KR20130028864A

KR20130028864A - 성막 방법

Info

Publication number: KR20130028864A
Application number: KR20120099146A
Authority: KR
Inventors: 쇼소 니시다
Original assignee: 더 재팬 스틸 워크스 엘티디
Priority date: 2011-09-12
Filing date: 2012-09-07
Publication date: 2013-03-20
Also published as: JP5620352B2; US20130062194A1; JP2013060612A; KR101530416B1; US9109282B2; CN102994955A

Abstract

<과제>
성막용 피가공물의 형상, 구조에 상관없이, 성막실에 반입하면 즉시 성막 동작에 진입할 수 있는 성막 방법을 제공한다.
<해결 수단>
성막용 피가공물(W)을 사출 성형할 때, 상기 성막용 피가공물을 성막실(11) 내에 반입하여 성막대(12)에 탑재하면, 그 성막면 혹은 성막부(A', B', C')가 타겟 재료(14)와 마주보는 소정의 자세로 유지하는 어시스트 부재(1, 2)를 성막용 피가공물(W)과 일체적으로 성형하고, 이것을 성막실(11)에 반입하여 성막한다.

Description

성막 방법{FILM FORMING METHOD}

본 발명은, 수지제의 기판과 같은 성막용 피가공물(work)을 진공 챔버 혹은 성막실에 반입하고, 그리고 반입한 피가공물의 소정의 면에 박막을 형성하는 성막 방법에 관한 것이다.

성막용 피가공물의 표면 일부에 수㎛ 오더의 박막을 구비하는 제품으로서, 예를 들면 자동차에 장착되는 프론트 램프를 들 수 있다. 이 프론트 램프는 증착 장치 혹은 성막 장치에 의해 제조되지만, 성막 장치는 자기 디스크의 생성, CD/DVD의 기록면의 금속막의 생성, 액정 표시 장치의 투명전극의 생성, 광촉매막의 생성에도 적용되고 있다. 이와 같은 박막을 구비하는 제품은, 사출 성형에 의해 기판이 성형되고, 그리고 불필요한 부분을 마스킹 등을 하여 전용 성막실에 세트되고, 이어서 후술하는 바와 같은 성막 요소에 의해 박막이 형성되고 있다. 또한, 기판 상의 유기 발광층을 보호하는 보호막도 동일한 성막 장치에 의해 형성되고 있다.

이와 같은 기판의 표면에 박막을 형성하는 증착 방법 혹은 성막 방법은, 종래 주지이고, 예를 들면 성막용 피가공물인 기판의 표면과 타겟 재료를 마주보게 해놓고, 수Pa~수10Pa 정도의 아르곤 가스 분위기 중에서 타겟 재료에 수kV의 음전압을 인가하고, 그리고 방전시켜 박막을 형성하는 스퍼터링법, 진공실 중에서 전자총으로부터 발생하는 전자빔을 타겟 재료에 조사하여, 가열 증발시키 피가공물의 표면에 성막하는 전자빔 증착법, 기판에 수kV의 음전압을 인가하고 수Pa의 아르곤 가스의 압력하에서 진공 증착하는 이온 플래팅법, 플라즈마 성막 방법 등이 알려져 있고, 또한, 화학증착법도 알려져 있다. 이와 같은 성막 방법에 사용되는 타겟 재료로서는 산화물, 질화물, 탄화물 등의 화합물 타겟이 알려져 있고, 금속 타겟, 파우더 타겟 등도 알려져 있다.

특허문헌 1에는, 고정측 금형과 이동 금형에 의해 성형되는 한쌍의 반중공체 중의 한쪽의 반중공체의 내표면, 즉 성막용 피가공물의 표면을, 고정측 금형에 남긴 상태에서, 타겟 전극, 기판 전극, 진공 흡인관 등의 증착 요소가 마련되어 있는 증착용 챔버로 덮고, 고정측 금형 내에서 증착하는 성막 장치가 개시되어 있다. 특허문헌 2에는, 성막실의 메인 부분이 마스킹 기능을 겸비한 어스 실드재로 덮인 성막 장치가 개시되어 있다.

