KR20100137469A - 방사선-경화성 배합물 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 라디칼에 의해 가교될 수 있으며 경화된 상태에서 금속 기재에 대한 특정한 정도의 부식 조절을 제공하는 방사선-경화성 배합물 중의 산-발생 광개시제의 존재하에서의 알콕시실란 성분의 사용에 관한 것이다.
Description
본 발명은 경화된 상태에서 금속 기재에 대한 특정한 정도의 부식 조절을 제공하는 자유 라디칼 방사선-경화성 배합물 중의 알콕시실란 성분의 사용에 관한 것이다.
방사선-경화성 배합물은 공지되어 있다.
에틸렌형 불포화 예비중합체는 예를 들면 문헌[P. K. T. Oldring (ed.), "Chemistry and Technology of UV and EB Formulations for Coatings, Inks and Paints", vol. II., SITA Technology, London 1991]에 기재되어 있으며, 예를 들면 에폭시 아크릴레이트(제31면 내지 제68면), 우레탄 아크릴레이트(제73면 내지 제123면) 및 멜라민 아크릴레이트(제208면 내지 제214호)에 기초한다. 이러한 유형의 배합물은 종종 특허 문헌에 마찬가지로 언급되어 있으며, 예를 들면 일본 특허 출원 공개 공보 제62110779호 및 유럽 특허 제947 565호를 들 수 있다.
금속 기재의 코팅은 방사선-경화성 배합물에 대하여 특정의 문제점을 제시하는데, 이는 수축 공정이 접착력의 손실을 초래할 수 있기 때문이다. 이와 같은 기재의 경우, 인산을 함유하는 접착 촉진제를 사용하는 것이 통상적이다. 이의 예로는 미국 특허 제5,128,387호(맥주 캔의 코팅) 및 일본 특허 출원 공개 공보 제2001172554호(각종 캔의 코팅)를 들 수 있다.
에폭시 아크릴레이트는 금속 기재상에서의 우수한 접착력 및 효과적인 부식 조절을 나타내는 것으로 알려져 있다. 그러나, 이러한 코팅의 단점은 경화후 낮은 수준의 변형능이다. 특정의 코팅 기술의 경우, 코일 코팅이 일례가 되며, 코팅 균열 없이 코팅된 가공물의 변형능이 중요하다. 게다가, 방향족 분획으로 인하여, 이러한 유형의 코팅은 황변되는 경향을 갖는다.
WO03/022945에는 방사선-경화성 수지, 단일작용성 반응성 희석제 및 산성 접착 촉진제에 기초한 금속 기재를 위한 저 점도 방사선-경화성 배합물이 기재되어 있다. 사용한 수지는 각종 공급업체로부터 입수 가능한 전형적인 시판품이다.
유럽 특허 제902 040호는 마찬가지로 방사선-경화성 배합물에 관한 것이다. 이 특허 문헌에는 카르보시클릭 또는 헤테로시클릭 고리를 함유하는 알콜로 에스테르화되는, 불포화 카르복실산의 단일작용성 에스테르를 갖는 우레탄 (메트)아크릴레이트가 기재되어 있다.
그러나, 종래 기술에 공지된 시스템은 다수의 경우에서 단점을 나타내며, 특히 변형능 및 내식성이 제시되는 요건을 항상 충족하는 것은 아니다.
본 발명은 한편으로는 코팅후 용이한 변형성, 즉 가요성을 가지며, 다른 한편으로는 금속 기재에 대한 우수한 부식 조절을 보장하는 방사선-경화성, 자유 라디칼 가교성 배합물을 발견하는 것을 목적으로 한다.
놀랍게도, 산-발생 광개시제와 조합된 알콕시실란 성분이 배합물에 포함될 경우 금속 기재상에서의 방사선-경화성 자유 라디칼 가교성 배합물을 기재로 하는 코팅 물질의 내식성이 증가된다는 것을 발견하였다. 본 발명의 목적을 위한 방사선-경화성 자유 라디칼 가교성 배합물은 UV 방사선, 전자 비임, 극초단파 방사선, 레이저 비임 또는 플라즈마에 의하여 경화될 수 있는 배합물이다.
