KR20100058580A - 기생 부하가 최소화된 광학 소자 모듈 - Google Patents

기생 부하가 최소화된 광학 소자 모듈 Download PDF

Info

Publication number
KR20100058580A
KR20100058580A KR1020107006211A KR20107006211A KR20100058580A KR 20100058580 A KR20100058580 A KR 20100058580A KR 1020107006211 A KR1020107006211 A KR 1020107006211A KR 20107006211 A KR20107006211 A KR 20107006211A KR 20100058580 A KR20100058580 A KR 20100058580A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
contact
optical element
link section
contact surface
axis
Prior art date
Application number
KR1020107006211A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101490191B1 (ko
Inventor
옌스 쿠클러
울리히 베버
디륵 샤프
Original Assignee
칼 짜이스 에스엠테 아게
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 칼 짜이스 에스엠테 아게 filed Critical 칼 짜이스 에스엠테 아게
Publication of KR20100058580A publication Critical patent/KR20100058580A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101490191B1 publication Critical patent/KR101490191B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G02B7/021—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses for more than one lens
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Lens Barrels (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

광학 소자를 포함하는 광학 소자 유닛 및 지지 구조물을 포함하는 광학 소자 모듈이며, 지지 구조물은 광학 소자 유닛을 지지하며, 지지 장치 및 지지 장치에 장착된 접촉 장치를 포함하는, 광학 소자 모듈이 제공된다. 접촉 장치는 접촉 장치의 제1 접촉 표면을 거쳐 제1 방향으로 광학 소자 유닛 상으로 결과적인 유지력을 가하고, 제1 접촉 표면은 광학 소자 유닛의 제2 접촉 표면과 접촉한다. 접촉 장치는 제1 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 제2 방향을 따라 연장하며, 제1 접촉 표면과 지지 장치 사이에 동역학적으로 직렬로 배열된 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 포함한다. 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션은 결과적인 유지력으로부터 생성되는 굽힘 모멘트에 응답하여 탄성 변형된다. 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션은 기준 평면의 양 측면 상에 배열되고, 기준 평면은 결과적인 유지력을 포함하며, 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어진다.

