KR20140059308A - 매크로사이클릭 화합물의 제조방법 - Google Patents

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?슈 류
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쉬둥 웨이
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Abstract

본 발명은 화학식 3의 하이드록실-치환된 매크로사이클릭 화합물을 화학식 QUIN의 설포닐-치환된 화합물과 반응시키는, 화학식 I의 매크로사이클릭 화합물의 제조방법에 관한 것이다. 화학식 I의 화합물은 C형 간염 바이러스(HCV) 감염 치료를 위한 강력한 활성제이다.

Description

매크로사이클릭 화합물의 제조방법{PROCESS FOR PREPARING MACROCYCLIC COMPOUNDS}
본원은 2005년 3월 8일자로 출원된 미국 가특허원 제60/659,696호의 이득을 주장한다.
본 발명은 C형 간염 바이러스(HCV) 감염 치료용 제제로서 유용한 매크로사이클릭 화합물의 개선된 제조방법에 관한 것이다.
하기 화학식 I의 매크로사이클릭 화합물 및 이의 제조방법이 문헌[참조: Tsantrizos et al., U.S. Patent No. 6,608,027 B1; Llinas Brunet et al, U.S. Application Publication No. 2003/0224977 A1; Llinas Brunet et al, U.S. Application Publication No. 2005/0075279 A1; Llinas Brunet et al, U.S. Application Publication No. 2005/0080005 A1; Brandenburg et al., U.S. Application Publication No. 2005/0049187 A1; and Samstag et al., U.S. Application Publication No. 2004/0248779 A1]에 공지되어 있다.
[화학식 I]
Figure pat00001
위의 화학식 I에서,
W는 CH 또는 N이고,
L0은 H, 할로, C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, C1-6 할로알킬, C1-6 알콕시, C3-6 사이클로알콕시, 하이드록시 또는 N(R23)2이고, 여기서 각각의 R23는 독립적으로 H, C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고,
L1 및 L2는 각각 독립적으로 H, 할로겐, C1-4알킬, -O-C1-4알킬 또는 -S-C1-4알킬(황은 임의의 산화된 상태이다)이거나,
L0 및 L1, 또는 L0 및 L2는 공유 결합하여 이들에 결합된 2개의 C-원자와 함께 1 또는 2개(5 또는 6원 환의 경우)의 -CH2- 그룹이 서로 직접 결합되지 않은 4, 5 또는 6원의 카보사이클릭 환을 형성할 수 있고, 각각 독립적으로 -O- 또는 NRa로 교체될 수 있고, 여기서 Ra는 H 또는 C1-4알킬이고, 상기 환은 임의로 C1-4 알킬로 1치환 또는 2치환될 수 있고,
R2는 H, 할로, C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, C1-6 할로알킬, C1-6 티오알킬, C1-6 알콕시, C3-6 사이클로알콕시, C2-7 알콕시-C1-6알킬, C6 또는 C10 아릴 또는 Het이고, 여기서 Het는 질소, 산소 및 황으로부터 선택된 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하는 5, 6 또는 7원의 포화 또는 불포화 헤테로사이클이고, 상기 사이클로알킬, 아릴 또는 Het는 R6으로 치환되고, 여기서 R6은 H, 할로, C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, C1-6 알콕시, C3-6 사이클로알콕시, NO2, N(R7)2, NH-C(O)-R7 또는 NH-C(O)-NH-R7이고, 이 때 각각의 R7은 독립적으로 H, C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이거나, R6은 NH-C(O)-OR8이고, 여기서 R8은 C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고,
R3은 하이드록시, NH2 또는 화학식 - NH-R9의 그룹이고, R9는 C6 또는 C10 아릴, 헤테로아릴, -C(O)-R10, -C(O)-NHR10 또는 -C(O)-OR10이고, 이 때 R10은 C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고,
D는 5 내지 10원의 불포화 알킬렌 쇄이고,
R4는 H, 또는 상기 쇄 D의 임의의 탄소 원자에서의 1 내지 3개의 치환체이고, 상기 치환체는 독립적으로 C1-6 알킬, C1-6 할로알킬, C1-6 알콕시, 하이드록시, 할로, 아미노, 옥소, 티오 및 C1-6 티오알킬로부터 독립적으로 선택되고,
A는 화학식 -C(O)-NH-R11의 아미드이고, 여기서 R11은 C1-8 알킬, C3-6 사이클로알킬, C6 또는 C10 아릴, C7-16 아르알킬 및 SO2R11A로부터 선택되고, 이 때 R11A는 C1-8 알킬, C3-7 사이클로알킬 또는 C1-6 알킬-C3-7 사이클로알킬이거나,
A는 카복실산, 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염 또는 에스테르이다.
화학식 I의 화합물은 C형 간염 바이러스(HCV) 감염의 치료를 위한 활성제로서 상기 언급된 문헌에 공지되어 있다. 이들 화합물의 제조를 위해 공지된 방법은 다수의 합성 단계를 포함한다. 본 발명에 의해 해결되는 문제점은 충분한 총수율 및 최소의 단계로 이들 화합물의 효과적 제조를 위한 기술적 및 경제적인 방법을 제공하는 것이다.
발명의 개요
화학식 3의 매크로사이클릭 화합물을 화학식 QUIN의 설포닐-치환된 화합물과 반응시키는 하기 주요 합성 치환 단계를 사용하여 합성이 수행되는 경우, 상기 기재된 화학식 I의 화합물을 보다 효과적으로 제조할 수 있음이 밝혀졌다.
Figure pat00002
위의 반응식에서, A가 보호된 카복실산 그룹인 경우, 화학식 I의 화합물을 탈보호화 조건하에 탈보호화시켜 A가 카복실산 그룹인 화학식 I의 화합물을 수득하고,
수득된 화학식 I의 화합물에서 A가 카복실산 그룹인 경우, 당해 화합물을 적합한 커플링제, 예를 들면, 카보디이미드 시약, TBTU 또는 HATU의 존재하에 화학식 R11ASO2NH2의 설폰아미드와 임의로 커플링시켜 A가 -C(O)-NH-SO2R11A인 화학식 I의 화합물을 수득한다.
당해 방법에서, 프롤린 잔기의 하이드록실 그룹에서 배열의 역위가 존재하지 않는 바, 추가로 보다 직접적인 접근법을 제공하며 입체조절의 문제를 최소화하며, 퀴놀린 빌딩 블록은 과정 말기에 분자에 도입되므로 비싼 중간체의 손실을 최소화한다.
따라서, 본 발명은 본원에 기재된 합성 순서를 사용하여 화학식 I의 화합물을 제조하는 합성 방법, 당해 방법의 특정한 개별적인 단계 및 당해 방법에서 사용되는 특정한 개별적인 중간체에 관한 것이다.
용어 정의 및 사용된 규정
본원에서 특정하게 정의되지 않는 용어는 개시 및 문맥의 관점에서 당해 분야의 숙련가에 의해 주어지는 의미를 갖는다. 그러나, 대조적으로 본원에서 달리 기재되지 않는 경우, 하기 용어는 지시된 의미를 갖고, 하기 규정이 첨부된다.
하기 정의된 그룹, 라디칼 또는 잔기에서, 탄소수는 종종 그룹의 앞에 기재되고, 예를 들면, C1-6 알킬은 탄소수가 1 내지 6인 알킬 그룹 또는 라디칼을 의미한다. 일반적으로, 2개 이상의 하위 그룹을 포함하는 그룹의 경우, 마지막으로 명명된 그룹이 라디칼 부착점이고, 예를 들면, "티오알킬"은 화학식 HS-Alk-의 1가 라디칼이다. 하기 달리 기재되지 않는 한, 용어 조절의 통상적인 정의 및 통상적인 안정한 원자가는 모든 화학식 및 그룹에서 추정되고 달성된다.
본원에서 사용되는 용어 "C1-6 알킬"은, 단독으로 또는 다른 치환체와 조합으로서, 탄소수가 1 내지 6인 비환식, 직쇄 또는 측쇄 알킬 치환체를 의미하고, 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 헥실, 1-메틸에틸, 1-메틸프로필, 2-메틸프로필 및 1,1-디메틸에틸을 포함한다.
본원에서 사용되는 용어 "C3-6 사이클로알킬"은, 단독으로 또는 다른 치환체와 조합으로서, 탄소수가 3 내지 6인 사이클로알킬 치환체를 의미하고, 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸 및 사이클로헥실을 포함한다.
본원에서 사용되는 용어 "불포화된 알킬렌 쇄"는 모노- 또는 폴리-불포화된 직쇄 또는 측쇄 지방족 탄화수소의 각 말단의 하나의 수소 원자를 제거함으로써 유도되는 2가 알케닐 치환체를 의미하고, 예를 들면, -CH2-CH2-CH2-CH2-CH2-CH=CH- 및 -CH2-CH2-CH2-CH2-CH=CH-CH2-를 포함한다.
본원에서 사용되는 용어 "C1-6 알콕시"는, 단독으로 또는 다른 치환체와 조합으로서, 치환체 C1-6 알킬-O-를 의미하고, 여기서 알킬은 상기 정의된 바와 같이 탄소수가 1 내지 6이다. 알콕시는 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 1-메틸에톡시, 부톡시 및 1,1-디메틸에톡시를 포함한다. 마지막 치환체는 통상적으로 3급-부톡시로 알려져 있다.
본원에서 사용되는 용어 "C3-6 사이클로알콕시"는, 단독으로 또는 다른 치환체와 조합으로서, 탄소수가 3 내지 6인 치환체 C3-6 사이클로알킬-O-를 의미한다.
