KR20130081193A

KR20130081193A - 화상 처리 장치 및 방법, 지정 마크 추정 장치 및 방법, 및 기억 매체

Info

Publication number: KR20130081193A
Application number: KR1020120092391A
Authority: KR
Inventors: 고이치 사토; 료코 하시모토; 모힛 자인
Original assignee: 후지제롯쿠스 가부시끼가이샤
Priority date: 2012-01-06
Filing date: 2012-08-23
Publication date: 2013-07-16
Also published as: KR101672389B1; JP6089401B2; CN103218801A; CN103218801B; US9098946B2; AU2012209028B2; US20130176605A1; AU2012209028A1; JP2013143594A

Abstract

본 발명의 화상 처리 장치는, 화상이 기록되는 기록 영역 내의 영역을, 각각 상기 화상의 속성과 상이한 미리 정해진 속성을 가짐과 함께 상기 기록 영역에 기록됨으로써 상이한 지정 방법으로 지정하는 미리 정해진 복수 종류의 지정 마크 중의 적어도 하나가 기록된 기록 영역을 나타내는 기록 영역 화상으로부터, 처리 대상으로 하는 지정 마크에 상당하는 지정 마크 화상 추출하고, 추출한 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하는 추정 수단과; 상기 추정 수단에 의해 추정된 종류의 지정 마크에 의해 지정된 영역을, 상기 추정 수단에 의해 추정된 종류의 지정 마크에 대하여 일의로 정해진 은폐 방법으로 은폐하는 은폐 수단을 갖는다.

Description

화상 처리 장치 및 방법, 지정 마크 추정 장치 및 방법, 및 기억 매체{IMAGE PROCESSING APPARATUS AND METHOD, DESIGNATED MARK ESTIMATION APPARATUS AND METHOD, AND STORAGE MEDIUM}

본 발명은 화상 처리 장치 및 방법, 지정 마크 추정 장치 및 방법, 및 기억 매체에 관한 것이다.

일본국 특개평10-91768호 공보에는, 문자 인식을 행함으로써 문자의 영역 정보에 대한 은폐용 마커의 굵기로서 적절한 굵기를 설정하는 기술이 개시되어 있다.

일본국 특개평7-203180호 공보에는, 원고 영역으로부터 마킹 영역까지의 임의의 폭량(幅量)을 지정하고, 지정된 폭량에 의거하여 화상 처리에 따른 사각형 영역을 설정하는 화상 처리 장치가 개시되어 있다.

일본국 특개2006-133960호 공보에는, 추기(追記) 화상이 선(線) 화상 또는 폐 루프 화상이며, 추기 화상에 대한 외접 사각형에 의해 둘러싸인 영역에 관한 소정 처리를 실시하는 화상 처리 장치가 개시되어 있다.

일본국 특개평10-91768호 공보 일본국 특개평7-203180호 공보 일본국 특개2006-133960호 공보

본 발명의 과제는 의도하는 영역을 고(高)정밀도로 은폐하는 화상 처리 장치 및 방법, 지정 마크 추정 장치 및 방법과, 기억 매체를 제공하는 것이다.

본 발명의 제 1 방안에 의하면, 화상이 기록되는 기록 영역 내의 영역을, 각각 상기 화상의 속성과 상이한 미리 정해진 속성을 가짐과 함께 상기 기록 영역에 기록됨으로써 상이한 지정 방법으로 지정하는 미리 정해진 복수 종류의 지정 마크 중의 적어도 하나가 기록된 기록 영역을 나타내는 기록 영역 화상으로부터, 처리 대상으로 하는 지정 마크에 상당하는 지정 마크 화상을 추출하고, 추출한 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하는 추정 수단과, 상기 추정 수단에 의해 추정된 종류의 지정 마크에 의해 지정된 영역을, 상기 추정 수단에 의해 추정된 종류의 지정 마크에 대하여 일의(一意)로 정해진 은폐 방법으로 은폐하는 은폐 수단을 갖는 화상 처리 장치가 제공된다.

본 발명의 제 2 방안에 의하면, 상기 화상 처리 장치에 있어서, 상기 복수 종류의 지정 마크는, 상기 기록 영역에 기록됨으로써 칠해진 영역의 외접 사각형 프레임에 상당하는 프레임으로 둘러싸인 영역을 지정 영역으로 하는 선분 형상 마크, 상기 기록 영역에 기록됨으로써 둘러싸인 영역의 외접 사각형 프레임에 상당하는 프레임으로 둘러싸인 영역을 지정 영역으로 하는 곡선 프레임 형상 마크, 및 상기 기록 영역에 기록됨으로써 둘러싸인 영역에 상당하는 영역에 내포된 영역을 지정 영역으로 하는 다각형 프레임 형상 마크 중 적어도 2 개를 포함한다.

본 발명의 제 3 방안에 의하면, 상기 화상 처리 장치는, 상기 기록 영역 화상으로부터, 상기 속성에 의거하여 상기 지정 마크 화상을 추출하는 추출 수단과, 상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 지정 마크 화상 중의 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 외접 프레임에 대하여 일의로 정해짐과 함께 상기 외접 프레임을 가장자리를 취하지 않고 상기 외접 프레임에 내포되는 피내포 프레임을 형성하는 형성 수단을 더 갖고, 상기 추정 수단이, 상기 형성 수단에 의해 형성된 상기 피내포 프레임 내에 있어서의 상기 지정 마크 화상의 점유율에 의거하여 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정한다.

본 발명의 제 4 방안에 의하면, 화상이 기록되는 기록 영역 내의 영역을, 각각 상기 화상의 속성과 상이한 미리 정해진 속성을 가짐과 함께 상기 기록 영역에 기록됨으로써 상이한 지정 방법으로 지정하고, 상기 기록 영역에 기록됨으로써 칠해진 영역의 외접 사각형 프레임에 상당하는 프레임으로 둘러싸인 영역을 지정 영역으로 하는 선분 형상 마크, 상기 기록 영역에 기록됨으로써 둘러싸인 영역의 외접 사각형 프레임에 상당하는 프레임으로 둘러싸인 영역을 지정 영역으로 하는 곡선 프레임 형상 마크, 및 상기 기록 영역에 기록됨으로써 둘러싸인 영역에 상당하는 영역에 내포된 영역을 지정 영역으로 하는 다각형 프레임 형상 마크 중 적어도 2 개를 포함해서 구성한 미리 정해진 복수 종류의 지정 마크 중의 적어도 하나가 기록된 기록 영역을 나타내는 기록 영역 화상으로부터, 처리 대상으로 하는 지정 마크에 상당하는 지정 마크 화상을 추출하는 추출 수단과, 상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하는 추정 수단을 갖는 지정 마크 추정 장치가 제공된다.

본 발명의 제 5 방안에 의하면, 상기 추출 수단이, 상기 기록 영역 화상으로부터, 상기 속성에 의거하여 상기 지정 마크 화상을 추출하고, 상기 지정 마크 추정 장치는, 상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 지정 마크 화상 중의 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 외접 프레임에 대해서 일의로 정해짐과 함께 상기 외접 프레임을 가장자리를 취하지 않고 상기 외접 프레임에 내포되는 피내포 프레임을 형성하는 형성 수단을 더 가지며, 상기 추정 수단이, 상기 형성 수단에 의해 형성된 상기 피내포 프레임 내에 있어서의 상기 지정 마크 화상의 점유율에 의거하여 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정한다.

본 발명의 제 6 방안에 의하면, 상기 형성 수단은, 상기 피내포 프레임을 상기 외접 프레임의 중앙부에 위치하도록 형성한다.

본 발명의 제 7 방안에 의하면, 상기 지정 마크 화상을, 연속하는 특정 색의 상이한 선 화상으로 한다.

본 발명의 제 8 방안에 의하면, 상기 다각형 프레임 형상 마크는, 다른 지정 마크와는 상이한 지정 마크인 것을 나타내는 자타 식별 마크를 내포한다.

본 발명의 제 9 방안에 의하면, 상기 복수 종류의 지정 마크 중 하나를, 사각형 프레임을 규정하는 한쪽의 대각선에 상당함과 함께 상기 사각형 프레임으로 둘러싼 영역을 지정 영역으로 하는 사선 마크로 하고, 상기 지정 마크 추정 장치는:상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상의 윤곽에 상당하는 선을 미리 정해진 길이의 선분 단위로 분절(分節)하는 분절 수단과; 상기 분절 수단에 의해 분절되어서 얻어진 각 선분의 미리 정해진 기준선에 대한 각도와 미리 정해진 기준 경사선의 상기 기준선에 대한 각도의 근사도의 총합을 도출하는 도출 수단을 더 갖고, 상기 추정 수단이, 또한 상기 도출 수단에 의해 도출된 상기 총합이 임계값 이상일 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크인 것으로 추정하고, 상기 도출 수단에 의해 도출된 상기 총합이 상기 임계값 이상이 아닐 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크 이외의 지정 마크인 것으로 추정한다.

본 발명의 제 10 방안에 의하면, 상기 복수 종류의 지정 마크 중 하나를, 사각형 프레임을 규정하는 한쪽의 대각선에 상당함과 함께 상기 사각형 프레임으로 둘러싼 영역을 지정 영역으로 하는 사선 마크로 하고, 상기 지정 마크 추정 장치는: 상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 철포(凸包: convex closure)를 형성하는 철포 형성 수단을 더 갖고, 상기 추정 수단이, 또한 상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 외접 사각형 프레임 내에 있어서의 상기 철포 형성 수단에 의해 형성된 철포의 점유율이 임계값 이상인 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크인 것으로 추정하며, 상기 점유율이 상기 임계값 이상이 아닐 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크 이외의 지정 마크인 것으로 추정한다.

본 발명의 제 11 방안에 의하면, 컴퓨터에 처리를 실행시키는 프로그램을 저장한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체로서, 상기 처리는: 화상이 기록되는 기록 영역 내의 영역을, 각각 상기 화상의 속성과 상이한 미리 정해진 속성을 가짐과 함께 상기 기록 영역에 기록됨으로써 상이한 지정 방법으로 지정하는 미리 정해진 복수 종류의 지정 마크 중의 적어도 하나가 기록된 기록 영역을 나타내는 기록 영역 화상으로부터, 처리 대상으로 하는 지정 마크에 상당하는 지정 마크 화상을 추출하고, 추출한 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하는 공정과; 추정된 종류의 지정 마크에 의해 지정된 영역을, 추정된 종류의 지정 마크에 대하여 일의로 정해진 은폐 방법으로 은폐하는 공정을 갖는 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체가 제공된다.

