KR20100075851A - 포토레지스트 조성물에 사용하기 위한 중합체 - Google Patents

포토레지스트 조성물에 사용하기 위한 중합체 Download PDF

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KR20100075851A
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무티아 티야가라잔
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Abstract

(i) 하기 단위로부터 선택되는 2 이상의 반복 단위:
Figure pct00014

[상기 식 중, R61, R62, R63 및 R65 각각은 개별적으로 수소 또는 C1-4 알킬로부터 선택되고; R64는 C1-4 알킬임]; 및
(ⅱ) 하기 단위로부터 선택되는 1 이상의 추가 반복 단위:
Figure pct00015

[상기 식 중, R61, R62, R63, R64 및 R65 각각은 개별적으로 수소 또는 C1-4 알킬로부터 선택되고 n은 0∼3의 수임]
를 포함하는 중합체는 포토레지스트 조성물의 성분으로서 유용하다.

Description

포토레지스트 조성물에 사용하기 위한 중합체{POLYMERS FOR USE IN PHOTORESIST COMPOSITIONS}
포토레지스트 조성물은 소형화 전자 부품 제작을 위한 마이크로리소그라피 공정, 예컨대 컴퓨터 칩 및 집적 회로 제작에 사용된다. 일반적으로, 이러한 공정에서 포토레지스트 조성물의 필름의 얇은 코팅을 우선 기판 물질, 예컨대 집적 회로 제조에 사용되는 규소 웨이퍼에 도포한다. 이어서, 상기 코팅 기판을 소성하여 포토레지스트 조성물 내의 임의의 용매를 증발시키고 기판에 코팅을 고정시킨다. 기판 상에 코팅된 포토레지스트를 이후 방사선에 이미지 형성 방식으로 노광 처리한다.
이러한 방사선 노광으로, 코팅된 표면의 노광 영역에서 화학적 변성을 유도한다. 가시광, 자외선(UV) 광, 전자빔 및 X-선 복사 에너지는 오늘날 마이크로리소그라피 공정에서 일반적으로 사용되는 방사선 유형이다. 이러한 이미지 형성 노광 후에, 코팅된 기판을 현상액으로 처리하여 포토레지스트의 방사선 노광되거나 미노광된 영역을 용해시키고 제거한다. 반도체 소자의 소형화 추세로 인해 더욱 낮은 방사선 파장에 민감한 새로운 포토레지스트를 사용하고, 또한 이러한 소형화와 관련된 난점을 극복하기 위한 복잡한 다단계 시스템을 사용하게 되었다.
포토레지스트 조성물에는 2 가지 유형, 네거티브 작용성 및 포지티브 작용성이 있다. 리소그라피 공정의 특정 지점에서 사용되는 포토레지스트의 유형은 반도체 소자의 디자인에 의해 결정된다. 네거티브 작용성 포토레지스트 조성물이 방사선에 이미지 형성 방식으로 노광되는 경우, 방사선에 노광된 레지스트 조성물의 영역은 현상액에 덜 가용성이게 되는(예를 들어, 가교 반응이 발생) 반면에, 포토레지스트 코팅의 미노광된 영역은 상기 용액에 상대적으로 가용성이게 남는다. 따라서, 노광된 네거티브 작용성 레지스트를 현상제로 처리하여 포토레지스트 코팅의 미노광된 영역을 제거하고 상기 코팅에 네거티브 이미지를 생성함으로써 상기 포토레지스트 조성물이 침적된 하부 기판 표면의 소정의 부분을 노출시키게 된다.
한편, 포지티브 작용성 포토레지스트 조성물이 방사선에 이미지 형성 방식으로 노광되는 경우, 방사선에 노광된 포토레지스트 조성물의 상기 영역은 현상액에 더욱 가용성이게 되는(예를 들어, 재배열 반응이 발생) 반면에, 미노광된 상기 영역은 상기 현상액에 상대적으로 불용성이게 남는다. 따라서, 노광된 포지티브 작용성 포토레지스트를 현상제로 처리하여 상기 코팅의 노광된 영역을 제거하고 상기 포토레지스트 코팅에 포지티브 이미지를 생성한다. 또한, 상기 하부 표면의 소정 부분이 노출된다.
포토레지스트 해상도는 레지스트 조성물이 노광 및 현상 후에 높은 수준의 이미지 엣지 정확도로 포토마스크에서 기판으로 전사시킬 수 있는 최소 피쳐로서 정의된다. 오늘날의 많은 최첨단 제조 용도에서, 1.5 미크론(마이크로미터) 미만 정도의 포토레지스트 해상도가 필요하다. 또한, 현상된 포토레지스트 벽 프로파일은 기판에 대해 거의 수직인 것이 대부분 항상 바람직하다. 상기 레지스트 코팅의 현상 및 미현상 영역들 사이의 이러한 경계는 마스크 이미지의 기판 상으로의 정확한 패턴 전사로 이어진다. 이는 소형화에 대한 요구로 소자 상의 임계 치수가 작아짐에 따라 더욱더 중요하게 된다. 포토레지스트 치수가 150 나노미터(nm) 이하로 감소된 경우에, 포토레지스트 패턴의 조도는 중요한 문제가 되었다. 통상적으로 라인 에지 조도라 알려져 있는 에지 조도는 전형적으로 포토레지스트 라인에 따른 조도로서 라인 및 스페이스 패턴에 대해서, 및 측벽 조도로서 접촉 홀에 대해서 관찰된다. 에지 조도는, 특히 임계 치수 관용도를 감소시키고 또한 포토레지스트의 라인 에지 조도를 기판으로 전사시켜 포토레지스트의 리소그라피 성능에 부정적인 영향을 미칠 수 있다. 따라서, 에지 조도를 최소화시키는 포토레지스트가 매우 바람직하다.
약 100 nm ∼ 약 300 nm의 단파장에 감응성인 포토레지스트는 1/2 미크론 이하의 기하 구조가 필요한 곳에 흔히 사용할 수 있다.
높은 해상도, 화학 증폭형의 원자외선(100∼300 nm) 포지티브 및 네거티브 톤 포토레지스트를 1/4 미크론 미만의 기하 형태를 갖는 이미지 패턴화에 이용할 수 있다. 지금까지, 소형화의 상당한 발달에 기여한 3개의 주된 원자외선 노광 기술이 있으며, 이들은 248 nm, 193 nm(건식 및 침지) 및 157 nm의 방사선을 방사하는 레이저들을 사용한다. 원자외선에 사용되는 포토레지스트는 산 불안정성 기를 갖고 산의 존재 하에 탈보호할 수 있는 중합체, 흡광 시 산을 발생시키는 광활성 성분 및 용매를 포함하는 것이 전형적이다.
248 nm용 포토레지스트는 치환된 폴리히드록시스티렌 및 이의 공중합체, 예컨대 미국 특허 4,491,628호 및 5,350,660호에 기술된 것을 기초로 한 것이 전형적이다. 한편, 193 nm 노광용 포토레지스트는 비방향족 중합체를 필요로 하는데, 이는 방향족이 그 파장에서 불투명하기 때문이다. 미국 특허 5,843,624호 및 GB 2,320,718호에는 193 nm 노광에 유용한 포토레지스트가 개시되어 있다. 일반적으로, 지환족 탄화수소를 함유하는 중합체는 200 nm 이하의 노광을 위한 포토레지스트에 사용된다. 지환족 탄화수소들이 많은 이유에서 중합체에 포함되게 되는데, 이는 주로 이들이 에칭 저항성을 향상시키는 상대적으로 높은 탄소:수소 비율을 보유하고, 또한 낮은 파장에서 투명도를 제공하며, 상대적으로 높은 유리 전이 온도를 보유하기 때문이다. 157 nm에 감응성인 포토레지스트는 불화 중합체를 기초로 하며, 이는 그 파장에서 실질적으로 투명한 것으로 알려져 있다. 불화기를 함유하는 중합체로부터 유도된 포토레지스트는 WO 00/67072 및 WO 00/17712에 기술되어 있다.
발명의 개요
(i) 하기 단위로부터 선택되는 2 이상의 반복 단위:
Figure pct00001
[상기 식 중, R61, R62, R63 및 R65 각각은 개별적으로 수소 또는 C1-4 알킬로부터 선택되고; R64는 C1-4 알킬임]; 및
(ⅱ) 하기 단위로부터 선택되는 1 이상의 추가 반복 단위:
Figure pct00002
[상기 식 중, R61, R62, R63, R64 및 R65 각각은 개별적으로 수소 또는 C1-4 알킬로부터 선택되고 n은 0∼3의 수임]
를 포함하는 중합체가 개시된다.
예를 들어, 상기 중합체는 (i)에 대해서, 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이고, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이고, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이고, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물, 또는 이들의 혼합물인 중합체일 수 있다.
또다른 예로는 (ⅱ)에 대해서, 상기 추가 반복 단위는 화학식 (8)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고 R63는 메틸임); 화학식 (8)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (9)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (9)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고 R63는 메틸임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (11)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (11)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (12)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고 R63는 메틸임); 화학식 (12)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소임); 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (14)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R64는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (14)의 화합물(여기서, R61, R62, R63 및 R64는 수소임); 화학식 (15)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R65는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (15)의 화합물(여기서, R61, R62, R63 및 R65는 수소임); 화학식 (16)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (16)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (17)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (17)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (18)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (18)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (19)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (19)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임) 및 이의 혼합물로부터 선택되는 중합체가 있다.
또다른 예로는 (ⅱ)에 대해서, 상기 추가 반복 단위는 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (11)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (12)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (14)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R64는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (15)의 화합물(여기서, R61, R62, R63 및 R65는 수소임) 및 이의 혼합물로부터 선택되는 중합체가 있다.
또다른 예로는 (ⅱ)에 대해서, 상기 추가 반복 단위는 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임) 및 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임) 및 화학식 (15)의 화합물(여기서, R61, R62, R63 및 R65는 수소임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임), 화학식 (11)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임) 및 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임), 화학식 (12)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 또는 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임), 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (14)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R64는 수소이고 R63는 메틸임)의 혼합물인 중합체가 있다.
상기 중합체의 예를 하기 제시한다.
또한, 상기 중합체를 포함하는 포토레지스트 조성물이 개시된다. 상기 포토레지스트 조성물은 1 이상의 광산 발생제(PAG) 및 1 이상의 염기를 함유할 수 있고, 함유하는 것이 바람직하다.
또한, (a) 상기 포토레지스트 조성물로 기판을 코팅하는 단계; (b) 상기 기판을 소성하여 용매를 실질적으로 제거하는 단계; (c) 상기 포토레지스트 코팅을 이미지 형성 방식으로 노광시키는 단계; (d) 상기 포토레지스트 코팅을 노광후 소성하는 단계; 및 (e) 상기 포토레지스트 코팅을 알칼리 수용액으로 현상시키는 단계를 포함하는 포토레지스트 이미지 형성 방법이 또한 개시된다.
