JP4222646B2 - 真空成膜方法および装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空中で薄膜を形成する真空成膜装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ターゲットと対向して配置された基板の上に薄膜を形成する真空成膜装置は図３と図４に示すように構成されている。
【０００３】
この真空成膜装置は光ディスクとなる材質がポリカーボネートの樹脂基板１に成膜する装置で、チャンバー２にはターゲット３と前記の樹脂基板１とを対向して配置し、ターゲット３の背面側にマグネットユニット４を配置している。マグネットユニット４はモータ５によって支持軸６の軸芯７の回りに回転駆動されている。８はチャンバーの壁面などを覆う防着板である。
【０００４】
このチャンバー２には、希ガス導入バルブ９を介してアルゴンガス１０が導入され、またチャンバー２の雰囲気は真空排気バルブ１１を介して高真空ポンプユニット１２に接続されて排気されている。
【０００５】
この装置では、ターゲット３の裏面側に配置したマグネットユニット４により構成される磁界の影響により、電力印加時にターゲット３の表面上に高密度プラズマ領域１３が形成され、樹脂基板１の表面に成膜される。
【０００６】
従来の防着板８は、材質がステンレスなどの複数枚の金属板をチャンバー２の内部に配置してチャンバー２への膜の堆積を防止している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
防着板８は、図４に示すように１枚の底板８ａと４枚の側板８ｂ〜８ｅとで構成されており、ターゲット３の交換時などに行う防着板８の着脱作業が煩わしく、成膜の作業効率の低下の原因となっている。
【０００８】
本発明はチャンバーへの膜の堆積を簡単に防止しながら成膜できる真空成膜方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の真空成膜方法は、一体に樹脂成形された防着体をセットし、この状態で成膜を開始して成膜することを特徴とする。
【００１０】
この本発明によると、チャンバーの壁面への薄膜の堆積を防止する防着体の着脱が容易で、成膜の作業効率の改善を実現できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
請求項１記載の真空成膜方法は、チャンバー中でポリカーボネートの樹脂基板の上に成膜するに際し、前記チャンバーにはチャンバーの壁面と前記樹脂基板の非成膜部のうちの少なくともチャンバーの壁面を覆うように一体に成形された絶縁性で前記樹脂基板と同一のポリカーボネートの防着体をセットし、かつ、前記樹脂基板に対向してターゲットが配置されたターゲットの背面側に設けられたマグネットユニットを支持軸の軸心の回りに回転駆動した状態で成膜を開始して成膜することを特徴とする。
【００１２】
請求項２記載の真空成膜装置は、チャンバー中でポリカーボネートの樹脂基板の上に成膜する真空成膜装置であって、チャンバーの壁面と前記樹脂基板の非成膜部のうちの少なくともチャンバーの壁面を覆うように一体に成形された絶縁性で前記樹脂基板と同一のポリカーボネートの防着体を設け、かつ前記樹脂基板に対向してターゲットが配置されると共に、前記ターゲットの背面側には支持軸の軸心の回りに回転駆動するマグネットユニットを設けたことを特徴とする。
【００１３】
以下、本発明の真空成膜方法を図１と図２に示す具体的な実施の形態に基づいて説明する。
【００１４】
なお、従来例を示す図３と図４と同様の作用を成すものには同一の符号を付けて説明する。
（実施の形態）
図１と図２は本発明の真空成膜方法を実現する真空成膜装置を示す。
【００１５】
この真空成膜装置は光ディスクとなる材質がポリカーボネートの樹脂基板１に成膜する装置で、チャンバー２にはターゲット３と前記の樹脂基板１とを対向して配置し、ターゲット３の背面側にマグネットユニット４を配置している。マグネットユニット４はモータ５によって支持軸６の軸芯７の回りに回転駆動されている。１４はチャンバーの壁面などを覆う防着体である。
【００１６】
このチャンバー２には、希ガス導入バルブ９を介してアルゴンガス１０が導入され、またチャンバー２の雰囲気は真空排気バルブ１１を介して高真空ポンプユニット１２に接続されて排気されている。
【００１７】
防着体１４は、材質が樹脂で、より具体的には材質が樹脂基板１と同一のポリカーボネートを使用し、図２に示すように底板の部分と側板の部分とが箱形に一体に成形されている。
【００１８】
このように構成したため、チャンバー２に樹脂基板１をセットし、さらにチャンバー２の中に、一体に成形された前記の防着体１４をセットし、チャンバー２を閉塞し、希ガス導入バルブ９を介してアルゴンガス１０をチャンバーに導入し、またチャンバー２の雰囲気をは真空排気バルブ１１を介して高真空ポンプユニット１２によって排気することによって、樹脂基板１の表面に成膜される。
