JP2016207820A - ウエーハの加工方法 - Google Patents
ウエーハの加工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016207820A JP2016207820A JP2015087406A JP2015087406A JP2016207820A JP 2016207820 A JP2016207820 A JP 2016207820A JP 2015087406 A JP2015087406 A JP 2015087406A JP 2015087406 A JP2015087406 A JP 2015087406A JP 2016207820 A JP2016207820 A JP 2016207820A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- adhesive tape
- cutting
- axis direction
- division line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 claims abstract description 61
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 101
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 6
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 121
- 239000002173 cutting fluid Substances 0.000 description 14
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 8
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 3
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 229910009372 YVO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Dicing (AREA)
Abstract
【解決手段】ウエーハWの加工方法において、紫外線を照射すると硬化する粘着層Tcを表面Taに備えた粘着テープTにウエーハWの裏面Wbを貼着すると共にウエーハWを収容する開口部を備えたフレームFを粘着テープTの外周に貼着する粘着テープ貼着工程と、粘着テープTの裏面Tbから分割予定ラインSに対応する領域S2に紫外線を照射して分割予定ラインSに対応する領域S2の粘着層Teを硬化させる紫外線照射工程と、ウエーハの表面Waから切削ブレード63を分割予定ラインSに位置づけて切削しウエーハWを個々のデバイスDに分割する切削工程と、から少なくとも構成されるものとした。
【選択図】図6
Description
本発明に係るウエーハの加工方法により加工される図1に示すウエーハWは、例えば、外形が円形状の半導体ウエーハであり、ウエーハの表面Wa上には、例えば幅が約50μmの分割予定ラインSによって区画された格子状の領域に多数のデバイスDが形成されている。なお、ウエーハWの形状及び種類は、本実施形態に限定されるものではない。
粘着テープ貼着工程を行った後、粘着テープTの裏面Tbから分割予定ラインSに対応する領域に紫外線を照射して分割予定ラインSに対応する領域S2の粘着層Tcを硬化させる紫外線照射工程を行う。
光源 :YAGレーザーまたはYVO4レーザー
波長 :355nm(紫外光)
繰り返し周波数 :1kHz
平均出力 :1W
スポット径 :φ100μm
加工送り速度 :100mm/秒
スポット径は、分割予定ラインSに対応する領域S2の幅に応じて設定する。例えば、分割予定ラインSの幅と分割予定ラインSに対応する領域S2の幅とを等しくする場合は、分割予定ラインSの幅とスポット径とを等しくする。
紫外線照射工程を行った後、ウエーハWの表面Waから図7に示す切削装置1の切削ブレード63を分割予定ラインSに位置づけて切削しウエーハWを個々のデバイスDに分割する切削工程を行う。
13:仮置き領域 14:位置合わせ手段
15a:第一の搬送手段 15b:第二の搬送手段 16:洗浄手段
A:着脱領域 B:切削領域
17:アライメント手段 170:撮像手段
30:チャックテーブル 300:吸着部 300a:保持面 301:枠体
31:カバー 32:固定手段
6:切削手段 61:スピンドル 62:ハウジング
64:切削液ノズル 640:切削液流入口 65:ナット
63:切削ブレード 630:基台 631:切り刃
2:紫外線照射装置 20:基台
21:加工送り手段
210:ボールネジ 211:ガイドレール 212:モータ 213:可動板
22:インデックス送り手段 220:ボールネジ 221:ガイドレール
222:モータ 223:可動板
23:Y軸方向送り手段 230:ボールネジ 231:ガイドレール
232:モータ 233:可動板
24:Z軸方向移動手段
240:ボールネジ 241:ガイドレール 242:モータ 243:昇降部
245:壁部
40:チャックテーブル 400:吸着部 400a:保持面 401:枠体
41:カバー 42:固定手段 43:回転手段
8:紫外線照射手段(紫外光レーザー照射手段) 80:ハウジング 81:集光器
81a:集光レンズ 82:紫外光レーザー発振器
9:アライメント手段 90:赤外線カメラ
W:ウエーハ Wa:ウエーハの表面 Wb:ウエーハの裏面
S:分割予定ライン S1:はみ出した領域 S2:分割予定ラインに対応する領域 D:デバイス F:リングフレーム
T:粘着テープ Ta:粘着テープの表面 Tb:粘着テープの裏面 Tc:粘着層
Td:基材層
U:紫外光レーザー(紫外線)
A:着脱領域 B:切削領域
Claims (2)
- 複数のデバイスが分割予定ラインによって区画され表面に形成されたウエーハを個々のデバイスに分割するウエーハの加工方法であって、
紫外線を照射すると硬化する粘着層を表面に備えた粘着テープにウエーハの裏面を貼着すると共にウエーハを収容する開口部を備えたフレームを該粘着テープの外周に貼着する粘着テープ貼着工程と、
該粘着テープの裏面から分割予定ラインに対応する領域に紫外線を照射して分割予定ラインに対応する領域の粘着層を硬化させる紫外線照射工程と、
ウエーハの表面から切削ブレードを分割予定ラインに位置づけて切削しウエーハを個々のデバイスに分割する切削工程と、
から少なくとも構成されるウエーハの加工方法。 - 前記紫外線照射工程において、前記粘着テープの裏面から分割予定ラインに対応する領域に沿って紫外光レーザーを照射して粘着層を硬化させる請求項1記載のウエーハの加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015087406A JP2016207820A (ja) | 2015-04-22 | 2015-04-22 | ウエーハの加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015087406A JP2016207820A (ja) | 2015-04-22 | 2015-04-22 | ウエーハの加工方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016207820A true JP2016207820A (ja) | 2016-12-08 |
