KR20120046457A - 금속 잉크 조성물, 이를 이용한 전도성 금속막 형성방법 및 이를 이용한 전도성 금속막 - Google Patents
금속 잉크 조성물, 이를 이용한 전도성 금속막 형성방법 및 이를 이용한 전도성 금속막 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20120046457A KR20120046457A KR1020100108121A KR20100108121A KR20120046457A KR 20120046457 A KR20120046457 A KR 20120046457A KR 1020100108121 A KR1020100108121 A KR 1020100108121A KR 20100108121 A KR20100108121 A KR 20100108121A KR 20120046457 A KR20120046457 A KR 20120046457A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- metal
- compound
- ink composition
- substrate
- formula
- Prior art date
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 120
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 120
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 58
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 76
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 26
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 26
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 10
- -1 NH 2 COOR ′ Chemical group 0.000 claims description 18
- DZAUWHJDUNRCTF-UHFFFAOYSA-N 3-(3,4-dihydroxyphenyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC=C(O)C(O)=C1 DZAUWHJDUNRCTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 7
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 7
- KIUKXJAPPMFGSW-DNGZLQJQSA-N (2S,3S,4S,5R,6R)-6-[(2S,3R,4R,5S,6R)-3-Acetamido-2-[(2S,3S,4R,5R,6R)-6-[(2R,3R,4R,5S,6R)-3-acetamido-2,5-dihydroxy-6-(hydroxymethyl)oxan-4-yl]oxy-2-carboxy-4,5-dihydroxyoxan-3-yl]oxy-5-hydroxy-6-(hydroxymethyl)oxan-4-yl]oxy-3,4,5-trihydroxyoxane-2-carboxylic acid Chemical compound CC(=O)N[C@H]1[C@H](O)O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]2[C@@H]([C@@H](O[C@H]3[C@@H]([C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O3)C(O)=O)O)[C@H](O)[C@@H](CO)O2)NC(C)=O)[C@@H](C(O)=O)O1 KIUKXJAPPMFGSW-DNGZLQJQSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 6
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 claims description 6
- HFDWIMBEIXDNQS-UHFFFAOYSA-L copper;diformate Chemical group [Cu+2].[O-]C=O.[O-]C=O HFDWIMBEIXDNQS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 229920002674 hyaluronan Polymers 0.000 claims description 6
- 229960003160 hyaluronic acid Drugs 0.000 claims description 6
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 6
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 claims description 4
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 claims description 4
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 claims description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 4
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005913 (C3-C6) cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 claims description 3
- 238000007647 flexography Methods 0.000 claims description 3
- 238000010559 graft polymerization reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 3
- 210000003097 mucus Anatomy 0.000 claims description 3
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 claims description 3
- 238000007649 pad printing Methods 0.000 claims description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 3
- 241000238424 Crustacea Species 0.000 claims description 2
- 241000195493 Cryptophyta Species 0.000 claims description 2
- 241000238631 Hexapoda Species 0.000 claims description 2
- 241001465754 Metazoa Species 0.000 claims description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000006297 carbonyl amino group Chemical group [H]N([*:2])C([*:1])=O 0.000 claims description 2
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical group 0.000 claims description 2
- 235000015170 shellfish Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims 1
- 230000000035 biogenic effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 abstract 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 abstract 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 abstract 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 48
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 47
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000010408 film Substances 0.000 description 21
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 18
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 14
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 14
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 14
- WTDRDQBEARUVNC-UHFFFAOYSA-N L-Dopa Natural products OC(=O)C(N)CC1=CC=C(O)C(O)=C1 WTDRDQBEARUVNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WTDRDQBEARUVNC-LURJTMIESA-N L-DOPA Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC1=CC=C(O)C(O)=C1 WTDRDQBEARUVNC-LURJTMIESA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 8
- LMDZBCPBFSXMTL-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide Substances CCN=C=NCCCN(C)C LMDZBCPBFSXMTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- YQUVCSBJEUQKSH-UHFFFAOYSA-N 3,4-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 YQUVCSBJEUQKSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 6
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 6
- VYFYYTLLBUKUHU-UHFFFAOYSA-N dopamine Chemical compound NCCC1=CC=C(O)C(O)=C1 VYFYYTLLBUKUHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MHUWZNTUIIFHAS-CLFAGFIQSA-N dioleoyl phosphatidic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC(COP(O)(O)=O)OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC MHUWZNTUIIFHAS-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 229960004502 levodopa Drugs 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N tetradecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 229960003638 dopamine Drugs 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 3
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 125000006552 (C3-C8) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC(C)=O JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical compound N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SAIKULLUBZKPDA-UHFFFAOYSA-N Bis(2-ethylhexyl) amine Chemical compound CCCCC(CC)CNCC(CC)CCCC SAIKULLUBZKPDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000181 Ethylene propylene rubber Polymers 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 2
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000002082 metal nanoparticle Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZJRJXONCZWCBN-UHFFFAOYSA-N octadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC RZJRJXONCZWCBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 2
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 2
- QAIPRVGONGVQAS-DUXPYHPUSA-N trans-caffeic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=C(O)C(O)=C1 QAIPRVGONGVQAS-DUXPYHPUSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- SFLSHLFXELFNJZ-QMMMGPOBSA-N (-)-norepinephrine Chemical compound NC[C@H](O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 SFLSHLFXELFNJZ-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 1
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- ACEAELOMUCBPJP-UHFFFAOYSA-N (E)-3,4,5-trihydroxycinnamic acid Natural products OC(=O)C=CC1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 ACEAELOMUCBPJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCTWMZQNUQWSLP-VIFPVBQESA-N (R)-adrenaline Chemical compound CNC[C@H](O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 UCTWMZQNUQWSLP-VIFPVBQESA-N 0.000 description 1
- 229930182837 (R)-adrenaline Natural products 0.000 description 1
- RUJPNZNXGCHGID-UHFFFAOYSA-N (Z)-beta-Terpineol Natural products CC(=C)C1CCC(C)(O)CC1 RUJPNZNXGCHGID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 1,1'-Oxybisoctane Chemical compound CCCCCCCCOCCCCCCCC NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNQJDLTXOVEEFB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-benzothiadiazole Chemical compound C1=CC=C2SN=NC2=C1 FNQJDLTXOVEEFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZQTRPPVKQPFO-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2C=NOC2=C1 KTZQTRPPVKQPFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBDUIEKYVPVZJH-UHFFFAOYSA-N 1-ethylsulfonylethane Chemical compound CCS(=O)(=O)CC MBDUIEKYVPVZJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethylpentane-1,3-diol Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)CO JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLAZTCDQAHEYBI-UHFFFAOYSA-N 2-nitrotoluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O PLAZTCDQAHEYBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSEBUVRVKCANEP-UHFFFAOYSA-N 2-pyrroline Chemical compound C1CC=CN1 RSEBUVRVKCANEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 2H-pyran Chemical compound C1OC=CC=C1 MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylhex-1-yn-3-ol Chemical class CC(C)CC(C)(O)C#C NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPQQSJJWHUJYPU-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propyliminomethylidene-ethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN=C=NCCCN(C)C FPQQSJJWHUJYPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000013 Ammonium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000018185 Betula X alpestris Nutrition 0.000 description 1
- 235000018212 Betula X uliginosa Nutrition 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001634 Copolyester Polymers 0.000 description 1
