JPH11347503A - 洗浄槽 - Google Patents
洗浄槽Info
- Publication number
- JPH11347503A JPH11347503A JP15736498A JP15736498A JPH11347503A JP H11347503 A JPH11347503 A JP H11347503A JP 15736498 A JP15736498 A JP 15736498A JP 15736498 A JP15736498 A JP 15736498A JP H11347503 A JPH11347503 A JP H11347503A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- side plate
- cleaning
- pure water
- inner tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 超音波振動装置を効果的に併用することので
きるフロー形式の洗浄槽の提供にある。 【解決手段】 被洗浄物を収納する内槽１２と、該内槽
１２の少なくとも一部を包むように配置された外槽１４
との２重槽からなる洗浄槽１０であって、内槽の一方の
側面１２ａに洗浄液の供給口１６を設け、かつ該側面近
傍に多数の流通孔１８ａを有する供給側板１８を配置す
る。また、対向する他の側面１２ｂに洗浄液の排出口２
０を設け、かつ該他の側面近傍にも多数の流通孔２２ａ
を有する排出側板２２を配置して、供給口１６から供給
された洗浄液が供給側板１６、排出側板２２の流通孔１
８ａ、２２ａを介して排出口２０から排出されるように
構成する。さらに、外槽１４の底面に超音波振動装置２
４を設け、かつ内部に純水を満たして、該純水を介して
前記内槽１２に超音波をあてるように構成した。
きるフロー形式の洗浄槽の提供にある。 【解決手段】 被洗浄物を収納する内槽１２と、該内槽
１２の少なくとも一部を包むように配置された外槽１４
との２重槽からなる洗浄槽１０であって、内槽の一方の
側面１２ａに洗浄液の供給口１６を設け、かつ該側面近
傍に多数の流通孔１８ａを有する供給側板１８を配置す
る。また、対向する他の側面１２ｂに洗浄液の排出口２
０を設け、かつ該他の側面近傍にも多数の流通孔２２ａ
を有する排出側板２２を配置して、供給口１６から供給
された洗浄液が供給側板１６、排出側板２２の流通孔１
８ａ、２２ａを介して排出口２０から排出されるように
構成する。さらに、外槽１４の底面に超音波振動装置２
４を設け、かつ内部に純水を満たして、該純水を介して
前記内槽１２に超音波をあてるように構成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板やガラ
ス基板等を洗浄する洗浄槽に関するものである。
ス基板等を洗浄する洗浄槽に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ウエハ等の半導体基板や液晶表示
素子に用いるガラス基板等を洗浄するウエット浸漬処理
において、薬液処理後のウエハのリンスは、純水を満た
した槽にウエハを浸漬させて、槽内下部より純水を吹き
出し、槽上部よりオーバーフローさせるリンス方式が一
般的であった。ところで、ＩＣ製造プロセスにおける純
水の使用量の大半は、このリンス時に消費され、２００
ｍｍウエハ１枚当たり約３トンにも及んでおり、純水の
使用量がランニングコストに大きなウエイトを占め、そ
の低減が求められてきた。
素子に用いるガラス基板等を洗浄するウエット浸漬処理
において、薬液処理後のウエハのリンスは、純水を満た
した槽にウエハを浸漬させて、槽内下部より純水を吹き
出し、槽上部よりオーバーフローさせるリンス方式が一
般的であった。ところで、ＩＣ製造プロセスにおける純
水の使用量の大半は、このリンス時に消費され、２００
ｍｍウエハ１枚当たり約３トンにも及んでおり、純水の
使用量がランニングコストに大きなウエイトを占め、そ
の低減が求められてきた。
【０００３】そこで、オーバーフロー方式とは逆に、リ
ンス槽内の純水を上方から下方へ流すダウンフロー方式
が提案されている。図２にダウンフローリンスの概念を
示す。この方式は、処理槽３０の上部に設けられた給液