일본 특허출원공개 2008-221575호 공보 일본 특허출원공개 H11-80927호 공보

특허문헌 1에 개시되어 있는 증착 장치에 의하면, 피가공물을 금형으로부터 취출하지 않고, 증착용 챔버를 사용하여 금형 내에서 증착할 수 있기 때문에, 증착하는 표면이 손때, 먼지 등에 의해 오염되지 않고, 증착 상태가 양호한 고품질의 박막을 구비하는 제품을 얻을 수 있는 효과를 얻을 수 있다. 또한, 금형 내에 남아있는 상태로 금형 내에서 증착하기 때문에, 반중공체의 재고 관리가 불필요해진다. 더욱이, 증착 장치를 준비하는 것만으로, 특별한 금형을 사용하지 않고, 염가로 자동 성형도 할 수 있는 효과도 얻을 수 있다.

하지만, 개량해야 할 점도 존재한다. 예를 들면, 금형으로 피가공물을 성형하는 타이밍과, 증착용 챔버를 사용하여 증착하는 타이밍은 어긋나기 때문에, 타이밍을 맞추기 위해 대기 시간이 발생하여 효율적으로 제조할 수 없다. 또한, 증착용 챔버의 개구부를, 금형의 파팅면에 밀착시켜, 내부에 진공실을 형성해야 하기 때문에 밀봉의 문제도 있다. 즉, 진공도는 제품의 품질에 영향을 미치기 때문에, 고도의 밀봉성이 요구되지만, 증착용 챔버의 개구부와, 금형의 파팅면은, 목적에 따라 서로 상이한 부재에 의해, 상이하게 구성되어 있기 때문에, 밀봉이 문제가 된다. 더욱이, 금형의 요부(凹部)를 덮는 큰 증착 챔버를 금형 사이로 출입시키기 위해 금형의 형 개방량이 커지고, 그로 인해 증착용 챔버를 출입시키는 로봇도 커지는 문제도 있다.

이상과 같은 이유로부터, 금형으로 성형된 성막용 피가공물은, 금형으로부터 취출하여 전용의 성막 장치에 반입하고나서 성막하는 것이 바람직하다고 할 수도 있다. 특히, 피가공물이 평판 형상이고, 또한 성막하는 부분이 평면일 때는, 피가공물을 성막실에 반입하여 탑재하는 것만으로, 성막하는 부분을 타겟 재료와 마주보게 할 수 있기 때문에 바람직하다. 이와 같은 평면을 성막하는 성막 방법이 특허문헌 2에 개시되어 있다.

하지만, 타겟 재료는 플라즈마 입자와 같은 고에너지 입자에 의해 스퍼터되고, 그리고 타겟 입자가 되어 직진적으로 비상(飛翔)하는 경향이 있기 때문에, 타겟 재료와 마주보고 있지 않은 성막면에는 부착되기 어렵다. 즉, 타겟 재료에 대해 배면이 되는 돌출부, 요부 등은 부착되기 어렵다. 성막면이 복수개의 상이한 면으로 이루어질 때도 균일하게 부착된다고는 장담할 수 없다. 이에 따라, 피가공물을 성막실에 반입하고, 배면이 되는 부분이 적어지도록, 혹은 상이한 방향의 성막면이 타겟 재료와 가능한 마주보도록, 지그 등으로 자세를 바로잡고 유지하는 조작이 필요해져, 성막 동작에 더욱 시간이 걸리고, 비용이 상승하는 문제가 있다.

따라서, 본 발명은, 성막용 피가공물의 형상, 구조에 상관없이, 성막실에 반입하면, 즉시 성막 동작에 진입할 수 있는 성막 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명에 의하면, 성막용 피가공물은 일반적으로 사출 성형에 의해 성형된다. 이 사출 성형에는, 종래 주지와 같이, 고정측 금형과 가동측 금형을 적용하고, 필요에 따라 삽입 다이(insert die) 등을 사용한다. 또한, 1, 2차 성형에 의해 상이한 종류의 수지로 성형할 수도 있다. 이들에 의해, 복잡한 형상의 피가공물도 자동으로 성형할 수 있다. 이와 같이 하여 성막용 피가공물을 성형할 때, 어시스트 부재를 성막용 피가공물과 일체적으로 성형한다.