또한, (a) 상기 포토레지스트 조성물을 제공하는 단계; (b) 단계 (a)의 포토레지스트 조성물로 적합한 기판을 코팅하는 단계; 및 (c) 단계 (b)의 코팅된 기판을 포토레지스트 용매 모두가 실질적으로 제거될 때까지 열처리하는 단계; 상기 포토레지스트 조성물을 이미지 형성 방식으로 노광시키고 이러한 조성물의 이미지 형성 방식으로 노광된 영역을 적합한 현상제로 제거하는 단계를 포함하는, 기판 상에 이미지를 형성하는 것에 의한 마이크로전자 소자의 제조 방법이 또한 개시된다.
또한, 포토레지스트 조성물의 성분으로서의 상기 중합체의 용도가 개시된다.
발명의 상세한 설명
(i) 하기 단위로부터 선택되는 2 이상의 반복 단위:
Figure pct00003
[상기 식 중, R61, R62, R63 및 R65 각각은 개별적으로 수소 또는 C1-4 알킬로부터 선택되고; R64는 C1-4 알킬임]; 및
(ⅱ) 하기 단위로부터 선택되는 1 이상의 추가 반복 단위:
Figure pct00004
[상기 식 중, R61, R62, R63, R64 및 R65 각각은 개별적으로 수소 또는 C1-4 알킬로부터 선택되고 n은 0∼3의 수임]
를 포함하는 중합체가 개시된다.
예를 들어, 상기 중합체는 (i)에 대해서, 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이고, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이고, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이고, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물, 또는 이들의 혼합물인 중합체일 수 있다.
또다른 예로는 (ⅱ)에 대해서, 상기 추가 반복 단위는 화학식 (8)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고 R63는 메틸임); 화학식 (8)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (9)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (9)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고 R63는 메틸임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (11)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (11)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (12)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고 R63는 메틸임); 화학식 (12)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소임); 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (14)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R64는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (14)의 화합물(여기서, R61, R62, R63 및 R64는 수소임); 화학식 (15)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R65는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (15)의 화합물(여기서, R61, R62, R63 및 R65는 수소임); 화학식 (16)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (16)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (17)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (17)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (18)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (18)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (19)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (19)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임) 및 이의 혼합물로부터 선택되는 중합체가 있다.
또다른 예로는 (ⅱ)에 대해서, 상기 추가 반복 단위는 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (11)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (12)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (14)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R64는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (15)의 화합물(여기서, R61, R62, R63 및 R65는 수소임) 및 이의 혼합물로부터 선택되는 중합체가 있다.
또다른 예로는 (ⅱ)에 대해서, 상기 추가 반복 단위는 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임) 및 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62, 및 R63는 수소임) 및 화학식 (15)의 화합물(여기서, R61, R62, R63 및 R65는 수소임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임), 화학식 (11)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임) 및 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임), 화학식 (12)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 또는 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임), 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (14)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R64는 수소이고 R63는 메틸임)의 혼합물인 중합체가 있다.
또다른 바람직한 실시양태에서, 상기 중합체는 바람직하게는 R61 및 R62 각각이 수소이고, R63가 수소 또는 메틸이며, R64가 C1-C4 알킬인 반복 단위 (1), (5), (10) 및 (13)를 포함하고, 바람직하게는 이로 구성된다.
이러한 중합체의 예로는 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-메틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-5-메타크릴로일옥시-2,6-노르보르난카르보락톤-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-트리시클로[5,2,1,02,6]데카-8-일 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-5-아크릴로일옥시-2,6-노르보르난카르보락톤), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-트리시클로[5,2,1,02,6]데카-8-일 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-5-아크릴로일옥시-2,6-노르보르난카르보락톤), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-트리시클로[5,2,1,02,6]데카-8-일 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-5-아크릴로일옥시-2,6-노르보르난카르보락톤), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-5-아크릴로일옥시-2,6-노르보르난카르보락톤), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-트리시클로[5,2,1,02,6]데카-8-일 메타크릴레이트), 폴리(에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-5-아크릴로일옥시-2,6-노르보르난카르보락톤), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-트리시클로[5,2,1,02,6]데카-8-일 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 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수 있다.
일반적으로, 반복 단위(i)는 전체 중합체의 약 25 ∼ 약 50 mol%, 더욱이 약 35 ∼ 약 50 mol%를 포함하게 된다(약 25 ∼ 약 45 mol%의 반복 단위(i)를 구성하는 단량체 공급물 기준). 일부 예에서, 상기 반복 단위(ⅱ)는 α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트 및/또는 α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트를 함유하게 된다. 전체 중합체에 대해서, α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트 및/또는 β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트의 양은 약 35 ∼ 약 55 mol% 범위에 있게 되며, 일부 경우에서 약 40 ∼ 약 50 mol% 범위에 있게 된다.
본 발명의 중합체 합성은 아크릴레이트 공중합체에 대한 통상의 합성 방법, 예컨대 라디칼 중합을 이용하여 실시할 수 있으며, 이는 당업자에게 공지되어 있고, 예를 들어 문헌[H.-G. Elias, Macromolecules, 2권, Wiley-VCH, Weinheim 2007]에 기술되어 있다. 실시예에 개시된 방법을 추가로 참조할 수 있다.
추가로, 상기 중합체를 포함하는 포토레지스트 조성물이 또한 개시된다. 상기 포토레지스트 조성물은 1 이상의 광산 개시제 및 1 이상의 염기를 함유할 수 있고, 함유하는 것이 바람직하다.
또한, (a) 상기 포토레지스트 조성물로 기판을 코팅하는 단계; (b) 상기 기판을 소성하여 용매를 실질적으로 제거하는 단계; (c) 상기 포토레지스트 코팅을 이미지 형성 방식으로 노광시키는 단계; (d) 상기 포토레지스트 코팅을 노광후 소성하는 단계; 및 (e) 상기 포토레지스트 코팅을 알칼리 수용액으로 현상시키는 단계를 포함하는 포토레지스트 이미지 형성 방법이 또한 개시된다.
또한, (a) 상기 포토레지스트 조성물을 제공하는 단계; (b) 단계 (a)의 포토레지스트 조성물로 적합한 기판을 코팅하는 단계; 및 (c) 단계 (b)의 코팅된 기판을 포토레지스트 용매 모두가 실질적으로 제거될 때까지 열처리하는 단계; 상기 포토레지스트 조성물을 이미지 형성 방식으로 노광시키고 이러한 조성물의 이미지 형성 방식으로 노광된 영역을 적합한 현상제로 제거하는 단계를 포함하는, 기판 상에 이미지를 형성하는 것에 의한 마이크로전자 소자의 제조 방법이 또한 개시된다.
또한, 포토레지스트 조성물의 성분으로서의 상기 중합체의 용도가 개시된다. 상기 포토레지스트 조성물은 1 이상의 광산 발생제 및/또는 1 이상의 염기를 포함하는 것이 바람직하다. 바람직하게는 상기 1 이상의 광산 발생제는 하기 기술되는 광산 발생제들의 혼합물이다.
바람직한 실시양태에서, 상기 포토레지스트 조성물은 상기 중합체와 함께 하기 (i) 및 (ⅱ) 화합물로부터 선택되는 광산 발생제들의 혼합물을 함유한다:
(i) 하기 화학식의 화합물:
(Ai)2 Xi1,
[상기 식 중,
- 각각의 Ai는 개별적으로
Figure pct00005
, 및
Y-Ar
[상기 식 중, Ar은
Figure pct00006
, 나프틸 또는 안트릴로부터 선택되고;
Y는
Figure pct00007
,
Figure pct00008
, -I+-나프틸, -I+-안트릴로부터 선택됨]
로부터 선택되는 유기 오늄 양이온이며,
여기서, R1, R2, R3, R1A, R1B, R2A, R2B, R3A, R3B, R4A, R4B, R5A 및 R5B는 각각 독립적으로 Z, 수소, OSO2R9, OR20, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬 기, 모노시클로알킬- 또는 폴리시클로알킬카르보닐 기, 아릴, 아랄킬, 아릴카르보닐메틸 기, 알콕시알킬, 알콕시카르보닐알킬, 알킬카르보닐, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 시클로알킬 고리를 갖는 모노시클로알킬- 또는 폴리시클로알킬옥시카르보닐알킬, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 시클로알킬 고리를 갖는 모노시클로알킬- 또는 폴리시클로알킬옥시알킬, 직쇄형 또는 분지쇄형 퍼플루오로알킬, 모노시클로퍼플루오로알킬 또는 폴리시클로퍼플루오로알킬, 직쇄형 또는 분지쇄형 알콕시 사슬, 니트로, 시아노, 할로겐, 카르복실, 히드록실, 설페이트, 트레실 또는 히드록실로부터 선택되고;
