KR20130103366A - 바이트 절삭 방법 - Google Patents

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Abstract

피가공물의 완성 두께를 고정밀도로 제어할 수 있는 바이트 절삭 방법을 제공하는 것이다.
절삭날을 갖는 바이트 절삭 수단으로 피가공물을 절삭하는 바이트 절삭 방법으로서, 피가공물을 척 테이블로 유지하는 유지 단계와, 상기 유지 단계를 실시한 후, 접촉침을 갖는 높이 위치 검출 수단으로 상기 척 테이블의 유지면의 높이 위치 및 상기 척 테이블에 유지된 피가공물의 상면 높이 위치를 검출하여, 피가공물의 두께를 산출하는 피가공물 두께 산출 단계와, 상기 접촉침에 냉각수를 항상 공급하는 냉각수 공급 단계와, 상기 피가공물 두께 산출 단계를 실시한 후, 상기 피가공물의 상면 높이 위치에 기초하여 바이트 절삭 수단의 절삭날을 정해진 높이에 위치시키고, 상기 절삭날을 회전시키고 상기 바이트 절삭 수단과 상기 척 테이블을 수평 방향으로 상대 이동시켜, 피가공물의 상면을 상기 바이트 절삭 수단으로 선회 절삭하는 절삭 단계를 포함한 것을 특징으로 한다.

Description

바이트 절삭 방법{BITE CUTTING METHOD}
본 발명은, 웨이퍼 등의 피가공물을 바이트로 선회 절삭하는 바이트 절삭 방법에 관한 것이다.
반도체 디바이스의 경박단소화(輕薄短小化)를 실현하기 위한 기술에는 다양한 것이 있다. 일례로서, 반도체 웨이퍼에 형성된 디바이스 표면에 10 ㎛∼100 ㎛ 정도 높이의 범프라고 불리는 금속 돌기물을 복수 형성하고, 이들 범프를 배선 기판에 형성된 전극에 상대시켜 직접 접합하는 플립칩 본딩이라고 불리는 실장 기술이 실용화되고 있다.
반도체 웨이퍼의 디바이스 표면에 형성되는 범프는, 도금이나 스터드 범프와 같은 방법에 의해 형성된다. 이 때문에 개개의 범프의 높이는 불균일하여, 그대로는 복수의 범프를 배선 기판의 전극에 모두 균일하게 접합하는 것은 어렵다.
또, 고밀도 배선을 실현하기 위해, 범프와 배선 기판 사이에 이방성 도전성 필름(ACF)을 개재시켜 접합하는 집적 회로 실장 기술이 있다. 이 실장 기술의 경우에는, 범프의 높이가 부족하면 접합 불량을 초래하기 때문에, 일정 이상의 범프 높이가 필요해진다.
따라서, 반도체 웨이퍼의 표면에 형성된 복수의 범프를 원하는 높이로 절삭하는 것이 요구되고 있다. 범프를 원하는 높이로 절삭하는 방법으로서, 바이트 휠을 이용하여 범프를 깎아내는 방법이, 예컨대 일본 특허 공개 제2004-319697호 공보에서 제안되어 있다.
바이트 휠은, 휠 베이스와, 휠 베이스에 배치된 절삭날을 포함하는 바이트 유닛을 구비하고, 바이트 휠을 회전시키면서, 절삭날을 피가공물에 접촉시킨 상태로 바이트 휠과 피가공물을 슬라이딩시킴으로써 절삭을 수행한다.
반도체 웨이퍼 등의 피가공물을 고정밀도로 절삭하여 박화하기 위해, 절삭시에 척 테이블의 유지면의 상면 높이 및 피가공물의 상면 높이 위치를 접촉식의 높이 위치 검출기를 이용하여 검출하고, 검출한 피가공물의 상면 높이 위치를 기초로 절삭날을 정해진 높이에 위치시켜 피가공물을 선회 절삭하여, 피가공물을 정해진 두께로 박화하고 있다(일본 특허 공개 제2007-059523호 공보 참조).
