CN107817542B - 具有可倾斜的光学表面的光学模块 - Google Patents

具有可倾斜的光学表面的光学模块 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种光学模块，尤其是分面反射镜，具有用于光学表面的载体单元和支撑其的支撑结构。支撑结构具有基础单元、第一支撑单元和与第一支撑单元不同的第二支撑单元。第一支撑单元定义载体单元的第一运动平面和第一倾斜轴线，载体单元可相对于基础单元围绕第一倾斜轴线倾斜。第二支撑单元定义载体单元的第二运动平面和第二倾斜轴线，载体单元可相对于基础单元围绕第二倾斜轴线倾斜。第一和第二支撑单元彼此运动学并联地布置在基础单元与载体单元之间并且分别设计为四连杆机构，其允许载体单元相对于基础单元在相应的运动平面中进行平移运动。第一和第二支撑单元分别具有至少一个脱耦区段，其允许在相应的另一支撑单元的运动平面中平移运动。

Description

具有可倾斜的光学表面的光学模块
技术领域
本发明涉及一种光学模块，尤其是分面反射镜，其具有一个或多个可倾斜的光学表面。本发明还涉及一种具有这种光学模块的光学成像装置、用于支撑这种光学模块的光学表面的载体装置的相应方法以及相应的光学成像方法。本发明能够结合任何的光学成像方法使用。本发明能够特别有利地在制造或者检查微电子电路以及为此使用的光学部件(例如光学掩膜)时使用。
背景技术
所述类型的光学模块、尤其是分面反射镜(“Facettenspiegel”：亦可称“分段镜”)在半导体光刻中在紫外线范围内(例如193nm范围内)的工作波长时、但也可以在工作波长为5nm至20nm之间(例如13nm范围内)的所谓的极紫外范围(EUV)中时用于制造微米或者纳米结构化的构件。
在此，光学模块用于确保掩膜或者掩膜母版平面的尽可能均匀的照明。此外，借助光学模块在掩膜或者掩膜母版平面的区域内实现不同的照明设置(照明角分布)。在此所述类型的光学模块尤其是分面反射镜在投影曝光设备中的布置和工作方式例如在DE 100 53587 A1和DE 10 2010 003 169 A1中描述，其所有公开内容在此分别通过引用包含在本发明中。
这些分面反射镜通常包括大量的分面元件，所述分面元件具有一个或多个反射光学表面。分面元件通过支撑结构支撑并且大多布置在多个分面组中。在此，单独的分面元件或者其光学表面的倾斜角大多能够单独地或者成组地通过支撑结构的相应促动器调节，以便通过照明光束或者不同的照明设置实现相应期望的光强度分布。支撑相应的分面元件的支撑结构在此规定单独的分面元件的运动轨道。
这种分面模块例如由DE 10 2012 223 034 A1已知，其全部公开内容在此通过引用包含在本发明中。在这种设计中，分面元件通过由薄的支撑元件组成的三角架支撑，其纵轴线在共同的点处相交。由此实现了在运动学上相应于球形接头的支撑，其中，通过支撑元件的纵轴线的交点定义了无限多个倾斜轴线。在此的问题一方面是薄的支撑元件的较低刚性。这一方面导致支撑元件的较高弯折风险。另一方面，这种设计非常容易受到光学表面的平面中的扭转的影响。这两种风险应通过圆柱体的包围三角架的弹性风箱管降低。然而在此的问题是这些风箱管的机械性能的较大散射使设计很难精确地协调适配。这种设计的另一问题在于薄支撑元件的较小热通流横截面造成了较低的热量排出。
这种分面模块的另一设计例如由DE 10 2014 214 288 A1已知，其全部公开内容在此通过引用包含在本发明中。在这种设计中，光学表面的两个垂直的倾斜轴线通过两个彼此嵌套的单独制造的支撑单元定义。在此，相应的倾斜轴线通过大量平坦的板式弹簧确定，所述板式弹簧的弹簧平面全部在相关的倾斜轴线中相交。两个支撑单元在此在运动学上串联地(也就是在力传递方向上前后相续地)布置在分面元件的载体单元与基础单元之间。这种具有板式弹簧的设计在此由于板式弹簧整体上相对较大的热通流横截面原则上是有利的。板式弹簧锁止了在光学表面的平面中的旋转。然而在热学角度，由于支撑单元的串联布置形成了较长的热传导路径，由此提高了支撑单元的热阻力并且又部分抵消了所提高的热通流横截面的优点。在动力学方面，嵌套的支撑单元的串联布置也是有问题的。这种布置要求两个支撑单元的固有频率复杂地协调适配，以实现围绕两个倾斜轴线的均匀的动态性能。
前述两个解决方案的共同点是通过中央倾斜杆的促动原理，所述中央倾斜杆与分面元件的背侧相连并且通常无接触地(例如通过相应的电磁场)运动。在此不利的是，这种方式的促动产生了寄生的横向力，其使得分面进行与倾斜叠加的寄生平移。此外，倾斜杆在未通电状态下的位置不能精确地定义，因此在投入运行时可能导致超调效应
Figure BDA0001403868980000021
发明内容
由前述现有技术出发，本发明所要解决的技术问题在于，提供一种光学模块、光学成像装置、用于支撑光学表面的载体单元的方法以及成像方法，其不具有或者至少以较小的程度具有前述缺点并且尤其以简单的方式实现在动力学和热学方面改善的光学表面支撑。
所述技术问题按照本发明的技术教导由此解决，即在本文开头所述类型的光学模块中，能够以简单的方式实现在动力学和热学方面改善的光学表面支撑，方法是为了支撑载体单元，使用由两个单独的支撑单元组成的并联运动学机构，它们分别设计为四连杆机构(Viergelenkgetriebe)，其除了围绕倾斜轴线倾斜外也允许载体单元相对于基础单元在相应的运动平面中进行平移运动，其中，每个支撑单元具有至少一个脱耦区段，所述脱耦区段允许另一支撑单元在运动平面中进行平移运动。
在此，并联运动学机构是有利的，因为其实现了支撑单元的部件的几乎相同的设计并且由此简化了围绕两个倾斜轴线的固有频率的适配或者说必要时自动形成适配。此外，通过并联运动学机构(相对于串联的运动学机构)缩短了经过支撑结构的导热路径，因此有利地降低了其热阻力。
通过脱耦区段能够在使用关节的情况下实现四连杆机构，其限定围绕处于四连杆机构的所属运动平面中的旋转轴线的旋转自由度。此外可行的是，使用传统的铰链关节或者类似元件，其例如可以设计为简单的固体铰链和/或可以具有类似大小的热通流横截面。这不只在热学角度是有利的，而且也实现了相对刚性的结构，其也在动力学角度是有利的。相同或者类似的铰链也可以用于脱耦区段，因此总地来说实现了在热学和动力学方面有利的支撑结构。
此外通常可行的是，将这种并联运动学机构设计为整体式，由此进一步改善了支撑的热学和运动学特性。
相应的四连杆机构的特殊优点还在于，以简单的方式省去了通过已知构造的中央倾斜杆进行促动。尽管在期望时仍能实现这种中央促动，但促动器也能够以有利的方式作用在四连杆机构的部件上。由此显著提高了构造的灵活性。
按照本发明的设计的另一优点在于，两个支撑单元可以在没有其它附加措施的情况下限定围绕垂直于平面延伸的旋转轴线的旋转自由度，所述平面由支撑单元的两个倾斜轴线包夹形成或者平行于两个倾斜轴线地延伸。此外，能够以简单的方式尤其防止在光学表面的平面中的扭转，而不需要附加的辅助装置(例如由DE 10 2012 223 034 A1已知的圆柱形风箱管)。