어시스트 부재는, 성막용 피가공물을 성막실 내에 반입하고, 성막대에 탑재하면, 성막용 피가공물의 성막면 혹은 성막부가, 타겟 재료와 마주보도록 작용한다. 즉, 어시스트 부재는, 성막실 내에 있어서 성막용 피가공물을 소정량만 기울게 하고, 소정량만 뜨게 하는 등의 변위 작용을 하여 그 위치로 유지한다. 이 이변·유지 작용에 의해, 성막면 혹은 성막부는 타겟 재료와 마주보게 된다. 여기서 말하는 "마주본다"란, 복수개의 성막면 혹은 성막부가 반드시 직각으로 마주보는 것을 의미하는 것은 아니다. 타겟 재료 쪽을 향하고, 배면이 되는 부분이 없어지거나, 혹은 배면이 되는 부분이 작아지도록 하는 방향으로 향하는 것을 의미한다.

상기와 같이, 성막용 피가공물을 성막실에 반입하면, 성막면은 타겟 재료와 마주보기 때문에, 즉시 성막 요소를 기동하여 성막을 개시한다. 성막 종료 후, 성막실로부터 취출하고, 필요에 따라 어시스트 부재를 잘라낸다. 어시스트 부재는, 제품으로부터 잘라내어 파기하는 부분이기도 하기 때문에, 절단에 적합한 구조로 성형한다.

즉, 청구항 1에 기재된 발명은, 상기 목적을 달성하기 위하여, 성막용 피가공물을 사출 성형에 의해 성형할 때, 상기 성막용 피가공물을 성막실 내에 반입하여 성막대에 탑재하면, 그 성막면 혹은 성막부가 타겟 재료와 마주보는 소정의 자세로 유지하는 어시스트 부재를, 상기 성막용 피가공물과 일체적으로 성형하고, 상기 어시스트 부재가 성형된 성막용 피가공물을 상기 성막실에 반입하여 성막하도록 구성된다.

청구항 2에 기재된 발명은, 성막용 피가공물을 사출 성형에 의해 성형할 때, 상기 성막용 피가공물을 성막실 내에 반입하여 성막대에 탑재하면, 그 성막면 혹은 성막부가 타겟 재료와 마주보는 소정의 자세로 유지하는 어시스트 부재를, 상기 성막용 피가공물과 일체적으로 성형하고, 상기 어시스트 부재가 성형된 성막용 피가공물을 상기 성막실에 반입하여 성막하고, 성막 후에 상기 어시스트 부재를 상기 성막용 피가공물로부터 잘라내도록 구성된다.

청구항 3에 기재된 발명은, 청구항 1 또는 2에 기재된 방법에 있어서, 상기 어시스트 부재를, 상기 성막용 피가공물의 이면측에 직접 또는 성막용 피가공물의 보조 부재에 일체적으로 성형하도록 구성되고, 청구항 4에 기재된 발명은, 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 기재된 방법에 있어서, 상기 어시스트 부재를, 단면적이 좁혀진 부분을 통해, 상기 성막용 피가공물 또는 상기 보조 부재에 일체적으로 성형하도록 구성되고, 청구항 5에 기재된 발명은, 청구항 1 내지 4 중의 어느 한 항에 기재된 방법에 있어서, 상기 어시스트 부재를 복수개의 봉상 부재로서 성형하도록 구성된다.

이상과 같이, 본 발명에 의하면, 성막용 피가공물에는 어시스트 부재가 일체적으로 성형되어 있기 때문에, 상기 성막용 피가공물을 성막실 내의 성막대 상에 탑재하면, 그 성막면 혹은 성막부가 타겟 재료와 마주본다. 따라서, 본 발명에 의하면, 성막용 피가공물의 형상, 구조에 상관없이, 성막실에 반입·탑재하는 즉시 성막 동작에 진입할 수 있어, 성막 시간을 단축할 수 있는 효과를 얻을 수 있다. 일반적으로, 성막용 피가공물의 사출 성형 시간보다 성막 시간이 오래 걸리지만, 오래 걸리는 시간을 단축할 수 있기 때문에, 박막을 구비하는 제품의 제조 사이클을 단축할 수 있게 된다. 어시스트 부재가 제품으로서 방해가 될 때는 잘라내지만, 다른 발명에 의하면, 어시스트 부재를 단면적이 좁혀진 부분을 통해, 성막용 피가공물 또는 보조 부재에 일체적으로 성형하고 있기 때문에, 간단히 잘라낼 수 있다. 또한, 어시스트 부재를 복수개의 봉상 부재로서 성형하는 발명에 의하면, 어시스트 부재의 성형 재료가 적게 들고, 잘라내는 작업도 쉬워진다.

