JP2006305804A - 型内成膜装置および型内成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 被成膜成形体が保持される可動金型5と、成膜装置7が内装される固定金型6とを型合わせし、型内を真空雰囲気下にして成膜するように構成するにあたり、型内は、可動金型5と固定金型6との型合わせ面に介装されるO−リング13で気密維持されるようにして、可動金型5と固定金型6との型合わせ面に、0.3mm以上の隙間Sを存する状態で排気するようにした。
【選択図】 図6
Description
そこで、型成形した成形体を、金型内に保持した状態で成膜する型内成形成膜装置について提唱した(たとえば特許文献1、2)。
請求項2の発明は、請求項1において、隙間は0.3mm以上であることを特徴とする型内成膜装置である。
請求項3の発明は、請求項1または2において、隙間は、型内圧力が、型内容量に相当する容量の閉鎖空間内の空気を真空ポンプPで排気したときに成膜工程で要求される要求真空圧力に到達するまでの時間に略相当する時間で要求真空圧力に到達する大きさに設定されることを特徴とする型内成膜装置である。
請求項4の発明は、被成膜成形体が保持される第一金型と、成膜装置が内装される第二金型とを型合わせし、型内を真空雰囲気下にして成膜するようにしてなる型内成膜方法において、型内を、第一金型と第二金型との型合わせ面間が気密材を介して気密維持され状態で、第一金型と第二金型との突合せ面間に隙間を存する状態で真空雰囲気にし、成膜するようにしたことを特徴とする型内成膜方法である。
請求項5の発明は、請求項4において、隙間は、型内圧力が、型内容量に相当する容量の閉鎖空間内の空気を真空ポンプPで排気したときに成膜工程で要求される要求真空圧力に到達するまでの時間に略相当する時間で要求真空圧力に到達する大きさに設定されることを特徴とする型内成膜方法である。
請求項2の発明とすることにより、真空度の到達速度が迅速で、より効率の良い型内成膜作業ができることになる。
請求項3または5の発明とすることにより、要求真空圧力に早期に達することになる。
次いで可動金型5が型離れ方向に移動するが、このとき第一成形体2は可動金型2側に、第二成形体3は固定金型6側に残る(図3(C)参照)ように設定されている。
尚、本実施の形態では、成膜工程で要求される型内の真空圧力(要求真空圧力)が真空ポンプの到達真空圧力と一致するように設定されているが、これに限定されるものでなく、真空ポンプの到達真空圧力が要求真空圧力よりも大きいものであっても実施することができ、この場合、型内が要求真空圧力になったことを圧力センサ等によって検知し、該検知がなされたことで真空ポンプと方とのあいだの排気通路に設けた開閉弁を閉じるようにすれば良いことになる。そしてこの場合に、隙間Sは、型内圧力が、型内容量に相当する容量の閉鎖空間内の空気を真空ポンプPで排気したときに成膜工程で要求される要求真空圧力に到達するまでの時間に略相当する時間で要求真空圧力に到達する大きさに設定されることになる。
これに対し隙間Sが0.3mmのものは0.4Paに達するまで60秒であった。そして隙間Sが0.4mm以上のものは0.4Paに到達するまでの時間が何れも40秒以上、50秒までのあいだであって、前記理論的計算時間に略一致していることが確認された。隙間Sが1.0mmを越えるものについても検討したが、この場合には採用したO−リング13による気密性維持の難しさと、隙間Sが大きくなることによりマスキング性能が低下するという問題が発生するが、O−リングによる気密性維持の問題についてはリング径を太くすれば解決する。
そして好ましい隙間Sとしては、前記実施の形態の条件下においては0.3mm以上であることが好ましく、隙間Sが0.2mm以下の場合には、作業効率が低下することが確認された。
2 第一成形体
2a 成膜
3 第二成形体
4 成膜成形装置
5 可動金型
6 固定金型
13 O−リング
S 隙間
Claims (5)
- 被成膜成形体が保持される第一金型と、成膜装置が内装される第二金型とを型合わせし、型内を真空雰囲気下にして成膜するように構成してなる型内成膜装置において、型内は、第一金型と第二金型との型合わせ面に介装される気密材を介して気密維持されるものとし、第一金型と第二金型との型合わせ面には隙間を存する状態で真空雰囲気にし、成膜するように設定されていることを特徴とする型内成膜装置。
- 請求項1において、隙間は0.3mm以上であることを特徴とする型内成膜装置。
- 請求項1または2において、隙間は、型内圧力が、型内容量に相当する容量の閉鎖空間内の空気を真空ポンプPで排気したときに成膜工程で要求される要求真空圧力に到達するまでの時間に略相当する時間で要求真空圧力に到達する大きさに設定されることを特徴とする型内成膜装置。
- 被成膜成形体が保持される第一金型と、成膜装置が内装される第二金型とを型合わせし、型内を真空雰囲気下にして成膜するようにしてなる型内成膜方法において、型内を、第一金型と第二金型との型合わせ面間が気密材を介して気密維持され状態で、第一金型と第二金型との突合せ面間に隙間を存する状態で真空雰囲気にし、成膜するようにしたことを特徴とする型内成膜方法。
- 請求項4において、隙間は、型内圧力が、型内容量に相当する容量の閉鎖空間内の空気を真空ポンプPで排気したときに成膜工程で要求される要求真空圧力に到達するまでの時間に略相当する時間で要求真空圧力に到達する大きさに設定されることを特徴とする型内成膜方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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- 2005-04-27 JP JP2005129343A patent/JP2006305804A/ja active Pending
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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