R6 및 R7은 각각 독립적으로 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬 기, 모노시클로알킬- 또는 폴리시클로알킬카르보닐 기, 아릴, 아랄킬, 직쇄형 또는 분지쇄형 퍼플루오알킬, 모노시클로퍼플루오로알킬 또는 폴리시클로퍼플루오로알킬, 아릴카르보닐메틸 기, 니트로, 시아노 또는 히드록실이거나, R6 및 R7은 이들이 결합되는 S 원자와 함께 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 5원, 6원 또는 7원의 포화 또는 불포화 고리를 형성하며;
R9은 알킬, 플루오로알킬, 퍼플루오로알킬, 아릴, 플루오로아릴, 퍼플루오로아릴, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 시클로알킬 고리를 갖는 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬 기, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 시클로알킬 고리를 갖는 모노시클로플루오로알킬 또는 폴리시클로플루오로알킬 기, 또는 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 시클로알킬 고리를 갖는 모노시클로퍼플루오르알킬 또는 폴리시클로퍼플루오로알킬 기로부터 선택되고;
R20는 알콕시알킬, 알콕시카르보닐알킬, 알킬카르보닐, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 시클로알킬 고리를 갖는 모노시클로알킬- 또는 폴리시클로알킬옥시카르보닐알킬, 또는 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 시클로알킬 고리를 갖는 모노시클로알킬- 또는 폴리시클로알킬옥시알킬이며;
T는 직접 결합, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 2가 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬기, 2가 아릴기, 2가 아랄킬기, 또는 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 2가 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬 기이고;
Z는 -(V)j-(C(X11)(X12))n-O-C(=O)-R8이며, 여기서 (i) X11 또는 X12 중 하나가 1 이상의 불소 원자를 함유하는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬이고 다른 하나는 수소, 할로겐, 또는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬이거나, (ⅱ) X11 및 X12 둘 모두가 1 이상의 불소 원자를 함유하는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬이고;
V는 직접 결합, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 2가 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬기, 2가 아릴기, 2가 아랄킬기, 또는 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 2가 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬 기로부터 선택되는 결합기이며;
X2는 수소, 할로겐, 또는 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬이고;
R8은 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬, 또는 아릴이며;
X3는 수소, 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬, 할로겐, 시아노, 또는 -C(=O)-R50(여기서, R50는 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬로부터 선택됨) 또는 -O-R51(여기서, R51는 수소 또는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬임)이고;
i 및 k 각각은 독립적으로 0 또는 양의 정수이며;
j는 0∼10이고;
m은 0∼10이며;
n은 0∼10이고,
상기 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬, 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬, 직쇄형 또는 분지쇄형 알콕시 사슬, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬 기, 모노시클로알킬- 또는 폴리시클로알킬카르보닐 기, 알콕시알킬, 알콕시카르보닐알킬, 알킬카르보닐, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 시클로알킬 고리를 갖는 모노시클로알킬- 또는 폴리시클로알킬옥시카르보닐알킬, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 시클로알킬 고리를 갖는 모노시클로알킬- 또는 폴리시클로알킬옥시알킬, 아랄킬, 아릴, 나프틸, 안트릴, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 5원, 6원 또는 7원의 포화 또는 불포화 고리, 또는 아릴카르보닐메틸기는 Z, 할로겐, 알킬, C1-8 퍼플루오로알킬, 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬, OR20, 알콕시, C3-20 환형 알콕시, 디알킬아미노, 이환형 디알킬아미노, 히드록실, 시아노, 니트로, 트레실, 옥소, 아릴, 아랄킬, 산소 원자, CF3SO3, 아릴옥시, 아릴티오, 및 하기 화학식 (Ⅱ)∼(Ⅵ)의 기로 구성된 군으로부터 선택된 1 이상의 기에 의해 치환되거나 비치환되며:
Figure pct00009
[상기 식 중, R10 및 R11 각각은 독립적으로 수소 원자, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬, 또는 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬 기이거나, R10 및 R11은 함께 5원 또는 6원 고리를 형성하는 알킬렌기를 나타낼 수 있고;
R12는 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬 기, 또는 아랄킬이거나, R10 및 R12는 함께, 개재하는 -C-O- 기와 함께 5원 또는 6원 고리를 형성하는 알킬렌기를 나타내며(상기 고리 중 탄소 원자는 산소 원자에 의해 임의로 치환됨);
R13은 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬 또는 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬 기를 나타내고;
R14 및 R15 각각은 독립적으로 수소 원자, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬 또는 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬 기를 나타내며;
R16은 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬 기, 아릴 또는 아랄킬을 나타내고;
R17은 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬 기, 아릴, 아랄킬, -O-Si(R16)2R17 기 또는 -O-Si(R16)2R17 기를 나타내며, 상기 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 직쇄형 또는 분지쇄형 알킬 사슬, 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬 기, 아릴 및 아랄킬은 비치환되거나 상기와 같이 치환됨];
- Xi1은 하기 화학식의 음이온임:
Q-R500-SO3 -
[상기 식 중, Q는 -O3S 및 -O2C로부터 선택되고;
R500는 사슬의 O, S 또는 N를 임의로 함유하는 직쇄형 또는 분지쇄형의 알킬, 시클로알킬, 아릴 또는 이의 조합으로부터 선택되는 기이며, 여기서 상기 알킬, 시클로알킬 및 아릴 기는 할로겐, 비치환되거나 치환된 알킬, 비치환되거나 치환된 C1-8 퍼플루오로알킬, 히드록실, 시아노, 설페이트 및 니트로로 구성된 군으로부터 선택되는 1 이상의 기에 의해 치환되거나 비치환됨]]; 및
(ⅱ) 하기 화학식의 화합물:
Ai Xi2
[상기 식 중, Ai는 앞서 정의된 바와 같은 유기 오늄 양이온이고, Xi2는 음이온뿐만 아니라 이의 혼합물임].
음이온 Xi2의 예로는 CF3SO3 -, CHF2SO3 -, CH3SO3 -, CCl3SO3 -, C2F5SO3 -, C2HF4SO3 -, C4F9SO3 -, 캄포르 설포네이트, 퍼플루오로옥탄 설포네이트, 벤젠 설포네이트, 펜타플루오로벤젠 설포네이트, 톨루엔 설포네이트, 퍼플루오로톨루엔 설포네이트, (Rf1SO2)3C- 및 (Rf1SO2)2N-(여기서, 각각의 Rf1은 높은 불화 또는 과불화 알킬 또는 불화 아릴 라디칼로 구성된 군으로부터 독립적으로 선택되고 환형일 수 있으며, 임의의 2개의 Rf1 기의 조합이 결합하여 가교를 형성하는 경우, 또한 상기 Rf1 알킬 사슬은 1∼20개의 탄소 원자를 함유하고, 2가 산소, 3가 질소 또는 6가 황이 주쇄에 개재할 수 있도록 직쇄, 분지쇄 또는 환형일 수 있으며, 추가로 Rf1이 환형 구조를 함유하는 경우, 이러한 구조가 5개 또는 6개의 고리 일원을 보유하고, 임의로 이의 1개 또는 2개가 이종원자임), 및 Rg-O-Rf2-SO3 -(여기서, Rf2는 직쇄형 또는 분지쇄형 (CF2)j(여기서, j는 4∼10의 정수임) 및 임의로 치환된 퍼플루오로C1-10알킬인 C1-C12 시클로퍼플루오로알킬 2가 라디칼로 구성된 군으로부터 선택되고, Rg는 C1-C20 직쇄형, 분지쇄형, 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬, C1-C20 직쇄형, 분지쇄형, 모노시클로알케닐 또는 폴리시클로알케닐, 아릴 및 아랄킬로 구성된 군으로부터 선택되며, 상기 알킬, 알케닐, 아랄킬 및 아릴 기는 비치환 또는 치환되고, 임의로 1 이상의 사슬의 산소 원자를 임의로 함유하며, 부분적으로 불화 또는 과불화된다. 추가적인 예로는 (C2F5SO2)2N-, (C4F9SO2)2N-, (C8F17SO2)3C-, (CF3SO2)3C-, (CF3SO2)2N-, (CF3SO2)2(C4F9SO2)C-, (C2F5SO2)3C-, (C4F9SO2)3C-, (CF3SO2)2(C2F5SO2)C-, (C4F9SO2)(C2F5SO2)2C-, (CF3SO2)(C4F9SO2)N-, [(CF3)2NC2F4SO2]2N-, (CF3)2NC2F4SO2C-(SO2CF3)2, (3,5-비스(CF3)C6H3)SO2N-SO2CF3, C6F5SO2C-(SO2CF3)2, C6F5SO2N-SO2CF3,
Figure pct00010
CF3CHFO(CF2)4SO3 -, CF3CH2O(CF2)4SO3 -, CH3CH2O(CF2)4SO3 -, CH3CH2CH2O(CF2)4SO3 -, CH3O(CF2)4SO3 -, C2H5O(CF2)4SO3 -, C4H9O(CF2)4SO3 -, C6H5CH2O(CF2)4SO3 -, C2H5OCF2CF(CF3)SO3 -, CH2=CHCH2O(CF2)4SO3 -, CH3OCF2CF(CF3)SO3 -, C4H9OCF2CF(CF3)SO3 -, C8H17O(CF2)2SO3 - 및 C4H9O(CF2)2SO3 -로부터 선택된 것을 들 수 있다.