도 1은 본 발명의 실시에 의해 성막하는 피가공물의 예를 나타내는 도면으로서, 도 1(a)는 그 사시도, 도 1(b)는 도 1(a)의 (a)-(a)선 단면도, 도 1(c)는 도(b)에 도시된 피가공물을 경사지게 하여 나타내는 도면으로서, 타겟 입자의 비상 방향과 성막면의 관계를 설명하기 위한 단면도, 도 1(d)는 본 발명의 실시 형태에 따른 어시스트 부재가 일체적으로 성형된 예를 나타내는 도면으로서, 도 1(b)에 상당하는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시에 사용되는 성막 장치의 예를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시 형태에 따른 어시스트 부재를 구비한 피가공물의 메인 부분을 나타내는 도면으로서, 도 3(a)는 어시스트 부재가 1개인 예를 나타내는 단면도, 도 3(b)는 도 1(d)에 있어서 X-X 방향에서 바라본 도면에 상당하는 다른 실시 형태를 나타내는 측면도이다.

이하, 본 발명의 실시 형태를 도 1에 의해 설명한다. 본 실시 형태에 의하면, 성막용 피가공물(W)은, 도 1의 (a), (b)에 도시되어 있는 바와 같이, 정상부(A)와, 상기 정상부(A)에 거의 직각인 양측부(B, B)로 이루어지고, 전체적으로는 ㄷ형강을 절단한 바와 같은 형상을 하고 있다. 그리고, 정상부(A)의 이면측에 비교적 깊은 요부(C)를 구비한다. 요부(C)는 평평한 정상부(A)에 대해 경사져 있다. 따라서, 도 1(b)에 있어서 다수의 화살표로 도시되어 있는 타겟 입자는, 양측부(B, B)의 성막면(B', B') 및 요부(C)의 성막 저면(C')에는 도달하기 어렵고, 이들의 면은 타겟 입자가 부착되기 어려운 성막면 혹은 성막부(B', B', C')로 되어 있다. 본 실시 형태는, 이들의 상이한 성막면(B', B'), 성막 저면(C')도 동시에 성막하고자 한다.

상기 성막용 피가공물(W)은, 종래 주지의 금형에 의해 성형할 수 있기 때문에, 구체적인 금형의 예는 제시하지 않고 있지만, 종래 주지의 고정측 금형과, 상기 고정측 금형에 대해 형 개폐되는 가동측 금형에 의해 정상부(A)와 양측부(B, B)를 성형하고, 그와 동시에 금형의 파팅면측에 형 개폐 방향에 대해 경사 방향으로 구동 가능하게 마련되어 있는 삽입 다이 등에 의해 요부(C)를 성형한다.

상기와 같이 성막용 피가공물(W)을 성형할 때, 어시스트 부재를 성막용 피가공물(W)과 일체적으로 성형한다. 본 실시 형태에 의하면 성막용 피가공물(W)은, 도 1(c)에 도시되어 있는 바와 같이 수평면에서 소정 각도만 기울이면 타겟 입자는 피가공물(W)의 정상부(A)의 성막면(A')과 함께, 양측의 성막면(B', B') 및 요부(C)의 성막 저면(C')에도 효과적으로 도달하게 된다. 따라서, 본 실시 형태에서는, 도 1(d)에 도시되어 있는 바와 같이, 양측부(B, B)의 이면측에서 외부로 소정 길이만 연장된 한 쌍의 장단(長短) 어시스트 부재(1, 2)를 일체적으로 성형한다. 이들의 어시스트 부재(1, 2)에 의해 피가공물(W)은, 도 1(c)에 도시되어 있는 바와 같이 경사져서 지지된다. 본 실시 형태에 의하면, 장단 어시스트 부재(1, 2)는, 양측부(B, B)의 이면측에, 측부(B, B)의 일부로서 성형되기 때문에, 성형 후 금형으로부터 쉽게 뺄 수 있다.

