KR20110021774A - 균일한 유체 흐름을 위한 적층된 벽 - Google Patents

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지라텍스 테크놀로지 리미티드
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Abstract

챔버 내의 균일한 유체 흐름을 위한 유체 분산 네트워크를 갖는 챔버가 제공된다. 챔버는 제 1 표면과 대향하는 내부 표면을 갖는 제 1 챔버 벽을 포함한다. 제 1 표면에는 제 1 세트의 채널이 형성되고, 내부 표면은 챔버의 내부에 노출되고 다수의 제 1 세트의 채널에 연결되는 다수의 내부 포트를 포함한다. 챔버는 또한 제 2 표면과 대향하는 외부 표면을 갖는 제 2 챔버를 포함한다. 제 2 표면은 제 1 표면이 제 2 표면과 짝을 이룰 때 제 1 세트의 채널과 부분적으로 교차하는 제 2 세트의 채널을 갖는다. 외부 표면은 또한 제 2 세트의 채널로의 접근을 제공하는 적어도 하나의 외부 포트를 포함한다.

Description

균일한 유체 흐름을 위한 적층된 벽{LAMINATED WALL FOR UNIFORM FLUID FLOW}
본 발명은 균일한 유체 흐름을 위한 적층된 벽에 관한 것이다.
반도체 및 자기 디스크 제작을 위한 대부분의 제작 공정에서, 작업물을 액체 환경에서 처리하고 그 후 작업물을 건조하는 것이 필요하다. 잘 알려진 것과 같이, 건조 공정 동안 부착되는 오염물질 또는 미립자는 결국 작업물에 결함을 야기할 수 있다. 추가적으로, 불충분한 건조 공정은 늘어난 공정 시간 또는 작업물의 표면에 결함을 남기고, 뿐만 아니라 산화를 촉진하는 것을 초래할 수 있다. 따라서, 기판이 건조될 때, 그 표면에 불순물이 없는 것이 극도로 중요하다. 효과적인 건조를 촉진시키고 있을 수 있는 불순물의 형성을 줄이기 위해, 이하에 설명된 실시형태는 작업물이 액체 환경에서 제거된 후에 고르게 분산되는 가열된 가스에 작업물을 노출시킨다.
본 발명은 균일한 유체 흐름을 위한 적층된 벽을 제공하는 것을 목적으로 한다.
일 실시형태에서, 챔버 내에 균일한 유체 흐름을 위한 유체 분산 네트워크를 갖는 챔버가 제공된다. 챔버는 제 1 표면 및 대향하는 내부 표면을 갖는 제 1 챔버를 포함한다. 제 1 표면에는 제 1 세트의 채널이 형성되고 내부 표면은 챔버의 내부에 노출된다. 챔버는 또한 다수의 제 1 세트의 채널에 연결되는 다수의 내부 포트를 포함한다. 챔버는 또한 제 2 표면 및 대향하는 외부 표면을 갖는 제 2 챔버를 포함한다. 제 2 표면은 제 1 표면이 제 2 표면과 짝을 이룰 때 제 1 세트의 채널과 부분적으로 교차하는 제 2 세트의 채널을 갖는다. 외부 표면은 또한 제 2 세트의 채널로의 접근을 제공하는 적어도 하나의 외부 포트를 포함한다.
다른 실시형태에서 유체 분산 챔버가 제공된다. 유체 분산 챔버는 기저부를 포함하며 이 기저부는 이로부터 뻗어있는 측벽을 갖는다. 측벽 중 하나는 서로 부착되는 제 1 부재 및 제 2 부재를 포함한다. 제 1 부재는 제 2 부재의 외부 표면과 짝을 이루는 내부 표면을 갖는다. 제 1 부재의 내부 표면은 또한 열 (row) 로 이격된 제 1 패턴으로 규정되는 다수의 공동을 갖는다. 반면에 외부 표면은 행 (column) 으로 이격된 제 2 패턴으로 규정되는 다수의 공동을 갖는다. 제 1 패턴의 공동은 제 2 패턴의 다수의 공동과 부분적으로 교차한다.