상기 조성물에 유용한 광산 발생제의 추가 예로는 비스(4-t-부틸페닐) 요오도늄 트리페닐 설포늄 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐) 요오도늄 트리페닐 설포늄 퍼플루오로프로판-1,3-디설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐) 요오도늄 트리페닐 설포늄 퍼플루오로프로판-1-카르복실레이트-3-설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐) 요오도늄 트리페닐 설포늄 퍼플루오로부탄-1-카르복실레이트-4-설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐) 요오도늄 트리페닐 설포늄 퍼플루오로메탄 디설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐) 요오도늄 트리페닐 설포늄 메탄 디설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐) 요오도늄 트리페닐 설포늄 퍼플루오로에탄 디설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐) 요오도늄 트리페닐 설포늄 에탄 디설포네이트, 비스(트리페닐 설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 비스(트리페닐 설포늄) 퍼플루오로프로판-1,3-디설포네이트, 비스(벤조일테트라메틸렌설포늄) 퍼플루오로프로판-1,3-디설포네이트, 비스(벤조일테트라메틸렌설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 비스(트리스(4-t-부틸페닐) 설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 비스(트리스(4-t-부틸페닐) 설포늄) 퍼플루오로프로판-1,3-디설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐디페닐 설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐디페닐 설포늄) 퍼플루오로프로판-1,3-디설포네이트, 비스(트리페닐 설포늄) 퍼플루오로프로판-1-카르복실레이트-3-설포네이트, 비스(트리페닐 설포늄) 퍼플루오로부탄-1-카르복실레이트-4-설포네이트, 비스(벤조일테트라메틸렌설포늄) 퍼플루오로프로판-1-카르복실레이트-3-설포네이트, 비스(벤조일테트라메틸렌설포늄) 퍼플루오로부탄-1-카르복실레이트-4-설포네이트, 비스(트리스(4-t-부틸 페닐) 설포늄) 퍼플루오로프로판-1-카르복실레이트-3-설포네이트, 비스(트리스(4-t-부틸 페닐) 설포늄) 퍼플루오로부탄-1-카르복실레이트-4-설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐 디페닐 설포늄) 퍼플루오로프로판-1-카르복실레이트-3-설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐 디페닐 설포늄) 퍼플루오로부탄-1-카르복실레이트-4-설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐 요오도늄) 메탄 디설포네이트, 비스(트리페닐 설포늄) 메탄 디설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐 요오도늄) 퍼플루오로메탄 디설포네이트, 비스(트리페닐 설포늄) 퍼플루오로메탄 디설포네이트, 비스(벤조일테트라메틸렌설포늄) 퍼플루오로메탄 디설포네이트, 비스(벤조일-테트라메틸렌설포늄) 메탄 디설포네이트, 비스(트리스(4-t-부틸 페닐) 설포늄) 퍼플루오로메탄 디설포네이트, 비스(트리스(4-t-부틸 페닐) 설포늄) 메탄 디설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐 디페닐설포늄) 퍼플루오로메탄 디설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐 디페닐설포늄) 메탄 디설포네이트, 비스(4-옥틸옥시페닐) 요오도늄 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 비스(4-옥틸옥시페닐) 요오도늄 에탄 디설포네이트, 비스(4-옥틸옥시페닐) 요오도늄 퍼플루오로에탄 디설포네이트, 비스(4-옥틸옥시페닐) 요오도늄 퍼플루오로프로판-1,3-디설포네이트, 비스(4-옥틸옥시페닐) 요오도늄 퍼플루오로프로판-1-카르복실레이트-3-설포네이트, 비스(4-옥틸옥시페닐) 요오도늄 퍼플루오로부탄-1-카르복실레이트-4-설포네이트, 비스(4-옥틸옥시페닐) 요오도늄 메탄 디설포네이트, 비스(4-옥틸옥시페닐) 요오도늄 퍼플루오로메탄 디설포네이트, 비스(4-옥틸옥시페닐) 페닐 설포늄 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 비스(4-옥틸옥시페닐) 페닐 설포늄 에탄 디설포네이트, 비스(4-옥틸옥시페닐) 페닐 설포늄 퍼플루오로에탄 디설포네이트, 비스(4-옥틸옥시페닐) 페닐 설포늄 퍼플루오로프로판-1,3-디설포네이트, 비스(4-옥틸옥시페닐) 페닐 설포늄 퍼플루오로프로판-1-카르복실레이트-3-설포네이트, 비스(4-옥틸옥시페닐) 페닐 설포늄 퍼플루오로부탄-1-카르복실레이트-4-설포네이트, 비스(4-옥틸옥시페닐) 페닐 설포늄 메탄 디설포네이트, 비스(4-옥틸옥시페닐) 페닐 설포늄 퍼플루오로메탄 디설포네이트, 비스[비스[4-펜타플루오로벤젠설포닐옥시-페닐]페닐설포늄] 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 비스[비스[4-펜타플루오로-벤젠-설포닐옥시페닐] 페닐설포늄] 에탄 디설포네이트, 비스[비스[4-펜타플루오로벤젠설포닐옥시페닐] 페닐-설포늄] 퍼플루오로에탄 디설포네이트, 비스[비스[4-펜타플루오로벤젠-설포닐옥시페닐] 페닐설포늄] 퍼플루오로프로판-1,3-디설포네이트, 비스[비스[4-펜타플루오로벤젠설포닐옥시페닐] 페닐설포늄] 퍼플루오로프로판-1-카르복실레이트-3-설포네이트, 비스[비스[4-펜타플루오로벤젠설포닐옥시-페닐] 페닐설포늄] 퍼플루오로부탄-1-카르복실레이트-4-설포네이트, 비스[비스[4-펜타플루오로벤젠설포닐옥시페닐] 페닐설포늄] 메탄 디설포네이트, 비스[비스[4-펜타플루오로벤젠설포닐옥시페닐]페닐설포늄] 퍼플루오로메탄 디설포네이트, 비스[비스[4-(3,5-디(트리플루오로메틸)벤젠설포닐옥시)-페닐] 페닐설포늄] 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 비스[비스[4-(3,5-디(트리플루오로메틸)-벤젠설포닐옥시)페닐] 페닐설포늄] 에탄 디설포네이트, 비스[비스[4-(3,5-디(트리플루오로메틸)벤젠설포닐옥시)페닐] 페닐설포늄] 퍼플루오로에탄 디설포네이트, 비스[비스[4-(3,5-디(트리플루오로메틸)벤젠설포닐옥시)페닐] 페닐설포늄] 퍼플루오로프로판-1,3-디설포네이트, 비스[비스[4-(3,5-디(트리플루오로-메틸)-벤젠설포닐옥시)페닐] 페닐설포늄] 퍼플루오로프로판-1-카르복실레이트-3-설포네이트, 비스[비스[4-(3,5-디(트리플루오로메틸)벤젠설포닐옥시)-페닐] 페닐설포늄] 퍼플루오로부탄-1-카르복실레이트-4-설포네이트, 비스[비스[4-(3,5-디(트리플루오로메틸)벤젠설포닐옥시)페닐] 페닐설포늄] 메탄 디설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐 요오도늄) 에탄 디설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐 요오도늄) 퍼플루오로에탄 디설포네이트, 비스(트리페닐 설포늄) 에탄 디설포네이트, 비스(트리페닐 설포늄) 퍼플루오로에탄 디설포네이트, 비스(벤조일테트라메틸렌-설포늄) 퍼플루오로에탄 디설포네이트, 비스(벤조일테트라메틸렌설포늄) 에탄 디설포네이트, 비스(트리스(4-t-부틸 페닐) 설포늄) 퍼플루오로에탄 디설포네이트, 비스(트리스(4-t-부틸 페닐) 설포늄) 에탄 디설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐 디페닐-설포늄) 퍼플루오로에탄 디설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐 디페닐설포늄) 에탄 디설포네이트, 비스[비스[2-메틸아다만틸아세틸옥시메톡시페닐] 페닐-설포늄] 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 비스[비스[2-메틸아다만틸아세틸-옥시메톡시페닐] 페닐설포늄] 에탄 디설포네이트, 비스[비스[2-메틸-아다만틸아세틸옥시메톡시페닐] 페닐설포늄] 퍼플루오로에탄 디설포네이트, 비스[비스[2-메틸아다만틸아세틸옥시메톡시페닐] 페닐설포늄] 퍼플루오로-프로판-1,3-디설포네이트, 비스[비스[2-메틸아다만틸아세틸옥시메톡시페닐]페닐설포늄] 퍼플루오로프로판-1-카르복실레이트-3-설포네이트, 비스[비스[2-메틸-아다만틸아세틸옥시메톡시페닐] 페닐설포늄] 퍼플루오로부탄-1-카르복실레이트-4-설포네이트, 비스[비스[2-메틸아다만틸아세틸옥시메톡시페닐] 페닐설포늄] 메탄 디설포네이트, 비스[비스[2-메틸아다만틸아세틸옥시-메톡시페닐] 페닐설포늄] 퍼플루오로메탄 디설포네이트, 비스[비스[4,4-비스(트리플루오로메틸)-3-옥사트리시클로[4.2.1.02,5]-노닐메톡시페닐]페닐 설포늄] 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 비스[비스[4,4-비스(트리플루오로메틸)-3-옥사트리시클로-[4.2.1.02,5]-노닐메톡시-페닐]페닐 설포늄]에탄 디설포네이트, 비스[비스[4,4-비스(트리플루오로메틸)-3-옥사트리시클로[4.2.1.02,5]-노닐메톡시페닐]페닐 설포늄]-퍼플루오로에탄 디설포네이트, 비스[비스[4,4-비스(트리플루오로메틸)-3-옥사트리시클로[4.2.1.02,5]-노닐메톡시-페닐]페닐 설포늄]퍼플루오로프로판-1,3-디설포네이트, 비스[비스[4,4-비스(트리플루오로-메틸)-3-옥사트리시클로[4.2.1.02,5]-노닐메톡시페닐]페닐 설포늄]-퍼플루오로프로판-1-카르복실레이트-3-설포네이트, 비스[비스[4,4-비스(트리플루오로-메틸)-3-옥사트리시클로[4.2.1.02,5]-노닐메톡시페닐]페닐 설포늄]퍼플루오로-부탄-1-카르복실레이트-4-설포네이트, 비스[비스[4,4-비스(트리플루오로메틸)-3-옥사트리시클로-[4.2.1.02,5]-노닐메톡시페닐]페닐 설포늄]메탄 디설포네이트, 비스[비스[4,4-비스(트리플루오로메틸)-3-옥사트리시클로[4.2.1.02,5]-노닐메톡시페닐]페닐 설포늄] 퍼플루오로메탄 디설포네이트, 비스(4-t-부틸페닐) 요오도늄 비스-퍼플루오로에탄 설폰이미드, 디페닐요오도늄 트리플루오로메탄 설포네이트, 디페닐요오도늄 노나플루오로부탄 설포네이트, 트리페닐설포늄 트리플루오로메탄 설포네이트, 4-메톡시-3,5-디메틸페닐)디메틸 설포늄 퍼플루오로부탄 설포네이트, 비스(p-tert-부틸 페닐)요오도늄 시클로(1,3-퍼플루오로프로판 디설폰)이미데이트, 트리페닐설포늄 노나플루오로부탄 설포네이트, 트리페닐설포늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드, 4-(1-부톡시페닐)디페닐설포늄 비스-(퍼플루오로부탄설포닐)이미드, 4-(1-부톡시페닐)디페닐설포늄 비스-(퍼플루오로에탄설포닐)이미드, 2,4,6-트리메틸페닐디페닐설포늄 비스-퍼플루오로부탄설포닐)이미드, 2,4,6-트리메틸페닐디페닐설포늄 비스-(퍼플루오로에탄설포닐)이미드, 톨루엔디페닐설포늄 비스-(퍼플루오로부탄설포닐)이미드, 톨루엔디페닐설포늄 비스-(퍼플루오로에탄설포닐)이미드, 톨루엔디페닐설포늄-(트리플루오로메틸 퍼플루오로부틸설포닐)이미드, 트리스-(tert-부틸페닐)설포늄-(트리플루오로메틸 퍼플루오로부틸설포닐)이미드, 트리스-(tert-부틸페닐)설포늄 비스-(퍼플루오로부탄설포닐)이미드 및 트리스-(tert-부틸페닐)설포늄-비스-(트리플루오로메탄설포닐)이미드를 들 수 있다.
화학식 (Ai)2 Xi1의 광산 발생제는 미국 특허 출원 11/179,886호(2005년 7월 12일자 출원) 및 11/355,762호(2006년 2월 16일자 출원)에 명시된 절차에 따라 제조할 수 있으며, 이의 내용은 본 원에서 참조 인용된다. 또다른 예가 미국 공개 특허 출원 2007/0111138호, 미국 공개 특허 출원 2004/0229155호, 및 미국 공개 특허 출원 2005/0271974호, 미국 특허 5,837,420호, 미국 특허 6,111,143호 및 미국 특허 6,358,665호에서 확인되며, 이의 내용은 본 원에서 참조 인용된다. 화학식 Ai Xi2의 광산 발생제는 당업자에게 공지되어 있으며, 예를 들어, 미국 특허 6,991,888호, 미국 특허 출원 2003/0235782호 및 미국 특허 출원 2005/0271974호에 공지된 것이 있고, 상기 출원의 내용이 본 원에서 참조 인용된다.
본 원에서 사용되는 용어 알킬은 직쇄형 또는 분지쇄형 사슬 탄화수소를 의미한다. 알킬의 대표 예로는 비한정적으로 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, sec-부틸, 이소-부틸, tert-부틸, n-펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, n-헥실, 3-메틸헥실, 2,2-디메틸펜틸, 2,3-디메틸펜틸, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐 및 n-데실을 들 수 있다.
알킬렌은 직쇄형 또는 분지쇄형일 수 있는 2가 알킬 라디칼, 예컨대 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌 등을 의미한다.
용어 아릴은 수소의 한 원자의 제거에 의해 방향족 탄화수소로부터 유도되는 라디칼을 의미하고, 치환되거나 비치환될 수 있다. 방향족 탄화수소는 단핵 또는 다핵일 수 있다. 단핵 유형의 아릴의 예로는 페닐, 톨릴, 크실릴, 메시틸, 쿠메닐 등을 들 수 있다. 다핵 유형의 아릴의 예로는 나프틸, 안트릴, 페난트릴 등을 들 수 있다. 아릴기는 상기 제시된 바와 같이 비치환되거나 치환될 수 있다.
용어 알콕시는 알킬-O-의 기를 의미하며, 여기서 알킬은 본 원에서 정의된다. 알콕시의 대표적인 예로는 비한정적으로 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 2-프로폭시, 부톡시, tert-부톡시, 펜틸옥시 및 헥실옥시를 들 수 있다.