- 239000012691 Cu precursor Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- WEEGYLXZBRQIMU-UHFFFAOYSA-N Eucalyptol Chemical compound C1CC2CCC1(C)OC2(C)C WEEGYLXZBRQIMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- WRYCSMQKUKOKBP-UHFFFAOYSA-N Imidazolidine Chemical compound C1CNCN1 WRYCSMQKUKOKBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005692 JONCRYL® Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000237536 Mytilus edulis Species 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKRZOJADNVOXPM-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid dibutyl ester Chemical compound CCCCOC(=O)C(=O)OCCCC JKRZOJADNVOXPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920012266 Poly(ether sulfone) PES Polymers 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000533293 Sesbania emerus Species 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- 229910052768 actinide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001255 actinides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052767 actinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920003232 aliphatic polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910002064 alloy oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OVKDFILSBMEKLT-UHFFFAOYSA-N alpha-Terpineol Natural products CC(=C)C1(O)CCC(C)=CC1 OVKDFILSBMEKLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N alpha-terpineol Chemical compound CC1=CCC(C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940088601 alpha-terpineol Drugs 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000012538 ammonium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- BVCZEBOGSOYJJT-UHFFFAOYSA-N ammonium carbamate Chemical compound [NH4+].NC([O-])=O BVCZEBOGSOYJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012501 ammonium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N benzarone Chemical compound CCC=1OC2=CC=CC=C2C=1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTPBAANTTKRERC-UHFFFAOYSA-N benzyl(dodecyl)azanium;chloride Chemical compound Cl.CCCCCCCCCCCCNCC1=CC=CC=C1 OTPBAANTTKRERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003940 butylamines Chemical class 0.000 description 1
- 229940074360 caffeic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000004883 caffeic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N carbonic acid monoamide Natural products NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229930007050 cineol Natural products 0.000 description 1
- 229960005233 cineole Drugs 0.000 description 1
- QAIPRVGONGVQAS-UHFFFAOYSA-N cis-caffeic acid Natural products OC(=O)C=CC1=CC=C(O)C(O)=C1 QAIPRVGONGVQAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfoxide Chemical compound CCS(=O)CC CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229960005139 epinephrine Drugs 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 150000003947 ethylamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000592 heterocycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPAGFVYQRIESJQ-UHFFFAOYSA-N indoline Chemical compound C1=CC=C2NCCC2=C1 LPAGFVYQRIESJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N isothiazole Chemical compound C=1C=NSC=1 ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N isoxazole Chemical compound C=1C=NOC=1 CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 229940094506 lauryl betaine Drugs 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKFGINPQOCXMAZ-UHFFFAOYSA-N methanediol Chemical compound OCO CKFGINPQOCXMAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 235000020638 mussel Nutrition 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DVEKCXOJTLDBFE-UHFFFAOYSA-N n-dodecyl-n,n-dimethylglycinate Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC([O-])=O DVEKCXOJTLDBFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920005615 natural polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229960002748 norepinephrine Drugs 0.000 description 1
- SFLSHLFXELFNJZ-UHFFFAOYSA-N norepinephrine Natural products NCC(O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 SFLSHLFXELFNJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940038384 octadecane Drugs 0.000 description 1
- CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecene Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCC=C CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005188 oxoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000006072 paste Substances 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical class OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 1
- 229920003217 poly(methylsilsesquioxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000006308 propyl amino group Chemical class 0.000 description 1
- USPWKWBDZOARPV-UHFFFAOYSA-N pyrazolidine Chemical compound C1CNNC1 USPWKWBDZOARPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003230 pyrimidines Chemical class 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVJHJDDKYZXRJI-UHFFFAOYSA-N pyrroline Natural products C1CC=NC1 ZVJHJDDKYZXRJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- FSYKKLYZXJSNPZ-UHFFFAOYSA-N sarcosine Chemical compound C[NH2+]CC([O-])=O FSYKKLYZXJSNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014102 seafood Nutrition 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000002174 soft lithography Methods 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- QJVXKWHHAMZTBY-GCPOEHJPSA-N syringin Chemical compound COC1=CC(\C=C\CO)=CC(OC)=C1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 QJVXKWHHAMZTBY-GCPOEHJPSA-N 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBWNMEQMRUMQSO-UHFFFAOYSA-N tergitol NP-9 Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=C(OCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO)C=C1 FBWNMEQMRUMQSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- BRNULMACUQOKMR-UHFFFAOYSA-N thiomorpholine Chemical compound C1CSCCN1 BRNULMACUQOKMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKZBBWMURDFHNE-UHFFFAOYSA-N trans-coniferylaldehyde Natural products COC1=CC(C=CC=O)=CC=C1O DKZBBWMURDFHNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N vanillin Chemical compound COC1=CC(C=O)=CC=C1O MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013311 vegetables Nutrition 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
- H01B1/22—Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/52—Electrically conductive inks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/06—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/08—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of metallic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1603—Process or apparatus coating on selected surface areas
- C23C18/1607—Process or apparatus coating on selected surface areas by direct patterning
- C23C18/161—Process or apparatus coating on selected surface areas by direct patterning from plating step, e.g. inkjet
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Abstract
금속 잉크 조성물에 관한 기술로서, 생물 유래의 접착성 물질을 포함하는 금속 잉크 조성물을 제공한다. 이러한 금속 잉크 조성물은 환경친화적이고 피착체와의 소량의 첨가로도 우수한 접착력을 발휘할 뿐만 아니라 열 소성에 의한 응축이 일어나지 않아 패턴형성성이 뛰어나다.
Description
금속 잉크 조성물, 이를 이용한 전도성 금속막 형성방법 및 이를 이용한 전도성 금속막에 관한 것이다.
반도체 장치에서 트랜지스터들 등 개별소자들을 전기적으로 연결하기 위하여 금속배선들이 필수적으로 요구된다. 최근 반도체 소자에 대한 고집적화 추세에 따라 집적회로 및 액정 표시 소자 등의 전자 장치에서, 집적도가 증가하고, 소자의 소형화에 따라 기판 상에 형성해야 할 금속배선 패턴이 점점 미세화하고 있다.
금속배선의 미세패턴을 형성하기 위해 주로 포토레지스트를 사용한 포토리소그래피(photolithography)가 이용되고 있다. 이 방법에 따르면 우선 화학기상증착공정 (Chemical Vapor Deposition process: CVD), 플라즈마증착법, 또는 전기 도금법 등을 사용하여 배선의 기초가 되는 금속 재료층을 기판 상에 형성한 후, 상기 금속층 위에 포토레지스트를 도포하고, 포토마스크 하에서 상기 포토레지스트를 노광 및 현상하여, 패턴화된 포토레지스트층을 포함한 금속층을 수득한 다음, 반응성 이온 에칭 등의 방법으로 금속층을 식각함으로써 기판상에 미세패턴의 금속배선을 형성한다.
포토레지스트를 대체할 기술로서, 기판 상에 간단한 방법으로 미세 패턴을 형성할 수 있는 소프트 리쏘그라피 또는 잉크젯 프린팅 방식이 주목받고 있는데, 이들 기술은 간단하고 편리하며 낮은 비용으로 금속의 미세 패턴을 형성할 수 있다.
이에, 잉크젯 프린팅 또는 그라비아 오프셋(gavure off-set) 공정 등에 적용되어 금속 배선 등을 형성하는 금속 잉크 제작이 활발하다.
기판과의 접착력 우수한 전도성 금속막을 제조할 수 있고 프린트성이 우수한 금속 잉크 조성물을 제공하고자 한다.
일 측면에 따르면, 금속 입자 또는 금속 전구체, 용매, 및 생물 유래의 접착성 물질을 포함하는 금속 잉크 조성물을 제공한다.
상기 생물 유래의 접착성 물질은 예를 들어, 하기 화학식 1의 화합물(A), 또는 수용성 화합물(b)인 주쇄에 화합물(A)가 그라프트된 화합물(B)일 수 있다.
여기서, R1, R2, R3, R4는 각각 독립적으로 수소 또는 R-X이거나, 또는 이들 중 두 개의 치환기가 상호 결합에 의해 C3-C6의 환형 구조를 이룰 수 있다.
상기 R은 OH 또는 COOH 로 치환되거나 비치환된 C1-C10 알킬, C2-C10 알켄, C3-C10 알킨, 및 C1-C10 알콕시 중에서 선택될 수 있고, X는 NR'R", COOR', NH2COOR', CONR', OR', 페닐, 및 벤젠 중에서 선택되며, 여기서, R'및 R"는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C3 알킬이다.
상기 치환기 R1, R2, R3, R4 중 두 개의 치환기가 상호 결합에 의해 환형 구조를 형성하는 경우, OH 또는 COOH 로 치환되거나 비치환된 C3-C6 시클로알킬, C3-C6 헤테로시클로알킬, C4-C6 아릴, 및 C4-C6 헤테로아릴 중에서 선택된다.
또 다른 측면에 따르면, 상술한 금속 잉크 조성물을 제조하는 방법을 제공한다.
일 예에 따르면, 금속 잉크 조성물의 제조방법은 하기 단계들을 포함한다.
금속 또는 금속 전구체를 용매에 용해시켜 제1액을 얻는 단계;
화학식 1의 화합물(A), 또는 수용성 화합물(b)인 주쇄에 화합물(A)이 그라프트된 화합물(B)을 물 및/또는 알코올에 용해시켜 제2액을 얻는 단계; 및
상기 제1 액 및 제2 액을 혼합하는 단계;
여기서, 상기 화학식 1의 정의는 앞서 상술한 바와 같다.
또 다른 측면에 따르면, 상술한 금속 잉크 조성물을 이용하여 전도성 금속막을 형성하는 방법을 제공한다.
일 예에서, 전도성 금속막의 형성 방법은 기판을 준비하는 단계, 상술한 예시에 따른 금속 잉크 조성물을 상기 기판 상에 도포하는 단계, 및 잉크 조성물이 도포된 기판을 열처리하는 단계를 포함한다.
상기 금속 잉크 조성물은 기판 상에 패턴이 형성되도록 도포될 수 있다.
이러한 도포는 예를 들어, 스핀 코팅(spin coating), 롤 코팅(roll coating), 딥 코팅(deep coating), 분무 코팅(spray coating), 딥 코팅(dip coating), 플로 코팅(flow coating), 닥터 블레이드(doctor blade), 디스펜싱(dispensing), 잉크젯 프린팅 (inkjet printing), 스크린 프린팅 (screen printing), 그라비어 프린팅, 옵셋 프린팅(offset printing), 패드 프린팅, 플렉소 프린팅(flexography printing), 스텐실 프린팅, 임프린팅(imprinting), 제로그라피(xerography), 및 리소그라피(lithography)로 이루어진 군에서 선택되는 방법으로 수행될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
또 다른 측면에 따르면, 상술한 금속 잉크 조성물을 피착체 상에 도포하고 가열함으로써 형성되는 전도성 금속막을 제공한다.