또 다른 실시형태에서, 유체를 분산하는 방법이 기재된다. 이 방법은 균일한 유체 분산 네트워크를 형성하는 서로 부착된 제 1 및 제 2 벽을 갖는 챔버를 제공하는 작업을 포함한다. 다른 작업은 부착된 벽 내에 균일한 유체 분산 네트워크에 연결되는 포트를 통하여 유체 흐름을 개시한다. 다른 작업에서 유체 흐름은 부착된 벽 내에서 분산된다. 유체 흐름은 제 2 벽의 부분으로서 형성되는 대향하는 제 2 세트의 채널을 부분적으로 교차하는 제 1 벽의 부분으로서 형성되는 제 1 세트의 채널을 통하여 벽 사이에서 균일하게 분산된다.
본 발명의 다른 양태 및 이점은, 본 발명의 원리를 예로써 나타내는, 첨부된 도면과 관련하여 취해진, 이하의 상세한 설명으로부터 명백해질 것이다.
본 발명은, 그의 다른 이점과 함께, 첨부된 도면과 관련하여 취해진 이하의 설명을 참조하여 가장 잘 이해될 수 있다.
도 1 은 본 발명의 일 실시형태에 따른 유체 분산 네트워크를 사용하는 기판 세정 시스템의 개도를 나타내는 간소화된 개략도이다.
도 2 는 본 발명의 일 실시형태에 따른 건조 챔버의 대표도이다.
도 3 은 본 발명의 일 실시형태에 따른 건조 챔버의 일부의 분해도의 대표도이다.
도 4a 및 도 4b 는 본 발명의 일 실시형태에 따른 수직 분산 판 및 수평 분산 판의 수직 및 수평 채널의 배열의 대표도이다.
도 5a 및 도 5b 는 본 발명의 일 실시형태에 따른 수직 분산 판 및 수평 분산 판의 개략도이다.
도 6a ~ 도 6e 는 본 발명의 실시형태에 따른 챔버 내에 성립될 수 있는 다양한 흐름 패턴을 나타내는 대표적인 개략도이다.
도 7 은 본 발명의 일 실시형태에 따른 챔버 내에 유체를 고르게 분산하는 방법을 위한 대표적인 작업을 나타내는 흐름도이다.
본 발명은 챔버 내의 유체를 고르게 분배 및/또는 제거하기 위해 기재된다. 이하에 설명되는 것과 같이, 일 실시형태에서 유체는 기판 재료의 건조를 유발하는 가스일 수 있다. 하지만, 청구항은 챔버 내에서 분배 및/또는 제거될 수 있는 유체의 종류를 건조 가스로 제한하도록 구성되지 않아야 한다. 당업자는 주장되는 주된 물질을 포함하는 챔버가 액체 또는 가스를 수용하도록 변경될 수 있다는 것을 인지해야 한다. 다른 실시형태는 가스를 분산하기 위한 구성들 사이에서 액체를 분산하기 위한 구성으로 전환될 수 있는 챔버를 포함한다. 추가적으로는, 이하의 설명이 기판 재료를 건조하기 위한 챔버를 설명하지만, 다른 실시형태에서는, 챔버는 청정실 (clean room) 또는 전체 건물과 같은 더 큰 구조를 위한 유체 순환을 포함하는 규모를 가질 수 있다.
이하의 설명에서, 수많은 구체적인 세부 사항을 본 발명의 전체적인 이해를 제공하기 위해 나타낼 수 있다. 하지만, 본 발명이 어떠한 또는 모든 이러한 구체적인 세부 사항 없이 실현될 수 있다는 것이 당업자에게는 명백할 것이다. 다른 예에서, 공지된 공정 단계는 본 발명을 불필요하게 모호하게 하지 않기 위해 상세하게 설명되지 않는다.
도 1 은 본 발명의 일 실시형태에 따른 유체 분산 네트워크를 사용하는 기판 세정 시스템 (100) 의 개도를 나타내는 간소화된 개략도이다. 기판 세정 시스템 (100) 은 건조 챔버 (102), 세정 탱크 (104), 및 전달 조립체 (108) 를 포함할 수 있다. 세정 탱크 (104) 내에서의 제어된 노출 후에, 기판 재료는 전달 조립체 (108) 를 통하여 건조 챔버 (102) 로 이동된다. 전달 조립체 (108) 에 관한 더 많은 정보를 위해서는, 여기서 참조로 통합되는, 제목 APPARATUS AND METHOD FOR DRYING A SUBSTRATE 인, 2006 년 9 월 14 일 출원된 U.S. 특허 출원 제 11/531,905 호를 참조한다.