因此按照一个方面，本发明涉及一种光学模块，尤其是分面反射镜，其具有用于光学表面的载体单元和支撑结构，其中，载体单元由支撑结构支撑。支撑结构具有基础单元、第一支撑单元和与第一支撑单元不同的第二支撑单元。第一支撑单元布置在基础单元与载体单元之间并且定义载体单元的第一运动平面和第一倾斜轴线，其中，所述第一倾斜轴线垂直于第一运动平面延伸并且载体单元能够相对于基础单元围绕第一倾斜轴线倾斜。第二支撑单元布置在基础单元与载体单元之间并且定义载体单元的第二运动平面和第二倾斜轴线，其中，所述第二倾斜轴线垂直于第二运动平面延伸，载体单元能够相对于基础单元围绕第二倾斜轴线倾斜并且第二倾斜轴线相对于第一倾斜轴线倾斜地延伸。第一和第二支撑单元彼此运动学并联地布置在基础单元与载体单元之间，其中，第一支撑单元和第二支撑单元分别设计为四连杆机构，其允许载体单元相对于基础单元在相应的运动平面中进行平移运动。第一支撑单元和第二支撑单元分别具有至少一个脱耦区段，其允许在相应的另一支撑单元的运动平面中进行平移运动。
在此需要注意的是，两个单独的支撑单元按照本发明理解为两个不具有共同部件的支撑单元，因此是完全彼此分隔开地在基础单元或者载体单元的区域内作用在共同的结构上。通过两个这种单独的支撑单元，还提高了支撑结构的热通流横截面，这在热学角度是有利的。
支撑单元原则上可以任意地设计，以实现具有四连杆机构的期望的并联运动学机构。在此，两个支撑单元原则上可以具有任何适当的构造。尤其可以为两个支撑单元设置彼此不同的构造。
在因为设计简单而特别有利的变型方案中，第一支撑单元和第二支撑单元分别设计为双脚架，所述双脚架具有第一边脚区段和第二边脚区段。在此可以规定，两个支撑单元中的至少一个定义双脚架平面，所述双脚架平面与所属的运动平面重合。作为备选或补充，第一支撑单元和第二支撑单元可以相互嵌套地布置，使得两个运动平面的相交线分别处于两个边脚区段之间。在这两种情况下形成了特别简单和紧凑的构造，它们尤其对于具有大量彼此紧密堆叠的分面元件的分面反射镜是有利的。
在其它变型方案中可以规定，第一支撑单元和第二支撑单元布置为，使得它们围绕两个运动平面的相交线彼此扭转地布置。由此能够以简单的方式实现这样的构造，其中横向于一个支撑单元的运动平面的自由度通过另一支撑单元限定，因此以简单的方式实现了稳定的支撑结构。扭转角原则上可以任意选择。特别有利并且能够简单实现的结构通过以下方式实现，即两个支撑单元以60°至90°，优选75°至90°，进一步优选80°至90°的角度彼此扭转地布置。特别是在扭转角为90°时，形成了特别简单的构造，其具有明确定义或者可简单设计的机械、尤其是动力学特性。
如已经提到的那样，两个支撑单元原则上可以彼此不同地设计。特别有利的并且在其机械性能方面设计特别简单的结构通过以下方式实现，即，第一支撑单元和第二支撑单元尤其基本上相同地设计。在此尤其有利的是，两个支撑单元除了在载体侧连接相应的边脚区段的桥接区段外相同地设计。只有两个桥接区段可以不同地(尤其是互补地)设计，以便实现在两个支撑单元彼此嵌套布置时穿透这两个支撑单元的结构空间。
在某些变型方案中可以规定，第一支撑单元和第二支撑单元设计为，使得第一支撑单元和第二支撑单元限定围绕垂直于平面延伸的旋转轴线的旋转自由度，所述平面由第一倾斜轴线和第二倾斜轴线包夹形成或者平行于第一倾斜轴线和第二倾斜轴线地延伸。由此能够以简单的方式防止在光学表面的平面中的上述扭转，而不需要附加的辅助装置。
四连杆机构的构造原则上可以任意选择，只要实现垂直于运动平面的倾斜轴线以及在运动平面中的平移即可。在优选的变型方案中，第一支撑单元和第二支撑单元分别具有两个相互间隔的载体侧的铰链区段和两个相互间隔的基础侧的铰链区段，由此形成特别简单的构造。
在此可以规定，所述铰链区段中的至少一个，优选每个铰链区段定义用于旋转铰链运动的铰链轴线，其中，所述铰链轴线至少基本上平行于所属的支撑单元的倾斜轴线。作为备选或补充，所述两个支撑单元中至少一个的铰链区段可以布置和设计使得形成平坦的四连杆机构。作为备选或补充，所述两个支撑单元中至少一个的铰链区段可以布置和设计使得所述铰链区段在运行状态中形成梯形的角点(Eckpunkt)。在所有这些情况下，分别以有利的方式形成了特别简单并且明确定义的运动学机构。
铰链区段原则上能够以任何适当的方式设计。因此，至少一个铰链区段，优选每个铰链区段可以限定围绕处于所属运动平面中的旋转轴线的旋转自由度。由此可行的是，实现特别简单的铰链，其有利地具有相对较大的热通流横截面。
特别有利的是，至少一个铰链区段，优选每个铰链区段设计为固体铰链。作为备选或补充，至少一个铰链区段，优选每个铰链区段可以设计为弯曲铰链。尤其可以使用简单的铰链关节。至少一个铰链区段，优选每个铰链区段同样可以由板式弹簧元件形成。制造特别简单的构造通过以下方式实现，即，至少一个载体侧的铰链区段和至少一个基础侧的铰链区段共同由板式弹簧元件形成。
在优选的变型方案中，所述两个支撑单元中的至少一个包括第一边脚区段和第二边脚区段，其中，第一边脚区段的至少一个边脚部分在第一基础侧的铰链区段与沿力传递连接方向最接近的第一载体侧的铰链区段之间延伸并且在所属的运动平面中定义第一边脚纵向轴线，而第二边脚区段的至少一个边脚部分在第二载体侧的铰链区段与沿力传递连接方向最接近的第二基础侧的铰链区段之间延伸并且在所属的运动平面中定义第二边脚纵向轴线。
通过选择边脚纵向轴线的位置，可以例如特别简单地定义相应倾斜轴线的延伸走向。因此，第一边脚纵向轴线和第二边脚纵向轴线可以彼此倾斜地延伸。尤其是第一边脚纵向轴线和第二边脚纵向轴线可以在其支撑单元的所属倾斜轴线中相交。
在此，可以根据倾斜轴线的期望位置选择载体侧和基础侧的铰链区段之间的相应距离。优选地，在所属的运动平面中，两个载体侧的铰链区段的距离小于两个基础侧的铰链区段的距离。由此可以将倾斜轴线布置在四连杆机构的载体侧。
在其它变型方案中，所述两个边脚部分的至少一个包括板式弹簧元件，尤其可以基本上完全由板式弹簧元件构成。由此形成了特别简单的构造，其中两个铰链区段可以设想为较好地靠近板式弹簧元件的两个端部。
相应的支撑单元的倾斜轴线原则上可以相应于成像装置的预设任意选择。尤其可行的是，两个支撑单元的两个倾斜轴线布置在不同的平面中。然而，两个倾斜轴线通常布置在共同的平面中。
在某些变型方案中，所述两个倾斜轴线中的至少一个布置在光学表面的朝向基础单元的一侧上。由此可行的是，通过适当选择光学表面与倾斜轴线之间的距离实现用于光学表面在运动平面中的平移的补偿，其当在运动平面中倾斜时借助四连杆机构进行。
在此，光学表面在所属的运动平面中通常具有面法线，所述面法线延伸经过至少一个倾斜轴线，并且光学表面的第一表面点在面法线上与至少一个倾斜轴线具有倾斜轴线距离，其中，所述第一表面点在第一运行状态中处于相对于基础单元的参考位置中。在这些情况下，所述倾斜轴线距离可以选择为，使得光学表面的第二表面点在第二运行状态中处于参考位置上，其中，光学表面在第二运行状态中相对于第一运行状态围绕至少一个倾斜轴线倾斜。换而言之可以实现这种配置，其中通过四连杆机构形成的光学表面平移运动在围绕倾斜轴线倾斜时被补偿，因此光线在参考位置处在两个运行状态中分别照射到光学表面上。在此，根据光学表面的构造实现光线在光学表面上的不同入射角。但必要时在特殊情况下也可以规定，光学表面设计为，使得光线在两个运行状态下的入射角基本上相同。
