폴리올 수지나 25℃에서 고체인 수첨 석유 수지, 테르펜계 수첨 수지, 수첨 로진 에스테르 등을 들 수 있다.
고유전율의 중합물을 목적으로 한 중합성 조성물에 사용되는 경우, 이들 중에서 특히 바람직한 것으로서는 수첨 로진 에스테르이다.
저유전율의 중합물을 목적으로 한 중합성 조성물에 사용되는 경우, 이들 중에서 특히 바람직한 것으로서는 수첨 석유 수지, 테르펜계 수첨 수지이다.
수첨 석유 수지란 석유계 수지를 수소 환원해서 얻어지는 수지이다. 수첨 석유 수지의 원료인 석유 수지로서는 지방족계 석유 수지, 방향족계 석유 수지, 지방족-방향족 공중합계 석유 수지, 지환족계 석유 수지, 디시클로펜타디엔 수지 및 이들의 수첨물 등의 변성물을 들 수 있다. 합성 석유 수지는 C5계이어도, C9계이어도 좋다.
테르펜계 수첨 수지란 테르펜계 수지를 환원 수소화해서 얻어지는 수지이다. 테르펜계 수첨 수지의 원료인 테르펜계 수지로서는 β-피넨 수지, α-피넨 수지, β-리모넨 수지, α-리모넨 수지, 피넨-리모넨 공중합 수지, 피넨-리모넨-스티렌 공중합 수지, 테르펜-페놀 수지, 방향족 변성 테르펜 수지 등을 들 수 있다. 이들 테르펜계 수지의 대부분은 극성기를 갖지 않는 수지이다.
수첨 로진 에스테르란 로진계 수지를 수첨해서 얻어지는 수첨 로진을 에스테르화 또는 로진을 에스테르화해서 얻어지는 로진 에스테르를 수소 환원해서 얻어진 수지이다. 로진계 수지 점착 부여제로서는 검 로진, 톨 유 로진, 우드 로진, 불균화 로진, 중합 로진, 말레인화 로진 등의 변성 로진 등을 들 수 있다.
또한 본 명세서에 있어서는 다가 알코올의 일부의 알코올성 수산기가 수첨 로진으로 에스테르화된 화합물도, 다가 알코올의 모든 알코올성 수산기가 수첨 로진으로 에스테르화된 화합물도 함께 수첨 로진 에스테르에 포함되는 것으로 정의된다.
또한 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물과 점도나 중합물의 피착체에의 밀착성의 밸런스를 위해 성분 3의 화합물로서는 25℃에서 액상인 화합물과 25℃에서 고체인 화합물을 병용할 수 있고 또한 바람직하다.
성분 3에 있어서 25℃에서 액상인 화합물과 25℃에서 고체인 화합물을 병용하는 경우의 바람직한 병용 비율은 질량비로 90:10~10:90이며, 더욱 바람직하게는 80:20~20:80이다.
본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물 중의 성분 3의 사용량은 성분 1과 성분 3을 합한 총량에 대하여 25~75질량%인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 30~70질량%이며, 특히 바람직하게는 35~65질량%이다. 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물 중의 성분 3의 사용량이 성분 1과 성분 3을 합한 총량에 대하여 25질량% 미만이면 성분 3을 첨가한 효과(즉, 중합 시의 체적 수축률의 저감 효과)가 얻어지지 않게 되는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 말할 수 없다. 또한 본 발명(I) 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물 중의 성분 3의 사용량이 성분 1과 성분 3을 합한 총량에 대하여 75질량%보다 많아지면 중합성 조성물을 중합해서 얻어지는 중합물의 도막 강도가 지나치게 낮아지는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 말할 수 없다.
본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물은 필요에 따라 중합 금지제, 산화 방지제, 개질제 등을 임의로 첨가할 수 있다.
중합 금지제로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 히드로퀴논, p-메톡시페놀, p-벤조퀴논, 나프토퀴논, 페난트라퀴논, 2,5-디아세톡시-p-벤조퀴논, 2,5-디카프록시-p-벤조퀴논, 2,5-아실옥시-p-벤조퀴논, p-t-부틸카테콜, 2,5-디-t-부틸히드로퀴논, p-tert-부틸카테콜, 모노-t-부틸히드로퀴논, 2,5-디-t-아밀히드로퀴논, 디-t-부틸·파라크레졸히드로퀴논 모노메틸에테르 및 페노티아진이 바람직하게 사용된다.
이들은 단독이어도, 또는 2종 이상을 적당히 조합해서 사용할 수 있다.