본원에서 사용되는 용어 "C2-7 알콕시-C1-6 알킬"은 치환체 C2-7 알킬-O-C1-6 알킬을 의미하고, 여기서 알킬은 상기 정의된 바와 같이 탄소수가 6 이하이다.
본원에서 사용되는 용어 "할로알킬"은, 단독으로 또는 다른 치환체와 조합으로서, 브로모, 클로로, 플루오로 또는 요오도로부터 선택된 할로겐으로 하나 이상의 수소가 치환된 비환식, 직쇄 또는 측쇄 알킬 치환체를 의미한다.
본원에서 사용되는 용어 "티오알킬"은, 단독으로 또는 다른 치환체와 조합으로서, 치환체로서 티올(HS) 그룹을 함유하는 비환식, 직쇄 또는 측쇄 알킬 치환체를 의미한다. 티오알킬 그룹의 예는 티오프로필이고, 예를 들면, HS-CH2CH2CH2-는 티오프로필 그룹의 하나의 예이다.
본원에서 사용되는 용어 "C6 또는 C10 아릴"은, 단독으로 또는 다른 치환체와 조합으로서, 탄소수가 6인 방향족 모노사이클릭 시스템 또는 탄소수가 10인 방향족 바이사이클릭 시스템을 의미한다. 예를 들면, 아릴은 페닐 또는 나프틸 환 시스템을 포함한다.
본원에서 사용되는 용어 "C7-16 아르알킬"은, 단독으로 또는 다른 치환체와 조합으로서, 알킬 그룹을 통해 연결된 상기 기재된 바와 같은 아릴을 의미하고, 여기서 알킬은 상기 기재된 바와 같이 탄소수가 1 내지 6이다. 아르알킬은, 예를 들면, 벤질 및 부틸페닐을 포함한다.
본원에서 사용되는 용어 "Het"는, 단독으로 또는 다른 치환체와 조합으로서, 탄소 원자 및 질소, 산소 및 황으로부터 선택된 1 내지 4개의 환 헤테로원자를 함유하는 5, 6 또는 7원의 포화된 또는 불포화된(방향족 포함) 헤테로사이클로부터 하나의 수소를 제거함으로써 유도되는 1가 치환체를 의미하고, 적합한 헤테로사이클의 예는 테트라하이드로푸란, 티오펜, 디아제핀, 이속사졸, 피페리딘, 디옥산, 모르폴린, 피리미딘 또는
Figure pat00003
을 포함한다.
용어 "Het"는 또한 각각이 포화되거나 불포화된 헤테로사이클 또는 카보사이클일 수 있는 하나 이상의 다른 환에 융합된 상기 기재된 바와 같은 헤테로사이클을 포함한다. 이의 예는 티아졸로[4,5-b]-피리딘을 포함한다. 일반적으로는 용어 "Het" 하에 포함되기는 하나, 본원에서 사용되는 용어 "헤테로아릴"은 이중 결합이 방향족 시스템을 형성하는 불포화된 헤테로사이클로서 정확히 정의된다. 이러한 헤테로방향족 시스템의 예는 퀴놀린, 인돌, 피리딘,
Figure pat00004
,
Figure pat00005
,
Figure pat00006
,
Figure pat00007
,
Figure pat00008
,
Figure pat00009
,
Figure pat00010
또는
Figure pat00011
를 포함한다.
용어 "옥소"는 치환체로서 부착된 이중 결합된 그룹(=O)을 의미한다.
용어 "티오"는 치환체로서 부착된 이중 결합된 그룹(=S)을 의미한다.
일반적으로, 특정한 입체화학 또는 이성체 형태가 화합물의 명칭 또는 구조에서 특정하게 지시되지 않는 한, 개별적인 기하학적 이성체 또는 광학적 이성체 또는 이성체의 라세미 또는 비-라세미 혼합물의 여부와 상관없이, 화학적 구조 또는 화합물의 모든 토오토머 형태 및 이성체 형태 및 혼합물이 의도된다.
본원에 사용되는 용어 "약제학적으로 허용되는 에스테르"는, 단독으로 또는 다른 치환체와 조합으로서, 분자의 임의의 카복실 관능기, 바람직하게는 카복시 말단이 알콕시카보닐 관능기
Figure pat00012
로 교체된 화학식 I의 화합물의 에스테르를 의미하고, 여기서 에스테르의 R 잔기는 알킬(예, 메틸, 에틸, n-프로필, t-부틸, n-부틸); 알콕시알킬(예, 메톡시메틸); 알콕시아실(예, 아세톡시메틸); 아르알킬(예, 벤질); 아릴옥시알킬(예, 펜옥시메틸); 아릴(예, 페닐)로부터 선택되고, 할로겐, C1-4 알킬 또는 C1-4 알콕시로 임의로 치환된다. 다른 적합한 전구약물 에스테르는 본원에 참조로서 인용되는 문헌[참조: Design of Prodrugs, Bundgaard, H. Ed. Elsevier(1985)]에서 찾을 수 있다. 이러한 약제학적으로 허용되는 에스테르는 일반적으로 포유동물에 주사시 생체 내에서 가수분해되고 화학식 I의 화합물의 산 형태로 변형된다. 상기 기재된 에스테르와 관련하여, 달리 기재되지 않는 경우, 임의의 알킬 잔기는 유리하게는 1 내지 16개의 탄소 원자, 특히 1 내지 6개의 탄소 원자를 함유한다. 이러한 에스테르에 존재하는 임의의 아릴 잔기는 유리하게는 페닐 그룹을 포함한다. 특히, 에스테르는 C1-16 알킬 에스테르; 비치환된 벤질 에스테르; 또는 하나 이상의 할로겐, C1-6 알킬, C1-6 알콕시, 니트로 또는 트리플루오로메틸로 치환된 벤질 에스테르일 수 있다.
본원에서 사용되는 용어 "약제학적으로 허용되는 염"은 약제학적으로 허용되는 염기로부터 유도된 것들을 포함한다. 적합한 염기의 예는 콜린, 에탄올아민 및 에틸렌디아민을 포함한다. Na+, K+ 및 Ca++ 염이 또한 본 발명의 범위에 속한다[참조: Pharmaceutical Salts, Birge, S.M. et al., J. Pharm. Sci.,(1977), 66, 1-19].
하기 화학물질이 다음의 약칭으로 언급될 수 있다.
Figure pat00013
발명의 양태
하기 합성 반응식에서, 달리 기재되지 않는 한, 화학식의 모든 치환체 그룹은 화학식 I에 기재된 것과 동일한 의미를 갖는다. 하기 기재된 합성 반응식에서 사용된 반응물은 본원에 기재된 것이거나, 기재되지 않는 경우, 시중에서 구입할 수 있거나 시판되는 물질로부터 당해 분야에 공지된 방법으로 제조할 수 있다. 특정한 출발 물질은, 예를 들면, 국제특허공개공보 제WO 00/59929호, 제WO 00/09543호 및 제WO 00/09558호, 미국 특허 제6,323,180 B1호 및 제6,608,027 B1호에 기재된 방법으로 수득할 수 있다.
최적 반응 조건 및 반응 시간은 사용되는 특정한 반응물에 따라 다양하게 좌우될 수 있다. 달리 기재되지 않는 경우, 용매, 온도, 압력 및 다른 반응 조건은 당해 분야의 숙련가에 의해 용이하게 선택되어 특정 반응을 위한 최적 결과를 얻을 수 있다. 전형적으로, 반응 과정은 고압 액체 크로마토그래피(HPLC)에 의해 모니터링되고, 경우에 따라, 중간체 및 생성물은 실리카 겔 상의 크로마토그래피 및/또는 재결정화로 정제될 수 있다.
I. 일반적인 다단계 합성 방법
하나의 양태에서, 본 발명은 화학식 I의 화합물을 제조하는 일반적인 다단계 합성 방법에 관한 것이다. 특히, 당해 양태는 하기 단계를 포함하는 하기 화학식 I의 화합물의 제조방법에 관한 것이다.
화학식 I
Figure pat00014
위의 화학식 I에서,
W는 CH 또는 N이고,
L0은 H, 할로, C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, C1-6 할로알킬, C1-6 알콕시, C3-6 사이클로알콕시, 하이드록시 또는 N(R23)2이고, 여기서 각각의 R23는 독립적으로 H, C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고,
L1 및 L2는 각각 독립적으로 H, 할로겐, C1-4알킬, -O-C1-4알킬 또는 -S-C1-4알킬(황은 임의의 산화된 상태이다)이거나,
L0 및 L1, 또는 L0 및 L2는 공유 결합하여 이들에 결합된 2개의 C-원자와 함께 1 또는 2개(5 또는 6원 환의 경우)의 -CH2- 그룹이 서로 직접 결합되지 않은 4, 5 또는 6원의 카보사이클릭 환을 형성할 수 있고, 각각 독립적으로 -O- 또는 NRa로 교체될 수 있고, 여기서 Ra는 H 또는 C1-4알킬이고, 상기 환은 임의로 C1-4 알킬로 1치환 또는 2치환될 수 있고,
R2는 H, 할로, C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, C1-6 할로알킬, C1-6 티오알킬, C1-6 알콕시, C3-6 사이클로알콕시, C2-7 알콕시-C1-6알킬, C6 또는 C10 아릴 또는 Het이고, 여기서 Het는 질소, 산소 및 황으로부터 선택된 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하는 5, 6 또는 7원의 포화 또는 불포화 헤테로사이클이고, 상기 사이클로알킬, 아릴 또는 Het는 R6으로 치환되고, 여기서 R6은 H, 할로, C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, C1-6 알콕시, C3-6 사이클로알콕시, NO2, N(R7)2, NH-C(O)-R7 또는 NH-C(O)-NH-R7이고, 이 때 각각의 R7은 독립적으로 H, C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이거나, R6은 NH-C(O)-OR8이고, 여기서 R8은 C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고,
R3은 하이드록시, NH2 또는 화학식 - NH-R9의 그룹이고, R9는 C6 또는 C10 아릴, 헤테로아릴, -C(O)-R10, -C(O)-NHR10 또는 -C(O)-OR10이고, 이 때 R10은 C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고,
D는 5 내지 10원의 불포화 알킬렌 쇄이고,
R4는 H, 또는 상기 쇄 D의 임의의 탄소 원자에서의 1 내지 3개의 치환체이고, 상기 치환체는 독립적으로 C1-6 알킬, C1-6 할로알킬, C1-6 알콕시, 하이드록시, 할로, 아미노, 옥소, 티오 및 C1-6 티오알킬로부터 독립적으로 선택되고,
A는 화학식 -C(O)-NH-R11의 아미드이고, R11은 C1-8 알킬, C3-6 사이클로알킬, C6 또는 C10 아릴; C7-16 아르알킬 및 SO2R11A로부터 선택되고, 이 때 R11A는 C1-8 알킬, C3-7 사이클로알킬 또는 C1-6 알킬-C3-7 사이클로알킬이거나,
A는 카복실산, 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염 또는 에스테르이다.