가열된 건조 가스는 기판 재료에 균일한 공정 노출을 제공하기 위한 노력으로 건조 챔버 (102) 의 길이를 통하여 분산된다. 공정의 균일함을 달성하기 위해, 건조 챔버 내의 온도 변동을 최소화하기 위해 전체 건조 챔버에 걸쳐 건조 가스의 균일한 흐름을 갖는 것이 바람직하다.
도 2 는 본 발명의 일 실시형태에 따른 건조 챔버 (102) 의 대표도이다. 건조 챔버 (102) 의 내부는 수평적인 분산 판 (200a/b) 및 단부 벽 (204a/b) 에 의해 형성된다. 이하에 설명되는 것과 같이, 수평 분산 판 (200a/b) 은 건조 챔버 (102) 를 통하여 유체의 분산을 돕기 위해 표면에 형성되는 홈 또는 수평 채널을 갖는다. 수직 분산 판 (202a/b) 이 수평 분산 판 (200a/b) 과 짝을 이루며 이는 또한 이하에 더욱 상세하게 논의될 것이다. 도 2 에 나타낸 것과 같이, 수평 분산 판 (200b) 은 건조 챔버 (102) 의 내부를 향해 개방되는 포트 (208) 를 포함할 수 있다. 포트 (208) 는 또한 도 2 에서는 보이지 않지만 수평 분산 판 (200a) 에서도 발견된다는 것을 알아야 한다.
건조 챔버 (102) 의 일 실시형태에서, 가열된 건조 가스는 건조 챔버 (102) 내의 온도 변동을 최소화하기 위해 포트 (208) 로부터 균일하게 분배된다. 다른 실시형태에서, 온도가 변하는 가스, 다양한 온도의 액체 혼합물, 그리고 가스 및 액체의 혼합물이 포트 (208) 로부터 분배 또는 제거될 수 있다. 외부 벽 (214) 은 챔버의 온도 제어가 바람직할 때 실시형태의 단열을 제공하기 위해 수직 분산 판 (202a/b) 에 부착될 수 있다. 외부 벽 (214) 은 또한 챔버의 강도 (robustness) 를 증가시키는데 사용될 수 있다. 도 2 에 나타낸 포트 (208) 의 위치, 형상 및 개수는 대표적이지만 청구항의 내용을 제한하도록 구성되지는 않아야 한다. 또한, 포트 (208) 의 위치, 크기, 및 형상은 챔버의 상이한 용도가 상이한 유체 흐름 패턴 및 챔버의 상이한 유체 유입량 및 유출량을 요구하기 때문에 변경될 수 있다.
수직 분산 판 (202a/b) 은 이들 각각의 수평 분산 판 (200a/b) 에 적층 또는 고정된다. 수직 분산 판 (202a/b) 은 건조 챔버 (102) 를 통하여 유체의 분산을 돕기 위해 수평 분산 판 (200a/b) 의 각각의 수평 홈과 짝을 이루는, 표면에 형성되는 홈 또는 수직 채널을 포함한다. 수직 분산 판 (202a/b) 은 또한 수직 채널로의 접근을 제공하는 포트 (206) 를 포함한다. 어떠한 실시형태에서, 포트 (208) 에 유체를 분산하기 위해 유체 공급부가 포트 (206) 에 부착될 수 있다. 다른 실시형태에서, 포트 (208) 를 통하여 유체를 제거하기 위해 진공부가 포트 (206) 에 부착될 수 있다. 진공부와 유체 공급부의 조합이 건조 챔버 (102) 내에 유체를 순환하는데 사용될 수 있다.
이전에 논의된 것과 같이, 챔버 (102) 는 또한 액체를 순환하는데 사용될 수 있고 액체 공급부와 복귀부의 조합이 마찬가지로 챔버 내의 액체를 순환하는데 사용될 수 있다. 예컨대, 세정 탱크 (104) 는 작업물로부터의 오염 물질의 제거를 용이하게 하기 위해 세정액을 순환 및 분산하기 위해 적층된 벽을 사용할 수 있다. 포트 (206) 의 개수는 각각의 적용을 기본으로 하여 구성될 수 있고 챔버 내의 흐름 구성 및 필요한 처리량에 따라 변할 수 있다. 챔버가 다중 공정을 위해 사용되는 다른 실시형태에서, 포트 (206) 는 포트 (206) 의 개수를 변경하기 위해 개방 및 폐쇄될 수 있다.