통상 중합 금지제는 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01~5질량%의 첨가량이 되도록 조정할 수 있다. 단, 중합 금지제의 양은 성분 1에 미리 포함되어 있는 중합 금지제를 가미한 값이다. 즉, 일반적으로는 성분 1에 미리 중합 금지제가 포함되어 있지만, 이 중합 금지제와 새롭게 첨가하는 중합 금지제의 총량을 합친 양이 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01~5질량%의 첨가량이 되는 것을 의미한다.
산화 방지제로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 펜타에리스리톨 테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 옥타데실-3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5-tert-부틸페닐)부탄 등을 들 수 있다. 이들 중에서 바람직한 것은 펜타에리스리톨 테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 옥타데실-3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트이며, 가장 바람직한 것은 펜타에리스리톨 테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]이다.
통상 산화 방지제는 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01~5질량%의 첨가량이 되도록 조정할 수 있다. 단, 산화 방지제의 양은 성분 3 등의 다른 성분에 미리 포함되어 있는 산화 방지제를 가미한 값이다. 즉, 일반적으로는 성분 3 등에 미리 산화 방지제가 포함되어 있는 경우가 있지만, 이 산화 방지제와 새롭게 첨가하는 산화 방지제의 총량을 합친 양이 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01~5질량%의 첨가량이 되는 것을 의미한다.
개질제로서는 예를 들면 레벨링성을 향상시키기 위한 레벨링제 등을 들 수 있다. 레벨링제로서는 예를 들면 폴리에테르 변성 디메틸 폴리실록산 공중합물, 폴리에스테르 변성 디메틸 폴리실록산 공중합물, 폴리에테르 변성 메틸알킬 폴리실록산 공중합물, 아랄킬 변성 메틸알킬 폴리실록산 공중합물, 아크릴 에스테르 공중합물 등을 사용할 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합해서 사용해도 좋다. 본 발명(I) 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물의 총량에 대하여 0.01~5질량% 첨가할 수 있다. 0.01질량% 미만의 경우에는 레벨링제의 첨가 효과가 발현되지 않을 가능성이 있다. 또한 5질량%보다 많은 경우에는 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물에 탁도가 생기는 경우가 있어 바람직한 것이라고는 말할 수 없다.
최후에 본 발명(II)에 대해서 설명한다.
본 발명(II)은 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 의해 제조하는 것이 가능한 화상 표시 장치이다.
예를 들면 도 1의 경우, 보호부(3)는 표시부(2)와 같은 정도의 크기의 판상, 시트상 또는 필름상의 투광성 부재로 형성되어 있다. 이 투광성 부재로서는 예를 들면 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트와 폴리카보네이트의 적층체 등의 수지를 바람직하게 사용할 수 있다. 보호부(3)의 표면 또는 이면에는 반사 방지막, 차광막, 시야각 제어막 등의 광학층을 형성해도 좋다.
보호부(3)가 아크릴 수지로 형성되어 있는 경우에는 일반적으로 그 굴절률(nD)은 1.49~1,51이 된다.
보호부(3)는 표시부(2)의 둘레부에 형성된 스페이서(4)를 통해 표시부(2) 상에 설치된다. 이 스페이서(4)의 두께는 0.05~1.5㎜ 정도이며, 이것에 의해 화상 표시부(2)와 보호부(3)의 표면 간 거리가 1㎜ 정도로 유지된다.
또한 보호부(3)의 둘레부에는 휘도 및 콘트라스트를 향상시키기 위해서 도시하지 않은 프레임 형상의 차광부가 설치되어 있다.
또한 예를 들면 도 2나 도 3의 경우, 표시부(2)와 보호부(3) 사이에는 중합물 층(5a, 5b)이 개재되어 있다. 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 의해 제조된 화상 표시 장치의 경우에는 이 중합물 층(5a)이나 중합물 층(5b)에는 본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 사용되는 중합성 조성물을 중합해서 얻어지는 중합물이 개재되기 때문에 가시광 영역의 투과율이 90% 이상이 된다. 여기서, 중합물 층(5a)이나 중합물 층(5b)의 두께는 10~500㎛가 되도록 하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 10~350㎛이고, 더욱 바람직하게는 10~300㎛이다. 또한 중합물 층(5a)이나 중합물 층(5b)에는 상기 중합물이 개재되기 때문에 25℃에 있어서의 굴절률(nD)은 1.45~1.55, 바람직하게는 1.48~1.52가 되므로 표시부(2)나 보호부(3)의 굴절률과 거의 동등해지므로 바람직하다. 이것에 의해 화상 표시부(2)로부터의 영상광의 휘도나 콘트라스트를 높여 시인성을 향상시킬 수 있다.