따라서, 본 발명은 방사선-경화성, 자유 라디칼 가교성 배합물, 보다 특히 코팅 물질에서의 하나 이상의 알콕시실란 성분 및 하나 이상의 산-발생 광개시제의 사용을 제공한다. 본 발명은 마찬가지로 해당 방사선-경화성, 자유 라디칼 가교성 배합물을 제공한다.
본 발명에 따른 바람직한 방사선-경화성 배합물은 보다 특히 A) 하나 이상의 방사선-경화성 자유 라디칼 가교성 성분, B) 총 배합물을 기준으로 2 중량% 이상의 하나 이상의 알콕시실란 성분, C) 하나 이상의 산-발생 광개시제, D) 임의로 하나 이상의 접착 촉진제, E) 임의로 자유 라디칼 경화를 위한 하나 이상의 광개시제 및 F) 임의로 하나 이상의 안료 및 기타의 아주번트로 이루어진 배합물이다.
본 발명의 방사선-경화성 배합물은 적용시 일정하게 우수한 가요성과 함께 개선된 부식 조절을 달성하는 잇점을 갖는다.
본 발명의 배합물의 하나의 중요한 성분은 방사선-경화성, 자유 라디칼 가교성 성분 A)이다. 적절한 성분 A)는 단량체, 올리고머 및 중합체 화합물을 포함한다. 적절한 올리고머 및 중합체 화합물은 종종 수지로 지칭한다. 원료 베이스에 따라서, 수지 A)는 예를 들면 에폭시 아크릴레이트, 폴리에스테르 아크릴레이트, 폴리에테르 아크릴레이트, 폴리아크릴레이트 아크릴레이트 및 우레아 아크릴레이트 단독으로 또는 혼합물의 형태가 될 수 있다. 우레아 아크릴레이트의 경우, 예를 들면 폴리에스테르 또는 그 밖의 폴리에테르에 기초할 수 있다. 해당 메타크릴레이트도 마찬가지로 공지되어 있다. 기타의 중합성 기는 에폭시드 및 비닐 에테르가 있다. 마찬가지로 이들은 각종 베이스 수지에 부착될 수 있다. 이들은 당업자에게 공지된 시스템이다. 방사선-경화성 수지, 올리고머 및/또는 중합체 및 반응성 희석제의 제조는 예를 들면 문헌["Radiation Curing in Polymer Science & Technology, Vol. I: Fundamentals and Methods" by J.P. Fouassier, J.F. Rabek, Elsevier Applied Science, London and New York, 1993, chapter 5, pages 226 to 236, and pages 237 to 240]; ["Lackharze"(Resins for Coatings), D. Stoye, W. Freitag, Hanser-Verlag, Vienna, 1996, pages 85, 94-98, 169 and 265] 및 유럽 특허 제947 565호에 기재되어 있다.
방사선-경화성, 자유 라디칼 가교성 성분 A)로서, 반응성 희석제로 지칭되는 단량체를 사용할 수 있다. 일반적으로, 이들은 실온에서 액체이어서 배합물의 전체 점도를 낮출 수 있는 아크릴레이트- 또는 메타크릴레이트-함유 물질이다. 이러한 생성물의 특정예로는 이소보르닐 아크릴레이트, 히드록시프로필 메타크릴레이트, 트리메틸올프로판 포르말 모노아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴 아크릴레이트, 페녹시에틸 아크릴레이트, 트리메틸렌프로판 트리아크릴레이트, 디프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 헥산디올 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 라우릴 아크릴레이트 및 , 이들 반응성 희석제의 프로폭실화 또는 에톡실화 변형체 및/또는 우레탄화 반응성 희석제, 예컨대 에베크릴(EBECRYL) 1039(사이텍) 등을 들 수 있다. 자유 라디칼 중합의 조건하에서 반응할 수 있는 기타의 액체 성분, 예컨대 비닐 에테르 또는 알릴 에테르가 추가로 적절하다.
