JP3326310B2 - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置Info
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- JP3326310B2 JP3326310B2 JP19794595A JP19794595A JP3326310B2 JP 3326310 B2 JP3326310 B2 JP 3326310B2 JP 19794595 A JP19794595 A JP 19794595A JP 19794595 A JP19794595 A JP 19794595A JP 3326310 B2 JP3326310 B2 JP 3326310B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はウエハー、液晶用基
板等の板状被洗浄物を洗浄液に浸漬し、超音波によって
洗浄する超音波洗浄装置に関するものである。
板等の板状被洗浄物を洗浄液に浸漬し、超音波によって
洗浄する超音波洗浄装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】此種従来の装置は図４に示すように、洗
浄槽１の底面に超音波振動子２を固定し、洗浄槽１内に
板状被洗浄物３を浸漬させた超音波振動子２を駆動して
洗浄を行う。
浄槽１の底面に超音波振動子２を固定し、洗浄槽１内に
板状被洗浄物３を浸漬させた超音波振動子２を駆動して
洗浄を行う。
【０００３】この際、洗浄槽１の上端外周にオーバーフ
ロー樋４を設けてオーバーフローした純水５を受け、オ
ーバーフロー樋４に設けた下層部強制循環用配管６にて
強制循環用ポンプ７の駆動することによりフィルター８
を介して純水５を洗浄槽１の底部に設けた複数本の下層
部注入管９，９から注入し、供給用純水配管１０から供
給される新たな純水の注入により板状被洗浄物３を洗浄
する。尚、図４中１１はオーバーフロー用配管注入分の
増加した純水を外部へ排出する。
ロー樋４を設けてオーバーフローした純水５を受け、オ
ーバーフロー樋４に設けた下層部強制循環用配管６にて
強制循環用ポンプ７の駆動することによりフィルター８
を介して純水５を洗浄槽１の底部に設けた複数本の下層
部注入管９，９から注入し、供給用純水配管１０から供
給される新たな純水の注入により板状被洗浄物３を洗浄
する。尚、図４中１１はオーバーフロー用配管注入分の
増加した純水を外部へ排出する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の装置にあって
は、板状被洗浄物３が小さい場合には問題とはならなか
ったが、板状被洗浄物３が大きい場合には図４に矢印１
２で示すように下層部注入管９，９に近い下部は流速が
速やく、上層部の流れは矢印１３で示すように流速が遅
くなり、上層部の洗浄（特にパーティクル除去）が充分
にできないという欠点があった。
は、板状被洗浄物３が小さい場合には問題とはならなか
ったが、板状被洗浄物３が大きい場合には図４に矢印１
２で示すように下層部注入管９，９に近い下部は流速が
速やく、上層部の流れは矢印１３で示すように流速が遅
くなり、上層部の洗浄（特にパーティクル除去）が充分
にできないという欠点があった。
【０００５】又、図５に示すように、超音波振動子に２
８ＫＨｚ±５ＫＨｚよりも高い周波数を使用すると、例
えば３９ＫＨｚ±５ＫＨｚの場合にはグラフが示すよう
に大幅に洗浄槽の液面付近の音圧が下がり、板状被洗浄
物の上層部の洗浄が充分に行なわれないという欠点があ
った。
８ＫＨｚ±５ＫＨｚよりも高い周波数を使用すると、例
えば３９ＫＨｚ±５ＫＨｚの場合にはグラフが示すよう
に大幅に洗浄槽の液面付近の音圧が下がり、板状被洗浄
物の上層部の洗浄が充分に行なわれないという欠点があ
った。
【０００６】又例え、音圧が充分液面付近までとどく２
８ＫＨｚ±５ＫＨｚの周波数を選んでも板状洗浄物で
は、超音波によるダメージが発生するという欠点があっ
た。
８ＫＨｚ±５ＫＨｚの周波数を選んでも板状洗浄物で
は、超音波によるダメージが発生するという欠点があっ
た。
【０００７】そこで、本発明においては、注入管を中央
部に設けて上層部の流速の遅れを防止し、且つ２つの周
波数の超音波振動子を使用して確実な洗浄を行うことが
できる装置を提供しようとするものである。
部に設けて上層部の流速の遅れを防止し、且つ２つの周
波数の超音波振動子を使用して確実な洗浄を行うことが
できる装置を提供しようとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、超音波振動子を固定した洗浄槽の上端にオ
ーバーフロー樋を設け、このオーバーフロー樋に設けた
強制循環用ポンプを有する下層部強制循環用配管を洗浄
槽の下部に設けた下層部注入管に接続し、更にオーバー