본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 의해 화상 표시 장치를 제조하는 경우, 중합물 층(5a)이나 중합물 층(5b)에는 상기 중합물이 개재되기 때문에 23℃에 있어서의 인장 탄성률을 1×107㎩ 이하, 바람직하게는 1×103~1×106㎩가 된다. 따라서 표시부 및 보호부에 대하여 중합성 조성물의 중합 시에 체적 수축에 기인하는 응력의 영향에 의한 뒤틀림의 발생을 방지할 수 있다.
본 발명(I)의 화상 표시 장치의 제조 방법에 의해 화상 표시 장치를 제조하는 경우, 중합물 층(5a)이나 중합물 층(5b)에는 상기 중합물이 개재되기 때문에 중합성 조성물의 중합 시의 체적 수축률이 4.0% 이하, 바람직하게는 3.5% 이하, 더욱 바람직하게는 2.7% 이하가 된다. 이것에 의해 중합성 조성물이 중합될 때에 중합물 층에 축적되는 내부 응력을 저감시킬 수 있고, 중합물 층(5a)과 터치 패널(7) 또는 보호부(3)의 계면이나, 중합물 층(5b)과 터치 패널(7), 표시부(2) 또는 보호부(3)의 계면에 뒤틀림이 생기는 것을 방지할 수 있다. 따라서 중합성 조성물을 터치 센서(7)와 보호부(3) 사이, 터치 센서(7)와 표시부(2) 사이, 또는 표시부(2)와 보호부(3) 사이에 개재시켜 그 중합성 조성물을 중합시킨 경우에 중합물 층(5a 또는 5b)과 표시부(2), 보호부(3), 터치 패널(7)의 계면에서 생기는 광의 산란을 저감시킬 수 있고, 표시 화상의 휘도를 높임과 아울러 시인성을 향상시킬 수 있다.
또한 상기 중합물을 중합물 층(5b)에 사용하는 경우에는 이들 중합물의 유전율이 낮으므로 중합물 층(5b)의 두께를 얇게 할 수 있다.
본 발명(II)의 화상 표시 장치에 사용되는 수지판으로서는 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트와 폴리카보네이트의 적층체를 바람직하게 사용할 수 있다. 이들 수지판의 평균 표면 러프니스는 통상 1.0㎚ 이하이다.
또한 본 발명(II) 화상 표시 장치는 표시부(2)와 보호부(3) 사이에 상기 중합물로 이루어지는 중합물 층(5a 또는 5b)이 충진되어 있으므로 충격에 강하다.
더불어 표시부(2)와 보호부(3) 사이에 공극을 형성하고 있던 종래 예에 비해 박형으로 형성할 수 있다.
또한 본 발명(II)의 화상 표시 장치는 각종 실시형태를 취할 수 있다. 예를 들면 도 3, 도 5, 도 8에 나타낸 바와 같이 스페이서(4)를 생략해서 화상 표시 장치(1)를 제조해도 좋다. 도 3의 중합물 층(5b)의 경우에는 예를 들면 표시부(2) 상의 편광판(6a) 상에 중합성 조성물을 도포하고, 그 위에 터치 센서(7)를 포개고, 상술과 마찬가지로 광 중합을 행함으로써 얻어진다.
또한 도 5의 중합물 층(5b)의 경우에는 예를 들면 표시부(2) 상의 편광판(6a) 상에 중합성 조성물을 도포하고, 그 위에 터치 센서 일체형 보호부(3)를 포개고, 상술과 마찬가지로 광 중합을 행함으로써 얻어진다.
또한 도 8의 중합물 층(5a)의 경우에는 예를 들면 중합성 조성물을 도포하고, 그 위에 보호부(3)를 포개고, 상술과 마찬가지로 광 중합을 행함으로써 얻어진다.
또한 본 발명은 상술한 액정 표시 장치뿐만 아니라 예를 들면 유기 EL, 플라즈마 디스플레이 장치 등의 각종 패널 디스플레이에 적용할 수 있다.
(실시예)
이하 실시예에 의해 본 발명을 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에만 제한되는 것은 아니다.
<점도의 측정>
점도는 이하의 방법에 의해 측정했다.
시료 1㎖를 사용하고, 콘/플레이트형 점도계(Brookfield사 제작, 형식: DV-II+Pro, 스핀들의 형번: CPE-42)를 사용하여 온도 25.0℃, 회전수 5rpm의 조건으로 점도가 거의 일정하게 되었을 때의 값을 측정했다.