용어 아릴옥시는 아릴-O-의 기를 의미하며, 여기서 아릴은 본 원에서 정의된다.
용어 아랄킬은 아릴기를 함유하는 알킬기를 의미한다. 이는 방향족 및 지방족 둘 모두의 구조를 갖는 탄화수소기, 즉, 저급 알킬 수소 원자가 단핵 또는 다핵 아릴기에 의해 치환된 탄화수소기이다. 아랄킬기의 예로는 비한정적으로 벤질, 2-페닐-에틸, 3-페닐-프로필, 4-페닐-부틸, 5-페닐-펜틸, 4-페닐시클로헥실, 4-벤질시클로헥실, 4-페닐시클로헥실메틸, 4-벤질시클로헥실메틸, 나프틸메틸 등을 들 수 있다.
본 원에서 사용되는 용어 모노시클로알킬은 임의로 치환된, 포화 또는 부분 불포화된 모노시클로알킬 고리 시스템을 의미하며, 여기서 상기 고리가 부분적으로 불포화되는 경우, 이는 모노시클로알케닐기이다. 본 원에서 사용되는 용어 폴리시클로알킬은 2 이상의 고리를 함유하는 임의로 치환된, 포화 또는 부분 불포화된 폴리시클로알킬 고리계를 의미하여, 여기서 상기 고리가 부분 불포화되는 경우, 이는 폴리시클로알케닐기이다. 1 이상의 O 원자를 임의로 함유하는 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬 기의 예는 당업자에게 공지되어 있으며, 예를 들어 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헵틸, 시클로헥실, 2-메틸-2-노르보르닐, 2-에틸-2-노르보르닐, 2-메틸-2-이소보르닐, 2-에틸-2-이소보르닐, 2-메틸-2-아다만틸, 2-에틸-2-아다만틸, 1-아다만틸-1-메틸에틸, 아다만틸, 트리시클로데실, 3-옥사트리시클로[4.2.1.02,5]노닐, 테트라시클로도데카닐, 테트라시클로 [5.2.2.0.0] 운데카닐, 보르닐, 이소보르닐 노르보르닐 락톤, 아다만틸 락톤 등을 들 수 있다.
용어 알콕시카르보닐알킬은 본 원에서 정의된 바와 같은 알콕시카르보닐 라디칼에 의해 치환된 알킬 라디칼을 포괄한다. 알콕시카르보닐알킬 라디칼의 예로는 메톡시카르보닐메틸 [CH3O-C(=O)-CH2-], 에톡시카르보닐메틸 [CH3CH2O-C(=O)-CH2-], 메톡시카르보닐에틸 [CH3O-C(=O)-CH2CH2-] 및 에톡시카르보닐에틸 [CH3CH2O-C(=O)- CH2CH2-]을 들 수 있다.
본 원에서 사용되는 용어 알킬카르보닐은 본 원에서 정의된 바와 같은 카르보닐기를 통해 모분자 부분에 결합된 본 원에서 정의된 바와 같은 알킬기를 의미하며, 이는 일반적으로 알킬-C(O)-로 나타낼 수 있다. 알킬카르보닐의 대표적인 예로는 비한정적으로 아세틸 (메틸 카르보닐), 부티릴 (프로필카르보닐), 옥타노일 (헵틸카르보닐), 도데카노일 (운데실카르보닐) 등을 들 수 있다.
알콕시카르보닐은 알킬-O-C(O)-을 의미하며, 여기서 알킬은 앞서 기술된 바와 같다. 비한정적인 예로는 메톡시카르보닐 [CH3O-C(O)-] 및 에톡시카르보닐 [CH3CH2O-C(O)-], 벤질옥시카르보닐 [C6H5CH2O-C(O)-] 등을 들 수 있다.
알콕시알킬은 알킬 부분에 에테르 산소 원자를 통해 말단 알킬기가 결합된 것을 의미하며, 이는 일반적으로 알킬기가 직쇄형 또는 분지쇄형일 수 있는 알킬-O-알킬로서 일반적으로 나타낼 수 있다. 알콕시알킬의 예로는 비한정적으로 메톡시프로필, 메톡시부틸, 에톡시프로필, 메톡시메틸을 들 수 있다.
모노시클로알킬- 또는 폴리시클로알킬옥시카르보닐알킬은 말단 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬 기가 -O-C(=O)-를 통해 알킬 부분에 결합된 것을 의미하며, 일반적으로 모노시클로알킬- 또는 폴리시클로알킬-O-C(=O)-알킬로서 나타낸다.
모노시클로알킬- 또는 폴리시클로알킬옥시알킬은 말단 모노시클로알킬 또는 폴리시클로알킬 기가 에테르 산소 원자를 통해 알킬 부분에 결합된 것을 의미하며, 이는 일반적으로 모노시클로알킬- 또는 폴리시클로알킬-O-알킬로서 나타낼 수 있다.
모노시클로플루오로알킬- 또는 폴리시클로플루오로알킬은 1 이상의 불소 원자에 의해 치환된 모노시클로알킬- 또는 폴리시클로알킬 기를 의미한다.
R30, R31, R32, R33, R5, R40, R41 및 R42로서 정의된 기 상의 치환기를 비롯한, 알킬, 아릴, 아랄킬, 및 상기 언급된 기타 기 상에서 치환될 수 있는 치환기의 예로는 비한정적으로 할로겐, 히드록실, 설페이트, 니트로, 퍼플루오로알킬, 옥소, 알킬, 알콕시, 아릴 등을 들 수 있다.
본 발명의 고체 성분은 유기 용매에 용해된다. 용매 또는 용매들의 혼합물 중 고체의 양은 약 1 ∼ 약 50 중량% 범위에 있다. 상기 중합체는 고체의 5∼90 중량% 범위에 있을 수 있고, 광산 발생제는 고체의 0.4 ∼ 약 50 중량% 범위에 있을 수 있다. 이러한 포토레지스트에 대한 적합한 용매로는 케톤, 예컨대 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 시클로헥사논, 이소포론, 메틸 이소아밀 케톤, 2-헵타논 4-히드록시 및 4-메틸 2-펜타논; C1-C10 지방족 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올 및 프로판올; 방향족기 함유 알콜, 예컨대 벤질 알콜; 환형 탄산염, 예컨대 에틸렌 탄산염 및 프로필렌 탄산염; 지방족 또는 방향족 탄화수소(예를 들어, 헥산, 톨루엔, 크실렌 등); 환형 에테르, 예컨대 디옥산 및 테트라히드로푸란; 에틸렌 글리콜; 프로필렌 글리콜; 헥실렌 글리콜; 에틸렌 글리콜 모노알킬에테르, 예컨대 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르; 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트, 예컨대 메틸셀로솔브 아세테이트 및 에틸셀로솔브 아세테이트; 에틸렌 글리콜 디알킬에테르, 예컨대 에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 에틸렌 글리콜 디에틸에테르, 에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노알킬에테르, 예컨대 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 및 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르; 프로필렌 글리콜 모노알킬에테르, 예컨대 프로필렌 글리콜 메틸에테르, 프로필렌 글리콜 에틸에테르, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 및 프로필렌 글리콜 부틸에테르; 프로필렌 글리콜 알킬에테르아세테이트, 예컨대 프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 에틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 및 프로필렌 글리콜 부틸에테르 아세테이트; 프로필렌 글리콜 알킬에테르프로피오네이트, 예컨대 프로필렌 글리콜 메틸에테르프로피오네이트, 프로필렌 글리콜 에틸에테르프로피오네이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르프로피오네이트 및 프로필렌 글리콜 부틸에테르프로피오네이트; 2-메톡시에틸 에테르 (디글림); 에테르 및 히드록시 둘 모두의 부분을 갖는 용매, 예컨대 메톡시 부탄올, 에톡시 부탄올, 메톡시 프로판올 및 에톡시 프로판올; 에스테르, 예컨대 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트 및 부틸 아세테이트 메틸-피루베이트, 에틸 피루베이트; 에틸 2-히드록시 프로피오네이트, 메틸 2-히드록시 2-메틸 프로피오네이트, 에틸 2-히드록시 2-메틸 프로피오네이트, 메틸 히드록시 아세테이트, 에틸 히드록시 아세테이트, 부틸 히드록시 아세테이트, 메틸 락테이트, 에틸 락테이트, 프로필 락테이트, 부틸 락테이트, 메틸 3-히드록시 프로피오네이트, 에틸 3-히드록시 프로피오네이트, 프로필 3-히드록시 프로피오네이트, 부틸 3-히드록시 프로피오네이트, 메틸 2-히드록시 3-메틸 부탄산, 메틸 메톡시 아세테이트, 에틸 메톡시 아세테이트, 프로필 메톡시 아세테이트, 부틸 메톡시 아세테이트, 메틸 에톡시 아세테이트, 에틸 에톡시 아세테이트, 프로필 에톡시 아세테이트, 부틸 에톡시 아세테이트, 메틸 프로폭시 아세테이트, 에틸 프로폭시 아세테이트, 프로필 프로폭시 아세테이트, 부틸 프로폭시 아세테이트, 메틸 부톡시 아세테이트, 에틸 부톡시 아세테이트, 프로필 부톡시 아세테이트, 부틸 부톡시 아세테이트, 메틸 2-메톡시 프로피오네이트, 에틸 2-메톡시 프로피오네이트, 프로필 2-메톡시 프로피오네이트, 부틸 2-메톡시 프로피오네이트, 메틸 2-에톡시프로피오네이트, 에틸 2-에톡시프로피오네이트, 프로필 2-에톡시프로피오네이트, 부틸 2-에톡시프로피오네이트, 메틸 2-부톡시프로피오네이트, 에틸 2-부톡시프로피오네이트, 프로필 2-부톡시프로피오네이트, 부틸 2-부톡시프로피오네이트, 메틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-메톡시프로피오네이트, 프로필 3-메톡시프로피오네이트, 부틸 3-메톡시프로피오네이트, 메틸 3-에톡시프로피오네이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 프로필 3-에톡시프로피오네이트, 부틸 3-에톡시프로피오네이트, 메틸 3-프로폭시프로피오네이트, 에틸 3-프로폭시프로피오네이트, 프로필 3-프로폭시프로피오네이트, 부틸 3-프로폭시프로피오네이트, 메틸 3-부톡시프로피오네이트, 에틸 3-부톡시프로피오네이트, 프로필 3-부톡시프로피오네이트 및 부틸 3-부톡시프로피오네이트; 옥시이소부티르산 에스테르, 예를 들어 메틸-2-히드록시이소부티레이트, 메틸 α-메톡시이소부티레이트, 에틸 메톡시이소부티레이트, 메틸 α-에톡시이소부티레이트, 에틸 α-에톡시이소부티레이트, 메틸 β-메톡시이소부티레이트, 에틸 β-메톡시이소부티레이트, 메틸 β-에톡시이소부티레이트, 에틸 β-에톡시이소부티레이트, 메틸 β-이소프로폭시이소부티레이트, 에틸 β-이소프로폭시이소부티레이트, 이소프로필 β-이소프로폭시이소부티레이트, 부틸 β-이소프로폭시이소부티레이트, 메틸 β-부톡시이소부티레이트, 에틸 β-부톡시이소부티레이트, 부틸 β-부톡시이소부티레이트, 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 에틸 α-히드록시이소부티레이트, 이소프로필 α-히드록시이소부티레이트 및 부틸 α-히드록시이소부티레이트; 에테르 및 히드록시 둘 모두의 부분을 갖는 용매, 예컨대 메톡시 부탄올, 에톡시 부탄올, 메톡시 프로판올 및 에톡시 프로판올; 및 기타 용매, 예컨대 이염기성 에스테르; 케톤 에테르 유도체, 예컨대 디아세톤 알콜 메틸 에테르; 케톤 알콜 유도체, 예컨대 아세톨 또는 디아세톤 알콜; 락톤, 예컨대 부티로락톤 및 감마-부티로락톤; 아미드 유도체, 예컨대 디메틸아세트아미드 또는 디메틸포름아미드, 아니솔, 및 이의 혼합물을 들 수 있다.