배합물 중의 A)의 양은 5 내지 95 중량%, 바람직하게는 10 내지 85 중량%이다. 수지의 경우, 폴리에스테르우레탄 아크릴레이트가 특히 바람직하다. 이의 예로는 다이나폴(Dynapol) R 110 IBOA 75(독일의 에보닉 데구싸 게엠베하, 코팅스 앤 애디티브스의 시판품) 및 에베크릴 1256(사이텍의 시판품)을 들 수 있다. 반응성 희석제의 경우, 이소보르닐 아크릴레이트 및 헥산디올 디아크릴레이트가 특히 바람직하다.
본 발명의 배합물의 추가의 중요한 성분은 알콕시실란 성분 B)이다. 전체 배합물의 비율로서 알콕시실란 성분 B)의 비율은 보다 특히 2 내지 25 중량%, 바람직하게는 4 내지 15 중량%이다.
적절한 알콕시실란 성분 B)는 예를 들면 하기 화학식 I의 유기작용성 실란으로 구성된 군으로부터 선택되는 화합물이다:
<화학식 I>
R1-SiR'n(OR)3-n
(상기 화학식에서, R1은 1 내지 20 개의 탄소 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형의 비치환된 알킬 기 또는 N-, O-, S- 또는 할로겐-함유 기, 예컨대 플루오로알킬, 아미노알킬, 머캅토알킬, 메타크릴로일옥시알킬 또는 OR, 즉 OH 또는 알콕시, 보다 특히 메톡시 또는 에톡시로 치환된 알킬기이며,
R'는 메틸이고,
R 기는 독립적으로 수소 또는, 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 기이며, n은 0 또는 1임). 화학식 I에 의하면, 보다 특히 일련의 메톡시, 에톡시, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, n-옥틸, 이소옥틸, 트리데카플루오로-1,1,2,2-테트라히드로옥틸로부터의 작용기 R1을 갖는 메톡시실란 또는 에톡시실란, 몇몇 예를 들면(그러나, 이에만 한정되지는 않음) 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, n-프로필트리에톡시실란, n-옥틸트리메톡시실란, n-옥틸트리에톡시실란, 헥사데실트리메톡시실란, 헥사데실트리에톡시실란, 트리데카플루오로-1,1,2,2-테트라히드로옥틸트리메톡시실란, 트리데카플루오로-1,1,2,2-테트라히드로옥틸트리에톡시실란, 메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란, 머캅토프로필트리메톡시실란, 머캅토프로필트리에톡시실란, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란을 사용할 수 있는 것이 잇점이다.
본 발명의 추가의 실시태양에서, 알콕시실란 성분 B)는 하기 화학식 II의 에폭시-작용성 실란으로 구성된 군의 화합물로부터 선택될 수 있다:
<화학식 II>
R2-SiR'm(OR)3-m
기 R, R' 및 R"는 동일하거나 또는 상이하며, 각각의 경우에서 수소(H)이거나 또는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형의 비치환 또는 치환된 알킬 기, 바람직하게는 H, 메틸, 에틸, n-프로필, n-부틸이고,
기 A 및 A'는 동일하거나 또는 상이하며, 각각의 경우에서 1 내지 10 개의 탄소 원자를 갖는 2가 알킬 기, 바람직하게는 A'의 경우에는 -(CH2)-, -(CH2)2-, -(CH2)3-, -(CH2)(CH)(CH3)(CH2)- 및 또한 A의 경우에는 -(CH2)-이고,
m은 0 또는 1임).
보다 특히 바람직하게는 화학식 II의 글리시딜프로필알콕시실란은 글리시딜옥시프로필트리메톡시실란 또는 글리시딜옥시프로필트리에톡시실란이다.