반응 단계:
(i) R이 PG이고, PG가 보호 그룹인 경우, 화학식 1의 디엔 화합물을 적합한 촉매의 존재하에 환형화시켜 화학식 2의 화합물을 수득한 다음, 화학식 2의 화합물을 탈보호화 조건하에 탈보호화시켜 화학식 3의 화합물을 수득하거나, R이 H인 경우, 화학식 1의 디엔 화합물을 적합한 촉매의 존재하에 환형화시켜 화학식 3의 화합물을 수득하는 단계.
Figure pat00015
위의 반응식에서,
A, D, R3 및 R4는 상기 화학식 I에서 정의된 바와 같고,
R은 수소 또는 PG이고, PG는 보호 그룹이고,
n은 0 내지 2의 정수이고,
D1는 D - (n+2)이다.
(ii) 화학식 3의 A가 보호된 카복실산 그룹인 경우, 화학식 3의 화합물을 탈보호화 조건하에 임의로 탈보호화시켜 A가 카복실산 그룹인 화학식 3의 화합물을 수득하는 단계.
(iii) R3, R4, D 및 A가 상기 화학식 I에서 정의된 바와 같은 화학식 3의 화합물을 L0, L1, L2, W 및 R2가 상기 화학식 I에서 정의된 바와 같고, R가 C1-6알킬, C6 또는 C10 아릴 또는 헤테로아릴인 화학식 QUIN의 화합물과 반응시켜, 화학식 I의 화합물을 수득하는 단계.
Figure pat00016
위의 반응식에서, 화학식 I의 A가 보호된 카복실산 그룹인 경우, 화학식 I의 화합물을 탈보호화 조건하에 임의로 탈보호화시켜 A가 카복실산 그룹인 화학식 I의 화합물을 수득하고,
수득된 화학식 I의 화합물의 A가 카복실산 그룹인 경우, 당해 화합물을 적합한 커플링제, 예를 들면, 카보디이미드 시약, TBTU 또는 HATU의 존재하에 화학식 R11ASO2NH2의 설폰아미드와 임의로 커플링시켜 A가 -C(O)-NH-SO2R11A인 화학식 I의 화합물을 수득한다.
II. 합성 방법의 개별적인 단계
본 발명의 추가의 양태는 상기 기재된 일반적인 다단계 합성 방법의 개별적인 단계 및 이들 단계에서 사용되는 개별적인 중간체에 관한 것이다. 본 발명의 이들 개별적인 단계 및 중간체는 하기에 상세히 기재된다. 모든 치환체 그룹은 상기 일반적인 다단계 방법에 기재된 바와 같다.
단계 (i)
당해 단계는 화학식 1의 디엔 화합물을 적합한 촉매의 존재하에 환형화시켜 R이 보호 그룹인 화학식 2의 화합물을 수득한 다음, 화학식 2의 화합물을 탈보호화 조건하에 탈보호화시켜 화학식 3의 화합물을 수득하거나, R이 H인 경우, 화학식 1의 디엔 화합물을 적합한 촉매의 존재하에 환형화시켜 직접 화학식 3의 화합물을 수득하는 단계에 관한 것이다.
Figure pat00017
당해 환형화 단계에 적합한 폐환 촉매는 루테늄계 촉매 뿐만 아니라 통상적으로 사용되는 몰리브덴계 촉매(슈록 촉매 및 개질된 슈록 촉매) 및 텅스텐계 촉매를 포함한다. 예를 들면, 올레핀 복분해 반응에 사용되는 공지된 임의 루테늄계 촉매, 예를 들면, 그루브(Grubb) 촉매(제1 및 제2 발생), 호베이다(Hoveyda) 촉매(제1 및 제2 발생) 및 놀란(Nolan) 촉매가 폐환을 수행하는데 필요할 수 있고 특정한 촉매에 따라 선택될 수 있는 반응 조건의 적절한 조절하에 사용될 수 있다.
환형화 단계를 위한 적합한 루테늄 촉매는, 예를 들면, 화학식 A, B, C, D 또는 E의 화합물을 포함한다.
[화학식 A]
Figure pat00018
[화학식 B]
Figure pat00019
[화학식 C]
Figure pat00020
[화학식 D]
Figure pat00021
[화학식 E]
Figure pat00022
위의 화학식에서,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 음이온 리간드이고,
L1은 루테늄 원자에 결합된 중성 전자 공여체 리간드이고, 임의로 페닐 그룹에 결합될 수 있고,
L2는 루테늄 원자에 결합된 중성 전자 공여체 리간드이고,
R5은 벤젠 환의 하나 이상의 치환체로부터 선택되고, 치환체는 각각 독립적으로 수소, C1-6 알킬, 할로C1-6 알킬, HS-C1-6 알킬, HO-C1-6 알킬, 퍼플루오로C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, C1-6알콕시, 하이드록실, 할로겐, 니트로, 이미노, 옥소, 티오 및 아릴로부터 선택되고,
여기서 X2 및 L2는 임의로 함께 킬레이팅 바이덴테이트(bidentate) 리간드를 형성할 수 있다.
보다 특정한 양태에서, 루테늄 촉매는 화학식 A-1의 화합물 또는 화학식 A-2의 화합물이다.
[화학식 A-1]
Figure pat00023
[화학식 A-2]
Figure pat00024
위의 화학식에서,
L1은 화학식 PR3의 삼치환된 포스핀 그룹이고, 여기서 R은 C1-6 알킬 및 C3-8 사이클로알킬로부터 선택되고,
L2는 화학식 PR3의 삼치환된 포스핀 그룹이고, 여기서 R은 C1-6 알킬 및 C3-8 사이클로알킬로부터 선택되거나,
L2는 화학식 a 또는 b의 그룹이다.
[화학식 a]
Figure pat00025
[화학식 b]
Figure pat00026
위의 화학식에서,
R7 및 R8은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 C1 -6 알킬, C2 -6 알케닐, C6 -12 아릴 또는 C6 -12 아릴-C1 -6 알킬 그룹이고,
R9 및 R10은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 C1-6 알킬, C2-6 알케닐, C6-12 아릴 또는 C6-12 아릴-C1-6 알킬 그룹이고, 각각 수소, C1-6 알킬, 할로C1-6 알킬, HS-C1-6 알킬, HO-C1-6 알킬, 퍼플루오로C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, C1-6알콕시, 하이드록실, 할로겐, 니트로, 이미노, 옥소, 티오 및 아릴로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 그룹으로 임의로 치환되고,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 할로겐 원자이고,
R5은 수소 또는 니트로이고,
R6은 C1-6 알킬 그룹이다.
또 다른 보다 특정한 양태에서, 루테늄 촉매는 다음으로부터 선택된다.
Figure pat00027
Figure pat00028
제1 발생 호베이다 촉매 제2 발생 호베이다 촉매
Figure pat00029
Figure pat00030
Figure pat00031
제1 발생 그루브 촉매 제2 발생 그루브 촉매
Figure pat00032
위의 화학식에서,
Ph는 페닐이고,
Mes는 2,4,6-트리메틸페닐이다.
상기 기재된 것들과 같이 복분해 환형화 단계에 유용한 루테늄계 촉매는 모두 공지된 합성 기술로 수득할 수 있는 공지된 촉매이다. 예를 들면, 적합한 루테늄계 촉매의 예로서 문헌[참조: Organometallics 2002, 21, 671; 1999, 18, 5416; 및 1998, 17, 2758; J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 6543; 1999, 121, 791; 1999, 121, 2674; 2002, 124, 4954; 1998, 120, 2484; 1997, 119, 3887; 1996, 118, 100; and 1996, 118, 9606; J. Org. Chem. 1998, 63, 9904; and 1999, 64, 7202; Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1998, 37, 2685; 1995, 34, 2038; 2000, 39, 3012 and 2002, 41, 4038; 미국 특허 제5,811,515호, 제6,306,987 B1호 및 제6,608,027 B1호]을 참조한다.
본 발명의 또 다른 특정한 양태에서, 폐환 반응은 약 20 내지 약 120℃ 범위의 온도에서 용매 중에 수행된다. 폐환 복분해 반응에 적합한 임의 용매가 사용될 수 있다. 적합한 용매의 예는 알칸, 예를 들면, n-펜탄, n-헥산 또는 n-헵탄, 방향족 탄화수소, 예를 들면, 벤젠, 톨루엔 또는 크실렌, 염화된 탄화수소, 예를 들면, 디클로로메탄, 트리클로로메탄, 테트라클로로메탄 또는 디클로로에탄, 테트라하이드로푸란, 2-메틸테트라하이드로푸란, 3-메틸-테트라하이드로푸란, 사이클로펜틸 메틸 에테르, 메틸 3급-부틸 에테르, 디메틸 에테르, 메틸 알코올, 디옥산, 에틸 아세테이트 및 3급-부틸 아세테이트를 포함한다.