성막 장치는, 앞에서도 설명한 바와 같이, 스퍼터링 성막 장치, 전자빔 증착 장치, 이온 플래팅 성막 장치 등으로서 종래 주지이고, 또한, 스퍼터링 방식의 성막 장치도 직류식, 고주파식, 마그네트론식 등으로서 주지이기 때문에, 상세한 설명은 하지 않지만, 도 2에 직류식 스퍼터링 성막 장치(10)가 모식적으로 도시되어 있다. 성막실(11)의 하부에는, 평판 형상의 성막대(기판 전극)(12)가 마련되고, 이 성막대(12)와 마주보고 그 상방에 타겟 장착대(타겟 전극)(13)가 마련되어 있다. 성막실(11)의 외부에 있어서, 성막대(12)와 타겟 장착대(13)에 각각 접속된 직류 전원(15)이 배치되어 있다. 또한, 성막실(11)에는, 진공 성막에 필요한 로터리 펌프 등으로 이루어지는 진공원(16), 불활성 가스 탱크 혹은 탄산 가스와 같은 불활성 가스를 제조하는 불활성 가스 공급원(17) 등이 접속되어 있다. 또, 성막용 피가공물(W)의 출입구는, 조작하기 쉽도록 성막실(11)의 전면측에 마련되어 있지만, 전면 도어 등과 함께 도시되어 있지는 않다.

다음으로, 상기 실시 형태에 따른 성막 장치(10)를 사용한 성막 예에 대해 설명한다. 앞서 설명한 바와 같이, 어시스트 부재(1, 2)가 구비된 성막용 피가공물(W)을 사출 성형한다. 가동측 금형을 개방하여 성막용 피가공물(W)을 밀어내고, 예를 들면 다관절 로봇에 의해 성막실(11)에 반입하여 성막대(12)에 탑재한다. 탑재하면, 성막용 피가공물(W)은, 도 2에 도시되어 있는 바와 같이 한 쌍의 장단 어시스트 부재(1, 2)에 의해 성막대(12) 상에 경사진 상태로 지지된다. 성막면(A', B', B', C')은 타겟 재료(14)와 마주본다.

성막실(11)의 전면 도어를 닫는다. 즉시 성막 요소를 기동한다. 즉, 진공원(16)과, 불활성 가스 공급원(17)을 적절히 구동하여 성막실(11) 내를 수Pa~수10Pa 정도의 불활성 가스 분위기로 한다. 그리고, 타겟 재료(14)를 미리 장착해 놓은 타겟 장착대(13)에는 음전압을, 성막대(12)에는 양전압을 인가하여, 방전시킨다. 그러면, 성막용 피가공물(W)의 정상부(A)의 성막면(A')과 함께, 양측의 성막면(B', B')과, 요부(C)의 성막 저면(C')에도 타겟 입자가 도달하고, 종래 주지와 같이하여 박막이 형성된다. 또, 한쪽의 성막면(B')은 타겟 재료(14)와는 직접적으로는 마주보지 않고 있지만, 타겟 입자는 성막실(11) 내에서 난반사도 하기 때문에, 이 성막면(B')에도 박막은 형성된다.

성막 동작이 종료되면, 성막 요소를 정지시키고 전면 도어를 개방하여, 상기한 로봇과 같은 핸들링 장치에 의해 성막된 피가공물(W)을 취출한다. 어시스트 부재(1, 2)가 제품으로서 지장을 초래할 때는, 성막된 피가공물(W)로부터 튀어나온 부분을 잘라낸다. 이후의 성막용 피가공물(W)에 대해서도 동일하게 하여 성막한다.

상기 실시 형태에 의하면, 어시스트 부재(1, 2)는 양측부(B, B)에 각각 형성되어 있지만, 1개의 어시스트 부재에 의해서도 실시할 수 있다. 그 예가 도 3(a)에 도시되어 있다. 상세한 설명은 하지 않지만, 본 실시 형태에 의하면, 한쪽의 측부(B)는 직접 성막대(12)에 탑재되고, 다른 한쪽만 어시스트 부재(2)에 의해 유지되도록 되어 있다. 또한, 어시스트 부재(1) 혹은 어시스트 부재(2)는, 복수개로도 실시할 수 있다. 예를 들면, 도 3(b)는 도 1(d)에 있어서 X-X 방향에서 바라본 도면에 상당하는 측면도이고, 이 측면도에 도시되어 있는 바와 같이, 어시스트 부재(2)를 2개의 어시스트봉(2', 2')으로 실시할 수도 있다. 피가공물(W)의 한쪽을 2개의 어시스트봉(2', 2')으로 지지하면, 피가공물(W)은 물리적으로 안정되기 때문에, 어시스트 부재(1)는 1개의 봉(棒)으로 실시할 수도 있다. 이와 같이 봉상의 어시스트 부재로 실시하면, 파기하는 수지의 양이 줄어들고, 제품 비용이 저하한다.