在支撑单元之一中实现的在另一支撑单元的运动平面中的平移运动的脱耦原则上能够以任何适当的方式通过一个或多个脱耦区段实现。至少一个脱耦区段在此原则上可以任意适当地设计并且布置在任何适当的位置。尤其可行的是，将这种脱耦区段集成在四连杆机构内部，例如运动学串联地布置在基础侧与载体侧的铰链区段之间。在某些变型方案中，第一支撑单元和第二支撑单元分别具有形成四连杆机构的四连杆机构区段。在此可以规定，两个支撑单元中的至少一个支撑单元的至少一个脱耦区段运动学串联地布置在四连杆机构区段与基础单元或者载体单元之间。由此形成了特别简单的配置，其具有在不同区段的运动学方面明确分配的滚子。
在某些具有多个脱耦区段的变型方案中，两个支撑单元中的至少一个支撑单元具有第一脱耦区段和第二脱耦区段，其中，四连杆机构区段运动学串联地布置在第一脱耦区段与第二脱耦区段之间。
在其它变型方案中，两个支撑单元中的至少一个支撑单元的至少一个脱耦区段可以具有第一脱耦铰链区段和第二脱耦铰链区段，所述第一脱耦铰链区段定义第一脱耦翻转轴线，并且所述第二脱耦铰链区段定义第二脱耦翻转轴线，所述第二脱耦翻转轴线与第一脱耦翻转轴线相间隔并且平行。由此可以特别简单地实现运动平面中的平移运动的脱耦。如果所述两个脱耦翻转轴线平行于至少一个支撑单元的运动平面延伸，则所述配置的运动学变得特别简单。
如四连杆机构那样，相应的脱耦区段的铰链也可以任意适当地设计，其中，上述关于铰链区段的考虑在此也适用。因此优选地，至少一个脱耦区段，优选每个脱耦区段包括固体铰链。作为补充或备选，至少一个脱耦区段，优选每个脱耦区段也可以设计为弯曲铰链。作为补充或备选，至少一个脱耦区段，优选每个脱耦区段也可以由板式弹簧元件形成。由此也可以在脱耦区段的区域内实现上述结合四连杆机构的铰链区段阐述的优点。
如本文开头所述，光学表面的调节能够以多种方式实现。在此，原则上可以实现被动的和主动的调节机构。在有利的变型方案中，至少一个促动器元件设置用于使载体单元围绕两个倾斜轴线的至少一个倾斜。
所述至少一个促动器元件可以直接与载体单元相连并且设计用于在运动学上与第一支撑单元和第二支撑单元并联地在载体单元与和基础单元相连的主动式促动器单元之间作用。此外，例如也可以与在本文开头已知的构造类似地通过中央倾斜杆进行中央促动。在此，促动器元件可以定义纵轴线，所述纵轴线至少在运行状态下与两个运动平面的相交线基本上平行地、尤其是基本上共线地延伸，由此形成特别紧凑的构造。
在其它变型方案中，作为补充或备选，调节装置也可以与支撑单元共同作用。在此，调节装置可以在基础单元和/或载体单元与相应的支撑单元之间作用。同样地，调节装置也可以完全布置在相应的支撑单元内部，例如在支撑单元的两个相互铰接的部件之间。因此在某些变型方案中，所述至少一个促动器元件直接与两个支撑单元之一相连并且设计用于与主动式促动器单元共同作用，所述主动式促动器单元在支撑单元内部或者在支撑单元与基础单元之间或者在支撑单元与载体单元之间作用。
在某些设计特别简单的变型方案中，第一支撑单元和/或第二支撑单元设计为双脚架，所述双脚架包括第一边脚区段和第二边脚区段，它们具有形成四连杆机构的四连杆机构区段，其中，至少一个促动器元件直接与两个边脚区段之一的促动器区段相连并且所述促动器区段在运动学上与四连杆机构区段串联地布置在基础单元和载体单元之间。
促动器元件可以设计用于与主动式促动器单元共同作用，以使促动器区段在所属的支撑单元的运动平面中翻转。由此能够实现特别简单的运动学机构。
促动器区段的位置和连接原则上能够以任何适当的方式选择。在因为设计简单而有利的变型方案中，促动器区段可以通过连接铰链单元与基础单元或者载体单元相连，其中，连接铰链单元定义连接翻转轴线，所述连接翻转轴线横向于、尤其是垂直于所属的支撑单元的运动平面延伸。连接铰链单元原则上也能够以任何适当的方式设计。连接铰链单元尤其可以与上述四连杆机构或者脱耦区段的铰链区段相同或者类似地设计。在设计特别简单的变型方案中，连接铰链单元又包括至少一个板式弹簧。
相应的支撑单元原则上能够以任何适当的方式设计。它们尤其可以由多个单独制造的部件组成。在特别有利的变型方案中，至少第一支撑单元和/或第二支撑单元至少区段性地设计为整体式，因为这在动力学和热学方面特别有利。
作为补充或备选，第一支撑单元和/或第二支撑单元可以设计为双脚架，所述双脚架包括第一边脚区段和第二边脚区段，它们具有形成四连杆机构的四连杆机构区段，其中，第一边脚区段和/或第二边脚区段设计为整体式。在此，尤其是四连杆机构区段可以设计为整体式。作为补充或备选，第一边脚区段与第二边脚区段可以设计为整体式。
在其它热学和动力学方面有利的变型方案中，第一支撑单元和/或第二支撑单元与载体单元和/或基础单元整体式相连。
不言而喻的是，光学表面可以直接设计在载体单元上。在其它变型方案中，具有光学表面的光学元件体与载体单元相连。在某些变型方案中，载体单元承载光学元件，尤其是分面元件，在所述光学元件上设计有光学表面。
本发明原则上可以用于具有单独的光学表面的单独光学元件。本发明优选与光学模块相结合地应用，其中多个这种光学表面彼此单独地支承并且调节。因此在某些变型方案中，第一支撑单元、第二支撑单元和载体单元形成部分模块并且在光学模块中设有多个所述部分模块。在此，每个部分模块可以包括独有的基础单元，所述基础单元与光学模块的基础结构相连。同样可以设有用于(必要时所有)部分模块的共同的基础单元。
本发明还涉及一种尤其用于微光刻的光学成像装置，其包括具有第一光学元件组的照明装置、用于容纳对象的对象装置、具有第二光学元件组的投射装置和图像装置，其中，照明装置设计用于照亮对象并且投射装置设计用于将对象的图像投射到图像装置上。照明装置和/或投射装置包括至少一个按照本发明的光学模块。由此也能够以相同的程度实现以上结合按照本发明的光学模块描述的变型方案和优点，因此可以参考以上描述。
本发明还涉及一种支撑用于光学模块尤其是分面反射镜的光学表面的载体单元的方法，其中，载体单元由支撑结构支撑，其中，所述支撑结构具有基础单元、第一支撑单元和与第一支撑单元不同的第二支撑单元。第一支撑单元布置在基础单元与载体单元之间并且定义载体单元的第一运动平面和第一倾斜轴线，其中，所述第一倾斜轴线垂直于第一运动平面延伸，并且载体单元能够相对于基础单元围绕第一倾斜轴线倾斜。第二支撑单元布置在基础单元与载体单元之间并且定义载体单元的第二运动平面和第二倾斜轴线，其中，第二倾斜轴线垂直于第二运动平面延伸，载体单元能够相对于基础单元围绕第二倾斜轴线倾斜并且第二倾斜轴线相对于第一倾斜轴线倾斜地延伸。第一支撑单元和第二支撑单元彼此运动学并联地布置在基础单元与载体单元之间，其中，第一支撑单元和第二支撑单元分别设计为四连杆机构，所述四连杆机构允许载体单元相对于基础单元在相应的运动平面中进行平移运动。第一支撑单元和第二支撑单元分别具有至少一个脱耦区段，所述脱耦区段允许在相应的另一支撑单元的运动平面中进行平移运动。由此也能够以相同的程度实现以上结合按照本发明的光学模块描述的变型方案和优点，因此可以参考以上描述。
本发明还涉及一种尤其用于微光刻的光学成像方法，其中，通过具有第一光学元件组的照明装置照亮对象并且借助具有第二光学元件组的投射装置在图像装置上产生对象的图像。在此，在照明装置和/或投射装置中、尤其在产生图像时应用按照本发明的支撑用于光学模块的光学表面的载体单元的方法。由此也能够以相同的程度实现以上结合按照本发明的光学模块描述的变型方案和优点，因此可以参考以上描述。
附图说明
本发明的其它方面和实施例由以下参照附图对优选实施例的说明得出。所公开特征的所有组合，无论其是否是权利要求的技术方案，均处于本发明的保护范围内。在附图中：