【００１９】
したがって、一体に成形された防着体１４をチャンバー２にセットすることによって、従来のように複数枚の平板をチャンバー２の内部でその都度に組み立てて成膜する場合に比べて、作業性が良好である。
【００２０】
また、防着体１４が樹脂製であるため絶縁性があり、異常放電を抑えることで高品質の薄膜が得られる。
さらに、防着体１４の材質が成膜を受ける樹脂基板１と同じ材質のポリカーボネートであるため、樹脂基板１の上に成膜された薄膜の品質が、防着体をチャンバー２に設けたことによって低下するような事態を防止でき、高品質の薄膜を樹脂基板１の表面に形成することができる。
【００２２】
上記の実施の形態では、チャンバーの壁面および樹脂基板１の非成膜部を覆うように一体に樹脂成形された防着体１４を使用したが、防着体１４が樹脂基板１の非成膜部を覆わない場合も同様である。
【００２３】
【発明の効果】
以上のように本発明の真空成膜方法によれば、チャンバー中でポリカーボネートの樹脂基板の上に成膜するに際し、前記チャンバーにはチャンバーの壁面と前記樹脂基板の非成膜部のうちの少なくともチャンバーの壁面を覆うように一体に成形された絶縁性で前記樹脂基板と同一のポリカーボネートの防着体をセットし、かつ、前記樹脂基板に対向してターゲットが配置されたターゲットの背面側に設けられたマグネットユニットを支持軸の軸心の回りに回転駆動した状態で成膜を開始して成膜するので、従来のように複数枚の平板をチャンバーの内部でその都度に組み立てて成膜する場合に比べて、作業性が良好である。
【００２４】
さらに、防着体の材質が成膜を受ける樹脂基板と同じ材質にした場合には、樹脂基板の上に特に高品質の薄膜を形成できる。
また、本発明の真空成膜装置は、チャンバー中でポリカーボネートの樹脂基板の上に成膜する真空成膜装置であって、チャンバーの壁面と前記樹脂基板の非成膜部のうちの少なくともチャンバーの壁面を覆うように一体に成形された絶縁性で前記樹脂基板と同一のポリカーボネートの防着体を設け、かつ前記樹脂基板に対向してターゲットが配置されると共に、前記ターゲットの背面側には支持軸の軸心の回りに回転駆動するマグネットユニットを設けたことを特徴とし、上記の真空成膜方法を実現できる。
【００２５】
さらに、防着体の材質を成膜を受ける樹脂基板と同一材質にすることによって、この真空成膜装置を使用すると、樹脂基板の上に特に高品質の薄膜を形成できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の（実施の形態）の真空成膜装置の断面図
【図２】同実施の形態のチャンバーと防着体の分解斜視図
【図３】従来の真空成膜装置の断面図
【図４】同従来例のチャンバーと防着板の分解斜視図
【符号の説明】
１ 樹脂基板
２ チャンバー
３ ターゲット
４ マグネットユニット
５ モータ
６ 支持軸
７ 支持軸の軸芯
９ 希ガス導入バルブ
１０ アルゴンガス
１１ 真空排気バルブ
１２ 高真空ポンプユニット
１４ 防着体
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空中で薄膜を形成する真空成膜装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ターゲットと対向して配置された基板の上に薄膜を形成する真空成膜装置は図３と図４に示すように構成されている。
【０００３】
この真空成膜装置は光ディスクとなる材質がポリカーボネートの樹脂基板１に成膜する装置で、チャンバー２にはターゲット３と前記の樹脂基板１とを対向して配置し、ターゲット３の背面側にマグネットユニット４を配置している。マグネットユニット４はモータ５によって支持軸６の軸芯７の回りに回転駆動されている。８はチャンバーの壁面などを覆う防着板である。
【０００４】
このチャンバー２には、希ガス導入バルブ９を介してアルゴンガス１０が導入され、またチャンバー２の雰囲気は真空排気バルブ１１を介して高真空ポンプユニット１２に接続されて排気されている。
【０００５】
この装置では、ターゲット３の裏面側に配置したマグネットユニット４により構成される磁界の影響により、電力印加時にターゲット３の表面上に高密度プラズマ領域１３が形成され、樹脂基板１の表面に成膜される。
【０００６】
従来の防着板８は、材質がステンレスなどの複数枚の金属板をチャンバー２の内部に配置してチャンバー２への膜の堆積を防止している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
防着板８は、図４に示すように１枚の底板８ａと４枚の側板８ｂ〜８ｅとで構成されており、ターゲット３の交換時などに行う防着板８の着脱作業が煩わしく、成膜の作業効率の低下の原因となっている。