본 발명의 또 다른 특정한 양태에서, 폐환 반응은 화학식 1의 디엔 화합물 대 촉매의 몰 비율이 1000:1 내지 100:1, 바람직하게는 500:1 내지 110:1, 특히 250:1 내지 150:1의 범위로 수행된다.
본 발명의 또 다른 특정한 양태에서, 폐환 반응은 화학식 1의 디엔 화합물 대 용매의 중량 비율이 1:400 내지 1:25, 바람직하게는 1:200 내지 1:50, 특히 1:150 내지 1:75의 범위로 수행된다.
본 발명의 또 다른 특정한 양태에서, 폐환 반응은 2 내지 6회분, 바람직하게는 3 내지 5회분으로 촉매를 나누어 첨가하여 수행된다.
당해 분야의 숙련가는 선택된 특정 폐환 촉매에 적합한, 적절한 조건을 선택하고 조절함으로써 환형화 단계를 용이하게 최적화할 수 있다. 예를 들면, 촉매의 선택에 따라 고온, 예를 들면, 90℃ 이상의 온도에서 환형화를 수행하는 것이 바람직할 수 있지만, 반응 혼합물에 활성화제, 예를 들면, 할로겐화구리(CuX, 여기서 X는 할로겐이다)를 첨가하면 저온도 가능하다.
당해 단계의 특정한 양태에서, 화학식 1의 화합물은 탈기체화된 유기 용매(, 예를 들면, 톨루엔 또는 디클로로메탄) 중에 약 0.02M 이하의 농도로 용해시킨 다음, 루테늄계 촉매, 예를 들면, 호베이다 촉매로 약 40℃ 내지 약 110℃의 온도에서 반응이 완료될 때까지 처리된다. 일부 또는 모든 루테늄 금속은 적합한 중금속 제거제, 예를 들면, THP 또는 중금속을 제거하는 것으로 알려진 기타 제제로 처리하여 반응 혼합물로부터 제거할 수 있다. 그 다음, 반응 혼합물을 물로 세척하고, 유기 층을 분리하고 세척한다. 수득된 유기 용액을, 예를 들면, 활성화된 차콜(charcoal)을 가하고 여과하여 탈색화시킬 수 있다.
하나의 양태에서, 화학식 1의 프롤린 환 산소 원자는 통상적인 기술을 사용하여 환형화 단계 이전의 임의 시간에서 보호 그룹(여기서, R=PG)으로 보호되었다. 예를 들면, 아세테이트, 벤조에이트, 파라-니트로 벤조에이트, 나프토에이트, 할로게노아세테이트, 메톡시아세테이트, 페닐 아세테이트, 페녹시 아세테이트, 피발로에이트, 크로토네이트, 메틸 카보네이트, 메톡시메틸 카보네이트, 에틸 카보네이트, 할로게노 카보네이트, 파라-니트로 페닐 카보네이트, 트리이소프로필 실릴, 트리에틸 실릴, 디메틸이소프로필, 디에틸이소프로필, 디메틸텍실실릴, t-부틸디메틸실릴, t-부틸디페닐실릴, 트리벤질실릴, 트리페닐실릴, 디페닐메틸실릴, 디-t-부틸메틸실릴, 트리스(트리메틸실릴)실릴, t-부톡시메톡시페닐실릴, t-부톡시디페닐실릴 등을 포함하는 임의의 적합한 산소 보호 그룹이 사용될 수 있다. 환형화 단계 후, 화학식 2의 화합물의 보호 그룹 PG를 당해 분야의 숙련가가 용이하게 이해할 수 있는 특정한 보호 그룹에 적합한 통상적인 탈보호화 조건을 사용하여 제거하여 화학식 3의 화합물을 수득한다.
또 다른 양태에서, 복분해 환형화 단계 전에 화학식 1의 디엔 화합물의 용액을 정제하여, 환형화 반응을 억제할 수 있는 임의의 불순물을 반응 혼합물로부터 제거하는 것이 바람직하다. 당해 분야의 숙련가에게 공지된 통상적인 정제 방법을 사용할 수 있다. 하나의 바람직한 양태에서, 환형화 단계에서 사용하기 전에 디엔 화합물의 용액을 알루미나, 예를 들면, 활성화된 알루미나로 처리하여 정제할 수 있다.
단계 (ii)
화학식 3의 A가 보호된 카복실산 그룹, 예를 들면, 카복실산 에스테르 그룹인 경우, 화학식 3의 화합물을 탈보호화(가수분해) 조건하에 임의로 탈보호화(가수분해)하여 다음 단계 전에 상응하는 유리 카복실산 화합물을 수득할 수 있다. 가수분해는 당해 분야에 공지된 통상적인 가수분해 조건을 사용하여 수행할 수 있다. 특정한 양태에서, 예를 들면, 에스테르화된 화학식 3의 화합물을 유기 용매, 예를 들면, THF에 용해시키고, 적합한 가수분해제, 예를 들면, 수산화리튬 일수화물(LiOH·H2O) 또는 수산화나트륨(NaOH)을 가한 다음 물을 가한다. 수득된 용액을 약 35℃ 내지 약 50℃의 온도에서 교반한다. 반응이 종결된 후, 용액을 냉각시키고, 유기 층을 수집한다. 적합한 용매, 예를 들면, 에탄올을 유기 층에 가하고, pH를 약 pH 5 내지 약 pH 6으로 조절한다. 그 다음, 혼합물을 약 40℃ 내지 약 50℃의 온도로 가온하고, 이 때 물을 가하고, 용액을 교반하면 화학식 3의 화합물이 침전되지 시작한다. 침전이 완료된 후, 용액을 상온으로 냉각시키고, 화학식 3의 화합물을 여과로 수집하고, 세척하고, 건조시킨다.
단계 (iii)
당해 단계는 화학식 3의 화합물을 화학식 QUIN의 화합물과 반응시켜 화학식 I의 화합물을 수득하는 단계를 포함하는, 화학식 I의 화합물의 제조방법에 관한 것이다.
Figure pat00033
위의 반응식에서, A가 보호된 카복실산 그룹인 경우, 화학식 I의 화합물을 탈보호화 조건하에 임의로 탈보호화시켜 A가 카복실산 그룹인 화학식 I의 화합물을 수득하고,
수득된 화학식 I의 화합물의 A가 카복실산 그룹인 경우, 당해 화합물을 적합한 커플링제, 예를 들면, 카보디이미드 시약, TBTU 또는 HATU의 존재하에 화학식 R11ASO2NH2의 설폰아미드와 임의로 커플링시켜 A가 -C(O)-NH-SO2R11A인 화학식 I의 화합물을 수득한다.
QUIN의 설포닐 그룹 상의 R 그룹은, 예를 들면, C1-6알킬, C6 또는 C10 아릴 또는 헤테로아릴을 포함한다. 바람직한 R 그룹은 페닐이다.
화학식 3의 화합물과 QUIN 사이의 커플링 반응은 전형적으로 염기의 존재하에 적합한 용매 또는 용매 혼합물 중에서 수행된다. 당해 반응에 적합한 염기의 예는 t-BuOK, t-BuONa, t-BuOCs, 나트륨 비스(트리메틸실릴)아미드 및 KDMO을 포함하고, t-BuOK 및 KDMO가 바람직한 염기이다. 당해 반응에 적합한 용매의 예는 극성 비양성자성 용매, 예를 들면, DMSO, DMF, NMP 또는 기타 통상적인 극성 비양성자성 용매 뿐만 아니라 THF 및 기타 적당히 극성인 에테르 또는 적합한 이들 용매의 혼합물을 포함한다. 바람직한 용매는 DMSO이다.
바람직한 온도는 (용매의 어는점에 따라) 0℃ 내지 50℃ 및 보다 바람직하게는 10℃ 내지 25℃이다.
당해 단계의 또 다른 바람직한 양태에서, 반응 조건의 하기 세트를 사용할 수 있다. 플라스크를 매크로사이클(3) 및 퀴놀린 QUIN으로 충전하고, 질소로 정화하고(3회), DMSO를 주사기를 통해 가한다. 혼합물을 다시 질소로 정화하고(3회), 온도를 20℃로 조절한다. 그 다음, 슬러리에 주사기 펌프를 통해 1시간 동안 50% KDMO/헵탄을 가한다. 수득된 혼합물을 질소하에 20℃에서 2시간 동안 교반한다. 그 다음, 혼합물을 빙점의 HOAc를 적가하여 퀸칭시키고, 혼합물을 교반한다. 그 다음, 반응 혼합물에 천천히 물을 가하여 생성물 침전을 유도한다. 그 다음, 슬러리를 교반하고, 여과하고, 케이크를 물로 세척한 다음, 헥산 및 고체를 건조시킨다.
화학식 I의 A가 보호된 카복실산 그룹, 예를 들면, 카복실산 에스테르 그룹인 경우, 화학식 I의 화합물을 탈보호화(가수분해) 조건하에 임의로 탈보호화(가수분해)시켜 상응하는 유리 카복실산 화합물을 수득한다. 가수분해는 당해 분야에 공지된 통상적인 가수분해 조건을 사용하여 수행될 수 있다. 적합한 조건은 단계 (ii)에서 논의된 바와 같다. 또한, 수득된 화학식 I의 화합물의 A가 카복실산 그룹인 경우, 당해 화합물을 적합한 커플링제, 예를 들면, 카보디이미드 시약, TBTU 또는 HATU의 존재하에 화학식 R11ASO2NH2의 설폰아미드와 임의로 커플링시켜 A가 -C(O)-NH-SO2R11A인 화학식 I의 화합물을 수득할 수 있다.