Description

기생 부하가 최소화된 광학 소자 모듈 {OPTICAL ELEMENT MODULE WITH MINIMIZED PARASITIC LOADS}
본 발명은 노광 공정, 특히 마이크로리소그래피 시스템 내에서 사용될 수 있는 광학 노광 장치 내에서 사용될 수 있는 광학 소자 모듈에 관한 것이다. 본 발명은 또한 그러한 광학 소자 모듈을 포함하는 광학 결상 배열체에 관한 것이다. 본 발명은 또한 유지력을 사용하여 광학 소자 유닛을 유지하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 마이크로전자 장치, 특히 반도체 장치를 제조하기 위한 광리소그래피 공정의 맥락에서, 또는 그러한 광리소그래피 공정 중에 사용되는, 마스크 또는 레티클과 같은 장치를 제조하는 맥락에서 사용될 수 있다.
전형적으로, 반도체 장치와 같은 마이크로전자 장치를 제조하는 맥락에서 사용되는 광학 시스템은 광학 시스템의 광 경로 내에서, 렌즈, 거울, 회절 격자 등과 같은 광학 소자를 포함하는 복수의 광학 소자 모듈을 포함한다. 그러한 광학 소자는 보통 마스크, 레티클 등에 형성된 패턴을 조명하기 위해 그리고 이러한 패턴의 상을 웨이퍼와 같은 기판 상으로 전사하기 위해 노광 공정에서 협동한다. 광학 소자들은 보통 구분된 광학 소자 모듈 그룹 내에 유지될 수 있는 하나 이상의 기능적으로 구분된 광학 소자 그룹 내에서 조합된다.
그러한 광학 시스템에서, 전형적으로, 그러한 광학 소자 모듈 그룹은 흔히 전형적이지만 필수적이지는 않게 회전 대칭인 하나 이상의 광학 소자를 유지하는 광학 소자 모듈의 스택으로부터 형성된다. 이러한 광학 소자 모듈은 보통 하나 이상의 광학 소자를 각각 유지하는 하나 이상의 광학 소자 홀더를 지지하는 외부의 대체로 링 형상인 지지 구조물을 포함한다.
반도체 장치의 계속되는 소형화로 인해, 그러한 반도체 장치를 제조하기 위해 사용되는 광학 시스템의 향상된 해상도에 대한 계속적인 필요가 있다. 향상된 해상도에 대한 이러한 필요는 명백히 광학 시스템의 증가된 결상 정확도에 대한 필요를 요구한다. 또한, 고품질 반도체 장치를 신뢰할 수 있게 얻기 위해, 고도의 결상 정확도를 보이는 광학 시스템을 제공하는 것도 필수적이다. 그러한 고도의 정확도를 전체 노광 공정에 걸쳐 그리고 시스템의 수명에 걸쳐 유지하는 것도 필수적이다. 결과적으로, 노광 공정에서 협동하는 광학 시스템의 구성요소들은 고품질 노광 공정을 보장하는, 상기 광학 시스템 구성요소들 사이의 소정의 공간적 관계를 제공하고 유지하는 소정의 방식으로 지지되어야 한다.
광학 시스템의 작동 중에 발생할 수 있는 결상 오류를 감소시키기 위해, 광학 시스템의 광학 소자들 중 하나 이상의 위치를 능동 제어하는 것이 공지되어 있다. 그러한 광학 시스템은 예를 들어, 미국 특허 제5,822,133호(미즈노(Mizuno) 외)로부터 공지되어 있고, 이의 전체 내용은 본원에 참조로 포함된다.
그러나, 그러한 능동 위치 제어는 예컨대, 각각의 광학 소자 내로 그의 지지부를 거쳐 도입되는 기생 부하로 인해 또는 광학 시스템의 작동 중에 발생하는 열 효과로 인해, 이미 존재하거나 광학 시스템의 작동 중에 발생할 수 있는 결상 오류의 일부를 제거하거나 보상하기에 충분하지 않을 수 있다. 따라서, 광학 소자 중 일부를 능동적으로 변형시키는 것, 즉 광학 소자 중 일부의 기하학적 형상을 능동적으로 제어하는 것도 제안된다.
그러나, 기생 부하의 성질, 특히 각각의 광학 소자 내로 도입되는 기생 부하의 분포에 따라, 그러한 기생 부하로부터 생성되는 결상 오류를 감소시키기 위한 그러한 고비용의 방식도 만족스럽지 않을 수 있다. 예를 들어, 외측 원주부에서의 개별 유지 위치에 유지되는 전형적인 광학 소자에서, 도입되는 높은 기생 부 및 이들 유지 위치 중 하나만으로 인한 결상 오류는 광학 소자의 그러한 능동 변형에 의해 거의 처리 및 보상되지 않는다.
따라서, 지지 구조물을 거쳐 광학 소자 내로 도입되는 그러한 기생 부하의 부정적인 효과를 적어도 대체로 회피하기 위해, 광학 소자와 접촉하는 지지 구조물의 접촉 요소 또는 광학 소자를 유지하는 결과적인 홀더(광학 소자 및 이러한 홀더를 포함하는 광학 소자 유닛 내에 존재함)의 설계에 특별한 초점이 맞춰져야 한다.
그러한 광학 시스템의 맥락에서 사용되는 광학 소자에 대한 전형적인 지지 구조물은 예를 들어, 미국 특허 제7,154,684 B2호(시바자키(Shibazaki))로부터 공지되어 있고, 이의 전체 내용은 본원에 참조로 포함된다. 이러한 문헌으로부터 공지된 지지 구조물은 유지되어야 하는 렌즈의 외측 원주부에 분포된 복수의 클램핑 배열체를 구비한 클램핑 시스템을 포함한다. 각각의 클램핑 배열체는 렌즈의 방사상 돌출부의 렌즈 접촉 표면이 렌즈 상에 작용하는 중력을 상쇄하는 유지력을 가하도록 위치되는 (렌즈의 광학 축의 방향으로 향하는) 렌즈 시트 표면(lens seat surface)을 제공하는 렌즈 시트 요소를 포함한다. 또한, 각각의 클램핑 배열체는 각각의 렌즈 시트 요소에 연결되어 (상기 렌즈 시트 표면에 대향한 돌출부의 측면 상에 위치된) 상기 방사상 돌출부의 추가의 접촉 표면 상에 클램핑력을 가하는 탄성 클램핑 요소 배열체를 포함한다. 클램핑력은 광학 시스템의 정상 작동 상태 하에서 예상되는 임의의 동적 부하(dynamic load) 하에서 렌즈를 한정된 위치에 유지하는 역할을 한다.
그러한 공지된 전형적인 클램핑 배열체에서, 무엇보다도 렌즈 내로 도입되는 기생 부하가 렌즈를 렌즈 시트 상에 위치시킬 때 렌즈 시트 표면과 렌즈의 관련 접촉 표면 사이의 초기 오정렬로부터 그리고 렌즈를 클램핑할 때 클램핑 배열체의 접촉 표면과 렌즈의 관련 접촉 표면 사이의 초기 오정렬로부터 생성될 수 있다. 양 경우에, 그러한 초기 오정렬은 각각의 접촉 표면의 제조 부정확성으로부터 생성될 수 있다.
그러한 기생 부하를 감소시키기 위해, 미국 특허 제7,154,684 B2호(시바자키)로부터 공지된 기지 구조물은 한편으로 렌즈 시트 표면 아래에 위치된 탄성 힌지 요소를 거쳐, 접촉 표면들 사이의 그러한 오정렬이 감소될 수 있도록 렌즈 시트 표면의 경사 운동을 허용하여, 더 균등한 표면 접촉으로 이어진다. 그러나, 이러한 보상 운동에도 불구하고, 렌즈와 렌즈 시트 사이의 마찰 접촉으로 인해 렌즈 상에 작용하는 상당량의 기생력(parasitic load)이 여전히 있을 수 있으며, 이는 소정의 단계에서 정합 구성요소들 사이의 추가의 보상 운동을 방지하여, 정합 구성요소의 탄성 변형, 및 결과적으로 정합 구성요소 내의 예비 응력 형태의 기생 부하로 이어진다.
다른 한편으로, 클램핑 배열체에 관한 한, 그러한 기생 부하 및 불균등한 부하 분포를 각각 감소시키기 위해, 2-부품 설계가 (유리 재료 내의 높은 헤르츠식 접촉 응력을 갖는 선 접촉 시의) 중간 요소와 접촉하는 지붕형 접촉 섹션을 구비한 자유 단부를 갖는 탄성 클램핑 아암과 함께 선택되고, 중간 요소는 결국 렌즈와 접촉한다. 위치를 적절하게 한정하기 위해, 중간 요소는 클램핑 아암과 지지 구조물 사이에 클램핑되는 판스프링 요소(leaf spring element)를 거쳐 지지 구조물에 연결된다. 이러한 배열체는 클램핑 아암이 클램핑력을 제공하기 위해 변형될 때 발생하는 탄성 클램핑 아암과 렌즈의 접촉 표면 사이의 회전을 보상하도록 의도된다. 그러나, 이러한 배열체는 시스템 내에 추가의 부정확성을 도입하고 광학 모듈의 제조를 더 복잡하게 하는 여러 부품을 구비한 상당히 복합한 설계라는 단점을 갖는다. 또한, 추가의 중간 요소는 중간 요소의 제조 부정확성으로 인해 렌즈 내로 도입될 수 있는 기생 부하의 추가의 공급원을 제시한다.
미국 특허 제7,154,684 B2호로부터 공지된 지지 구조물은 또한 굴곡부의 단면이 2개의 방향으로의 굽힘으로 인해 2개의 치수(dimension)에서 얇게 유지되어야 하기 때문에, 충격 부하(shock load) 중의 굴곡부 내의 높은 응력의 단점을 갖는다. 따라서, 미국 특허 제7,154,684 B2호로부터 공지된 지지 구조물은 무거운 광학 소자에 대해 적합하지 않다.
따라서, 본 발명의 목적은 상기 단점을 적어도 일정 정도 극복하고, 광학 소자 내로 도입되는 기생 부하 및 접촉 응력의 신뢰할 수 있는 감소를 제공하는 광학 소자 모듈 및 광학 소자 유닛을 유지하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 추가의 목적은 광학 소자 내로 도입되는 기생 부하의 간단한 감소를 허용하는 광학 소자 모듈 및 광학 소자 유닛을 유지하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 추가의 목적은 광학 장치의 작동 중에 높은 결상 정확도를 제공하기 위해 노광 공정에서 사용되는 광학 장치 내에서 필요한 노력을 감소시키는 것이다.
이들 목적은 (광학 소자를 포함하는) 광학 소자 유닛과 접촉하는 지지 구조물의 각각의 접촉 장치가 탄성 변형으로 인한 접촉 장치의 탄성 변형 가능한 부품이 실제 접촉력에 의해 유도되고 접촉 장치와 광학 소자 유닛 사이의 마찰 접촉으로 인해 제한되는 접촉 표면의 실제 운동에 가능한 한 가까운 각각의 접촉 장치의 접촉 표면의 운동(특히, 각각 운동의 유형 및 운동의 순간 중심)을 한정하는 방식으로 배열된다면, 지지 구조물을 거쳐 광학 소자 내로 도입되는 기생 부하의 간단하고 효과적인 감소가 가능하다는 개시 내용에 기초한다.
바꾸어 말하면, 본 발명은 (이론적인) 무마찰 접촉에 응답하여 접촉 장치에 의해 형성된 접촉 장치의 접촉 표면의 운동을 (실제) 마찰 접촉으로부터 생성되는 실제 운동에 (가능한 한) 정합시키는 것을 목표로 한다. 그렇지 않으면, 이론적인 운동과 실제 운동 사이의 그러한 편차는 접촉 대응물 중 적어도 하나의 탄성 변형에 의해 보상될 것이며, 이는 각각의 접촉 대응물 내의 예비 응력과, 광학 소자 내로 도입되는 기생 부하로 이어진다.
이러한 목적으로, 접촉 장치의 탄성 변형 가능한 부품은 2개의 접촉 표면들 사이의 적절한 접촉 시에, 접촉 표면에 대해 평행한 경사 축에 대한 경사 모멘트가 적어도 최소화되어, 이론적인 운동과 실제 운동 사이의 편차의 일반적인 감소로 이어지도록 설계 및 배열될 수 있다. 또한, 접촉 장치의 탄성 변형 가능한 부품은 접촉 표면들 사이의 초기 (예컨대, 각도) 오정렬 시에, 운동의 순간 중심이 양 접촉 표면에 가능한 한 가까이 위치되어, 이론적인 운동과 실제 운동 사이의 편차의 감소로 이어지도록 설계 및 배열될 수 있다.
따라서, 본 발명의 제1 양태에 따르면, 광학 소자를 포함하는 광학 소자 유닛 및 지지 구조물을 포함하는 광학 소자 모듈이며, 지지 구조물은 광학 소자 유닛을 지지하며, 지지 장치 및 지지 장치에 장착된 접촉 장치를 포함하는, 광학 소자 모듈이 제공된다. 접촉 장치는 접촉 장치의 제1 접촉 표면을 거쳐 제1 방향으로 광학 소자 유닛 상으로 결과적인 유지력(resulting holding force)을 가하고, 제1 접촉 표면은 광학 소자 유닛의 제2 접촉 표면과 접촉한다. 접촉 장치는 제1 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 제2 방향을 따라 연장하며, 제1 접촉 표면과 지지 장치 사이에서 동역학적으로 직렬로 배열된 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 포함한다. 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션은 결과적인 유지력으로부터 생성되는 굽힘 모멘트에 응답하여 탄성 변형된다. 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션은 기준 평면의 양 측면 상에 배열되고, 기준 평면은 결과적인 유지력을 포함하며 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어진다.
본 발명의 제2 양태에 따르면, 광학 소자를 포함하는 광학 소자 유닛 및 지지 구조물을 포함하는 광학 소자 모듈이며, 지지 구조물은 광학 소자 유닛을 지지하며, 지지 장치 및 지지 장치에 장착된 접촉 장치를 포함하는, 광학 소자 모듈이 제공된다. 접촉 장치는 접촉 장치의 제1 접촉 표면을 거쳐 광학 소자 유닛 상으로 결과적인 유지력을 가하고, 제1 접촉 표면은 광학 소자 유닛의 제2 접촉 표면과 접촉하고, 결과적인 유지력은 제1 방향으로 연장하는 작용선을 갖는다. 접촉 장치는 제1 접촉 표면과 지지 장치 사이에 배열되며, 제1 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 제2 방향을 따라 연장하는 적어도 하나의 링크 섹션을 포함한다. 적어도 하나의 링크 섹션은 결과적인 유지력에 응답하여, 굽힘 평면에 대해 횡방향으로 이어지는 굽힘 축에 대한 굽힘 모멘트를 경험하고, 굽힘 평면은 제1 방향 및 제2 방향에 의해 형성된다. 적어도 하나의 링크 섹션은 제2 방향을 따라, 굽힘 모멘트가 0의 굽힘 모멘트의 지점에서 양의 값으로부터 음의 값으로 변하도록 배열되고, 0의 굽힘 모멘트의 지점은 제2 방향을 따라, 기준 평면에 가까운 위치와 실질적으로 기준 평면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되고, 기준 평면은 결과적인 유지력의 작용선 및 굽힘 축의 방향에 의해 형성된다.
본 발명의 제3 양태에 따르면, 광학 소자를 포함하는 광학 소자 유닛 및 지지 구조물을 포함하는 광학 소자 모듈이며, 지지 구조물은 광학 소자 유닛을 지지하며, 접촉 장치 및 지지 장치를 포함하는, 광학 소자 모듈이 제공된다. 접촉 장치는 접촉 요소, 지지 장치에 연결된 장착 요소, 및 제1 단부에서 접촉 요소에 그리고 제2 단부에서 장착 요소에 고정식으로 연결된 적어도 하나의 링크 요소를 포함한다. 접촉 요소는 장착 요소가 지지 장치에 장착될 때 광학 소자 유닛의 제2 접촉 표면 상에 접촉 압력을 가하는 제1 접촉 표면을 포함한다. 적어도 하나의 링크 요소는 접촉 압력이 제2 접촉 표면에 걸쳐 실질적으로 균등한 분포를 갖는 방식으로 변형 가능하다.
본 발명의 제4 양태에 따르면, 광학 소자를 포함하는 광학 소자 유닛 및 광학 소자 유닛을 지지하는 지지 구조물을 포함하는 광학 소자 모듈이 제공된다. 지지 구조물은 적어도 하나의 유지 장치의 제1 접촉 표면을 거쳐 유지력 방향으로 광학 소자 유닛 상으로 유지력을 가하는 적어도 하나의 접촉 장치를 포함하고, 제1 접촉 표면은 광학 소자 유닛의 제2 접촉 표면과 접촉한다. 적어도 하나의 유지 장치는 제1 접촉 표면의 경사 운동의 경사 축을 형성하도록 배열되고, 경사 운동은 유지력 방향을 따라 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력으로 인한 경사 모멘트로부터 생성된다. 경사 축은 제1 접촉 표면에 가까운 위치와 실질적으로 제1 접촉 표면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치된다.
본 발명의 제5 양태에 따르면, 광학 소자를 포함하는 광학 소자 유닛 및 지지 구조물을 포함하는 광학 소자 모듈이며, 지지 구조물은 지지 장치 및 지지 장치에 연결된 접촉 장치를 포함하는, 광학 소자 모듈이 제공된다. 접촉 장치는 접촉 장치의 제1 접촉 표면을 거쳐 유지력 방향으로 광학 소자 유닛 상으로 유지력을 가하고, 제1 접촉 표면은 광학 소자 유닛의 제2 접촉 표면과 접촉한다. 접촉 장치는 제1 접촉 표면과 지지 장치 사이에 동역학적으로 직렬로 배열된 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 포함하고, 제1 링크 섹션의 제1 단부는 제1 접촉 표면에 인접하여 위치되고, 제1 링크 섹션의 제2 단부는 제2 링크 섹션에 인접하여 위치된다. 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션은 유지력 방향을 따라 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력에 응답하여 휨을 겪도록 배열되고, 제1 링크 섹션의 휨은 적어도 제1 단부의 제1 행정이 제2 링크 섹션의 휨으로부터 생성되는 적어도 제1 단부의 제2 행정과 반대가 되도록 되어 있고, 제1 및 제2 행정은 제1 방향을 따른 병진 이동 행정, 제2 방향을 따른 병진 이동 행정, 및 제1 및 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 축에 대한 회전 행정 중 하나이다.
본 발명의 제6 양태에 따르면, 조명 장치, 마스크를 수용하도록 구성된 마스크 장치, 광학 투영 장치, 및 기판을 수용하도록 구성된 기판 장치를 포함하는 광학 결상 장치가 제공된다. 조명 장치는 마스크 상에 형성된 패턴을 조명하도록 구성되고, 광학 투영 장치는 패턴의 상을 기판 상으로 투영하도록 구성된다. 조명 장치 및 광학 투영 장치 중 적어도 하나가 본 발명에 따른 광학 소자 모듈을 포함한다.
본 발명의 제7 양태에 따르면, 유지력을 사용하여 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이며, 광학 소자를 포함하는 광학 소자 유닛, 지지 장치, 및 작용선을 따라 광학 소자 유닛 상에 제1 방향으로 유지력을 가하는 접촉 장치를 제공하는 단계로서, 접촉 장치는 광학 소자 유닛과 지지 장치 사이에 동역학적으로 직렬로 배열되고 제1 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 제2 방향을 따라 연장하는 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 포함하는, 광학 소자 유닛, 지지 장치 및 접촉 장치 제공 단계와, 유지력을 포함하고 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 기준 평면의 양 측면 상에 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 배열하는 단계와, 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션이 유지력에 응답하여 탄성 변형되는 방식으로 유지력을 가하는 단계를 포함하는 방법이 제공된다.
본 발명의 제8 양태에 따르면, 유지력을 사용하여 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이며, 광학 소자를 포함하는 광학 소자 유닛, 지지 장치, 및 작용선을 따라 광학 소자 유닛 상에 제1 방향으로 유지력을 가하는 접촉 장치를 제공하는 단계로서, 접촉 장치는 광학 소자 유닛과 지지 장치 사이에 배열되며 제1 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 제2 방향을 따라 연장하는 적어도 하나의 링크 섹션을 포함하는, 광학 소자 유닛, 지지 장치 및 접촉 장치 제공 단계와, 적어도 하나의 링크 섹션을 배열하고 유지력을 가하는 단계를 포함하고, 적어도 하나의 링크 섹션을 배열하고 유지력을 가하는 단계는, 적어도 하나의 링크 섹션이 굽힘 평면에 대해 횡방향으로 이어지는 굽힘 축에 대한 굽힘 모멘트를 경험하고, 굽힘 평면은 제1 방향 및 제2 방향에 의해 형성되는 방식과, 굽힘 모멘트가 제2 방향을 따라, 0의 굽힘 모멘트의 지점에서 양의 값으로부터 음의 값으로 변하고 0의 굽힘 모멘트의 지점은 제2 방향을 따라, 기준 평면에 가까운 위치와 실질적으로 기준 평면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되고 기준 평면은 결과적인 유지력의 작용선 및 굽힘 축의 방향에 의해 형성되는 방식으로, 수행되는 방법이 제공된다.
본 발명의 제9 양태에 따르면, 접촉 압력을 사용하여 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이며, 광학 소자를 포함하는 광학 소자 유닛, 지지 장치, 및 광학 소자 유닛 상에 접촉 압력을 가하는 접촉 장치를 제공하는 단계로서, 접촉 장치는 접촉 요소, 지지 장치에 연결된 장착 요소, 및 탄성 변형 가능하고 제1 단부에서 접촉 요소에 그리고 제2 단부에서 장착 요소에 고정식으로 연결된 적어도 하나의 링크 요소를 포함하는, 광학 소자 유닛, 지지 장치 및 접촉 장치 제공 단계와, 접촉 압력이 제2 접촉 표면에 걸쳐 실질적으로 균등한 분포를 갖는 방식으로 적어도 하나의 링크 요소를 배열하고 접촉 요소를 거쳐 접촉 압력을 가하는 단계를 포함하는 방법이 제공된다.
본 발명의 제10 양태에 따르면, 유지력을 사용하여 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이며, 광학 소자를 포함하는 광학 소자 유닛 및 광학 소자 유닛 상에 유지력 방향으로 유지력을 가하는 유지 장치를 제공하는 단계로서, 유지 장치는 광학 소자 유닛의 제2 접촉 표면 상에 유지력을 가하는 제1 접촉 표면을 포함하며 제1 접촉 표면의 경사 운동의 경사 축을 형성하도록 배열되고, 경사 운동은 유지력 방향을 따라 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력으로부터 생성되는, 광학 소자 유닛 및 유지 장치 제공 단계와, 제1 접촉 표면에 가까운 위치와 실질적으로 제1 접촉 표면 내의 위치 중 적어도 하나에 경사 축을 위치시키는 단계와, 광학 소자 유닛 상에 유지력을 가하는 단계를 포함하는 방법이 제공된다.