도 1은 실험예 2에 따라 접착성 물질의 종류에 따른 전도도를 비교한 그래프이다.
도 2는 실험예 3에 따라 접착성 물질 함량에 따른 전도도를 비교한 그래프이다.
도 2는 실험예 3에 따라 접착성 물질 함량에 따른 전도도를 비교한 그래프이다.
이하, 본 발명의 이점들과 특징들 및 이를 수행하는 방법들이 하기 실시예들에 대한 상세한 설명 및 첨부된 도면들을 참조함으로써 더욱 용이하게 이해될 수 있을 것이다. 그러나, 본 발명은 많은 다양한 형태로 실시될 수 있으며, 여기서 언급한 실시예들로만 한정되어 구성되는 것은 아니다.
본 발명에서 사용된 용어의 정의는 하기와 같으며, 기타 용어들은 본 발명이 속하는 분야에서 통상적으로 이해되는 의미로서 해석될 수 있다.
용어 '알킬'은 지방족 탄화수소 그룹을 의미한다. 상기 알킬은 1 내지 10 개의 탄소원자들을 가지는 저급 알킬일 수 있다. 예를 들어, C1-C4 알킬은 알킬쇄에 1 개에서 4 개의 탄소원자, 즉, 알킬쇄는 메틸, 에틸, 프로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소-부틸, sec-부틸 및 t-부틸로 이루어진 군에서 선택됨을 나타낸다. 또한, 단독으로 또는 알킬옥시와 같이 조합하여 사용되는 경우에 각각 직쇄 또는 측쇄 탄화수소 라디칼을 의미한다. 전형적인 알킬 그룹에는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, t-부틸, 펜틸, 헥실, 에테닐, 프로페닐, 부테닐, 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실 등이 포함되지만, 이들만으로 한정되는 것은 아니다.
용어 '알켄(alkene)'은 적어도 두 개의 탄소원자가 적어도 하나의 탄소-탄소 이중결합으로 이루어진 그룹을 갖는 탄화수소 그룹을 의미하며, 용어 '알킨(alkyne)' 은 적어도 두 개의 탄소원자가 적어도 하나의 탄소-탄소 삼중 결합으로 이루어진 그룹을 의미한다. 포화이든 불포화이든 간에 알킬 부위는 분지형, 직쇄형 또는 환형일 수 있다.
용어 '알콕시'는 1 내지 10 개의 탄소원자를 가지는 옥소 알킬을 의미한다.
용어 '시클로알킬'은 시클로헥실을 포함한 불포화 지방족 3~10원 환을 의미한다.
용어 '아릴(aryl)'은 공유 파이 전자계를 가지고 있는 적어도 하나의 링을 가지고 있고 카르보시클릭 아릴(예를 들어, 페닐)과 헤테로시클릭 아릴기(예를 들어, 피리딘)를 포함하는 아릴 그룹을 의미한다. 이 용어는 모노시클릭 또는 융합 링 폴리시클릭(즉, 탄소원자들의 인접한 쌍들을 나눠 가지는 링들) 그룹들을 포함한다. 페닐, 나프틸 등을 포함하는 4~10원, 바람직하게는 6~10원 방향족 모노사이클 또는 멀티사이클환 그룹을 의미한다.
용어 '헤테로아릴'은 환구조의 탄소들(C) 중의 적어도 하나가 질소(N), 인(P), 산소(O), 황(S)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3 개의 헤테로 원자를 포함하고, 벤조 또는 C3~C8 시클로알킬과 융합될 수 있는 방향족 4~8원 환, 또는 5~6원 환을 의미한다. 모노사이클 헤테로아릴의 예로는 티아졸, 옥사졸, 티오펜, 퓨란, 피롤, 이미다졸, 이소옥사졸, 피라졸, 트리아졸, 티아디아졸, 테트라졸, 옥사디아졸, 피리딘, 피리다진, 피리미딘, 피라진 및 이와 유사한 그룹을 들 수 있으나 이들로 제한되는 것은 아니다. 비사이클 헤테로아릴의 예로는 인돌, 인돌린, 벤조티오펜, 벤조퓨란, 벤즈이미다졸, 벤족사졸, 벤즈이속사졸, 벤즈티아졸, 벤즈티아디아졸, 벤즈트리아졸, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퓨린, 퓨로피리딘 및 이와 유사한 그룹을 들 수 있으나 이들로 제한되는 것은 아니다.
용어 '헤테로 시클로알킬'은 환구조의 탄소들(C) 중의 적어도 하나가 질소(N), 인(P), 산소(O), 황(S)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1~3개의 헤테로 원자를 포함하며, 벤조 또는 C3~C8 시클로알킬과 융합될 수 있고, 포화되거나 1 또는 2 개의 이중결합을 포함하는 4~8원 환, 또는 5~6원 환을 의미한다. 그 예로는 퓨란, 티오펜, 피롤, 피롤린, 피롤리딘, 옥사졸, 티아졸, 이미다졸, 이미다졸린, 이미다졸리딘, 피라졸, 피라졸린, 피라졸리딘, 이소티아졸, 트리아졸, 티아디아졸, 피란, 피리딘, 피페리딘, 모폴린, 티오모폴린, 피리다진, 피리미딘, 피라진, 피페라진, 트리아진, 하이드로퓨란 등을 들 수 있지만, 이들만으로 한정되는 것은 아니다.
1.
금속 잉크 조성물
일 예에 따르면 금속 전구체, 용매, 및 생물 유래의 접착성 물질을 포함하는 잉크 조성물을 제공한다.
상기 생물 유래의 접착성 물질은 예를 들어 하기 화학식 1의 화합물(A), 또는 수용성 화합물(b)인 주쇄에 화합물(A)이 그라프트된 화합물(B)일 수 있다.
여기서, R1, R2, R3, R4는 각각 독립적으로 수소 또는 R-X이거나, 또는 이들 중 두 개의 치환기가 상호 결합에 의해 C3-C6의 환형 구조를 이룰 수 있다.
상기 R은 OH 또는 COOH 로 치환되거나 비치환된 C1-C10 알킬, C2-C10 알켄, C3-C10 알킨, 및 C1-C10 알콕시 중에서 선택될 수 있다.
상기 X는 NR'R", COOR', NH2COOR', CONR', OR', 페닐, 및 벤젠 중에서 선택되며, 여기서, R'및 R"는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C3 알킬이다.
R1, R2, R3, R4 중 두 개의 치환기가 상호 결합에 의해 환형 구조를 형성하는 경우, OH 또는 COOH 로 치환되거나 비치환된 C3-C6 시클로알킬, C3-C6 헤테로시클로알킬, C4-C6 아릴, 및 C4-C6 헤테로아릴 중에서 선택된다.
이러한 잉크 조성물에서 생물 유래의 접착성 물질인 화학식 1의 화합물(A), 또는 동 화합물(A)이 그라프트된 화합물(B)은 공통적으로 두 개의 히드록시기를 포함하는 카테콜(catechol, C6H4(OH)2)과 측쇄의 관능기를 가진다. 이 부분이 다른 유기물 및 무기물들과의 접착력 발생에 기여한다.
따라서, 본 발명의 예시에 따른 접착성 물질을 포함하는 잉크 조성물은 소량을 첨가한 경우에도 피착체와의 접착력이 우수하고 별도의 기판 표면 처리를 필요로 하지 않는다.
종래의 금속 잉크나 페이스트의 경우 은(Ag) 나노입자를 함유한 은 잉크가 주로 사용되어 왔으나, 가격 면에서 구리(Cu) 잉크 사용이 유리하다. 구리 나노입자 또는 구리 전구체를 포함하는 구리 잉크의 경우 기판, 특히 유리 기판과의 접착력이 상당히 나쁘다. 이에, PVP나 에틸 셀룰로오스(Ethyl Cellulose) 등의 고분자 첨가제를 접착 촉진제로써 함유한 기술이 개시되어 있다. 그러나, 이러한 공업용 고분자 첨가제는 급격한 열 소성시 응축이 일어난다는 문제가 있다.
본 발명의 예시에 따른 접착성 물질은 기존의 공업용 고분자와는 달리 급격한 열 소성 시에도 응축 또는 열수축이 일어나지 않아 피착체와의 프린트성(printability) 및 접착성이 크게 향상된다. 나아가, 보다 소량의 첨가로써 접착력이 크게 향상될 수 있다.
일 예에서, 상기 화학식 1의 화합물(A)에서 R은 OH 또는 COOH 로 치환되거나 비치환된 C1-C5 알킬, C2-C5 알켄, C3-C5 알킨, 및 C1-C5 알콕시 중에서 선택될 수 있고, 구체적으로 OH 로 치환되거나 비치환된 C1-C3 알킬, 또는 C2-C3 알켄, 및 C1-C3 알콕시 중에서 선택될 수 있다.