수직 분산 판 (202a/b) 과 수평 분산판 (200a/b) 모두는 또한 건조 챔버 (102) 의 내부로의 접근을 제공하기 위해 추가적인 포트 (212) 를 포함할 수 있다. 포트 (212) 는 건조 챔버 내의 다양한 상태를 관찰하기 위해 센서 또는, 이에 제한되지 않지만, 공진기, 변환기, 유량계, 습도계, 및 열전대와 같은 다른 장비를 설치하는데 사용될 수 있다. 건조 챔버 (102) 는 또한 수직 분산 판 (202a/b) 에 고정되는 외부 벽 (214) 을 포함할 수 있다.
"수평" 및 "수직" 과 같은 분산 판의 설명은 도 2 에 나타낸 실시형태를 설명하기 위한 것이라는 것을 알아야 한다. 당업자는 "수평" 및 "수직" 이 청구항을 제한하는 것으로 해석되지 않아야 하는 것을 인지해야 하는데 이는 분산 판의 다른 실시형태는 분산 판 사이에 유체를 분산시킬 수 있는 제한되지 않는 다양한 채널 구성을 가질 수 있기 때문이다.
도 3 은 본 발명의 일 실시형태에 따른 건조 챔버 (102) 의 일부의 분해도의 대표적인 도면이다. 수직 홈을 수직 분산 판 (202b) 의 표면에서 볼 수 있다. 유사하게, 수평 홈을 수평 분산 판 (200a) 의 표면에서 볼 수 있다. 포트 (210) 를 또한 수평 분산 판 (200a) 에서 볼 수 있으며 이는 이 실시형태에서 포트 (208) 와 대각선으로 대향한다. 챔버 내의 바람직한 흐름의 종류에 따라서, 포트 (208) 및 포트 (210) 는 다양한 위치에 위치될 수 있다. 다른 실시형태에서, 추가적인 포트 또는 더 적은 포트가 챔버에 다양한 유체를 분산하는데 사용될 수 있다. 도 3 에 나타낸 실시형태에서, 포트 (210) 는 건조 챔버 (102) 아래 영역에 유체를 분산시킬 수 있다. 포트 (210) 는 도 3 에서는 보이지 않지만 수평 분산 판 (200b) 에서 또한 발견될 수 있다.
일 실시형태에서, 포트 (206) 는 수직 및 수평 채널을 통하여 포트 (210) 및 포트 (208) 로/로부터 유체를 공급 및 복귀시키는데 사용된다. 다른 실시형태에서, 진공부가 포트 (206) 를 통하여 당겨질 수 있고 이에 의해 포트 (208) 및 포트 (210) 를 사용하여 챔버로부터 유체를 비워낸다. 다른 실시형태에서, 포트 (206) 를 통하는 진공부 및 유체 공급부의 다양한 구성을 따라 수직 및 수평 분산 판 내의 다양한 구성이 포트 (208) 및/또는 포트 (210) 를 통한 유체 제거 및 유체 분산 모두를 가능하게 한다.
도 4a 및 도 4b 는 본 발명의 일 실시형태에 따른 수직 분산 판 (202b) 및 수평 분산 판 (200b) 의 수직 및 수평 채널의 배열의 대표적인 도면이다. 이 도면에서, 수평 분산 판 (200b) 은 수직 분산 판 (202b) 의 특징부를 보기 위해 반투명하게 만들어진다. 이러한 실시형태에서, 포트 (206a ~ 206d) 는 수평 분산 판 (200b) 과 수직 분산 판 (202b) 사이의 교차에 의해 형성되는 분산 네트워크에 접근을 제공한다. 도 4a 에서 볼 수 있듯이, 포트 (206a) 는 다수의 포트 (208a) 로의 복귀 및/또는 유체 분산을 제공한다. 마찬가지로, 포트 (206b ~ 206d) 는 각각의 포트 (208b) 및 포트 (210c/d) 로의 배출 및/또는 유체 분산을 제공할 수 있다.