특허문헌 1 : 일본 특허 공개 제2004-319697호 공보 특허문헌 2 : 일본 특허 공개 제2007-059523호 공보
그런데, 장치의 가동에 따른 발열이나 실온의 온도 변화 등에 의해 높이 위치 검출기가 열팽창하면, 피가공물의 완성 두께를 고정밀도로 제어할 수 없다고 하는 문제가 있다.
본 발명은 이러한 점을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적으로 하는 바는, 피가공물의 완성 두께를 고정밀도로 제어할 수 있는 바이트 절삭 방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 의하면, 절삭날을 갖는 바이트 절삭 수단으로 피가공물을 절삭하는 바이트 절삭 방법으로서, 피가공물을 척 테이블로 유지하는 유지 단계와, 상기 유지 단계를 실시한 후, 접촉침을 갖는 높이 위치 검출 수단으로 상기 척 테이블의 유지면의 높이 위치 및 상기 척 테이블에 유지된 피가공물의 상면 높이 위치를 검출하여, 피가공물의 두께를 산출하는 피가공물 두께 산출 단계와, 상기 접촉침에 냉각수를 항상 공급하는 냉각수 공급 단계와, 상기 피가공물 두께 산출 단계를 실시한 후, 상기 피가공물의 상면 높이 위치에 기초하여 바이트 절삭 수단의 절삭날을 정해진 높이에 위치시키고, 상기 절삭날을 회전시키고 상기 바이트 절삭 수단과 상기 척 테이블을 수평 방향으로 상대 이동시켜, 피가공물의 상면을 상기 바이트 절삭 수단으로 선회 절삭하는 절삭 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 바이트 절삭 방법이 제공된다.
본 발명의 바이트 절삭 방법에 의하면, 접촉침에는 항상 냉각수가 공급되기 때문에, 바이트 절삭 장치의 가동에 따른 발열이나 실온의 온도 변화에 따라서 높이 위치 검출기가 열팽창하는 것이 방지되어, 정확하게 피가공물의 상면 높이 위치를 검출하여 피가공물을 정해진 두께로 절삭할 수 있다.
도 1은 본 발명의 바이트 절삭 방법을 실시하기에 적합한 바이트 절삭 장치의 사시도이다.
도 2는 도 1의 A 화살표 방향에서 본 도면이다.
이하, 본 발명의 실시형태를 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 도 1을 참조하면, 본 발명의 바이트 절삭 방법을 실시하기에 적합한 바이트 절삭 장치(2)의 사시도가 나타나 있다. 바이트 절삭 장치(2)의 하우징(4)은, 수평 하우징 부분(6)과, 수직 하우징 부분(8)으로 구성된다.
수직 하우징 부분(8)에는, 상하 방향으로 신장되는 한쌍의 가이드 레일(12, 14)이 고정되어 있다. 이 한쌍의 가이드 레일(12, 14)을 따라서 바이트 절삭 유닛(16)이 상하 방향으로 이동 가능하게 장착되어 있다. 바이트 절삭 유닛(16)은, 지지부(20)를 개재하여 한쌍의 가이드 레일(12, 14)을 따라서 상하 방향으로 이동하는 이동 베이스(18)에 부착되어 있다.
바이트 절삭 유닛(16)은, 지지부(20)에 부착된 스핀들 하우징(22)과, 스핀들 하우징(22) 내에 회전 가능하게 수용된 스핀들(24)과, 스핀들(24)을 회전 구동하는 서보 모터(26)를 포함하고 있다.
스핀들(24)의 선단부에는 휠 마운트(28)가 고정되어 있고, 이 휠 마운트(28)에 바이트 공구(32)를 갖는 바이트 휠(30)이 장착되어 있다. 바이트 공구(32)는 다이아몬드로 형성된 절삭날을 그 선단에 갖고 있다.