상기 조성물의 또다른 성분은 1 이상의 염기이다.
염기의 예로는 치환되거나 비치환된 구아니딘, 치환되거나 비치환된 아미노피리딘, 치환되거나 비치환된 아미노알킬피리딘, 치환되거나 비치환된 아미노피롤리딘, 치환되거나 비치환된 아세트아미드, 치환되거나 비치환된 인다졸, 치환되거나 비치환된 피라졸, 치환되거나 비치환된 피라진, 치환되거나 비치환된 피리미딘, 치환되거나 비치환된 푸린, 치환되거나 비치환된 이미다졸린, 치환되거나 비치환된 피라졸린, 치환되거나 비치환된 피페라진, 치환되거나 비치환된 아미노모르폴린, 치환되거나 비치환된 아미노알킬모르폴린, 모노-, 디- 또는 트리알킬아민, 치환되거나 비치환된 아닐린, 치환되거나 비치환된 피페리딘 및 모노- 또는 디에탄올아민을 들 수 있다. 상기 치환기의 예로는 아미노기, 아미노알킬기, 알킬아미노기, 아미노아릴기, 아릴아미노기, 알킬기, 알콕시기, 아실기, 아실옥시기, 아릴기, 아릴옥시기, 니트로기, 히드록시기 및 시아노기를 들 수 있다.
염기의 예로는 구아니딘, 1,1-디메틸구아니딘, 1,1,3,3-테트라메틸구아니딘, 2-아미노피리딘, 3-아미노피리딘, 4-아미노피리딘, 2-디메틸아미노피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 2-디에틸아미노피리딘, 2-(아미노메틸)피리딘, 2-아미노-3-메틸피리딘, 2-아미노-4-메틸피리딘, 2-아미노-5-메틸피리딘, 2-아미노-6-메틸피리딘, 3-아미노에틸피리딘, 4-아미노에틸피리딘, 3-아미노피롤리딘, 피페라진, N-(2-아미노에틸)피페라진, N-(2-아미노에틸)피페리딘, 4-아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-피페리디노피페리딘, 2-이미노피페리딘, 1-(2-아미노에틸)피롤리딘, 피라졸, 3-아미노-5-메틸피라졸, 5-아미노-3-메틸-1-p-톨릴피라졸, N-(1-아다만틸)아세트아미드, 피라진, 2-(아미노메틸)-5-메틸피라진, 피리미딘, 2,4-디아미노피리미딘, 4,6-디히드록시피리미딘, 2-피라졸린, 3-피라졸린, N-아미노모르폴린, N-(2-아미노에틸)모르폴린, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운덱-7-엔, 2,4,5-트리페닐이미다졸, 트리(n-부틸)아민, 트리(n-옥틸)아민, N-페닐디에탄올아민, N-히드록시에틸피페리딘, 2,6-디이소프로필아닐린, N-시클로헥실-N'-모르폴리노에틸티오우레아, 헥실아민, 헵틸아민, 옥틸아민, 노닐아민, 데실아민, 아닐린, 2-, 3- 또는 4-메틸아닐린, 4-니트로아닐린, 1- 또는 2-나프틸아민, 에틸렌디아민, 테트라메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민, 4,4'-디아미노-1,2-디페닐에탄, 4,4'-디아미노-3,3'-디메틸디페닐메탄, 4,4'-디아미노-3,3'-디에틸디페닐메탄, 디부틸아민, 디펜틸아민, 디헥실아민, 디헵틸아민, 디옥틸아민, 디노닐아민, 디데실아민, N-메틸아닐린, 피페리딘, 디페닐아민, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 트리프로필아민, 트리부틸아민, 트리펜틸아민, 트리헥실아민, 트리헵틸아민, 트리옥틸아민, 트리노닐아민, 트리데실아민, 메틸디부틸아민, 메틸디펜틸아민, 메틸디헥실아민, 메틸디시클로헥실아민, 메틸디헵틸아민, 메틸디옥틸아민, 메틸디노닐아린, 메틸디데실아민, 에틸디부틸아민, 에틸디펜틸아민, 에틸디헥실아민, 에틸디헵틸아민, 에틸디옥틸아민, 에틸디노닐아민, 에틸디데실아민, 디시클로헥실메틸아민, 트리스[2-(2-메톡시에톡시)에틸]아민, 트리이소프로판올아민, N,N-디메틸아닐린, 2,6-디이소프로필아닐린, 이미다졸, 피리딘, 4-메틸피리딘, 4-메틸미다졸, 비피리딘, 2,2'-디피리딜아민, 디-2-피리딜 케톤, 1,2-디(2-피리딜)에탄, 1,2-디(4-피리딜)에탄, 1,3-디(4-피리딜)프로판, 1,2-비스(2-피리딜)에틸렌, 1,2-비스(4-피리딜)에틸렌, 1,2-비스(2-피리딜옥시)에탄, 4,4'-디피리딜 설파이드, 4,4'-디피리딜 디설파이드, 1,2-비스(4-피리딜)에틸렌, 2,2'-디피콜릴아민, 3,3'-디피콜릴아민, 테트라메틸암모늄 히드록시드, 테트라이소프로필암모늄 히드록시드, 테트라부틸암모늄 히드록시드, 테트라-n-헥실암모늄 히드록시드, 테트라-n-옥틸암모늄 히드록시드, 페닐트리메틸암모늄 히드록시드, 3-트리플루오로메틸페닐트리메틸암모늄 히드록시드, (2-히드록시에틸)트리메틸암모늄 히드록시드(소위 '콜린'), N-메틸피롤리돈, 디메틸이미다졸 등을 들 수 있다.
기타 예로는 아미노산의 N-tert-부톡시카르보닐 유도체, 예컨대 2-아미노프로판산, 2-아미노-5-구아니디노펜탄산, 2-아미노-3-카르바모일프로판산, 2-아미노부탄이산, 2-아미노-3-메르캅토프로판산, 2-아미노-4-카르바모일부탄산, 2-아미노펜탄이산, 아미노에탄산, 2-아미노-3-(1H-이미다졸-4-일)-프로판산, 2-아미노-3-메틸펜탄산, 2-아미노-4-메틸펜탄산, 2,6-디아미노헥산산, 2-아미노-4-(메틸티오)부탄산, 2-아미노-3-페닐프로판산, 피롤리딘-2-카르복실산, 2-아미노-3-히드록시프로판산, 2-아미노-3-히드록시부탄산, 2-아미노-3-(lH-인돌-3-일)-프로판산, 2-아미노-3-(4-히드록시페닐)-프로판산, 2-아미노-3-메틸부탄산 등을 들 수 있다.
앞선 염기의 혼합물, 예를 들어 하기 예에서 제시되는 것이 또한 가능하다.
다양한 기타 첨가제, 예컨대 착색제, 비화학선 염료(non-actinic dye), 줄무늬방지제(anti-striation agent), 가소제, 접착 증진제, 용해 억제제, 코팅 보조제, 광스피드 향상제, 추가 광산 발생제 및 용해도 증대제(예를 들어, 주용매(이의 예로는 글리콜 에테르 및 글리콜 에테르 아세테이트, 발레로락톤, 케톤, 락톤 등을 들 수 있음)의 부분으로서 사용되지 않는 적은 수준의 특정 용매), 및 계면활성제를 용액을 기판 상에 코팅하기 전에 포토레지스트 조성물에 첨가할 수 있다.
제조된 포토레지스트 조성물 용액을 디핑, 분사 및 스핀 코팅을 비롯한 포토레지스트 분야에서 이용되는 임의의 통상적인 방법에 의해 기판에 도포할 수 있다. 스핀 코팅 시, 예를 들어 소정의 사용되는 스피닝 장비의 유형 및 그 스핀 공정에 허용되는 시간의 양에서, 포토레지스트 용액을 고체 함량의 백분율과 관련하여 조절하여 소정 두께의 코팅을 제공할 수 있다. 적합한 기판으로는 규소, 알루미늄, 중합체 수지, 이산화규소, 도핑된 이산화규소, 질화규소, 탄탈, 구리, 폴리규소, 세라믹, 알루미늄/구리 혼합물; 비화갈륨 및 기타 이러한 Ⅲ/V족 화합물을 들 수 있다. 상기 포토레지스트는 또한 반사방지 코팅 상에 코팅될 수 있다.
소정의 절차에 의해 제조되는 포토레지스트 코팅은 규소/이산화규소 웨이퍼에 적용하는 데 특히 적합하며, 예컨대 마이크로프로세서 및 기타 소형화 집적 회고 부품의 제조에 사용된다. 알루미늄/산화알루미늄 웨이퍼를 또한 사용할 수 있다. 상기 기판은 또한 다양한 중합체 수지, 특히 투명 중합체, 예컨대 폴리에스테르를 포함할 수 있다.
이어서, 포토레지스트 조성물 용액을 기판 상에 코팅하고, 상기 기판을 핫플레이트 상에서 약 70 ∼ 약 150℃의 온도에서 약 30 ∼ 약 180 초 동안, 또는 대류식 오븐에서 약 15 ∼ 약 90 분 동안 처리(소성)한다. 상기 온도 처리를 선택하여 포토레지스트 중 잔류 용매의 농도를 감소시키는 동시에, 고체 성분의 실질적인 열분해를 발생시키지 않는다. 일반적으로, 용매의 농도 및 이의 제1 온도를 최소화시키는 것이 바람직하다. 처리(소성)를 실질적으로 모든 용매가 증발하고 두께 반 미크론(마이크로미터) 정도의 얇은 코팅의 포토레지스트 조성물이 상기 기판 상에 존재할 때까지 실시한다. 바람직한 실시양태에서, 상기 온도는 약 95 ∼ 약 120℃이다. 상기 처리는 용매 제거의 변화 비율이 상대적으로 무의미하게 될 때까지 실시한다. 상기 필름 두께, 온도 및 시간 선정은 사용자가 요망하는 포토레지스트 특성뿐만 아니라, 사용되는 장치 및 상업적으로 바람직한 코팅 시간에 따라 다르다. 이어서, 코팅된 기판은 적합한 마스크, 네거티브, 스텐실, 템플레이트 등을 사용하여 형성한 임의의 소정 패턴으로 화학 방사선, 예를 들어 약 100 ∼ 약 300 nm(나노미터) 파장에서의 자외 방사선, x 선, 전자빔, 이온빔 또는 레이저 방사선에 이미지 형성 방식으로 노광시킬 수 있다.