III. 펩타이드 디엔 출발 물질의 제조
상기 반응식에서 사용된 펩타이드 디엔 출발 물질(1)을 하기 반응식 I 내지 III에 기재된 방법을 사용하여 공지된 물질로부터 합성할 수 있다.
[반응식 I]
P2-P1의 제조
Figure pat00034
반응식 I에서, P2-P1-PG(여기서, PG는 아미노-보호 그룹이다)를 수득하는 펩타이드 커플링은 임의의 통상적인 펩타이드 커플링 시약 및 당해 분야에 공지된 프로토콜을 사용하여 수행할 수 있고, 아미노-보호 그룹인 PG는 당해 분야에 공지된 임의의 적합한 아미노-보호 그룹일 수 있다. 예를 들면, WO 제00/09543호, WO 제00/09558호 및 미국 특허 제6,608,027 B1호에 공지된 중간체 및 커플링 기술을 참조한다. 화학식 P2-PG 및 P1의 화합물 사이의 펩타이드 커플링은, 예를 들면, 통상적인 펩타이드 커플링 시약, 예를 들면, DCC, EDC, TBTU, HBTU, HATU, DMTMM, 시아누르산 클로라이드(CC), 염화토실(TsCl), 염화메실(MsCl), 이소부틸 클로로포르메이트(IBC), HOBT 또는 HOAT를 사용하여 비양성자성 용매, 예를 들면, 디클로로메탄, 클로로포름, THF, DMF, NMP 또는 DMSO 중에서 당해 분야에 공지된 다양한 조건하에 달성할 수 있다.
화학식 P2-P1-PG의 화합물에서 질소 보호 그룹의 다음 개열 단계는 또한 공지된 기술, 예를 들면, WO 제00/09543호, WO 제00/09558호 및 미국 특허 제6,608,027 B1호에 기재된 기술로 달성할 수 있다. 특정한 양태에서, 당해 방법은 다양한 양성자성 또는 극성 비양성자성 용매, 예를 들면, 알코올, 에테르, ACN 또는 DCM 중에서 유기 또는 무기산, 예를 들면, HCl, H2SO4, TFA, AcOH 또는 MeSO3H에 의한 화학식 P2-P1-PG의 화합물의 산 가수분해를 포함한다.
출발 물질로서 사용된 화학식 P2-PG의 화합물은, 예를 들면, Boc-4(R)-하이드록시프롤린와 같이 상업적으로 구입할 수 있거나, 통상적인 기술을 사용하여 공지된 물질로부터 제조할 수 있다. 하나의 예에서, R이 수소이고 PG가 아미노-보호 그룹인 화학식 P2-PG의 화합물은 4-하이드록시프롤린의 아미노-보호로 제조될 수 있다.
Figure pat00035
제1 단계에서, 적절한 아미노-보호 그룹은 통상적인 방법을 사용하여 4-하이드록시프롤린 화합물의 환 질소 원자 상에 도입된다. 예를 들면, 화합물을 적합한 용매 중에 용해시키고, 적절한 아미노-보호 그룹 도입 시약과 반응시킬 수 있다. 예를 들면, 이로써 제한되지는 않지만, Boc(3급-부틸옥시카보닐)이 목적하는 보호 그룹인 경우, 화합물을 염기, 예를 들면, NaOH, KOH, LiOH, 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민 또는 N-메틸-피롤리딘이 가해질 수 있는 용매 혼합물, 예를 들면, 아세톤/물, MIBK/물 또는 THF/물 중에서 무수 Boc2O(또는 Boc-ON)와 반응시키고, 반응은 20 내지 60℃의 온도에서 수행된다.
화학식 P1의 화합물은 WO 제00/09543호, 제WO 00/09558호 및 미국 특허 제6,608,027 B1호에 공지되어 있고, 본원에 기재된 기술에 의해 제조될 수 있다.
[반응식 II]
P3-P2의 제조
Figure pat00036
반응식 II에서 P3-P2-Me를 수득하는 펩타이드 커플링은 임의의 통상적인 펩타이드 커플링 시약 및 당해 분야에 공지된 프로토콜을 사용하여 수행될 수 있다. 적합한 시약 및 조건의 예는 반응식 I의 펩타이드 커플링 단계에 관하여 상기 기재되어 있다.
반응식 II에서 P3-P2를 수득하는 후속적인 가수분해를 임의로 H2O와 혼화될 수 있는 공용매, 예를 들면, THF, 디옥산, 알코올 또는 DME 또는 이들 공용매의 배합물을 함유하는 수성 염기성 용액으로 수행한다. 바람직한 용매 혼합물은 공용매로서 THF를 함유하는 수성 염기일 수 있다. 임의의 수용성 염기, 예를 들면, LiOH, NaOH, KOH, Na2CO3, K2CO3 등을 사용할 수 있다. 바람직한 염기는 LiOH이다. 염기의 양은 1 내지 100당량으로 다양하고, 1 내지 10당량이 바람직하다. 염기의 농도는 0.25M 내지 12M이고, 1 내지 4M이 바람직하다. 반응 혼합물은 -40℃ 내지 100℃이고, -20℃ 내지 50℃가 바람직하다.
P3와 P2-Me의 펩타이드 커플링에 대한 원-포트 순서는 커플링 조건하에 CC 또는 알킬- 또는 아릴-설포닐 클로라이드(예: TsCl, MsCl)를 사용하여 수행하여 P3-P2-Me를 수득한 다음, 수성 염기성 용액을 가해 생성물을 가수분해시켜 반응식 II의 화합물 P3-P2를 수득한 다음 이를 결정화한다. 당해 원-포트 순서에서, P3 화합물은 또한 이의 입체적으로 장애된 2급 아민을 갖는 염, 예를 들면, 이의 DCHA 염의 형태로 사용될 수 있다.
출발 물질로서 사용된 화학식 P3의 치환된 산 화합물은 미국 특허 제6,608,027 B1호에 기재되어 있고, 본원에 기재된 기술을 사용하여 시중에서 구입가능한 물질로부터 수득할 수 있다.
[반응식 III]
화합물(1)의 제조
Figure pat00037
반응식 III에서 화합물(1)을 수득하는 펩타이드 커플링은 임의의 통상적인 펩타이드 커플링 시약 및 당해 분야에 공지된 프로토콜을 사용하여 수행될 수 있다. 적합한 시약 및 조건의 예는 반응식 I의 펩타이드 커플링 단계에 관하여 상기 기재되어 있다. IBC가 반응식 III에 바람직한 펩타이드 커플링 시약이다.
IV. 설폰화된 퀴놀린 출발 물질의 제조
설폰화된 퀴놀린 출발 물질 QUIN을 하기 반응식 IV에 기재된 방법에 따라 공지된 물질로부터 제조할 수 있다.
[반응식 IV]
Figure pat00038
당해 하이드록실-치환된 퀴놀린(II)을 먼저 공지된 할로겐화 과정으로 다양한 할로겐화 시약, 예를 들면, 통상적으로 POX3 및 PX5(여기서, X는 F, Cl, Br 또는 I이다)을 사용하여 할로-퀴놀린 화합물(III)(여기서, X는 할로겐이다)로 전환하고, 이 때 당해 시약은 일부 경우 용매로서 또는 DMF나 아세토니트릴과 같은 극성 비양자성 용매와 조합하여 사용할 수 있고, 그 다음, 할로겐화된 화합물(III)을 설피네이트 염 RSO2M(여기서, M은 알칼리 금속, 예를 들면, PhSO2Na이다)과 반응시켜 표적 설폰퀴놀린 QUIN으로 전환시켜, 당해 하이드록실-치환된 퀴놀린(II)을 설폰퀴놀린 QUIN으로 전환할 수 있다.
대안적으로, 화합물(II)은 아렌 설포닐클로라이드 화합물 RASO2Cl(여기서, RA는 중성 또는 전자 풍부한 아렌 그룹이다), 예를 들면, 벤젠설포닐 클로라이드 또는 염화토실과 적합한 염기의 존재하에 적합한 용매 중에서 반응시켜 먼저 중간체 설포네이트를 발생시킴으로써 원-포트 방법으로 설폰 퀴놀린으로 전환될 수 있다. 당해 단계에 적합한 염기는 3차 아민, 예를 들면, N-메틸피롤리딘 및 디이소프로필에틸아민을 포함하고, 적합한 용매는 비양성자성 용매, 예를 들면, 아세토니트릴, THF, 톨루엔 및 DMF, 바람직하게는 아세토니트릴을 포함한다. 그 다음, 수득된 종을 반응계내에서 산성 조건하에(예를 들면, 아세트산, 트리플루오로아세트산, 염산 등, 바람직하게는 아세트산의 존재하에) 설피네이트 염 RSO2M(여기서, M은 알칼리 금속이다), 예를 들면, PhSO2Na, PhSO2K 또는 PhSO2Cs과 적합한 반응 온도, 예를 들면, 0 내지 100 ℃, 바람직하게는 25 내지 50℃ 온도에서 반응시킨다. 설폰퀴놀린 생성물을 당해 분야의 숙련가에게 공지된, 통상적인 기술을 사용하여 반응 혼합물로부터 분리할 수 있다. 하나의 양태에서, 설폰퀴놀린은 실온으로 용액으로 냉각시키고 물을 가해 결정화시킬 수 있다. 그 다음, 결정화된 생성물을 통상적인 기술을 사용하여 여과하고, 헹구고, 세척한다.