바이트 절삭 장치(2)는, 바이트 절삭 유닛(16)을 한쌍의 가이드 레일(12, 14)을 따라서 상하 방향으로 이동하는 바이트 절삭 유닛 이송 기구(34)를 구비하고 있다. 바이트 절삭 유닛 이송 기구(34)는, 볼나사(36)와, 볼나사(36)의 일단부에 고정된 펄스 모터(38)로 구성된다. 펄스 모터(38)를 펄스 구동하면, 볼나사(36)가 회전하고, 이동 베이스(18)의 내부에 수용된 볼나사(36)의 너트를 개재하여 이동 베이스(18)가 상하 방향으로 이동한다.
수평 하우징 부분(6)의 오목부(10)에는 척 테이블(40)이 배치되어 있다. 척 테이블(40)은 도시하지 않은 척 테이블 이동 기구에 의해 Y축 방향으로 이동한다. 44, 46은 벨로우즈이다. 척 테이블(40)에 인접하여, 절삭중인 피가공물 및 바이트 휠(30)을 향해 절삭수를 공급하는 절삭수 공급 노즐(42)이 배치되어 있다.
하우징(4)의 수평 하우징 부분(6)에는, 제1 카세트(48)와, 제2 카세트(50)와, 피가공물 반송 로봇(52)과, 복수의 위치 결정핀(56)을 갖는 임시 거치 테이블(54)과, 임시 거치 테이블(54)로부터 피가공물을 척 테이블(40) 상에 반입하는 피가공물 반입 수단(58)과, 척 테이블(40)로부터 피가공물을 반출하는 피가공물 반출 수단(60)과, 세정 유닛(62)이 배치되어 있다. 또한, 하우징(4)의 전방에는 오퍼레이터가 절삭 가공 조건 등을 입력하는 조작 패널(64)이 설치되어 있다.
수평 하우징 부분(6)에는, 오목부(10)를 걸치도록 하여 게이트형 프레임(70)이 배치되어 있고, 게이트형 프레임(70)의 아래쪽 공간을 척 테이블(40)이 통과할 수 있게 되어 있다.
게이트형 프레임(70)에는, 제1 높이 위치 검출기(72)와 제2 높이 위치 검출기(74)가 부착되어 있다. 제1 및 제2 높이 위치 검출기(72, 74)는 각각 선단에 접촉침을 가지며, 예컨대 제1 높이 위치 검출기(72)로 척 테이블(40)의 유지면의 높이 위치를 검출하고, 제2 높이 위치 검출기(74)로 척 테이블(40)에 유지된 피가공물의 상면 높이 위치를 검출한다.
도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 게이트형 프레임(70)에는, 제2 높이 위치 검출기(74)의 접촉침(74a)을 향해 냉각수를 공급하는 냉각수 공급 노즐(78)이 부착되어 있다. 마찬가지로, 제1 높이 위치 검출기(72)의 접촉침을 향해 냉각수를 공급하는 냉각수 공급 노즐(76)도 게이트형 프레임(70)에 부착되어 있다.
냉각수 공급 노즐(76, 78)은 냉각수 공급원(80)에 접속되어 있다. 냉각수 공급 노즐(76, 78)로부터는 바이트 절삭 장치(2)의 가동중에 제1 및 제2 높이 위치 검출기(72, 74)의 접촉침을 향해 항상 냉각수(79)가 공급되고 있다.
이상과 같이 구성된 바이트 절삭 장치(2)의 절삭 작업에 관해 이하에 설명한다. 제1 카세트(48) 내에 수용된 피가공물은, 피가공물 반송 로봇(52)의 상하 동작 및 진퇴 동작에 의해 반송되어, 임시 거치 테이블(54) 상에 배치된다.