이어서, 상기 포토레지스트는 노광 후 2차 소성 또는 현상 전 열처리를 거친다. 상기 가열 온도는 약 90 ∼ 약 150℃, 더욱 바람직하게는 약 100 ∼ 약 130℃ 범위에 있을 수 있다. 상기 가열은 핫플레이트 상에서 약 30 초 ∼ 약 2 분, 더욱 바람직하게는 약 60 ∼ 약 90 초 동안, 또는 대류식 오븐에 의해 약 30 ∼ 약 45 분 동안 실시할 수 있다.
노광된 포토레지스트 코팅된 기판을 현상액에 침지시켜 이미지 형성 방식으로 노광된 영역을 제거함으로써 현상시키거나 분무 현상 공정으로 현상시킨다. 상기 용액을, 예를 들어 질소 버스트 교반에 의해 교반하는 것이 바람직하다. 상기 기판을 모든 실질적으로 모든 포토레지스트 코팅이 노광된 영역으로부터 용해될 때까지 현상제에 남겨 둔다. 현상제로는 암모늄 또는 알칼리 금속 수산화물의 수용액을 들 수 있다. 한 바람직한 현상제로는 테트라메틸 암모늄 히드록시드의 수용액이 있다. 현상액으로부터 코팅된 웨이퍼를 제거한 후, 임의의 현상 후 열처리 또는 소성을 실시하여 코팅 접착력, 및 에칭 조건 및 기타 물질에 대한 내화학성을 증가시킬 수 있다. 현상 후 열처리는 코팅 연화점 이하의 코팅 및 기판의 오븐 소성 또는 UV 경화 공정을 포함할 수 있다. 공업적 용도에서, 특히 규소/이산화규소 유형의 기판 상의 미세회로 유닛의 제조에서, 현상된 기판은 완충된 불화수소산 염기 에칭액 또는 건식 에칭에 의해 처리할 수 있다. 건식 에칭 이전에, 포토레지스트는 전자빔 경화 처리하여 포토레지스트의 건식 에칭 저항성을 증가시킬 수 있다.
본 발명은 또한 적합한 기판을 포토레지스트 조성물로 코팅하여 기판 상에 포토 이미지를 형성함으로써 반도체 소자를 제조하는 방법을 제공한다. 상기 해당 공정은 적합한 기판을 포토레지스트 조성물로 코팅하고 상기 코팅된 기판을 실질적으로 모든 포토레지스트 용매가 제거될 때가지 열처리하며; 상기 조성물을 이미지 형성 방식으로 노광시키며 이러한 조성물의 이미지 형성 방식으로 노광된 영역을 적합한 현상제로 제거하는 것을 포함한다.
하기 실시예는 본 발명의 제조 및 이용 방법을 예시한다. 그러나, 이러한 실시예는 어떠한 방법으로든 본 발명의 범위를 제한하거나 제약하려는 의도가 아니며, 본 발명의 실현을 위해 배타적으로 이용되어야 하는 조건, 파라미터 또는 수치를 제공하는 것으로 간주되어서는 않된다. 달리 명시되지 않으면, 모든 부 및 백분율은 중량에 의한 것이다.
실시예 A - 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-3-옥소-1-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트)의 합성
교반기, 온도계, 환류 응축기 및 질소 기체 유입용 튜브가 구비된 반응 용기에, 질소 블랭킷 하에서 개시제로서의 디(4-tert-부틸시클로헥실) 퍼옥시디카르보네이트, 테트라히드로푸란 및 하기 단량체: 2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트, 3-옥소-1-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트, 히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트 및 α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트(15/15/40/30의 공급 몰비)를 투입하였다. 반응물을 용액에 완전히 용해시키는 경우, 반응 플라스크를 테트라히드로푸란의 비등 온도로 가열하였다. 반응 혼합물을 질소 분위기 하에 5 시간 동안 환류에서 교반되도록 하였다. 이어서, 열공급원을 제거하고 중합체 용액을 실온으로 냉각되도록 하였다. 메탄올 약 650 ml을 배합기에 투입하고, 테트라히드로푸란 중 중합체 용액 100 ml를 상기 배합기에 투입하고, 상기 배합기를 약 30∼60 초 동안 가동시켰다. 생성된 중합체 현탄액을 소결 유리 깔때기에 투입하였다. 이를 테트라히드로푸란 중 모든 중합체 용액이 가공될 때까지 반복하였다. 상기 현탁액을 건조될 때까지 진공 하에 필터 상에서 건조되도록 하였다. 건조 고체를 계량하고 교반기가 구비된 삼각 플라스크에 이동시켰다. 적절한 양의 테트라히드로푸란을 고체가 있는 상기 플라스크에 첨가하여 고체 함량 30%를 형성하였다. 이어서, 상기 혼합물을 모든 고체가 용해될 때까지 혼합되도록 하였다. 제2 침전이 상기 앞서 기술된 바와 같은 방법으로 메탄올에 의해 실시되었다. 상기 현탄액을 여과시키고 메탄올로 2회 세척하였다. 이어서, 상기 고체를 진공 하에서 건조되도록 하였다. 이를 반복하였으나 메탄올이 아닌 헥산으로 침전을 실시하였다. 상기 현탄액을 여과시키고 진공 하 필터 상에서 건조시켰다. 생성된 중합체 생성물을 60℃의 진공 오븐에서 추가 건조시켰다.
여기서 다른 중합체를 동일한 방식으로 제조할 수 있다.
실시예 B - 트리페닐설포늄 트리스-퍼플루오로메탄 설폰메타이드의 합성
상기 물질을 반응물로서 트리페닐설포늄 퍼플루오로부탄설포네이트 및 리튬 트리스-퍼플루오로메탄 설폰메타이드를 사용하여 미국 공개 특허 출원 2007/0111138호의 실시예 5에 개략되어 있는 절차에 따라 제조할 수 있다.
실시예 C - 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄 설포닐이미드의 합성
상기 물질을 4-히드록시-3,5-디메틸 페닐 디메틸 설포늄 클로라이드 대신에 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 클로라이드를 사용하여 미국 공개 특허 출원 2003/0235782호의 실시예 10에 개략되어 있는 절차에 따라 제조할 수 있다.
실시예 D - 비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트의 합성
상기 물질을 미국 공개 특허 출원 2007/0015084호의 실시예 1에 따라 제조할 수 있다.
실시예 E - 비스(4-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트의 합성
상기 물질을 비스(4-옥틸옥시페닐)요오도늄 안티모나이트 대신에 비스(4-tert부틸페닐)요오도늄 클로라이드를 사용하여 미국 공개 특허 출원 2007/0015084호의 실시예 33에 개략되어 있는 절차에 의해 제조할 수 있다.
제조예 1
0.4725 g의 실시예 A로부터의 공중합체(폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-3-옥소-1-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트)), 30/30/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 31%) 및 페닐디에탄올아민(총 PAG 몰 기준으로 8%), 11.5782 g 의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 2.8447 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.0503 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합하였다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 2
1.8901 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 38.6%), 30/30/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 46.3128 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 11.3788 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.2012 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합하였다. 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 3
0.7875 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 30/30/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 31%) 및 페닐디에탄올아민(총 PAG 몰 기준으로 8%), 19.2970 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 4.7412 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.0838 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 12 시간 이상 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 4
0.7872 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 30/30/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 19.3%) 및 N-(tert-부톡시카르보닐)-L-알라닌 메틸 에스테르(총 PAG 몰 기준으로 19.3%), 19.2970 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 4.7412 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 및 0.0838 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 5
0.7875 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트), 30/30/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 19.3%) 및 페닐디에탄올아민(총 PAG 몰 기준으로 8%), 19.2970 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 4.7412 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.0838 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 6
1.2565 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 트리페닐설포늄 트리스-퍼플루오로메탄 설폰메타이드(중합체 기준으로 142.7 마이크로몰), 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 31%) 및 페닐디에탄올아민(총 PAG 몰 기준으로 8%), 30.8752 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 7.5270 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.1930 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 7
0.9454 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 30/30/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 13%) 및 트리스[2-(2-메톡시에톡시)에틸]아민(총 PAG 몰 기준으로 13%), 23.1564 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 5.6894 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.1006 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 8
0.9519 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트), 60/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 트리페닐설포늄 트리스-퍼플루오로메탄 설폰메타이드/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 13%) 및 N-(tert-부톡시카르보닐)-L-알라닌 메틸 에스테르(총 PAG 몰 기준으로 13%), 23.1564 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 5.6453 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.1448 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 9
1.8901 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 30/30/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 38.6%), 46.3128 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 11.3788 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.2012 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 10
0.9450 g을 폴리(에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 30/30/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 31%) 및 페닐디에탄올아민(총 PAG 몰 기준으로 8%), 23.1564 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 5.6894 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.1006 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 11
0.9469 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 30/30/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert-부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 13%) 및 N-(1-아다만틸)아세트아미드(총 PAG 몰 기준으로 13%), 23.1564 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 5.6894 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.1008 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 12
1.2932 g의 폴리(2-메틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-5-메타크릴로일옥시-2,6-노르보르난카르보락톤-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 15/37.5/7.5 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 트리페닐 설포늄 퍼플루오로부탄 설포네이트/비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/4-메톡시-3,5-디메틸페닐)디메틸 설포늄 퍼플루오로부탄 설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 26%), 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트와 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르(70/30 w/w)의 혼합물 28.6464 g을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 13
0.9450 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 메타크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 30/30/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 31%) 및 페닐디에탄올아민(총 PAG 몰 기준으로 8%), 23.1564 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 5.6894 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.1006 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 14
0.7890 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 30/30/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 시클로(1,3-퍼플루오로프로판 디설폰)이미데이트/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 19.3%) 및 N-(tert-부톡시카르보닐)-L-알라닌 메틸 에스테르(총 PAG 몰 기준으로 19.3%), 19.297 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 4.741 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.084 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 15
0.9522 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 60/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 트리페닐설포늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 20.8%) 및 페닐디에탄올아민(총 PAG 몰 기준으로 5.2%), 23.1564 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 5.6453 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.1448 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 16
1.8179 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 16/40 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 트리페닐설포늄 퍼플루오로부탄 설포네이트/비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 17.5%) 및 트리옥틸아민(총 PAG 몰 기준으로 17.5%), 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트와 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르(70:30 중량비)의 혼합물 17.13 g을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 17
0.9186 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 35%), 30/18/23 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 벤조일메틸도데실메틸설포늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드(중합체 기준으로 10%), 16.8054 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 4.1433 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.0587 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 18
0.0945 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-트리시클로[5,2,1,02,6]데카-8-일 메타크릴레이트), 30/30/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 31%) 및 페닐디에탄올아민(총 PAG 몰 기준으로 8%), 23.1564 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 45.6894 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.1006 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 19
0.9450 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 30/30/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 31%) 및 페닐디에탄올아민(총 PAG 몰 기준으로 8%), 23.1564 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 5.6894 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.1006 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 20
0.9450 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트)[단량체의 공급비 - 20/10//30/40], 30/30/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 31%) 및 페닐디에탄올아민(총 PAG 몰 기준으로 8%), 23.1564 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 5.6894 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.1006 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 21
0.7200 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트)[단량체의 공급비 - 15/15/30/40], 30/30/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 31%) 및 페닐디에탄올아민(총 PAG 몰 기준으로 8%), 19.3570 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 4.7634 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.0766 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
제조예 22
0.7875 g의 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-5-아크릴로일옥시-2,6-노르보르난카르보락톤), 30/30/47 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 31%) 및 페닐디에탄올아민(총 PAG 몰 기준으로 8%), 19.2970 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 4.7412 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.0838 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
비교 제조예 1
0.9186 g의 폴리(2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 2,6-디이소프로필아닐린(총 PAG 몰 기준으로 35%), 30/18/23 비율(중합체 기준의 마이크로몰)의 비스(p-tert부틸 페닐)요오도늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드/비스(트리페닐설포늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트/비스(p-tert부틸페닐요오도늄) 퍼플루오로부탄-1,4-디설포네이트, 벤조일메틸도데실메틸설포늄 퍼플루오로에탄설포닐이미드(중합체 기준으로 10%), 16.8054 g의 메틸 α-히드록시이소부티레이트, 4.1433 g의 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 및 0.0587 g의 감마 발레로락톤을 주위 조건에서 60 ml의 무금속 플라스틱 병으로 혼합시켰다. 상기 혼합물을 적어도 12 시간 동안 롤링 처리하고 0.2 μm 필터를 통해 여과시켰다. 맑은 용액이 형성되었다.