본 발명의 제11 양태에 따르면, 유지력을 사용하여 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이며, 광학 소자를 포함하는 광학 소자 유닛, 지지 장치, 및 광학 소자 유닛의 제2 접촉 표면 상에 제1 접촉 표면을 거쳐 유지력 방향으로 유지력을 가하는 접촉 장치를 제공하는 단계로서, 접촉 장치는 제1 접촉 표면과 지지 장치 사이에 동역학적으로 직렬로 배열된 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 포함하여, 제1 링크 섹션의 제1 단부는 제1 접촉 표면에 인접하여 위치되고 제1 링크 섹션의 제2 단부는 제2 링크 섹션에 인접하여 위치되는, 광학 소자 유닛, 지지 장치 및 접촉 장치 제공 단계와, 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션이 유지력 방향을 따라 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력에 응답하여 휨을 겪도록 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 배열하는 단계로서, 제1 링크 섹션의 휨은 적어도 제1 단부의 제1 행정이 제2 링크 섹션의 휨으로부터 생성되는 유지력 방향을 따른 적어도 제1 단부의 제2 행정과 반대가 되도록 되어 있고, 제1 및 제2 행정은 제1 방향을 따른 병진 이동 행정, 제2 방향을 따른 병진 이동 행정, 및 제1 및 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 축에 대한 회전 행정 중 하나인, 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션 배열 단계와, 유지력을 가하는 단계를 포함하는 방법이 제공된다.
본 발명의 추가의 양태 및 실시예가 종속 청구항과, 첨부된 도면을 참조하는 바람직한 실시예의 다음의 설명으로부터 명백해질 것이다. 개시되는 특징의 모든 조합은 청구의 범위에서 명확하게 언급되는지의 여부에 관계없이, 본 발명의 범주 내에 든다.
도 1은 본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시예가 실행될 수 있는 본 발명에 따른 광학 소자 모듈을 포함하는 본 발명에 따른 광학 결상 배열체의 바람직한 실시예의 개략도이다.
도 2는 도 1의 광학 결상 배열체의 일부인 광학 소자 모듈의 개략적인 평면도이다.
도 3은 도 2의 광학 소자 모듈의 개략적인 분해 사시도이다.
도 4는 부분 조립 상태의 도 2의 광학 소자 모듈의 세부(Ⅳ)의 개략적인 부분 단면도이다.
도 5는 도 2의 선 V-V을 따른 개략적인 단면도이다.
도 6a는 제1 무부하 상태의 종래 기술의 광학 소자 모듈의 일부의 고도로 개략적인 도면이다.
도 6b는 제2 부하 상태의 도 6a에 도시된 부분의 고도로 개략적인 도면이다.
도 6c는 제1 무부하 상태의 도 5에 도시된 부분의 고도로 개략적인 도면이다.
도 6d는 제2 부하 상태의 도 6c에 도시된 부분의 고도로 개략적인 도면이다.
도 7은 도 3(도 3의 세부(Ⅶ))의 클램핑 요소의 확대된 개략적인 상부 사시도이다.
도 8은 도 2의 선 Ⅷ-Ⅷ을 따른 개략적인 단면도이다.
도 9a는 도 8의 세부(Ⅸ)의 도면이다.
도 9b는 변형된 형태의 도 8의 세부(Ⅸ)의 도면이다.
도 9c는 제1 무부하 상태의 종래 기술의 광학 소자 모듈의 일부의 고도로 개략적인 도면이다.
도 9d는 제2 부하 상태의 도 9c에 도시된 부분의 고도로 개략적인 도면이다.
도 9e는 도 6a, 도 6b, 도 9c 및 도 9d에 도시된 종래 기술의 광학 소자 모듈의 일부의 개략적인 부분 단면, 분해도이다.
도 10은 도 2의 광학 소자 모듈의 하나의 구성요소 상에 힘을 가하는 방법의 바람직한 실시예의 블록 선도이다.
도 11a는 본 발명에 따른 광학 소자 모듈의 추가의 바람직한 실시예의 (도 5와 유사한) 개략적인 단면도이다.
도 11b는 본 발명에 따른 광학 소자 모듈의 추가의 바람직한 실시예의 (도 5와 유사한) 개략적인 단면도이다.
도 11c는 본 발명에 따른 광학 소자 모듈의 추가의 바람직한 실시예의 (도 5와 유사한) 개략적인 단면도이다.
도 12는 본 발명에 따른 광학 소자 모듈의 추가의 바람직한 실시예의 클램프의 (도 7과 유사한) 개략적인 사시도이다.
도 13은 본 발명에 따른 광학 소자 모듈의 추가의 바람직한 실시예의 (도 2의 선 XⅢ-XⅢ을 따른) 개략적인 단면도이다.
도 14는 도 13의 광학 소자 모듈의 클램핑 요소의 (도 7과 유사한) 개략적인 사시 단면도이다.
도 15는 본 발명에 따른 광학 소자 모듈의 추가의 바람직한 실시예의 (도 13과 유사한) 개략적인 단면도이다.
도 16은 본 발명에 따른 광학 소자 모듈의 추가의 바람직한 실시예의 (도 13과 유사한) 개략적인 단면도이다.
도 17은 본 발명에 따른 광학 소자 모듈의 추가의 바람직한 실시예의 (도 3과 유사한) 개략적인 사시도이다.
도 18은 본 발명에 따른 광학 소자 모듈의 추가의 바람직한 실시예의 (도 3과 유사한) 개략적인 사시도이다.
도 19는 본 발명에 따른 광학 소자 모듈의 추가의 바람직한 실시예의 (도 3과 유사한) 개략적인 사시도이다.
제1 실시예
다음에서, 본 발명에 따른 광학 결상 배열체(101)의 바람직한 실시예가 도 1 내지 도 5를 참조하여 설명될 것이다.
도 1은 반도체 장치의 제조 중의 마이크로리소그래피 공정에서 사용되는 광학 노광 장치(101) 형태의 광학 결상 배열체의 개략적이며 축척에 맞지 않는 도면이다. 광학 노광 장치(101)는 조명 유닛(102, illumination unit) 형태의 제1 광학 장치 및 노광 공정에서, 마스크 유닛(104)의 마스크(104.1) 상에 형성된 패턴의 상을 기판 유닛(105)의 기판(105.1) 상으로 전사하도록 구성된 광학 투영 유닛(103) 형태의 제2 광학 장치를 포함한다.
이러한 목적으로, 조명 유닛(102)은 193㎚ 파장의 노광 광으로 마스크(104.1)를 조명한다. 그러나, 본 발명은 또한 임의의 다른 파장의 광을 사용하는 노광 장치 내에서 사용될 수 있는 것이 이해될 것이다. 특히, 본 발명은 또한 20㎚ 아래, 전형적으로 약 13㎚의 파장의 극자외 범위 내의 광을 사용하는 소위 극자외(EUV: Extreme UV) 시스템 내에서 사용되며 매우 유익할 수 있다.
광학 투영 유닛(103)은 마스크(104.1)로부터 나오는 노광 광을 수신하고, 마스크(104.1) 상에 형성된 패턴의 상을 기판(105.1), 예컨대 웨이퍼 등 상으로 투영한다. 그러나, 본 발명은 또한 광학 소자가 잘 정의된 위치에 유지되어야 하는 임의의 다른 광학 시스템의 맥락에서 사용될 수 있는 것이 이해될 것이다.
조명 유닛(102)은 광원(도시되지 않음) 및 광학 소자 모듈(106.1)과 같은 복수의 광학 소자 모듈을 포함하는 광학 소자 시스템(106)을 포함한다. 광학 투영 유닛(103)은 복수의 광학 소자 모듈(107.1)을 포함하는 추가의 광학 소자 시스템(107)을 포함한다. 광학 소자 시스템(106, 107)의 광학 소자 모듈은 광학 노광 장치(101)의 (궁극적으로 접히는) 광학 축(101.1)을 따라 정렬되고, 렌즈, 거울, 회절 격자 등과 같은, 임의의 유형의 광학 소자를 포함할 수 있다.
광학 소자 시스템(107)은 예를 들어, 광학 소자 시스템(107)의 하우징(103.1) 내에 유지되는 광학 소자 모듈의 스택에 의해 유지된다. 광학 소자 시스템(107)의 광학 소자 모듈은 본 발명에 따른 광학 소자 모듈(107.1)을 포함한다.
다음의 설명을 더 쉽게 이해하려는 이유로, 직교 좌표계(xyz)가 도면에서 주어지며 (다음에서 참조될 것이고), z 방향은 수직 방향을 표시하고, x 및 y 방향은 수평 방향을 표시한다. 그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 다음에서 설명되는 구성요소의 임의의 다른 공간적 배향이 선택될 수 있는 것이 이해될 것이다.
(광학 소자 모듈(107.1)의 평면도를 도시하는) 도 2로부터 알 수 있는 바와 같이, 광학 소자 모듈(107.1)은 지지 구조물(109)에 의해 지지 및 유지되는 단순 렌즈(108) 형태의 광학 소자 유닛을 포함한다. 그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 광학 소자 유닛은 추가의 구성요소(예컨대, 광학 소자와 직접 접촉하여 결국 지지 구조물(109)에 의해 접촉되는 별도의 유지 링과 같은 별도의 유지 요소)를 포함할 수 있는 것이 이해될 것이다. 바꾸어 말하면, 지지 구조물(109)은 광학 소자와 직접 접촉할 필요는 없지만, 그러한 중간 요소 또는 장치를 거쳐 광학 소자를 지지 및 유지할 수 있다.
도시된 실시예에서, 지지 구조물(109)은 지지 링(109.1) 및 3개의 렌즈 홀더(109.2) 형태의 지지 장치를 포함한다. 각각의 렌즈 홀더(109.2)는 지지 링(109.1) 내의 적합한 리세스 내에 배열된다. 각각의 렌즈 홀더(109.2)는 지지 링(109.1)에 장착되고, (하기에서 더 상세하게 설명될 바와 같이) 렌즈(108)의 방사상 돌출부(108.1)와 접촉한다.
렌즈 홀더(109.2)들은 도시된 실시예에서, 동일한 설계이다. 그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 다른 설계의 홀더들이 조합될 수도 있는 것이 이해될 것이다. 또한, 본 발명의 다른 실시예에서, 임의의 다른 원하는 수의 렌즈 홀더가 광학 소자를 지지 및 유지하기 위해 사용될 수 있는 것이 이해될 것이다.
각각의 렌즈 홀더(109.2)는 렌즈 지지부(109.3) 형태의 제1 접촉 장치 및 클램프(109.4) 형태의 제2 접촉 장치를 포함한다. 도 2 및 도 3에서, 좌측면 상의 렌즈 홀더(109.2)에 대해서만, 양 구성요소(렌즈 지지부(109.3) 및 클램프(109.4))가 도시되어 있고, (우측면 상의) 다른 2개의 렌즈 홀더(109.2)에 대해서는, 렌즈 지지부(109.3)만이 도시되어 있는 것을 알아야 한다.
렌즈 홀더(109.2)는 렌즈(108)의 외측 원주부에서 균등하게 분포된다. 그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 렌즈 홀더 및 렌즈의 외측 원주부의 임의의 다른 배열이 선택될 수 있는 것이 이해될 것이다. 특히, 회전 비대칭 광학 소자에 대해, 그러한 홀더의 임의의 다른 적합한 배열이 선택될 수 있다.
도 3, 도 4, 및 도 8로부터 알 수 있는 바와 같이, 각각의 렌즈 지지부(109.3)는 지지 표면(109.5) 형태의 제1 접촉 표면을 제공한다. 도 3으로부터 가장 잘 알 수 있는 바와 같이, 렌즈(108)를 지지 구조물(109)에 장착할 때, 렌즈(108)는 렌즈(108)의 각각의 방사상 돌출부(108.1)의 하부 렌즈 접촉 표면(108.3) 형태의 제2 접촉 표면이 할당된 렌즈 지지부(109.3)의 지지 표면(109.5)과 접촉할 때까지, (이후에 전형적으로 마이크로리소그래피 장치(101)의 광학 축(101.1)과 일치하는) 광학 축(108.2)을 따라 이동된다.
따라서, 각각의 렌즈 지지부(109.3)는 이러한 조립 단계에서, 그의 지지 표면(109.5)을 거쳐, 할당된 하부 렌즈 접촉 표면(108.3) 상에 유지력 방향(z 방향)을 따라 지지력(Fsi) 형태의 유지력(holding force)을 가한다. 도시된 실시예에서, 지지력(Fsi)은 렌즈(108) 상에 작용하는 중력(G)을 상쇄하고 완전히 보상한다. 그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 렌즈 상에 작용하는 중력을 부분적으로 상쇄하는 추가의 지지 구성요소가 제공될 수 있는 것이 이해될 것이다. 예를 들어, 많은 수의 소형 스프링 요소가 렌즈의 외측 원주부에 분포되어, 렌즈 상에 작용하는 중력의 적어도 일부가 이들 스프링 요소에 의해 보상되도록 렌즈 상에 소량의 지지력을 각각 가할 수 있다.
도 4 및 도 5로부터 알 수 있는 바와 같이, 각각의 렌즈 지지부(109.3)는 제1 렌즈 지지 요소(109.7) 형태의 제1 링크 섹션 및 대체로 U-형상인 제2 렌즈 지지 요소(109.8) 형태의 제2 링크 섹션을 포함한다. 제2 렌즈 지지 요소는 지지 링(109.1)의 원주 방향에 대해 접하고, 결과적으로 (장착 상태의) 렌즈(108)의 원주 방향에 대해 접하는 주 연장 평면을 갖는다.
제1 렌즈 지지 요소(109.7)는 제1 단부에서, 지지 표면(109.5)을 제공하는 제1 접촉 요소 부분(109.9)을 갖는 제1 접촉 요소를 형성한다. 제2 단부에서, 제1 렌즈 지지 요소(109.7)는 연결 부분(109.11)을 거쳐 제1 접촉 요소 부분(109.9)에 연결되는 제2 접촉 요소 부분(109.10)을 갖는다.
제1 렌즈 지지 요소(109.7)의 연결 부분(109.11)은 주 연장 평면들이 지지 링(109.1)의 방사상 방향으로 이어지며 지지 표면(109.5)에 의해 형성된 (하부 렌즈 접촉 표면(108.3)에 대한) 접촉 평면 내에 놓이는 교차선(109.13)에서 교차하도록 배열된 2개의 제1 판스프링 요소(109.12)에 의해 형성된다. 2개의 판스프링 요소(109.12)는 그들의 주 연장 평면의 교차선(109.13)에 대응하는 지지 표면(109.5)의 제1 경사 축을 형성한다. 이러한 제1 경사 축(109.13)의 기능은 하기에서 더 상세하게 설명될 것이다.
제2 접촉 요소 부분(109.10)은 U-형상 제2 렌즈 지지 요소(109.8)의 기부 섹션(109.14)에 장착된다. 제2 렌즈 지지 요소(109.8)의 2개의 다리(109.15)의 자유 단부는 결국 지지 링(109.1)에 장착된다. 따라서, 제1 렌즈 지지 요소(109.7) 및 제2 렌즈 지지 요소(109.8)는 지지 표면(109.5)과 지지 링(109.1) 사이에서 동역학적으로 직렬로 배열된다.
각각의 다리(109.15)는 유지력 방향을 따라 연장하고, 2개의 제2 판스프링 요소(109.16)를 포함한다. 제2 판스프링 요소(109.16)들은 서로로부터 이격되고, (적어도 렌즈 지지부(109.2)의 무부하 상태에서) 지리 링(109.1)의 원주 방향에 대해 접하여 배열된 공통 주 연장 평면을 갖는다. 지지 표면(109.5)에 의해 형성된 접촉 평면과 관련하여, 제2 판스프링 요소(109.16)는 지지 링(109.1)의 접선 방향으로 이어지며 지지 표면(109.5)에 의해 형성된 접촉 평면 내에 놓이는 제2 경사 축(109.17)을 형성하도록 배열된다. 제2 경사 축(109.17)은 방사상 방향(x축)을 따라, 지지 표면(109.5) 내에서 실질적으로 중심에 위치된다. 이러한 제2 경사 축(109.17)의 기능도 하기에서 더 상세하게 설명될 것이다.
2개의 제2 판스프링 요소(109.16)의 크기 및/또는 위치는 제2 경사 축(109.17)의 원하는 위치의 함수로서, 즉 지지 표면(109.5)에 의해 형성된 접촉 평면의 위치의 함수로서, 공지된 방식으로 쉽게 결정될 수 있는 것이 이해될 것이다. 예를 들어, 양 제2 판스프링 요소(109.16)가 동일한 치수를 가지며 동일한 재료로 만들어지면 (즉, 동일한 굽힘 강성을 가지면), 제2 경사 축(109.17)은 2개의 제2 판스프링 요소(109.16)들 사이에서 중간에 위치된다.
제2 판스프링 요소들 중 하나가 더 높은 굽힘 강성을 갖는 경우에, 제2 경사 축의 위치는 더 높은 굽힘 강성을 갖는 판스프링 요소로부터 멀리 변위된다. 따라서, 다리(109.15)에 대해 주어진 기하학적 경계 조건에서, 각각의 제2 판스프링 요소(109.16)의 굽힘 강성(예컨대, 치수 및/또는 재료)을 변형함으로써, 지지 표면(109.5)에 대한 제2 경사 축(109.17)의 위치가 조정될 수 있다.
그러한 제1 판스프링 요소(109.12) 및 제2 판스프링 요소(109.16)의 사용은 그러한 판스프링 요소가 공간적으로 구속된 소위 탄성 힌지(즉, 적어도 길이 또는 폭 치수가 두께 치수 정도인 힌지 요소)에 비해, 전체 길이에 걸쳐 부하를 분포시켜서 탄성 요소 상에 작용하는 국소 응력을 크게 감소시키는 능력을 가지므로, 예외적인 부하를 취하는 현저하게 더 큰 능력을 갖는 큰 장점을 갖는 것이 이해될 것이다. 따라서, 그러한 판스프링 요소는 파손 경향이 덜하다. 또한, 그러한 판스프링 요소는 제조 부정확성 및 이로부터 생성되는 기생 부하를 적어도 부분적으로 보상하는 능력을 가져서, 이미 이러한 수단에 의해, 광학 소자(108) 내로 도입되는 기생 부하의 감소가 유리한 방식으로 달성될 수 있다.
또한, 제2 렌즈 지지 요소(109.8)의 제조 후에 지지 표면(109.5)에 대한 제2 경사 축(109.17)의 위치 및/또는 배향을 조정할 수 있도록, 조정 수단(예컨대, 스페이서, 조정 스크루 등과 같은 수동 수단 또는 압전 액추에이터 등과 같은 능동 수단)이 도 4 및 도 5에서 점선 외형(109.18)에 의해 개략적으로 표시된 바와 같이 제공될 수 있다.
유사한 조정 수단이 또한 도 4에서 점선 외형(109.19)에 의해 개략적으로 표시된 바와 같이, 지지 표면(109.5)에 대한 제1 경사 축(109.13)의 위치 및/또는 배향의 조정을 위해 제공될 수 있다. 여기서도, 스페이서, 조정 스크루 등과 같은 수동 수단 또는 압전 액추에이터 등과 같은 능동 수단이 사용될 수 있다.
이들 조정 수단은 지지 표면(109.5)에 대한 각각의 경사 축(109.13, 109.17)의 위치 및/또는 배향을 조정하도록 사용될 수도 있는 것이 이해될 것이다. 이들 조정 수단은 이후의 단계에서, 렌즈(108)의 위치 및/또는 배향을 조정하기 위해 사용될 수도 있다.
도시된 실시예에서, 각각의 하부 렌즈 접촉 표면(108.3)은 (공칭적으로) 렌즈(108)의 광학 축(108.2)에 대해 직교하여 이어지고, (공칭적으로) 다른 하부 렌즈 접촉 표면(108.3)과 동일 평면인 평면 표면이다. 또한, 각각의 지지 표면(109.5)은 또한 (공칭적으로) (이후에 전형적으로 렌즈(108)의 광학 축(108.2) 및 마이크로리소그래피 장치(101)의 광학 축(101.1)과 일치하는) 지지 링(109.2)의 회전 대칭 축(109.6)에 대해 직교하여 이어지고, (공칭적으로) 다른 지지 표면(109.5)과 동일 평면인 평면 표면이다.
그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 렌즈의 광학 축에 대한 하부 렌즈 접촉 표면의 임의의 다른 배열 및 지지 링 (또는 임의의 다른 적합한 지지 장치)에 대한 지지 표면의 임의의 다른 정합 배열이 선택될 수 있는 것이 이해될 것이다. 또한, 본 발명의 다른 실시예에서, 각각의 지지 표면 및/또는 각각의 하부 렌즈 접촉 표면은 반드시 연속 표면일 필요가 없는 것이 이해될 것이다. 오히려, 하나가 복수의 개별 접촉 표면 섹션에 의해 형성될 수 있다. 예를 들어, 각각의 지지 표면은 그러한 복수의 개별 접촉 표면 섹션을 형성하는 핀, 릿지(ridge) 등과 같은, (즉, z 방향으로 돌출하는) 복수의 축방향 돌출부에 의해 형성될 수 있다.
하부 렌즈 접촉 표면(108.3) 및 지지 표면(109.5)이 그들의 공칭 형상 및 배향을 갖고 (즉, 정합 표면(108.3, 109.5)들 사이에 오정렬이 존재하지 않고), 렌즈(108)가 z축을 따라 렌즈 홀더(109.2) 상으로 놓이는 경우에, 하부 렌즈 접촉 표면(108.3)과 지지 표면(109.5) 사이의 상대 운동이 z축을 따른 운동과 별개로 발생하지 않는다. 또한, 각각의 지지 표면(109.5)은 (공칭적으로) 정합 표면(108.3, 109.5)들 사이에의 접촉 시에, 경사 모멘트가 발생하지 않도록, 제2 판스프링 요소(109.16)들의 공통 주 연장 평면에 대해 대칭이 되도록 배열된다.
따라서, 이상적인 또는 공칭 상태에서, 하부 렌즈 접촉 표면(108.3)에 걸쳐, 균등한 접촉 압력이 지배적이고, 이는 중력(G)을 상쇄하기 위한 (전적으로 z 방향으로 작용하는) 각각의 결과적인 지지력(Fsi)을 생성한다. 따라서, 이러한 이상적인 상태에서, 렌즈(108)의 광학적으로 사용되는 영역 내로 전파하여 렌즈(108)의 광학 특성을 열화시키고 광학 시스템의 원치 않는 결상 오류로 이어질 수 있는 렌즈(108) 내의 응력을 야기할 수 있는 기생 부하가 렌즈(108)의 돌출부(108.1) 내로 도입되지 않는다.
그러나, 전형적으로, 실제로는, 하부 렌즈 접촉 표면(108.3) 및 지지 표면(109.5) 중 하나의 이러한 이상적인 공칭 형상 및 배향으로부터의 일부 편차가 있어서, 정합 표면(108.3, 109.5)들 사이에 일정 종류의 오정렬이 존재한다.