또한, 상기 치환체 X는 관능기 NH2, COOH, NH2COOR', CONH, 및 OH 중에서 선택되며, 여기서, R' 은 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C3 알킬일 수 있고, 구체적인 예에서, NH2, COOH, NH2COOH, 및 OH 중에서 선택될 수 있다. 이러한 치환체 X는 수용성 화합물(b)인 주쇄에 그라프트될 수 있는 관능기이다.
이러한 화학식 1의 화합물(A)의 구체적인 예로는 하기 화합물 (i) 내지 (xi) 등을 들 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
이러한 화학식 1의 화합물(A)은 생물유래 물질인 바, 이러한 생물유래 물질은 생체 및 환경 친화적이다. 예를 들어, 식물류, 어패류, 곤충류, 갑각류, 조류(藻類, algae)로부터 선택된 생물로부터 유래한 물질이거나, 인체의 세포 또는 조직으로부터 유래한 단백질, 또는 동물체의 점성 물질 및 점액 중의 단백질일 수 있다.
구체적인 예에서, 화학식(i)의 화합물인 카테콜(catechol) 의 경우 과채류로부터 유래될 수 있고, 화학식(ii)의 도파민이나 화학식(iii)의 L-DOPA(3,4-dihydroxy-L-phenylalanine) 의 경우 홍합 등의 어패류의 점액으로부터 추출될 수 있다. 또한, 화학식(iv)의 카페인산이나 화학식(v)의 하이드로 카페인산의 경우에는 커피콩과 같은 식물로부터 유래될 수 있다. 화학식(vi)의 3,4-디히드록시벤조산의 경우에는 자작나무 수피로부터 유래될 수 있다 화학식 (vii)의 노르에피네프린이나 화학식 (viii)의 에피네프린의 경우에는 오가피 등의 식물로부터 유래될 수 있다.
상기 화합물(B)의 주쇄인 수용성 화합물(b)은 수용성이고, 금속 입자 또는 금속 전구체와의 상용성을 가지며, 화학식 1의 화합물(A)과 그라프트 중합이 가능한 화합물이다. 이에, 화학식 1의 화합물(A)에서 치환체(X)는 아민기, 카르복실기, 또는 히드록시기 등의 관능기를 포함하고 있는 바, 이들 관능기와 그라프트 중합이 가능한 양이온성 고분자일 수 있다.
구체적인 예에서, 수용성 화합물(b) 주쇄는 히아루론산(hyaluronic acid), 폴리에틸렌 이미드(PEI), 및 폴리에틸렌 글리콜(PEG) 중에서 선택될 수 있다. 이들 수용성 화합물(b)들은 환경 친화적인 수용성 고분자들이다.
이와 같은 수용성 화합물(b) 주쇄에 화합물(A)가 그라프트된 화합물(B)는 예를 들어, 하기 화학식 (b1)의 화합물 도파민-그라프트된 히아루론산, 하기 화학식 (b2)의 화합물 3,4-디히드록시 벤조산-그라프트된 PEI, 하기 화학식 (b3)의 화합물 히드로카페인산 그라프트된 PEI 등을 들 수 있다.
상기 화합물(B)에서 주쇄인 수용성 화합물(b) 대비 그라프트 되는 화합물(A) 의 농도는 0.1 몰% 내지 50 몰%일 수 있다.
또한, 상기 화학식 1의 화합물(A) 또는 수용성 화합물(b)의 중량평균 분자량(MW)은 100 ~ 100,000일 수 있다.
상기 금속 입자 또는 금속 전구체의 함량 대비 상기 화학식 1의 화합물(A) 또는 동 화합물이 그라프트된 화합물(B)의 함량은 3.7 내지 10 중량% 일 수 있다. 3.7 중량% 미만이면 피착체에 대한 결합력, 부착력이 떨어지고, 함량이 10 중량부를 초과하면 전도도가 낮아질 수 있다.
상기 금속 잉크 조성물에서 금속은 금, 은, 니켈, 인듐, 아연, 티탄, 동, 크롬, 탄탈, 텅스텐, 백금, 철, 코발트 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나일 수 있다. 금속 잉크에 포함되는 금속은 금속 입자의 형태일 수도 있고, 금속으로 환원될 수 있는 금속 전구체일 수도 있다.
상기 금속 입자의 경우 크기가 작을수록 잉크젯 노즐에서의 잉크 토출이 용이하므로, 500 nm 이하의 금속 나노입자, 200 nm 이하의 금속 나노입자, 또는 50 nm 이하의 나노입자가 잉크젯 토출시 액적(drop) 형성에 좋은 영향을 준다.
상기 금속 전구체는 금속 원자를 포함하는 화합물을 의미한다. 예를 들어, 탄소-금속 결합을 가지는 오르가노 메탈 화합물, 산소, 질소 또는 황 등 탄소 이외 원소와 금속 결합된 유기 리간드를 포함하는 금속 유기 화합물, 및 무기 화합물 등을 포괄하는 개념이다. 상기 무기 화합물은 예를 들어 금속 질화물, 금속 할로겐화물, 금속 황화물, 금속 수산화물, 금속 카보네이트, 기타 금속염 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
예를 들어, 금속 전구체는, 금속으로 전환시 라디칼 메커니즘에 의하여 리간드를 제거하는 금속 전구체 화합물을 사용할 수 있다. 또한, 금속으로 전환시 완전히 제거될 수 있는 리간드를 함유하는 것을 사용할 수 있다.
이외에도 중성 무기 리간드 또는 유기 리간드를 함유하는 복합 금속염(complex metal salt) 형태의 전구체를 사용할 수도 있다. 예를 들어, 나이트레이트, 할로겐화물, 퍼클로레이트, 하이드록사이드 또는 테트라플루오로보레이트의 형태 등을 들 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
구체적인 예에서, 상기 금속 전구체는 구리 포르메이트와 같은 금속 포르메이트일 수 있다. 금속 포르메이트는 환원되어 열에 의해 분해되면서 제거가 용이한 휘발성 물질인 CO2, CO, H2O를 분해산물로서 발생시키는 바, in-situ에서 형성된 구리를 산화로부터 보호하는 기체상의 부산물만을 형성한다. 이러한 부산물은 제거가 쉬워 형성된 구리막에서의 잔류 불순물이 남지 않는다. 또한, 환원제인 알데히드가 발생하므로, 가열처리에 의해 별도의 환원제 추가 없이 금속 이온의 금속으로의 환원반응이 높은 수율로 이루어질 수 있다. 또한, 금속 유기 전구체 자체의 분해온도가 낮아진다. 따라서, 저온에서 고순도의 금속막 또는 패턴을 형성할 수 있다.
상기 잉크 조성물에서, 금속 입자 또는 금속 전구체의 함량은 특별히 제한되지 않으며 예를 들어, 용매에 대한 금속 입자 또는 금속 전구체의 용해도 한도까지 첨가될 수 있다. 다만, 금속 입자 또는 금속 전구체의 함량이 20 중량부 미만이면 금속 함량이 부족하여 배선으로 활용이 다양하지 못하여 용도가 제한되며, 함량이 85 중량부를 초과하면 점도가 너무 높아 잉크의 토출성이 악화될 수 있다. 고농도의 금속 함량을 유지하면서 잉크의 흐름성이 용이하도록 50 내지 70 중량부일 수 있다.
용어 '용매'는 금속 입자 또는 금속 전구체의 적어도 일부를 용해할 수 있는 화학 물질을 의미한다. 이러한 용매는 예를 들어, 물; 프로필아민, n-부틸아민, 헥실아민, 옥틸아민 등의 1차 아민, 디이소프로필아민, 디(n-부틸)아민 등의 2차 아민, 트리옥틸아민, 트리-n-부틸아민 등의 3차 아민, 에틸아민, 프로필아민, 부틸아민, 헥실아민, 옥틸아민, 트리옥틸아민 등의 알킬아민, 시클릭 아민, 아로마틱 아민 등 아민 용매; PEGMEA, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, γ-부티로락톤, 2,2,4 트리메틸펜탄디올-1,3모노이소부티레이트, 부틸 카비톨 아세테이트, 부틸 옥살레이트, 디부틸 프탈레이트, 디부틸 벤조에이트, 부틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸렌 글리콜 디아세테이트, 에틸렌 글리콜 디아세테이트 등의 에스테르 용매; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤 용매; 톨루엔, 자일렌, 아로마솔, 클로로벤젠, 헥산, 시클로헥산, 데칸, 도데칸, 테트라데칸, 헥사데칸, 옥타데칸, 옥타데센, 나이트로벤젠, o-나이트로톨루엔 등의 지방족 또는 방향족 탄화수소 용매; 디에틸에테르, 디프로필에테르, 디부틸에테르, 디옥산, 테트라히드로푸란, 옥틸 에테르, 트리(에틸렌 글리콜) 디메틸 에테르 등의 에테르계 용매; 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올, 2-부탄올, 이소부탄올, 헥산올, 이소프로필 알코올, 에톡시 에탄올, 에틸 락테이트, 옥타놀 이소프로필알코올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 벤질 알코올, 4-하이드록시-3메톡시 벤즈알데하이드, 이소데코놀, 부틸카비톨, 터피네올(terpineol), 알파 터피네올, 베타-터피네올, 시네올 등의 알코올 용매; 글리세롤, 글리콜, 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 테트라에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 부탄디올, 헥실렌 글리콜, 1,2-펜타디올, 1,2-헥사디올, 글리세린, 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 에틸렌글리콜모노메틸에테르(메틸셀루솔브), 에틸렌글리콜모노에틸에테르(에틸셀루솔브), 에틸렌글리콜모노부틸에테르(부틸셀루솔브), 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 폴리올 용매; N-메틸-2-피롤리돈(NMP), 2-피롤리돈, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸 포름아미드, N,N-디메틸 아세트아미드 등의 아미드 용매; 디에틸술폰, 테트라메틸렌 술폰, 디메틸술폭사이드, 디에틸술폭사이드 등의 술폰 또는 술폭사이드 용매; 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 용매일 수 있다.