마찬가지로 알콕시실란 성분으로서 화학식 I 및/또는 화학식 II의 화합물의 혼합물 및 또한, 특히 필요할 경우 화학식 I에 따른 화합물의 존재하에서 화학식 II의 하나 이상의 에폭시-작용성 실란의 조절된 가수분해 및 축합으로 얻을 수 있는 올리고머 실록산 성분이 적절하다. 언급한 올리고머 실록산 성분은 특히 붕산의 존재하에 해당 실란의 가수분해 및 축합으로 얻는다. 특정한 방식으로 본 발명에 적절한 이와 같은 유형의 알콕시실란 성분은 예를 들면 독일 특허 출원 공개 공보 제102007038314.4호에 기재되어 있으며, 이의 개시 내용은 본 발명에서 참고로 인용한다.
산-발생 광개시제 C)는 예를 들면 문헌["Radiation Curing in Polymer Science & Technology, Vol. II: Photoinitiating systems" by J.P. Fouassier, J.F. Rabek, Elsevier Applied Science, London and New York, 1993, chapters 8 - 10, pages 435 to 554]에 기재되어 있다. 또한, 상기 광개시제는 예를 들면 WO98/18868, WO95/17476, 미국 특허 제5,721,020호, 유럽 특허 제0721477호, 유럽 특허 제0825218호, 유럽 특허 제0764691호, 유럽 특허 제0764690호, 유럽 특허 출원 공개 공보 제0736555호, 유럽 특허 출원 공개 공보 제0688804호 및 유럽 특허 제0667381호에 기재되어 있으며, 이의 개시 내용은 본 발명에서 참고로 인용한다.
해당 화합물은 일반적으로 헥사플루오로안티모네이트, 헥사플루오로포스페이트 또는 테트라플루오로보레이트 음이온을 갖는 디아릴요오도늄, 페로세늄 또는 트리아릴설포늄 염으로 구성된 군으로부터의 화합물이다. 방사선(UV 방사선 또는 전자 비임)하에서 산을 생성하는 이러한 유형의 광개시제의 예로는 듀테론(Deuteron)으로부터의 듀테론 UV 1240, UV 1242 및 UV 2257 및, 시바로부터의 이르가큐어(Irgacure) 250을 들 수 있다. C)의 양은 일반적으로 전체 배합물을 기준으로 일반적으로 0.5 내지 5 중량%, 바람직하게는 1 내지 3 중량%이다.
방사선하에서 생성된 산은 알콕시실란의 경화를 촉진시키며, 그리하여 가교 밀도를 증가시키며 또한 알콕시실란의 접착 촉진 효과를 향상시킨다.
임의로 본 발명의 배합물은 접착 촉진제 D)를 포함할 수 있다. 금속 기재를 위한 방사선-경화성 배합물의 접착 촉진제는 일반적으로 인산 및/또는 포스폰산 및/또는 작용화된 아크릴레이트와의 반응 생성물(예, 에스테르)로 이루어졌다. 유리 인산 기가 금속에 대한 직접 결합에 참여하며, 아크릴레이트 기는 코팅 매트릭스와의 결합을 보장한다. 이러한 유형의 생성물은 예를 들면 WO01/98413, 일본 특허 출원 공개 공보 제08231564호 및 일본 특허 출원 공개 공보 제06313127호에 기재되어 있으며, 이의 개시 내용은 본 발명에서 참고로 인용한다.
통상의 시판품으로는 사이텍으로부터의 에베크릴 169 및 170, 비아노바로부터의 알디톨(ALDITOL) Vxl 6219, 사토머로부터의 CD 9050 및 CD 9052, 로디아로부터의 사이포머(SIPOMER) PAM-100, 사이포머 PAM-200 및 사이포머 PAM-300 및, 란(Rahn)으로부터의 게노라드(GENORAD) 40을 들 수 있다. 배합물 중 C)의 양은 0.1 내지 10 중량%, 바람직하게는 1 내지 5 중량%이다.