室３２に純水を供給し、ノズルから噴射させて天井に衝
突させ、整流板３４を通して均一の流れのパラレルダウ
ンフローとして処理槽３０内に収納されたウエハＭに給
水する方式である。また、処理槽３０の下部には排水口
３６が設けられており、ポンプと繋がっていて、所望の
速度で排水が行われるようになっている。また、処理槽
３０内の下部にも整流板３８が配置されていて、処理槽
３０内の純水の流れを均一化している。
ンス槽内の純水を上方から下方へ流すダウンフロー方式
が提案されている。図２にダウンフローリンスの概念を
示す。この方式は、処理槽３０の上部に設けられた給液
室３２に純水を供給し、ノズルから噴射させて天井に衝
突させ、整流板３４を通して均一の流れのパラレルダウ
ンフローとして処理槽３０内に収納されたウエハＭに給
水する方式である。また、処理槽３０の下部には排水口
３６が設けられており、ポンプと繋がっていて、所望の
速度で排水が行われるようになっている。また、処理槽
３０内の下部にも整流板３８が配置されていて、処理槽
３０内の純水の流れを均一化している。
【０００４】この方式によれば、一様なダウンフローに
より、処理槽３０中央部と周辺部の流速が均一となる槽
流が得られるため、純水リンスにおいては、パーティク
ルの除去や液置換に要する時間が短縮され、純水抵抗値
の回復が早まり、リンス時間が大幅に削減できるので、
純水使用量を軽減することができ、ランニングコストを
下げることができる。なお、上記の処理槽３０は純水の
リンス以外にも、他の薬液処理にも使用することができ
る。例えば、ＤＨＦ液（弗酸水溶液）の場合、供給室３
２に供給する供給量と同等の液を槽下部からポンプで引
いて給液室３２に戻す循環方式として用いられる。
より、処理槽３０中央部と周辺部の流速が均一となる槽
流が得られるため、純水リンスにおいては、パーティク
ルの除去や液置換に要する時間が短縮され、純水抵抗値
の回復が早まり、リンス時間が大幅に削減できるので、
純水使用量を軽減することができ、ランニングコストを
下げることができる。なお、上記の処理槽３０は純水の
リンス以外にも、他の薬液処理にも使用することができ
る。例えば、ＤＨＦ液（弗酸水溶液）の場合、供給室３
２に供給する供給量と同等の液を槽下部からポンプで引
いて給液室３２に戻す循環方式として用いられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】パラレルダウンフロー
方式は、上述したような効果を有するが、洗浄効果を高
めるために、槽下部に超音波振動装置を併設しようとし
ても、超音波による効果を発揮させることができない。
なぜなら、パラレルダウンフローは液を上から落として
槽下部からポンプにより吸引して排出するために、排出
側（サクション側）の液内にキャビテーション効果によ
るエアーが発生しやすく、なおかつ発生したエアーはな
かなか抜けないため、超音波振動装置からの超音波が妨
げられることによる。従って、ダウンフロー式の洗浄槽
に超音波振動装置を併用して洗浄効果を高めることは困
難である。
方式は、上述したような効果を有するが、洗浄効果を高
めるために、槽下部に超音波振動装置を併設しようとし
ても、超音波による効果を発揮させることができない。
なぜなら、パラレルダウンフローは液を上から落として
槽下部からポンプにより吸引して排出するために、排出
側（サクション側）の液内にキャビテーション効果によ
るエアーが発生しやすく、なおかつ発生したエアーはな
かなか抜けないため、超音波振動装置からの超音波が妨
げられることによる。従って、ダウンフロー式の洗浄槽
に超音波振動装置を併用して洗浄効果を高めることは困
難である。
【０００６】本発明の目的は、超音波振動装置を効果的
に併用することのできるフロー形式の洗浄槽の提供にあ
る。
に併用することのできるフロー形式の洗浄槽の提供にあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上述課題を解決するため
に、本発明は、次のような手段を採用した。本発明に係
る洗浄槽は、被洗浄物を収納する内槽と、該内槽の少な
くとも一部を包むように配置された外槽との２重槽から
なる洗浄槽であって、前記内槽の一方の側面に洗浄液の
供給口を設け、かつ該側面近傍に多数の流通孔を有する