图1示出按照本发明的投影曝光设备的优选实施形式的示意图，其包括按照本发明的光学模块的优选实施形式并且可以通过按照本发明方法的优选实施形式实施；
图2示出图1中的按照本发明的光学模块的第一实施例的示意性立体图；
图3示出图2中的光学模块的细节的示意性立体图(细节III)；
图4示出沿剖切线IV-IV剖切图3中的光学模块得到的剖视图在第一运行状态下的机械等效图；
图5示出沿剖切线V-V剖切图3中的光学模块得到的剖视图在第一运行状态下的机械等效图；
图6示出图5中的光学模块在第二运行状态下的机械等效图。
具体实施方式
以下参照图1至图6描述按照本发明的投影曝光设备101的优选实施例，其包括按照本发明的光学模块的优选实施例。为了简化以下阐述，在附图中引入xyz坐标系，其中z方向与引力方向一致。当然在其它设计方案中也可以选择所述xyz坐标系的任何与之不同的定向。
图1示出投影曝光设备101的未按比例的示意图，所述投影曝光设备用于在微光刻工艺中制造半导体构件。投影曝光设备101包括照明装置102和投射装置103。所述投射装置103设计用于在曝光过程中将布置在掩膜单元104中的掩膜104.1的结构图像传输至布置在基底单元105中的基底105.1。为此，照明装置102照亮掩膜104.1。光学的投射装置103接收来自掩膜104.1的光线并且将掩膜104.1的掩膜结构图像投射到基底105.1、例如硅晶片或者类似物上。
照明装置102包括光学元件组106，其包括按照本发明的光学模块106.1。如以下还将详细阐述的，光学模块106.1设计为分面反射镜的形式。投射装置103还包括光学元件组107，其包括光学模块107.1。光学元件组106、107的光学模块106.1、107.1沿着投影曝光设备101的折叠的光学轴线101.1布置。每个光学元件组106、107可以包括多个光学模块106.1、107.1。
在本实施例中，投影曝光设备101在5nm至20nm之间的波长中、尤其是在波长为13nm时通过EUV(极紫外光)范围内的光线工作。因此照明装置102和投射装置103的光学模块106.1、107.1指的只是反射光学元件。在本发明的其它设计方案中当然(尤其取决于照明光线波长地)也可行的是，将任意类型的光学元件(例如折射的、反射的或者衍射的光学元件)单独地或者任意组合地使用。照明装置102和/或投射装置103尤其可以包括一个或多个按照本发明的光学模块106.1。
图2示出按照本发明的光学模块106.1的实施例。在此其指的是场分面反射镜，其尤其与光瞳分面反射镜共同作用地用于在照明光路中产生次要光源，以便实现掩膜104.1在待照亮区域中的尽可能均匀的照明并且尤其实现不同的照明分布或者照明设置。在本实施例中，光线基本上沿着z方向入射到所示的分面反射镜106.1上。然而也可以规定任何其它的相对于z方向倾斜的照明方向。
按照图2的分面反射镜106.1包括多个光学元件108至110，它们设计为场分面元件。在其在运行中朝向光线入射的上侧，分面元件108至110在本实施例中分别具有一个或多个形式为镜面111的光学有效表面。
分面反射镜106.1的分面元件108至110在本实施例中布置在分面组106.2中。分面反射镜106.1的分面组106.2在此分别定义参考平面106.3，所述参考平面在本实施例中以不同的倾斜角相对于由x和y方向包夹形成的主延伸平面(xy平面)布置。单独的分面元件108至110在图2中只针对一个分面组106显示。其余的分面组106.2同样包括布置在相应参考平面106.3的延伸上的分面元件108至110。然而不言而喻的是，在本发明的其它变型方案中，也可以选择分面元件的任意其它的布置和/或分组方式。
图3示出图2中的光学模块106.1的细节的示意性立体图，而图4至图6示出部分用于光学模块106.1的不同剖视图并且部分在不同的运行状态下的机械等效图。在此，图3至图5示出处于第一运行状态下的光学模块。在此指的是具有未偏转的光学表面111的原始状态。只要没有另作说明，以下关于单独部件的定向和位置的说明均是参照所述原始状态而言的。
如尤其图3至图5所示，光学模块106.1包括分面元件108，其分面体108.1在其背离照明光线的一侧与载体单元112相连，而在其朝向照明光线的一侧设计有光学表面111。然而不言而喻的是，在其它变型方案中也可以规定，分面体108.1与载体单元112设计为整体。
载体单元112由支撑结构113支撑，所述支撑结构113包括基础单元114、第一支撑单元115和与第一支撑单元115不同的第二支撑单元116。支撑结构113设计为并联运动学机构，方式为第一支撑单元115与第二支撑单元116彼此运动学并联地布置在基础单元114与载体单元112之间。
在此，第一支撑单元115布置在基础单元114与载体单元112之间并且定义载体单元112的第一运动平面BE1和第一倾斜轴线KA1，其中，所述第一倾斜轴线KA1垂直于第一运动平面BE1延伸。在此，载体单元112能够相对于基础单元114围绕第一倾斜轴线倾斜。
第二支撑单元116同样布置在基础单元114与载体单元112之间。在此，第二支撑单元定义载体单元112的第二运动平面BE2和第二倾斜轴线KA2，其中，第二倾斜轴线KA2垂直于第二运动平面BE2延伸，载体单元112能够相对于基础单元114围绕第二倾斜轴线KA2倾斜。
在本实施例中，第二倾斜轴线KA2与第一倾斜轴线KA1相交并且相对于第一倾斜轴线KA1倾斜90°地延伸。然而不言而喻的是，在其它变型方案中，也可以选择其它的构造。两个倾斜轴线尤其可以不处于相同平面中和/或彼此以不同的角度相交。
第一支撑单元115和第二支撑单元116分别设计为四连杆机构，所述四连杆机构在偏转时允许载体单元112相对于基础单元114在相应的运动平面BE1或者BE2中进行平移运动。第一支撑单元115和第二支撑单元116分别具有两个脱耦区段117.1、117.2或者118.1、118.2，所述脱耦区段允许相应的另一支撑单元116或者115在载体单元112倾斜时在运动平面BE2或者BE1中进行平移运动。
在此，第一支撑单元115和第二支撑单元116本身(也就是不需要其它附加的辅助装置地)限定围绕垂直于平面延伸的旋转轴线的旋转自由度，所述平面由第一倾斜轴线KA1和第二倾斜轴线KA2包夹形成。由此以简单的方式防止了分面元件108在光学表面111的平面中扭转，而不需要附加的辅助装置。
如已经阐述的那样，支撑单元115、116可以任意地设计，以实现具有四连杆机构的期望的并联运动学机构。在此，两个支撑单元115、116尤其可以具有彼此不同的构造。
在本实施例中，第一支撑单元115和第二支撑单元116几乎相同地分别设计为双脚架，其中，它们具有第一边脚区段115.1或者116.1和第二边脚区段115.2或者116.2。在本实施例中，两个支撑单元115和116分别定义双脚架平面，所述双脚架平面与所属的运动平面BE1或者BE2重合。
尤其如图3所示，第一支撑单元115和第二支撑单元116这样相互嵌套地布置，使得两个运动平面BE1和BE2的相交线119分别处于两个边脚区段115.1和115.2或者116.1和116.2之间。由此形成了特别简单和紧凑的构造，它们尤其对于具有多个彼此紧密堆叠的分面元件108至110的分面反射镜106.1是有利的。