본 발명의 배합물은 마찬가지로 자유 라디칼 경화를 위한 광개시제 E)를 포함할 수 있다. 적절한 광개시제 및 이의 제조는 예를 들면 문헌["Radiation Curing in Polymer Science & Technology, Vol. II: Photoinitiating Systems" by J. P. Fouassier, J. F. Rabek, Elsevier Applied Science, London and New York, 1993, pages 1-374]에 기재되어 있다. 종종 이들은 α-히드록시 케톤 또는 이의 유도체이다. 광개시제가 존재할 경우, 이는 0.2 내지 10 중량%의 양으로 포함될 수 있다. 자유 라디칼을 발생시키는 이와 같은 유형의 광개시제는 UV 방사선하에서 경화를 촉진하지만, 전자 비임을 사용할 경우에는 그러할 필요가 없는데, 이는 전자 비임의 경우에는 광개시제 없이도 개시 자유 라디칼을 발생시키기 때문이다.
본 발명의 방사선-경화성 배합물에 적절한 안료 F)는 예를 들면 문헌["Radiation Curing in Polymer Science & Technology, Vol. IV: Practical Aspects and Application" by J. P. Fouassier, J. F. Rabek, Elsevier Applied Science, London and New York, 1993, chapter 5, pages 87 to 105]에 기재되어 있으며, 1 내지 40 중량%의 양으로 포함될 수 있다. 부식방지 안료의 예로는 문헌[Pigment + Fullstoff Tabellen, O. Lukert, Vincentz Verlag Hanover, 6th edition 2002]에서 찾을 수 있다. 이의 예로는 쉴덱스(SHIELDEX) C 303(그레이스 데이비슨) 및 할록스(HALOX) 코일×100, 할록스 코일×200 및 할록스 CW 491(에르프슬뢰), 휴코포스(HEUCOPHOS) SAPP 또는 그 밖에 ZPA(휴바흐), K-화이트 TC 720(테이카) 및 홈비코르(HOMBICOR)(작트레벤)을 들 수 있다. 물론, 단순 무기 염, 예컨대 인산아연이 적절하다.
방사선-경화성 배합물을 위한 기타의 아주번트 F)는 각종 조성물 중에서 그리고 각종 목적을 위하여 이용 가능하며, 이의 예로는 유동 조절제, 소광제, 탈기제 등이 있다.
이들 중 일부는 브로셔["SELECTED DEGUSSA PRODUCTS FOR RADIATION CURING AND PRINTING INKS", published by Tego Coating & Ink Additives, Essen, 2003]에 기재되어 있다. 첨가제가 존재할 경우, 이와 같은 첨가제의 양은 0.01 내지 5 중량%이다.
본 발명의 배합물은 개개의 배합물 성분을 혼합하여 생성된다. 이를 위하여, 배합물을 생성하기 위한 당업자에게 공지된 모든 유형이 적절하다. 가장 단순한 실시태양에서, 상기 기재된 배합물 성분을 예를 들면 교반기, 자기 교반기에 의하여 서로 혼합한다.
본 발명은 추가로 프라이머, 인터코트, 탑코트 또는 클리어코트 물질로서 및/또는 코팅에서 본 발명의 방사선-경화성 배합물의 사용을 제공한다. 프라이머, 인터코트, 탑코트 및/또는 클리어코트 물질로서
A) 하나 이상의 방사선-경화성, 자유 라디칼 가교성 성분,
B) 총 배합물을 기준으로 2 중량% 이상의 하나 이상의 알콕시실란 성분,
C) 하나 이상의 산-발생 광개시제,
D) 임의로 접착 촉진제,
E) 임의로 자유 라디칼 경화를 위한 광개시제,
F) 임의로 안료 및 기타의 아주번트
로 이루어진 방사선-경화성 배합물의 사용이 특히 바람직하다.
언급한 적용예에서, 특히 방사선-경화된 코팅을 실온 내지 100℃에서 5 분 내지 4 주의 저장 및/또는 가열 시간의 차후의 저장 및/또는 가열이 존재한다.