供給側板を配置するとともに、対向する他の側面に洗浄
液の排出口を設け、かつ該他の側面近傍にも多数の流通
孔を有する排出側板を配置して、供給口から供給された
洗浄液が供給側板、排出側板の流通孔を介して排出口か
ら排出されるように構成するとともに、前記外槽の底面
に超音波振動装置を設け、かつ内部に液体を満たして、
該液体を介して前記内槽に超音波をあてるように構成し
たことを特徴としている。
に、本発明は、次のような手段を採用した。本発明に係
る洗浄槽は、被洗浄物を収納する内槽と、該内槽の少な
くとも一部を包むように配置された外槽との２重槽から
なる洗浄槽であって、前記内槽の一方の側面に洗浄液の
供給口を設け、かつ該側面近傍に多数の流通孔を有する
供給側板を配置するとともに、対向する他の側面に洗浄
液の排出口を設け、かつ該他の側面近傍にも多数の流通
孔を有する排出側板を配置して、供給口から供給された
洗浄液が供給側板、排出側板の流通孔を介して排出口か
ら排出されるように構成するとともに、前記外槽の底面
に超音波振動装置を設け、かつ内部に液体を満たして、
該液体を介して前記内槽に超音波をあてるように構成し
たことを特徴としている。
【０００８】
【作用】本発明は、洗浄槽をサイドフローリンス形式に
して、その下部に超音波振動装置を設けたので、洗浄槽
のサクション側（排出側）にキャビテーション効果によ
るエアーが発生しても、超音波の伝達効率が低下するこ
とがない。このため、被洗浄物に対する洗浄効果を高め
ることができる。
して、その下部に超音波振動装置を設けたので、洗浄槽
のサクション側（排出側）にキャビテーション効果によ
るエアーが発生しても、超音波の伝達効率が低下するこ
とがない。このため、被洗浄物に対する洗浄効果を高め
ることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明に
係る洗浄槽の実施の形態について説明する。図１に、本
発明の実施の形態を示す。
係る洗浄槽の実施の形態について説明する。図１に、本
発明の実施の形態を示す。
【００１０】この洗浄槽１０は、図１に示すように、サ
イドフローリンス槽として構成されており、被洗浄物を
収納する内槽１２と、該内槽１２の少なくとも下部を包
むように配置された外槽１４との２重槽で構成されてい
る。
イドフローリンス槽として構成されており、被洗浄物を
収納する内槽１２と、該内槽１２の少なくとも下部を包
むように配置された外槽１４との２重槽で構成されてい
る。
【００１１】内槽１２の一方の側面１２ａには、洗浄液
の供給口１６が設けられており、該側面１２ａ近傍には
多数の流通孔１８ａを有する供給側板１８が配置されて
いる。また、前記側面１２ａに対向する位置にあたる内
槽１２の他の側面１２ｂには洗浄液の排出口２０が設け
られていて、該側面１２ｂ近傍にも多数の流通孔２２ａ
を有する排出側板２２が配置されている。これら供給側
板１８及び排出側板２２の流通孔１８ａ、２２ａは直径
５ｍｍほどの細孔からなり規則的な間隔で開けられてい
て、供給口１６から供給された洗浄液は供給側板１８の
流通孔１８ａを通って均一の流れとなって内槽１２の中
央部に流れ込み、排出側板２２の流通孔２２ａを通って
排出口２０から排出される。すなわち、これら供給側板
１８、排出側板２２は洗浄液の流れを整える整流板の働
きをしている。
の供給口１６が設けられており、該側面１２ａ近傍には
多数の流通孔１８ａを有する供給側板１８が配置されて
いる。また、前記側面１２ａに対向する位置にあたる内
槽１２の他の側面１２ｂには洗浄液の排出口２０が設け
られていて、該側面１２ｂ近傍にも多数の流通孔２２ａ
を有する排出側板２２が配置されている。これら供給側
板１８及び排出側板２２の流通孔１８ａ、２２ａは直径
５ｍｍほどの細孔からなり規則的な間隔で開けられてい
て、供給口１６から供給された洗浄液は供給側板１８の
流通孔１８ａを通って均一の流れとなって内槽１２の中
央部に流れ込み、排出側板２２の流通孔２２ａを通って
排出口２０から排出される。すなわち、これら供給側板
１８、排出側板２２は洗浄液の流れを整える整流板の働
きをしている。
【００１２】また一方、前記外槽１４の底面外側には超
音波振動装置２４が取り付けられていて、外槽１４内部
には前記内槽１２の下部が入り込んでいる。使用時に