임시 거치 테이블(54) 상에 배치된 피가공물은, 복수의 위치 결정핀(56)에 의해 중심 맞춤이 행해진 후에, 피가공물 반입 수단(58)의 선회 동작에 의해, 피가공물 반입ㆍ반출 영역에 위치되어 있는 척 테이블(40) 상에 배치되어, 척 테이블(40)에 의해 흡인 유지된다.
이어서, 척 테이블(40)을 제1 및 제2 높이 위치 검출기(72, 74)의 아래쪽으로 이동시켜, 제1 높이 위치 검출기(72)로 척 테이블(40)의 유지면의 높이 위치와 면이 일치하는 프레임의 상면 위치를 검출하고, 제2 높이 위치 검출기(74)로 피가공물의 상면 높이 위치를 검출한다.
그리고, 피가공물의 상면 높이 위치로부터 척 테이블(40)의 유지면의 상면 높이 위치를 감산함으로써, 피가공물의 두께를 산출한다. 또한, 척 테이블의 유지면의 높이 위치의 검출은 셋업시에 한번 실시하면, 피가공물마다 실시할 필요는 없다.
이 높이 위치 검출 단계에서는, 냉각수 공급 노즐(76, 78)로부터 항상 냉각수가 접촉침을 향해 분출되고 있기 때문에, 바이트 절삭 장치(2)의 가동에 따른 발열이나 실온의 온도 변화에 따라 높이 위치 검출기(72, 74)가 열팽창하는 것이 방지되어, 정확하게 척 테이블(40)의 유지면의 높이 위치 및 피가공물의 상면 높이 위치를 검출할 수 있다.
피가공물의 두께는 피가공물의 상면 높이 위치로부터 척 테이블(40)의 유지면의 높이 위치를 감산함으로써 산출되고, 산출된 피가공물의 두께를 기초로, 척 테이블(40)에 유지된 피가공물의 목표 절삭 높이를 설정한다.
목표 절삭 높이를 설정한 후, 도 1에서 척 테이블 이동 기구를 구동하여 척 테이블(40)을 Y축 방향에서 깊이측(우측)까지 이동시킨 후, 바이트 절삭 유닛 이송 기구(34)를 구동하여 바이트 공구(32)의 절삭날을 설정한 목표 절삭 높이까지 이동시켜 피가공물을 절개한다.
그리고, Y축 방향 전방측으로 척 테이블(40)을 당기면서 척 테이블(40)에 유지된 피가공물의 선회 절삭을 실시한다. 절삭 가공은 절삭액 공급 노즐(42)로부터 절삭액을 공급하면서 실시된다.
절삭 가공 종료후, 필요에 따라서 척 테이블(40)을 제1 및 제2 높이 검출기(72, 74)에 대향하는 위치까지 되돌려, 제2 높이 위치 검출기(74)로 절삭후의 피가공물의 높이 위치를 검출하여, 피가공물이 원하는 두께까지 절삭되었는지의 여부를 확인한다.
이상 상세하게 설명한 바와 같이, 본 발명의 바이트 절삭 방법에서는, 제1 및 제2 높이 위치 검출기(72, 74)의 접촉침을 항상 냉각시키고 있기 때문에, 바이트 절삭 장치(2)의 가동에 따른 발열이나 실온의 온도 변화에 따라 제1 및 제2 높이 위치 검출기(72, 74)가 열팽창하는 것이 방지되어, 정확하게 피가공물의 상면 높이 위치를 검출하여 피가공물을 원하는 두께로 절삭할 수 있다.