본 발명의 제 12 방안에 의하면, 컴퓨터에 처리를 실행시키는 프로그램을 저장한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체로서, 상기 처리는: 화상이 기록되는 기록 영역 내의 영역을, 각각 상기 화상의 속성과 상이한 미리 정해진 속성을 가짐과 함께 상기 기록 영역에 기록됨으로써 상이한 지정 방법으로 지정하고, 상기 기록 영역에 기록됨으로써 칠해진 영역의 외접 사각형 프레임에 상당하는 프레임으로 둘러싸인 영역을 지정 영역으로 하는 선분 형상 마크, 상기 기록 영역에 기록됨으로써 둘러싸인 영역의 외접 사각형 프레임에 상당하는 프레임으로 둘러싸인 영역을 지정 영역으로 하는 곡선 프레임 형상 마크, 및 상기 기록 영역에 기록됨으로써 둘러싸인 영역에 상당하는 영역에 내포된 영역을 지정 영역으로 하는 다각형 프레임 형상 마크 중 적어도 2 개를 포함해서 구성한 미리 정해진 복수 종류의 지정 마크 중의 적어도 하나가 기록된 기록 영역을 나타내는 기록 영역 화상으로부터, 처리 대상으로 하는 지정 마크에 상당하는 지정 마크 화상을 추출하는 공정과; 추출된 상기 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하는 공정을 갖는 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체가 제공된다.

상기 제 1, 4, 11, 12 방안에 의하면, 화상이 기록되는 기록 영역 내의 영역을, 각각 화상의 속성과 상이한 미리 정해진 속성을 가짐과 함께 기록 영역에 기록됨으로써 상이한 지정 방법으로 지정하는 미리 정해진 복수 종류의 지정 마크 중의 적어도 하나가 기록된 기록 영역을 나타내는 기록 영역 화상으로부터, 처리 대상으로 하는 지정 마크에 상당하는 지정 마크 화상을 추출하고, 추출한 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하는 구성을 갖지 않을 경우에 비해, 의도하는 영역이 고정밀도로 은폐된다.

상기 제 2 방안에 의하면, 복수 종류의 지정 마크가, 기록 영역에 기록됨으로써 칠해진 영역의 외접 사각형 프레임에 상당하는 프레임으로 둘러싸인 영역을 지정 영역으로 하는 선분 형상 마크, 기록 영역에 기록됨으로써 둘러싸인 영역의 외접 사각형 프레임에 상당하는 프레임으로 둘러싸인 영역을 지정 영역으로 하는 곡선 프레임 형상 마크, 및 기록 영역에 기록됨으로써 둘러싸인 영역에 상당하는 영역에 내포된 영역을 지정 영역으로 하는 다각형 프레임 형상 마크 중 적어도 2 개를 포함하는 구성을 갖지 않을 경우에 비해, 은폐 대상으로서 의도하는 영역이 고정밀도로 지정된다.

상기 제 3 방안에 의하면, 기록 영역 화상으로부터, 속성에 의거하여 지정 마크 화상을 추출하고, 추출된 지정 마크 화상 중의 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 외접 프레임에 대하여 일의로 정해짐과 함께 외접 프레임을 가장자리를 취하지 않고 외접 프레임에 내포되는 피내포 프레임을 형성하고, 형성된 피내포 프레임 내에 있어서의 지정 마크 화상의 점유율에 의거하여 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하는 구성을 갖지 않을 경우에 비해, 의도하는 영역이 한층 더 고정밀도로 은폐된다.

상기 제 5 방안에 의하면, 기록 영역 화상으로부터, 속성에 의거하여 지정 마크 화상을 추출하고, 추출된 지정 마크 화상 중의 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 외접 프레임에 대하여 일의로 정해짐과 함께 외접 프레임을 가장자리를 취하지 않고 외접 프레임에 내포되는 피내포 프레임을 형성하고, 형성된 피내포 프레임 내에 있어서의 지정 마크 화상의 점유율에 의거하여 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하는 구성을 갖지 않을 경우에 비해, 지정 마크의 종류가 고정밀도로 추정된다.

상기 제 6 방안에 의하면, 피내포 프레임을 상기 외접 프레임의 중앙부에 위치하도록 형성하는 구성을 갖지 않을 경우에 비해, 간이한 구성이면서도 지정 마크의 종류가 고정밀도로 추정된다.

상기 제 7 방안에 의하면, 지정 마크 화상을, 연속하는 특정 색의 상이한 선 화상으로 한 구성을 갖지 않을 경우에 비해, 기록 영역으로부터 지정 마크 화상이 간편하며, 또한 고정밀도로 추출된다.

상기 제 8 방안에 의하면, 다각형 프레임 형상 마크가, 다른 지정 마크와는 상이한 지정 마크인 것을 나타내는 자타 식별 마크를 내포하는 구성을 갖지 않을 경우에 비해, 선분 형상 마크, 곡선 프레임 형상 마크 및 다각형 프레임 형상 마크가 고정밀도로 추정된다.

상기 제 9 방안에 의하면, 복수 종류의 지정 마크 중 하나를, 사각형 프레임을 규정하는 한쪽의 대각선에 상당함과 함께 사각형 프레임으로 둘러싼 영역을 지정 영역으로 하는 사선 마크로 하고, 추출된 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상의 윤곽에 상당하는 선을 미리 정해진 길이의 선분 단위로 분절하고, 분절되어 얻어진 각 선분의 미리 정해진 기준선에 대한 각도와 미리 정해진 기준 경사선의 기준선에 대한 각도의 근사도의 총합을 도출하고, 도출된 총합이 임계값 이상일 경우에 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 사선 마크인 것으로 추정하고, 도출된 총합이 상기 임계값 이상이 아닐 경우에 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 사선 마크 이외의 지정 마크인 것으로 추정하는 구성을 갖지 않을 경우에 비해, 사선 마크에 의한 지정인지의 여부가 고정밀도로 추정된다.

상기 제 10 방안에 의하면, 복수 종류의 지정 마크 중 하나를, 사각형 프레임을 규정하는 한쪽의 대각선에 상당함과 함께 사각형 프레임으로 둘러싼 영역을 지정 영역으로 하는 사선 마크로 하고, 추출된 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 철포를 형성하며, 또한 추출된 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 외접 사각형 프레임 내에 있어서의 철포의 점유율이 임계값 이상인 경우에 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 사선 마크인 것으로 추정하고, 점유율이 임계값 이상이 아닐 경우에 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 사선 마크 이외의 지정 마크인 것으로 추정하는 구성을 갖지 않을 경우에 비해, 사선 마크에 의한 지정인지의 여부가 고정밀도로 추정된다.

도 1은 제 1 실시형태에 따른 화상 처리 장치 및 화상 판독 장치의 구성의 일례를 나타내는 구성도.
도 2는 제 1 실시형태에 따른 화상 처리 장치의 전기계의 요부 구성의 일례를 나타내는 블록도.
도 3은 은폐 대상 영역의 종래의 지정 방법(그 1)을 나타내는 모식도.
도 4는 은폐 대상 영역의 종래의 지정 방법(그 2)을 나타내는 모식도.
도 5는 은폐 대상 영역의 종래의 지정 방법(그 3)을 나타내는 모식도.
도 6은 제 1 실시형태에 따른 화상 처리 장치에 의해 은폐 처리를 실시하기 위해 이용되는 지정 방법(그 1)을 설명하기 위한 도면.
도 7은 제 1 실시형태에 따른 화상 처리 장치에 의해 은폐 처리를 실시하기 위해 이용되는 지정 방법(그 2)을 설명하기 위한 도면.
도 8은 제 1 실시형태에 따른 화상 처리 장치에 의해 은폐 처리를 실시하기 위해 이용되는 지정 방법(그 3)을 설명하기 위한 도면.
도 9는 제 1 실시형태에 따른 화상 처리 장치에 의해 은폐 처리를 실시하기 위해 이용되는 지정 방법(그 4)을 설명하기 위한 도면.
도 10은 제 1 실시형태에 따른 은폐 처리 프로그램의 처리의 흐름의 일례를 나타내는 플로차트.
도 11은 제 1 실시형태에 따른 경사 근사도 도출 그래프의 일례를 나타내는 도면.
도 12는 제 1 실시형태에 따른 프레임 이용 추정 처리 프로그램의 처리의 흐름의 일례를 나타내는 플로차트.
도 13은 제 1 실시형태에 따른 화상 처리 장치에 의해 은폐 처리를 실시하기 위해 이용되는 지정 마크(그 1)에 대한 외접 프레임 및 피내포 프레임의 일례를 나타내는 모식도.
도 14는 제 1 실시형태에 따른 화상 처리 장치에 의해 은폐 처리를 실시하기 위해 이용되는 지정 마크(그 2)에 대한 외접 프레임 및 피내포 프레임의 일례를 나타내는 모식도.
도 15는 제 1 실시형태에 따른 화상 처리 장치에 의해 은폐 처리를 실시하기 위해 이용되는 지정 마크(그 3)에 대한 외접 프레임 및 피내포 프레임의 일례를 나타내는 모식도.
도 16은 도 6에 나타내는 지정 방법에 의해 지정된 은폐 대상 영역이 은폐되었을 경우의 일례를 나타내는 도면.
도 17은 도 8에 나타내는 지정 방법에 의해 지정된 은폐 대상 영역이 은폐되었을 경우의 일례를 나타내는 도면.
도 18은 도 7에 나타내는 지정 방법에 의해 지정된 은폐 대상 영역이 은폐되었을 경우의 일례를 나타내는 도면.
도 19는 도 9에 나타내는 지정 방법에 의해 지정된 은폐 대상 영역이 은폐되었을 경우의 일례를 나타내는 도면.
도 20은 제 2 실시형태에 따른 은폐 처리 프로그램의 처리의 흐름의 일례를 나타내는 플로차트.
도 21은 제 2 실시형태에 따른 화상 처리 장치에 의해 은폐 처리를 실시하기 위해 이용되는 사선 마크에 대한 철포의 일례를 나타내는 모식도.
도 22는 제 2 실시형태에 따른 화상 처리 장치에 의해 은폐 처리를 실시하기 위해 이용되는 곡선 프레임 형상 마크에 대한 철포의 일례를 나타내는 모식도.
도 23은 제 2 실시형태에 따른 화상 처리 장치에 의해 은폐 처리를 실시하기 위해 이용되는 다각형 프레임 형상 마크에 대한 철포의 일례를 나타내는 모식도.
도 24는 실시형태에 따른 지정 마크 화상의 노이즈 제거 방법의 일례(그 1)의 설명에 제공되는 설명도.
도 25는 실시형태에 따른 지정 마크 화상의 노이즈 제거 방법의 일례(그 2)의 설명에 제공되는 설명도.
도 26는 실시형태에 따른 지정 마크 화상의 노이즈 제거 방법의 일례(그 3)의 설명에 제공되는 설명도.