화학식 II의 하이드록실-치환된 퀴놀린 화합물을, 예를 들면, WO 제00/59929호, WO 제00/09543호 및 WO 제00/09558호, 미국 특허 제6,323,180 B1호, 미국 특허 제6,608,027 B1호 및 미국 공개공보 제2005/0020503 A1호에 기재된 기술을 사용하여 시중에서 구입가능한 물질로부터 합성할 수 있다.
특정한 화학식 II의 하이드록실-치환된 퀴놀린 화합물의 대안적인 제조방법 및 화학식 III의 화합물에 대한 이의 할로겐화는 하기 반응식 V에 기재되어 있다(하기에서, 화합물(7)은 화학식 II의 화합물의 예이고, 화합물(8)은 화학식 III의 화합물의 예이다).
[반응식 V]
Figure pat00039
위의 화학식에서, 각각의 Alk는 독립적으로 C1-C6 알킬 그룹이고, X는 할로겐 원자이고, Z는 3급-부틸 또는 t-부틸-옥시이고, R6 및 Het는 화학식 I에서 정의된 바와 같다.
제1 단계에서, 화합물(1)을 염기 및 브롬화제로 처리하여 화합물(2)을 수득한다. 목적하는 디아니온(dianion)을 형성하기에 충분한 강도의 염기의 사용이 당해 단계에서 일반적으로 필요하다. 이는 양이온-용매화 용매, 예를 들면, DMSO 등 중의 임의의 알킬 리튬, 메탈로아미드, 예를 들면, 리튬 디이소프로필아미드(LDA), 리튬 테트라메틸피페리다이드, KHMDS와 같은 메탈로헥사메틸디실라지드, 오가노진케이트 또는 금속 알콕사이드일 수 있다. 바람직한 염기는 n-부틸리튬 및 LDA일 수 있다. 디아니온 형성에 방해가 되지 않는 임의의 유기 용매, 예를 들면, THF, 알킬-THF, 디옥산, 알칸, 사이클로알칸, MTBE와 같은 디알킬에테르, 사이클로펜틸메틸에테르, 디부틸에테르 등을 사용할 수 있다. 바람직한 용매는 THF, 알킬-THF 및 알칸이다. 디아니온 형성을 위한 온도는 -100℃ 내지 25℃이고, -30℃ 내지 25℃의 범위가 바람직하다. 브롬화 시약은 불안정한 브롬 원자를 함유하는 임의의 화합물, 예를 들면, Br2, NBS, 브로모하이단토인, N-브로모프탈이미드, 브로모할로알칸, 예를 들면, 1,2-디브로모테트라클로로에탄 및 퍼플루오로알킬브로마이드 등일 수 있다. 바람직한 브롬화 시약은 브로모할로알칸일 수 있다. 디아니온이 적합한 용매 중에 발생하면, 브롬화 시약은 무수 또는 용매 중에 가해지거나, 대안적으로 디아니온이 무수 또는 용액 중의 브롬화 시약에 가해질 수 있다. 바람직한 방식은 디아니온을 용액 중의 브롬화 시약에 천천히 가하는 것이다. 브롬화를 위한 온도는 -100℃ 내지 25℃이고, -30℃ 내지 25℃의 범위가 바람직하다.
다음 단계에서, 화합물(2)을 수성 산 혼합물에 가해 화합물(3)을 수득한다. 임의의 수성 산 혼합물은, 예를 들면, 물과 [트리플루오로아세트산, 클로로아세트산, 예를 들면, 트리클로로아세트산, 설폰산, 예를 들면, 메탄설폰산, 염산, 황산, 질산, 인산, 강산 수지, 예를 들면, DOWEX 50] 등이 사용될 수 있다. 바람직한 산은 2 내지 12M, 바람직하게는 6M 이상 농도의 염산 및 황산이다. 물과 혼화되는 공용매는, 예를 들면, 알코올, 예를 들면, 에탄올, 이소프로판올 또는 에테르, 예를 들면, DME, 디글림 등을 사용할 수 있다. 가수분해는 0℃ 내지 200℃의 온도에서 수행되고, 0℃ 내지 100℃의 온도가 바람직하다.
다음 단계에서, 화합물(3)은 알킬화된 니트릴(Alk-CN) 및 루이스산으로 처리하여 화합물(4)을 수득한다. 화합물(3)을 화합물(4)로 전환시키기 위하여, 루이스산 자체 또는 배합물 중의 루이스산, 예를 들면, AlCl3, BCl3, GaCl3, FeCl3 및 이의 혼합물이 사용될 수 있다. 바람직한 방법은 BCl3를 AlCl3와 함께 사용하는 것이다. 쉽게 아실화되지 않는 임의의 용매, 예를 들면, 할로카본, 할로벤젠, 알킬벤젠, 예를 들면, 톨루엔 및 알킬니트릴, 예를 들면, 아세토니트릴을 사용하는 것이 바람직하고, 바람직한 용매는 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠 및 톨루엔이다. 반응 온도는 0℃ 내지 150℃, 바람직하게는 25℃ 내지 75℃이다.
다음 단계에서, 화합물(4)을 화합물(5)로 아실화시켜 화합물(6)을 수득한다. 화합물(4)에서 화합물(6)으로의 전환을 위하여, 아실화는 먼저 카복실산(5)을 산 클로라이드와 같은 활성화된 형태로 전환시키거나 표준 펩타이드 커플링 프로토콜을 사용하여 달성할 수 있다. 바람직한 방법은 염화옥살릴 또는 염화티오닐을 사용하여 화합물(5)의 산 클로라이드를 생성시키는 것이다. 그 다음, 이러한 활성화된 종을 임의의 유기 용매 또는 물 중에서 염기를 첨가하거나 첨가하지 않고 아닐린(4)과 커플링시킨다. 바람직한 용매는 NMP 및 THF이고, 바람직한 염기(사용되는 경우)는 트리에틸아민이다. 반응 온도는 -30℃ 내지 150℃, 바람직하게는 -20℃ 내지 50℃이다.
다음 단계에서, 화합물(6)을 염기의 존재하에 환형화시켜 화합물(7)을 수득한다. 화합물(6)을 분리하고, 정제하거나, 대안적으로 유기 용매, 예를 들면, NMP 중의 조물질(6)을 환형화 조건하에 환형화시켜 퀴놀론(7)을 직접적으로 수득함을 원-포트 방법에서 2 단계로 수행한다. 반응식 I에서 화합물(6)을 화합물(7)로 전환하기 위하여, 에놀레이트를 형성할 수 있는 임의의 염기, 예를 들면, t-BuOK, KDMO, LDA 등을 사용할 수 있고, t-BuOK 및 KDMO가 바람직하다. 에놀레이트와 반응하지 않는 임의의 유기 용매, 예를 들면, THF, 디옥산, DMSO, NMP, DME 등을 사용할 수 있고, NMP, DME 및 DMSO이 바람직하다. 환형화는 25℃ 내지 150℃, 바람직하게는 50℃ 내지 100℃에서 수행된다.
최종 단계에서, 하이드록소퀴놀린 화합물(7)을 할로겐화제로 처리하여 화합물(8)을 수득한다. 반응식 I에서 화합물(7)을 화합물(8)로 전환시키기 위하여, 다수의 할로겐화제, 예를 들면, 메탄설포닐 클로라이드, SOCl2, POCl3, PCl3, PCl5, POBr3, HF 등을 사용할 수 있고, POCl3 및 SOCl2가 바람직하다. 할로겐화는 할로겐화제 또는 할로겐화제와 반응하지 않는 임의의 유기 용매, 예를 들면, DME, 디글림, THF, 할로탄소 등 중에서 수행될 수 있고, DME 및 THF가 바람직하다. 반응 온도는 -20℃ 내지 150℃, 바람직하게는 25℃ 내지 100℃에서 수행된다.
V. 화학식 I의 화합물의 바람직한 양태
본 발명의 방법에 따라 제조할 수 있는 화학식 I의 화합물의 바람직한 양태는 하기 기재된 양태를 포함한다.
바람직한 양태는 사이클로프로필의 1-탄소 중심이 구조 (i) 및 (ii)의 R 배열을 갖는 2개의 상이한 디아스테레오머로부터 우측의 사이클로프로필 잔기가 선택되는 상기 기재된 바와 같은 화학식 I의 화합물을 포함한다.
Figure pat00040
Figure pat00041
아미드에 대해 D syn 배열 (i) A 그룹에 대해 D syn 배열 (ii).
화학식 I의 화합물의 하나의 특정한 양태에서, D 링커는 상기 구조 (ii)와 같이 A 그룹에 대해 syn 배열이고,
W는 N이고,
L0은 H, -OH, -OCH3, -OC2H5, -OC3H7, -OCH(CH3)2, -NHCH3, -NHC2H5, -NHC3H7, -NHCH(CH3)2, -N(CH3)2, -N(CH3)C2H5, -N(CH3)C3H7 및 -N(CH3)CH(CH3)2로부터 선택되고,
L1 및 L2는 각각 독립적으로 수소, 불소, 염소, 브롬, -CH3, -C2H5, -C3H7, -CH(CH3)2, -OCH3, -OC2H5, -OC3H7 및 -OCH(CH3)2으로부터 선택되고,
R2는 H, C1-6 티오알킬, C1-6 알콕시, 페닐, 또는
Figure pat00042
로부터 선택된 Het이고, 여기서 R6은 H, C1-6 알킬, NH-R7, NH-C(O)-R7 또는 NH-C(O)-NH-R7이고, 이 때 R7은 각각 독립적으로 H, C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이거나, R6은 NH-C(O)-OR8이고, 여기서 R8은 C1-6 알킬이고,
R3은 NH-C(O)-R10, NH-C(O)-OR10 또는 NH-C(O)-NR10이고, 여기서 각각의 R10은 C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고,
D는 6 내지 8원의 불포화된 알킬렌 쇄이고,
R4는 H 또는 C1-6 알킬이고,
A는 카복실산, 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염 또는 에스테르이다.