2 : 바이트 절삭 장치 16 : 바이트 절삭 유닛
30 : 바이트 휠 32 : 바이트 공구
40 : 척 테이블 72 : 제1 높이 위치 검출기
74 : 제2 높이 위치 검출기 74a : 접촉침
76, 78 : 냉각수 공급 노즐

Claims (1)

  1. 절삭날을 갖는 바이트 절삭 수단으로 피가공물을 절삭하는 바이트 절삭 방법으로서,
    피가공물을 척 테이블로 유지하는 유지 단계와,
    상기 유지 단계를 실시한 후, 접촉침을 갖는 높이 위치 검출 수단으로 상기 척 테이블의 유지면의 높이 위치 및 상기 척 테이블에 유지된 피가공물의 상면 높이 위치를 검출하여, 피가공물의 두께를 산출하는 피가공물 두께 산출 단계와,
    상기 접촉침에 냉각수를 항상 공급하는 냉각수 공급 단계와,
    상기 피가공물 두께 산출 단계를 실시한 후, 상기 피가공물의 상면 높이 위치에 기초하여 바이트 절삭 수단의 절삭날을 정해진 높이에 위치시키고, 상기 절삭날을 회전시키고 상기 바이트 절삭 수단과 상기 척 테이블을 수평 방향으로 상대 이동시켜, 피가공물의 상면을 상기 바이트 절삭 수단으로 선회 절삭하는 절삭 단계
    를 포함한 것을 특징으로 하는 바이트 절삭 방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104551253A (zh) * 2014-11-14 2015-04-29 湖北永金精密机械设备股份有限公司 法兰油槽专机

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5945182B2 (ja) * 2012-07-23 2016-07-05 株式会社ディスコ バイト切削装置
JP5921373B2 (ja) * 2012-07-27 2016-05-24 株式会社ディスコ バイト切削装置
JP2016078214A (ja) * 2014-10-22 2016-05-16 株式会社ディスコ バイト切削装置
EP3374128B1 (en) 2015-11-10 2020-12-30 ABB Schweiz AG A method and system for machining, and a robot system
JP6751301B2 (ja) * 2016-03-14 2020-09-02 株式会社ディスコ 研削装置
CN111376052A (zh) * 2018-12-27 2020-07-07 云南全控机电有限公司 一种径向垂直旋转的加工设备
JP7237421B2 (ja) * 2019-01-11 2023-03-13 株式会社ディスコ 被加工物の加工方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63256359A (ja) * 1987-04-10 1988-10-24 Sumitomo Electric Ind Ltd 研削寸法測定装置
JPS63256358A (ja) * 1987-04-10 1988-10-24 Sumitomo Electric Ind Ltd 研削寸法測定装置
KR100303396B1 (ko) * 1998-05-26 2001-11-30 윤종용 반도체장치제조용웨이퍼그라인딩장치
US6861619B1 (en) * 2000-02-07 2005-03-01 Therma-Wave, Inc. Method and apparatus for preparing semiconductor wafers for measurement
JP2004319697A (ja) * 2003-04-15 2004-11-11 Disco Abrasive Syst Ltd 板状物に形成された電極の加工装置
KR20050007820A (ko) * 2003-07-11 2005-01-21 삼성전자주식회사 웨이퍼 처리 시스템
JP4769048B2 (ja) * 2005-08-23 2011-09-07 株式会社ディスコ 基板の加工方法
JP4847070B2 (ja) * 2005-08-26 2011-12-28 株式会社岡本工作機械製作所 二点式インプロセスゲ−ジ機器を備える基板研削装置
JP2009054920A (ja) * 2007-08-29 2009-03-12 Disco Abrasive Syst Ltd 半導体ウェーハの加工方法
JP5335250B2 (ja) * 2008-01-29 2013-11-06 株式会社ディスコ ウエーハの切削加工方法
CN101407040A (zh) * 2008-11-11 2009-04-15 广东工业大学 一种带有研磨盘冷却机构的平面研磨机
DE102009047926A1 (de) * 2009-10-01 2011-04-14 Siltronic Ag Verfahren zum Polieren von Halbleiterscheiben
JP5119297B2 (ja) * 2010-06-30 2013-01-16 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104551253A (zh) * 2014-11-14 2015-04-29 湖北永金精密机械设备股份有限公司 法兰油槽专机

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Publication number Publication date
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