フロー樋に設けた上層部強制循環用ポンプを有する上層
部強制循環用配管を洗浄槽の中央部に設けた上層部注入
管に接続し、板状被洗浄物の上下の流速を速くし、超音
波振動子を２８ＫＨｚ±５ＫＨｚと３９ＫＨｚ±５ＫＨ
ｚの２周波数を同時に発振させるものを用い超音波洗浄
装置を構成する。
するために、超音波振動子を固定した洗浄槽の上端にオ
ーバーフロー樋を設け、このオーバーフロー樋に設けた
強制循環用ポンプを有する下層部強制循環用配管を洗浄
槽の下部に設けた下層部注入管に接続し、更にオーバー
フロー樋に設けた上層部強制循環用ポンプを有する上層
部強制循環用配管を洗浄槽の中央部に設けた上層部注入
管に接続し、板状被洗浄物の上下の流速を速くし、超音
波振動子を２８ＫＨｚ±５ＫＨｚと３９ＫＨｚ±５ＫＨ
ｚの２周波数を同時に発振させるものを用い超音波洗浄
装置を構成する。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図１に基い
て詳細に説明する。洗浄槽１の上端外周に設けたオーバ
ーフロー樋４に従来と同様に下層部強制循環用配管６を
設け、該配管の途中に設けた強制循環用ポンプ７を駆動
してオーバーフロー樋４内の純水５を吸引し、フィルタ
ー８で濾過した後に、洗浄槽１内に設けた下層部注入管
９，９から純水を注入する。
て詳細に説明する。洗浄槽１の上端外周に設けたオーバ
ーフロー樋４に従来と同様に下層部強制循環用配管６を
設け、該配管の途中に設けた強制循環用ポンプ７を駆動
してオーバーフロー樋４内の純水５を吸引し、フィルタ
ー８で濾過した後に、洗浄槽１内に設けた下層部注入管
９，９から純水を注入する。
【００１０】更に、オーバーフロー樋４に別体の上層部
強制循環用配管１４を設け、洗浄槽１の高さ方向の中央
部に設けた上層部注入管１５，１５に接続する。前記上
層部強制循環用配管１４の途中に上層部強制循環用ポン
プ１６とフィルター１７を設けている。
強制循環用配管１４を設け、洗浄槽１の高さ方向の中央
部に設けた上層部注入管１５，１５に接続する。前記上
層部強制循環用配管１４の途中に上層部強制循環用ポン
プ１６とフィルター１７を設けている。
【００１１】尚、洗浄槽１の床面には２８ＫＨｚ±５Ｋ
Ｈｚの周波数と３９ＫＨｚ±５ＫＨｚの周波数の超音波
を同時に液中に発振することができる超音波振動子１８
を固定している。他は従来と同様なので同一符号を付
子、説明を省略する。
Ｈｚの周波数と３９ＫＨｚ±５ＫＨｚの周波数の超音波
を同時に液中に発振することができる超音波振動子１８
を固定している。他は従来と同様なので同一符号を付
子、説明を省略する。
【００１２】本発明は前記のように構成したもので、従
来と同様に強制循環用ポンプ７を駆動してオーバーフロ
ー樋４内の純水を吸引してフィルター８で濾過した後
に、下層部注入管９，９から純水を注入すると、純水は
矢印１２，１２のように高速で板状被洗浄物３の表面を
流れて上昇する。
来と同様に強制循環用ポンプ７を駆動してオーバーフロ
ー樋４内の純水を吸引してフィルター８で濾過した後
に、下層部注入管９，９から純水を注入すると、純水は
矢印１２，１２のように高速で板状被洗浄物３の表面を
流れて上昇する。
【００１３】更に、上層部強制循環用ポンプ１６を駆動
してオーバーフロー樋４中の純水を吸引し、フィルター
１７で濾過して上層部注入管１５，１５が純水を中間部
へ注入すると、純水は矢印１３，１３で示すように、高
速で板状被洗浄物３の表面を流れて洗浄する。
してオーバーフロー樋４中の純水を吸引し、フィルター
１７で濾過して上層部注入管１５，１５が純水を中間部
へ注入すると、純水は矢印１３，１３で示すように、高
速で板状被洗浄物３の表面を流れて洗浄する。
【００１４】又、２８ＫＨｚ±５ＫＨｚと３９ＫＨｚ±
５ＫＨｚの周波数を同時に発振させて板状被洗浄物３の
上層部にまで充分超音波の音圧がとどき、且つダメージ
の無い超音波洗浄が可能となる。
５ＫＨｚの周波数を同時に発振させて板状被洗浄物３の
上層部にまで充分超音波の音圧がとどき、且つダメージ
の無い超音波洗浄が可能となる。
【００１５】
【実験例】図２に示すように、液晶用硝子基板（３６０
×４７０×１．１ｔ）を電解質を含む界面活性剤で浸漬
洗浄後、図４で示す従来装置に純水リンスした場合と、
図１で示す本発明装置にて純水リンスした場合を、リン
ス後に比抵抗計のついた一般に使用されている純水オー
バーフローリンス槽に浸漬し、比較評価した。
×４７０×１．１ｔ）を電解質を含む界面活性剤で浸漬
洗浄後、図４で示す従来装置に純水リンスした場合と、
図１で示す本発明装置にて純水リンスした場合を、リン
ス後に比抵抗計のついた一般に使用されている純水オー
バーフローリンス槽に浸漬し、比較評価した。
【００１６】その結果を図３に示す、図３からも明らか
なように、本発明の超音波洗浄装置にて純水リンスした
後に、純水オーバーフローリンス槽にて比抵抗値を測定
してもリンス不足による電解質が残り、比抵抗値が下が
