JP5656774B2 - 金属表面改質方法 - Google Patents
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Description
1A 密封扉
1B 基台
2 移動装置
3 真空装置
3A スクロールポンプ
3B ターボ分子ポンプ
4 希ガス供給装置
4A ボンベ
4B 配管
4C 供給口
4D 密閉空間
5 電子ビーム発生装置
5A カソード電極
5B アノード電極
5C コレクタ
5D ソレノイド
5E グランドライン
5F 電子ビーム発生用電源装置
5G プラズマ発生用電源装置
5H スイッチ
6 被照射体
10 移動体
20 移動体
30 昇降装置
40 テーブル
Claims (2)
- 密閉されたチャンバと、該チャンバに収容されたカソード電極、アノード電極、および棒状の被照射体と、前記アノード電極と前記被照射体との間で前記チャンバの外に配置されて磁場を形成するソレノイドと、を有し、
前記カソード電極から電子が放出され、前記アノード電極の中にプラズマを生成して前記電子を収束し、前記ソレノイドにより形成される磁場によって前記カソード電極から放出される電子を該カソード電極と前記被照射体との間の加速空間で加速させて電子ビームを前記被照射体に照射する金属表面改質方法において、
前記チャンバの中を真空に近い状態にして、前記アノード電極の中にプラズマを生成するために必要な希ガスを供給するとともに、前記電子の速度を窪部位のエッジの形状を喪失させない速度まで低下させるために0.06Pa〜0.085Paの圧力の希ガスを前記アノード電極と前記被照射体との間に介在させ、前記電子の加速空間とプラズマ空間と前記希ガスによる前記電子の減速空間とが存在し得る範囲内で前記カソード電極と前記被照射体との間の距離を可能限り短くするように前記被照射体を前記チャンバの内壁と衝突しない限界の位置に上昇させて設定し、前記被照射体の選択された被照射面が均一に改質されるまで所定のエネルギの電子ビームを所定回数繰返し前記被照射面に照射する金属表面改質方法。 - 前記選択された被照射面が改質された後に改質された被照射面と改質されていない被照射面とが電子ビームの照射領域で2分の1以上重複するように前記被照射体を回転させて次の被照射面を選択するようにすることを特徴とする請求項1に記載の金属表面改質方法。
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