이하, 도면을 참조해서 본 발명의 실시형태의 일례를 상세하게 설명한다.

[제 1 실시형태]

도 1에는 본 제 1 실시형태에 따른 화상 처리 장치(10)가 나타나 있다. 본 제 1 실시형태에서는, 화상 처리 장치(10)로서 퍼스널 컴퓨터를 적용하고 있다. 한편, 이에 한정하지 않고, 예를 들면 마이크로컴퓨터여도 되고, 후술하는 은폐 처리 프로그램을 실행하는 능력을 가진 컴퓨터를 구비한 것이라면 어떤 것이어도 된다.

도 1에 나타내는 바와 같이, 화상 처리 장치(10)에는 화상 판독 장치(11)가 접속되어 있다. 화상 판독 장치(11)는, 원고 반송부(12) 및 화상 판독부(14)를 구비하고 있다. 한편, 원고 반송부(12)와 화상 판독부(14)는 연결부(16)에 의해 연결되고, 원고 반송부(12)는 연결부(16)를 중심으로 하여 화상 판독부(14)와 접근 또는 이간하는 방향으로 회전 가능하게 되어 있으며, 원고 반송부(12)가 화상 판독부(14)와 이간하는 방향으로 회전되면 후술하는 플래튼 글래스(32)가 노출된다.

원고 반송부(12)는, 기록 영역에 화상이 기록된 원고(P)를 놓기 위한 원고대(20)를 구비하고 있으며, 원고대(20) 상에 놓여진 원고(P)는, 취출롤(22)에 의해 한 장씩 취출되어, 반송로(24)를 따라 송급된다. 반송로(24)를 따라 송급된 원고(P)는, 반송롤쌍(26)에 의해 화상 판독부(14)에 의한 원고 판독 위치까지 반송되고, 원고(P)의 한쪽 면에 기록된 화상이 화상 판독부(14)에 의해 판독된 후, 원고 판독 위치보다도 반송 방향 하류측에 설치된 배지(排紙)부(30)에 배지된다.

한편, 화상 판독부(14)는, 상면에 원고(P)를 두기 위한 투명한 플래튼 글래스(32)를 구비하고 있으며, 전술한 원고 판독 위치는 플래튼 글래스(32)의 상면에 위치하고 있다. 원고 판독 위치에 있어서의 플래튼 글래스(32)의 하측에는, 원고(P)의 표면을 향해서 조명광을 조사하는 광원(34)과, 원고(P)의 표면에서 반사된 반사광을 수광하는 제 1 반사 미러(36), 제 1 반사 미러(36)로부터 출사된 반사광의 진행 방향을 굴곡시키기 위한 제 2 반사 미러(38), 및 제 2 반사 미러(38)로부터 출사된 반사광의 진행 방향을 또 다른 방향으로 굴곡시키기 위한 제 3 반사 미러(40)가 설치되어 있다.

또한, 화상 판독부(14)에는, 렌즈(42)와, 수광면 상에 일렬로 배열된 다수 개의 광전 변환 센서를 구비한 광검출부(44)가 설치되어 있고, 화상 판독부(14)는, 제 3 반사 미러(40)에서 반사된 반사광을, 렌즈(42)에 의해 광검출부(44)의 수광면에 결상시킴으로써, 원고(P)의 표면에 기록된 화상을, 광검출부(44)에 의해 다수 개의 화소로 분할하고 또한 R, G, B 각 색 성분으로 분해해서 판독한다.

한편, 본 실시형태에서는 광원(34)으로서 형광 램프를 이용하고 있지만, 이에 한정되는 것이 아니라, 원고(P)의 반송 방향과 교차하는 방향을 따라 배열된 복수의 LED(Light Emitting Diode) 등의 다른 광원을 적용해도 된다. 또한, 본 제 1 실시형태에서는, 광검출부(44)로서 CCD(Charge Coupled Device) 라인 센서를 이용하고 있지만, 이에 한정되는 것이 아니라, CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor) 이미지 센서 등의 다른 고체 촬상 소자를 적용해도 된다.

또한, 본 제 1 실시형태에 따른 화상 판독 장치(10)는, 광원(34), 제 1 반사 미러(36), 제 2 반사 미러(38) 및 제 3 반사 미러(40)가 도 1의 화살표 A 방향(및 그 반대 방향)을 따라 이동된다. 이에 의해, 원고 반송부(12)가 화상 판독부(14)와 이간하는 방향으로 회전됨으로써, 노출된 플래튼 글래스(32)의 상면에 원고(P)가 놓아진 경우, 광원(34)으로부터 출사된 조명광을 원고(P)에 조사하면서, 화살표 A 방향을 따라 광원(34), 제 1 반사 미러(36), 제 2 반사 미러(38) 및 제 3 반사 미러(40)를 이동시킴으로써, 상기 원고(P)의 표면인 기록 영역(플래튼 글래스(32)의 상면에 접촉하고 있는 측의 면)에 기록된 화상이 기록 영역을 포함해서(원고(P)의 전면에 걸쳐서) 판독된다.

도 2에는 본 제 1 실시형태에 따른 화상 처리 장치(10)의 전기계의 요부 구성의 일례가 나타나 있다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 화상 처리 장치(10)는, 화상 처리 장치(10) 전체의 동작을 담당하는 CPU(Central Processing Unit: 중앙처리장치)(10A)와, CPU(10A)에 의한 각종 처리 프로그램의 실행 시의 워크 에어리어 등으로서 이용되는 RAM(Random Access Memory)(10B)과, 각종 제어 프로그램이나 각종 파라미터 등이 미리 기억된 ROM(Read Only Memory)(10C)과, 각종 정보를 기억하기 위해서 이용되는 기억 수단으로서의 2차 기억부(일례로서 하드디스크 장치)(10D)와, 각종 정보를 접수하는 접수부(일례로서 마우스 및 키보드)(10E)와, 각종 정보를 표시하는 표시부(일례로서 액정 디스플레이)(10F)와, 프린터(화상 형성 장치)나 퍼스널 컴퓨터(PC), 화상 판독 장치(11) 등의 외부 기기(여기서는 일례로서 화상 판독 장치(11))에 접속되어, 외부 기기로의 화상 정보의 송신이나 외부 기기와의 각종 정보의 송수신을 행하는 외부 인터페이스(10G)가 구비되어 있고, 이들 각 부는 어드레스 버스, 데이터 버스, 및 제어 버스 등의 버스(10H)를 통해 서로 전기적으로 접속되어 있다.

따라서, CPU(10A)는, RAM(10B), ROM(10C) 및 2차 기억부(10D)에 대한 액세스, 접수부(10E)를 통해 접수된 각종 정보의 취득, 표시부(10F)에 대한 각종 정보의 표시, 및 외부 인터페이스(10G)를 통한 화상 판독 장치(11)와의 각종 정보의 수수(授受)를 각각 행한다.

이렇게 구성된 화상 처리 장치(10)는, 원고(P)의 기록 영역에 기록된 화상을 나타내는 화상 정보에 대하여 각종 처리를 실시하는 기능을 갖고 있다. 예를 들면, 그 중의 하나로서, 화상 판독 장치(11)로부터 입력된 화상 정보에 의해 나타내지는 화상 내의 지정된 은폐해야 할 영역(이하, 「은폐 대상 영역」이라 한다.)에 대하여 은폐 처리를 실시하는 은폐 처리 기능을 들 수 있다. 여기서 말하는 「은폐」란, 은폐 대상 영역을 시인되지 않도록 특정 색으로 칠하는 은폐 이외에, 은폐 대상 영역의 일부가 시인되는 모양이나 무늬 등을 중첩한다는 의미도 포함한다.

화상 처리 장치(10)의 은폐 처리 기능을 동작시키는 전제로서, 우선, 원고(P)의 기록 영역에 기록된 화상에 있어서의 은폐 대상 영역이 지정되지 않으면 안 된다. 은폐 대상 영역을 지정하는 방법으로서는 예를 들면 도 3∼도 5에 나타내는 지정 방법이 알려져 있다. 즉, 도 3에 나타내는 지정 방법은, 은폐 대상 영역을 선분 형상의 마크(이하, 「선분 형상 마크」라고 한다.)에 의해서 지정하는 방법이다. 그러나, 이 지정 방법은 은폐 대상 영역이 몇 행에도 미치는 경우에는 몇 행도 선분 형상 마크를 기록하지 않으면 안되고, 은폐 대상 영역이 예를 들면 몇 백행, 몇 천행이 되면 방대한 시간이 걸린다. 도 4에 나타내는 지정 방법은, 다각형 프레임의 마크(이하, 「다각형 마크」라고 한다.)를 이용한 지정 방법이며, 다각형 마크로 둘러싼 영역이 은폐 대상 영역으로서 지정되어, 다각형 마크의 내측의 전 영역이 일례로서 도 4에 나타내는 바와 같이 칠해져 은폐된다. 다각형 마크를 이용한 지정 방법에 의하면, 경우에 따라서는 선분 형상 마크에 비해 은폐 대상 영역의 지정에 걸리는 시간이 경감된다. 그러나, 은폐 대상 영역으로서 의도하지 않은 영역이 은폐되는 경우가 있다. 도 5에 나타내는 지정 방법은, 다각형 마크로 둘러싼 영역을 포함하는 사각형 프레임 내의 전 영역을 은폐 대상 영역으로서 지정하는 방법이다. 이 경우도 의도하지 않은 영역이 은폐될 우려가 있다.