구체적인 예에서, 비수계 용매로서, 예를 들어, 헥산, 옥탄, 데칸, 언데칸, 테트라데칸, 헥사데칸, 1-헥사데신, 1-옥타데신, 헥실아민, 비스-2-에틸헥실아민 등을 들 수 있다. 이들 용매 중 하나를 단독으로 사용할 있고 수도, 2종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.
금속 잉크의 용매는 기판에서의 토출된 잉크 배선의 건조속도에 중요한 영향을 미치므로, 용매의 끓는점(BP)과 이슬점(FP)의 차이를 이용하여 잉크젯에 적합한 건조 특성을 갖도록 배합할 수도 있다. 예를 들어, 1-옥타데신과 같이 끓는점이 높은 용매는 증기압이 낮아 조성물의 작업 수명을 연장시킬 수 있으며 건조속도를 지연시킬 수 있고, 비스-2-에틸헥실아민 등과 같이 끓는점이 낮은 용매는 건조속도를 빠르게 할 수 있다. 따라서, 이러한 혼합 용매를 사용하면 프린트 형성 과정이 신속하게 수행될 수 있다.
상기 용매의 함량은 10 내지 70 중량부일 수 있고, 금속 농도를 고농도로 하기 위하여 최소한의 유기용매의 사용이 권장된다. 용매의 함량이 10 중량부 미만이면 잉크젯 헤드의 건조속도가 빨라 노즐 막힘 현상이 발생하고 입자의 분산안정성이 확보되지 못하고, 함량이 70 중량부를 초과하면 금속의 함량이 상대적으로 적어 도 신뢰성 있는 금속막의 형성에는 바람직하지 못하다.
상기 금속 잉크 조성물에는 필요에 따라 공지의 안정제, 분산제, 바인더(binder), 환원제, 계면활성제(surfactant), 습윤제(wetting agent), 칙소제(thixotropic agent) 또는 레벨링(levelling)제, 도전재 등의 첨가제가 더욱 포함될 수 있다.
상기 안정제는 예를 들어, 1차 아민, 2차 아민 또는 3차 아민과 같은 아민 화합물, 암모늄 카바메이트, 암모늄 카보네이트, 암모늄 바이카보네이트계 화합물, 포스핀(phosphine)이나 포스파이트(phosphite)와 같은 인 화합물, 티올(thiol)이나 설파이드(sulfide)와 같은 황 화합물, 또는 이들의 혼합물 등을 들 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
상기 분산제의 예로는 에프카(EFKA)사의 4000시리즈, 비와이케이(BYK)사 Disperbykㄾ 시리즈, 아베시아사의 solsperse 시리즈, 데구사(Deguessa)의 TEGOㄾ Dispers 시리즈, 엘레멘티스사의 Disperse-AYDㄾ 시리즈, 존슨폴리머사의 JONCRYLㄾ 시리즈 등을 들 수 있다.
상기 바인더로는 폴리아크릴산 또는 폴리아크릴산 에스테르와 같은 아크릴계 수지, 에틸 셀룰로스, 셀룰로스 에스테르, 셀룰로스 니트레이트와 같은 셀룰로스계 수지, 지방족 또는 공중합 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐부티랄, 폴리비닐아세테이트, 폴리비닐피롤리돈과 같은 비닐계 수지, 폴리아미드 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에테르 및 우레아 수지, 알키드 수지, 실리콘 수지, 불소수지, 폴리에틸렌이나 폴리스티렌과 같은 올레핀계 수지, 석유 및 로진계 수지 등과 같은 열가소성 수지나 에폭시계 수지, 불포화 또는 비닐 폴리에스테르계 수지, 디알릴프탈레이트계 수지, 페놀계 수지, 옥세탄(oxetane)계 수지, 옥사진(oxazine)계 수지, 비스말레이미드계 수지, 실리콘 에폭시나 실리콘 폴리에스테르 같은 변성 실리콘계 수지, 멜라민계 수지 등과 같은 열경화성 수지, 자외선 또는 전자선 경화형의 다양한 구조의 아크릴계 수지, 및 에틸렌-프로필렌 고무(EPR), 스티렌-부타디엔고무(SBR), 전분, 젤라틴과 같은 천연고분자 등을 한 종류 이상 선택하여 함께 사용 가능하다. 또한, 상기 유기계 수지 바인더 뿐 아니라 글라스 레진이나 글래스 프릿(glass frit)과 같은 무기 바인더나 트리메톡시 프로필 실란이나 비닐 트리에톡시 실란과 같은 실란 커플링제, 또는 티탄계, 지르코늄계 및 알루미늄계 커플링제도 사용할 수 있다.
상기 계면활성제로는 예를 들어, 소듐 라우릴 설페이트(sodium lauryl sulfate)와 같은 음이온 계면활성제, 노닐페녹시폴리에톡시에탄올 (nonyl phenoxy- polyethoxyethanol), 듀폰사(Dupont)제품의 에프에스엔(FSN)과 같은 비이온성 계면활성제, 그리고 라우릴벤질암모늄 클로라이드 등과 같은 양이온성 계면활성제나 라우릴 베타인(betaine), 코코 베타인과 같은 양쪽성 계면활성제 등이 포함된다.
상기 습윤제 또는 습윤 분산제로는 예를 들어, 폴리에틸렌글리콜, 에어 프로덕트사(Air Product) 제품의 Surfynol 시리즈, 데구사(Deguessa)의 TEGOㄾ wet 시리즈와 같은 화합물을 들 수 있다.
상기 칙소제 또는 레벨링제로는 비와이케이(BYK)사의 BYK 시리즈, 데구사(Degussa)의 글라이드 시리즈, 에프카(EFKA)사의 EFKA 3000 시리즈나 코그니스(Cognis)사의 DSX 시리즈 등을 사용할 수 있다.
상기 도전재는 예를 들어 Ag, Au, Cu, Ni, Co, Pd, Pt, Ti, V, Mn, Fe, Cr, Zr, Nb, Mo, W, Ru, Cd, Ta, Re, Os, Ir과 같은 전이금속 군에서 선택되거나 Al, Ga, Ge, In, Sn, Sb, Pb, Bi와 같은 금속군, 또는 Sm, Eu와 같은 란타나이드(lanthanides)나 Ac, Th와 같은 액티나이드(actinides)계 금속군에서 선택된 적어도 1종의 금속, 또는 이들의 합금 또는 합금 산화물을 나타낸다. 이 이외에도 도전성 카본블랙, 그라파이트, 탄소나노튜브, 폴리아세틸렌, 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리티오펜 및 그 유도체와 같은 도전성고분자 등이 포함된다.
상기 조성물의 점도는 특별히 제한되지 않으며 예를 들어 박막 제조 및 프린팅 방법에 적용에 적합한 정도로서 예를 들어, 1mpa.s ~ 1,000pa.s 범위 또는, 5mpa.s ~ 500pa.s 범위일 수 있다.
금속 잉크 조성물의 제조방법
일 예에 따르면, 하기 단계들을 포함하는 상기 금속 잉크 조성물을 제조하는 방법을 제공한다. 하기에서, 화학식 1은 앞서 상술한 바와 같다.
금속 또는 금속 전구체를 용매에 용해시키켜 제1액을 얻는 단계;
상기 생물유래의 접착성 물질로서, 화학식 1의 화합물(A), 또는 수용성 화합물(b)인 주쇄에 화합물(A)이 그라프트된 화합물(B)을 물 및/또는 알코올에 용해시켜 제2액을 얻는 단계;
상기 제1 액 및 제2 액을 혼합하는 단계;
상기에서, 제1액에 사용되는 용매는 앞서 개시한 바와 같다.
본 발명의 예시에 따른 금속 잉크 조성물에서 제2액에 따르면 접착성 물질 용액은 물 및/또는 알코올 용매에 가용성이므로 알코올계 잉크 개발에 적합하게 적용될 수 있다. 상기 알코올 용매는 에틸렌 글리콜(EG) 일 수 있다.