도 4b 는 도 4a 에 나타낸 수평 및 수직 분산 판의 우측의 추가적인 상세를 나타내는 도면이다. 포트 (206d) 를 통하여 유입된 유체는 수평 분산 판 (200b) 과 수직 분산 판 (202b) 의 채널 사이의 교차에 의해 생성되는 용적 측정 영역을 통과한다. 교차 영역 (400a/b) 은 유체가 수평 분산 판 (200b) 에서 2 개의 별개의 수평 채널로 분기하는 것을 가능하게 한다. 일 실시형태에서, 일 열의 채널의 단면적의 합은 수평 분산 판 (200b) 내의 매 열에 대해 실질적으로 동일한 개수를 초래할 것이다. 유사하게, 수직 채널의 단면적의 합은 수직 분산 판 (202b) 에 대하여 실질적으로 동일하게 남아있다. 수평 및 수직 채널의 열 사이에 동일한 단면적을 유지하는 것은 모든 포트 (208 및 210) 에 균일한 유체 흐름을 촉진시킨다.
포트 (206d) 와 관련된 분산 네트워크를 볼 때, 4 개의 수직 채널 (402a ~ 402d) 이 2 개의 수평 채널 (401a/b) 과 교차하고 이 수직 채널은 유체를 4 개의 수평 채널 (403a ~ 403d) 로 전달한다. 어떠한 실시형태에서, 수평 채널 (401a/d) 은 수평 채널의 열로서 볼 수 있고 수직 채널 (402a ~ 402d) 은 수직 채널의 열로서 볼 수 있다. 유사하게, 수평 채널 (403a ~ 403d) 은 또한 수평 채널의 열로서 볼 수 있다. 따라서, 분산 네트워크는 수직 및 수평 열의 교차의 모음으로 볼 수 있다. 도 4b 에 나타낸 실시형태에서, 포트 (206d) 와 관련된 분산 네트워크는 5 개의 열의 수평 채널과 5 개의 열의 수직 채널 (포트 (210d) 포함) 을 갖는 것으로 볼 수 있다. 이는 5 개의 열의 수평 채널과 4 개의 열의 수직 채널을 갖는 포트 (208) 와 관련된 분산 네트워크와 약간 상이하다.
이전에 설명된 것과 같이, 수평 채널 (401a/b) 의 단면적의 합은 수평 채널 (403a ~ 403d) 의 단면적의 합과 대략 동일하다. 포트 (206d) 를 통과하는 유체는 유체가 건조 챔버의 특정 길이에 걸쳐 고르게 분산될 때까지 수직 및 수평으로 계속하여 분기된다. 이러한 실시예에서, 포트 (206d) 를 통하여 유입되는 유체는 결국 포트 (210d) 로부터 나오게 되고 포트 (210) 의 단면적의 합은 수평 채널 (401a 및 401b) 의 단면적의 합과 대략 동일하게 될 것이다.
어떠한 실시형태에서, 각각의 포트 (210d) 의 단면적의 합은 포트 (206d) 의 단면적을 초래할 수 있다. 다른 실시형태에서, 유체는 포트 (206d) 를 통하여 제거될 수 있고 수평 분산 판 (202d) 과 수직 분산 판 (200b) 사이에 형성되는 분산 네트워크는 챔버의 특정 길이에 걸쳐 유체를 고르게 제거할 것이다.
도 5a 및 도 5b 는 본 발명의 일 실시형태에 따라 각각 수직 분산 판 (202b) 과 수평 분산 판 (200b) 을 개략적으로 나타내는 도면이다. 수직 분산 판 (202b) 과 수평 분산 판 (200b) 을 구분하는 것은, 수직 및 수평 채널 사이의 캐스케이딩 특성 (cascading nature) 이 증거가 된다. 채널의 캐스케이딩 특성은 또한 가열된 또는 냉각된 유체가 챔버에 흘러 들어오고 및 흘러 나가는 챔버에서 에너지 보존을 가능하게 한다. 유체가 챔버에 입력되는 실시형태에서, 챔버 내의 에너지 보존은 들어오는 유체 에너지의 일부를 챔버 벽에 전달함으로써 촉진된다. 진공부를 사용하여 유체가 챔버로부터 비워지는 실시형태에서, 나가는 유체 에너지의 일부는 챔버 벽에 전달될 수 있다.