이에 대하여, 본 제 1 실시 형태에 따른 화상 처리 장치(10)를 이용할 경우, 우선, 유저가 각각 은폐 방법이 상이한 미리 정해진 복수 종류의 지정 방법으로부터 지정 방법을 선택하고, 선택한 지정 방법에 의해 원고(P)의 기록 영역에 포함되는 화상(은폐 대상이 될 수 있는 화상)으로부터 은폐 대상으로 하는 화상(이하, 「은폐 대상 화상」이라고 한다.)을 포함하는 은폐 대상 영역을 지정하는 것을 전제로 하고 있다. 즉, 은폐 대상 영역의 지정은, 각각 지정 방법이 상이한 미리 정해진 복수 종류의 지정 마크가 원고(P)의 기록 영역에 대하여 선택적으로 기록됨으로써 행해진다. 그리고, 화상 처리 장치(10)는, 유저에 의해 지정된 은폐 대상 영역을, 은폐 처리 기능을 동작시킴으로써, 지정 마크에 대하여 일의로 정해진 은폐 방법으로 은폐한다.

상기의 복수 종류의 지정 마크의 일례로서는, 각각 연속하는 특정 색(예를 들면 흑색)으로 형성된 상이한 선화를 들 수 있고, 구체적으로는 도 6∼도 9에 나타내는 지정 마크를 들 수 있다. 연속하는 선화로 한 것은, 불연속인 선화로 형성된 지정 마크에 비해, 간편하며 또한 고정밀도로 특정되기 때문이다. 그러나, 지정 마크를 문자 화상 위에 겹쳐서 기록했을 경우, 예를 들면 도 24에 나타내는 바와 같이 마커를 나타내는 화상(마커 화상)이 도중에 끊어지는 것이 상정된다. 이 경우는, 서로 이웃한 마커 화상이 서로 상위하지 않은 색(여기서는 일례로서 흑색)인 경우에 칠해서(노이즈 제거해서) 연속한 마커 화상(선 화상)으로 정형한다. 또한, 일례로서 도 25에 나타내는 바와 같이 프레임 형상의 지정 마크(여기서는 일례로서 타원 형상의 지정 마크)이더라도, 비백 생김이나 노이즈, 마커의 기록 방식에 의해 마커가 절단되는 것이 상정된다. 이 경우에는, 마커 화상을 팽창시켜서 절단된 부분을 결합하면 된다. 또한, 이 밖의 정형 방법(노이즈 제거 방법)으로서는, 일례로서 도 26에 나타내는 바와 같이, 최소 제곱법에 의해 2차원의 점열로 피트하는 최량의 타원을 계산하고, 타원을 피팅하고 나서 서로 겹친 타원을 하나로 모으는 방법을 들 수 있다.

도 6∼도 9에 나타내는 지정 마크는 모두, 기록 영역에 기록되는 다른 화상의 속성과는 상이한 속성을 갖는다. 도 6∼도 9에 나타내는 예에서는, 지정 마크 이외의 화상이 무채색(일례로서 흑색)의 색재로 기록된 화상으로 되고, 지정 마크는, 다른 화상에 겹쳐서 기록했을 때에 겹친 영역에 있어서 다른 화상(지정 마크의 밑받침이 된 화상)이 투과해서 시인됨과 함께 화상 판독 장치(11)에 의해 인식되는 유채색(일례로서 형광 핑크색)의 색재를 도포하는 필기구(일례로서 형광색 마커)에 의해 기록된 굵은 선화로 되어 있다. 한편, 이하에서는, 원고(P)의 기조색이 백색이고, 또한, 은폐 대상 화상이 될 수 있는 화상이 백지 원고(P)의 기록 영역에 대하여 흑색의 색재로 기록되며, 원고(P)의 기록 영역에 대하여 지정 마크가 형광색 마커(이하,「마커」라고 한다.)에 의해서 기록되는 것을 전제로 해서 설명한다.

도 6에 나타내는 지정 마크는, 은폐 대상 화상에 겹쳐서 기록함으로써 내포된 영역에 대한 외접 사각형 프레임의 내측(여기서는 일례로서 내측 전체)을 은폐 대상 영역으로서 지정하는 선분 형상 마크이다. 도 7에 나타내는 지정 마크는, 은폐 대상 화상에 겹쳐서 기록함으로써 둘러싸인 영역의 외접 사각형 프레임의 내측(여기서는 일례로서 내측 전체)을 은폐 대상 영역으로서 지정하는 곡선 프레임 형상의 마크(이하, 「곡선 프레임 형상 마크」라고 한다.)이다. 한편, 본 제 1 실시형태에서는, 곡선 프레임 형상의 마크에 대한 외접 사각형 프레임의 내측이 지정 영역으로 되어 있지만, 이에 한정하지 않고, 곡선 프레임 형상의 마크에 대한 내접 사각형 프레임의 내측이 지정 영역으로 되어도 된다.

도 8에 나타내는 지정 마크는, 은폐 대상 화상에 겹쳐서 기록함으로써 둘러싸인 영역에 상당하는 영역(여기서는 일례로서 전 영역)을 은폐 대상 영역으로서 지정하는 다각형 프레임 형상의 마크이며, 다른 지정 마크와는 상이한 지정 마크인 것을 나타내는 자타 식별 마크(여기서는 일례로서 사선)를 내포하는 다각형 프레임 형상의 마크 (이하, 「다각형 프레임 형상 마크」라고 한다.)이다. 도 9에 나타내는 지정 마크는, 은폐 대상 화상에 겹쳐서 기록함으로써 둘러싸인 영역의 내측(여기서는 일례로서 내측 전체)을 은폐 대상 영역으로서 지정하는 사각형 프레임(도 9에 나타내는 파선 사각형 프레임)을 규정하는 한 쌍의 대각선 중의 한쪽의 대각선으로서 상기의 기준선에 대하여 미리 정해진 경사 범위(일례로서 45도±5도, 135도±5도) 내에서 경사지고 있는 사선의 마크(이하, 「사선 마크」라고 한다.)이다.

본 제 1 실시형태에 따른 화상 처리 장치(10)에서는, 은폐 처리 기능을 실현하기 위한 각종 처리가 소프트웨어 구성에 의해 실현된다. 그 일례로서는, 컴퓨터를 이용해서 프로그램을 실행하는 형태를 들 수 있다. 그러나, 이러한 소프트웨어 구성에 의한 실현에 한정되는 것이 아니라, 하드웨어 구성이나, 하드웨어 구성과 소프트웨어 구성의 조합에 의해 실현해도 되는 것은 물론이다.

이하에서는, 본 제 1 실시형태에 따른 화상 처리 장치(10)의 CPU(10A)가 은폐 처리 프로그램을 실행함으로써 은폐 처리 기능을 실현하는 경우에 관하여 설명한다. 이 경우, 은폐 처리 프로그램을 2차 기억부(10D)에 미리 기억시켜 두는 형태나, 기억 내용이 컴퓨터에 의해 판독되는 기록 매체에 기억된 상태로 제공되는 형태, 유선 또는 무선에 의한 통신 수단을 통해 배신(配信)되는 형태 등을 적용해도 된다.

도 10은, 본 제 1 실시형태에 따른 은폐 처리 프로그램의 처리의 흐름의 일례를 나타내는 플로차트이다. 한편, 이하의 설명에서는, 착종을 회피하기 위해서, 화상 판독 장치(11)로부터 화상 처리 장치(10)에 받아들여진 화상 정보로서, 백지의 원고(P)의 기록 영역에 대하여 흑색의 색재로 기록된 경우의 기록 영역의 전면에 걸치는 화상(기록 영역 화상)을 나타내는 화상 정보(이하, 「처리 대상 화상 정보」라고 한다.)를 처리 대상으로 한 경우에 관하여 설명한다.

도 10의 스텝 100에서는, 처리 대상 화상 정보에 의해 나타내지는 기록 영역의 화상(이하,「처리 대상 화상」이라고 한다.)에 마커에 의해 기록된 개소(마커 개소)가 기록되어 있는지의 여부를 판정하고, 부정 판정이 되었을 경우에는 본 은폐 처리 프로그램을 종료하는 한편, 긍정 판정이 되었을 경우에는 스텝 102로 이행한다. 한편, 마커 부분인지의 여부는, 마커의 속성 및 기록 영역에 기록되는 마커 이외의 화상의 속성(여기서는 일례로서 마커 색과 다른 화상의 색의 차이)에 의거하여 판정된다.

스텝 102에서는, 처리 대상 화상에 지정 마크의 마커 개소라고는 인정되지 않는 마커 개소(처리 대상 외 마커 개소)가 존재하는지의 여부를 판정한다. 처리 대상 외 마커 개소란, 예를 들면, 연속한 선 화상이라고는 인정되지 않는 마커 개소를 가리키고, 여기서는, 1화소의 마커 개소 또는 윤곽의 선의 길이가 (원고(P)의 사이즈의 폭+원고(P)의 사이즈)/512 미만의 연속하는 화소의 집합체인 마커 개소를 처리 대상 외 마커 개소로 하고 있다. 본 스텝 102에 있어서 긍정 판정이 되었을 경우에는 스텝 104로 이행하는 한편, 부정 판정이 되었을 경우에는 스텝 106으로 이행한다.

스텝 104에서는, 처리 대상 화상으로부터 처리 대상 외 마커 개소를 삭제한 후, 스텝 106으로 이행한다. 스텝 106에서는, 처리 대상 화상에 그 외에 마커 개소가 있는지의 여부를 판정하고, 부정 판정이 되었을 경우에는 본 은폐 처리 프로그램을 종료하는 한편, 긍정 판정이 되었을 경우에는 스텝 108로 이행한다. 스텝 108에서는, 마커의 속성에 의거하여(여기서는 일례로서 마커의 속성과 기록 영역에 기록되는 마커 이외의 화상의 속성의 차이(흑색인지의 여부)에 의거하여) 처리 대상 화상으로부터 마커 개소를 추출함으로써 처리 대상 화상과 마커 개소를 분리한 후, 스텝 110으로 이행한다.

스텝 110에서는, 상기 스텝 108의 처리에서 분리되어 얻어진 마커 개소로부터 하나의 연속하는 마커 개소의 화상(이하, 「처리 대상 마커 화상」이라고 한다.)을 취득한다. 다음의 스텝 112에서는, 상기 스텝 110의 처리에서 취득된 처리 대상 마커 화상의 윤곽에 상당하는 선(여기서는 일례로서 윤곽의 선)을 미리 정해진 선분 단위(일례로서 (원고(P)의 사이즈의 폭+원고(P)의 사이즈)/512의 길이의 선분 단위)로 분절한 후, 스텝 114로 이행한다.