【０００８】
本発明はチャンバーへの膜の堆積を簡単に防止しながら成膜できる真空成膜方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の真空成膜方法は、一体に樹脂成形された防着体をセットし、この状態で成膜を開始して成膜することを特徴とする。
【００１０】
この本発明によると、チャンバーの壁面への薄膜の堆積を防止する防着体の着脱が容易で、成膜の作業効率の改善を実現できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
請求項１記載の真空成膜方法は、チャンバー中でポリカーボネートの樹脂基板の上に成膜するに際し、前記チャンバーにはチャンバーの壁面と前記樹脂基板の非成膜部のうちの少なくともチャンバーの壁面を覆うように一体に成形された絶縁性で前記樹脂基板と同一のポリカーボネートの防着体をセットし、かつ、前記樹脂基板に対向してターゲットが配置されたターゲットの背面側に設けられたマグネットユニットを支持軸の軸心の回りに回転駆動した状態で成膜を開始して成膜することを特徴とする。
【００１２】
請求項２記載の真空成膜装置は、チャンバー中でポリカーボネートの樹脂基板の上に成膜する真空成膜装置であって、チャンバーの壁面と前記樹脂基板の非成膜部のうちの少なくともチャンバーの壁面を覆うように一体に成形された絶縁性で前記樹脂基板と同一のポリカーボネートの防着体を設け、かつ前記樹脂基板に対向してターゲットが配置されると共に、前記ターゲットの背面側には支持軸の軸心の回りに回転駆動するマグネットユニットを設けたことを特徴とする。
【００１３】
以下、本発明の真空成膜方法を図１と図２に示す具体的な実施の形態に基づいて説明する。
【００１４】
なお、従来例を示す図３と図４と同様の作用を成すものには同一の符号を付けて説明する。
（実施の形態）
図１と図２は本発明の真空成膜方法を実現する真空成膜装置を示す。
【００１５】
この真空成膜装置は光ディスクとなる材質がポリカーボネートの樹脂基板１に成膜する装置で、チャンバー２にはターゲット３と前記の樹脂基板１とを対向して配置し、ターゲット３の背面側にマグネットユニット４を配置している。マグネットユニット４はモータ５によって支持軸６の軸芯７の回りに回転駆動されている。１４はチャンバーの壁面などを覆う防着体である。
【００１６】
このチャンバー２には、希ガス導入バルブ９を介してアルゴンガス１０が導入され、またチャンバー２の雰囲気は真空排気バルブ１１を介して高真空ポンプユニット１２に接続されて排気されている。
【００１７】
防着体１４は、材質が樹脂で、より具体的には材質が樹脂基板１と同一のポリカーボネートを使用し、図２に示すように底板の部分と側板の部分とが箱形に一体に成形されている。
【００１８】
このように構成したため、チャンバー２に樹脂基板１をセットし、さらにチャンバー２の中に、一体に成形された前記の防着体１４をセットし、チャンバー２を閉塞し、希ガス導入バルブ９を介してアルゴンガス１０をチャンバーに導入し、またチャンバー２の雰囲気をは真空排気バルブ１１を介して高真空ポンプユニット１２によって排気することによって、樹脂基板１の表面に成膜される。
【００１９】
したがって、一体に成形された防着体１４をチャンバー２にセットすることによって、従来のように複数枚の平板をチャンバー２の内部でその都度に組み立てて成膜する場合に比べて、作業性が良好である。
【００２０】
また、防着体１４が樹脂製であるため絶縁性があり、異常放電を抑えることで高品質の薄膜が得られる。
さらに、防着体１４の材質が成膜を受ける樹脂基板１と同じ材質のポリカーボネートであるため、樹脂基板１の上に成膜された薄膜の品質が、防着体をチャンバー２に設けたことによって低下するような事態を防止でき、高品質の薄膜を樹脂基板１の表面に形成することができる。
【００２２】
上記の実施の形態では、チャンバーの壁面および樹脂基板１の非成膜部を覆うように一体に樹脂成形された防着体１４を使用したが、防着体１４が樹脂基板１の非成膜部を覆わない場合も同様である。
【００２３】
【発明の効果】
以上のように本発明の真空成膜方法によれば、チャンバー中でポリカーボネートの樹脂基板の上に成膜するに際し、前記チャンバーにはチャンバーの壁面と前記樹脂基板の非成膜部のうちの少なくともチャンバーの壁面を覆うように一体に成形された絶縁性で前記樹脂基板と同一のポリカーボネートの防着体をセットし、かつ、前記樹脂基板に対向してターゲットが配置されたターゲットの背面側に設けられたマグネットユニットを支持軸の軸心の回りに回転駆動した状態で成膜を開始して成膜するので、従来のように複数枚の平板をチャンバーの内部でその都度に組み立てて成膜する場合に比べて、作業性が良好である。
【００２４】