또한, 상기 실시 형태에서는, 어시스트 부재는 성막용 피가공물(W)의 측부(B, B)에 일체적으로 성형되어 있지만, 성막용 피가공물(W)의 형상에 따라 다른 부분에 성형할 수도 있다. 나가가, 성막용 피가공물(W)의 성막면의 이면에 보강 부재 등의 보조 부재가 성형될 때는, 이 보조 부재에 성형하게 된다. 이 경우, 성막용 피가공물(W)과 보조 부재와 어시스트 부재가 일체적으로 성형된다.

또한, 어시스트 부재의 절단하는 부분은, 절단하기 쉬운 구조, 예를 들면 단면적이 좁은 구조로 성형할 수도 있다. 예를 들면, 어시스트 부재가 성막용 피가공물(W)에 복수개 일체적으로 성형되어 있을 때, 복수개의 어시스트 부재(1, 2) 중의 적어도 하나는, 성막용 피가공물(W)의 측부(B)로부터 튀어나오는 부분의 단면적이 좁아지도록 성형할 수 있다. 구체적으로, 도 2에 나타내는 바와 같이 어시스트 부재(1)보다 긴 어시스트 부재(2)에 대해, 성막용 피가공물(W)의 측부(B')로부터 튀어나오는 부분의 단면적이 좁아지도록 성형해도 좋다. 혹은, 복수개의 어시스트 부재(1, 2) 각각에 대해, 성막용 피가공물(W)의 측부(B, B)로부터 튀어나오는 부분의 단면적이 좁아지도록 성형해도 좋다(도 1(d) 참조). 이와 같이, 어시스트 부재에 단면적이 좁은 부분을 마련하는 것에 의해, 어시스트 부재를 절단하기 쉬어지는 한편, 어시스트 부재의 성형에 필요한 부재의 양을 줄일 수 있다.

또, 본 실시 형태에 의해 성막하는 부분은 "평면"으로서 설명되고 있지만, 돌출부, 요부 등의 "곡면"에도 동일하게 하여 성막 가능한 것은 물론이다.

W: 성막용 피가공물
1, 2: 어시스트 부재
11: 성막실
13: 타겟 장착대
A', B', C': 성막면(성막부)
10: 성막 장치
12: 성막대
14: 타겟 재료

Claims

성막용 피가공물을 사출 성형에 의해 성형할 때, 상기 성막용 피가공물을 성막실 내에 반입하여 성막대에 탑재하면, 그 성막면 혹은 성막부가 타겟 재료와 마주보는 소정의 자세로 유지하는 어시스트 부재를, 상기 성막용 피가공물과 일체적으로 성형하고, 상기 어시스트 부재가 성형된 성막용 피가공물을 상기 성막실에 반입하여 성막하는 것을 특징으로 하는 성막 방법.
제 1항에 있어서,
성막 후에 상기 어시스트 부재를 상기 성막용 피가공물로부터 잘라내는 것을 특징으로 하는 성막 방법.
제 1항에 있어서,
상기 어시스트 부재를, 상기 성막용 피가공물의 이면측에 직접 또는 성막용 피가공물의 보조 부재에 일체적으로 성형하는 성막 방법.
제 3항에 있어서,
상기 어시스트 부재는, 단면적이 좁혀진 부분을 구비하고, 상기 성막용 피가공물 또는 상기 보조 부재에 일체적으로 성형하는 성막 방법.
제 1항에 있어서,
상기 어시스트 부재를 복수개의 봉상(棒狀) 부재로서 성형하는 성막 방법.
제 1항에 있어서,
상기 어시스트 부재는, 상기 성막용 피가공물의 측면으로부터 튀어나오는 부분에, 단면적이 좁혀진 부분을 구비하는 성막 방법.
제 1항에 있어서,
상기 성막용 피가공물에는 상기 어시스트 부재가 복수개 일체적으로 형성되어 있는 성막 방법.
제 7항에 있어서,
상기 복수개의 어시스트 부재 중의 적어도 하나가, 상기 성막용 피가공물의 측면으로부터 튀어나오는 부분에, 상기 단면적이 좁혀진 부분을 구비하는 성막 방법.