스텝 114에서는, 상기 스텝 112의 처리에서 분절되어 얻어진 선분의 각각에 관해, 선분의 기준선(여기서는 일례로서 수평선)에 대한 각도와 기준 경사선(여기서는 일례로서 수평선에 대하여 45도 경사지고 있는 직선)의 기준선에 대한 각도의 근사도(이하, 「경사 근사도」라고 한다.)를 도출한다. 본 스텝 114에서는, 예를 들면 도 11에 나타내는 경사 근사도 도출 그래프를 이용하여 도출한다. 경사 근사도 도출 그래프는, 가로축이 기준선에 대한 0도 이상 90도 이하의 각도를 나타내고, 세로축이 가로축에 나타내는 각도를 3배 한 값인 경사 근사도를 나타내는 그래프로 되어 있다. 즉, 경사 근사도 도출 그래프는, 가로축의 0도 및 90도에서 세로축의 최소값인 45×0(=0)이 되고, 가로축의 45도에서 세로축의 최대값인 45×3(=135)이 되도록, 0도부터 45도에 걸쳐서 가속적으로 경사 근사도가 상승함과 함께, 45부터 90도에 걸쳐서는 0도부터 45도와 대칭적으로 경사 근사도가 하강하는 그래프로 되어 있다. 따라서, 선분의 기준선에 대한 각도가 45도에 근사하고 있으면 있을수록 경사 근사도가 커진다. 한편, 여기서는, 세로축을 「45×3」으로 하고 있지만, 이에 한하지 않고, 예를 들면 「45×4」나 「45×5」여도 되고, 경사 근사도 도출 그래프가 가로축의 0도 이상 180도 이하의 범위에서 45도를 중심으로 급준, 또한 선대칭적으로 상승 및 하강하는 값으로 설정되어 있으면 된다.

다음의 스텝 116에서는, 상기 스텝 114의 처리에서 얻어진 각 선분의 경사 근사도의 총합을 산출한 후, 스텝 118로 이행한다. 스텝 118에서는, 상기 스텝 116의 처리에서 산출된 총합이 사선 마크 판정 임계값 이상인지의 여부를 판정하고, 긍정 판정이 되었을 경우에는 상기 스텝 110의 처리에서 취득된 처리 대상 마커 화상이 사선 마크에 상당하는 화상인 것으로 추정해서 스텝 120으로 이행한다. 한편, 스텝 118에 있어서 부정 판정이 되었을 경우에는 상기 스텝 110의 처리에서 취득된 처리 대상 마커 화상이 사선 마크 이외의 지정 마크에 상당하는 화상인 것으로 추정해서 스텝 122로 이행한다. 사선 마크 판정 임계값은, 다양한 사선 마크의 각각에 대해서, 미리 정해진 선분 단위로 분절해서 얻어진 각 선분의 경사 근사도의 총합으로부터 얻어진 사선 마크로서 인정되는 값의 최저값으로서 미리 정해진 값이며, 실험이나 시뮬레이션 등을 행하여 얻어진 결과로부터 정해진 값이다. 한편, 사선 마크 판정 임계값은, 화상 처리 장치(10)의 이용자 등에 의한 접수부(10E)를 통한 지시에 따라 변경되어도 되고, 지시에 따라 변경되지 않는 고정값으로 해도 된다.

스텝 120에서는, 상기 스텝 110의 처리에서 취득된 처리 대상 마커 화상이 사선 마크인 것을 나타내는 사선 마크 정보를 RAM(10B)의 미리 정해진 기억 영역에 기억한 후, 스텝 124로 이행한다.

한편, 스텝 122에서는, 상기 스텝 110의 처리에서 취득된 처리 대상 마커 화상이 사선 마크 이외의 어느 지정 마크에 상당하는 화상인지를 프레임을 이용해서 추정하는 프레임 이용 추정 처리를 실행한 후, 스텝 124로 이행한다. 이 프레임 이용 추정 처리는, CPU(10A)에 의해서 프레임 이용 추정 처리 프로그램이 실행됨으로써 실현된다. 도 12는, 프레임 이용 추정 처리 프로그램의 처리의 흐름의 일례를 나타내는 플로차트이다.

도 12의 스텝 122A에서는, 상기 스텝 110의 처리에서 취득된 처리 대상 마커 화상에 대한 외접 프레임을 형성한 후, 스텝 122B로 이행한다. 한편, 본 제 1 실시형태에서는, 상기 스텝 122A의 처리가 실행됨으로써, 외접 프레임으로서, 선분 형상 마크에 상당하는 처리 대상 마커 화상에 대해서는 일례로서 도 13에 나타내는 외접 사각형 프레임(50)이 형성되고, 다각형 프레임 형상 마크에 상당하는 처리 대상 마커 화상에 대해서는 일례로서 도 14에 나타내는 외접 사각형 프레임(52)이 형성되며, 곡선 프레임 형상 마크에 상당하는 처리 대상 마커 화상에 대해서는 일례로서 도 15에 나타내는 외접 사각형 프레임(54)이 형성된다. 여기서는, 외접 사각형 프레임(50, 52, 54)을 예시하고 있지만, 이에 한정하지 않고, 외접원이나 사각형 프레임 이외의 다각형 프레임이어도 된다.

스텝 122B에서는, 상기 스텝 122A의 처리에서 형성된 외접 프레임에 대하여 일의로 정해짐과 함께 그 외접 프레임을 가장자리를 취하지 않고 그 외접 프레임에 내포되는 피내포 프레임을 형성한 후, 스텝 122C로 이행한다. 여기서 말하는 「외접 프레임을 가장자리를 취하지 않고」란, 바꿔 말하면, 외접 프레임의 내윤곽에 접하지 않는 것을 가리킨다. 본 제 1 실시형태에서는, 상기 스텝 122B의 처리가 실행됨으로써, 피내포 프레임으로서, 외접 사각형 프레임(50)에 대해서는 일례로서 도 13에 나타내는 사각형 프레임(50A)이 미리 정해진 위치(예를 들면 외접 사각형 프레임(50)의 내측의 영역이며 외접 사각형 프레임(50)의 내윤곽에 접하지 않는 영역의 중앙부)에 형성되고, 외접 사각형 프레임(52)에 대해서는 일례로서 도 14에 나타내는 사각형 프레임(52A)이 미리 정해진 위치(예를 들면 외접 사각형 프레임(52)의 내측의 영역이며 외접 사각형 프레임(52)의 내윤곽에 접하지 않는 영역의 중앙부)에 형성되며, 외접 사각형 프레임(54)에 대해서는 일례로서 도 15에 나타내는 사각형 프레임(54A)이 미리 정해진 위치(예를 들면 외접 사각형 프레임(54)의 내측의 영역이며 외접 사각형 프레임(54)의 내윤곽에 접하지 않는 영역의 중앙부)에 형성된다. 또한, 여기서 말하는 「중앙부」란, 예를 들면 외접 프레임의 중심과 피내포 프레임의 중심을 겹쳤을 경우에 피내포 프레임이 취할 수 있는 영역을 가리킨다. 또한, 여기서는, 피내포 프레임으로서 사각형 프레임(50A, 52A, 54A)을 예시하고 있지만, 이에 한정하지 않고, 원이나 사각형 프레임 이외의 다각형 프레임이어도 된다. 또한, 본 제 1 실시형태에서는, 피내포 프레임을, 이 피내포 프레임을 내포하는 외접 프레임을 1/2로 축소한 프레임으로 하고 있지만, 이에 한정하지 않고, 피내포 프레임을 외접 프레임의 내윤곽에 접촉시키지 않도록 형성하면 된다. 즉, 외접 프레임에 접촉하지 않도록 내포된 프레임이며 미리 정해진 규칙(예를 들면 세로 방향의 축소율 50% 및 가로 방향의 축소율 30%의 프레임으로 한다는 규칙, 외접 프레임에 대한 내접원을 1/2로 축소한 프레임으로 한다는 규칙, 또는 외접 프레임의 내측으로 미리 정해진 거리만큼 오프셋함으로써 형성되는 프레임으로 하는 규칙 등)에 따라서 정해진 프레임이라면 어떤 프레임이어도 된다.

스텝 122C에서는, 상기 스텝 122B의 처리에서 형성된 피내포 프레임에 있어서의 상기 스텝 110의 처리에서 취득된 처리 대상 마커 화상의 점유율을 산출한 후, 스텝 122D로 이행한다. 스텝 122D에서는, 상기 스텝 122B의 처리에서 형성된 피내포 프레임에 있어서의 상기 스텝 110의 처리에서 취득된 처리 대상 마커 화상의 점유율이 선분·다각형 간 임계값 이상인지의 여부를 판정하고, 긍정 판정이 되었을 경우에는 상기 스텝 110의 처리에서 취득된 처리 대상 마커 화상이 선분 형상 마크인 것으로 추정해서 스텝 122E로 이행한다. 선분·다각형 간 임계값은, 다양한 선분 형상 마크의 샘플(예를 들면, 10000 종류 이상의 선분 형상 마크로부터 무작위로 샘플링된 1000 종류의 선분 형상 마크) 및 다양한 다각형 프레임 형상 마크의 샘플(예를 들면, 10000 종류 이상의 선분 형상 마크로부터 무작위로 샘플링된 1000 종류의 다각형 프레임 형상 마크)에 대해서, 선분 형상 마크로서 인정되는 값과 다각형 프레임 형상 마크로서 인정되는 값이 나누어지는 경계값으로서 실험이나 시뮬레이션 등을 행하여 미리 얻어진 값이다. 한편, 본 제 1 실시형태에서는, 선분·다각형 간 임계값으로서 50%를 적용하고 있지만, 이에 한정하지 않고, 다른 값이어도 된다. 단, 그 경우, 후술의 다각형·곡선 간 임계값보다도 큰 값이 아니면 안 된다.

스텝 122E에서는, 상기 스텝 110의 처리에서 취득된 처리 대상 마커 화상이 선분 형상 마크에 상당하는 화상인 것을 나타내는 선분 형상 마크 정보를 RAM(10B)의 미리 정해진 기억 영역에 기억한 후, 본 프레임 이용 추정 처리 프로그램을 종료한다.