<수산기값의 측정>
JIS K 0070에 준거해서 측정했다.
<수 평균 분자량>
수 평균 분자량은 하기 조건으로 GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산값이다.
장치명: JASCO Corporation 제작 HPLC 유닛 HSS-2000
컬럼: Shodex(등록상표) 컬럼 LF-804
이동상: 테트라히드로푸란
유속: 1.0㎖/min
검출기: JASCO Corporation 제작 RI-2031 Plus
온도: 40.0℃
시료량: 샘플 루프 100㎕
시료 농도: 0.5질량% 전후에 조제
<자외선 적산 광량>
자외선 적산 조도계 「UVPF-A1」(IWASAKI ELECTRIC CO., LTD. 제작)을 사용해서 측정된 적산 광량의 값이다.
<조도>
자외선 적산 조도계 「UVPF-A1」(IWASAKI ELECTRIC CO., LTD. 제작)을 사용해서 측정된 조도의 값이다.
(합성예 1)
교반 장치 및 증류 장치를 구비한 500㎖의 반응용기 중에 Pripol(등록상표) 2033(Croda 제작 수첨 다이머 디올, 수산기값 202㎎KOH/g) 322.2g, 세바스산 디메틸(Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. 제작) 87.5g, 디옥틸 주석 옥시드(상품명: DOTO, HOKKO CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. 제작) 0.18g을 투입하고, 약 170℃, 상압 하에서 시작해서 메탄올을 유출시키면서 감압하면서 에스테르 교환 반응을 행했다. 메탄올의 총 증류량은 24.4g이었다. 수산기값 581㎎KOH/g인 폴리에스테르 폴리올(이하, 폴리에스테르 폴리올 A로 기재한다)을 얻었다.
(합성예 2)
교반 장치, 온도계, 적하 로트 및 콘덴서를 구비한 100㎖의 반응용기에 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트와 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트의 혼합물(상품명: VESTANAT(등록상표) TMDI, Evonik Degussa 제작) 2189g, 디옥틸 주석 디라우레이트 12㎎ 및 p-메톡시페놀 24㎎을 반응용기에 투입하고, 4- 히드록시부틸아크릴레이트 15.16g을 적하 로트를 사용해서 적하 투입했다. 적하 중, 반응용기 내의 온도는 70℃ 이하가 되도록 했다. 적하 종료 후, 2시간 반응기 내의 온도를 65~70℃로 유지한 채 교반을 계속해서 반응 생성물(이하, 반응 생성물 α로 기재한다)을 얻었다.
교반 장치, 온도계 및 콘덴서를 구비한 300㎖의 반응용기에 상술의 폴리에스테르 폴리올 A 178.9g, Pripol(등록상표) 2033(Croda 제작 수첨 다이머 디올, 수산기값 202㎎KOH/g) 1.1g 및 디옥틸 주석 디라우레이트 12㎎을 투입하고, 교반을 개시했다. 그 후, 60℃로 온도를 유지한 반응 생성물α 33.7g을 수회로 나누어 반응용기 내에 투입했다. 그 동안, 반응기 내의 온도는 70℃보다 높아지지 않도록 했다. 그 후, 반응기 내의 온도를 65~70℃로 유지해서 교반을 계속했다. IR로 이소시아나토기의 C=O 신축 진동의 흡수가 없어진 것을 확인해서 반응을 종료하고, 수 평균 분자량이 2300인 우레탄 아크릴레이트(이하, 「우레탄 아크릴레이트 1」로 기재한다)을 얻었다.
(합성예 3)
콘덴서, 적하 로트, 온도계 및 교반기 부착 300㎖ 세퍼러블 플라스크에 수첨 말단 수산기 함유 폴리부타디엔(수산기값 47.1㎎KOH/g, 상품명: NISSO-PB GI-2000, NIPPON SODA CO., LTD. 제작) 180g 및 디옥틸 주석 디라우레이트 20㎎을 넣고, 오일 배스를 사용하여 내부 온도를 50℃로 승온했다. 그 후, 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트(상품명: Karenz M0I(등록상표), SHOWA DENKO K.K. 제작) 22.86g을 적하 로트로부터 15분에 걸쳐 적하했다. 적하하고 있는 동안 내부 온도가 70℃를 초과하지 않도록 했다. 적하 종료 후, 70±2℃의 내부 온도를 관리하여 교반을 계속했다. 적외 흡수 스펙트럼에서 이소시아네이트기의 C=0 신축 진동의 흡수가 보여지지 않게 되었으므로 교반을 정지하고 반응을 종료하여 수첨 폴리부타디엔 우레탄 메타크릴레이트 1을 얻었다.