도 6a 내지 도 6d는 그러한 오정렬의 일 예로서, 지지 표면이 z축(즉, 지지 링의 축) 및 x축에 대해 기울어져서 지지 표면이 그의 공칭 표면(NP)으로부터 이탈하는 2가지 구성을 도시한다. 더 구체적으로, 도 6a 및 도 6b는 (고도로 개략적인 방식으로) 상기에서 언급한 미국 특허 제7,154,684 B2호(시바자키)와 같은 종래 기술로부터 공지된 바와 같은 렌즈 지지부(9)를 도시하고, 도 6c 및 도 6d는 (또한 고도로 개략적인 방식으로) 렌즈 지지부(109.3)를 도시한다.
도 6a 및 도 6c는 무부하 상태의 각각의 렌즈 지지부(9.3, 109.3)를 도시하고, 도 6b 및 도 6d는 각각의 하부 렌즈 접촉 표면(8.3, 108.3)이 각각의 지지 표면(9.5, 109.5)과의 최대 접촉을 달성한 부하 상태의 각각의 렌즈 지지부(9.3, 109.3)를 도시한다.
도 6a 및 도 6b로부터 알 수 있는 바와 같이, 기존에 공지된 렌즈 지지부(9.3)는 y축에 대해 평행하게 이어지는 경사 축(9.17)을 형성하는 탄성 힌지(9.8)를 거쳐 지지 링(9.1)에 연결된다. 탄성 힌지(9.8)는 도면의 평면 내에서 지지 표면(9.5)의 길이 정도인 거리에서 지지 표면(9.5) 충분히 아래에 위치된다.
(이상적으로 배향된) 하부 렌즈 접촉 표면(8.3)이 z축을 따라 지지 표면(9.5) 상으로 하강되면, x축 및 z축에 대한 (도 6a 및 도 6b에 매우 과장되어 도시된) 지지 표면(9.5)의 기울기로 인해, 접촉력(FC)이 하부 렌즈 접촉 표면(8.3)에 가장 가까이 위치된 지지 표면(9.5)의 (최우측 최상부) 모서리 상에 작용한다. 결과적으로, 접촉력(FC)과 경사 축(9.17) 사이에 존재하는 레버 아암으로 인해, y축에 대한 굽힘 모멘트가 렌즈 지지부(9.3) 상에 작용하여, 지지 표면(9.5)이 탄성 힌지(9.8)에 의해 형성된 경사 축(9.17)에 대해 회전하게 한다.
도 6b로부터 알 수 있는 바와 같이, 경사 축(9.17)에 대한 회전은 도면의 평면 내에서 작용하는 모든 힘과 모멘트가 서로 균형을 이룰 때까지 계속된다. 하부 렌즈 접촉 표면(8.3)과 지지 표면(9.5) 사이에 무마찰 접촉이 있으면, 이러한 평형은 (완벽하게 평면인) 하부 렌즈 접촉 표면(8.3)과 지지 표면(9.5)이 도 6b에서 점선 외형(9.20)에 의해 표시된 바와 같이 완전히 접촉하자마자 도달된다.
이러한 시점에서, (접촉 평면에 대해 평행한) x축을 따른 거리(dx)만큼의 상당한 상대 운동이 하부 렌즈 접촉 표면(8.3)과 지지 표면(9.5) 사이에서 발생할 것이다. 이러한 이상적인 무마찰 조건 하에서도, 이는 렌즈 접촉 표면(8.3)과 지지 표면(9.5) 사이의 접촉 압력의 불균등한 분포로 이어지고, 이는 (이러한 접촉 압력 분포로부터 생성되는) 지지력(Fsi)의 작용선이 모멘트 평형을 제공하기 위해 경사 축(9.17)과 교차해야 하기 때문이다. 접촉 압력의 이러한 불균등한 분포는 렌즈(8)의 광학적으로 사용되는 영역 내로 전파할 수도 있는 렌즈 내로 도입되는 응력의 원치 않는 불균등한 분포로 이어질 수 있고, 렌즈(8)의 원치 않는 결상 오류로 이어질 수 있다.
또한, 하부 렌즈 접촉 표면(8.3)과 지지 표면(9.5) 사이의 완전 접촉의 시점에서, 하부 렌즈 접촉 표면(8.3)과 지지 표면(9.5) 사이의 접촉 평면은 z축을 따라 (즉, 지지력 방향을 따라) 거리(dz)만큼 하강된다. 다른 2개의 렌즈 지지부(8.3)가 다른 종류 및/또는 정도의 오정렬을 보이는 경우에, 이는 렌즈(8)의 광학 축의 원치 않는 경사를 생성할 수 있다.
따라서, 이러한 이상적인 무마찰 조건 하에서도, 원치 않는 부하 및 오정렬 상황이 이러한 공지된 렌즈 지지부(9.3)에서 발생한다.
그러나, 실제 조건 하에서, 하부 렌즈 접촉 표면(8.3)과 지지 표면(9.5) 사이에 마찰 접촉이 존재한다. 전형적으로, 지지 표면(9.5)은 마찰 향상 코팅(예컨대, 금 코팅)을 구비하기도 한다. 따라서, 렌즈(8)를 렌즈 지지부(9.3) 상으로 내려놓을 때, 하부 렌즈 접촉 표면(8.3)과 지지 표면(9.5) 사이의 상당한 상대 운동으로 인해, 상당한 마찰력(FF)이 하부 렌즈 접촉 표면(8.3) 상에 방사상 방향을 따라 (즉, 하부 렌즈 접촉 표면(8.3)의 평면에 대해 접하여) 작용한다.
이러한 마찰력(FF)은 (전형적으로, 접촉 대응물들 중 적어도 하나의 탄성 변형과 조합하여) 하부 렌즈 접촉 표면(8.3)과 지지 표면(9.5)이 도 6b에 도시된 바와 같이 완전히 접촉하는 상태 이전에, 힘 및 모멘텀 평형이 도달되는 상황으로 이어질 수 있다. 이러한 전형적인 경우에, 한편으로, 감소된 접촉 영역(AC)이 하부 렌즈 접촉 표면(8.3)과 지지 표면(9.5) 사이에 존재한다. 제공되어야 하는 주어진 지지력(FSi)에서, 이는 하부 렌즈 접촉 표면(8.3)에서 (이상적인 상태에 대해) 증가된 접촉 압력으로 이어지고, 결과적으로 렌즈 재료 내의 증가된 국소 수직 응력으로 이어진다. 또한, 마찰력(FF)이 하부 렌즈 접촉 표면(8.3)의 평면 내에서 작용하는 상태는 전형적으로 동결되어, 렌즈 재료 내로 도입되는 궁극적으로 상당한 기생 전단 응력으로 이어진다.
따라서, 공지된 렌즈 지지부(9.3)에서, 불리한 부하 상황이 상당한 기생 부하가 렌즈 재료 내로 도입되면서 발생한다. 이러한 기생 부하로부터 생성된 응력은 렌즈(8)의 광학적으로 사용되는 영역 내로 전파하여, 렌즈(8) 및 결과적으로 렌즈(8)를 포함하는 광학 시스템의 원치 않는 결상 오류로 이어질 수 있다.
대조적으로, 다음에서 설명될 바와 같이, 본 발명에서, 이러한 단점이 대체로 회피될 수 있다. 도 6c 및 도 6d로부터 알 수 있으며 상기에서 설명된 바와 같이, (단일 판스프링으로서 단순화된 방식으로 제시된) 다리(109.15)는 지지 표면(109.5)에 의해 형성된 접촉 평면 내에 실질적으로 위치되는 제2 경사 축(109.17)을 형성한다.
(이상적으로 배향된) 하부 렌즈 접촉 표면(108.3)이 z축을 따라 지지 표면(109.5) 상으로 하강되면, x축 및 z축에 대한 (도 6c 및 도 6d에서 매우 과장되어 도시된) 지지 표면(109.5)의 기울기로 인해, 접촉력(FC)이 z축을 따라, 하부 렌즈 접촉 표면(108.3)에 가장 가까이 위치된 지지 표면(109.5)의 (최우측 최상부) 모서리 상에 작용한다. 결과적으로, 접촉력(FC)과 제2 경사 축(109.17) 사이에 존재하는 레버 아암으로 인해, y축에 대한 굽힘 모멘트가 렌즈 지지부(109.3) 상에 작용하여, 지지 표면(109.5)이 제2 렌즈 지지 요소(109.8)의 다리(109.15)에 의해 형성된 제2 경사 축(109.17)에 대해 회전하게 한다.
(단일 판스프링으로서 도시된) 다리(109.15)에 대해, z 방향으로의 접촉력(FC)은 z방향으로의 힘과, 판스프링의 길이를 따라 일정한 y축에 대한 굽힘 모멘트를 생성하는데, 이는 힘(FC)과 판스프링(109.15)의 평면이 z방향에 대해 평행하기 때문이다.
구부러진 판스프링 단부로부터 그의 회전 중심까지의 거리는 판스프링 평면에 대해 직교하는 운동(dx1) 및 굽힘 각도(dα1)의 비율에 의해 주어진다. 길이(L)를 따른 일정한 굽힘 모멘트(Mb)에 대하여, 아래와 같다.
Figure pct00001
회전 중심은 판스프링(109.15) 중간의 구부러진 판스프링 단부로부터의 길이의 절반(L/2)에 위치되어, 제2 경사 축(109.17)은 지지 표면(109.5) 부근에 위치되고, 이러한 경우에 지지 표면(109.5)의 평면은 판스프링(109.15)의 중간에서 (또는, 각각의 다리가 예를 들어, 2개의 동일한 판스프링 섹션에 의해 형성되면, 이들 2개의 동일한 판스프링 섹션들 사이의 중간에서) 판스프링(109.15)과 교차한다.
도 6d로부터 알 수 있는 바와 같이, 제2 경사 축(109.17)에 대한 회전은 도면의 평면 내에서 작용하는 모든 힘과 모멘트가 서로 균형을 이룰 때까지 계속된다. 더 구체적으로, (접촉력(FC)으로부터 생성된) 이러한 굽힘 모멘트에 응답하여, 제1 렌즈 지지 요소(109.7) 및 제2 렌즈 지지 요소(109.8)의 다리(109.15)는 모두 제2 경사 축(109.17)에 대해 직교하는 휨 평면 (즉, 도면의 평면) 내에서 소정의 휨을 겪는다.
무엇보다도, 제2 렌즈 지지 요소(109.8)의 다리(109.15)는 (다리와 지지 링(109.1) 사이에 존재하는 갭으로 인해) 이러한 휨 평면 내에서 상대적으로 유순하므로 구부러진다. 따라서, 제1 렌즈 지지 요소(109.7)의 단부(109.21)가 제2 렌즈 지지 요소(109.8)의 기부 요소(109.14)에 연결되는 위치는 제1 방사상 거리(dx1)만큼 (x축을 따라) 방사상 외측으로 변위되고, 제1 축방향 거리(dz1)만큼 (z축을 따라) 축방향 상방으로 변위된다. 결과적으로, 지지 표면(109.5)에 인접하여 위치된 제1 렌즈 지지 요소(109.7)의 타 단부(109.22)도 제1 방사상 거리(dx1)만큼의 이러한 방사상 변위 및 제1 축방향 거리(dz1)만큼의 (z축을 따른) 이러한 축방향 변위를 경험한다.
또한, 접촉 요소(109.7)가 이러한 휨 평면 내에서 실질적으로 강성이므로, 제1 렌즈 지지 요소(109.7)는 또한 그의 단부(109.21)에 대한 이러한 휨 평면 내에서의 회전을 경험한다. 이러한 회전으로 인해, 지지 표면(109.5)에 인접하여 위치된 제1 렌즈 지지 요소(109.7)의 단부(109.22)는 제2 방사상 거리(dx2)만큼 (x축을 따라) 방사상 내측으로 변위되고, 제2 축방향 거리(dz2)만큼 (z축을 따라) 축방향 하방으로 변위된다.
도시된 실시예에서, 제1 방사상 거리(dx1)는 제2 방사상 거리(dx2)와 동일하고, 제1 축방향 거리(dz1)는 제2 축방향 거리(dz2)와 동일하다. 따라서, 실질적으로 접촉 표면(109.5)의 평면 내에 있는 제2 경사 축(109.17)의 위치로 인해, 회전으로부터 생성되는 z축(유지력 방향) 및 x축(방사상 방향)을 따른 제1 렌즈 지지 요소(109.7)의 단부(109.22)의 행정(excursion)은 제2 렌즈 지지 요소(109.8)의 휨으로부터 생성되는 z축(유지력 방향) 및 x축(방사상 방향)을 따른 제1 렌즈 지지 요소(109.7)의 단부(109.22)의 행정과 반대이다. 따라서, 접촉 평면 내에서의 하부 렌즈 접촉 표면(108.3)과 지지 표면(109.5) 사이의 상대 병진 이동 운동이 실질적으로 발생하지 않는다.
결과적으로, 하부 렌즈 접촉 표면(108.3)과 지지 표면(109.5) 사이에 마찰이 있는 실제 조건 하에서도, 렌즈(108)는 접촉 평면 내에서 작용하는 마찰력을 실질적으로 경험하지 않고, 따라서 렌즈(108)의 광학적으로 사용되는 영역 내로 전파할 수 있고 결상 오류를 일으킬 수 있는 (기생 부하로 인한) 전단 응력을 실질적으로 겪지 않는다.
바꾸어 말하면, 제2 경사 축(109.17)의 위치는 (이론적인) 무마찰 접촉에 응답하는 지지 표면(109.5)의 운동을 (실제) 마찰 접촉으로부터 생성되는 실제 운동에 정합시킨다. 그렇지 않으면, 이론적인 운동과 실제 운동 사이의 그러한 편차는 렌즈(108) 및 렌즈 지지부(109.3) 중 적어도 하나의 탄성 변형에 의해 보상되어야 할 것이고, 각각의 접촉 대응물 내의 예비 응력과, 렌즈(108) 내로 도입되는 기생 부하로 이어질 것이다.
또한, 제2 경사 축(109.17)의 위치가 렌즈 지지부(109.3)의 운동 전체에 걸쳐 실질적으로 동일하게 유지되고, 결과적으로 (방사상 방향을 따라) 지지 표면(109.5) 내에서 중심에 위치되므로, 렌즈 접촉 표면(108.3)과 지지 표면(109.5) 사이의 접촉 압력의 실질적으로 균등한 분포가 달성되고, 이는 (이러한 접촉 압력 분포로부터 생성되는) 지지력(FSi)의 작용선이 모멘트 평형을 제공하기 위해 제2 경사 축(109.17)과 교차해야 하기 때문이다. 접촉 압력의 이러한 균등한 분포는 렌즈(108)의 광학적으로 사용되는 영역 내로 전파될 수 있고 렌즈(108)의 원치 않는 결상 오류로 이어질 수 있는 렌즈 내로 도입되는 응력의 원치 않는 불균등한 분포를 회피한다.
또한, 하부 렌즈 접촉 표면(108.3)과 지지 표면(109.5) 사이의 완전한 접촉의 시점에서, 하부 렌즈 접촉 표면(108.3)과 지지 표면(109.5) 사이의 접촉 평면의 위치는 z축을 따라 (즉, 지지력 방향을 따라) 실질적으로 동일하게 유지될 것이다. 따라서, 렌즈(108)의 광학 축의 원치 않는 경사가 실질적으로 발생하지 않는다.
본 발명의 다른 실시예에서, 제2 렌즈 지지 요소에 의해 형성된 제2 경사 축은 지지 표면에 의해 형성된 접촉 평면으로부터 소정의 거리를 가질 수도 있는 것이 이해될 것이다. 이러한 경우에, 소정의 상대 운동이 발생할 수 있고, 소정의 마찰력이 이러한 접촉 평면 내에서 작용하여 렌즈 내로 도입되는 전단 응력으로 이어질 수 있다. 그러나, 이러한 상대 운동 및 이로부터 생성되는 전단 응력을 가능한 한 낮게 유지하기 위해, 제2 경사 축과 접촉 평면 사이의 거리는 제2 경사 축에 대해 직교하는 평면 내의 접촉 대응물들 사이의 접촉 영역의 최대 길이의, 바람직하게는 20% 미만, 더 바람직하게는 5% 미만, 훨씬 더 바람직하게는 2% 미만이다.
2개의 제1 판스프링 요소(109.12)에 의해 형성된 제1 경사 축(109.13)은 (지지 링(109.1)의 원주 방향에 대해 접하는 평면 내에서) 실질적으로 지지 표면(109.5)의 평면 내에 있는 그의 위치로 인해, 하부 렌즈 접촉 표면(108.3)과 지지 표면(109.5) 사이의 오정렬을 보상하고, 지지 구조물(109)을 거쳐 렌즈(108) 내로 도입되는 기생 부하를 적어도 감소시키는 동일한 효과를 갖는 것도 이해될 것이다.
제1 렌즈 지지 요소(109.7) 및 제2 렌즈 지지 요소(109.8)는 모놀리식 구성요소로서 형성될 수 있다. 그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 제1 렌즈 지지 요소 및 제2 렌즈 지지 요소 중 하나는 적합한 방식으로 연결된 복수의 개별 구성요소로 형성될 수 있다. 특히, 이는 상기에서 설명된 바와 같이 제1 및 제2 경사 축의 위치 및/또는 배향을 조정할 가능성이 있다면, 그러할 수 있다.
다음에서, 도 7 및 도 8을 참조하여, 클램프(109.4) 및 그의 기능이 더 상세하게 설명된다. 도 7은 클램프(109.4)의 사시도이고, 도 8은 도 2의 선 Ⅷ-Ⅷ을 따른 단면도이다.
클램프(109.4)는 도시된 실시예에서, 장착 요소(109.23), 접촉 요소(109.24), 및 장착 요소(109.23)와 접촉 요소(109.24)를 연결하는 링크 요소(109.25)를 포함하는 모놀리식 구성요소이다. 그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 클램프는 적합한 방식으로 서로 연결된 개별 구성요소에 의해 형성될 수도 있는 것이 이해될 것이다.
도 8로부터 알 수 있는 바와 같이, 클램프(109.4)는 렌즈(108)의 각각의 돌출부(108.1)의 상부 렌즈 접촉 표면(108.4) 상으로 클램핑력 방향 (즉, z축을 따른 제1 방향)을 따라 클램핑력(FCL)의 형태의 추가의 유지력을 가하기 위해 사용되는 클램프 표면(109.26) 형태의 추가의 제1 접촉 표면을 제공한다.
이러한 목적으로, (렌즈(108)가 상기에서 설명된 바와 같이 렌즈 지지부(109.3) 상으로 위치되면), 각각의 클램프(109.4)는 클램프 표면(109.26)이 상부 렌즈 접촉 표면(108.4)에 대해 실질적으로 평행하게 배열되도록 렌즈(108)에 대해 정렬된다. 그 다음, 클램프(109.4)는 각각 지지 링(109.1)의 축(109.6) 및 렌즈(108)의 광학 축(108.2)을 따라 (즉, z축을 따라), 각각의 렌즈 지지부(109.3) 상으로, 클램핑 표면(109.26)이 다른 렌즈 접촉 표면(108.4)과 접촉하고 장착 요소(109.23)의 장착 표면이 렌즈 지지부(109.3)의 할당된 장착 표면과 접촉할 때까지, 하강된다. 클램프 표면(109.26)과 상부 렌즈 접촉 표면(108.4) 사이의 정렬을 바꾸지 않고서 이를 달성하기 위해, 적합한 안내 메커니즘(도시되지 않음)이 사용될 수 있다.
도시된 실시예에서, 각각의 상부 렌즈 접촉 표면(108.4)은 (공칭적으로) 렌즈(108)의 광학 축(108.2)에 대해 직교하여 이어지며, (공칭적으로) 다른 상부 렌즈 접촉 표면(108.4)과 동일 평면인 평면 표면이다. 또한, 각각의 클램프 표면(109.26)은 또한 (렌즈를 클램핑하지 않은 장착 상태에서, 공칭적으로) 지지 링(109.2)의 회전 대칭 축(109.6)에 대해 직교하여 이어지며, (렌즈를 클램핑하지 않은 상기 장착 상태에서, 공칭적으로) 다른 클램프 표면(109.26)과 동일 평면인 평면 표면이다.
그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 렌즈의 광학 축에 대한 상부 렌즈 접촉 표면의 임의의 다른 배열 및 지지 링 (또는 임의의 다른 적합한 지지 장치)에 대한 클램프 표면의 임의의 다른 정합 배열이 선택될 수 있는 것이 이해될 것이다. 또한, 본 발명의 다른 실시예에서, 각각의 클램프 표면 및/또는 각각의 상부 렌즈 접촉 표면은 반드시 연속 표면일 필요가 없는 것이 이해될 것이다. 오히려, 각각은 복수의 개별 접촉 표면 섹션에 의해 형성될 수 있다. 예를 들어, 각각의 클램프 표면은 그러한 복수의 개별 접촉 표면 섹션을 형성하는 핀, 릿지 등과 같은, (즉, z방향으로 돌출하는) 복수의 축방향 돌출부에 의해 형성될 수 있다.
장착 상태에서, 돌출부(108.1) 및 클램프(109.4)는 방사상 방향(제2 방향, x축)을 따른 길이(Lx) 및 지지 링(109.1)의 원주부에 대해 접하는 방향(제3 방향, y축)을 따른 길이(Ly)를 갖는 상호 접촉 영역(AC)을 형성한다. 길이(Lx, Ly)는 각각 각각의 방향으로의 더 작은 치수를 갖는 접촉 대응물에 의해 형성된다. 도시된 실시예에서, 양 경우에, 상부 렌즈 지지 표면(108.4)은 각각의 길이(lx, ly)를 형성한다. 그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 이들 길이 중 하나 또는 모두가 클램프에 의해 형성될 수도 있는 것이 이해될 것이다.
접촉 영역(AC)은 접촉 영역(AC)의 중심에서 방사상 방향(제2 방향, x축)을 따라 위치되며, 방사상 방향에 대해 횡방향으로 (더 정확하게는, 직교하여) 배열되는 기준 평면(RP)을 형성한다.
클램프(109.4)의 링크 요소(109.25)는 클램프(109.4)의 장착 상태에서, 지지 링(109.1)의 방사상 제2 방향(x축)으로 그리고 클램핑력 방향에 대해 횡방향으로 연장하는 2개의 판스프링 요소(109.27)를 포함한다. 판스프링 요소(109.27)는 작은 갭(109.28)만큼 접촉 요소(109.24)로부터 이격되면서, 접선 제3 방향(y축)에서, 접촉 요소(109.24)의 양 측면 상에 위치된다.
도시된 실시예에서, 판스프링 요소(109.27) 각각은 기준 평면(RP)의 양 측면 상에서 연장하고, 각각의 판스프링 요소(109.27)의 제1 단부는 기준 평면(RP)의 일 측면 상에서 장착 요소(109.23)에 연결되고, 각각의 판스프링 요소(109.27)의 제2 단부는 기준 평면(RP)의 타 측면 상에서 접촉 요소(109.24)에 연결된다. 따라서, 기준 평면(RP)과 접촉 요소(109.24) 사이에 위치된 각각의 판스프링(109.27)의 부분은 제1 링크 섹션(109.29)을 형성하고, 기준 평면(RP)과 장착 요소(109.23) 사이에 위치된 각각의 판스프링(109.27)의 부분은 제2 링크 섹션(109.30)을 형성한다. 결과적으로, 제1 링크 섹션(109.29) 및 제2 링크 섹션(109.30)은 장착 요소(109.23)와 접촉 요소(109.24) 사이에서 동역학적으로 직렬로 배열된다.
다음에서 설명될 바와 같이, 판스프링 요소(109.27)의 치수는 접촉 영역(AC)에 걸쳐 실질적으로 일정한 접촉 압력(pC)이 상부 렌즈 접촉 표면(108.4)과 클램프 표면(109.26) 사이의 접촉 영역(AC)에서 작용하도록 선택된다. 따라서, 클램핑력(FCL)은 기준 평면(RP) 내에서 작용하는 이러한 일정한 압력(pC)으로부터 생성된다. 이러한 결과적인 클램핑력(FCL)의 결과로서, 굽힘 모멘트(My)가 각각의 판스프링 요소(109.27) 상에 작용한다. 굽힘 모멘트(My)는 지지 링(109.1)의 접선 방향(y축)으로, 즉 축방향 제1 방향(z축) 및 방사상 제2 방향(x축)에 의해 형성된 굽힘 평면 내에서 이어지는 굽힘 축에 대해 작용한다.
굽힘 모멘트(My)는 (접촉 요소(109.24)에 연결된) 판스프링 요소(109.27)의 제1 단부에서 최대 음의 값(My1), (장착 요소(109.23)에 연결된) 판스프링 요소(109.27)의 제2 단부에서 최대 양의 값(My2), 및 기준 평면(RP)에서 0(My = 0)을 갖는다 (즉, 각각의 판스프링 요소(109.27)는 기준 평면(RP)에서 굴절점을 갖는다).