한편, 스텝 122D에 있어서 부정 판정이 되었을 경우에는 상기 스텝 110의 처리에서 취득된 처리 대상 마커 화상이 다각형 프레임 형상 마크 또는 곡선 프레임 형상 마크에 상당하는 화상인 것으로 추정해서 스텝 122F로 이행한다. 스텝 122F에서는, 상기 스텝 122B의 처리에서 형성된 피내포 프레임에 있어서의 상기 스텝 110의 처리에서 취득된 처리 대상 마커 화상의 점유율이 다각형·곡선 간 임계값 이상인지의 여부를 판정하고, 긍정 판정이 되었을 경우에는 상기 스텝 110의 처리에서 취득된 처리 대상 마커 화상이 다각형 프레임 형상 마크에 상당하는 화상인 것으로 추정해서 스텝 122G로 이행한다. 다각형·곡선 간 임계값은, 다양한 다각형 프레임 형상 마크의 샘플(예를 들면 10000 종류 이상의 다각형 프레임 형상 마크로부터 무작위로 샘플링된 1000 종류의 선분 형상 마크) 및 다양한 곡선 프레임 형상 마크의 샘플(예를 들면 10000 종류 이상의 곡선 프레임 형상 마크로부터 무작위로 샘플링된 1000 종류의 곡선 프레임 형상 마크)에 관해서, 다각형 프레임 형상 마크로서 인정되는 값과 곡선 프레임 형상 마크로서 인정되는 값이 나누어지는 경계값으로서 실험이나 시뮬레이션 등을 행하여 미리 얻어진 값이다. 여기서는, 다각형·곡선 간 임계값으로서 2.5%를 적용하고 있지만, 이에 한정하지 않고, 그 밖의 값이어도 된다. 단, 그 경우, 전술의 선분·다각형 간 임계값보다도 작은 값이 아니면 안 된다.

스텝 122G에서는, 상기 스텝 110의 처리에서 취득된 처리 대상 마커 화상이 다각형 프레임 형상 마크에 상당하는 화상인 것을 나타내는 다각형 프레임 형상 마크 정보를 RAM(10B)의 미리 정해진 기억 영역에 기억한 후, 본 프레임 이용 추정 처리 프로그램을 종료한다.

한편, 스텝 122F에 있어서 부정 판정이 되었을 경우에는 상기 스텝 110의 처리에서 취득된 처리 대상 마커 화상이 곡선 프레임 형상 마크에 상당하는 화상인 것으로 추정해서 스텝 122H로 이행한다. 스텝 122H에서는, 상기 스텝 110의 처리에서 취득된 처리 대상 마커 화상이 곡선 프레임 형상 마크에 상당하는 화상인 것을 나타내는 곡선 프레임 형상 마크 정보를 RAM(10B)의 미리 정해진 기억 영역에 기억한 후, 본 프레임 이용 추정 처리 프로그램을 종료한다. 한편, 이하, 설명의 편의상, 사선 마크 정보, 선분 형상 마크 정보, 다각형 프레임 형상 마크 정보 및 곡선 프레임 형상 마크 정보를 구별해서 설명할 필요가 없는 경우에는 「지정 마크 정보」라고 한다.

도 10의 스텝 124에서는, 상기 스텝 120 또는 상기 스텝 122의 처리에서 RAM(10B)에 기억된 지정 마크 정보에 대하여 일의로 정해진 지정 방법으로 처리 대상 화상에 있어서의 은폐 대상 영역을 지정한 후, 스텝 126으로 이행한다. 스텝 126에서는, 상기 스텝 124의 처리에서 지정된 은폐 대상 영역을, 상기 스텝 124의 처리에서 채용된 지정 방법에 대하여 일의로 정해진 은폐 방법으로 은폐해서 얻어진 처리 대상 화상을 표시부(10F)에 표시한다. 선분 형상 마크 정보에 의한 지정 방법에 대하여 일의로 정해진 은폐 방법으로서는, 예를 들면 외접 사각형 프레임(50)의 내측의 전 영역을 칠함으로써, 지정된 은폐 대상 영역을 은폐하는 방법을 들 수 있다. 이에 따라, 지정된 은폐 대상 영역은 일례로서 도 16에 나타내는 바와 같이 은폐된다. 또한, 다각형 프레임 형상 마크 정보에 의한 지정 방법에 대하여 일의로 정해진 은폐 방법으로서는, 예를 들면 다각형 프레임 형상 마크에 상당하는 화상의 윤곽으로 둘러싸인 영역에 상당하는 영역(여기서는 전 영역)을 칠함으로써, 지정된 은폐 대상 영역을 은폐하는 방법을 들 수 있다. 이에 따라, 지정된 은폐 대상 영역은 일례로서 도 17에 나타내는 바와 같이 은폐된다. 또한, 곡선 프레임 형상 마크 정보에 의한 지정 방법에 대하여 일의로 정해진 은폐 방법으로서는, 예를 들면 외접 사각형 프레임(54)의 내측의 전 영역을 칠함으로써 지정된 은폐 대상 영역을 은폐하는 방법을 들 수 있다. 이에 따라, 지정된 은폐 대상 영역은 일례로서 도 18에 나타내는 바와 같이 은폐된다. 한편, 도 18에 나타내는 예에서는, 파선의 곡선이 도시되어 있지만, 이것은 곡선 프레임 형상 마크의 개략 이미지를 예시한 것이며, 실제로 표시되는 것은 아니다. 또한, 사선 마크 정보에 의한 지정 방법으로서는, 예를 들면 사선 마크에 대한 외접 사각형 프레임의 내측의 전 영역을 칠함으로써, 지정된 은폐 대상 영역을 은폐하는 방법을 들 수 있다. 이에 따라, 지정된 은폐 대상 영역은 일례로서 도 19에 나타내는 바와 같이 은폐된다. 또한, 도 19에 나타내는 예에서는, 파선의 사선이 도시되어 있지만, 이것은 사선 마크의 개략 이미지를 예시한 것이며, 실제로 표시되는 것은 아니다.

또한, 상기 스텝 126의 처리에서는, 은폐가 끝난 화상을 표시부(10F)에 표시하는 형태예를 들어서 설명했지만, 이에 한정하지 않고, 화상 처리 장치(10)에 프린터가 접속되어 있다면, 프린터를 이용해서 기록 매체(일례로서 용지)에 은폐가 끝난 화상을 기록해도 된다. 또한, 은폐가 끝난 화상을 나타내는 화상 정보를 2차 기억부(10D)에 기억해도 된다. 또한, 외부 장치에 송신해서 외부 장치의 기억 수단(일례로서 하드디스크 장치)에 기억해도 된다.

다음의 스텝 128에서는, 상기 스텝 108의 처리에서 분리해서 얻어진 마커 개소의 전부에 대해서 상기 스텝 110∼126의 처리를 종료했는지의 여부를 판정하고, 부정 판정이 되었을 경우에는 스텝 110으로 돌아가는 한편, 긍정 판정이 되었을 경우에는 본 은폐 처리 프로그램을 종료한다.

이상, 상세하게 설명한 바와 같이, 본 제 1 실시형태에 따른 화상 처리 장치(10)에 의하면, CPU(10A)에 의해 은폐 처리 프로그램이 실행됨으로써, 처리 대상 화상 내의 은폐 대상 영역을, 각각 처리 대상 화상의 속성과는 상이한 속성으로 처리 대상 화상에 겹쳐서 기록됨으로써 상이한 지정 방법으로 지정하는 미리 정해진 복수 종류의 지정 마크 중의 적어도 하나가 기록된 기록 영역을 나타내는 화상인 처리 대상 화상으로부터, 속성에 의거하여 지정 마크에 상당하는 화상을 추출하고, 추출된 지정 마크에 상당하는 화상 중의 처리 대상으로 하는 지정 마크에 상당하는 화상인 처리 대상 마커 화상에 대한 외접 프레임에 대하여 일의로 정해진 피내포 프레임을 형성하고, 형성된 피내포 범위 내에 있어서의 지정 마크에 상당하는 화상의 점유율에 의거하여 처리 대상 마커 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하므로, 종래의 수법(예를 들면, 은폐 대상 영역이 1 종류의 지정 마크에 의해 지정되는 수법)에 비해, 의도하는 영역의 고정밀도한 지정이 실현된다. 따라서, 본 구성을 갖지 않을 경우에 비해, 은폐 대상 영역으로서 의도하는 영역에 대하여 고정밀도로 은폐 처리가 실시된다.

한편, 본 제 1 실시형태에서는, 다각형 프레임 형상 마크에 포함되는 자타 식별 마크로서 사선을 이용한 예를 들어서 설명했지만, 이 경우, 자타 식별 마크로서의 사선이 사선 마크로서 인식되는 것이 예상된다. 그러나, 자타 식별 마크로서의 사선이 사선 마크로서 인식되었다고 해도 이것이 의도하는 은폐 대상 영역에 대하여 은폐가 이루어지지 않는 것으로는 이어지지 않는다. 왜냐하면, 가령 자타 식별 마크로서의 사선이 사선 마크로서 인식되고, 이 사선에 대하여 상술한 바와 같이 외접 사각형 프레임이 형성되며, 형성된 외접 사각형 프레임 내의 전 영역이 은폐되었다고 해도 그것은 다각형 프레임 형상 마크의 안(다각형 프레임 형상 마크를 이용하여 은폐 대상 영역을 지정한 사람이 의도하는 은폐 대상 영역 내)을 은폐하게 되기 때문이다. 따라서, 그 경우는, 후에 다각형 프레임 형상 마크에 둘러싸인 영역의 내측의 전 영역이 은폐됨으로써 사선 마크로서 인식된 자타 식별 마크의 사선에 대한 외접 사각형 프레임에 의해서는 모두 보충할 수 없었던 영역이 은폐되게 되기 때문에 아무런 문제도 생기지 않는다.

또한, 본 제 1 실시형태에서는, 자타 식별 마크로서 사선을 이용했지만, 이에 한정하지 않고, 다른 마크를 이용해도 된다. 예를 들면, 「△」라는 기호나 「#」이라는 기호 등 이어도 되고, 특정 색의 연속하는 선화인 것이 바람직하다. 이렇게 다각형 프레임 형상 마크가 다른 지정 마크와 구별되는 기호라면 어떤 기호여도 된다.

또한, 본 제 1 실시형태에서는, 화상 처리 장치(10)에 은폐 처리 기능을 주었을 경우의 형태예를 들어서 설명했지만, 이에 한정하지 않고, 화상 판독 장치(11)에 은폐 처리 기능을 주어도 된다. 이 경우, 화상 판독 장치(11)를 제어하는 컴퓨터에 대하여 상술한 은폐 처리 프로그램을 실행시키면 된다.