(합성예 4)
콘덴서, 적하 로트, 온도계 및 교반기 부착의 300㎖ 세퍼러블 플라스크에 폴리부타디엔 폴리올(수산기값 47.1㎎KOH/g, 상품명: NISSO-PB G-2000, NIPPON SODA CO., LTD. 제작) 180g 및 디옥틸 주석 디라우레이트 20㎎을 넣고, 오일 배스를 사용하여 내부 온도를 50℃로 승온했다. 그 후, 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트(상품명: Karenz M0I(등록상표), SHOWA DENKO K.K. 제작) 22.86g을 적하 로트로부터 15분에 걸쳐 적하했다. 적하하고 있는 동안 내부 온도가 70℃를 초과하지 않도록 했다. 적하 종료 후, 70±2℃의 내부 온도를 관리하여 교반을 계속했다. 적외 흡수 스펙트럼에서 이소시아네이트기의 C=O 신축 진동의 흡수가 보여지지 않게 되었으므로 교반을 정지하고 반응을 종료하여 수 평균 분자량이 2560인 폴리부타디엔 우레탄 메타크릴레이트(이하, 「우레탄 메타크릴레이트 1」)를 얻었다.
(합성예 5)
교반 장치 및 증류 장치를 구비한 5L의 반응용기 중에 Pripol(등록상표) 2033(Croda 제작 수첨 다이머 디올, 수산기값 202㎎KOH/g) 3200g, Pripol(등록상표) 1009(Croda 제작 수첨 다이머산, 산가 194㎎KOH/g) 1018g, 상압 하에 질소를 통과시키면서 200℃로 가열하고, 반응에 의해 생성되는 물을 증류 제거하면서 축합 반응시켰다. 생성물의 산가가 20 이하가 된 시점에서 테트라이소프로필 티타네이트0.08g을 첨가하고, 진공 펌프에 의해 서서히 진공도를 올려서 반응을 행하여 수 평균 분자량 1055의 폴리에스테르 폴리올(이하, 폴리에스테르 폴리올 B로 기재한다)을 얻었다.
(합성예 6)
콘덴서, 적하 로트, 온도계 및 교반기 부착의 300㎖ 세퍼러블 플라스크에 폴리에스테르 폴리올 B 180g 및 디옥틸 주석 디라우레이트 20㎎을 넣고, 오일 배스를 사용하여 내부 온도를 50℃로 승온했다. 그 후, 2-이소시아나토에틸아크릴레이트(상품명: Karenz AOI(등록상표), SHOWA DENKO K.K. 제작) 24g을 적하 로트로부터 15분에 걸쳐 적하했다. 적하하고 있는 동안 내부 온도가 70℃를 초과하지 않도록 했다. 적하 종료 후, 70±2℃의 내부 온도를 관리하여 교반을 계속했다. 적외 흡수 스펙트럼에서 이소시아네이트기의 C=O 신축 진동의 흡수가 보여지지 않게 되었으므로 교반을 정지하고 반응을 종료하여 수 평균 분자량이 1196인 폴리우레탄 아크릴레이트(이하, 「우레탄 아크릴레이트 2」)를 얻었다.
(배합예 1)
라우릴 아크릴레이트(상품명: BLEMMER LA, NOF CORPORATION 제작) 10.0질량부, 테르펜계 수첨 수지(상품명: CLEARON(등록상표) K100, YASUHARA CHEMICAL CO., LTD. 제작) 25.0질량부, 콘덴서, 온도계 및 교반기 부착 200㎖ 4구 세퍼러블 둥근 바닥 플라스크 안에 넣고 교반하면서 오일 배스를 사용하여 200㎖ 4구 세퍼러블 둥근 바닥 플라스크 내의 온도를 90℃로 승온했다. 테르펜계 수첨 수지가 라우릴 아크릴레이트에 완전히 용해한 것을 확인하고, 온도를 50℃ 이하까지 냉각했다.
그 후, 상기 우레탄 아크릴레이트 1 25.0질량부, 액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올(상품명: NISSO-PB GI-1000, NIPPON SODA CO., LTD. 제작) 25.0질량부, 액상 폴리부텐 HV-15 14.0질량부, 펜타에리스리톨 테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트](상품명: IRGANOX(등록상표) 1010, BASF사 제작) 1.0질량부, 및 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드(상품명: Irgacure(등록상표) 819, BASF사 제작) 1,0질량부를 상기 200㎖ 4구 둥근 바닥 플라스크 안에 넣고 교반하면서 오일 배스를 사용하여 73℃로 승온하고, 용액이 균일해질 때까지 교반을 계속하여 25℃에서의 점도가 3300m㎩·s인 미황색 균일 용액을 얻었다. 얻어진 배합물을 중합성 조성물 A1로 했다.