도 5a 및 도 5b 에 나타낸 것과 같이, 포트 (206a ~ 206d) 는 포트 (210) 및/또는 포트 (208) 의 대향하는 판에 있다. 하지만, 공간 제약이 문제가 되는 다른 실시형태에서, 수평 및 수직 채널은 포트 (206a ~ 206d) 가 포트 (210 및/또는 208) 와 동일한 분산 판에 위치될 수 있도록 구성될 수 있다. 어느 한 쪽의 실시형태에서, 챔버의 전체 공간의 감소 및 공간 절약이 챔버 공간 내에 포트 (206a ~ 206d) 를 위해 필요한 입력/출력 하드웨어를 위치시킴으로써 실현될 수 있다.
도 6a ~ 도 6e 는 본 발명의 실시형태에 따른 챔버 내에 성립될 수 있는 다양한 흐름 패턴을 나타내는 대표적인 개략도이다. 각각의 도면에서 좌측 및 우측의 더 작은 도면은 분산 네트워크를 공급하는 포트에 대한 연결의 종류를 나타낸다. 나타낸 다양한 구성은 다양한 흐름 가능성을 제한하는 것으로 구성되지 않아야 하며 포트 위치는 무한 흐름 구성 및 흐름 패턴을 생성하는데 사용될 수 있다. 당업자는 가스 또는 액체 중 하나가 분산 네트워크 내에 공급, 분산 및/또는 복귀될 수 있다는 것을 또한 인지해야 한다. 도 6a 는 챔버의 바닥부에 위치된 포트에 진공을 가하고 챔버의 정상부의 포트를 통하여 유체를 유입함으로써 성립될 수 있는 흐름 패턴을 나타내는 도면이다. 이러한 실시형태에서 교차 흐름 (cross-flow) 이 챔버의 한 측의 정상부로부터 대향하는 측의 바닥부로 성립될 수 있다.
도 6b 는 챔버의 대향하는 측에 유체를 공급하면서 챔버의 한 측에 진공을 가함으로써 성립될 수 있는 교차 흐름 패턴을 나타내는 도면이다. 도 6c 는 유체 분산 판을 이용하여 챔버에 유체를 공급하고 다양한 진공을 가함으로써 유도될 수 있는 다른 대표적인 흐름 패턴을 나타내는 도면이다. 이러한 실시형태에서, 유체는 진공이 챔버의 바닥부로부터 유체를 비워내는 동안 챔버의 정상부에서 포트를 통하여 공급될 수 있다.
도 6d 는 모든 이용 가능한 포트를 사용하지는 않음으로써 생성될 수 있는 대표적인 흐름 패턴을 나타내는 도면이다. 이러한 실시형태에서, 한 측의 바닥부 포트는 유체를 공급하는데 사용될 수 있으며 대향하는 측의 상부 포트는 진공이 되게 한다. 챔버로부터 입력 및 출력을 연결 또는 연결해제하는 능력은 가요성을 제공할 수 있고 다중 공정 작업을 수행하기 위해 단일 챔버를 가능하게 한다. 추가적으로, 유체 분산 판은, 이에 제한되지 않지만 구조물 내의 공간 또는 전체 구조물을 포함하는 다양한 크기의 챔버를 수용할 수 있는 규모를 가질 수 있다. 단일 부분의 재료로부터의 분산 판의 제조가 어려울 수 있는 더 큰 실시형태에서, 제작 공정을 간소화하기 위해 모듈식 구조 기술을 사용하는 것이 필요할 수 있다.
도 6e 는 대표적인 흐름 패턴이 챔버의 내부로부터 유체를 제거하도록 성립되는 실시형태를 나타내는 도면이다. 하부 포트의 일부 또는 모두에 진공을 가함으로써 이러한 흐름 패턴을 생성할 수 있다. 다른 실시형태에서, 중력이 챔버로부터 유체를 빼내기 위해 진공을 대신하여 사용될 수 있다.
도 7 은 본 발명의 일 실시형태에 따른 챔버 내의 유체를 고르게 분산하기 위한 방법을 위한 대표적인 작업을 나타내는 흐름도이다. 작업 (700) 은 유체 분산 네트워크를 형성하는 벽을 챔버에 제공한다. 일 실시형태에서, 유체 분산 네트워크는 수평 분산 판과 수직 분산 판 사이에 형성될 수 있다. 이전에 논의된 것과 같이, 분산 판은 분산 네트워크를 형성하기 위해 함께 부착될 때 교차 또는 겹치는 홈 또는 채널을 가질 수 있다.
작업 (702) 은 분산 네트워크 내의 유체 흐름을 개시한다. 이전에 논의된 것과 같이, 유체 흐름은 분산 네트워크에 연결된 포트를 통하여 개시될 수 있다. 어떠한 실시형태에서, 유체는 분산 네트워크로 입력될 수 있고, 다른 실시형태에서, 유체는 분산 네트워크로부터 제거될 수 있다.
작업 (704) 은 분산 판에 의해 형성되는 챔버 내의 유체 흐름을 분산시킨다. 어떠한 실시형태에서, 분산 네트워크의 캐스케이딩 특성은 유체의 고른 분산을 촉진할 수 있다. 어떠한 실시형태에서, 분산 네트워크는 개별 채널의 단면적을 줄이면서 유체가 흐르기 위한 일정한 단면적을 유지하기 위해 개별 채널의 개수를 증가시킴으로써 분산 네트워크 내의 유체의 고른 분산을 촉진한다.
전술한 발명이 이해의 명확성을 위해 다소 상세하게 설명되었지만, 특정한 변경 또는 수정이 첨부된 청구항의 범위 내에서 실행될 수 있는 것이 명백할 것이다. 따라서, 본 실시형태는 예시적인 것이며 제한적이지 않은 것으로 고려되어야 하고, 본 발명은 여기서 주어진 상세한 설명으로 제한되지 않지만, 첨부된 청구항의 범위 및 그의 대응물 내에서 수정될 수 있다.

Claims (22)

  1. 챔버 내의 균일한 유체 흐름을 위한 유체 분산 네트워크를 포함하는 챔버로서,
    제 1 표면 및 대향하는 내부 표면을 갖는 제 1 챔버, 및
    제 2 표면 및 대향하는 외부 표면을 갖는 제 2 챔버를 포함하고,
    상기 제 1 표면은 제 1 세트의 채널에 의해 형성되고, 상기 내부 표면은 챔버의 내부에 노출되며 다수의 제 1 세트의 채널에 연결되는 다수의 내부 포트를 포함하고,
    상기 제 2 표면은 제 2 세트의 채널을 갖고, 제 2 세트의 채널은 제 1 표면이 제 2 표면과 짝을 이룰 때 부분적으로 제 1 세트의 채널과 교차하고, 상기 외부 표면은 제 2 세트의 채널에 접근을 제공하는 적어도 하나의 외부 포트를 포함하는 유체 분산 네트워크를 포함하는 챔버.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 세트의 채널은 실질적으로 수평 채널의 다수의 열을 포함하는 유체 분산 네트워크.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 제 2 세트의 채널은 실질적으로 수직 채널의 다수의 열을 포함하고, 상기 수직 채널은 부분적으로 대응하는 수평 채널과 교차하는 유체 분산 네트워크.
  4. 제 1 항에 있어서, 다수의 내부 포트의 단면적은 외부 포트의 단면적과 실질적으로 동일한 유체 분산 네트워크.
  5. 제 3 항에 있어서, 수직 채널의 열의 단면적과 수평 채널의 열의 단면적은 동등한 유체 분산 네트워크.
  6. 제 1 항에 있어서, 제 1 외부 포트가 유체를 제 1 다수의 내부 포트를 통하여 챔버의 내부로 유입하기 위해 구성되고 제 2 외부 포트가 제 2 다수의 내부 포트를 통하여 챔버의 내부로부터 유체를 제거하기 위해 구성되는 유체 분산 네트워크.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 외부 포트로부터의 유체는 제 1 및 제 2 세트의 채널을 통하여 제 1 및 제 2 챔버 벽 사이에 분산되고 내부 포트를 통하여 챔버의 내부 내에서 분산되는 유체 분산 네트워크.
  8. 제 1 항에 있어서, 유체가 제 1 및 제 2 세트의 채널을 통하여 그리고 외부 포트를 통하여 제 1 및 제 2 챔버 벽 사이에, 내부 포트를 통하여 챔버의 내부로부터 유체를 빼냄으로써 내부로부터 제거되는 유체 분산 네트워크.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 챔버를 가로지르는 제 1 및 제 2 챔버 벽과 경상 (mirror) 이 되도록 구성되는 제 3 챔버 벽 및 제 4 챔버 벽을 또한 포함하고, 상기 제 3 챔버 벽 및 제 4 챔버 벽은 제 1 및 제 2 챔버 벽에 대향하여 놓이고, 제 3 챔버 벽은 제 2 다수의 내부 포트 및 채널을 갖고 제 4 챔버 벽은 제 2 다수의 채널 및 외부 포트를 갖는 유체 분산 네트워크.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 제 2 다수의 내부 포트는 다수의 내부 포트에 대각선으로 대향하는 유체 분산 네트워크.
  11. 유체 분산 챔버로서,
    기저부를 가지며 이 기저부는 이로부터 뻗어있는 측벽을 가지며, 측벽 중 하나는 서로 부착되는 제 1 부재 및 제 2 부재를 포함하고, 제 1 부재는 제 2 부재의 외부 표면과 짝을 이루는 내부 표면을 갖고, 제 1 부재의 내부 표면은 이격된 열의 제 1 패턴으로 규정된 다수의 공동을 갖고, 외부 표면은 이격된 행의 제 2 패턴으로 규정된 다수의 공동을 갖고, 상기 제 1 패턴의 공동은 제 2 패턴의 다중 공동과 부분적으로 교차하는 유체 분산 챔버.
  12. 제 11 항에 있어서, 상기 열 및 행의 단면적의 합은 열 및 행에 걸쳐 실질적으로 일정한 유체 분산 챔버.
  13. 제 11 항에 있어서, 상기 이격된 열의 제 1 패턴의 공동은 이격된 행의 제 2 패턴의 공동의 연장의 축선에 직각인 연장의 축선을 갖는 유체 분산 챔버.
  14. 제 11 항에 있어서, 추가적인 포트를 또한 포함하고, 상기 포트는 부대 용품을 수용하기 위해 구성되는 유체 분산 챔버.
  15. 유체 분산 방법으로서,
    균일한 유체 분산 네트워크를 형성하는 서로 부착된 제 1 및 제 2 벽을 갖는 챔버를 제공하는 작업;
    상기 부착된 벽 내에 균일한 유체 분산 네트워크에 연결되는 포트를 통하여 유체 흐름을 개시하는 작업; 및
    상기 부착된 벽 내에 유체 흐름을 분산하는 작업을 포함하며, 상기 유체 흐름은 제 2 벽의 일부로서 형성되는 대향하는 제 2 세트의 채널을 부분적으로 교차하는 제 1 벽의 일부로서 형성되는 제 1 세트의 채널을 사용하여 벽 사이에 균일하게 분산되는 유체 분산 방법.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 제 1 세트의 채널은 유체 흐름을 제 1 방향으로 분산시키고 상기 제 2 세트의 채널은 유체 흐름을 제 2 방향으로 분산시키며, 상기 제 2 방향은 제 1 방향에 실질적으로 직각인 유체 분산 방법.
  17. 제 15 항에 있어서,
    공정 영역을, 상기 제 1 및 제 2 세트의 채널에 연결되는 입구/출구 포트를 통하여 분산되는 유체 흐름에 노출하고,
    작업물을 공정 영역으로 전달함으로써 챔버 내의 분산되는 유체 흐름에 상기 작업물을 노출하는 것을 또한 포함하는 유체 분산 방법.
  18. 제 17 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 세트의 채널의 교차는 증가하는 개수의 연속적인 개별 채널에 유체 흐름을 분산시키고, 증가하는 개수의 연속적인 개별 채널은 입구/출구 포트의 동일한 전체 단면적을 유지하기 위해 단면적을 줄이는 유체 분산 방법.
  19. 제 17 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 세트의 채널 사이의 교차는 감소하는 개수의 연속적인 개별 채널에 진공을 분산시키고, 감소하는 개수의 연속적인 개별 채널은 출구/입구 포트의 동일한 전체 단면적을 유지하기 위해 단면적을 증가시키는 유체 분산 방법.
  20. 제 18 항에 있어서,
    상기 입구 포트 안으로 유체를 흐르게 하여 유체가 다수의 출구 포트를 통하여 챔버 안으로 균일하게 분산되고 분배되는 것을 또한 포함하는 유체 분산 방법.
  21. 제 18 항에 있어서,
    상기 입구 포트에 진공을 가하여 유체가 다수의 출구 포트를 통하여 챔버의 밖으로 균일하게 빼내지는 것을 또한 포함하는 유체 분산 방법.
  22. 제 18 항에 있어서, 중력 드레인 (gravity drain) 이 챔버로부터 유체를 제거하기 위해 다수의 포트를 통하여 유체를 빼내기 위해 발생되는 유체 분산 방법.
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