如图3至图6同样所示，第一支撑单元115和第二支撑单元116布置为，使得第一支撑单元115和第二支撑单元116围绕两个运动平面BE1和BE2的相交线119彼此扭转地90°。在扭转角为时90°，形成了特别简单的构造，其具有明确定义或者可简单设计的支撑结构113的机械特性。尤其能够特别简单地设计或者调节形成动力学特性。
通过所述的围绕相交线119扭转的布置，还能够以简单的方式通过另一支撑单元116或者115限定横向于一个支撑单元115或者116的运动平面BE1或者BE2的自由度。由此以简单的方式实现了稳定的支撑结构。由此尤其以简单的方式限定了围绕相交线119的旋转自由度。
如已经阐述的那样，围绕相交线119的扭转角在其它变型方案中也可以不同地选择。特别有利并且能够简单实现的结构通过以下方式实现，即两个支撑单元115和116以60°至90°，优选75°至90°，进一步优选80°至90°的角度彼此扭转地布置。
如已经阐述的那样，两个支撑单元115和116原则上可以彼此不同地设计。然而在本实施例中选择了这样的配置，其在允许在机械特性方面特别简单地设计，方式为第一支撑单元115和第二支撑单元116基本上相同地设计。两个支撑单元115和116之间的唯一区别在于相应的桥接区段115.3或者116.3的构造，它们在载体侧将相应的边脚区段115.1和115.2或者116.1和116.2相连。
如尤其图3所示，两个桥接区段115.3和116.3彼此互补地设计，以便实现在两个支撑单元115和116彼此嵌套布置时穿透这两个支撑单元的结构空间。为此，桥接区段115.3和116.3分别具有凹处115.4或者116.4，相应的另一桥接区段116.3或者115.3延伸通过所示凹处。在此设有足够的缝隙，以避免在所有运行状况下在正常运行中在两个桥接区段115.3和116.3之间产生接触。
为了形成四连杆机构，第一支撑单元115和第二支撑单元116分别具有两个相互间隔的载体侧的铰链区段115.5或者116.5和两个相互间隔的基础侧的铰链区段115.6或者116.6。
在此，在本实施例中，每个铰链区段115.5、115.6、116.5、116.6定义用于旋转铰链运动的铰链轴线，所述铰链轴线基本上平行于所属的支撑单元115或者116的倾斜轴线KA1或者KA2。但铰链区段115.5、115.6、116.5、116.6布置为，使得支撑单元115和116分别形成平坦的四连杆机构。在图3至图5所示的第一运行状态下，铰链区段115.5、115.6或者116.5、116.6分别形成梯形的角点。由此产生特别简单和明确定义的运动学机构。
铰链区段115.5、115.6或者116.5、116.6在本实施例中设计为弯曲铰链形式的固体铰链，它们分别限定垂直于所属的运动平面BE1或者BE2的平移自由度以及围绕处于所属的运动平面BE1或者BE2中的旋转轴线的旋转自由度。由此实现了特别简单的铰链，它们以有利的方式具有相对较大的热通流横截面。
原则上可以针对铰链区段115.5、115.6或者116.5、116.6使用简单的铰链关节。在本实施例中，铰链区段115.5、115.6或者116.5、116.6分别由板式弹簧元件115.7或者116.7构成，其中，载体侧的铰链区段115.5或者116.5之一和基础侧的铰链区段115.6或者116.6之一共同地由板式弹簧元件115.7或者116.7构成。由此形成了特别简单的构造，其中两个铰链区段115.5、115.6或者116.5、116.6可以适当靠近地设置在板式弹簧元件115.7或者116.7的两个端部上。
在本实施例中，第一边脚区段115.1或者116.1的由相应的板式弹簧元件115.7或者116.7构成的边脚部分在第一基础侧的铰链区段115.6或者116.6与沿力传递连接方向最接近的第一载体侧的铰链区段115.5或者116.5之间延伸，其中，所述边脚部分在所属的运动平面BE1或者BE2中定义第一边脚纵向轴线115.8或者116.8，而第二边脚区段115.2或者116.2的至少一个边脚部分在第二载体侧的铰链区段115.5或者116.5与沿力传递连接方向最接近的第二基础侧的铰链区段115.6或者116.6之间延伸并且在所属的运动平面BE1或者BE2中定义第二边脚纵向轴线115.9或者116.9。
在本实施例中，通过边脚纵向轴线115.8、115.9或者116.8、116.9定义相应的倾斜轴线KA1或者KA2的上述走向。第一边脚纵向轴线115.8或者116.8和第二边脚纵向轴线115.9或者116.9分别彼此倾斜地延伸，其中，它们分别在其支撑单元115或者116所属的倾斜轴线KA1或者KA2中彼此相交。
载体侧的铰链区段115.5或者116.5与基础侧的铰链区段115.6或者116.6之间的距离与所属的倾斜轴线KA1或者KA2的位置相应地选择。因此，在本实施例中，在所属的运动平面BE1或者BE2中，两个载体侧的铰链区段115.5或者116.5之间的距离小于两个基础侧的铰链区段115.6或者116.6的距离。由此能够将所属的倾斜轴线KA1或者KA2分别布置在四连杆机构的载体侧，其中，两个倾斜轴线KA1或者KA2在本实施例中处于共同的平面中。
光学表面111围绕两个倾斜轴线KA1或者KA2的倾斜在以下参照图3、图5和图6以第一支撑单元115和第一倾斜轴线KA1为例描述。然而需要指出的是，也由于支撑单元115和116在很大程度上相同的构造，光学表面111围绕倾斜轴线KA2的倾斜以相同方式进行。
在此，图6示出第二运行状态，其中，光学表面111相对于图5中的第一运行状态围绕第一倾斜轴线KA1倾斜。如由图5和图6所示，倾斜轴线KA1布置在光学表面111的朝向基础单元114的一侧上。由此可行的是，通过适当选择光学表面111与倾斜轴线KA1之间的距离实现针对光学表面在运动平面BE1中的平移的补偿，其在在运动平面BE1中倾斜时借助四连杆机构进行。
在此，光学表面111在所属的运动平面BE1中具有面法线FN1，所述面法线延伸经过倾斜轴线KA1。光学表面111的第一表面点111.1在面法线FN1上与倾斜轴线KA1具有倾斜轴线距离KAA1。所述第一表面点111.1在第一运行状态(参见图5)中处于相对于基础单元114的参考位置RP中。
如图6所示，所述倾斜轴线距离KAA1选择为，使得光学表面的第二表面点111.2在图6所示的第二运行状态中(其中光学表面111相对于第一运行状态围绕倾斜轴线KA1倾斜)处于参考位置RP上。
换而言之由此实现了这种配置，其中在围绕倾斜轴线KA1倾斜时补偿通过第一支撑单元115的四连杆机构形成的光学表面111的平移运动，由此使参考位置RP处的光线在两个运行状态中分别照射到光学表面111上。在本实施例中，光学表面111是平坦表面，因此在两个运行状态中实现了光线在光学表面111上的不同入射角。但必要时也可以在特殊情况下规定，光学表面111设计为，使得光线在两个运行状态中的入射角基本相同。
在本实施例中，在支撑单元115或者116中实现的、在另一支撑单元116或者115的运动平面BE2或者BE1中的平移运动的脱耦通过以下方式实现，即，两个脱耦区段117.1、117.2或者118.1、118.2布置在板式弹簧元件115.7或者116.7的两侧，它们构成相应的支撑单元115或者116的形成四连杆机构的四连杆机构区段。