전도성 금속막
본 발명의 또 하나의 예에 따르면, 상술한 금속 잉크용 조성물을 이용하여 전도성 금속막을 형성하는 방법 및 제조된 전도성 금속막을 제공한다. 상기 전도성 구리막은 다양한 금속 배선, 반도체의 게이트 전극 또는 액정 표시장치의 게이트 전극 또는 소스/드레인 전극과 같은 다양한 전극, 또는 회로로서 응용될 수 있다.
상기 전도성 금속막의 형성 방법은 예를 들어, 기판을 준비하는 단계, 상기 기판 상에 상술한 금속 잉크 조성물을 도포하는 단계, 및 잉크 조성물이 도포된 기판을 열처리하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 전도성 금속막은 예를 들어, 피착체 상에 상기 금속 잉크용 조성물을 도포한 후 가열함으로써 형성될 수 있다.
상기 기판은 반도체 기판, 금속, 실리콘 웨이퍼, 유리(glass), 세라믹, 무기물 기판, 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리에테르술폰(PES), 폴리프로필렌(PP), 오리엔티드 폴리프로필렌(oPP), 시클로올레핀계 폴리머, 폴리카보네이트(PC), 고분자 기판, 고무 시트, 섬유, 목재, 종이, 셀룰로오스계 기판으로 이루어진 군에서 선택될 수 있다. 이러한 기판은 별도의 처리를 수행할 필요가 없으며, 필요에 따라 수세 및 탈지후 사용하거나 전처리를 하여 사용할 수 있다. 전처리 방법으로는 예를 들어, 플라즈마, 이온빔, 코로나, 산화 또는 환원, 열, 에칭, 자외선(UV) 조사, 바인더나 첨가제를 사용한 프라이머(primer) 처리 등을 들 수 있다. 다만, 본 발명의 예시에 따른 잉크 조성물은 피착체와의 결합력이 우수하므로 접착성 향상을 위한 전처리를 수행하지 않을 수 있다.
상기 금속 잉크용 조성물은 기판의 전면 또는 일부에 도포될 수 있고, 필요에 따라 패턴이 형성되도록 도포될 수 있다. 상기 도포는 스핀 코팅(spin coating), 롤 코팅(roll coating), 딥 코팅(deep coating), 분무 코팅(spray coating), 딥 코팅(dip coating), 플로 코팅(flow coating), 닥터 블레이드(doctor blade), 디스펜싱(dispensing), 잉크젯 프린팅 (inkjet printing), 스크린 프린팅 (screen printing), 그라비어 프린팅, 옵셋 프린팅(offset printing), 패드 프린팅, 플렉소 프린팅(flexography printing), 스텐실 프린팅, 임프린팅(imprinting), 제로그라피(xerography), 및 리소그라피(lithography)로 이루어진 군에서 선택된 방법으로 수행될 수 있다.
상기 가열을 통해 금속으로의 환원 및 유기물 분해를 통해 고순도의 금속막을 형성할 수 있다. 가열 온도는 약 180℃ 이하, 약 160℃ 이하, 약 150℃ 이하, 약 130℃ 이하, 약 120℃ 이하, 또는 약 100℃ 이하일 수 있고, 불활성 분위기 또는 환원 분위기 뿐 아니라 산소 부분 압력을 갖는 분위기, 또는 공기 중에서 수행될 수 있다.
이하 본 발명의 실시예 및 실험예 등을 참조하여 본 발명을 더욱 상술하지만 본 발명이 하기 예로 제한되는 것은 아니다.
[제조예 1] 도파민-그라프트 히아루론산(MW 800)의 합성
도파민을 DMF에 용해하고, EDC (1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide hydrochloride) 를 메탄올(MeOH)에 용해하며, PEI를 메탄올에 용해한다. 도파민을 EDC로 30분간 활성화시킨다. PEI를 용액에 첨가한다. 12 시간 경과 후, 반응물을 디에틸 에스테르로 2회 침전시킨다. 그런 다음 반응물을 탈이온수 (pH 5 이하)에 용해시키고, 탈이온수로 투석하고, 동결건조 한다.
[제조예 2] 3,4-디히드록시 벤조산-그라프트된 PEI(MW 25,000)의 합성
3,4-디히드록시 벤조산을 DMF에 용해하고, EDC를 메탄올에 용해하며, PEI를 메탄올에 용해한다. 3,4-디히드록시 벤조산을 EDC와 30분간 활성화시킨다. PEI를 용액에 첨가한다. 12 시간 경과 후, 반응물을 디에틸 에스테르로 2회 침전시킨다. 반응물을 탈이온수(pH 5 이하)에 용해시키고, 탈이온수로 투석하고 동결건조한다.
[제조예 3] 히드로카페인산 그라프트된 PEI(MW 25,000)의 합성
히드로카페인산을 DMF에 용해하고, EDC를 메탄올에 용해하며, PEI를 메탄올에 용해한다. 히드로카페인산을 EDC와 30분간 활성화시킨다. PEI를 용액에 첨가한다. 12 시간 경과 후, 반응물을 디에틸 에스테르로 2회 침전시킨다. 반응물을 탈이온수(pH 5 이하)에 용해시키고, 탈이온수로 투석하고 동결건조한다.
[실시예 1 ~ 6] 잉크 조성물의 형성
구리 포르메이트 (Cu(HCOO)2): 헥실아민 (C6H15N) = 1 : 1 (몰비)로 구리 포르메이트를 헥실아민에 용해시켜 제1액을 제조한다. 그런 다음, 하기 표 1에서와 같이 L-DOPA(MW 197.188 g/mol), 제조예 1 내지 제조예 3에 따른 접착성 물질을 H2O 또는 에틸렌 글리콜 용매에 용해시켜 제2액을 제조한다. 제1액과 제2액을 혼합한다.
[실시예 7] 전도성 금속막의 형성
실시예 1 ~ 6에 따른 조성물을 페이스트 상태로 유리 기판 위에 도포하여 닥터 블레이드로 균일하게 펼쳐 바른다. 잉크의 경우 스핀 코팅하여 막을 형성시킨다. 공기 분위기 중에서 200℃로 1 분 동안 소결 후 다시 개미산 (HCOOH) 분위기 중 200℃에서 2 분 동안 환원시킨다.
본 발명의 실시예들에 따른 잉크 조성물은 200℃에서 바로 소결 시에도 전혀 응축하지 않고 움직이지 않는 바, 프린트성이 우수하다.
[비교예 8]
구리 포르메이트 (Cu(HCOO)2): 헥실아민 (C6H15N) = 1 : 1 (몰비)로 구리 포르메이트를 헥실아민에 용해시켜 제1액을 제조한다. 하기 표 1에서와 같이 에틸 셀룰로오스를 NMP 용매에 용해시켜 제2액을 제조한다. 제1액과 제2액을 혼합한다.
제조된 잉크 조성물을 상기 실시예 7에서와 같은 방법으로 금속막을 형성한다. 비교예에 따른 방법으로 형성된 금속막은 200℃에서 바로 소결 시 가운데로 심하게 응축하였다.
[실험예 1] 접착력 비교
상기 비교예 8 및 실시예 7과 같은 방법으로 비교예들 1 내지 7 및 실시예들 1 내지 6에 따라 형성된 잉크 조성물을 이용하여 형성된 전도성 금속막에 대하여 ASTM D 903-49법에 따라 3M tape를 180o 로 벗김 테스트를 실시하였고, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
잉크조성물 | 접착성 물질 | 용매 | 접착성 물질 함량 (구리에 대한 중량%) |
3M tape peel test (pass/fail) |
비교예 1 | 에틸 셀룰로오스 | NMP | 4.884 | fail |
비교예 2 | 에틸 셀룰로오스 | NMP | 6.1 | fail |
비교예 3 | 에틸 셀룰로오스 | NMP | 6.5934 | fail |
비교예 4 | 에틸 셀룰로오스 | NMP | 7.326 | fail |
비교예 5 | 에틸 셀룰로오스 | NMP | 8.547 | pass |
비교예 6 | 에틸 셀룰로오스 | NMP | 9.768 | pass |
실시예 1 | L-DOPA | EG | 4.884 | pass |
실시예 2 | L-DOPA | EG | 6.1 | pass |
실시예 3 | L-DOPA | H2O | 4.884 | pass |
실시예 4 | 제조예 1 | EG | 4.884 | pass |
실시예 5 | 제조예 2 | EG | 4.884 | pass |
실시예 6 | 제조예 3 | EG | 4.884 | pass |
비교예 7 | 폴리에틸렌이민 | EG | 9.768 | pass |
표 1을 참조하면, 에틸 셀룰로오스를 접착성 물질로서 첨가한 비교예들의 경우 접착 강도가 낮아 첨가량이 매우 높은 경우 외에는 벗김 테스트에서 실패로 나타났다. 반면에, 실시예들에 따라 L-DOPA, 도파민-그라프트 히아루론산(MW 800), 3,4-디히드록시 벤조산-그라프트된 PEI(MW 25,000), 히드로카페인산 그라프트된 PEI(MW 25,000)를 첨가한 경우에는 EG 나 물과 같은 알코올계 용매를 사용하였고, 접착성 물질의 함량이 상대적으로 소량인 약 4.884 인 경우에도 벗김 테스트를 통과한 것으로 나타났다. 따라서, 본 발명의 실시예들에 따른 잉크 조성물은 접착성 물질을 상대적으로 소량 첨가하여도 충분한 접착력을 발휘함을 알 수 있다.