(배합예 2~배합예 4 및 비교 배합예 1)
배합예 1과 동일한 방법에 의해 표 1에 나타내는 배합 조성에 따라 배합했다. 배합예 2~배합예 4에서 조제된 배합물을 각각 중합성 조성물 A2~중합성 조성물 A4로 하고, 비교 배합예 1에서 조제된 배합물을 중합성 조성물 B1로 했다.
또한 표 1의 숫자는 특별히 언급지 않는 한 「질량부」를 의미한다.
Figure 112014075737862-pat00005
※1 디시클로펜테닐옥시에틸메타크릴레이트(상품명: FA-512M, Hitachi Chemical Co., Ltd. 제작, 분자량 262.35)
※2 라우릴 아크릴레이트(상품명: BLEMMER LA, NOF CORPORATION 제작, 분자량 240.38)
※3 N-아크릴로일모르폴린(상품명: ACMO, KOHJIN Film & Chemical Co., Ltd. 제작, 분자량 141.17)
※4 N,N-디에틸아크릴아미드(상품명: DEAA, KOHJIN Film & Chemical Co., Ltd. 제작, 분자량 127.19)
※5 2-히드록시프로필메타크릴레이트(NIPPON SHOKUBAI CO., LTD. 제작, 분자량 144.17)
※6 2-히드록시부틸메타크릴레이트(상품명: Light ester HOB(N), KYOEISHA CHEMICAL Co., Ltd. 제작, 분자량 158.20)
※7 테르펜계 수첨 수지 CLEARON(등록상표) P85(YASUHARA CHEMICAL Co., Ltd. 제작)
※8 테르펜계 수첨 수지 CLEARON(등록상표) K100(YASUHARA CHEMICAL Co., Ltd. 제작)
※9 액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올 NISSO-PB GI-1000(NIPPON SODA CO., LTD. 제작)
※10 액상 수첨 다이머 디올(상품명: Pripol 2033, Croda사 제작)
※11 액상 폴리부텐 HV-15(JX Nippon OIL & Energy Corporation 제작)
※12 액상 폴리부타디엔 POLYVEST 110(Evonik Degussa 제작)
※13 IRGANOX(등록상표) 1010(화합물명: 펜타에리스리톨 테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], BASF 제작)
※14 광 중합개시제 IRGACURE 184(화합물명: 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, BASF 제작, 흡수 파장 200~380㎚)
※15 광 중합개시제 IRGACURE 819(화합물명: 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, BASF 제작, 흡수 파장 200~450㎚)
<중합물 막의 제작>
두께 0.8㎜의 아크릴제 수지판(Mitsubishi Rayon Co., Ltd. 제작 MR-200)을 크기 50㎜×50㎜에 잘라내고, 중합성 조성물 A1~중합성 조성물 A4, 중합성 조성물 B1을 막 두께가 0.2㎜가 되도록 끼워 넣고, 메탈 할라이드 램프를 사용한 컨베이어식 자외선 조사 장치(GS Yuasa Lighting 제작, 상품명: GSN2-40)를 사용하고, 자외선 흡수 필터 SC40(FUJIFILM CORPORATION 제작)을 사이에 두고 조사 강도 190㎽/㎠(405㎚의 값), 조사량 5000mJ/㎠(405㎚의 값)의 조건으로 자외선을 조사해서 중합시키고, 수지판에 샌드위칭된 막 두께가 약 0.2㎜인 평가 시험용의 중합물 막을 얻었다.
또한 중합성 조성물 A1~중합성 조성물 A4, 중합성 조성물 B1로부터 얻어진 중합물 막을 각각 중합물 막 A1~중합물 막 A4, 중합물 막 B1로 한다.
<경화율의 측정>
조사 전의 중합성 조성물 A1~중합성 조성물 A4, 중합성 조성물 B1과 중합 후의 중합물 막 A1~중합물 막 A4, 중합물 막 B1 각각으로부터 그들의 경화 성분(모노머, 올리고머)을 중합성 조성물과 중합물 막이 0.2wt%가 되는 양의 테트라히드로푸란을 사용해서 추출하고, 액체 크로마토그래피로 중합성 조성물에 있어서의 경화 성분의 피크 강도 IO과, 중합물 막에 있어서의 중합 성분의 피크 강도 II를 구하여 다음 식에 의해 경화율을 산출했다.