在此，两个脱耦区段117.1、117.2或者118.1、118.2彼此运动学并联地布置在四连杆机构区段115.7或者116.7与基础单元114或者载体单元112之间。在此，四连杆机构区段115.7或者116.7分别运动学并联地布置在第一脱耦区段117.1或者118.1与第二脱耦区段117.2或者118.2之间。由此形成了特别简单的配置，其在不同区段的运动学方面具有明确分配的滚子。
然而不言而喻的是，在其它变型方案中，必要时也可以设置唯一一个这种脱耦区段。也就是必要时可以取消两个脱耦区段117.1、117.2或者118.1、118.2之一。此外，这种脱耦区段可以集成在四连杆机构区段115.7或者116.7内部，例如运动学并联地集成在基础侧的铰链区段115.6或者116.6与载体侧的铰链区段115.5或者116.5之间。
在本实施例中，两个支撑单元115或者116的相应脱耦区段117.1、117.2或者118.1、118.2具有第一脱耦铰链区段120.1或者121.1，其定义第一脱耦翻转轴线ESA1，并且具有第二脱耦铰链区段120.2或者121.2，其定义第二脱耦翻转轴线ESA2，所述第二脱耦翻转轴线与第一脱耦翻转轴线ESA1相间隔并且平行。由此能够特别简单地将在另一支撑单元116或者115的运动平面BE2或者BE1中的平移运动脱耦。在此，运动学机构设计特别简单，因为两个脱耦翻转轴线ESA1和ESA2平行于相应的支撑单元115或者116的运动平面BE1或者BE2地延伸。
如四连杆机构那样，相应的脱耦区段117.1、117.2或者118.1、118.2的铰链120.1、120.2、121.1、121.2也能够以任何适当的方式设计，其中，上述关于铰链区段的考虑在此也适用。因此在本实施例中，脱耦区段117.1、117.2或者118.1、118.2设计为弯曲铰链形式的固体铰链，其中，它们分别限定在所属的运动平面BE1或者BE2中的平移自由度以及围绕处于所属的运动平面BE1或者BE2中的旋转轴线的旋转自由度。由此又实现了特别简单的铰链，它们以有利的方式具有相对较大的热通流横截面。
原则上可以针对铰链区段120.1、120.2、121.1、121.2使用简单的铰链关节。在本实施例中，铰链区段120.1、120.2或者121.1、121.2分别由板式弹簧元件117.1、117.2或者118.1、118.2构成，其中，每两个沿力传递连接方向直接相互邻接的铰链区段120.1、120.2或者121.1、121.2共同地由板式弹簧元件117.1、117.2或者118.1、118.2构成。由此形成了特别简单的构造，其中两个铰链区段120.1、120.2或者121.1、121.2可以适当靠近地设置在板式弹簧元件117.1、117.2或者118.1、118.2的两个端部上。由此也能够在脱耦区段的区域内实现之前结合四连杆机构的铰链区段列举的优点。
在此需要指出的是，所有在实施例中使用的固体铰链它们(从未负载状态中)的偏转需要克服一定的弹性阻力，如在图4中通过等效图122所示。
如已经阐述的那样，光学表面111的调节能够以多样的方式实现。在此，原则上既可以实现被动的也可以实现主动的调节机构。
在本实施例中，调节装置与支撑单元115或者116共同作用。为此设置促动器元件123或者124，用于使载体单元112围绕相应的倾斜轴线KA1或者KA2倾斜，所述促动器元件构成相应的边脚区段115.1、115.2或者116.1、116.2的促动器区段并且作为其直接与相应的支撑单元115或者116相连。促动器区段123或者124在此与四连杆机构区段115.7或者116.7运动学并联地布置在基础单元114和载体单元112之间。更确切地说，促动器区段123或者124在本实施例中运动学并联地布置在基础单元114与相应的四连杆机构区段115.7或者116.7之间。
在相应的第一边脚区段115.1或者116.1的促动器元件123或者124上分别作用有促动器，其在图4至图6中分别通过其促动器力FA1或者FA2显示。在此可以指的是任何适当的促动器，其产生促动器力FA1或者FA2并且在本实施例中支撑在基础单元114或者与之相连的结构上。
在相应的第二边脚区段115.2或者116.2的促动器元件123或者124上分别作用有配合促动器，其在图4至图6中分别通过其促动器力FG1或者FG2显示。在此也可以指的是任何适当的促动器，其产生配合促动器力FG1或者FG2并且在本实施例中支撑在基础单元114或者与之相连的结构上。
促动器力FA1或者FA2在此通过相应的主动装置产生，而配合促动器力FG1或者FG2通过简单的被动装置如弹簧或者类似物提供。然而不言而喻的是，配合促动器力FG1或者FG2也可以通过相应的主动装置产生。同样地，这种配合促动器力FG1或者FG2也可以完全取消或者只通过支撑单元115或者116的相应铰链区段的弹性反作用力提供。
然而不言而喻的是，在其它变型方案中也可以规定，促动器可以支撑在载体单元112或者相应支撑单元115或者116的其它铰接的部件上。
相应的促动器元件123或者124与配属的促动器(FA1或者FA2)共同作用，以便使由其构成的促动器区段123或者124在所属的支撑单元115或者116的运动平面BE1或者BE2中翻转。为此，相应的促动器区段123或者124通过连接铰链单元125或者126与基础单元114相连。在本实施例中，相应的连接铰链单元125或者126定义连接翻转轴线VSA1或者VSA2，它们垂直于所属的支撑单元115或者116的运动平面BE1或者BE2延伸。
在本实施例中，连接铰链单元125或者126也是固体铰链，形式为用作弯曲铰链的板式弹簧元件，其类似于四连杆机构115.7或者116.7的上述铰链区段设计。在此，板式弹簧元件125或者126的纵轴线处于相应的边脚纵轴线115.8、115.9或者116.8、116.9上，由此形成在动力学角度有利的配置。
在本实施例中，相应的促动器力FA1或者FA2或者相应的配合促动器力FG1或者FG2基本上平行于相交线119地作用。由此形成了特别简单和紧凑的构造。然而不言而喻的是，在本发明的其它变型方案中，促动器力FA1或者FA2或者相应的配合促动器力FG1或者FG2也可以在相应的运动平面BE1或者BE2中具有任何其它的定向，以产生围绕连接翻转轴线VSA1或者VSA2的所需力矩。此外不言而喻的是，相应的促动器元件123或者124也可以彼此嵌套地设计，以便相应地延长用于各促动器力FA1或者FA2或者各配合促动器力FG1或者FG2的力臂。
此外不言而喻的是，在其它变型方案中，也可以设置形式为中央倾斜杆的中央促动器元件，其直接与载体单元112相连，沿着相交线延伸并且在其基础侧的端部被加载中央促动器的中央促动器力FZ1或者FZ2，如图4和图5所示。所述中央促动器元件与两个支撑单元115、116运动学并联地在载体单元112和与基础单元114相连的促动器之间作用。
相应的支撑单元115或者116原则上能够以任何适当的方式设计。它们尤其可以由多个单独制造的部件组成。然而在本实施例中，第一支撑单元115和第二支撑单元116设计为整体式并且整体地与载体单元112和基础单元114相连，因为这在动力学和热学方面特别有利。
在此需要再次指出的是，本发明原则上能够用于具有唯一光学表面111的唯一光学元件108。
然而在本实施例中，分面反射镜106.1的所有分面元件108至110通过具有这种支撑单元115或者116的这种支撑结构113支撑。然而不言而喻的是，必要时也可以只有所述分面元件108至110中的唯一一个以这种方式支撑。