[실험예 2] 접착성 물질의 종류에 따른 전도도 비교
상기 실험예 1에서 벗김 테스트를 통과한 샘플인, 실시예 4에 따라 DOPA(4.884 wt%)를 EG에 용해한 조성물, 실시예 4 내지 6에 따라 제조예 1 내지 3의 화합물(4.884 wt%)을 EG에 용해한 조성물의 전도도를 평가하였다.
또한, 비교예 5에 따라 에틸 셀룰로오스(8.547 wt%)를 NMP에 용해한 잉크 조성물과 비교예 7의 폴리에틸렌이민(PEI, 9.768 wt%)를 EG에 용해한 잉크 조성물의 전도도도 평가하였다. 그 결과를 도 1 에 나타내었다.
도 1을 참조하면, 실시예들에 따른 접착성 물질을 첨가한 응크 조성물의 접착력과 비저항이 비교예에 따라 일반 공업용 고분자인 에틸 셀룰로오스를 함유한 것과 비슷한 특성을 보이는 것을 알 수 있다. 한편, PEI만을 첨가한 비교예 7의 경우에는 저항이 매우 높게 나타났는 바, L-DOPA와 그라프트에 의해 전도도가 증가되었음을 확인할 수 있다.
[실험예 3] 접착성 물질 함량에 따른 전도도 비교
상기 실험예 1에서 벗김 테스트를 통과한 샘플인, 비교예 1 내지 6의 에틸 셀룰로오스를 NMP에 용해한 잉크 조성물과 실시예 1 내지 2의 DOPA를 EG에 용해한 조성물, 실시예 3의 DOPA를 물에 용해한 조성물에서 DOPA의 함량을 달리하여 전도도를 평가하였고, 그 결과를 도 2에 나타내었다. 비교예들의 경우 소결 시 응축 막기 위해 공기 분위기 중 60℃에서 2 분 경화 실시 후 비교 평가하였다.
도 2를 참조하면, 실시예들에 따른 DOPA를 함유 잉크는 비교예에 따른 잉크에 비해 보다 적은 량을 첨가한 경우에도 비슷한 수준의 전도도를 나타냄을 확인할 수 있다.
본 발명이 속한 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.
Claims (19)
- 금속 입자 또는 금속 전구체, 용매, 및 생물 유래의 접착성 물질을 포함하는 금속 잉크 조성물.
- 제 1항에 있어서,
상기 생물 유래의 접착성 물질은 하기 화학식 1의 화합물(A), 또는 수용성 화합물(b)인 주쇄에 화합물(A)이 그라프트된 화합물(B)을 포함하는 금속 잉크 조성물:
(1)
여기서, R1, R2, R3, R4는 각각 독립적으로 수소 또는 R-X이거나, 또는 이들 중 두 개의 치환기가 상호 결합에 의해 C3-C6의 환형 구조를 이룰 수 있으며,
R은 OH 또는 COOH 로 치환되거나 비치환된 C1-C10 알킬, C2-C10 알켄, C3-C10 알킨, 및 C1-C10 알콕시 중에서 선택되고,
X는 NR'R", COOR', NH2COOR', CONR', OR', 페닐, 및 벤젠 중에서 선택되며, 여기서, R'및 R"는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C3 알킬이고,
R1, R2, R3, R4 중 두 개의 치환기가 상호 결합에 의해 환형 구조를 형성하는 경우, OH 또는 COOH 로 치환되거나 비치환된 C3-C6 시클로알킬, C3-C6 헤테로시클로알킬, C4-C6 아릴, 및 C4-C6 헤테로아릴 중에서 선택된다. - 제 2 항에 있어서,
상기 화학식 1의 화합물(A)에서 R은 OH 또는 COOH 로 치환되거나 비치환된 C1-C5 알킬, C2-C5 알켄, C3-C5 알킨, 및 C1-C5 알콕시 중에서 선택되고, X는 NH2, COOH, NH2COOR', CONH, 및 OH 중에서 선택되며, 여기서, R' 은 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C3 알킬인, 금속 잉크 조성물. - 제 2 항에 있어서,
상기 화학식 1의 화합물(A)에서 R은 OH 로 치환되거나 비치환된 C1-C3 알킬, 또는 C2-C3 알켄, 및 C1-C3 알콕시 중에서 선택되고, X는 NH2, COOH, NH2COOH, 및 OH 중에서 선택되는, 금속 잉크 조성물. - 제 1 항에 있어서,
상기 생물 유래의 접착성 물질은 식물류, 어패류, 곤충류, 갑각류, 조류 (藻類, algae)로부터 선택된 생물로부터 유래한 물질이거나, 인체의 세포 또는 조직으로부터 유래한 단백질, 및 동물체의 점성 물질 및 점액 중의 단백질; 중에서 선택된, 금속 잉크 조성물. - 제 2 항에 있어서,
상기 수용성 화합물(b)은 수용성이고, 금속 또는 금속 전구체와의 상용성을 가지며, 화학식 1의 화합물(A)의 아민기, 카르복실기, 또는 히드록시기와 그라프트 중합이 가능한 양이온성 고분자인, 금속 잉크 조성물. - 제 7 항에 있어서,
상기 수용성 화합물(b) 주쇄는 히아루론산, 폴리에틸렌이민(Polyethyleneimine, PEI), 및 폴리에틸렌글리콜(Polyethyleneglycol, PEG) 중에서 선택된, 금속 잉크 조성물. - 제 8 항에 있어서,
상기 화합물(B)는 도파민-그라프트 히아루론산, 3,4-디히드록시 벤조산-그라프트된 PEI, 및 히드로카페인산 그라프트된 PEI 중에서 선택된, 금속 잉크 조성물. - 제 1 항에 있어서,
상기 화합물(B)에서 주쇄인 수용성 화합물(b) 대비 그라프트되는 화합물(A) 의 농도는 0.1 몰% 내지 50 몰%인, 금속 잉크 조성물. - 제 1 항에 있어서,
상기 화학식 1의 화합물(A) 또는 수용성 화합물(b)의 중량평균 분자량(MW)은 100 ~ 100,000 인, 금속 잉크 조성물. - 제 1 항에 있어서,
상기 금속 입자 또는 금속 전구체의 함량 대비 상기 화학식 1의 화합물(A) 또는 수용성 화합물(b)인 주쇄에 화합물(A)이 그라프트된 화합물(B)의 함량은 3.7 내지 10 중량%인, 금속 잉크 조성물. - 제 1 항에 있어서,
상기 금속은 구리인, 금속 잉크 조성물. - 제 1 항에 있어서,
상기 금속 전구체는 금속 유기 화합물, 오르가노 메탈 화합물, 금속 산화물, 금속 질화물, 금속 할로겐화물, 금속 황화물, 금속 수산화물, 금속 카보네이트, 및 기타 금속염으로 이루어진 군에서 선택되는, 금속 잉크 조성물. - 제 14 항에 있어서,
상기 금속 전구체는 구리 포르메이트인, 금속 잉크 조성물. - 기판을 준비하는 단계;
제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 따른 금속 잉크 조성물을 상기 기판 상에 도포하는 단계; 및
잉크 조성물이 도포된 기판을 열처리하는 단계;
를 포함하는, 전도성 금속막 형성 방법. - 제 16 항에 있어서,
상기 기판 상에 도포하는 단계는 기판상에 상기 금속 잉크 조성물을 패턴이 형성되도록 도포하는 것인, 금속막 형성 방법. - 제 16항에 있어서,
상기 기판 상에 도포하는 단계는 스핀 코팅(spin coating), 롤 코팅(roll coating), 딥 코팅(deep coating), 분무 코팅(spray coating), 딥 코팅(dip coating), 플로 코팅(flow coating), 닥터 블레이드(doctor blade), 디스펜싱(dispensing), 잉크젯 프린팅 (inkjet printing), 스크린 프린팅 (screen printing), 그라비어 프린팅, 옵셋 프린팅(offset printing), 패드 프린팅, 플렉소 프린팅(flexography printing), 스텐실 프린팅, 임프린팅(imprinting), 제로그라피(xerography), 및 리소그라피(lithography)로 이루어진 군에서 선택되는 방법에 의한 것인, 금속막 형성 방법. - 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 따른 금속 잉크 조성물을 피착체 상에 도포하고 가열함으로써 형성되는, 전도성 금속막.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100108121A KR20120046457A (ko) | 2010-11-02 | 2010-11-02 | 금속 잉크 조성물, 이를 이용한 전도성 금속막 형성방법 및 이를 이용한 전도성 금속막 |
US13/253,349 US20120104330A1 (en) | 2010-11-02 | 2011-10-05 | Metal ink composition, method of forming a conductive metal film using the same, and conductive metal film using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100108121A KR20120046457A (ko) | 2010-11-02 | 2010-11-02 | 금속 잉크 조성물, 이를 이용한 전도성 금속막 형성방법 및 이를 이용한 전도성 금속막 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120046457A true KR20120046457A (ko) | 2012-05-10 |
Family
ID=45995643
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020100108121A KR20120046457A (ko) | 2010-11-02 | 2010-11-02 | 금속 잉크 조성물, 이를 이용한 전도성 금속막 형성방법 및 이를 이용한 전도성 금속막 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120104330A1 (ko) |
KR (1) | KR20120046457A (ko) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013176494A1 (ko) * | 2012-05-23 | 2013-11-28 | 주식회사 엘지화학 | 상변이 잉크 조성물 및 이를 이용한 전도성 패턴 |