화학식 I의 화합물의 또 다른 특정한 양태에서, D 링커는 상기 구조 (ii)와 같이 A 그룹에 대해 syn 배열이고,
W는 N이고,
L0은 H, -OH, -OCH3 및 -N(CH3)2로부터 선택되고,
L1 및 L2 중 하나는 -CH3, -F, -Cl 또는 -Br이고 L1 및 L2 중 다른 하나는 H이거나, L1 및 L2는 둘 다 H이고,
R2는
Figure pat00043
,
Figure pat00044
또는
Figure pat00045
이고, 여기서 R6은 NH-R7 또는 NH-C(O)-R7이고, 이 때 R7은 독립적으로 C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고,
R3은 NH-C(O)-OR10이고, 여기서 R10은 C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고,
R4는 H 또는 C1-6 알킬이고,
D는 1개의 이중 결합을 갖는 7원의 불포화된 알킬렌 쇄이고,
A는 카복실산, 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염 또는 에스테르이다.
또 다른 특정한 양태에서, 화학식 I의 화합물은 하기 화학식 I'을 갖는다.
[화학식 I']
Figure pat00046
위의 화학식 I'에서,
L0은 -OCH3이고,
L1은 -CH3, -F, -Cl 또는 -Br이고 L2는 H이거나, L1 및 L2는 둘 다 H이고,
R6은 NH-R7 또는 NH-C(O)-R7이고, 여기서 R7은 독립적으로 C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고,
R10은 부틸, 사이클로부틸 또는 사이클로펜틸이고,
A는 카복실산, 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염 또는 에스테르이다.
하기 표에는 화학식 I의 화합물을 대표하는 하기 화학식의 화합물이 열거되어 있다.
Figure pat00047
위의 화학식에서,
L0, L1, L2 및 R2는 하기 정의된 바와 같다.
Figure pat00048
Figure pat00049
하기 표에는 화학식 I의 화합물을 대표하는 하기 화학식의 추가적인 화합물이 열거되어 있다.
Figure pat00050
위의 화학식에서, 위치 14로부터 사이클로프로필 그룹으로의 결합은 COOH에 대해 syn이고, 위치 13과 14의 이중 결합은 cis이고, R13, R4 및 R2는 하기에 정의된 바와 같다.
Figure pat00051
Figure pat00052
Figure pat00053
화학식 I의 화합물을 대표하는 추가의 특정한 화합물을 미국 특허 제6,608,027 B1호에서 찾을 수 있다.
VI. 화학식 QUIN의 화합물의 바람직한 양태
본 발명의 방법에서 사용되는 화학식 QUIN의 화합물은 하기 기재된 양태를 포함하고, 즉 상기 기재된 화학식 I의 화합물의 바람직한 양태에 상응한다.
화학식 QUIN의 화합물의 하나의 양태에서,
W는 N이고,
L0은 H, -OH, -OCH3, -OC2H5, -OC3H7, -OCH(CH3)2, -NHCH3, -NHC2H5, -NHC3H7, -NHCH(CH3)2, -N(CH3)2, -N(CH3)C2H5, -N(CH3)C3H7 및 -N(CH3)CH(CH3)2로부터 선택되고,
L1 및 L2는 각각 독립적으로 수소, 불소, 염소, 브롬, -CH3, -C2H5, -C3H7, -CH(CH3)2, -OCH3, -OC2H5, -OC3H7 및 -OCH(CH3)2으로부터 선택되고,
R2는 C1-6 티오알킬, C1-6 알콕시, 또는
Figure pat00054
으로부터 선택된 Het이고, 여기서 R6은 H, C1-6 알킬, NH-R7, NH-C(O)-R7 또는 NH-C(O)-NH-R7이고, 이 때 R7은 각각 독립적으로 H, C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이거나, R6은 NH-C(O)-OR8이고, 여기서 R8은 C1-6 알킬이고,
R은 C6 또는 C10 아릴 그룹이다.
화학식 QUIN의 화합물의 또 다른 특정한 양태에서,
W는 N이고,
L0은 H, -OH, -OCH3 및 -N(CH3)2로부터 선택되고,
L1 및 L2 중 하나는 -CH3, -F, -Cl 또는 -Br이고, L1 및 L2 중 다른 하나는 H이거나, L1 및 L2 둘 다는 H이고,
R2는
Figure pat00055
,
Figure pat00056
또는
Figure pat00057
이고, 여기서 R6은 NH-R7 또는 NH-C(O)-R7이고, 이 때 R7은 독립적으로 C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고,
R은 C6 또는 C10 아릴 그룹이다.
또 다른 특정한 양태에서, 화학식 QUIN의 화합물은 하기 화학식을 갖는다.
Figure pat00058
위의 화학식에서,
L0은 -OCH3이고,
L1은 -CH3, -F, -Cl 또는 -Br이고, L2는 H이거나, L1 및 L2는 둘 다 H이고,
R6은 NH-R7 또는 NH-C(O)-R7이고, 여기서 R7은 독립적으로 C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고,
R은 C6 또는 C10 아릴 그룹이다.
하기 표에는 화학식 QUIN의 화합물을 대표하는 하기 화학식의 화합물이 열거되어 있다.
Figure pat00059
위의 화학식에서, Ph는 페닐이고, L0, L1, L2 및 R2는 하기 정의된 바와 같다.
Figure pat00060
Figure pat00061
하기 표에는 화학식 QUIN의 화합물을 대표하는 하기 화학식의 화합물이 열거되어 있다.
Figure pat00062
위의 화학식에서, Ph는 페닐이고, R2는 하기 정의된 바와 같다.
Figure pat00063
Figure pat00064
Figure pat00065

Claims (12)

  1. R3, R4, D 및 A가 화학식 I에서 정의된 바와 같은 화학식 3의 화합물을 L0, L1, L2, W 및 R2가 화학식 I에 정의된 바와 같고, R이 C1 - 6알킬, C6 또는 C10 아릴 또는 헤테로아릴인 화학식 QUIN의 화합물과 반응시켜 화학식 I의 화합물을 수득하는 단계,
    화학식 I의 A가 보호된 카복실산 그룹인 경우, 화학식 I의 화합물을 탈보호화 조건하에 임의로 탈보호화시켜 A가 카복실산 그룹인 화학식 I의 화합물을 수득하는 단계 및
    수득된 화학식 I의 화합물에서 A가 카복실산 그룹인 경우, 당해 화합물을 적합한 커플링제, 예를 들면, 카보디이미드 시약, TBTU 또는 HATU의 존재하에 화학식 R11ASO2NH2의 설폰아미드와 임의로 커플링시켜 A가 -C(O)-NH-SO2R11A인 화학식 I의 화합물을 수득하는 단계를 포함하는, 화학식 I의 화합물의 제조방법.
    Figure pat00066

    화학식 I
    Figure pat00067

    위의 화학식 I에서,
    W는 CH 또는 N이고,
    L0은 H, 할로, C1 -6 알킬, C3 -6 사이클로알킬, C1 -6 할로알킬, C1 -6 알콕시, C3 -6 사이클로알콕시, 하이드록시 또는 N(R23)2이고, 여기서 각각의 R23는 독립적으로 H, C1-6 알킬 또는 C3 -6 사이클로알킬이고,
    L1 및 L2는 각각 독립적으로 H, 할로겐, C1 - 4알킬, -O-C1 - 4알킬 또는 -S-C1 - 4알킬(황은 임의의 산화된 상태이다)이거나,
    L0 및 L1, 또는 L0 및 L2는 공유 결합하여 이들에 결합된 2개의 C-원자와 함께 1 또는 2개(5 또는 6원 환의 경우)의 -CH2- 그룹이 서로 직접 결합되지 않은 4, 5 또는 6원의 카보사이클릭 환을 형성할 수 있고, 각각 독립적으로 -O- 또는 NRa로 교체될 수 있고, 여기서 Ra는 H 또는 C1 - 4알킬이고, 상기 환은 임의로 C1 -4 알킬로 1치환 또는 2치환될 수 있고,
    R2는 H, 할로, C1 -6 알킬, C3 -6 사이클로알킬, C1 -6 할로알킬, C1 -6 티오알킬, C1-6 알콕시, C3 -6 사이클로알콕시, C2 -7 알콕시-C1 - 6알킬, C6 또는 C10 아릴 또는 Het이고, 여기서 Het는 질소, 산소 및 황으로부터 선택된 1 내지 4개의 헤테로원자를 함유하는 5, 6 또는 7원의 포화 또는 불포화 헤테로사이클이고, 상기 사이클로알킬, 아릴 또는 Het는 R6으로 치환되고, 여기서 R6은 H, 할로, C1 -6 알킬, C3 -6 사이클로알킬, C1 -6 알콕시, C3 -6 사이클로알콕시, NO2, N(R7)2, NH-C(O)-R7 또는 NH-C(O)-NH-R7이고, 이 때 각각의 R7은 독립적으로 H, C1 -6 알킬 또는 C3 -6 사이클로알킬이거나, R6은 NH-C(O)-OR8이고, 여기서 R8은 C1 -6 알킬 또는 C3 -6 사이클로알킬이고,
    R3은 하이드록시, NH2 또는 화학식 - NH-R9의 그룹이고, 여기서 R9는 C6 또는 C10 아릴, 헤테로아릴, -C(O)-R10, -C(O)-NHR10 또는 -C(O)-OR10이고, 이 때 R10은 C1 -6 알킬 또는 C3 -6 사이클로알킬이고,
    D는 5 내지 10원의 불포화 알킬렌 쇄이고,
    R4는 H, 또는 상기 쇄 D의 임의의 탄소 원자에서의 1 내지 3개의 치환체이고, 상기 치환체는 독립적으로 C1 -6 알킬, C1 -6 할로알킬, C1 -6 알콕시, 하이드록시, 할로, 아미노, 옥소, 티오 및 C1 -6 티오알킬로부터 독립적으로 선택되고,
    A는 화학식 -C(O)-NH-R11의 아미드이고, 여기서 R11은 C1 -8 알킬, C3 -6 사이클로알킬, C6 또는 C10 아릴, C7 -16 아르알킬 및 SO2R11A로부터 선택되고, 이 때 R11A는 C1-8 알킬, C3 -7 사이클로알킬 또는 C1 -6 알킬-C3 -7 사이클로알킬이거나,
    A는 카복실산 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염 또는 에스테르이다.