之前只根据微光刻领域的一个例子描述了本发明。然而不言而喻的是，本发明也可以结合任何其它光学应用、尤其是在不同波长的成像方法中使用。
此外，本发明可以结合对象检查，如所谓的掩膜检查使用，其中检查用于微光刻的掩膜的完整性等。由此在图1中在基底105.1的位置例如设置传感器单元，其检测(用于进一步处理的)掩膜104.1的投影图案的成像。所述掩膜检查可以在基本上相同的波长中进行，所述波长在之后用于微光刻工艺。同样地，也可以将与之不同的任意波长用于检查。
以上只根据具体实施例描述了本发明，所述实施例示出了在权利要求书中定义的特征的具体组合。在此需要明确指出的是，本发明的技术方案不局限于这些特征组合，而是所有其它的由权利要求书得出的特征组合也属于本发明的技术方案。

Claims (33)

1.一种光学模块，具有
-用于光学表面的载体单元(112)和
-支撑结构(113)，其中，
-载体单元(112)由支撑结构(113)支撑，
-所述支撑结构(113)具有基础单元(114)、第一支撑单元(115)和与第一支撑单元不同的第二支撑单元(116)，
-第一支撑单元(115)布置在基础单元(114)与载体单元(112)之间并且定义载体单元(112)的第一运动平面和第一倾斜轴线，
-所述第一倾斜轴线垂直于第一运动平面延伸，
-载体单元(112)能够相对于基础单元(114)围绕第一倾斜轴线倾斜，
-第二支撑单元(116)布置在基础单元(114)与载体单元(112)之间并且定义载体单元(112)的第二运动平面和第二倾斜轴线，
-第二倾斜轴线垂直于第二运动平面延伸，
-载体单元(112)能够相对于基础单元(114)围绕第二倾斜轴线倾斜并且
-第二倾斜轴线相对于第一倾斜轴线倾斜地延伸，
其特征在于，
-第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)彼此运动学并联地布置在基础单元(114)与载体单元(112)之间，
-第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)分别设计为四连杆机构，所述四连杆机构允许载体单元(112)相对于基础单元(114)在相应的运动平面中进行平移运动，
-第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)分别具有至少一个脱耦区段，所述脱耦区段允许在相应的另一支撑单元(116、115)的运动平面中进行平移运动。
2.按权利要求1所述的光学模块，其中，所述光学模块是分面反射镜。
3.按权利要求1所述的光学模块，其中，
-第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)分别设计为双脚架，所述双脚架具有第一边脚区段(115.1、116.1)和第二边脚区段(115.2、116.2)。
4.按权利要求3所述的光学模块，其中，
-两个支撑单元中的至少一个定义双脚架平面，所述双脚架平面与所属的运动平面重合，
和/或
-第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)相互嵌套地布置，使得两个运动平面的相交线(119)分别处于两个边脚区段(115.1、116.1、115.2、116.2)之间，
和/或
-第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)布置为，使得第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)围绕两个运动平面的相交线(119)彼此扭转地布置和/或
-第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)除了在载体侧连接相应的边脚区段(115.1、115.2、116.1、116.2)的桥接区段外相同地设计，
和/或
-第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)设计为，使得第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)限定围绕垂直于平面延伸的旋转轴线的旋转自由度，所述平面由第一倾斜轴线和第二倾斜轴线包夹形成或者平行于第一倾斜轴线和第二倾斜轴线地延伸。
5.按权利要求4所述的光学模块，其中，第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)以60°至90°的角度彼此扭转地布置。
6.按权利要求4所述的光学模块，其中，第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)以75°至90°的角度彼此扭转地布置。
7.按权利要求4所述的光学模块，其中，第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)以80°至90°的角度彼此扭转地布置。
8.按权利要求3所述的光学模块，其中，
-第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)分别具有两个相互间隔的载体侧的铰链区段和两个相互间隔的基础侧的铰链区段。
9.按权利要求8所述的光学模块，其中，
-所述铰链区段中的至少一个定义用于旋转铰链运动的铰链轴线，其中，所述铰链轴线平行于所属的支撑单元(115、116)的倾斜轴线，
和/或
-所述两个支撑单元(115、116)中至少一个的铰链区段布置和设计使得形成平坦的四连杆机构，
和/或
-所述两个支撑单元(115、116)中至少一个的铰链区段布置和设计使得所述铰链区段在运行状态中形成梯形的角点。
10.按权利要求9所述的光学模块，其中，每个铰链区段定义用于旋转铰链运动的铰链轴线，其中，所述铰链轴线平行于所属的支撑单元(115、116)的倾斜轴线。
11.按权利要求9所述的光学模块，其中，
-至少一个铰链区段限定围绕处于所属运动平面中的旋转轴线的旋转自由度，
和/或
-至少一个铰链区段设计为固体铰链，
和/或
-至少一个铰链区段设计为弯曲铰链，
和/或
-至少一个铰链区段由板式弹簧元件形成，
和/或
-至少一个载体侧的铰链区段和至少一个基础侧的铰链区段共同由板式弹簧元件形成。
12.按权利要求11所述的光学模块，其中，
-每个铰链区段限定围绕处于所属运动平面中的旋转轴线的旋转自由度，
和/或
-每个铰链区段设计为固体铰链，
和/或
-每个铰链区段设计为弯曲铰链，
和/或
-每个铰链区段由板式弹簧元件形成，
和/或
-至少一个载体侧的铰链区段和至少一个基础侧的铰链区段共同由板式弹簧元件形成。
13.按权利要求8至12中任一项所述的光学模块，其中，
-所述两个支撑单元(115、116)中的至少一个具有第一边脚区段(115.1、116.1)和第二边脚区段(115.2、116.2)，其中，
-第一边脚区段(115.1、116.1)的至少一个边脚部分在第一基础侧的铰链区段与沿力传递连接方向最接近的第一载体侧的铰链区段之间延伸并且在所属的运动平面中定义第一边脚纵向轴线，
-第二边脚区段(115.2、116.2)的至少一个边脚部分在第二载体侧的铰链区段与沿力传递连接方向最接近的第二基础侧的铰链区段之间延伸并且在所属的运动平面中定义第二边脚纵向轴线，