도 9a로부터 알 수 있는 바와 같이, 제1 링크 섹션(109.29)은 방사상 방향을 따른 제1 길이를 갖고, 제2 링크 섹션(109.29)은 방사상 방향을 따른 제2 길이(b)를 갖는다. 접촉 영역(AC)에 걸쳐 완전한 평면 접촉이 있는 공칭 조건 하에서, 제1 링크 섹션(109.29)이 접촉 요소(109.24)에 연결되는 위치 및 제2 링크 섹션(109.30)이 장착 요소(109.23)에 연결되는 위치에서, 방사상 방향(x축)에 대한 각각의 판스프링 요소(109.27)의 종방향 축의 각도가 0이 되는 기하학적 경계 조건이 있다.
이러한 기하학적 경계 조건이 주어지면, 2개의 링크 섹션(109.29, 109.30)의 각각의 방사상 방향을 따라 전체 길이에 걸친 각각의 판스프링 요소(109.27)의 일정한 단면(즉, 각각 접선 축 또는 y축에 대한 일정한 면적 관성 모멘트(Iy))이 일 단부 상에서 견고하게 유지되고 자유 단부 상에 작용하는 수직력(F)으로 인해 구부러지는 수평 비임으로서 간주될 수 있다. 따라서, 연결 위치에서의 각각의 링크 섹션(109.29, 109.30)의 (z축을 따른) 축방향 행정(w1, w2)은 (링크 스프링 요소(109.27)의 재료의 주어진 탄성 계수(E)에서) 각각 다음과 같이 계산된다.
Figure pct00002
Figure pct00003
또한, 연결 위치에서의 각각의 링크 섹션(109.29, 109.30)의 방사상 방향(x축)에 대한 각도(α1, α2)는 각각 다음과 같이 계산된다.
Figure pct00004
Figure pct00005
추가의 경계 조건으로서, 2개의 각도(α1, α2)가 동일해야 하므로 (즉, α1 = α2), 제1 길이(a)와 제2 길이(b)가 동일해야 하는 것 (즉, a = b)이 명백해진다.
도 9b는 각각의 판스프링 요소(109.27)의 제1 및 제2 링크 섹션(109.29, 109.30)의 제1 길이(a)와 제2 길이(b)가 다른 (즉, a ≠ b, 여기서 a < b), 클램프(109.4)의 변형예를 도시한다. 결과적으로, 판스프링 요소(109.27)의 면적 관성 모멘트(Iy')가 판스프링 요소(109.27)의 길이에 걸쳐 일정하게 유지된다면, 0의 굽힘 모멘트(My')와, 결과적인 클램핑력(FCL')의 위치는 기준 평면(RP)으로부터 장착 요소(109.23)를 향해 변위될 것이다. 결과적으로, 접촉 영역(AC)에 걸친 접촉 압력(pC)의 불균등한 분포가 존재한다. 접촉 압력의 그러한 불균등한 분포는 어느 정도 허용될 수 있다. 바람직하게는, 접촉 영역(AC)에 걸친 접촉 압력(pC)의 편차는 접촉 영역(AC)에 걸친 평균 접촉 압력(pC)의 ±20% 미만, 더 바람직하게는 ±10% 미만이다.
그러나, 접촉 영역(AC)에 걸쳐 그러한 불균등한 접촉 압력 분포를 상쇄하기 위해, 판스프링 요소(109.27)의 면적 관성 모멘트(Iy")는 0의 굽힘 모멘트(My")와, 클램핑력(FCL")이 기준 평면(RP)을 행해 후방으로 (기준 평면까지 후방으로 완전히) 변위되도록, 판스프링 요소(109.27)의 길이에 걸쳐 변형될 수 있다. 따라서, 접촉 압력(pC)의 균등한 분포가 각각의 링크 섹션(109.29, 109.30)의 방사상 길이(a, b)가 동일하지 않더라도 얻어질 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에서, 판스프링 요소의 면적 관성 모멘트를 변형하는 것에 추가하여 또는 그에 대한 대안으로서, 판스프링 요소의 탄성 계수 (즉, 재료)도 접촉 영역(AC)에서 실질적으로 균등하게 분포된 접촉 압력을 달성하기 위해 길이에 걸쳐 변형될 수 있는 것이 이해될 것이다.
바꾸어 말하면, 본 발명에 따른 클램프(109.4)는 상부 렌즈 접촉 표면(108.4)과 클램핑 표면(109.26) 사이의 접촉 영역(AC)에 걸쳐 균등한 접촉 압력(pC)을 제공하기 위해 다양한 기하학적 경계 조건(예컨대, 판스프링 요소(109.27)에 대한 매우 다양한 요구되는 길이)로 쉽게 구성될 수 있다. 접촉 영역(AC)에 걸친 접촉 압력(pC)의 그러한 균등한 분포는 렌즈(108) 내로 도입되어, 렌즈(108)의 광학적으로 사용되는 영역 내로 전파할 수도 있으며 (렌즈(108) 및 렌즈(108)를 포함하는 광학 시스템의 원치 않는 결상 오류로 이어질 수 있는) 국소 집중된 응력의 위험이 크게 감소되는 큰 장점을 갖는다.
도 9c 및 도 9d는 상기에서 언급된 미국 특허 제7,154,684 B2호(시바자키)와 같은 종래 기술로부터 공지된 바와 같은 (도 6a 및 도 6b에 도시된) 렌즈 홀더(9.2)의 추가 부분을 (고도로 개략적이며 축적에 맞지 않는 방식으로) 도시한다. 도 9e는 이러한 공지된 렌즈 홀더(9.2)의 더 상세한 도면이다.
도 9c는 렌즈(8)가 렌즈 지지부(9.3) 상에 지지된 채로 클램프(9.4)를 렌즈 지지부(9.3)에 장착하기 전의 상태에서 렌즈 홀더(9.2)를 도시한다. 도 9d는 클램프(9.4)가 렌즈 지지부(9.3)에 장착되어 렌즈(8)를 클램핑하는 상태에서 렌즈 홀더(9.2)를 도시한다.
도 9c, 9d 및 도 9e로부터 알 수 있는 바와 같이, 기존에 공지된 클램프(9.4)는 2개의 개별 부분, 즉 (렌즈(8)에 인접한) 자유 단부에 위치된 접촉 헤드(9.32)를 갖는 판스프링 요소(9.27)를 포함하는 제1 부분(9.31) 및 접촉 헤드(9.32)와 렌즈(8)의 상부 렌즈 접촉 표면(8.4) 사이에 배열된 접촉 요소(9.34)를 갖는 별도의 제2 부분(9.33)을 포함한다.
도 9d로부터 알 수 있는 바와 같이, 판스프링 요소(9.27)는 (렌즈 지지부(9.3)에 장착된 단부 상에서 견고하게 유지되는 비임의 방식으로) 그의 자유 단부에서, 접촉 헤드(9.32) 및 접촉 요소(9.34)를 거쳐 상부 렌즈 접촉 표면(9.4) 상으로 클램핑력(FCL)을 가한다. 접촉 요소(9.34)와 렌즈(8) 사이의 접촉 영역에서 작용하는 접촉 압력의 실질적으로 균등한 분포를 달성하기 위해, 접촉 헤드(9.32)는 접촉 요소(9.34)에 대한 접촉 헤드(9.32)의 경사를 허용하는(그로 인해, 접촉 영역 내로의 굽힘 모멘트의 도입을 회피하는) (접촉 요소(9.34)에 대한 선 접촉을 제공하는) 릿지 또는 지붕형 형상을 갖는다. 결과적으로, 판스프링 요소(9.27) 상에서 y축에 대해 작용하는 굽힘 모멘트(My)는 접촉 헤드(9.32)의 위치에서 0을 갖는다.
공지된 클램프(9.4)는 한편으로, 구성요소의 제조 부정확성으로 인해 시스템 내로 복수의 오류를 도입하는 개별 구성요소를 포함하는 단점을 갖는다. 또한, 접촉 헤드(9.32)와 접촉 요소(9.34) 사이의 매우 작은 접촉 영역을 거친 클램핑력(FCL)의 공간적으로 고도로 집중된 도입은 이러한 접촉 영역에서 높은 응력 집중으로 이어지고, 이는 (예컨대, 이들 구성요소 상에 작용하는 가속으로부터 생성되는 부하로 인해) 이들 구성요소를 파손되기 쉽게 만든다.
공지된 지지 구조물(9)의 클램핑 메커니즘과 대조적으로, 본 발명에 따른 클램프(109.4)는 기준 평면(RP)의 양 측면 상의 탄성 변형 가능한 제1 및 제2 링크 섹션(109.29, 109.30)의 배열로 인해, 링크 섹션(109.29, 109.30)은 굽힘 축(y축)에 대한 반대 회전들을 정합시키는 것을 실행하도록 구성되어, 클램프 표면(109.26)과 상부 렌즈 접촉 표면(108.4) 사이의 적절한 평행 정렬을 제공한다. 특히, 제1 링크 섹션(109.29)은 접촉 요소(109.24)에 연결된 그의 단부에서, 굽힘 모멘트(My)의 결과로서, 굽힘 축(y축)에 대한 회전을 실행하고, 이는 굽힘 모멘트(My)에 응답하여 제2 링크 섹션(109.30)의 굽힘으로부터 생성되는 굽힘 축(y축)에 대한 회전으로부터 생성되는 제1 링크 섹션의 이러한 단부의 회전을 완전히 보상한다.
따라서, 기존에 공지된 클램프(9.4)와 달리, 높은 응력 집중을 갖는 그러한 작은 접촉 영역은 필요치 않고, 결과적으로 그러한 높은 응력 집중으로 인한 파손의 위험이 회피된다. 오히려, (예컨대, 정합 구성요소들의 예외적인 가속으로부터 생성되는) 예외적인 부하가 각각의 판스프링 요소(109.27)의 길이에 걸쳐 분포되어, 클램프(109.4) 내의 상당히 감소된 국소 응력으로 이어진다.
클램프(109.4)의 추가의 장점은 판스프링 요소(109.27)가 클램핑 표면(109.26) 내에 실질적으로 그리고 (클램핑 표면(109.26)과 상부 렌즈 접촉 표면(108.4) 사이의) 접촉 영역(AC) 내에 위치되는 추가의 제1 경사 축(109.35) 및 추가의 제2 경사 축(109.36)을 형성하는 사실에 있다. 제1 경사 축(109.35)은 방사상 제2 방향(x축)을 따라 연장하고, 제2 경사 축(109.36)은 접선 제3 방향(y축)을 따라 연장한다.
제1 경사 축(109.35) 및 제2 경사 축(109.36)은 접촉 영역(AC) 내의 (또는 적어도 접촉 영역에 매우 가까운) 그들의 위치로 인해, 경사 축(109.13, 109.17)과 유사한 방식으로, 접촉 평면에 대해 평행한 클램핑 표면(109.26)과 상부 렌즈 접촉 표면(108.4) 사이의 상대 운동을 감소시킨다. 그러한 경사 축의 상세한 기능은 경사 축(109.17)의 맥락에서 상기에서 상세하게 설명되었다. 따라서, 여기서는 상기에서 주어진 설명을 주로 참조하고, 이러한 수단에 의해, 렌즈의 광학적으로 사용되는 영역 내로 전파하여 결상 오류를 일으킬 수 있는, 접촉 대응물들 사이에 작용하는 마찰 전단력과 렌즈(108) 내로의 기생 부하의 도입이 적어도 대체로 회피되는 것이 다시 한번 지적될 뿐이다.
지지 구조물(109)을 거쳐 렌즈(108)의 각각의 돌출부(108.1) 내로 도입되는 기생 부하로부터 생성되는 임의의 응력을 추가로 감소시키기 위해, 돌출부(108.1)는 하부 렌즈 접촉 표면(108.3) 및 상부 렌즈 접촉 표면(108.4)에 인접한 렌즈(108)의 원주 방향으로 연장하는 하부 및 상부 응력 경감 홈(108.5)을 포함한다. 본 발명의 다른 실시예에서, 그러한 응력 경감 홈은 다른 설계를 가질 수 있고, 당연히 각각의 돌출부의 적어도 하나의 표면 상에서 생략될 수도 있는 것이 이해될 것이다.
도 1의 광학 노광 장치(101)에서, 본 발명에 따른 광학 소자 유닛을 유지하는 방법의 바람직한 실시예가 도 1 내지 도 10을 참조하여 다음에서 설명될 바와 같이 실행될 수 있다.
단계(110.1)에서, 광학 노광 장치(101)의 구성요소, 특히 렌즈(108) 및 지지 구조물(109)이 도 1 내지 도 9d의 맥락에서 상기에서 설명된 바와 같이, 제공된다.
단계(110.2)에서, 광학 노광 장치(101)의 구성요소들 중 일부가 도 1 내지 도 9d의 맥락에서 상기에서 설명된 바와 같은 구성을 제공하기 위한 공간적 관계로 놓인다. 더 구체적으로, 단계(110.2)에서, 렌즈 지지부(109.3)의 변형 가능한 링크 섹션(제1 렌즈 지지 요소(109.7) 및 제2 렌즈 지지 요소(109.8))이 상기에서 설명된 바와 같은 방식으로 배열된다.
단계(110.3)에서, 렌즈(108)의 돌출부(108.1)는 상기에서 설명된 바와 같이 렌즈(108) 상에 각각의 지지력(FSi)을 가하도록 렌즈 지지부(109.3) 상으로 놓여서, 상기에서 설명된 바와 같은 방식으로 렌즈 지지부(109.3)의 변형 가능한 링크 섹션(109.7, 109.8)을 변형시킨다.
단계(110.4)에서, 광학 노광 장치(101)의 구성요소들 중 다른 일부가 도 1 내지 도 9d의 맥락에서 상기에서 설명된 바와 같은 구성을 제공하기 위한 공간적 관계로 놓인다. 더 구체적으로, 단계(110.4)에서, 클램프(109.4)의 변형 가능한 링크 섹션(판스프링 요소(109.27))이 렌즈(108) 및 렌즈 지지부(109.3)에 대해 상기에서 설명된 바와 같은 방식으로 배열된다.
단계(110.5)에서, 각각의 클램프(109.4)는 상기에서 설명된 바와 같이 렌즈(108) 상에 각각의 클램핑력(FCL)을 가하도록 렌즈(108)의 각각의 돌출부(108.1) 상으로 위치되어 렌즈 지지부(109.3)에 장착되어, 상기에서 설명된 바와 같은 방식으로 렌즈 클램프(109.4)의 변형 가능한 링크 섹션(109.27)을 변형시킨다.
제2 실시예
다음에서, 본 발명에 따른 광학 소자 모듈(207.1)의 제2 실시예가 도 1 내지 도 10 그리고 도 11a를 참조하여 설명될 것이다. 광학 소자 모듈(207.1)은 그의 기본적인 설계 및 기능에 있어서, 광학 소자 모듈(107.1)에 대체로 대응하고, 도 1의 광학 결상 장치(101) 내의 광학 소자 모듈(107.1)을 대체할 수 있다. 따라서, 여기서는 상기에서 주어진 설명을 주로 참조하고, 광학 소자 모듈(107.1)에 대한 차이만이 더 상세하게 설명될 것이다. 특히, 유사한 부분은 100만큼 증가된 동일한 도면 부호가 주어지고, (다음에서 명확하게 설명되지 않으면) 이러한 부분에 대해, 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 주어진 설명이 참조된다.
도 11a는 도 5의 도면과 동일한 도면에서의 광학 소자 모듈(207.1)의 세부의 개략적인 단면도를 도시한다. 광학 소자 모듈(107.1)에 대한 광학 소자 모듈(207.1)의 차이점은 제2 렌즈 지지 요소(209.8)의 다리(209.15)의 설계에만 있다. 2개의 판스프링 요소(109.16) 대신에, 다리(209.15)마다 하나의 단일 판스프링 요소(209.16)만이 제공된다.
각각의 다리(209.15)의 제2 판스프링 요소(209.16)는 지지 링(109.1)의 원주 방향에 대해 접하여 배열된 주 연장 평면을 갖는다. (점선 외형에 의해 표시된) 제1 렌즈 지지 요소(109.7)의 지지 표면(109.5)에 의해 형성된 접촉 평면과 관련하여, 제2 판스프링 요소(209.16)는 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 상세하게 설명된 바와 같이 제2 경사 축(109.17)을 형성하도록 배열된다. 특히, 여기서 다시, 제2 경사 축(109.17)은 지지 링(109.1)의 접선 방향으로 이어지며, 지지 표면(109.5)에 의해 형성된 접촉 평면 내에 놓인다. 제2 경사 축(109.17)은 방사상 방향(x축)을 따라, 지지 표면(109.5) 내에서 실질적으로 중심에 위치된다.
각각의 제2 판스프링 요소(209.16)의 크기 및/또는 위치는 제2 경사 축(109.17)의 원하는 위치의 함수로서, 즉 지지 표면(109.5)에 의해 형성된 접촉 평면의 위치의 함수로서, 공지된 방식으로 쉽게 결정될 수 있는 것이 이해될 것이다. 예를 들어, 제2 판스프링 요소(209.16)가 접선 축(y축)에 대해 일정한 면적 관성 모멘트(Iy)를 가지면, 제2 경사 축(109.17)은 제2 판스프링 요소(209.16)의 양 단부 사이에서 축 방향(z축)을 따라 중심에 위치된다.
제2 판스프링 요소가 접선 축(y축)에 대한 면적 관성 모멘트(Iy) 또는 축 방향(z축)을 따라 변하는 탄성 계수(E)를 갖는 경우에, 제2 경사 축의 위치는 변위될 수 있다. 따라서, 다리(209.15)에 대한 주어진 기하학적 경계 조건에서, 제2 판스프링 요소(209.16)의 치수 및/또는 재료 특성을 변형시킴으로써, 지지 표면(109.5)에 대한 제2 경사 축(109.17)의 위치가 조정될 수 있다. 또한, 상기에서 설명된 바와 같은 조정 수단(109.18)이 사용될 수 있다.
이러한 광학 소자 모듈(207.1)에서, (제1 실시예의 맥락에서 상기에서 설명된 바와 같이) 본 발명에 따른 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이 또한 실행될 수 있는 것이 이해될 것이다.
제3 실시예
다음에서, 본 발명에 따른 광학 소자 모듈(307.1)의 제3 실시예가 도 1 내지 도 10 그리고 도 11b를 참조하여 설명될 것이다. 광학 소자 모듈(307.1)은 그의 기본적인 설계 및 기능에 있어서, 광학 소자 모듈(107.1)에 대체로 대응하고, 도 1의 광학 결상 장치(101) 내의 광학 소자 모듈(107.1)을 대체할 수 있다. 따라서, 여기서는 상기에서 주어진 설명을 주로 참조하고, 광학 소자 모듈(107.1)에 대한 차이점만이 더 상세하게 설명될 것이다. 특히, 유사한 부분은 200만큼 증가된 동일한 도면 부호가 주어지고, (다음에서 명확하게 설명되지 않으면) 이러한 부분에 대해, 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 주어진 설명이 참조된다.
도 11b는 도 5의 도면과 동일한 도면에서의 광학 소자 모듈(307.1)의 세부의 개략적인 단면도를 도시한다. 광학 소자 모듈(107.1)에 대한 광학 소자 모듈(307.1)의 차이점은 제2 렌즈 지지 요소(309.8)의 다리(309.15)의 설계에만 있다. 2개의 동일 평면 판스프링 요소(109.16) 대신에, 주 연장 평면들이 제2 경사 축(109.17)을 형성하며 지지 링(109.1)의 접선 방향(y축)으로 이어지는 교차선에서 교차하는, 2개의 제2 판스프링 요소(309.16)가 제공된다.
다시, 제2 경사 축(109.17)은 (점선 외형에 의해 표시된) 제1 렌즈 지지 요소(109.7)의 지지 표면(109.5)에 의해 형성된 (하부 렌즈 접촉 표면(108.3)에 대한) 접촉 평면 내에 놓인다. 이러한 제2 경사 축(109.17)의 기능은 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 상세하게 설명되었다. 특히, 여기서 다시, 제2 경사 축은 방사상 방향(x축)을 따라, 지지 표면(109.5) 내에서 실질적으로 중심에 위치된다.
다리(109.15)에 대한 주어진 기하학적 경계 조건에서, 제2 판스프링 요소(309.16)의 주 연장 평면의 교차선의 위치를 변형시킴으로써, 지지 표면(109.5)에 대한 제2 경사 축(109.17)의 위치가 조정될 수 있다. 또한, 상기에서 설명된 바와 같은 조정 수단(109.18)이 사용될 수 있다.
제2 판스프링 요소는 또한 지지 표면(109.5)에 의해 형성된 접촉 평면의 양 측면 상에 배열될 수 있는 것도 이해될 것이다. 또한, 추가의 제2 판스프링이 주 연장 평면들이 제2 경사 축(109.17)을 형성하는 공통 교차선에서 실질적으로 교차하는 한 제공될 수 있다.
이러한 광학 소자 모듈(307.1)에서, (제1 실시예의 맥락에서 상기에서 설명된 바와 같이) 본 발명에 따른 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이 또한 실행될 수 있는 것도 이해될 것이다.
제4 실시예
다음에서, 본 발명에 따른 광학 소자 모듈(407.1)의 제4 실시예가 도 1 내지 도 10 그리고 도 11c를 참조하여 설명될 것이다. 광학 소자 모듈(407.1)은 그의 기본적인 설계 및 기능에 있어서, 광학 소자 모듈(107.1)에 대체로 대응하고, 도 1의 광학 결상 장치(101) 내의 광학 소자 모듈(107.1)을 대체할 수 있다. 따라서, 여기서는 상기에서 주어진 설명을 주로 참조하고, 광학 소자 모듈(107.1)에 대한 차이점만이 더 상세하게 설명될 것이다. 특히, 유사한 부분은 300만큼 증가된 동일한 도면 부호가 주어지고, (다음에서 명확하게 설명되지 않으면) 이러한 부분에 대해, 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 주어진 설명이 참조된다.
도 11c는 도 5의 도면과 동일한 도면에서의 광학 소자 모듈(407.1)의 세부의 개략적인 단면도를 도시한다. 광학 소자 모듈(107.1)에 대한 광학 소자 모듈(407.1)의 차이점은 제2 렌즈 지지 요소(409.8)의 다리(409.15)의 설계에만 있다. 2개의 동일 평면 판스프링 요소(109.16) 대신에, 지지 링(109.1)의 접선 방향(y축)으로 이어지는 제2 경사 축(109.17)을 형성하는 하나의 단일 탄성 힌지 요소(409.37)가 제공된다.
다시, 제2 경사 축(109.17)은 (점선 외형에 의해 표시된) 제1 렌즈 지지 요소(109.7)의 지지 표면(109.5)에 의해 형성된 (하부 렌즈 접촉 표면(108.3)에 대한) 접촉 평면 내에 놓인다. 이러한 제2 경사 축(109.17)의 기능은 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 상세하게 설명되었다. 특히, 여기서 다시, 제2 경사 축은 방사상 방향(x축)을 따라, 지지 표면(109.5) 내에서 실질적으로 중심에 위치된다.
다리(109.15)에 대한 주어진 기하학적 경계 조건에서, 탄성 힌지 요소(409.37)의 위치를 변형시킴으로써, 지지 표면(109.5)에 대한 제2 경사 축(109.17)의 위치가 조정될 수 있는 것이 이해될 것이다. 또한, 상기에서 설명된 바와 같은 조정 수단(109.18)이 사용될 수 있다.