  2. 제1항에 있어서, 염기의 존재하에 적합한 용매 또는 용매 혼합물 중에서 수행되는 방법.
  3. 제2항에 있어서, 염기가 t-BuOK, t-BuONa, t-BuOCs, 나트륨 비스(트리메틸실릴)아미드 또는 KDMO이고, 용매가 DMSO, DMF, NMP 또는 THF인 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서,
    D 링커가 화학식 ii에 나타난 바와 같이 A 그룹에 대해 syn 배열이고,
    W가 N이고,
    L0이 H, -OH, -OCH3, -OC2H5, -OC3H7, -OCH(CH3)2, -NHCH3, -NHC2H5, -NHC3H7, -NHCH(CH3)2, -N(CH3)2, -N(CH3)C2H5, -N(CH3)C3H7 및 -N(CH3)CH(CH3)2로부터 선택되고,
    L1 및 L2가 각각 독립적으로 수소, 플루오르, 염소, 브롬, -CH3, -C2H5, -C3H7, -CH(CH3)2, -OCH3, -OC2H5, -OC3H7 및 -OCH(CH3)2로부터 선택되고,
    R2가 H, C1 -6 티오알킬, C1 -6 알콕시, 페닐, 또는
    Figure pat00068

    로부터 선택된 Het이고, 여기서, R6이 H, C1 -6 알킬, NH-R7, NH-C(O)-R7 또는 NH-C(O)-NH-R7이고, 이 때 R7은 각각 독립적으로 H, C1 -6 알킬 또는 C3 -6 사이클로알킬이거나, R6이 NH-C(O)-OR8이고, 여기서 R8은 C1 -6 알킬이고,
    R3이 NH-C(O)-R10, NH-C(O)-OR10 또는 NH-C(O)-NR10이고, 각각의 경우 R10은 C1 -6 알킬 또는 C3 -6 사이클로알킬이고,
    D가 6 내지 8원의 불포화된 알킬렌 쇄이고,
    R4가 H 또는 C1 -6 알킬이고,
    A가 카복실산 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염 또는 에스테르인 방법.
    [화학식 ii]
    Figure pat00069
  5. 화학식 QUIN의 화합물.
    [화학식 QUIN]
    Figure pat00070

    위의 화학식 QUIN에서,
    W는 N이고,
    L0은 H, -OH, -OCH3, -OC2H5, -OC3H7, -OCH(CH3)2, -NHCH3, -NHC2H5, -NHC3H7, -NHCH(CH3)2, -N(CH3)2, -N(CH3)C2H5, -N(CH3)C3H7 및 -N(CH3)CH(CH3)2로부터 선택되고,
    L1 및 L2는 각각 독립적으로 수소, 플루오르, 염소, 브롬, -CH3, -C2H5, -C3H7, -CH(CH3)2, -OCH3, -OC2H5, -OC3H7 및 -OCH(CH3)2으로부터 선택되고,
    R2는 C1 -6 티오알킬, C1 -6 알콕시, 또는
    Figure pat00071

    으로부터 선택된 Het이고, 여기서 R6은 H, C1 -6 알킬, NH-R7, NH-C(O)-R7 또는 NH-C(O)-NH-R7이고, 이 때 R7은 각각 독립적으로 H, C1 -6 알킬 또는 C3 -6 사이클로알킬이거나, R6은 NH-C(O)-OR8이고, 여기서 R8은 C1 -6 알킬이고,
    R은 C6 또는 C10 아릴 그룹이다.
  6. 화학식 II의 화합물을 할로겐화제와 반응시켜 X가 할로겐 원자인 화학식 III의 화합물을 수득한 다음, 이를 M이 알칼리 금속인 설피네이트 염 RSO2M과 반응시켜 L0, L1, L2, W, R2 및 R이 제5항에 정의된 바와 같은 화학식 QUIN의 화합물을 수득함을 포함하는, 제5항에 따른 화학식 QUIN의 화합물의 제조방법.
    Figure pat00072
  7. 제6항에 있어서, 할로겐화제가 POX3 및 PX5로부터 선택되고, 여기서 X가 F, Cl, Br 또는 I이고, 설피네이트 염 RSO2M이 PhSO2Na인 방법.
  8. 화학식 II의 화합물을 RA가 중성 또는 전자 풍부한 아렌 그룹인 아렌 설포닐클로라이드 화합물 RASO2Cl과 적합한 염기의 존재하에 적합한 용매 중에서 반응시킨 다음, 수득된 화합물을 산의 존재하에 M이 알칼리 금속인 설피네이트 염 RSO2M와 반응시켜 L0, L1, L2, W, R2 및 R이 제5항에 정의된 바와 같은 화학식 QUIN의 화합물을 수득함을 포함하는, 제5항에 따른 화학식 QUIN의 화합물의 제조방법.
    Figure pat00073
  9. 제8항에 있어서, 제1 단계에서 아렌 설포닐클로라이드 화합물 RASO2Cl이 벤젠설포닐 클로라이드 또는 염화토실이고, 염기가 N-메틸피롤리딘 또는 디이소프로필에틸아민이고, 용매가 아세토니트릴, THF, 톨루엔 및 DMF로부터 선택되고, 제2 단계에서 산이 아세트산, 트리플루오로아세트산 또는 염산이고, 설피네이트 염 RSO2M이 PhSO2Na, PhSO2K 또는 PhSO2Cs인 방법.
  10. 화학식 3의 화합물.
    [화학식 3]
    Figure pat00074

    위의 화학식 3에서,
    R3은 하이드록시, NH2 또는 화학식 - NH-R9의 그룹이고, 여기서 R9는 C6 또는 C10 아릴, 헤테로아릴, -C(O)-R10, -C(O)-NHR10 또는 -C(O)-OR10이고, 이 때 R10은 C1 -6 알킬 또는 C3 -6 사이클로알킬이고,
    D는 5 내지 10원의 불포화 알킬렌 쇄이고,
    R4는 H, 또는 상기 쇄 D의 임의의 탄소 원자에서의 1 내지 3개의 치환체이고, 상기 치환체는 독립적으로 C1 -6 알킬, C1 -6 할로알킬, C1 -6 알콕시, 하이드록시, 할로, 아미노, 옥소, 티오 및 C1 -6 티오알킬로부터 독립적으로 선택되고,
    A는 화학식 -C(O)-NH-R11의 아미드이고, 여기서 R11은 C1 -8 알킬, C3 -6 사이클로알킬, C6 또는 C10 아릴, C7 -16 아르알킬 및 SO2R11A로부터 선택되고, 이 때 R11A는 C1-8 알킬, C3 -7 사이클로알킬 또는 C1 -6 알킬-C3 -7 사이클로알킬이거나,
    A는 카복실산 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염 또는 에스테르이다.
  11. 제10항에 있어서,
    D 링커가 화학식 ii에 나타난 바와 같이 A 그룹에 대해 syn 배열이고,
    R3이 NH-C(O)-R10, NH-C(O)-OR10 또는 NH-C(O)-NR10이고, 여기서 R10은 각각 C1-6 알킬 또는 C3 -6 사이클로알킬이고,
    D가 6 내지 8원의 불포화된 알킬렌 쇄이고,
    R4가 H 또는 C1 -6 알킬이고,
    A가 카복실산 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염 또는 에스테르인 화학식 3의 화합물.
    화학식 ii
    Figure pat00075
  12. (i) R이 PG이고, PG가 보호 그룹인 경우, 화학식 1의 디엔 화합물을 적합한 촉매의 존재하에 환형화시켜 화학식 2의 화합물을 수득한 다음, 화학식 2의 화합물을 탈보호화 조건하에 탈보호화시켜 화학식 3의 화합물을 수득하거나, R이 H인 경우, 화학식 1의 디엔 화합물을 적합한 촉매의 존재하에 환형화시켜 화학식 3의 화합물을 수득하는 단계 및
    (ii) 화학식 3의 A가 보호된 카복실산 그룹인 경우, 화학식 3의 화합물을 탈보호화 조건하에 탈보호화시켜 A가 카복실산 그룹인 화학식 3의 화합물을 수득하는 단계를 포함하는, 제10항에 따른 화학식 3의 화합물의 제조방법.
    Figure pat00076

    위의 화학식에서,
    A, D, R3 및 R4는 제10항에서 정의된 바와 같고,
    R은 수소 또는 PG이고, PG는 보호 그룹이고,
    n은 0 내지 2의 정수이고,
    D1는 D - (n+2)이다.
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