は、外槽内に純水２６を満し、該純水２６中に内槽１２
の下部が浸されることになる。このように、外槽１４に
満たされた純水２６を介して内槽１２に超音波をあてる
構造になっているので、内槽１２に洗浄液がない状態で
誤って超音波振動装置２４を駆動しても、超音波振動装
置２４を空焚き状態にするおそれはない。
音波振動装置２４が取り付けられていて、外槽１４内部
には前記内槽１２の下部が入り込んでいる。使用時に
は、外槽内に純水２６を満し、該純水２６中に内槽１２
の下部が浸されることになる。このように、外槽１４に
満たされた純水２６を介して内槽１２に超音波をあてる
構造になっているので、内槽１２に洗浄液がない状態で
誤って超音波振動装置２４を駆動しても、超音波振動装
置２４を空焚き状態にするおそれはない。
【００１３】この洗浄槽１０の純水リンス（洗浄）の方
法は、先ず洗浄槽の１０の外槽１４に純水を満たす。続
いて、内槽１２の上部に設けられた図示せぬ蓋を開け
て、内部にウエハＭを収納し、供給口１６から純水を供
給して内槽１２内に純水を満たす。外槽１４に取り付け
られている超音波振動装置２４を作動させながら、供給
口１６から純水を供給し、かつ排出口２０から図示せぬ
ポンプにより、内槽１２内の純水量がほぼ一定量となる
ような速度で排水する。
法は、先ず洗浄槽の１０の外槽１４に純水を満たす。続
いて、内槽１２の上部に設けられた図示せぬ蓋を開け
て、内部にウエハＭを収納し、供給口１６から純水を供
給して内槽１２内に純水を満たす。外槽１４に取り付け
られている超音波振動装置２４を作動させながら、供給
口１６から純水を供給し、かつ排出口２０から図示せぬ
ポンプにより、内槽１２内の純水量がほぼ一定量となる
ような速度で排水する。
【００１４】内槽１２の排出側、すなわち排出側板２２
の手前近傍に、キャビテーション効果によるエアーが発
生しても、ウエハＭへの超音波の伝達効率を低下させる
位置ではないので、超音波振動装置２４の取り付けた効
果が発揮できる。このため、ウエハＭは、全体に渡って
均一の水流の純水でリンスされるとともに、超音波によ
ってリンス効果の増進が図られる。
の手前近傍に、キャビテーション効果によるエアーが発
生しても、ウエハＭへの超音波の伝達効率を低下させる
位置ではないので、超音波振動装置２４の取り付けた効
果が発揮できる。このため、ウエハＭは、全体に渡って
均一の水流の純水でリンスされるとともに、超音波によ
ってリンス効果の増進が図られる。
【００１５】なお、上記例では、純水によるリンスを示
したが、他の薬液処理にも使用することができる。例え
ば、ＤＨＦ液の場合には、供給口１６に供給する供給量
と同等の液を排出口２０からポンプで吸引して供給口１
６に戻すというように循環方式として用いることができ
る。
したが、他の薬液処理にも使用することができる。例え
ば、ＤＨＦ液の場合には、供給口１６に供給する供給量
と同等の液を排出口２０からポンプで吸引して供給口１
６に戻すというように循環方式として用いることができ
る。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
洗浄槽を内槽と外槽に分け、内槽をサイドフローリンス
形式に構成し、外槽の底面から液体を介して内槽に超音
波をあてるようにしたので、洗浄槽の排出側（サクショ
ン側）にキャビテーション効果によるエアーが発生して
も、超音波の伝達効率を低下させることがない。このた
め、被洗浄物に対する洗浄効果を高めることができる。
洗浄槽を内槽と外槽に分け、内槽をサイドフローリンス
形式に構成し、外槽の底面から液体を介して内槽に超音
波をあてるようにしたので、洗浄槽の排出側（サクショ
ン側）にキャビテーション効果によるエアーが発生して
も、超音波の伝達効率を低下させることがない。このた
め、被洗浄物に対する洗浄効果を高めることができる。
【図１】本発明に係る洗浄槽の実施形態を模式的に示す
図である。
図である。
【図２】従来のダウンフロー式洗浄槽の構成を模式的に
示す図である。
示す図である。
１０ 洗浄槽 １２ 内槽 １４ 外槽 １６ 供給口 １８ 供給側板 １８ａ 流通孔 ２０ 排出口 ２２ 排出側板 ２２ａ 流通孔 ２４ 超音波振動装置 ２６ 純水 Ｍ ウエハ
Claims (1)
- 【請求項１】 被洗浄物を収納する内槽と、該内槽の少