ることはなく、充分なリンスが可能であった。
なように、本発明の超音波洗浄装置にて純水リンスした
後に、純水オーバーフローリンス槽にて比抵抗値を測定
してもリンス不足による電解質が残り、比抵抗値が下が
ることはなく、充分なリンスが可能であった。
【００１７】しかし、従来装置にあっては、明らかにリ
ンス不足を示すように純水オーバーフロー槽の比抵抗値
は下がった。
ンス不足を示すように純水オーバーフロー槽の比抵抗値
は下がった。
【００１８】又、本発明の超音波洗浄装置では硝子に傷
等のダメージはなかったが、従来装置で処理したものに
は傷が発生してダメージとなっていた。
等のダメージはなかったが、従来装置で処理したものに
は傷が発生してダメージとなっていた。
【００１９】
【発明の効果】本発明は前記のように、板状被洗浄物の
上層部と下層部とを共に純水が強制的に供給されるよう
に注入管を配置し、且つ高液深に有効で且つダメージの
ない超音波の周波数として２８ＫＨｚ±５ＫＨｚと３９
ＫＨｚ±５ＫＨｚの周波数を発振する超音波振動子を付
設しているので、板状被洗浄物を上層部、下層部の関係
なく洗浄を行うことができる。
上層部と下層部とを共に純水が強制的に供給されるよう
に注入管を配置し、且つ高液深に有効で且つダメージの
ない超音波の周波数として２８ＫＨｚ±５ＫＨｚと３９
ＫＨｚ±５ＫＨｚの周波数を発振する超音波振動子を付
設しているので、板状被洗浄物を上層部、下層部の関係
なく洗浄を行うことができる。
【００２０】
【図１】本発明装置の一実施例の断面図。
【図２】比較実験結果のフロー図。
【図３】比抵抗値の変化を示すグラフ。
【図４】従来装置の断面図。
【図５】深さと音圧の関係を示すグラフ。
１ 洗浄槽 ２ 超音波振動子 ３ 板状被洗浄物 ４ オーバーフロー樋 ５ 純水 ６ 下層部強制循環用配管 ７ 強制循環用ポンプ ８ フィルター ９ 下層部注入管 １０ 供給用純水配管 １１ オーバーフロー配管 １２ 矢印 １３ 矢印 １４ 上層部強制循環用配管 １５ 上層部注入管 １６ 上層部強制循環用ポンプ １７ フィルター １８ 超音波振動子
Claims (2)
- 【請求項１】 超音波振動子を固定した洗浄槽の上端に
オーバーフロー樋を設け、このオーバーフロー樋に設け
た強制循環用ポンプを有する下層部強制循環用配管を洗
浄槽の下部に設けた下層部注入管に接続し、更にオーバ
ーフロー樋に設けた上層部強制循環用ポンプを有する上
層部強制循環用配管を洗浄槽の中央部に設けた上層部注
入管に接続したことを特徴とする超音波洗浄装置。 - 【請求項２】 請求項１の超音波振動子を２８ＫＨｚ±
５ＫＨｚと３９ＫＨｚ±５ＫＨｚの２周波数を同時に発
振させるものを用いたことを特徴とする超音波洗浄装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19794595A JP3326310B2 (ja) | 1995-07-12 | 1995-07-12 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19794595A JP3326310B2 (ja) | 1995-07-12 | 1995-07-12 | 超音波洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0924348A JPH0924348A (ja) | 1997-01-28 |
| JP3326310B2 true JP3326310B2 (ja) | 2002-09-24 |
Family
ID=16382920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19794595A Expired - Fee Related JP3326310B2 (ja) | 1995-07-12 | 1995-07-12 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3326310B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3335833B2 (ja) * | 1996-02-07 | 2002-10-21 | アルプス電気株式会社 | 洗浄方法および洗浄装置 |
-
1995
- 1995-07-12 JP JP19794595A patent/JP3326310B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0924348A (ja) | 1997-01-28 |
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Legal Events
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