이는 알콕시실란 기의 개선된 전환을 초래하며, 그리하여 증가된 가교 밀도 및 향상된 접착력을 초래한다. 또한, 이는 내식성을 증가시킨다.
1 일(실온) 및 1 시간(80℃) 동안의 저장이 바람직하다.
방사선-경화성 배합물은 나이프 코팅, 롤링, 분무 또는 분사와 같은 코팅 기법내에서 공지된 기법에 의하여 적용될 수 있다.
가장 적절한 금속 기재는 임의로 전처리된 스틸이지만, 또한 부식 조절면에서 코팅에 제공되는 알루미늄 및 기타의 금속 또는 합금에 의한 금속 기재로서 적합성을 갖는다.
경화는 UV 광하에서 광개시제의 존재하에 또는 전자 비임하에서의 자유 라디칼 경화에 의하여 광개시제의 부재하에서 달성된다. 플라즈마 또는 극초단파 조사하에서의 경화도 또한 가능하다. 경화된 코팅 물질의 성질은 대개 경화 방법과는 무관하다.
UV 경화 및 UV 램프는 예를 들면 문헌["Radiation Curing in Polymer Science & Technology, Vol. I: Fundamentals and Methods" by J. P. Fouassier, J. F. Rabek, Elsevier Applied Science, London and New York, 1993, chapter 8, pages 453 to 503]에 기재되어 있다. 전자 비임 경화 및 이를 위한 제제는 예를 들면 문헌["Radiation Curing in Polymer Science & Technology, Vol. I: Fundamentals and Methods" by J.P. Fouassier, J.F. Rabek, Elsevier Applied Science, London and New York, 1993, chapter 4, pages 193 to 225, and chapter 9, pages 503 to 555]에 기재되어 있다.
마찬가지로, 본 발명은 코일 코팅 공정에 의하여 코팅을 제공하기 위한 본 발명의 방사선-경화성 배합물의 사용이 제공되며, 전술한 바람직한 형태도 마찬가지로 본 발명의 보호받고자 하는 사항을 위하여 사용될 수 있다.
본 발명은 추가로 본 발명에 따른 방사선-경화성 배합물을 포함하거나 또는 이에 기초한 코팅을 제공한다. 보다 특히, 본 발명은 방사선-경화성 배합물을 포함하거나 또는 방사선-경화성 배합물을 기재로 하는 경화된 코팅도 포괄한다.
본 발명의 코팅은 단독으로 사용될 수 있거나 또는 다중 코트계의 하나의 코트로서 사용될 수 있다. 이는 예를 들면 프라이머로서, 인터코트로서 또는 탑코트 또는 클리어코트로서 적용될 수 있다. 본 발명의 코팅 위 또는 아래의 코트는 통상적으로, 열에 의하여 또는 그 밖에 대안으로 방사선에 의하여 경화될 수 있다.
추가의 설명 없이도, 당업자라면 상기의 설명을 광의의 의미로 이용할 수 있을 것으로 가정한다. 결론적으로, 바람직한 실시태양 및 실시예는 설명을 위한 개시로서만 해석하여야 하며, 어떠한 방법으로도 한정의 의미로 사용하여서는 아니된다.
본 발명은 하기의 실시예를 참조하여 설명한다. 본 발명의 대안의 실시태양은 유사하게 얻을 수 있다.
실시예
UV 코팅 물질의 배합 및 경화를 위한 일반적인 제조 지침
배합물 성분 모두를 합하고, 20 분 동안 자기 교반기를 사용하여 교반하였다.
작동 배합물을 나이프 코팅으로 스틸 패널(Bonder 패널 1303)에 적용한 후, UV 램프(3 m/분, Minicure, 수은 증기 램프, 80 W/㎝, 테크니그라프)하에서 경화시켰다.
모든 수치(중량%)는 배합물의 총 중량을 기준으로 한다.