KR101352992B1 (ko) * | 2013-08-09 | 2014-01-23 | 부경대학교 산학협력단 | 실리콘 태양전지 상부전극용 노즐 인쇄가 가능한 전도성 잉크 |
KR101355029B1 (ko) * | 2012-11-26 | 2014-02-06 | 한화케미칼 주식회사 | 잉크 조성물 및 그로 제조되는 대전방지필름 |
KR101425855B1 (ko) * | 2013-02-21 | 2014-08-14 | 서울대학교산학협력단 | 금속 유기 전구체를 포함하는 전도성 잉크 조성물 및 이를 이용한 금속배선 형성방법 |
KR101442681B1 (ko) * | 2012-11-09 | 2014-09-24 | 엔젯 주식회사 | 전도성 나노 잉크 조성물, 이를 이용한 전극선 및 투명전극 |
KR101491533B1 (ko) * | 2013-04-04 | 2015-02-11 | 한국기계연구원 | 폴리도파민을 이용한 탄소 코팅된 금속입자의 제조방법 및 이를 통해 제조된 탄소 코팅된 금속입자 |
KR101519765B1 (ko) * | 2013-12-30 | 2015-05-12 | 현대자동차주식회사 | 무베젤 태양전지 어레이 방법 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20130131240A (ko) * | 2012-05-23 | 2013-12-03 | 주식회사 엘지화학 | 상변이 잉크 조성물 및 이를 이용한 전도성 패턴 |
JP6079434B2 (ja) * | 2013-05-24 | 2017-02-15 | 東ソー株式会社 | 導電性銅インク組成物 |
WO2015063701A1 (en) * | 2013-10-30 | 2015-05-07 | C-Bond Systems, Llc | Improved materials, treatment compositions, & material laminates, with carbon nanotubes |
CN103834231B (zh) * | 2014-01-17 | 2015-08-26 | 哈尔滨工业大学 | 一种用于柔性基材表面喷墨印制铜图形的银催化胶体墨水及其制备方法 |
EP3689984B8 (en) | 2014-06-19 | 2023-07-12 | National Research Council of Canada | Molecular inks |
CN106548829B (zh) * | 2016-12-06 | 2018-08-14 | 卢璐娇 | 导电膏的制备方法 |
WO2018146619A2 (en) | 2017-02-08 | 2018-08-16 | National Research Council Of Canada | Silver molecular ink with low viscosity and low processing temperature |
TW201842087A (zh) | 2017-02-08 | 2018-12-01 | 加拿大國家研究委員會 | 具改良之熱穩定性的分子油墨 |
TW201842088A (zh) | 2017-02-08 | 2018-12-01 | 加拿大國家研究委員會 | 可印刷分子油墨 |
WO2018223110A1 (en) * | 2017-06-02 | 2018-12-06 | Guardian Glass, LLC | Glass article containing a coating with an interpenetrating polymer network |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6323670A (ja) * | 1986-04-25 | 1988-01-30 | バイオ−ポリマ−ズ インコ−ポレ−テツド | 接着・被覆組成物とその使用方法 |
US7691294B2 (en) * | 2005-03-04 | 2010-04-06 | Inktec Co., Ltd. | Conductive inks and manufacturing method thereof |
US20060258136A1 (en) * | 2005-05-11 | 2006-11-16 | Guangjin Li | Method of forming a metal trace |
JP4908194B2 (ja) * | 2006-12-28 | 2012-04-04 | 日本航空電子工業株式会社 | 導電性インクとそれを用いた印刷配線基板とその製造方法 |
KR101571116B1 (ko) * | 2008-11-13 | 2015-11-24 | 삼성전자주식회사 | 유기 물질, 상기 유기 물질을 포함한 필름, 상기 필름을 구비한 전기 소자 |
-
2010
- 2010-11-02 KR KR1020100108121A patent/KR20120046457A/ko not_active Application Discontinuation
-
2011
- 2011-10-05 US US13/253,349 patent/US20120104330A1/en not_active Abandoned
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013176494A1 (ko) * | 2012-05-23 | 2013-11-28 | 주식회사 엘지화학 | 상변이 잉크 조성물 및 이를 이용한 전도성 패턴 |
US8871014B2 (en) | 2012-05-23 | 2014-10-28 | Lg Chem, Ltd. | Phase change ink compositions and conductive patterns formed therefrom |
KR101442681B1 (ko) * | 2012-11-09 | 2014-09-24 | 엔젯 주식회사 | 전도성 나노 잉크 조성물, 이를 이용한 전극선 및 투명전극 |
KR101355029B1 (ko) * | 2012-11-26 | 2014-02-06 | 한화케미칼 주식회사 | 잉크 조성물 및 그로 제조되는 대전방지필름 |
KR101425855B1 (ko) * | 2013-02-21 | 2014-08-14 | 서울대학교산학협력단 | 금속 유기 전구체를 포함하는 전도성 잉크 조성물 및 이를 이용한 금속배선 형성방법 |
KR101491533B1 (ko) * | 2013-04-04 | 2015-02-11 | 한국기계연구원 | 폴리도파민을 이용한 탄소 코팅된 금속입자의 제조방법 및 이를 통해 제조된 탄소 코팅된 금속입자 |
KR101352992B1 (ko) * | 2013-08-09 | 2014-01-23 | 부경대학교 산학협력단 | 실리콘 태양전지 상부전극용 노즐 인쇄가 가능한 전도성 잉크 |
KR101519765B1 (ko) * | 2013-12-30 | 2015-05-12 | 현대자동차주식회사 | 무베젤 태양전지 어레이 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120104330A1 (en) | 2012-05-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20120046457A (ko) | 금속 잉크 조성물, 이를 이용한 전도성 금속막 형성방법 및 이를 이용한 전도성 금속막 | |
EP1853671B1 (en) | Conductive inks and manufacturing method thereof | |
KR100727434B1 (ko) | 투명 은 잉크 조성물 및 이를 이용한 박막 형성방법 | |
TWI496845B (zh) | 銀墨水組合物 | |
KR20110064153A (ko) | 금속 유기 전구체, 이의 제조방법, 및 이를 이용한 전도성 금속막 또는 패턴 형성방법 | |
JP5870203B2 (ja) | 金属性、金属酸化物又は金属前駆体ナノ粒子、高分子分散剤及び焼結助剤を含んでなる分散系 | |
JP6005852B2 (ja) | 金属性ナノ粒子分散系 | |
KR100727451B1 (ko) | 금속 잉크 조성물 | |
US9873662B2 (en) | Metal precursor and metal precursor ink using the same | |
WO2016017836A1 (ko) | 도전성 잉크 | |
KR101802458B1 (ko) | 금속 나노입자 분산액 | |
JP2009527076A (ja) | 導電線パターン形成のための銀オルガノゾルインク | |
KR100658492B1 (ko) | 도전성 잉크 조성물 및 이를 이용한 박막 형성방법 | |
US20090181183A1 (en) | Stabilized Metal Nanoparticles and Methods for Depositing Conductive Features Using Stabilized Metal Nanoparticles | |
KR101605650B1 (ko) | 구리막 형성용 조성물 및 상기 조성물을 이용한 구리막의 제조방법 | |
KR20120020086A (ko) | 전도성 금속 잉크 조성물 및 전도성 패턴의 형성방법 | |
RU2388774C2 (ru) | Проводящие чернила и способ их получения | |
KR101779734B1 (ko) | 구리막 형성용 조성물 및 그것을 이용한 구리막의 제조방법 | |
KR20170139664A (ko) | 금속 나노입자 분산액 | |
KR101583304B1 (ko) | 전도성 금속이온 잉크 조성물 및 이의 제조방법 | |
KR100587402B1 (ko) | 도전선 패턴 형성을 위한 은 오르가노 졸 잉크 | |
JP2009228017A (ja) | 銅微粒子の製造方法および銅微粒子 | |
KR100616361B1 (ko) | 잉크제트 프린트용 은 오르가노 졸 잉크 | |
KR100587404B1 (ko) | 잉크제트 프린트용 은 오르가노 졸 잉크 | |
KR101199969B1 (ko) | 도전선 패턴 형성을 위한 은 오르가노 졸 잉크 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |