JPH0382028A - 湿式洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体基板を処理する湿式洗浄装置に関する
。

〔従来の技術〕

従来、この種の湿式洗浄装置の処理槽は、汚染された槽
内の液を正常な液にＷ換させるにあたり、この檜の底部
にある複数ケ所の供給口より正常な液を流入させて、こ
の槽上部の四辺の縁よりオーバーフローさせていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来の湿式洗浄装置の処理槽は、槽の底部より
正常液を流入せしめ該槽上部の四辺の縁より、同量の液
を排液せしめるｍ遣であるため、半導体基板を処理中、
もしくは処理後において、汚染された槽内の液を正常な
液の流入により清浄化させるにあたり、この槽上部の中
央にて淀みが発生するため、該槽内部を清浄化するには
大量の清浄液を流入させる必要があるという欠点がある
。

本発明の目的は、かかる欠点を解消する湿式洗浄装置を
提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の湿式洗浄装置は、半導体基板を処理する処理槽
を有する湿式洗浄装置において、処理液の深さに応じて
開口率の大きさが設定された多数の開口を有するとヒも
に互いに相対して配置された内壁板が設けられた前記処
理槽を有している。

〔実施例〕

次に、本発明について図面を参照して説明する。第１図
は、本発明の一実施例を示す湿式処理槽の斜視図である
。この湿式洗浄装置の処理槽１１の相対する二つの側壁
は、適当な開口率にて多数の開口を有するパンチング板
４．５にしたことである。また、このパンチング板４，
５を一面としてＩＮ側チャンバー６とＯＵＴ側チャンバ
ー７とが構成されている。ＩＮ側チャンバー６の上部に
は給液口１０．ＯＵＴ側チャンバー７の底部には排液口
９が設けられており、ポンプ１．フィルター２を介して
パイプ３にて接続されている。

次に動作について説明する。まず、半導体基板の入った
キャリア８は、パンチング板４．５に対して基板が垂直
となる向きに、処理液に満たされた処理槽１１に挿入さ
れる０次に、処理槽１１内部はパーティクル等により汚
染されるが、この汚染された液は、ＯＵＴ側チャンバー
よりポンプ１の稼動にてフィルター２°を介して清浄化
された後、給液口１０よりＩＮ側チャンバー６へ送液さ
れる。

ここで、二つのパンチング板４．５の開口率は、重力に
よる圧力の高い処理槽１１の下部はど小さいため、パン
チング板４．５の面内の任意位置における吹き出し速度
もしくは吸い込み速度は等しく、この槽内部の液の流れ
は、水平層流となる。このため汚染された槽内部の液は
、淀むことなく効率良く清浄液へ置換される。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明は、湿式洗浄装置における処
理槽への給液と排液を行うにあたり、槽内部の液の流れ
を水平層流にする手段を設けることによって、槽内部の
汚染された液が淀むことなく、効率良く清浄液に置換で
きる湿式洗浄装置が得られるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す湿式洗浄装置の斜視図
である。 １・・・ポンプ、２・・・フィルター　３・・・パイプ
、４パンチング板、５・・・パンチング板、６・・・Ｉ
Ｎ型チャンバー　７・・・ＯＵＴ側チャンバー、８・・
・キャリア、９・・・廃液口、１０・・・給液口、１１
・・・処理層。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 半導体基板を処理する処理槽を有する湿式洗浄装置にお
   いて、処理液の深さに応じて開口率の大きさが設定され
   た多数の開口を有するとともに互いに相対して配置され
   た内壁板が設けられた前記処理槽を有することを特徴と
   する湿式洗浄装置。