또한, 본 제 1 실시형태에서는, 화상을 은폐하기 위해서 원고(P)의 기록 영역에 은폐 대상이 될 수 있는 화상이 기록되어 있는 경우를 전제로 설명했지만, 이에 한정하지 않고, 원고(P)의 기록 영역에 은폐 대상이 될 수 있는 화상이 기록되어 있지 않아도 된다. 즉, 백지의 원고(P)의 기록 영역 내의 영역을 지정하고, 지정한 영역에 대하여 은폐 처리(예를 들면 칠하기나 망점 넣기 처리)를 실시해도 된다.

[제 2 실시형태]

상기 제 1 실시형태에서는, 경사 근사도를 도출함으로써 처리 대상 마커 화상에 상당하는 지정 마크가 사선 마크인지의 여부를 판정할 경우의 형태예를 들어서 설명했지만, 경사 마크인지의 여부를 판정하는 수단은 이에 한정되는 것이 아니다. 그래서, 본 제 2 실시형태에서는, 상기 제 1 실시형태와는 상이한 수단을 이용하여 경사 마크인지의 여부를 판정하는 경우에 관하여 설명한다. 한편, 이하에서는, 상기 제 1 실시형태에서 설명한 내용과 중복되는 내용에 관해서는 상기 제 1 실시형태에서 기재한 부호와 상위하지 않은 부호를 이용하여 그 설명을 생략하고, 상기 제 1 실시형태와 상이한 내용에 관하여 설명한다.

도 20은, 본 제 2 실시형태에 따른 은폐 처리 프로그램의 처리의 흐름의 일례를 나타내는 플로차트이다. 도 20에 나타내는 플로차트는, 도 10에 나타내는 플로차트에 비해, 스텝 112, 114, 116 대신에 스텝 200, 202를 적용한 점, 및 스텝 118 대신에 스텝 204를 적용한 점이 상이하다.

스텝 200에서는, 처리 대상 마커 화상에 대한 외접 프레임을 형성한 후, 스텝 202로 이행한다. 한편, 본 제 2 실시형태에서는, 상기 스텝 200의 처리가 실행됨으로써, 외접 프레임으로서, 선분 형상 마크에 상당하는 처리 대상 마커 화상에 대해서는 일례로서 도 13에 나타내는 외접 사각형 프레임(50)이 형성되며, 다각형 프레임 형상 마크에 상당하는 처리 대상 마커 화상에 대해서는 일례로서 도 14에 나타내는 외접 사각형 프레임(52)이 형성되고, 곡선 프레임 형상 마크에 상당하는 처리 대상 마커 화상에 대해서는 일례로서 도 15에 나타내는 외접 사각형 프레임(54)이 형성된다. 여기서는, 외접 사각형 프레임(50, 52, 54)을 예시하고 있지만, 이에 한정하지 않고, 외접원이나 사각형 프레임 이외의 다각형 프레임이어도 된다.

스텝 202에서는, 처리 대상 마커 화상에 대한 철포를 형성한 후, 스텝 204로 이행한다. 여기서 말하는 「철포」란, 점집합 중에서 가장 외측에 있는 점을 직선으로 이어서 생기는 선분의 집합을 가리킨다. 한편, 본 제 2 실시형태서는, 상기 스텝 202의 처리가 실행됨으로써, 철포로서, 선분 형상 마크에 상당하는 처리 대상 마커 화상에 대해서는 일례로서 도 21에 나타내는 철포(50B)가 형성되며, 곡선 프레임 형상 마크에 상당하는 처리 대상 마커 화상에 대해서는 일례로서 도 22에 나타내는 철포(52B)가 형성되고, 다각형 프레임 형상 마크에 상당하는 처리 대상 마커 화상에 대해서는 일례로서 도 23에 나타내는 철포(54B)가 형성된다.

스텝 204에서는, 상기 스텝 200의 처리에서 형성된 외접 프레임에 있어서의 상기 스텝 202의 처리에서 형성된 철포의 점유율이, 철포의 면적에 대하여 미리 정해진 계수를 곱해서 얻은 임계값(사선 판정 임계값) 이상인지의 여부를 판정하고, 긍정 판정이 되었을 경우에는 스텝 120으로 이행하는 한편, 부정 판정이 되었을 경우에는 스텝 122로 이행한다. 한편, 이 판정 방법에 한정될 필요는 없으며, 예를 들면 「외접 프레임의 면적≥철포의 면적×300」의 관계가 성립하고 있으면 긍정 판정이라고 하고, 이 관계가 성립하지 않고 있으면 부정 판정이라고 해도 된다. 또한, 여기서는, 사선 판정 임계값을 철포의 면적에 따라 가변되는 값으로 했지만, 이에 한정하지 않고, 지정 마크마다 일의로 할당된 고정값으로 해도 된다.

이상, 상세하게 설명한 바와 같이, 본 제 2 실시형태에 따른 화상 처리 장치(10)에 의하면, CPU(10A)에 의해 본 제 2 실시형태에 따른 은폐 처리 프로그램이 실행됨으로써, 처리 대상 마커 화상에 대한 철포를 형성하고, 처리 대상 마커 화상에 상당하는 화상에 대한 외접 사각형 프레임 내에 있어서의 철포의 점유율이 사선 판정 임계값 이상인 경우에 처리 대상 마커 화상에 상당하는 지정 마크가 사선 마크인 것으로 추정하고, 처리 대상 마커 화상에 대한 외접 사각형 프레임 내에 있어서의 철포의 점유율이 사선 판정 임계값 미만인 경우에 처리 대상 마커 화상에 상당하는 지정 마크가 사선 마크 이외의 지정 마크(선분 형상 마크, 다각형 프레임 형상 마크 또는 곡선 프레임 형상 마크)인 것으로 추정하므로, 본 구성을 갖지 않을 경우에 비해, 기록 영역에 사선 마크가 기록되어 있는지의 여부(은폐 대상 영역이 사선 마크에 의해 지정되어 있는지의 여부)가 고정밀도로 추정된다.