상기 제조를 하기 절차를 이용하여 평가하였다: 바닥부 반사방지 코팅(B.A.R.C.)으로 코팅된 규소 기판을 상기 규소 기판 상에 바닥부 반사방지 코팅액(뉴저지주 섬머빌 소재의 에이제트 일렉트로닉 머트리얼즈 코포레이션(AZ Electronic Materials Corporation)으로부터 이용가능한 B.A.R.C., AZ® ArF-38)을 스핀 코팅하고 225℃에서 90 초 동안 소성하여 제조하였다. B.A.R.C. 필름 두께는 87 nm였다. 이어서, 상기 제조한 포토레지스트 용액을 B.A.R.C. 코팅된 규소 기판 상에 코팅하였다. 스핀 속도는 상기 포토레지스트 필름 두께가 120 nm가 되도록 조절하고, 90∼100℃[예를 들어, 표 1 참조]/60 초에서 소프트 소성하며, 6% 하프톤 마스크를 이용하여 Nikon 306D 0.85NA & 쌍극 조명으로 노광시켰다. 노광된 웨이퍼를 95∼110℃[예를 들어 표 1 참조]/60 초로 노광후 소성하고, 테트라메틸 암모늄 히드록시드의 2.38 중량% 수용액을 이용하여 30 초 동안 현상시켰다. 이어서, 라인 및 스페이스 패턴을 AMAT CD SEM(임계 치수 주사 전자 현미경) 상에서 측정하였다. 제조예에 대한 평가 데이타를 하기 표 1에 나타내었다.
표 1
Figure pct00011
본 발명의 상기 설명은 본 발명을 예시 및 기술한다. 또한, 상기 개시는 본 발명의 특정 실시양태만을 나타내고 기술하나, 이는 상기 언급한 바와 같이 다양한 기타 조합, 수정예 및 환경에서 적용할 수 있고, 상기 교시 및/또는 관련 업계의 기술 또는 지식에 적합하게 본 원에서 나타낸 바와 같은 본 발명의 개념 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능한 것으로 이해되어야 한다. 상기 기술된 실시양태는 또한 본 발명의 실행의 공지된 최적 형태를 설명하고 당업자가 본 발명을 상기 또는 기타 실시양태로 및 본 발명의 특정 적용 또는 용도에 의해 요구되는 다양한 변경예로 이용할 수 있도록 하려는 의도이다. 따라서, 상기 설명은 본 원에서 개시된 형태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한, 첨부된 특허청구범위가 대안 실시양태를 포함하는 것으로 간주되도록 의도된다.

Claims (15)

  1. (i) 하기 단위로부터 선택되는 2 이상의 반복 단위:
    Figure pct00012

    [상기 식 중, R61, R62, R63 및 R65 각각은 개별적으로 수소 또는 C1-4 알킬로부터 선택되고; R64는 C1-4 알킬임]; 및
    (ⅱ) 하기 단위로부터 선택되는 1 이상의 추가 반복 단위:
    Figure pct00013

    [상기 식 중, R61, R62, R63, R64 및 R65 각각은 개별적으로 수소 또는 C1-4 알킬로부터 선택되고 n은 0∼3의 수임]
    를 포함하는 중합체.
  2. 제1항에 있어서, (i)에 대해서 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이고, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이고, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이고, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물, 또는 이들의 혼합물인 것인 중합체.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, (ⅱ)에 대해서 상기 추가 반복 단위는 화학식 (8)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고 R63는 메틸임); 화학식 (8)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (9)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (9)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고 R63는 메틸임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (11)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (11)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (12)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고 R63는 메틸임); 화학식 (12)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소임); 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (14)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R64는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (14)의 화합물(여기서, R61, R62, R63 및 R64는 수소임); 화학식 (15)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R65는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (15)의 화합물(여기서, R61, R62, R63 및 R65는 수소임); 화학식 (16)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (16)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (17)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (17)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (18)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (18)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (19)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (19)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임) 및 이의 혼합물로부터 선택되는 것인 중합체.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, (ⅱ)에 대해서 상기 추가 반복 단위는 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (11)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (12)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (14)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R64는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (15)의 화합물(여기서, R61, R62, R63 및 R65는 수소임) 및 이의 혼합물로부터 선택되는 것인 중합체.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, (ⅱ)에 대해서 상기 추가 반복 단위는 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임) 및 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임) 및 화학식 (15)의 화합물(여기서, R61, R62, R63 및 R65는 수소임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임), 화학식 (11)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임) 및 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임), 화학식 (12)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 또는 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임), 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (14)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R64는 수소이고 R63는 메틸임)의 혼합물인 것인 중합체.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-메틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-5-메타크릴로일옥시-2,6-노르보르난카르보락톤-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-트리시클로[5,2,1,02,6]데카-8-일 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-5-아크릴로일옥시-2,6-노르보르난카르보락톤), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-트리시클로[5,2,1,02,6]데카-8-일 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-5-아크릴로일옥시-2,6-노르보르난카르보락톤), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-트리시클로[5,2,1,02,6]데카-8-일 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-5-아크릴로일옥시-2,6-노르보르난카르보락톤), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-5-아크릴로일옥시-2,6-노르보르난카르보락톤), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-트리시클로[5,2,1,02,6]데카-8-일 메타크릴레이트), 폴리(에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-5-아크릴로일옥시-2,6-노르보르난카르보락톤), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-트리시클로[5,2,1,02,6]데카-8-일 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-5-아크릴로일옥시-2,6-노르보르난카르보락톤), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-5-아크릴로일옥시-2,6-노르보르난카르보락톤), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-아다만틸 메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-트리시클로[5,2,1,02,6]데카-8-일 메타크릴레이트), 폴리(에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-옥소아다만틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트, 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-α-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-에틸시클로펜틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트-코-2-아다만틸 메타크릴레이트), 폴리(2-에틸-2-디아만틸메타크릴레이트-코-2-아다만틸옥시메틸 메타크릴레이트-코-히드록시-1-아다만틸 아크릴레이트-코-β-감마-부티로락톤 메타크릴레이트), 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군으로부터 선택되는 것인 중합체.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 중합체를 포함하는 포토레지스트 조성물.
  8. 제7항에 있어서, 1 이상의 광산 발생제를 추가로 포함하는 것인 조성물.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서, 1 이상의 염기를 추가로 포함하는 것인 조성물.
  10. 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중합체에 대해서 상기 반복 단위(i)는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이고, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이고, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이고, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (1)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (3)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (4)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (5)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물이거나; 또는 상기 반복 단위는 화학식 (2)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R64는 에틸임), 화학식 (6)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸이며, R65는 수소임) 및 화학식 (7)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63 및 R64는 메틸임)의 혼합물, 또는 이들의 혼합물인 것인 조성물.
  11. 제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중합체에 대해서 상기 추가 반복 단위(ⅱ)는 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (11)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임); 화학식 (12)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (14)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R64는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (15)의 화합물(여기서, R61, R62, R63 및 R65는 수소임) 및 이의 혼합물로부터 선택되는 것인 조성물.
  12. 제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중합체에 대해서 상기 추가 반복 단위(ⅱ)는 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임) 및 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임) 및 화학식 (15)의 화합물(여기서, R61, R62, R63 및 R65는 수소임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임), 화학식 (11)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임) 및 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임), 화학식 (12)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임); 또는 화학식 (10)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R63는 수소임), 화학식 (13)의 화합물(여기서, R61 및 R62는 수소이고, R63는 메틸임) 및 화학식 (14)의 화합물(여기서, R61, R62 및 R64는 수소이고 R63는 메틸임)의 혼합물인 것인 조성물.
  13. (a) 제7항 내지 제12항 중 어느 한 항의 포토레지스트 조성물로 기판을 코팅하는 단계; (b) 상기 기판을 소성하여 용매를 실질적으로 제거하는 단계; (c) 상기 포토레지스트 코팅을 이미지 형성 방식으로 노광시키는 단계; (d) 상기 포토레지스트 코팅을 노광후 소성하는 단계; 및 (e) 상기 포토레지스트 코팅을 알칼리 수용액으로 현상시키는 단계를 포함하는 포토레지스트 이미지 형성 방법.
  14. (a) 제7항 내지 제12항 중 어느 한 항의 포토레지스트 조성물을 제공하는 단계; (b) 단계 (a)의 포토레지스트 조성물로 적합한 기판을 코팅하는 단계; 및 (c) 단계 (b)의 코팅된 기판을 포토레지스트 용매 모두가 실질적으로 제거될 때까지 열처리하는 단계; 상기 포토레지스트 조성물을 이미지 형성 방식으로 노광시키고 이러한 조성물의 이미지 형성 방식으로 노광된 영역을 적합한 현상제로 제거하는 단계를 포함하는, 기판 상에 이미지를 형성하는 것에 의한 마이크로전자 소자의 제조 방법.
  15. 포토레지스트 조성물의 성분으로서 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 중합체의 용도.
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