さらに、防着体の材質が成膜を受ける樹脂基板と同じ材質にした場合には、樹脂基板の上に特に高品質の薄膜を形成できる。
また、本発明の真空成膜装置は、チャンバー中でポリカーボネートの樹脂基板の上に成膜する真空成膜装置であって、チャンバーの壁面と前記樹脂基板の非成膜部のうちの少なくともチャンバーの壁面を覆うように一体に成形された絶縁性で前記樹脂基板と同一のポリカーボネートの防着体を設け、かつ前記樹脂基板に対向してターゲットが配置されると共に、前記ターゲットの背面側には支持軸の軸心の回りに回転駆動するマグネットユニットを設けたことを特徴とし、上記の真空成膜方法を実現できる。
【００２５】
さらに、防着体の材質を成膜を受ける樹脂基板と同一材質にすることによって、この真空成膜装置を使用すると、樹脂基板の上に特に高品質の薄膜を形成できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の（実施の形態）の真空成膜装置の断面図
【図２】同実施の形態のチャンバーと防着体の分解斜視図
【図３】従来の真空成膜装置の断面図
【図４】同従来例のチャンバーと防着板の分解斜視図
【符号の説明】
１ 樹脂基板
２ チャンバー
３ ターゲット
４ マグネットユニット
５ モータ
６ 支持軸
７ 支持軸の軸芯
９ 希ガス導入バルブ
１０ アルゴンガス
１１ 真空排気バルブ
１２ 高真空ポンプユニット
１４ 防着体
Claims (2)
- チャンバー中でポリカーボネートの樹脂基板の上に成膜するに際し、前記チャンバーにはチャンバーの壁面と前記樹脂基板の非成膜部のうちの少なくともチャンバーの壁面を覆うように一体に成形された絶縁性で前記樹脂基板と同一のポリカーボネートの防着体をセットし、かつ、前記樹脂基板に対向してターゲットが配置されたターゲットの背面側に設けられたマグネットユニットを支持軸の軸心の回りに回転駆動した状態で成膜を開始して成膜する
真空成膜方法。 - チャンバー中でポリカーボネートの樹脂基板の上に成膜する真空成膜装置であって、チャンバーの壁面と前記樹脂基板の非成膜部のうちの少なくともチャンバーの壁面を覆うように一体に成形された絶縁性で前記樹脂基板と同一のポリカーボネートの防着体を設け、かつ前記樹脂基板に対向してターゲットが配置されると共に、前記ターゲットの背面側には支持軸の軸心の回りに回転駆動するマグネットユニットを設けた
真空成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23754297A JP4222646B2 (ja) | 1997-09-03 | 1997-09-03 | 真空成膜方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23754297A JP4222646B2 (ja) | 1997-09-03 | 1997-09-03 | 真空成膜方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1180927A JPH1180927A (ja) | 1999-03-26 |
| JP4222646B2 true JP4222646B2 (ja) | 2009-02-12 |
Family
ID=17016882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23754297A Expired - Fee Related JP4222646B2 (ja) | 1997-09-03 | 1997-09-03 | 真空成膜方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
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|---|---|---|---|---|
| JP4989406B2 (ja) * | 2007-10-09 | 2012-08-01 | 富士フイルム株式会社 | パーティクル付着防止カバー、このパーティクル付着防止カバーを設けた蒸着装置及び蒸着方法 |
| JP5620352B2 (ja) | 2011-09-12 | 2014-11-05 | 株式会社日本製鋼所 | 成膜方法 |
| JP6277883B2 (ja) * | 2014-06-20 | 2018-02-14 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリアー性フィルムの製造方法及び製造装置 |
-
1997
- 1997-09-03 JP JP23754297A patent/JP4222646B2/ja not_active Expired - Fee Related
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