10 화상 처리 장치
10A CPU
50, 52, 54 외접 사각형 프레임
50A, 52A, 54A 사각형 프레임
50B, 52B, 54B 철포

Claims

화상이 기록되는 기록 영역 내의 영역을, 각각 상기 화상의 속성과 상이한 미리 정해진 속성을 가짐과 함께 상기 기록 영역에 기록됨으로써 상이한 지정 방법으로 지정하는 미리 정해진 복수 종류의 지정 마크 중의 적어도 하나가 기록된 기록 영역을 나타내는 기록 영역 화상으로부터, 처리 대상으로 하는 지정 마크에 상당하는 지정 마크 화상을 추출하고, 추출한 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하는 추정 수단과,
상기 추정 수단에 의해 추정된 종류의 지정 마크에 의해 지정된 영역을, 상기 추정 수단에 의해 추정된 종류의 지정 마크에 대하여 일의(一意)로 정해진 은폐 방법으로 은폐하는 은폐 수단
을 갖는 화상 처리 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 복수 종류의 지정 마크는, 상기 기록 영역에 기록됨으로써 칠해진 영역의 외접 사각형 프레임에 상당하는 프레임으로 둘러싸인 영역을 지정 영역으로 하는 선분 형상 마크, 상기 기록 영역에 기록됨으로써 둘러싸인 영역의 외접 사각형 프레임에 상당하는 프레임으로 둘러싸인 영역을 지정 영역으로 하는 곡선 프레임 형상 마크, 및 상기 기록 영역에 기록됨으로써 둘러싸인 영역에 상당하는 영역에 내포된 영역을 지정 영역으로 하는 다각형 프레임 형상 마크 중 적어도 2 개를 포함하는 화상 처리 장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 기록 영역 화상으로부터, 상기 속성에 의거하여 상기 지정 마크 화상을 추출하는 추출 수단과,
상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 지정 마크 화상 중의 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 외접 프레임에 대하여 일의로 정해짐과 함께 상기 외접 프레임을 가장자리를 취하지 않고 상기 외접 프레임에 내포되는 피내포 프레임을 형성하는 형성 수단을 더 갖고,
상기 추정 수단은, 상기 형성 수단에 의해 형성된 상기 피내포 프레임 내에 있어서의 상기 지정 마크 화상의 점유율에 의거하여 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하는 화상 처리 장치.
화상이 기록되는 기록 영역 내의 영역을, 각각 상기 화상의 속성과 상이한 미리 정해진 속성을 가짐과 함께 상기 기록 영역에 기록됨으로써 상이한 지정 방법으로 지정하고, 상기 기록 영역에 기록됨으로써 칠해진 영역의 외접 사각형 프레임에 상당하는 프레임으로 둘러싸인 영역을 지정 영역으로 하는 선분 형상 마크, 상기 기록 영역에 기록됨으로써 둘러싸인 영역의 외접 사각형 프레임에 상당하는 프레임으로 둘러싸인 영역을 지정 영역으로 하는 곡선 프레임 형상 마크, 및 상기 기록 영역에 기록됨으로써 둘러싸인 영역에 상당하는 영역에 내포된 영역을 지정 영역으로 하는 다각형 프레임 형상 마크 중 적어도 2 개를 포함해서 구성한 미리 정해진 복수 종류의 지정 마크 중의 적어도 하나가 기록된 기록 영역을 나타내는 기록 영역 화상으로부터, 처리 대상으로 하는 지정 마크에 상당하는 지정 마크 화상을 추출하는 추출 수단과,
상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하는 추정 수단
을 갖는 지정 마크 추정 장치.
제 4 항에 있어서,
상기 추출 수단은, 상기 기록 영역 화상으로부터, 상기 속성에 의거하여 상기 지정 마크 화상을 추출하고,
상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 지정 마크 화상 중의 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 외접 프레임에 대해서 일의로 정해짐과 함께 상기 외접 프레임을 가장자리를 취하지 않고 상기 외접 프레임에 내포되는 피내포 프레임을 형성하는 형성 수단을 더 가지며,
상기 추정 수단은, 상기 형성 수단에 의해 형성된 상기 피내포 프레임 내에 있어서의 상기 지정 마크 화상의 점유율에 의거하여 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하는 지정 마크 추정 장치.
제 5 항에 있어서,
상기 형성 수단은, 상기 피내포 프레임을 상기 외접 프레임의 중앙부에 위치하도록 형성하는 지정 마크 추정 장치.
제 4 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 지정 마크 화상을, 연속하는 특정 색의 상이한 선(線) 화상으로 한 지정 마크 추정 장치.
제 4 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 다각형 프레임 형상 마크는, 다른 지정 마크와는 상이한 지정 마크인 것을 나타내는 자타 식별 마크를 내포하는 지정 마크 추정 장치.
제 7 항에 있어서,
상기 다각형 프레임 형상 마크는, 다른 지정 마크와는 상이한 지정 마크인 것을 나타내는 자타 식별 마크를 내포하는 지정 마크 추정 장치.
제 4 항 내지 제 6 항 및 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 복수 종류의 지정 마크 중 하나를, 사각형 프레임을 규정하는 한쪽의 대각선에 상당함과 함께 상기 사각형 프레임으로 둘러싼 영역을 지정 영역으로 하는 사선 마크로 하고,
상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상의 윤곽에 상당하는 선을 미리 정해진 길이의 선분 단위로 분절(分節)하는 분절 수단과,
상기 분절 수단에 의해 분절되어 얻어진 각 선분의 미리 정해진 기준선에 대한 각도와 미리 정해진 기준 경사선의 상기 기준선에 대한 각도의 근사도의 총합을 도출하는 도출 수단을 더 갖고,
상기 추정 수단은, 또한 상기 도출 수단에 의해 도출된 상기 총합이 임계값 이상일 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크인 것으로 추정하고, 상기 도출 수단에 의해 도출된 상기 총합이 상기 임계값 이상이 아닐 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크 이외의 지정 마크인 것으로 추정하는 지정 마크 추정 장치.
제 7 항에 있어서,
상기 복수 종류의 지정 마크 중 하나를, 사각형 프레임을 규정하는 한쪽의 대각선에 상당함과 함께 상기 사각형 프레임으로 둘러싼 영역을 지정 영역으로 하는 사선 마크로 하고,
상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상의 윤곽에 상당하는 선을 미리 정해진 길이의 선분 단위로 분절하는 분절 수단과,
상기 분절 수단에 의해 분절되어 얻어진 각 선분의 미리 정해진 기준선에 대한 각도와 미리 정해진 기준 경사선의 상기 기준선에 대한 각도의 근사도의 총합을 도출하는 도출 수단을 더 갖고,
상기 추정 수단은, 또한 상기 도출 수단에 의해 도출된 상기 총합이 임계값 이상일 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크인 것으로 추정하고, 상기 도출 수단에 의해 도출된 상기 총합이 상기 임계값 이상이 아닐 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크 이외의 지정 마크인 것으로 추정하는 지정 마크 추정 장치.
제 8 항에 있어서,
상기 복수 종류의 지정 마크 중 하나를, 사각형 프레임을 규정하는 한쪽의 대각선에 상당함과 함께 상기 사각형 프레임으로 둘러싼 영역을 지정 영역으로 하는 사선 마크로 하고,
상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상의 윤곽에 상당하는 선을 미리 정해진 길이의 선분 단위로 분절하는 분절 수단과,
상기 분절 수단에 의해 분절되어 얻어진 각 선분의 미리 정해진 기준선에 대한 각도와 미리 정해진 기준 경사선의 상기 기준선에 대한 각도의 근사도의 총합을 도출하는 도출 수단을 더 갖고,
상기 추정 수단은, 또한 상기 도출 수단에 의해 도출된 상기 총합이 임계값 이상일 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크인 것으로 추정하고, 상기 도출 수단에 의해 도출된 상기 총합이 상기 임계값 이상이 아닐 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크 이외의 지정 마크인 것으로 추정하는 지정 마크 추정 장치.
제 4 항 내지 제 6 항 및 제 9 항, 제 11 항, 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 복수 종류의 지정 마크 중 하나를, 사각형 프레임을 규정하는 한쪽의 대각선에 상당함과 함께 상기 사각형 프레임으로 둘러싼 영역을 지정 영역으로 하는 사선 마크로 하고,
상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 철포(凸包)를 형성하는 철포 형성 수단을 더 갖고,
상기 추정 수단은, 또한 상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 외접 사각형 프레임 내에 있어서의 상기 철포 형성 수단에 의해 형성된 철포의 점유율이 임계값 이상인 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크인 것으로 추정하며, 상기 점유율이 상기 임계값 이상이 아닐 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크 이외의 지정 마크인 것으로 추정하는 지정 마크 추정 장치.
제 7 항에 있어서,
상기 복수 종류의 지정 마크 중 하나를, 사각형 프레임을 규정하는 한쪽의 대각선에 상당함과 함께 상기 사각형 프레임으로 둘러싼 영역을 지정 영역으로 하는 사선 마크로 하고,
상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 철포를 형성하는 철포 형성 수단을 더 갖고,
상기 추정 수단은, 또한 상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 외접 사각형 프레임 내에 있어서의 상기 철포 형성 수단에 의해 형성된 철포의 점유율이 임계값 이상인 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크인 것으로 추정하며, 상기 점유율이 상기 임계값 이상이 아닐 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크 이외의 지정 마크인 것으로 추정하는 지정 마크 추정 장치.
제 8 항에 있어서,
상기 복수 종류의 지정 마크 중 하나를, 사각형 프레임을 규정하는 한쪽의 대각선에 상당함과 함께 상기 사각형 프레임으로 둘러싼 영역을 지정 영역으로 하는 사선 마크로 하고,
상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 철포를 형성하는 철포 형성 수단을 더 갖고,
상기 추정 수단은, 또한 상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 외접 사각형 프레임 내에 있어서의 상기 철포 형성 수단에 의해 형성된 철포의 점유율이 임계값 이상인 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크인 것으로 추정하며, 상기 점유율이 상기 임계값 이상이 아닐 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크 이외의 지정 마크인 것으로 추정하는 지정 마크 추정 장치.
제 10 항에 있어서,
상기 복수 종류의 지정 마크 중 하나를, 사각형 프레임을 규정하는 한쪽의 대각선에 상당함과 함께 상기 사각형 프레임으로 둘러싼 영역을 지정 영역으로 하는 사선 마크로 하고,
상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 철포를 형성하는 철포 형성 수단을 더 갖고,
상기 추정 수단은, 또한 상기 추출 수단에 의해 추출된 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 대한 외접 사각형 프레임 내에 있어서의 상기 철포 형성 수단에 의해 형성된 철포의 점유율이 임계값 이상인 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크인 것으로 추정하며, 상기 점유율이 상기 임계값 이상이 아닐 경우에 상기 처리 대상으로 하는 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류가 상기 사선 마크 이외의 지정 마크인 것으로 추정하는 지정 마크 추정 장치.
화상이 기록되는 기록 영역 내의 영역을, 각각 상기 화상의 속성과 상이한 미리 정해진 속성을 가짐과 함께 상기 기록 영역에 기록됨으로써 상이한 지정 방법으로 지정하는 미리 정해진 복수 종류의 지정 마크 중의 적어도 하나가 기록된 기록 영역을 나타내는 기록 영역 화상으로부터, 처리 대상으로 하는 지정 마크에 상당하는 지정 마크 화상을 추출하고, 추출한 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하는 공정과,
추정된 종류의 지정 마크에 의해 지정된 영역을, 추정된 종류의 지정 마크에 대하여 일의로 정해진 은폐 방법으로 은폐하는 공정
을 갖는 화상 처리 방법.
화상이 기록되는 기록 영역 내의 영역을, 각각 상기 화상의 속성과 상이한 미리 정해진 속성을 가짐과 함께 상기 기록 영역에 기록됨으로써 상이한 지정 방법으로 지정하고, 상기 기록 영역에 기록됨으로써 칠해진 영역의 외접 사각형 프레임에 상당하는 프레임으로 둘러싸인 영역을 지정 영역으로 하는 선분 형상 마크, 상기 기록 영역에 기록됨으로써 둘러싸인 영역의 외접 사각형 프레임에 상당하는 프레임으로 둘러싸인 영역을 지정 영역으로 하는 곡선 프레임 형상 마크, 및 상기 기록 영역에 기록됨으로써 둘러싸인 영역에 상당하는 영역에 내포된 영역을 지정 영역으로 하는 다각형 프레임 형상 마크 중 적어도 2 개를 포함해서 구성한 미리 정해진 복수 종류의 지정 마크 중의 적어도 하나가 기록된 기록 영역을 나타내는 기록 영역 화상으로부터, 처리 대상으로 하는 지정 마크에 상당하는 지정 마크 화상을 추출하는 공정과,
추출된 상기 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하는 공정
을 갖는 지정 마크 추정 방법.
컴퓨터에 처리를 실행시키는 프로그램을 저장한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체로서,
상기 처리는,
화상이 기록되는 기록 영역 내의 영역을, 각각 상기 화상의 속성과 상이한 미리 정해진 속성을 가짐과 함께 상기 기록 영역에 기록됨으로써 상이한 지정 방법으로 지정하는 미리 정해진 복수 종류의 지정 마크 중의 적어도 하나가 기록된 기록 영역을 나타내는 기록 영역 화상으로부터, 처리 대상으로 하는 지정 마크에 상당하는 지정 마크 화상을 추출하고, 추출한 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하는 공정과,
추정된 종류의 지정 마크에 의해 지정된 영역을, 추정된 종류의 지정 마크에 대하여 일의로 정해진 은폐 방법으로 은폐하는 공정
을 갖는 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체.
컴퓨터에 처리를 실행시키는 프로그램을 저장한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체로서,
상기 처리는,
화상이 기록되는 기록 영역 내의 영역을, 각각 상기 화상의 속성과 상이한 미리 정해진 속성을 가짐과 함께 상기 기록 영역에 기록됨으로써 상이한 지정 방법으로 지정하고, 상기 기록 영역에 기록됨으로써 칠해진 영역의 외접 사각형 프레임에 상당하는 프레임으로 둘러싸인 영역을 지정 영역으로 하는 선분 형상 마크, 상기 기록 영역에 기록됨으로써 둘러싸인 영역의 외접 사각형 프레임에 상당하는 프레임으로 둘러싸인 영역을 지정 영역으로 하는 곡선 프레임 형상 마크, 및 상기 기록 영역에 기록됨으로써 둘러싸인 영역에 상당하는 영역에 내포된 영역을 지정 영역으로 하는 다각형 프레임 형상 마크 중 적어도 2 개를 포함해서 구성한 미리 정해진 복수 종류의 지정 마크 중의 적어도 하나가 기록된 기록 영역을 나타내는 기록 영역 화상으로부터, 처리 대상으로 하는 지정 마크에 상당하는 지정 마크 화상을 추출하는 공정과,
추출된 상기 지정 마크 화상에 상당하는 지정 마크의 종류를 추정하는 공정
을 갖는 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체.