경화율(%)=(IO-II)/IO×100
결과를 표 2에 기재한다.
<밀착성의 측정>
상기 방법으로 제조된 막 두께 약 0.2㎜의 중합물 막 A1~중합물 막 A4, 중합물 막 B1을 인장 시험기(Shimadzu Corporation 제작, EZ Test/CE)에 고정하고, 23℃에 있어서 인장 속도 10㎜/min으로 시험을 행하여 밀착성을 구했다. 그 결과를 표 2에 기재한다.
Figure 112014075737862-pat00006
<내블리스터(발포 박리)성 시험>
상기 방법으로 제조된 막 두께 약 0.2㎜의 중합물 막 A1~중합물 막 A4, 중합물 막 B1을 65℃, 93%의 고온 항온기(IMV Corporation 제작 THC-64)에 3일간 넣고 시험 후의 도막의 발포나 박리, 플로팅을 관찰했다.
○: 발포나 박리, 플로팅이 없음
×: 발포나 박리, 플로팅이 있음
결과를 표 3에 기재한다.
Figure 112014075737862-pat00007
본 발명은 화상 표시 장치의 제조에 바람직하게 이용할 수 있다.
1 표시 장치 2 표시부
3 보호부 4 스페이서
5a, 5b 중합물 또는 중합물 층 6a, 6b 편광판
7 터치 센서

Claims (15)

  1. 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부를 갖는 화상 표시 장치 또는 화상 표시부를 갖는 기부와, 수지제의 투광성 보호부와, 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부를 갖는 화상 표시 장치의 제조 방법으로서,
    그 방법은,
    화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 투광성 보호부 사이, 화상 표시부를 갖는 기부와 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부 사이 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부와 수지제의 투광성 보호부 사이 중으로부터 선택된 적어도 1개소에 중합성 조성물을 개재시키는 공정, 및
    수지제의 투광성 보호부 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부로부터 선택된 적어도 1개의 투광성부 너머로 광을 조사함으로써 중합성 조성물을 중합하는 공정을 포함하고,
    중합성 조성물은,
    (성분 1) (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물, 및
    (성분 2) 380~780㎚의 가시광 영역에 흡수 파장을 갖는 광 중합개시제를 포함하고,
    중합성 조성물의 25℃의 점도가 500~50000m㎩·s인 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    투광성 보호부 또는 터치 센서의 보호막은 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리카보네이트, 시클로올레핀 폴리머, 셀룰로오스 및 폴리에스테르로부터 선택되는 적어도 1종을 사용해서 제조되는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    광 중합개시제는 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온-1, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)-페닐)티타늄, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    수지제의 투광성 보호부 및 수지제의 보호막을 갖는 투광성 터치 센서부로부터 선택된 적어도 1개의 투광성부 너머로 광을 조사함으로써 중합성 조성물을 중합하는 공정에 있어서, 광의 조사량은 405㎚를 검출하는 자외선 적산 광량계를 사용해서 측정된 적산 광량의 값으로 1000~10000mJ/㎠인 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    성분 1은 수 평균 분자량이 1000~40000인 (메타)아크릴로일기 함유 고분자 화합물 및 분자량 500 이하의 (메타)아크릴로일기 함유 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 수 평균 분자량이 1000~40000인 (메타)아크릴로일기 함유 고분자 화합물은 우레탄 (메타)아크릴레이트인 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    우레탄 (메타)아크릴레이트는 수첨 다이머 디올과 디에스테르의 에스테르 교환 반응에 의해 얻어지는 폴리에스테르 폴리올의 잔기를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  8. 제 5 항에 있어서,
    분자량 500 이하의 (메타)아크릴로일기 함유 화합물은,
    탄소수 8~18개의 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴레이트 및 에테르 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택된 화합물, 및
    (메타)아크릴아미드계 화합물 및 알코올성 수산기 함유 (메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택된 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    중합성 조성물은,
    (성분 3) 탄소 원자 및 수소 원자만으로 구성된 화합물 또는 탄소 원자, 수소 원자 및 산소 원자만으로 구성된 화합물이며, 또한 에틸렌성 이중결합을 갖지 않는 화합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    성분 3은,
    25℃에서 액상인 화합물 및 25℃에서 고체인 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  11. 제 10 항에 있어서,
    성분 3은 25℃에서 액상인 화합물을 포함하고,
    상기 25℃에서 액상인 화합물은,
    폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-프로필렌 공중합체 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부텐, 액상 폴리부타디엔, 액상 수첨 폴리부타디엔, 액상 폴리이소프렌, 액상 수첨 폴리이소프렌, 액상 폴리부타디엔 폴리올, 액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올, 액상 폴리이소프렌 폴리올 및 액상 수첨 폴리이소프렌 폴리올로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  12. 제 10 항에 있어서,
    성분 3은 25℃에서 액상인 화합물을 포함하고,
    상기 25℃에서 액상인 화합물은,
    폴리에테르 폴리올, 폴리에스테르 폴리올 및 폴리카보네이트 폴리올로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  13. 제 10 항에 있어서,
    성분 3은 25℃에서 액상인 화합물을 포함하고,
    상기 25℃에서 액상인 화합물은 액상 폴리(α-올레핀) 액상물, 에틸렌-프로필렌 공중합체 액상물, 에틸렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 프로필렌-α-올레핀 공중합체 액상물, 액상 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부텐, 액상 수첨 폴리부타디엔, 액상 수첨 폴리이소프렌, 액상 수첨 폴리부타디엔 폴리올 및 액상 수첨 폴리이소프렌 폴리올로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  14. 제 10 항에 있어서,
    성분 3은 25℃에서 고체인 화합물을 포함하고,
    상기 25℃에서 고체인 화합물은 수첨 석유 수지, 테르펜계 수첨 수지 및 수첨 로진 에스테르로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
  15. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 화상 표시 장치의 제조 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016151908A1 (ja) * 2015-03-26 2016-09-29 富士フイルム株式会社 タッチパネル
CN106909025B (zh) * 2017-04-12 2020-06-26 安徽强邦印刷材料有限公司 一种用于热敏阳图ctp版的感光组合物
CN106933037B (zh) * 2017-04-12 2020-06-26 安徽强邦印刷材料有限公司 一种热敏阳图ctp版感光组合物的制备方法
CN107254034A (zh) * 2017-04-20 2017-10-17 浙江传化天松新材料有限公司 一种具有良好抗石击性透明粉末涂料用聚酯树脂及其制备方法
WO2019065129A1 (ja) * 2017-09-27 2019-04-04 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、フレキソ印刷版原版およびフレキソ印刷版
TWI625661B (zh) * 2017-09-30 2018-06-01 Chipone Technology Beijing Co Ltd Touch display device

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101080907B1 (ko) 2003-10-06 2011-11-08 후지필름 홀딩스 가부시끼가이샤 방현필름

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4877697A (en) * 1988-05-26 1989-10-31 Hoechst Aktiengesellschaft Color filter array for liquid crystal display device
TWI237132B (en) * 2001-02-23 2005-08-01 Nippon Kayaku Kk Ultraviolet-curing resin composition for an oriented film and a retardation film comprising a polymeric film having a liquid crystalline compounds on it
JP2005055641A (ja) 2003-08-04 2005-03-03 Yokogawa Electric Corp 液晶表示装置
KR100937293B1 (ko) * 2004-10-15 2010-01-18 미츠비시 레이온 가부시키가이샤 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 시트상 광학 물품용 경화물 및 시트상 광학 물품
US9423638B2 (en) * 2006-07-14 2016-08-23 Dexerials Corporation Resin composition and display unit
WO2008126868A1 (ja) 2007-04-09 2008-10-23 Sony Chemical & Information Device Corporation 画像表示装置
JP5008682B2 (ja) * 2009-01-21 2012-08-22 株式会社Ａｄｅｋａ 光硬化性樹脂と熱硬化性樹脂を含有する液晶滴下工法用シール剤
JP5402419B2 (ja) * 2009-09-04 2014-01-29 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 紫外線硬化性組成物、それを用いた偏光板及びその製造方法
WO2011158840A1 (ja) * 2010-06-16 2011-12-22 旭硝子株式会社 硬化性樹脂組成物ならびにこれを用いた積層体およびその製造方法
WO2012035958A1 (ja) * 2010-09-17 2012-03-22 昭和電工株式会社 光硬化性透明粘着シート用組成物
KR101776189B1 (ko) * 2011-03-18 2017-09-08 삼성디스플레이 주식회사 평판 표시 장치 및 그 제조방법
JP5623975B2 (ja) 2011-04-28 2014-11-12 日東電工株式会社 光学用粘着シート
CN104011100B (zh) * 2011-12-27 2016-04-13 昭和电工株式会社 聚合性组合物、聚合物、图像显示装置及其制造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101080907B1 (ko) 2003-10-06 2011-11-08 후지필름 홀딩스 가부시끼가이샤 방현필름

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