모든 코팅은 충분한 가요성(에릭슨 컵핑(DIN 53156)>5 ㎜)을 갖는다. 본 발명의 배합물만이 240 시간의 염수 분무 테스트(DIN 53167) 이후에 충분한 부식 조절(금긋기 크리프<5 ㎝)을 나타냈다.
Claims (9)
- 방사선-경화성 자유 라디칼 가교성 배합물에서의 하나 이상의 알콕시실란 성분 및 하나 이상의 산-발생 광개시제의 용도.
- A) 하나 이상의 방사선-경화성 자유 라디칼 가교성 성분,
B) 총 배합물을 기준으로 2 중량% 이상의 하나 이상의 알콕시실란 성분,
C) 하나 이상의 산-발생 광개시제,
D) 임의로 하나 이상의 접착 촉진제,
E) 임의로 자유 라디칼 경화를 위한 하나 이상의 광개시제 및
F) 임의로 하나 이상의 안료 및 기타의 아주번트
로 이루어진 방사선-경화성 자유 라디칼 가교성 배합물. - 제2항에 있어서, 성분 A)가 에폭시 아크릴레이트, 폴리에스테르 아크릴레이트, 폴리에테르 아크릴레이트, 폴리아크릴레이트 아크릴레이트 및 우레탄 아크릴레이트의 단독 또는 혼합물 형태로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방사선-경화성 배합물.
- 제2항 또는 제3항에 있어서, 알콕시실란 성분이 하기 화학식 I의 유기작용성 실란으로 구성된 군으로부터 선택되고/되거나 하기 화학식 II의 에폭시-작용성 실란으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방사선-경화성 배합물:
<화학식 I>
R1-SiR'n(OR)3-n
(상기 화학식에서, R1은 1 내지 20 개의 탄소 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형의 비치환된 알킬 기 또는 예를 들어 N-, O-, S- 또는 할로겐-함유 기, 예컨대 플루오로알킬, 아미노알킬, 머캅토알킬, 메타크릴로일옥시알킬 또는 OR, 즉 OH 또는 알콕시, 보다 특히 메톡시 또는 에톡시로 치환된 알킬기이며,
R'는 메틸이고,
R 기는 독립적으로 수소 또는, 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 기이며,
n은 0 또는 1임);
<화학식 II>
R2-SiR'm(OR)3-m
(상기 화학식에서, R2는 기 또는 이고,
기 R, R' 및 R"는 동일하거나 또는 상이하며, 각각의 경우에서 수소(H)이거나 또는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형의 비치환 또는 치환된 알킬 기이고,
기 A 및 A'는 동일하거나 또는 상이하며, 각각의 경우에서 1 내지 10 개의 탄소 원자를 갖는 2가 알킬 기이고,
m은 0 또는 1임). - 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 알콕시실란 성분이, 필요할 경우 화학식 I의 화합물의 존재하에서 화학식 II의 하나 이상의 에폭시 작용성 실란의 가수분해 및 축합에 의하여 얻을 수 있는 올리고머 실록산 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 방사선-경화성 배합물.
- 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 산-발생 광개시제가 헥사플루오로안티모네이트, 헥사플루오로포스페이트 또는 테트라플루오로보레이트 음이온을 갖는 디아릴요오도늄, 페로세늄 또는 트리아릴설포늄 염으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방사선-경화성 배합물.
- 프라이머, 인터코트, 탑코트 또는 클리어코트 물질로서 및/또는 코팅에서 또는 코일 코팅 공정에 의하여 코팅을 생성하기 위한 제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 방사선-경화성 배합물의 용도.
- 제7항에 있어서, 방사선-경화된 코팅을 차후에 5 분 내지 4 주의 저장 및/또는 가열 시간으로 실온 내지 100℃에서 저장 및/또는 가열하는 것을 특징으로 하는 용도.
- 제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 방사선-경화성 배합물을 함유하거나 또는 방사선-경화성 배합물을 기재로 하는 코팅.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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