なくとも一部を包むように配置された外槽との２重槽か
らなる洗浄槽であって、 前記内槽の一方の側面に洗浄液の供給口を設け、かつ該
側面近傍に多数の流通孔を有する供給側板を配置すると
ともに、対向する他の側面に洗浄液の排出口を設け、か
つ該他の側面近傍にも多数の流通孔を有する排出側板を
配置して、供給口から供給された洗浄液が供給側板、排
出側板の流通孔を介して排出口から排出されるように構
成するとともに、前記外槽の底面に超音波振動装置を設
け、かつ内部に液体を満たして、該液体を介して前記内
槽に超音波をあてるように構成したことを特徴とする洗
浄槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15736498A JPH11347503A (ja) | 1998-06-05 | 1998-06-05 | 洗浄槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15736498A JPH11347503A (ja) | 1998-06-05 | 1998-06-05 | 洗浄槽 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11347503A true JPH11347503A (ja) | 1999-12-21 |
Family
ID=15648053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15736498A Pending JPH11347503A (ja) | 1998-06-05 | 1998-06-05 | 洗浄槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11347503A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100462995B1 (ko) * | 2002-01-30 | 2004-12-23 | 윈텍 이엔지(주) | 실리콘 캐소드 홀 내면 연마장치 |
| US8707971B2 (en) * | 2008-05-16 | 2014-04-29 | Xyratex Corporation | Laminated walls for uniform fluid flow |
| JP2015073009A (ja) * | 2013-10-03 | 2015-04-16 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | ウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法 |
| KR20180122554A (ko) * | 2017-05-03 | 2018-11-13 | 램 리써치 코포레이션 | 컨디셔닝 챔버 컴포넌트 |
-
1998
- 1998-06-05 JP JP15736498A patent/JPH11347503A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100462995B1 (ko) * | 2002-01-30 | 2004-12-23 | 윈텍 이엔지(주) | 실리콘 캐소드 홀 내면 연마장치 |
| US8707971B2 (en) * | 2008-05-16 | 2014-04-29 | Xyratex Corporation | Laminated walls for uniform fluid flow |
| JP2015073009A (ja) * | 2013-10-03 | 2015-04-16 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | ウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法 |
| KR20180122554A (ko) * | 2017-05-03 | 2018-11-13 | 램 리써치 코포레이션 | 컨디셔닝 챔버 컴포넌트 |
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