제1 실시예와 유사한 방식으로, 2개 이상의 그러한 탄성 힌지 요소가 (축 방향을 따라) 제공되어, 그 다음 조합하여 제2 경사 축(109.17)의 위치를 한정할 수 있는 것도 이해될 것이다.
이러한 광학 소자 모듈(407.1)에서, (제1 실시예의 맥락에서 상기에서 설명된 바와 같이) 본 발명에 따른 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이 또한 실행될 수 있는 것도 이해될 것이다.
제5 실시예
다음에서, 본 발명에 따른 광학 소자 모듈(507.1)의 제5 실시예가 도 1 내지 도 10 그리고 도 12를 참조하여 설명될 것이다. 광학 소자 모듈(507.1)은 그의 기본적인 설계 및 기능에 있어서, 광학 소자 모듈(107.1)에 대체로 대응하고, 도 1의 광학 결상 장치(101) 내의 광학 소자 모듈(107.1)을 대체할 수 있다. 따라서, 여기서는 상기에서 주어진 설명을 주로 참조하고, 광학 소자 모듈(107.1)에 대한 차이점만이 더 상세하게 설명될 것이다. 특히, 유사한 부분은 400만큼 증가된 동일한 도면 부호가 주어지고, (다음에서 명확하게 설명되지 않으면) 이러한 부분에 대해, 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 주어진 설명이 참조된다.
도 12는 도 7의 도면과 유사한 도면에서의 광학 소자 모듈(507.1)의 세부의 개략적인 단면도를 도시한다. 광학 소자 모듈(107.1)에 대한 광학 소자 모듈(507.1)의 차이점은 클램프(509.4)의 접촉 요소(509.24)의 설계에만 있다.
클램프(509.4)의 장착 요소(109.23) 및 (판스프링 요소(109.27)를 구비한) 링크 요소(109.25)가 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 설명된 것과 동일하지만, 접촉 요소(509.24)는 제1 단부에서, (제1 실시예의 맥락에서 상기에서 설명된 바와 같은) 클램프 표면(109.26)을 제공하는 제1 접촉 요소 부분(509.38)을 갖는다. 제2 단부에서, 접촉 요소(509.24)는, 한편으로 링크 요소(109.25)의 2개의 판스프링 요소(109.27)에 연결되고, 다른 한편으로 연결 부분(509.40)을 거쳐 제1 접촉 요소 부분(509.38)에 연결되는 제2 접촉 요소 부분(509.39)을 갖는다.
접촉 요소(509.24)의 연결 부분(509.40)은 주 연장 평면들이 지지 링(109.1)의 방사상 방향(x축)으로 이어지며 클램핑 표면(109.26)에 의해 형성된 (상부 렌즈 접촉 표면(108.4)에 대한) 접촉 평면 내에 놓이는 교차선에서 교차하도록 배열된 2개의 판스프링 요소(509.41)에 의해 형성된다. 2개의 판스프링 요소(509.41)의 이러한 교차선은 클램핑 표면(109.26)의 제1 경사 축(109.36)을 형성한다.
제1 실시예의 클램프(109.4)와 비교하여, 클램프(509.4)는 제1 경사 축(109.36)에 대한 클램핑 표면(109.26)의 경사 이동이 (클램핑력(FCL)을 제공해야 하는) 판스프링 요소(109.27)의 비틀림에 의해 제공될 필요가 없고, 판스프링 요소(509.41)의 굽힘에 의해 제공되는 장점을 갖는다. 따라서, 그러한 경사 이동에 대해 더 적은 저항을 갖는 구성을 제공하는 것이 가능하다.
여기서도, 제1 경사 축(109.36)은 (점선 외형에 의해 표시된) 클램프(509.4)의 클램프 표면(109.26)에 의해 형성된 (상부 렌즈 접촉 표면(108.4)에 대한) 접촉 평면 내에 놓인다. 이러한 제1 경사 축(109.36)의 기능은 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 상세하게 설명되었다. 특히, 여기서 다시, 제1 경사 축(109.36)은 접선 방향(y축)을 따라, 클램프 표면(109.26) 내에서 실질적으로 중심에 위치된다.
추가의 판스프링 요소가 주 연장 평면들이 제1 경사 축(109.36)을 형성하는 공통 교차선에서 실질적으로 교차하는 한 제공될 수 있는 것도 이해될 것이다.
이러한 광학 소자 모듈(507.1)에서, (제1 실시예의 맥락에서 상기에서 설명된 바와 같이) 본 발명에 따른 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이 또한 실행될 수 있는 것도 이해될 것이다.
제6 실시예
다음에서, 본 발명에 따른 광학 소자 모듈(607.1)의 제6 실시예가 도 1 내지 도 10 그리고 도 13 및 도 14를 참조하여 설명될 것이다. 광학 소자 모듈(607.1)은 그의 기본적인 설계 및 기능에 있어서, 광학 소자 모듈(107.1)에 대체로 대응하고, 도 1의 광학 결상 장치(101) 내의 광학 소자 모듈(107.1)을 대체할 수 있다. 따라서, 여기서는 상기에서 주어진 설명을 주로 참조하고, 광학 소자 모듈(107.1)에 대한 차이점만이 더 상세하게 설명될 것이다. 특히, 유사한 부분은 500만큼 증가된 동일한 도면 부호가 주어지고, (다음에서 명확하게 설명되지 않으면) 이러한 부분에 대해, 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 주어진 설명이 참조된다.
도 13은 도 2의 선 ⅩⅢ-ⅩⅢ을 따른 단면과 유사한 단면에서의 광학 소자 모듈(607.1)의 일부의 개략적인 단면도를 도시하고, 도 14는 도 13의 클램프(609.4)의 일부의 개략적인 사시도이다. 광학 소자 모듈(107.1)에 대한 광학 소자 모듈(607.1)의 차이점은 클램프(609.4)의 설계에만 있다.
클램프(109.4)에 대한 한 가지 차이점은 (장착 요소(609.23)와 접촉 요소(609.24)를 연결하는) 링크 요소(609.25)가 (접촉 요소(109.24)의 양 측면 상에 위치된 2개의 개별 판스프링 요소(109.27) 대신에) 접촉 요소(609.24) 위에 위치된 하나의 단일 판스프링 요소(609.27)를 포함하는 사실에 있다. 그러나, 기준 평면(RP)에 대한 판스프링 요소(609.27)의 배열은 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 설명된 판스프링 요소(109.27)들 중 하나와 동일하다. 따라서, 여기서는 판스프링 요소(109.27)에 대해 상기에서 주어진 설명을 참조할 뿐이고, 여기서도 접촉 압력(pC)의 균등한 분포가 클램프 표면(109.26)과 상부 렌즈 접촉 표면(108.4) 사이의 접촉 영역(AC)에 걸쳐 얻어진다는 것(그로 인해, 기준 평면(RP) 내에 위치된 클램핑력(FCL)으로 이어지는 것)을 알기만 하면 된다.
클램프(109.4)에 대한 제2 차이점은 접촉 요소(609.24)가 제1 단부에서, (제1 실시예의 맥락에서 상기에서 설명된 바와 같이) 클램프 표면(109.26)을 제공하는 제1 접촉 요소 부분(609.38)을 갖는 사실에 있다. 제2 단부에서, 접촉 요소(609.24)는, 한편으로 링크 요소(609.25)의 판스프링 요소(609.27)에 연결되고, 다른 한편으로 연결 부분(609.40)을 거쳐 제1 접촉 요소 부분(609.38)에 연결되는 제2 접촉 요소 부분(609.39)을 갖는다.
접촉 요소(609.24)의 연결 부분(609.40)은 종방향 축들이 클램핑 표면(109.26)에 의해 형성된 (상부 렌즈 접촉 표면(108.4)에 대한) 접촉 평면 내에 놓이는 교차점에서 교차하도록 삼각대 방식으로 배열되는 3개의 탄성 변형 가능한 스트럿 요소(609.41, strut element)에 의해 형성된다. 3개의 스트럿 요소(609.41)의 축들의 이러한 교차점은 (무엇보다도) 상기에서 설명된 바와 같이 클램핑 표면(109.26)의 경사 축(109.35, 109.36)을 형성하는 경사점을 형성한다.
제1 실시예의 클램프(109.4)와 비교하여, 클램프(609.4)는 클램핑 표면(109.26)의 임의의 경사 이동이 (클램핑력(FCL)을 제공해야 하는) 판스프링 요소(609.27)의 비틀림 또는 굽힘에 의해 제공될 필요가 없고, 스트럿 요소(609.41)의 굽힘에 의해 제공되는 장점을 갖는다. 따라서, 그러한 경사 이동에 대해 더 적은 저항을 갖는 구성을 제공하는 것이 가능하다.
여기서도, 각각의 경사 축(109.35, 109.36)은 클램프(609.4)의 클램프 표면(109.26)에 의해 형성된 (상부 렌즈 접촉 표면(108.4)에 대한) 접촉 평면 내에 놓인다. 각각의 경사 축(109.36)의 기능은 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 상세하게 설명되었다. 특히, 여기서 다시, 각각의 경사 축(109.35, 109.36)은 각각 접선 방향(y축) 및 방사상 방향(x축)을 따라, 클램프 표면(109.26) 내에서 실질적으로 중심에 위치된다.
추가의 탄성 스트럿 요소가 종방향 축들이 각각의 경사 축(109.35, 109.36)을 형성하는 공통 교차점에서 실질적으로 교차하는 한 제공될 수 있는 것도 이해될 것이다.
이러한 광학 소자 모듈(607.1)에서, (제1 실시예의 맥락에서 상기에서 설명된 바와 같이) 본 발명에 따른 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이 또한 실행될 수 있는 것도 이해될 것이다.
제7 실시예
다음에서, 본 발명에 따른 광학 소자 모듈(707.1)의 제7 실시예가 도 1 내지 도 10 그리고 도 13 내지 도 15를 참조하여 설명될 것이다. 광학 소자 모듈(707.1)은 그의 기본적인 설계 및 기능에 있어서, 광학 소자 모듈(107.1, 607.1)에 대체로 대응하고, 도 1의 광학 결상 장치(101) 내의 광학 소자 모듈(107.1)을 대체할 수 있다. 따라서, 여기서는 상기에서 주어진 설명을 주로 참조하고, 광학 소자 모듈(107.1)에 대한 차이점만이 더 상세하게 설명될 것이다. 특히, 유사한 부분은 600만큼 증가된 동일한 도면 부호가 주어지고, (다음에서 명확하게 설명되지 않으면) 이러한 부분에 대해, 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 주어진 설명이 참조된다.
도 15는 도 13의 단면과 유사한 단면에서의 광학 소자 모듈(707.1)의 일부의 개략적인 단면도를 도시한다. 광학 소자 모듈(607.1)에 대한 광학 소자 모듈(707.1)의 한 가지 차이점은 (지지 표면(109.5)을 제공하는) 제1 접촉 요소 부분(709.9)과 제1 렌즈 지지 요소(709.7)의 제2 접촉 요소 부분(709.10)을 연결하는 연결 부분(709.11)의 설계에 있다.
연결 부분(709.11)은 클램프(609.4)의 연결 부분(609.40)과 유사한 방식으로 설계된다. 특히, 연결 부분(709.11)은 종방향 축들이 지지 표면(109.5)에 의해 형성된 (하부 렌즈 접촉 표면(108.3)에 대한) 접촉 평면 내에 놓이는 교차점에서 교차하도록 삼각대 방식으로 배열되는 3개의 탄성 변형 가능한 스트럿 요소(709.12)에 의해 형성된다. 3개의 스트럿 요소(709.12)의 축들의 이러한 교차점은 (무엇보다도) 상기에서 설명된 바와 같이 지지 표면(109.26)의 경사 축(109.13, 109.17)을 형성하는 경사점을 형성한다.
여기서도, 각각의 경사 축(109.13, 109.17)은 렌즈 지지부(709.3)의 지지 표면(109.5)에 의해 형성된 (하부 렌즈 접촉 표면(108.3)에 대한) 접촉 평면 내에 놓인다. 각각의 경사 축(109.13, 109.17)의 기능은 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 상세하게 설명되었다. 특히, 여기서 다시, 각각의 경사 축(109.13, 109.17)은 방사상 방향(x축) 및 접선 방향(y축)을 따라, 지지 표면(109.5) 내에서 실질적으로 중심에 위치된다.
제1 실시예의 렌즈 지지부(109.3)와 비교하여, 렌즈 지지부(709.3)는 지지 표면(109.5)의 임의의 경사 이동이 스트럿 요소(709.12)의 굽힘에 의해 제공되는 장점을 갖는다. 따라서, 그러한 경사 이동에 대해 더 적은 저항을 갖는 구성을 제공하는 것이 가능하고, 지지 표면(109.5)에 대한 임의의 경사 축을 제공하는 추가의 구성요소에 대한 필요가 없다. 결과적으로, 제1 및 제6 실시예에 대한 제2 차이점은 제1 렌즈 지지 요소(709.7)가 지지 링(109.1) 상에 직접 지지되는 사실에 있다.
추가의 탄성 스트럿 요소가 종방향 축들이 각각의 경사 축(109.13, 109.17)을 형성하는 공통 교차점에서 실질적으로 교차하는 한 제공될 수 있는 것도 이해될 것이다.
이러한 광학 소자 모듈(707.1)에서, (제1 실시예의 맥락에서 상기에서 설명된 바와 같이) 본 발명에 따른 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이 또한 실행될 수 있는 것도 이해될 것이다.
제8 실시예
다음에서, 본 발명에 따른 광학 소자 모듈(807.1)의 제8 실시예가 도 1 내지 도 10 그리고 도 16을 참조하여 설명될 것이다. 광학 소자 모듈(807.1)은 그의 기본적인 설계 및 기능에 있어서, 광학 소자 모듈(107.1)에 대체로 대응하고, 도 1의 광학 결상 장치(101) 내의 광학 소자 모듈(107.1)을 대체할 수 있다. 따라서, 여기서는 상기에서 주어진 설명을 주로 참조하고, 광학 소자 모듈(107.1)에 대한 차이점만이 더 상세하게 설명될 것이다. 특히, 유사한 부분은 700만큼 증가된 동일한 도면 부호가 주어지고, (다음에서 명확하게 설명되지 않으면) 이들 부분에 대해, 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 주어진 설명이 참조된다.
도 16은 도 13의 도면과 유사한 도면에서의 광학 소자 모듈(807.1)의 세부의 개략적인 단면도를 도시한다. 광학 소자 모듈(107.1)에 대한 광학 소자 모듈(807.1)의 차이점은 클램프(809.4)의 링크 요소(809.25)의 설계에만 있다.
클램프(809.4)의 장착 요소(109.23) 및 접촉 요소(109.24)가 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 설명된 것과 동일하지만, 링크 요소(809.25)는 기준 평면(RP)의 양 측면 상에 위치되어 실질적으로 강성인 연결 요소(809.43)에 의해 연결되는 2개의 판스프링 요소(809.42)를 포함한다.
점선 외형(809.44)에 의해 표시된 바와 같이, 판스프링 요소(809.42)는 (클램프(809.4)의 무부하 상태에서) 축 방향(z축)을 따라 연장하는 주 연장 평면을 갖는다. 도 16으로부터 알 수 있는 바와 같이, 기준 평면(RP)의 양 측면 상의 변형 가능한 요소의 배열로 인해, 그러한 구성에서도, 접촉 영역(AC)에서 작용하는 접촉 압력(pC)의 실질적으로 균등한 분포가 달성될 수 있어서, 결과적인 클램핑력(FCL)이 기준 평면(RP) 내에서 실질적으로 작용한다.
결과적으로, 본 발명에 따르면, 클램프의 탄성 변형 가능한 섹션은 방사상 방향(x축)에 대한 임의의 적합한 배향을 가질 수 있는 것이 이해될 것이다. 그러한 변형 가능한 섹션이 (접촉 영역(AC)에 의해 형성된) 기준 평면(RP)의 양 측면 상에 위치되는 한, 렌즈(108)의 광학적으로 사용되는 영역으로 전파되어 (원치 않는 결상 오류로 이어질) 수도 있는 국소 집중 응력으로 이어질 수 있는 부하 집중을 감소시키기 위해 접촉 영역(AC)에서 작용하는 접촉 압력(pC)의 실질적으로 균등한 분포를 달성하는 것이 가능하다.
이러한 광학 소자 모듈(807.1)에서, (제1 실시예의 맥락에서 상기에서 설명된 바와 같이) 본 발명에 따른 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이 또한 실행될 수 있는 것도 이해될 것이다.
제9 실시예
다음에서, 본 발명에 따른 광학 소자 모듈(907.1)의 제9 실시예가 도 1 내지 도 10 그리고 도 17을 참조하여 설명될 것이다. 광학 소자 모듈(907.1)은 그의 기본적인 설계 및 기능에 있어서, 광학 소자 모듈(107.1)에 대체로 대응하고, 도 1의 광학 결상 장치(101) 내의 광학 소자 모듈(107.1)을 대체할 수 있다. 따라서, 여기서는 상기에서 주어진 설명을 주로 참조하고, 광학 소자 모듈(107.1)에 대한 차이점만이 더 상세하게 설명될 것이다. 특히, 유사한 부분은 800만큼 증가된 동일한 도면 부호가 주어지고, (다음에서 명확하게 설명되지 않으면) 이들 부분에 대해, 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 주어진 설명이 참조된다.
광학 소자 모듈(107.1)에 대한 차이점은 제1 렌즈 지지 요소(909.7)의 연결 부분(909.11)이 연속 판스프링이 아닌 2개의 개별 판스프링 섹션을 갖는 요소로서 형성되는 2개의 제1 판스프링 요소(909.12)에 의해 형성되는 사실에만 있다.
제10 실시예
다음에서, 본 발명에 따른 광학 소자 모듈(1007.1)의 제10 실시예가 도 1 내지 도 10 그리고 도 18을 참조하여 설명될 것이다. 광학 소자 모듈(1007.1)은 그의 기본적인 설계 및 기능에 있어서, 광학 소자 모듈(107.1)에 대체로 대응하고, 도 1의 광학 결상 장치(101) 내의 광학 소자 모듈(107.1)을 대체할 수 있다. 따라서, 여기서는 상기에서 주어진 설명을 주로 참조하고, 광학 소자 모듈(107.1)에 대한 차이점만이 더 상세하게 설명될 것이다. 특히, 유사한 부분은 900만큼 증가된 동일한 도면 부호가 주어지고, (다음에서 명확하게 설명되지 않으면) 이러한 부분에 대해, 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 주어진 설명이 참조된다.
광학 소자 모듈(107.1)에 대한 차이점은 클램프(1009.4)가 U-형상 제2 렌즈 지지 요소(1009.8)의 기부 섹션(1009.14)에 직접 장착되는 사실에만 있다.
제11 실시예
다음에서, 본 발명에 따른 광학 소자 모듈(1107.1)의 제11 실시예가 도 1 내지 도 10 그리고 도 18을 참조하여 설명될 것이다. 광학 소자 모듈(1107.1)은 그의 기본적인 설계 및 기능에 있어서, 광학 소자 모듈(107.1)에 대체로 대응하고, 도 1의 광학 결상 장치(101) 내의 광학 소자 모듈(107.1)을 대체할 수 있다. 따라서, 여기서는 상기에서 주어진 설명을 주로 참조하고, 광학 소자 모듈(107.1)에 대한 차이점만이 더 상세하게 설명될 것이다. 특히, 유사한 부분은 900만큼 증가된 동일한 도면 부호가 주어지고, (다음에서 명확하게 설명되지 않으면) 이러한 부분에 대해, 제1 실시예의 맥락에서 상기에서 주어진 설명이 참조된다.
광학 소자 모듈(107.1)에 대한 차이점은 클램프(1109.4)가 지지 링(1109.1)에 직접 장착되는 사실에만 있다.
상기에서, 본 발명은 광학 소자 및 광학 소자를 유지하는 홀더를 포함하는 광학 소자 모듈이 사용된 실시예의 맥락에서 설명되었다. 그러나, 본 발명은 유체 액추에이터가 광학 소자에 직접 연결되는 실시예에 적용될 수도 있는 것이 이해될 것이다.
또한, 본 발명은 유체 액추에이터가 광학 소자의 위치 (즉, 공간내 위치 및/또는 배향)을 변경하기 위해 사용되는 실시예의 맥락에서 주로 설명되었다. 그러나, 이미 상기에서 지적된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에서, 본 발명에 따른 액추에이터에 의해 제공되는 구동력은 광학 장치의 그러한 광학 소자 또는 임의의 다른 구성요소의 기하학적 형상을 변경하기 위해 사용될 수도 있는 것이 이해될 것이다. 또한, 본 발명에 따른 액추에이터에 의해 제공되는 구동력은 그러한 광학 장치 내에서 임의의 다른 작업을 위해 사용될 수 있다.
상기에서, 본 발명은 유지 장치의 접촉 요소가 광학 소자 유닛의 단일 구성요소인 광학 소자 상에 직접 작용하는 예의 맥락에서만 설명되었다. 그러나, 본 발명의 다른 실시예에서, 광학 소자 유닛은 (광학 소자와 별도로) 유지 장치에 의해 접촉되어 그 안으로 도입된 부하를 광학 소자를 향해 전달하는 (광학 소자와 직접 접촉하는 유지 요소 등과 같은) 추가의 구성요소를 포함할 수도 있는 것이 이해될 것이다.
상기에서, 본 발명은 193㎚ 파장의 노광 광에서 작동하는 마이크로리소그래피 시스템의 맥락에서만 설명되었다. 그러나, 본 발명은 임의의 다른 파장에서 작동하는 임의의 다른 광학 장치, 특히 변형 감지 구성요소를 사용하는 임의의 다른 광학 장치의 맥락에서 사용될 수도 있는 것이 이해될 것이다. 특히, 본 발명은 20㎚ 아래, 전형적으로 약 13㎚에서 작동하는 소위 EUV 시스템의 맥락에서 사용될 수도 있다.
마지막으로, 본 발명은 광학 장치 내의 임의의 위치에서의 임의의 유형의 광학 소자의 맥락에서, 특히 굴절, 반사, 및 회절 광학 소자 또는 이들의 임의의 조합의 맥락에서, 사용될 수 있는 것이 이해될 것이다.