Family
ID=57490420
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015087406A Pending JP2016207820A (ja) | 2015-04-22 | 2015-04-22 | ウエーハの加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2016207820A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110571191A (zh) * | 2018-06-06 | 2019-12-13 | 株式会社迪思科 | 晶片的加工方法 |
CN112447560A (zh) * | 2020-11-30 | 2021-03-05 | 青岛歌尔微电子研究院有限公司 | 一种切割辅助装置、芯片封装结构的切割方法、以及电子器件 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08274048A (ja) * | 1995-03-31 | 1996-10-18 | Sony Corp | チップ部材の製造方法 |
JP2004047770A (ja) * | 2002-07-12 | 2004-02-12 | Sony Corp | ウエーハのダイシング方法 |
JP2006165278A (ja) * | 2004-12-08 | 2006-06-22 | Canon Inc | ウエハのダイシング方法および液体吐出ヘッド |
JP2006165359A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Canon Inc | ウエハのダイシング方法および液体吐出ヘッド |
JP2006222142A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Renesas Technology Corp | 半導体素子の製造方法 |
US20110155297A1 (en) * | 2004-12-06 | 2011-06-30 | Qimonda Ag | Method of applying an adhesive layer on thincut semiconductor chips of a semiconductor wafer |
-
2015
- 2015-04-22 JP JP2015087406A patent/JP2016207820A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08274048A (ja) * | 1995-03-31 | 1996-10-18 | Sony Corp | チップ部材の製造方法 |
JP2004047770A (ja) * | 2002-07-12 | 2004-02-12 | Sony Corp | ウエーハのダイシング方法 |
US20110155297A1 (en) * | 2004-12-06 | 2011-06-30 | Qimonda Ag | Method of applying an adhesive layer on thincut semiconductor chips of a semiconductor wafer |
JP2006165278A (ja) * | 2004-12-08 | 2006-06-22 | Canon Inc | ウエハのダイシング方法および液体吐出ヘッド |
JP2006165359A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Canon Inc | ウエハのダイシング方法および液体吐出ヘッド |
JP2006222142A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Renesas Technology Corp | 半導体素子の製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110571191A (zh) * | 2018-06-06 | 2019-12-13 | 株式会社迪思科 | 晶片的加工方法 |
CN110571191B (zh) * | 2018-06-06 | 2024-03-15 | 株式会社迪思科 | 晶片的加工方法 |
CN112447560A (zh) * | 2020-11-30 | 2021-03-05 | 青岛歌尔微电子研究院有限公司 | 一种切割辅助装置、芯片封装结构的切割方法、以及电子器件 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102336955B1 (ko) | 웨이퍼의 가공 방법 | |
JP5436917B2 (ja) | レーザー加工装置 | |
JP4342992B2 (ja) | レーザー加工装置のチャックテーブル | |
TW201005815A (en) | Wafer treating method | |
JP5604186B2 (ja) | 加工装置 | |
TW201626447A (zh) | 晶圓之加工方法 | |
JP6719825B2 (ja) | 研削装置及びウェーハの加工方法 | |
KR20160146537A (ko) | 웨이퍼의 가공 방법 | |
JP2013207170A (ja) | デバイスウェーハの分割方法 | |
KR102084269B1 (ko) | 레이저 가공 장치 및 보호막 피복 방법 | |
JP2016147342A (ja) | 加工装置のチャックテーブル | |
JP2014078569A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
KR20140136875A (ko) | 레이저 가공 장치 | |
JP5495869B2 (ja) | レーザー加工溝の確認方法 | |
CN110303607B (zh) | 切削装置 | |
JP2020120029A (ja) | チャックテーブル | |
JP2016207820A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
CN110620076A (zh) | 带扩展装置 | |
CN111415863B (zh) | 晶片的加工方法 | |
CN108074849B (zh) | 搬送装置、加工装置和搬送方法 | |
JP2013000777A (ja) | レーザー加工装置 | |
JP2018014370A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2005066675A (ja) | レーザー加工方法 | |
JP2013021211A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2019021703A (ja) | 板状の被加工物の切断方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180221 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190117 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20190627 |