Claims (100)

  1. 광학 소자 모듈이며,
    - 광학 소자를 포함하는 광학 소자 유닛, 및
    - 지지 구조물을 포함하고,
    - 상기 지지 구조물은 상기 광학 소자 유닛을 지지하며, 지지 장치 및 상기 지지 장치에 장착된 접촉 장치를 포함하고,
    - 상기 접촉 장치는 상기 접촉 장치의 제1 접촉 표면을 거쳐 제1 방향으로 상기 광학 소자 유닛 상으로 결과적인 유지력을 가하고, 상기 제1 접촉 표면은 상기 광학 소자 유닛의 제2 접촉 표면과 접촉하고,
    - 상기 접촉 장치는 상기 제1 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 제2 방향을 따라 연장하며, 상기 제1 접촉 표면과 상기 지지 장치 사이에 동역학적으로 직렬로 배열된 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 포함하고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 결과적인 유지력에 응답하여 탄성 변형되고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 기준 평면의 양 측면 상에 배열되고, 상기 기준 평면은 상기 결과적인 유지력을 포함하며 상기 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지는,
    광학 소자 모듈.
  2. 제1항에 있어서,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션 중 적어도 하나는 판스프링 섹션을 포함하고,
    - 상기 판스프링 섹션은 상기 결과적인 유지력에 응답하여 탄성 변형되는,
    광학 소자 모듈.
  3. 제2항에 있어서, 상기 판스프링 섹션은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향 중 적어도 하나를 따라 연장하는 광학 소자 모듈.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 적어도 하나의 판스프링 요소에 의해 형성되는 광학 소자 모듈.
  5. 제1항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 접촉 요소 및 상기 지지 장치에 연결된 장착 요소를 포함하고,
    - 상기 제1 접촉 표면은 상기 접촉 요소의 일 표면이고,
    - 상기 접촉 요소는 상기 기준 평면의 두 측면 모두에서 상기 제2 방향을 따라 연장하고,
    - 상기 접촉 요소는 제3 방향을 따라 연장하고, 상기 제3 방향은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 2개의 판스프링 요소에 의해 형성되고,
    - 상기 판스프링 요소는 상기 제3 방향을 따라, 상기 접촉 요소의 양 측면 상에 배열되고,
    - 상기 판스프링 요소 각각은 제1 단부에서 상기 접촉 요소에 연결되고, 제2 단부에서 상기 장착 요소에 연결되는,
    광학 소자 모듈.
  6. 제1항에 있어서,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 결과적인 유지력에 응답하여, 굽힘 평면에 대해 횡방향으로 이어지는 굽힘 축에 대한 굽힘 모멘트를 경험하고, 상기 굽힘 평면은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 의해 형성되고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 제2 방향을 따라, 상기 굽힘 모멘트가 0의 굽힘 모멘트의 지점에서 양의 값으로부터 음의 값으로 변하도록 배열되고,
    - 상기 0의 굽힘 모멘트의 지점은 상기 제2 방향을 따라, 상기 기준 평면에 가까운 위치와 실질적으로 상기 기준 평면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되는,
    광학 소자 모듈.
  7. 제1항에 있어서,
    - 상기 제1 접촉 표면은 상기 제2 접촉 표면 상에 유지 접촉 압력을 가하고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 유지 접촉 압력이 상기 제2 접촉 표면에 걸쳐 실질적으로 균등한 분포를 갖는 방식으로 변형 가능한,
    광학 소자 모듈.
  8. 제1항에 있어서, 상기 접촉 장치는 모놀리식 구성요소인 광학 소자 모듈.
  9. 제1항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 상기 제1 접촉 표면의 경사 운동의 경사 축을 형성하도록 배열되고, 상기 경사 운동은 상기 제1 방향을 따라 상기 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력으로부터 생성되고,
    - 상기 경사 축은 상기 제1 접촉 표면에 가까운 위치와 실질적으로 상기 제1 접촉 표면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되는,
    광학 소자 모듈.
  10. 제9항에 있어서,
    - 상기 제1 접촉 표면은 상기 제2 접촉 표면에 대한 접촉 평면 및 상기 경사 축에 대해 횡방향인 방향으로의 상기 접촉 평면 내의 최대 접촉 표면 길이 치수를 형성하고,
    - 상기 제1 접촉 표면과 상기 경사 축 사이의 거리는 상기 최대 접촉 표면 길이 치수의 20% 미만 및 상기 최대 접촉 표면 길이 치수의 5% 미만 중 적어도 하나인,
    광학 소자 모듈.
  11. 제9항에 있어서, 상기 경사 축은 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션 중 적어도 하나에 의해 형성되는 광학 소자 모듈.
  12. 제11항에 있어서,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 적어도 하나의 판스프링 요소에 의해 형성되고,
    - 상기 적어도 하나의 판스프링 요소는 상기 제2 접촉 표면에 대한 접촉 평면에 근접한 위치와 실질적으로 이러한 접촉 평면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되고, 상기 접촉 평면은 상기 제1 접촉 표면에 의해 형성되는,
    광학 소자 모듈.
  13. 제9항에 있어서,
    - 상기 경사 축은 상기 제1 접촉 표면의 제1 경사 운동의 제1 경사 축이고,
    - 상기 접촉 장치는 상기 제1 접촉 표면의 제2 경사 운동의 제2 경사 축을 형성하도록 배열되고, 상기 제2 경사 운동은 상기 제1 방향을 따라 상기 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력으로부터 생성되고,
    - 상기 제2 경사 축은 상기 제1 경사 축에 대해 횡방향으로 이어지고,
    - 상기 제2 경사 축은 상기 제1 접촉 표면에 가까운 위치와 실질적으로 상기 제1 접촉 표면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되는,
    광학 소자 모듈.
  14. 제13항에 있어서, 상기 제1 경사 축 및 상기 제2 경사 축 중 적어도 하나는 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션 중 적어도 하나에 의해 형성되는 광학 소자 모듈.
  15. 제9항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 접촉 유닛을 포함하고, 상기 접촉 유닛은 제1 접촉 유닛 부분, 제2 접촉 유닛 부분, 및 상기 제1 접촉 유닛 부분과 상기 제2 접촉 유닛 부분을 연결하는 연결 부분을 포함하고,
    - 상기 제1 접촉 표면은 상기 제1 접촉 유닛 부분의 일 표면이고,
    - 상기 경사 축은 상기 연결 부분의 적어도 2개의 탄성 변형 가능한 요소에 의해 형성되는,
    광학 소자 모듈.
  16. 제15항에 있어서,
    - 상기 연결 부분은 2개의 판스프링 요소를 포함하고,
    - 상기 판스프링 요소 각각은 판스프링 평면 내에서 연장하며, 상기 판스프링 평면들이 교차선에서 교차하도록 배열되고, 상기 교차선은 상기 경사 축을 형성하는,
    광학 소자 모듈.
  17. 제15항에 있어서,
    - 상기 연결 부분은 3개의 탄성 변형 가능한 스트럿 요소를 포함하고,
    - 상기 스트럿 요소 각각은 스트럿 축을 가지며 상기 스트럿 축들이 교차점에서 교차하도록 배열되고, 상기 교차점은 상기 경사 축의 일 지점을 형성하는,
    광학 소자 모듈.
  18. 제1항에 있어서,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 제1 링크 섹션의 제1 단부가 상기 제1 접촉 표면에 인접하여 위치되고, 상기 제1 링크 섹션의 제2 단부가 상기 제2 링크 섹션에 인접하여 위치되도록, 배열되고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 제1 방향을 따라 상기 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력에 응답하여 휨을 겪도록 배열되고, 상기 제1 링크 섹션의 상기 휨은 적어도 상기 제1 단부의 제1 행정이 상기 제2 링크 섹션의 상기 휨으로부터 생성되는 적어도 상기 제1 단부의 제2 행정과 반대가 되도록 되어 있고,
    - 상기 제1 및 제2 행정은 상기 제1 방향을 따른 병진 이동 행정, 상기 제2 방향을 따른 병진 이동 행정, 및 상기 제1 및 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 축에 대한 회전 행정 중 하나인,
    광학 소자 모듈.
  19. 제1항에 있어서,
    - 상기 접촉 요소는 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션이 상기 결과적인 유지력에 응답하여, 각각의 굽힘 축에 대해 반대 방향으로 구부러지도록 배열되고,
    - 상기 각각의 굽힘 축은 굽힘 평면에 대해 횡방향으로 이어지고, 상기 굽힘 평면은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 의해 형성되는,
    광학 소자 모듈.
  20. 제1항에 있어서, 상기 접촉 장치는 상기 광학 소자 유닛 상으로 상기 결과적인 유지력으로서 클램핑력을 가하는 클램핑 장치인 광학 소자 모듈.
  21. 광학 소자 모듈이며,
    - 광학 소자를 포함하는 광학 소자 유닛, 및
    - 지지 구조물을 포함하고,
    - 상기 지지 구조물은 상기 광학 소자 유닛을 지지하며, 지지 장치 및 상기 지지 장치에 장착된 접촉 장치를 포함하고,
    - 상기 접촉 장치는 상기 접촉 장치의 제1 접촉 표면을 거쳐 상기 광학 소자 유닛 상으로 결과적인 유지력을 가하고, 상기 제1 접촉 표면은 상기 광학 소자 유닛의 제2 접촉 표면과 접촉하고, 상기 결과적인 유지력은 제1 방향으로 연장하는 작용선을 갖고,
    - 상기 접촉 장치는 상기 제1 접촉 표면과 상기 지지 장치 사이에 배열되며 상기 제1 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 제2 방향을 따라 연장하는 적어도 하나의 링크 섹션을 포함하고,
    - 상기 적어도 하나의 링크 섹션은 상기 결과적인 유지력에 응답하여, 굽힘 평면에 대해 횡방향으로 이어지는 굽힘 축에 대한 굽힘 모멘트를 경험하고, 상기 굽힘 평면은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 의해 형성되고,
    - 상기 적어도 하나의 링크 섹션은 상기 제2 방향을 따라, 상기 굽힘 모멘트가 0의 굽힘 모멘트의 지점에서 양의 값으로부터 음의 값으로 변하도록 배열되고,
    - 상기 0의 굽힘 모멘트의 지점은 상기 제2 방향을 따라, 기준 평면에 가까운 위치와 실질적으로 기준 평면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되고,
    - 상기 기준 평면은 상기 결과적인 유지력의 상기 작용선 및 상기 굽힘 축의 방향에 의해 형성되는,
    광학 소자 모듈.
  22. 제21항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 상기 제2 방향을 따라 연장하고 상기 제1 접촉 표면과 상기 지지 장치 사이에 동역학적으로 직렬로 배열된 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 포함하고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션은 상기 굽힘 모멘트에 응답하여 탄성 변형되고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 기준 평면의 양 측면 상에 배열되는,
    광학 소자 모듈.
  23. 제21항에 있어서, 상기 적어도 하나의 링크 섹션은 적어도 하나의 판스프링 섹션을 포함하고, 상기 판스프링 섹션은 상기 결과적인 유지력에 응답하여 탄성 변형되는 광학 소자 모듈.
  24. 제23항에 있어서, 상기 판스프링 섹션은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향 중 적어도 하나를 따라 연장하는 광학 소자 모듈.
  25. 제21항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 접촉 요소 및 상기 지지 장치에 연결된 장착 요소를 포함하고,
    - 상기 제1 접촉 표면은 상기 접촉 요소의 일 표면이고,
    - 상기 접촉 요소는 상기 기준 평면의 두 측면 모두에서 상기 제2 방향을 따라 연장하고,
    - 상기 접촉 요소는 제3 방향을 따라 연장하고, 상기 제3 방향은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지고,
    - 상기 적어도 하나의 링크 섹션은 2개의 판스프링 요소에 의해 형성되고,
    - 상기 판스프링 요소는 상기 제3 방향을 따라, 상기 접촉 요소의 양 측면 상에 배열되고,
    - 상기 판스프링 요소 각각은 상기 기준 평면의 일 측면 상에 위치된 제1 단부에서 상기 접촉 요소에 연결되고, 상기 기준 평면의 타 측면 상에 위치된 제2 단부에서 상기 장착 요소에 연결되는,
    광학 소자 모듈.
  26. 제21항에 있어서,
    - 상기 제1 접촉 표면은 상기 제2 접촉 표면 상에 유지 접촉 압력을 가하고,
    - 상기 적어도 하나의 링크 섹션은 상기 유지 접촉 압력이 상기 제2 접촉 표면에 걸쳐 실질적으로 균등한 분포를 갖는 방식으로 변형 가능한,
    광학 소자 모듈.
  27. 제21항에 있어서, 상기 접촉 장치는 모놀리식 구성요소인 광학 소자 모듈.
  28. 제21항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 상기 제1 접촉 표면의 경사 운동의 경사 축을 형성하도록 배열되고, 상기 경사 운동은 상기 제1 방향을 따라 상기 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력으로부터 생성되고,
    - 상기 경사 축은 상기 제1 접촉 표면에 가까운 위치와 실질적으로 상기 제1 접촉 표면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되는,
    광학 소자 모듈.
  29. 제28항에 있어서,
    - 상기 제1 접촉 표면은 상기 제2 접촉 표면에 대한 접촉 평면 및 상기 경사 축에 대해 횡방향인 방향으로의 상기 접촉 평면 내의 최대 접촉 표면 길이 치수를 형성하고,
    - 상기 제1 접촉 표면과 상기 경사 축 사이의 거리는 상기 최대 접촉 표면 길이 치수의 20% 미만 및 상기 최대 접촉 표면 길이 치수의 5% 미만 중 적어도 하나인,
    광학 소자 모듈.
  30. 제28항에 있어서, 상기 경사 축은 상기 적어도 하나의 링크 섹션에 의해 형성되는 광학 소자 모듈.
  31. 제30항에 있어서,
    - 상기 적어도 하나의 링크 섹션은 적어도 하나의 판스프링 요소에 의해 형성되고,
    - 상기 적어도 하나의 판스프링 요소는 상기 제2 접촉 표면에 대한 접촉 평면에 근접한 위치와 실질적으로 이러한 접촉 평면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되고, 상기 접촉 평면은 상기 제1 접촉 표면에 의해 형성되는,
    광학 소자 모듈.
  32. 제28항에 있어서,
    - 상기 경사 축은 상기 제1 접촉 표면의 제1 경사 운동의 제1 경사 축이고,
    - 상기 접촉 장치는 상기 제1 접촉 표면의 제2 경사 운동의 제2 경사 축을 형성하도록 배열되고, 상기 제2 경사 운동은 상기 제1 방향을 따라 상기 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력으로부터 생성되고,
    - 상기 제2 경사 축은 상기 제1 경사 축에 대해 횡방향으로 이어지고,
    - 상기 제2 경사 축은 상기 제1 접촉 표면에 가까운 위치와 실질적으로 상기 제1 접촉 표면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되는,
    광학 소자 모듈.
  33. 제32항에 있어서, 상기 제1 경사 축 및 상기 제2 경사 축 중 적어도 하나는 상기 적어도 하나의 링크 섹션에 의해 형성되는 광학 소자 모듈.
  34. 제28항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 접촉 유닛을 포함하고, 상기 접촉 유닛은 제1 접촉 유닛 부분, 제2 접촉 유닛 부분, 및 상기 제1 접촉 유닛 부분과 상기 제2 접촉 유닛 부분을 연결하는 연결 부분을 포함하고,
    - 상기 제1 접촉 표면은 상기 제1 접촉 유닛 부분의 일 표면이고,
    - 상기 경사 축은 상기 연결 부분의 적어도 2개의 탄성 변형 가능한 요소에 의해 형성되는,
    광학 소자 모듈.
  35. 제34항에 있어서,
    - 상기 연결 부분은 2개의 판스프링 요소를 포함하고,
    - 상기 판스프링 요소 각각은 판스프링 평면 내에서 연장하며 상기 판스프링 평면들이 교차선에 교차하도록 배열되고, 상기 교차선은 상기 경사 축을 형성하는,
    광학 소자 모듈.
  36. 제34항에 있어서,
    - 상기 연결 부분은 3개의 탄성 변형 가능한 스트럿 요소를 포함하고,
    - 상기 스트럿 요소 각각은 스트럿 축을 가지며 상기 스트럿 축들이 교차점에서 교차하도록 배열되고, 상기 교차점은 상기 경사 축의 일 지점을 형성하는,
    광학 소자 모듈.
  37. 제21항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 포함하고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 제1 링크 섹션의 제1 단부가 상기 제1 접촉 표면에 인접하여 위치되고 상기 제1 링크 섹션의 제2 단부가 상기 제2 링크 섹션에 인접하여 위치되도록, 배열되고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 제1 방향을 따라 상기 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력에 응답하여 휨을 겪도록 배열되고, 상기 제1 링크 섹션의 상기 휨은 적어도 상기 제1 단부의 제1 행정이 상기 제2 링크 섹션의 상기 휨으로부터 생성되는 적어도 상기 제1 단부의 제2 행정과 반대가 되도록 되어 있고,
    - 상기 제1 및 제2 행정은 상기 제1 방향을 따른 병진 이동 행정, 상기 제2 방향을 따른 병진 이동 행정, 및 상기 제1 및 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 축에 대한 회전 행정 중 하나인,
    광학 소자 모듈.
  38. 제21항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 포함하고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 결과적인 유지력에 응답하여, 각각의 굽힘 축에 대해 반대 방향으로 구부러지도록 배열되고,
    - 상기 각각의 굽힘 축은 굽힘 평면에 대해 횡방향으로 이어지고, 상기 굽힘 평면은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 의해 형성되는,
    광학 소자 모듈.
  39. 제21항에 있어서, 상기 접촉 장치는 상기 광학 소자 유닛 상으로 상기 결과적인 유지력으로서 클램핑력을 가하는 클램핑 장치인 광학 소자 모듈.
  40. 광학 소자 모듈이며,
    - 광학 소자를 포함하는 광학 소자 유닛, 및
    - 지지 구조물을 포함하고,
    - 상기 지지 구조물은 상기 광학 소자 유닛을 지지하고 접촉 장치 및 지지 장치를 포함하고,
    - 상기 접촉 장치는 접촉 요소, 상기 지지 장치에 연결된 장착 요소, 및 제1 단부에서 상기 접촉 요소에 그리고 제2 단부에서 상기 장착 요소에 고정식으로 연결된 적어도 하나의 링크 요소를 포함하고,
    - 상기 접촉 요소는 상기 장착 요소가 상기 지지 장치에 장착될 때 상기 광학 소자 유닛의 제2 접촉 표면 상에 접촉 압력을 가하는 제1 접촉 표면을 포함하고,
    - 상기 적어도 하나의 링크 요소는 상기 접촉 압력이 상기 제2 접촉 표면에 걸쳐 실질적으로 균등한 분포를 갖는 방식으로 변형 가능한,
    광학 소자 모듈.
  41. 제40항에 있어서, 상기 접촉 장치는 모놀리식 구성요소인 광학 소자 모듈.
  42. 제40항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 상기 광학 소자 유닛 상으로 결과적인 유지력을 가하고, 상기 결과적인 유지력은 상기 접촉 표면으로부터 생성되며 제1 방향으로 연장하는 작용선을 갖고,
    - 상기 링크 요소는 상기 제1 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 제2 방향을 따라 연장하고,
    - 상기 링크 요소는 상기 결과적인 유지력에 응답하여, 굽힘 평면에 대해 횡방향으로 이어지는 굽힘 축에 대한 굽힘 모멘트를 경험하고, 상기 굽힘 평면은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 의해 형성되고,
    - 상기 링크 요소는 상기 제2 방향을 따라, 상기 굽힘 모멘트가 0의 굽힘 모멘트의 지점에서 양의 값으로부터 음의 값으로 변하도록 배열되고,
    - 상기 0의 굽힘 모멘트의 지점은 상기 제2 방향을 따라, 기준 평면에 가까운 위치와 실질적으로 기준 평면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되고,
    - 상기 기준 평면은 상기 결과적인 유지력의 상기 작용선 및 상기 굽힘 축의 방향에 의해 형성되는,
    광학 소자 모듈.
  43. 제40항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 상기 광학 소자 유닛 상으로 유지력을 가하고, 상기 유지력은 상기 접촉 압력으로부터 생성되며 제1 방향으로 연장하는 작용선을 갖고,
    - 상기 링크 요소는, 상기 제1 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 제2 방향을 따라 연장하며 상기 제1 접촉 표면과 상기 지지 장치 사이에 동역학적으로 직렬로 배열된 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 포함하고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 결과적인 유지력에 응답하여 탄성 변형되고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 기준 평면의 양 측면 상에 배열되고, 상기 기준 평면은 상기 결과적인 유지력을 포함하며 상기 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지는,
    광학 소자 모듈.
  44. 제40항에 있어서, 상기 링크 요소는 적어도 하나의 판스프링 섹션을 포함하고, 상기 판스프링 섹션은 상기 접촉 압력에 응답하여 탄성 변형되는 광학 소자 모듈.
  45. 제44항에 있어서, 상기 판스프링 섹션은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향 중 적어도 하나를 따라 연장하는 광학 소자 모듈.
  46. 제40항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 상기 광학 소자 유닛 상으로 유지력을 가하고, 상기 유지력은 상기 접촉 압력으로부터 생성되며 제1 방향을 갖고,
    - 상기 링크 요소는 제2 방향을 따라 연장하며, 상기 제2 방향은 상기 제1 방향에 대해 횡방향으로 이어지고,
    - 상기 접촉 요소는 제3 방향을 따라 연장하며, 상기 제3 방향은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지고,
    - 상기 링크 요소는 2개의 판스프링 요소에 의해 형성되고, 상기 판스프링 요소는 상기 제3 방향을 따라, 상기 접촉 요소의 양 측면 상에 배열되고,
    - 기준 평면은 상기 결과적인 유지력을 포함하며 상기 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지고,
    - 상기 판스프링 요소 각각은 상기 기준 평면의 일 측면 상에 위치된 제1 단부에서 상기 접촉 요소에 연결되고, 상기 기준 평면의 타 측면 상에 위치된 제2 단부에서 상기 장착 요소에 연결되는,
    광학 소자 모듈.
  47. 제40항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 상기 제1 접촉 표면의 경사 운동의 경사 축을 형성하도록 배열되고, 상기 경사 운동은 상기 제1 방향을 따라 상기 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력으로부터 생성되고,
    - 상기 경사 축은 상기 제1 접촉 표면에 가까운 위치와 실질적으로 상기 제1 접촉 표면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되는,
    광학 소자 모듈.
  48. 제47항에 있어서,
    - 상기 제1 접촉 표면은 상기 제2 접촉 표면에 대한 접촉 평면 및 상기 경사 축에 대해 횡방향인 방향으로의 상기 접촉 평면 내의 최대 접촉 표면 길이 치수를 형성하고,
    - 상기 제1 접촉 표면과 상기 경사 축 사이의 거리는 상기 최대 접촉 표면 길이 치수의 20% 미만 및 상기 최대 접촉 표면 길이 치수의 5% 미만 중 적어도 하나인,
    광학 소자 모듈.
  49. 제47항에 있어서, 상기 경사 축은 상기 링크 요소에 의해 형성되는 광학 소자 모듈.
  50. 제47항에 있어서,
    - 상기 접촉 요소는 제1 접촉 요소 부분, 제2 접촉 요소 부분, 및 상기 제1 접촉 요소 부분과 상기 제2 접촉 요소 부분을 연결하는 연결 부분을 포함하고,
    - 상기 제1 접촉 표면은 상기 제1 접촉 요소 부분의 일 표면이고,
    - 상기 경사 축은 상기 연결 부분의 적어도 2개의 탄성 변형 가능한 요소에 의해 형성되는,
    광학 소자 모듈.
  51. 제50항에 있어서,
    - 상기 연결 부분은 2개의 판스프링 요소 및 3개의 탄성 변형 가능한 스트럿 요소 중 하나를 포함하고,
    - 상기 판스프링 요소 각각은 판스프링 평면 내에서 연장하며 상기 판스프링 평면들이 교차선에 교차하도록 배열되고, 상기 교차선은 상기 경사 축을 형성하고,
    - 상기 스트럿 요소 각각은 스트럿 축을 가지며 상기 스트럿 축들이 교차점에서 교차하도록 배열되고, 상기 교차점은 상기 경사 축의 일 지점을 형성하는,
    광학 소자 모듈.
  52. 제40항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 상기 광학 소자 유닛 상으로 유지력을 가하고, 상기 유지력은 상기 접촉 압력으로부터 생성되며 유지력 방향을 갖고,
    - 상기 링크 요소는 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 포함하고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 제1 링크 섹션의 제1 단부가 상기 제1 접촉 표면에 인접하여 위치되고, 상기 제1 링크 섹션의 제2 단부가 상기 제2 링크 섹션에 인접하여 위치되도록, 배열되고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 제1 방향을 따라 상기 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력에 응답하여 휨을 겪도록 배열되고, 상기 제1 링크 섹션의 상기 휨은 적어도 상기 제1 단부의 제1 행정이 상기 제2 링크 섹션의 상기 휨으로부터 생성되는 적어도 상기 제1 단부의 제2 행정과 반대가 되도록 되어 있고,
    - 상기 제1 및 제2 행정은 상기 제1 방향을 따른 병진 이동 행정, 상기 제2 방향을 따른 병진 이동 행정, 및 상기 제1 및 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 축에 대한 회전 행정 중 하나인,
    광학 소자 모듈.
  53. 제40항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 상기 광학 소자 유닛 상으로 유지력을 가하고, 상기 유지력은 상기 접촉 압력으로부터 생성되며 유지력 방향을 갖고,
    - 상기 접촉 장치는 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 포함하고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 결과적인 유지력에 응답하여, 각각의 굽힘 축에 대해 반대 방향으로 구부러지도록 배열되고,
    - 상기 각각의 굽힘 축은 굽힘 평면에 대해 횡방향으로 이어지고, 상기 굽힘 평면은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 의해 형성되는,
    광학 소자 모듈.
  54. 제40항에 있어서, 상기 접촉 장치는 상기 광학 소자 유닛 상으로 상기 결과적인 유지력으로서 클램핑력을 가하는 클램핑 장치인 광학 소자 모듈.
  55. 제40항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 상기 광학 소자 유닛 상으로 상기 결과적인 유지력으로서 베어링력을 가하는 베어링 장치이고,
    - 상기 베어링력은 상기 광학 소자 유닛 상에 작용하는 중력 및 상기 광학 소자 유닛 상에 작용하는 클램핑력 중 적어도 하나를 상쇄하는,
    광학 소자 모듈.
  56. 광학 소자 모듈이며,
    - 광학 소자를 포함하는 광학 소자 유닛, 및
    - 상기 광학 소자 유닛을 지지하는 지지 구조물을 포함하고,
    - 상기 지지 구조물은 적어도 하나의 유지 장치의 제1 접촉 표면을 거쳐 유지력 방향으로 상기 광학 소자 유닛 상으로 유지력을 가하는 적어도 하나의 접촉 장치를 포함하고, 상기 제1 접촉 표면은 상기 광학 소자 유닛의 제2 접촉 표면과 접촉하고,
    - 상기 적어도 하나의 유지 장치는 상기 제1 접촉 표면의 경사 운동의 경사 축을 형성하도록 배열되고, 상기 경사 운동은 상기 유지력 방향을 따라 상기 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력(그로 인한 경사 모멘트)으로부터 생성되고,
    - 상기 경사 축은 상기 제1 접촉 표면에 가까운 위치와 실질적으로 상기 제1 접촉 표면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되는,
    광학 소자 모듈.
  57. 제56항에 있어서,
    - 상기 제1 접촉 표면은 접촉 평면 및 상기 경사 축에 대해 횡방향인 방향으로의 상기 접촉 평면 내의 최대 접촉 표면 길이 치수를 형성하고,
    - 상기 제1 접촉 표면과 상기 경사 축 사이의 거리는 상기 최대 접촉 표면 길이 치수의 20% 미만 및 상기 최대 접촉 표면 길이 치수의 5% 미만 중 적어도 하나인,
    광학 소자 모듈.
  58. 제56항에 있어서,
    - 상기 지지 구조물은 상기 접촉 장치를 지지하는 지지 장치를 포함하고,
    - 상기 접촉 장치는 상기 제1 접촉 표면과 상기 지지 장치를 링크하는 적어도 하나의 링크 섹션을 포함하고,
    - 상기 경사 축은 상기 적어도 하나의 링크 섹션에 의해 형성되는,
    광학 소자 모듈.
  59. 제58항에 있어서, 상기 적어도 하나의 링크 섹션은 상기 경사 축을 형성하는 적어도 하나의 탄성 힌지 요소를 포함하는 광학 소자 모듈.
  60. 제58항에 있어서, 상기 적어도 하나의 링크 섹션은 상기 경사 축을 형성하는 적어도 하나의 판스프링 요소를 포함하는 광학 소자 모듈.
  61. 제60항에 있어서, 상기 적어도 하나의 판스프링 요소는 상기 제2 접촉 표면에 대한 접촉 평면에 근접한 위치와 실질적으로 이러한 접촉 평면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되고, 상기 접촉 평면은 상기 제1 접촉 표면에 의해 형성되는, 광학 소자 모듈.
  62. 제56항에 있어서,
    - 상기 경사 축은 상기 제1 접촉 표면의 제1 경사 운동의 제1 경사 축이고,
    - 상기 접촉 장치는 상기 제1 접촉 표면의 제2 경사 운동의 제2 경사 축을 형성하도록 배열되고, 상기 제2 경사 운동은 상기 유지력 방향을 따라 상기 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력으로부터 생성되고,
    - 상기 제2 경사 축은 상기 제1 경사 축에 대해 횡방향으로 이어지고,
    - 상기 제2 경사 축은 상기 제1 접촉 표면에 가까운 위치와 실질적으로 상기 제1 접촉 표면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되는,
    광학 소자 모듈.
  63. 제62항에 있어서,
    - 상기 지지 구조물은 상기 접촉 장치를 지지하는 지지 장치를 포함하고,
    - 상기 접촉 장치는 상기 제1 접촉 표면과 상기 지지 장치를 링크하는 적어도 하나의 링크 섹션을 포함하고,
    - 상기 제1 경사 축 및 상기 제2 경사 축 중 적어도 하나는 상기 적어도 하나의 링크 섹션에 의해 형성되는,
    광학 소자 모듈.
  64. 제56항에 있어서, 상기 경사 축은 상기 접촉 장치의 적어도 2개의 탄성 변형 가능한 요소에 의해 형성되는 광학 소자 모듈.
  65. 제64항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 2개의 판스프링 요소를 포함하고,
    - 상기 판스프링 요소 각각은 판스프링 평면 내에서 연장하며 상기 판스프링 평면들이 교차선에 교차하도록 배열되고, 상기 교차선은 상기 경사 축을 형성하는,
    광학 소자 모듈.
  66. 제64항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 3개의 탄성 변형 가능한 스트럿 요소를 포함하고,
    - 상기 스트럿 요소 각각은 스트럿 축을 가지며 상기 스트럿 축들이 교차점에서 교차하도록 배열되고, 상기 교차점은 상기 경사 축의 일 지점을 형성하는,
    광학 소자 모듈.
  67. 제56항에 있어서, 상기 접촉 장치는 상기 광학 소자 유닛 상으로 상기 결과적인 유지력으로서 클램핑력을 가하는 클램핑 장치인 광학 소자 모듈.
  68. 제56항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 상기 광학 소자 유닛 상으로 상기 결과적인 유지력으로서 베어링력을 가하는 베어링 장치이고,
    - 상기 베어링력은 상기 광학 소자 유닛 상에 작용하는 중력 및 상기 광학 소자 유닛 상에 작용하는 클램핑력 중 적어도 하나를 상쇄하는,
    광학 소자 모듈.
  69. 제56항에 있어서,
    - 상기 지지 구조물은 상기 접촉 장치를 지지하는 지지 장치를 포함하고,
    - 상기 접촉 장치는 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 포함하고, 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 동역학적으로 직렬로 배열되어, 상기 제1 접촉 표면과 상기 지지 장치를 링크하고,
    - 상기 제1 접촉 표면은 상기 제2 접촉 표면에 대한 접촉 평면을 형성하고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 유지력 방향을 따라 연장하고,
    - 상기 제1 링크 섹션은 상기 접촉 평면의 일 측면 상에 위치되고, 상기 제2 링크 섹션은 상기 접촉 평면의 타 측면 상에 위치되는,
    광학 소자 모듈.
  70. 광학 소자 모듈이며,
    - 광학 소자를 포함하는 광학 소자 유닛, 및
    - 지지 구조물을 포함하고,
    - 상기 지지 구조물은 지지 장치 및 상기 지지 장치에 연결된 접촉 장치를 포함하고,
    - 상기 접촉 장치는 상기 접촉 장치의 제1 접촉 표면을 거쳐 유지력 방향으로 상기 광학 소자 유닛 상으로 유지력을 가하고, 상기 제1 접촉 표면은 상기 광학 소자 유닛의 제2 접촉 표면과 접촉하고,
    - 상기 접촉 장치는 상기 제1 접촉 표면과 상기 지지 장치 사이에 동역학적으로 직렬로 배열된 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 포함하여, 상기 제1 링크 섹션의 제1 단부는 상기 제1 접촉 표면에 인접하여 위치되고 상기 제1 링크 섹션의 제2 단부는 상기 제2 링크 섹션에 인접하여 위치되고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 유지력 방향을 따라 상기 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력에 응답하여 휨을 겪도록 배열되고, 상기 제1 링크 섹션의 상기 휨은 적어도 상기 제1 단부의 제1 행정이 상기 제2 링크 섹션의 상기 휨으로부터 생성되는 적어도 상기 제1 단부의 제2 행정과 반대가 되도록 되어 있고,
    - 상기 제1 및 제2 행정은 상기 제1 방향을 따른 병진 이동 행정, 상기 제2 방향을 따른 병진 이동 행정, 및 상기 제1 및 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 축에 대한 회전 행정 중 하나인,
    광학 소자 모듈.
  71. 제70항에 있어서,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 유지력 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 제2 방향을 따라 연장하고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 유지력에 응답하여 탄성 변형되고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 기준 평면의 양 측면 상에 배열되고, 상기 기준 평면은 상기 유지력을 포함하고 상기 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지는,
    광학 소자 모듈.
  72. 제70항에 있어서,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션 중 적어도 하나는 탄성 힌지 요소를 포함하고,
    - 상기 탄성 힌지 요소는 상기 유지력에 응답하여 탄성 변형되는,
    광학 소자 모듈.
  73. 제70항에 있어서,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션 중 적어도 하나는 판스프링 섹션을 포함하고,
    - 상기 판스프링 섹션은 상기 유지력에 응답하여 탄성 변형되는,
    광학 소자 모듈.
  74. 제73항에 있어서, 상기 판스프링 섹션은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향 중 적어도 하나를 따라 연장하는 광학 소자 모듈.
  75. 제70항에 있어서, 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 적어도 하나의 판스프링 요소에 의해 형성되는 광학 소자 모듈.
  76. 제70항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 접촉 요소 및 상기 지지 장치에 연결된 장착 요소를 포함하고,
    - 상기 제1 접촉 표면은 상기 접촉 요소의 일 표면이고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 유지력 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 제2 방향을 따라 연장하고,
    - 상기 접촉 요소는 상기 제2 방향을 따라, 기준 평면의 두 측면 모두에서 연장하고, 상기 기준 평면은 상기 유지력을 포함하며 상기 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지고,
    - 상기 접촉 요소는 제3 방향을 따라 연장하고, 상기 제3 방향은 상기 유지력 방향 및 상기 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 2개의 판스프링 요소에 의해 형성되고,
    - 상기 판스프링 요소는 상기 제3 방향을 따라, 상기 접촉 요소의 양 측면 상에 배열되고,
    - 상기 판스프링 요소 각각은 상기 기준 평면의 일 측면 상에 위치된 제1 단부에서 상기 접촉 요소에 연결되고, 상기 기준 평면의 타 측면 상에 위치된 제2 단부에서 상기 장착 요소에 연결되는,
    광학 소자 모듈.
  77. 제70항에 있어서,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 유지력 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 제2 방향을 따라 연장하고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 결과적인 유지력에 응답하여, 굽힘 평면에 대해 횡방향으로 이어지는 굽힘 축에 대한 굽힘 모멘트를 경험하고, 상기 굽힘 평면은 상기 유지력 방향 및 상기 제2 방향에 의해 형성되고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 제2 방향을 따라, 상기 굽힘 모멘트가 0의 굽힘 모멘트의 지점에서 양의 값으로부터 음의 값으로 변하도록 배열되고,
    - 상기 0의 굽힘 모멘트의 지점은 상기 제2 방향을 따라, 상기 기준 평면에 가까운 위치와 실질적으로 상기 기준 평면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되는,
    광학 소자 모듈.
  78. 제70항에 있어서,
    - 상기 제1 접촉 표면은 상기 제2 접촉 표면 상에 유지 접촉 압력을 가하고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 유지 접촉 압력이 상기 제2 접촉 표면에 걸쳐 실질적으로 균등한 분포를 갖는 방식으로 변형 가능한,
    광학 소자 모듈.
  79. 제70항에 있어서, 상기 접촉 장치는 모놀리식 구성요소인 광학 소자 모듈.
  80. 제70항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 상기 제1 접촉 표면의 경사 운동의 경사 축을 형성하도록 배열되고, 상기 경사 운동은 상기 유지력 방향을 따라 상기 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력으로부터 생성되고,
    - 상기 경사 축은 상기 제1 접촉 표면에 가까운 위치와 실질적으로 상기 제1 접촉 표면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되는,
    광학 소자 모듈.
  81. 제80항에 있어서,
    - 상기 제1 접촉 표면은 상기 제2 접촉 표면에 대한 접촉 평면 및 상기 경사 축에 대해 횡방향인 방향으로의 상기 접촉 평면 내의 최대 접촉 표면 길이 치수를 형성하고,
    - 상기 제1 접촉 표면과 상기 경사 축 사이의 거리는 상기 최대 접촉 표면 길이 치수의 20% 미만 및 상기 최대 접촉 표면 길이 치수의 5% 미만 중 적어도 하나인,
    광학 소자 모듈.
  82. 제80항에 있어서, 상기 경사 축은 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션 중 적어도 하나에 의해 형성되는 광학 소자 모듈.
  83. 제82항에 있어서,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 적어도 하나의 판스프링 요소에 의해 형성되고,
    - 상기 적어도 하나의 판스프링 요소는 상기 제2 접촉 표면에 대한 접촉 평면에 근접한 위치와 실질적으로 이러한 접촉 평면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되고, 상기 접촉 평면은 상기 제1 접촉 표면에 의해 형성되는,
    광학 소자 모듈.
  84. 제80항에 있어서,
    - 상기 경사 축은 상기 제1 접촉 표면의 제1 경사 운동의 제1 경사 축이고,
    - 상기 접촉 장치는 상기 제1 접촉 표면의 제2 경사 운동의 제2 경사 축을 형성하도록 배열되고, 상기 제2 경사 운동은 상기 유지력 방향을 따라 상기 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력으로부터 생성되고,
    - 상기 제2 경사 축은 상기 제1 경사 축에 대해 횡방향으로 이어지고,
    - 상기 제2 경사 축은 상기 제1 접촉 표면에 가까운 위치와 실질적으로 상기 제1 접촉 표면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되는,
    광학 소자 모듈.
  85. 제84항에 있어서, 상기 제1 경사 축 및 상기 제2 경사 축 중 적어도 하나는 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션 중 적어도 하나에 의해 형성되는 광학 소자 모듈.
  86. 제80항에 있어서, 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션 중 적어도 하나는 상기 경사 축을 형성하는 적어도 하나의 탄성 힌지 요소를 포함하는 광학 소자 모듈.
  87. 제80항에 있어서, 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션 중 적어도 하나는 상기 경사 축을 형성하는 적어도 하나의 판스프링 요소를 포함하는 광학 소자 모듈.
  88. 제80항에 있어서, 상기 경사 축은 상기 접촉 장치의 적어도 2개의 탄성 변형 가능한 요소에 의해 형성되는 광학 소자 모듈.
  89. 제88항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 2개의 판스프링 요소를 포함하고,
    - 상기 판스프링 요소 각각은 판스프링 평면 내에서 연장하며 상기 판스프링 평면들이 교차선에서 교차하도록 배열되고, 상기 교차선은 상기 경사 축을 형성하는,
    광학 소자 모듈.
  90. 제88항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 3개의 탄성 변형 가능한 스트럿 요소를 포함하고,
    - 상기 스트럿 요소 각각은 스트럿 축을 가지며 상기 스트럿 축들이 교차점에서 교차하도록 배열되고, 상기 교차점은 상기 경사 축의 일 지점을 형성하는,
    광학 소자 모듈.
  91. 제70항에 있어서, 상기 접촉 장치는 상기 광학 소자 유닛 상으로 상기 유지력으로서 클램핑력을 가하는 클램핑 장치인 광학 소자 모듈.
  92. 제70항에 있어서,
    - 상기 접촉 장치는 상기 광학 소자 유닛 상으로 상기 결과적인 유지력으로서 베어링력을 가하는 베어링 장치이고,
    - 상기 베어링력은 상기 광학 소자 유닛 상에 작용하는 중력 및 상기 광학 소자 유닛 상에 작용하는 클램핑력 중 적어도 하나를 상쇄하는,
    광학 소자 모듈.
  93. 제70항에 있어서,
    - 상기 지지 구조물은 상기 접촉 장치를 지지하는 지지 장치를 포함하고,
    - 상기 제1 접촉 표면은 상기 제2 접촉 표면에 대한 접촉 평면을 형성하고,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션은 상기 유지력 방향을 따라 연장하고,
    - 상기 제1 링크 섹션은 상기 접촉 평면의 일 측면 상에 위치되고, 상기 제2 링크 섹션은 상기 접촉 평면의 타 측면 상에 위치되는,
    광학 소자 모듈.
  94. 제1항, 제21항, 제40항, 제56항 또는 제70항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 상기 광학 소자 유닛은 광학적으로 사용되는 영역을 갖는 광학 소자를 포함하고,
    - 상기 광학 소자의 제1 부분은 상기 제2 접촉 표면을 형성하는 상기 광학적으로 사용되는 영역 외부에 위치되고,
    - 상기 광학 소자의 제2 부분은 상기 광학적으로 사용되는 영역과 응력 경감 홈을 포함하는 상기 제1 부분 사이에 위치되는,
    광학 소자 모듈.
  95. 광학 결상 배열체이며,
    - 조명 장치,
    - 마스크를 수용하도록 구성된 마스크 장치,
    - 광학 투영 장치, 및
    - 기판을 수용하도록 구성된 기판 장치를 포함하고,
    - 상기 조명 장치는 상기 마스크 상에 형성된 패턴을 조명하도록 구성되고,
    - 상기 광학 투영 장치는 상기 패턴의 상을 상기 기판 상으로 투영하도록 구성되고,
    - 상기 조명 장치 및 상기 광학 투영 장치 중 적어도 하나는 제1항, 제21항, 제40항, 제56항 또는 제70항 중 어느 한 항에 따른 광학 소자 모듈을 포함하는,
    광학 결상 배열체.
  96. 유지력을 사용하여 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이며,
    - 광학 소자를 포함하는 상기 광학 소자 유닛, 지지 장치, 및 작용선을 따라 상기 광학 소자 유닛 상에 제1 방향으로 상기 유지력을 가하는 접촉 장치를 제공하는 단계로서, 상기 접촉 장치는 상기 광학 소자 유닛과 상기 지지 장치 사이에 동역학적으로 직렬로 배열되고 상기 제1 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 제2 방향을 따라 연장하는 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 포함하는, 광학 소자 유닛, 지지 장치 및 접촉 장치 제공 단계와,
    - 상기 유지력을 포함하고 상기 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 기준 평면의 양 측면 상에 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션을 배열하는 단계와,
    상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션이 상기 유지력에 응답하여 탄성 변형되는 방식으로 상기 유지력을 가하는 단계를 포함하는 방법.
  97. 유지력을 사용하여 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이며,
    - 광학 소자를 포함하는 상기 광학 소자 유닛, 지지 장치, 및 작용선을 따라 상기 광학 소자 유닛 상에 제1 방향으로 상기 유지력을 가하는 접촉 장치를 제공하는 단계로서, 상기 접촉 장치는 상기 광학 소자 유닛과 상기 지지 장치 사이에 배열되며 상기 제1 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 제2 방향을 따라 연장하는 적어도 하나의 링크 섹션을 포함하는, 광학 소자 유닛, 지지 장치 및 접촉 장치 제공 단계와,
    - 상기 적어도 하나의 링크 섹션을 배열하고 상기 유지력을 가하는 단계를 포함하고,
    - 상기 적어도 하나의 링크 섹션을 배열하고 상기 유지력을 가하는 단계는,
    - 상기 적어도 하나의 링크 섹션이 굽힘 평면에 대해 횡방향으로 이어지는 굽힘 축에 대한 굽힘 모멘트를 경험하고, 상기 굽힘 평면은 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 의해 형성되는 방식과,
    - 상기 굽힘 모멘트가 상기 제2 방향을 따라, 0의 굽힘 모멘트의 지점에서 양의 값으로부터 음의 값으로 변하고 상기 0의 굽힘 모멘트의 지점은 상기 제2 방향을 따라, 기준 평면에 가까운 위치와 실질적으로 기준 평면 내의 위치 중 적어도 하나에 위치되며 상기 기준 평면은 상기 결과적인 유지력의 상기 작용선 및 상기 굽힘 축의 방향에 의해 형성되는 방식으로, 수행되는 방법.
  98. 접촉 압력을 사용하여 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이며,
    - 광학 소자를 포함하는 상기 광학 소자 유닛, 지지 장치, 및 상기 광학 소자 유닛 상에 상기 접촉 압력을 가하는 접촉 장치를 제공하는 단계로서, 상기 접촉 장치는 접촉 요소, 상기 지지 장치에 연결된 장착 요소, 및 탄성 변형 가능하고 제1 단부에서 상기 접촉 요소에 그리고 제2 단부에서 상기 장착 요소에 고정식으로 연결된 적어도 하나의 링크 요소를 포함하는, 광학 소자 유닛, 지지 장치 및 접촉 장치 제공 단계와,
    - 상기 접촉 압력이 상기 제2 접촉 표면에 걸쳐 실질적으로 균등한 분포를 갖는 방식으로 상기 적어도 하나의 링크 요소를 배열하고 상기 접촉 요소를 거쳐 상기 접촉 압력을 가하는 단계를 포함하는 방법.
  99. 유지력을 사용하여 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이며,
    - 광학 소자를 포함하는 상기 광학 소자 유닛 및 상기 광학 소자 유닛 상에 유지력 방향으로 상기 유지력을 가하는 유지 장치를 제공하는 단계로서, 상기 유지 장치는 상기 광학 소자 유닛의 제2 접촉 표면 상에 상기 유지력을 가하는 제1 접촉 표면을 포함하며 상기 제1 접촉 표면의 경사 운동의 경사 축을 형성하도록 배열되고, 상기 경사 운동은 상기 유지력 방향을 따라 상기 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력으로부터 생성되는, 광학 소자 유닛 및 유지 장치 제공 단계와,
    - 상기 제1 접촉 표면에 가까운 위치와 실질적으로 상기 제1 접촉 표면 내의 위치 중 적어도 하나에 상기 경사 축을 위치시키는 단계와,
    - 상기 광학 소자 유닛 상에 상기 유지력을 가하는 단계를 포함하는 방법.
  100. 유지력을 사용하여 광학 소자 유닛을 유지하는 방법이며,
    - 광학 소자를 포함하는 상기 광학 소자 유닛, 지지 장치, 및 상기 광학 소자 유닛의 제2 접촉 표면 상에 제1 접촉 표면을 거쳐 유지력 방향으로 상기 유지력을 가하는 접촉 장치를 제공하는 단계로서, 상기 접촉 장치는 상기 제1 접촉 표면과 상기 지지 장치 사이에 동역학적으로 직렬로 배열된 제1 링크 섹션 및 제2 링크 섹션을 포함하여, 상기 제1 링크 섹션의 제1 단부는 상기 제1 접촉 표면에 인접하여 위치되고 상기 제1 링크 섹션의 제2 단부는 상기 제2 링크 섹션에 인접하여 위치되는, 광학 소자 유닛, 지지 장치 및 접촉 장치 제공 단계와,
    - 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션이 상기 유지력 방향을 따라 상기 제1 접촉 표면 내로 도입되는 접촉력에 응답하여 휨을 겪도록 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션을 배열하는 단계로서, 상기 제1 링크 섹션의 상기 휨은 적어도 상기 제1 단부의 제1 행정이 상기 제2 링크 섹션의 상기 휨으로부터 생성되는 상기 유지력 방향을 따른 적어도 상기 제1 단부의 제2 행정과 반대가 되도록 되어 있고, 상기 제1 및 제2 행정은 상기 제1 방향을 따른 병진 이동 행정, 상기 제2 방향을 따른 병진 이동 행정, 및 상기 제1 및 제2 방향에 대해 횡방향으로 이어지는 축에 대한 회전 행정 중 하나인, 상기 제1 링크 섹션 및 상기 제2 링크 섹션 배열 단계와,
    - 상기 유지력을 가하는 단계를 포함하는 방법.
KR1020107006211A 2007-08-23 2007-08-23 기생 부하가 최소화된 광학 소자 모듈 KR101490191B1 (ko)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/EP2007/058787 WO2009024192A1 (en) 2007-08-23 2007-08-23 Optical element module with minimized parasitic loads

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100058580A true KR20100058580A (ko) 2010-06-03
KR101490191B1 KR101490191B1 (ko) 2015-03-17

Family

ID=39415321

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020107006211A KR101490191B1 (ko) 2007-08-23 2007-08-23 기생 부하가 최소화된 광학 소자 모듈

Country Status (5)

Country Link
US (2) US8351139B2 (ko)
JP (1) JP5128665B2 (ko)
KR (1) KR101490191B1 (ko)
TW (2) TWI481966B (ko)
WO (1) WO2009024192A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100105463A (ko) * 2009-03-18 2010-09-29 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하 광학 장치

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5128665B2 (ja) 2007-08-23 2013-01-23 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 寄生負荷最小化光学素子モジュール
US8276866B2 (en) * 2010-03-08 2012-10-02 Media Lario, S.R.L. Adjustable clips for grazing-incidence collectors
US9351693B2 (en) * 2011-08-10 2016-05-31 Konlijke Philips N.V. Imaging system gantry tilt support
CN103246040B (zh) * 2013-04-25 2015-04-22 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 用于光刻投影物镜中可快速更换的高重复定位精度结构
JP6433672B2 (ja) * 2014-03-31 2018-12-05 惠州市大亜湾永昶電子工業有限公司 レンズ駆動装置及び回転規制治具
DE102014215452A1 (de) * 2014-08-05 2016-04-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Verkippen eines optischen Elements
DE102019201509A1 (de) * 2019-02-06 2020-08-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Abstützung eines optischen Elements
CN112665834B (zh) * 2021-01-07 2022-10-04 北京理工大学 一种用于光学镜片应力测试的径向加载装置及加载方法

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5790607A (en) 1980-11-28 1982-06-05 Fujitsu Ltd Optical glass fitting device
JPS6211802A (ja) 1986-07-21 1987-01-20 Olympus Optical Co Ltd プラスチツクレンズ
JP3894509B2 (ja) * 1995-08-07 2007-03-22 キヤノン株式会社 光学装置、露光装置およびデバイス製造方法
JPH11231192A (ja) 1998-02-13 1999-08-27 Nikon Corp 光学素子支持装置及び鏡筒並びに投影露光装置
DE19825716A1 (de) 1998-06-09 1999-12-16 Zeiss Carl Fa Baugruppe aus optischem Element und Fassung
US6239924B1 (en) * 1999-08-31 2001-05-29 Nikon Corporation Kinematic lens mounting with distributed support and radial flexure
JP2001215377A (ja) 2000-02-02 2001-08-10 Fuji Photo Film Co Ltd 光学部材用ホルダ
US6400516B1 (en) * 2000-08-10 2002-06-04 Nikon Corporation Kinematic optical mounting
JP4770090B2 (ja) * 2000-08-18 2011-09-07 株式会社ニコン 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法
JP4945864B2 (ja) * 2000-08-18 2012-06-06 株式会社ニコン 保持装置、光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法
KR100775796B1 (ko) * 2000-08-18 2007-11-12 가부시키가이샤 니콘 광학소자 유지장치
WO2002016992A1 (fr) 2000-08-25 2002-02-28 Nikon Corporation Dispositif de maintien d'element optique
DE10053899A1 (de) 2000-10-31 2002-05-08 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
JP2002236242A (ja) 2001-02-09 2002-08-23 Nikon Corp 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法
DE10115914A1 (de) * 2001-03-30 2002-10-02 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes in einer Optik
DE10209661A1 (de) 2002-03-05 2003-09-18 Zeiss Carl Smt Ag Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie
JP4565261B2 (ja) 2002-06-24 2010-10-20 株式会社ニコン 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
US6922293B2 (en) * 2002-07-02 2005-07-26 Nikon Corporation Kinematic optical mounting assembly with flexures
JP4574206B2 (ja) 2003-04-25 2010-11-04 キヤノン株式会社 駆動装置、それを用いた露光装置、デバイスの製造方法
KR101134210B1 (ko) * 2003-10-02 2012-04-09 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 반도체 리토그래피용 광학 서브어셈블리 및 투영 대물렌즈
JP2006100315A (ja) 2004-09-28 2006-04-13 Canon Inc 保持機構、光学装置、及びデバイス製造方法
JP4710427B2 (ja) 2005-06-15 2011-06-29 株式会社ニコン 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法
EP1899756A2 (de) * 2005-07-01 2008-03-19 Carl Zeiss SMT AG Anordnung zur lagerung eines optischen bauelements
JP4886294B2 (ja) * 2005-12-28 2012-02-29 キヤノン株式会社 光学要素駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法
JP2007206643A (ja) * 2006-02-06 2007-08-16 Canon Inc 光学素子駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法
JP4862703B2 (ja) 2006-05-30 2012-01-25 コニカミノルタオプト株式会社 駆動装置、駆動機構及び撮像装置
KR20100018581A (ko) * 2007-05-25 2010-02-17 가부시키가이샤 니콘 광학 소자 유지 장치, 경통 및 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법
JP5128665B2 (ja) 2007-08-23 2013-01-23 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 寄生負荷最小化光学素子モジュール

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100105463A (ko) * 2009-03-18 2010-09-29 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하 광학 장치

Also Published As

Publication number Publication date
US8351139B2 (en) 2013-01-08
TWI579654B (zh) 2017-04-21
TW200921288A (en) 2009-05-16
TWI481966B (zh) 2015-04-21
US20130100547A1 (en) 2013-04-25
KR101490191B1 (ko) 2015-03-17
US10215948B2 (en) 2019-02-26
US20100214675A1 (en) 2010-08-26
TW201520699A (zh) 2015-06-01
WO2009024192A1 (en) 2009-02-26
JP5128665B2 (ja) 2013-01-23
JP2010537415A (ja) 2010-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101490191B1 (ko) 기생 부하가 최소화된 광학 소자 모듈
US9465208B2 (en) Facet mirror device
US7193794B2 (en) Adjustment arrangement of an optical element
JP5547261B2 (ja) 光学モジュール
US20090185148A1 (en) Support for an optical element
US20030234989A1 (en) Optical-element mountings exhibiting reduced deformation of optical elements held thereby
US20090141258A1 (en) Imaging Device in a Projection Exposure Machine
US7486382B2 (en) Imaging device in a projection exposure machine
KR101122881B1 (ko) 마이크로리소그래픽 투사 노출 시스템의 투사 렌즈
WO2008122313A1 (en) Optical element module with imaging error and position correction
US20210255554A1 (en) Module for a projection exposure apparatus for semiconductor lithography with a semi-active spacer, and method for using the semi-active spacer
US7760452B2 (en) Driving apparatus, optical system, exposure apparatus and device fabrication method
US9645388B2 (en) Facet mirror device
JPWO2017038788A1 (ja) 物体保持装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、物体の保持方法、及び露光方法
JP5848470B2 (ja) 寄生負荷最小化光学素子モジュール
JP2018041097A (ja) 寄生負荷最小化光学素子モジュール
US9599788B2 (en) Optical module
JP6240142B2 (ja) 寄生負荷最小化光学素子モジュール
JP5695011B2 (ja) 寄生負荷最小化光学素子モジュール
KR20230082682A (ko) 광학 구성요소 및 광학 구성요소를 정렬하기 위한 방법, 및 투영 노광 장치
JP6357505B2 (ja) ファセットミラーデバイス
TW202309606A (zh) 光學系統及投影曝光設備

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
G170 Re-publication after modification of scope of protection [patent]
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180118

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200116

Year of fee payment: 6