其中，
-第一边脚纵向轴线和第二边脚纵向轴线彼此倾斜地延伸，
和/或
-第一边脚纵向轴线和第二边脚纵向轴线在所属的倾斜轴线中相交，
和/或
-在所属的运动平面中，两个载体侧的铰链区段的距离小于两个基础侧的铰链区段的距离，
和/或
-所述两个边脚部分的至少一个包括板式弹簧元件。
14.按权利要求13所述的光学模块，其中，所述两个边脚部分的至少一个由板式弹簧元件构成。
15.按权利要求1所述的光学模块，其中，
-所述两个倾斜轴线中的至少一个布置在光学表面的朝向基础单元(114)的一侧上。
16.按权利要求15所述的光学模块，其中，
-光学表面在所属的运动平面中具有面法线，所述面法线延伸经过至少一个倾斜轴线，并且光学表面的第一表面点在面法线上与至少一个倾斜轴线具有倾斜轴线距离，
-所述第一表面点在第一运行状态中处于相对于基础单元(114)的参考位置中并且
-所述倾斜轴线距离选择为，使得光学表面的第二表面点在第二运行状态中处于参考位置上，其中，光学表面在第二运行状态中相对于第一运行状态围绕至少一个倾斜轴线倾斜。
17.按权利要求1所述的光学模块，其中，
-第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)分别具有形成四连杆机构的四连杆机构区段，
其中，
-两个支撑单元(115、116)中的至少一个支撑单元的至少一个脱耦区段运动学串联地布置在四连杆机构区段与基础单元(114)或者载体单元(112)之间，
和/或
-两个支撑单元(115、116)中的至少一个支撑单元具有第一脱耦区段和第二脱耦区段，其中，四连杆机构区段运动学串联地布置在第一脱耦区段与第二脱耦区段之间，
和/或
-两个支撑单元(115)中的至少一个支撑单元的至少一个脱耦区段具有第一脱耦铰链区段和第二脱耦铰链区段，所述第一脱耦铰链区段定义第一脱耦翻转轴线，并且所述第二脱耦铰链区段定义第二脱耦翻转轴线，所述第二脱耦翻转轴线与第一脱耦翻转轴线相间隔并且平行，其中，所述两个脱耦翻转轴线平行于至少一个支撑单元的运动平面延伸。
18.按权利要求17所述的光学模块，其中，
-至少一个脱耦区段包括固体铰链，
和/或
-至少一个脱耦区段设计为弯曲铰链，
和/或
-至少一个脱耦区段由板式弹簧元件形成。
19.按权利要求18所述的光学模块，其中，
-每个脱耦区段包括固体铰链，
和/或
-每个脱耦区段设计为弯曲铰链，
和/或
-每个脱耦区段由板式弹簧元件形成。
20.按权利要求1所述的光学模块，其中，
-至少一个促动器元件设置用于使载体单元(112)围绕两个倾斜轴线的至少一个倾斜，
其中，
-所述至少一个促动器元件直接与载体单元(112)相连并且设计用于在运动学上与第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)并联地在载体单元(112)与和基础单元(114)相连的主动式促动器单元之间作用，其中，促动器元件定义纵轴线，所述纵轴线至少在运行状态下与两个运动平面的相交线(119)平行地延伸，
和/或
-所述至少一个促动器元件直接与两个支撑单元(115、116)之一相连并且设计用于与主动式促动器单元共同作用，所述主动式促动器单元在支撑单元(115、116)内部或者在支撑单元(115、116)与基础单元(114)之间或者在支撑单元(115、116)与载体单元(112)之间作用。
21.按权利要求20所述的光学模块，其中，所述纵轴线至少在运行状态下与两个运动平面的相交线(119)共线地延伸。
22.按权利要求21所述的光学模块，其中，
-第一支撑单元(115)和/或第二支撑单元(116)设计为双脚架形式，所述双脚架具有第一边脚区段(115.1、116.1)和第二边脚区段(115.2、116.2)，它们具有形成四连杆机构的四连杆机构区段，
-至少一个促动器元件直接与两个边脚区段(115.1、115.2、116.1、116.2)之一的促动器区段相连并且
-所述促动器区段在运动学上与四连杆机构区段串联地布置在基础单元(114)和载体单元(112)之间，
其中，
-促动器元件设计用于与主动式促动器单元共同作用，以使促动器区段在所属的支撑单元的运动平面中翻转，
和/或
-促动器区段通过连接铰链单元与基础单元(114)或者载体单元(112)相连，其中，连接铰链单元定义连接翻转轴线，所述连接翻转轴线横向于所属的支撑单元(115、116)的运动平面延伸，其中，连接铰链单元包括至少一个板式弹簧。
23.按权利要求22所述的光学模块，其中，所述连接翻转轴线垂直于所属的支撑单元(115、116)的运动平面延伸。
24.按权利要求1所述的光学模块，其中，
-第一支撑单元(115)和/或第二支撑单元(116)至少区段性地设计为整体式，
和/或
-第一支撑单元(115)和/或第二支撑单元(116)设计为双脚架形式，所述双脚架具有第一边脚区段(115.1、116.1)和第二边脚区段(115.2、116.2)，它们具有形成四连杆机构的四连杆机构区段，其中，第一边脚区段(115.1、116.1)和/或第二边脚区段(115.2、116.2)设计为整体式，
和/或
-第一支撑单元(115)和/或第二支撑单元(116)与载体单元(112)和/或基础单元(114)相连。
25.按权利要求24所述的光学模块，其中，四连杆机构区段设计为整体式和/或第一边脚区段(115.1、116.1)与第二边脚区段(115.2、116.2)设计为整体式。
26.按权利要求1所述的光学模块，其中，
-载体单元(112)承载光学元件，在所述光学元件上设计有光学表面，
和/或
-第一支撑单元(115)、第二支撑单元(116)和载体单元(112)形成部分模块并且设有多个所述部分模块，其中，每个部分模块包括独有的基础单元(114)，所述基础单元与基础结构相连，或者设有用于部分模块的共同的基础单元(114)。
27.按权利要求26所述的光学模块，其中，所述光学元件是分面元件。
28.一种光学成像装置，具有
-具有第一光学元件组(106)的照明装置(102)，
-用于容纳对象(104.1)的对象装置(104)，
-具有第二光学元件组(107)的投射装置(103)和
-图像装置(105)，其中，
-照明装置(102)设计用于照亮对象(104.1)并且
-投射装置(103)设计用于将对象(104.1)的图像投射到图像装置(105)上，
其特征在于，
-照明装置(102)和/或投射装置(103)包括至少一个按权利要求1至24之一所述的光学模块(106.1)。
29.按权利要求28所述的光学成像装置，其中，所述光学成像装置用于微光刻。
30.一种支撑用于光学模块的光学表面的载体单元的方法，其中，
-载体单元(112)由支撑结构(113)支撑，所述支撑结构(113)具有基础单元(114)、第一支撑单元(115)和与第一支撑单元(115)不同的第二支撑单元(116)，
-第一支撑单元(115)布置在基础单元(114)与载体单元(112)之间并且定义载体单元(112)的第一运动平面和第一倾斜轴线，其中，所述第一倾斜轴线垂直于第一运动平面延伸，并且载体单元(112)能够相对于基础单元(114)围绕第一倾斜轴线倾斜，
-第二支撑单元(116)布置在基础单元(114)与载体单元(112)之间并且定义载体单元(112)的第二运动平面和第二倾斜轴线，其中，第二倾斜轴线垂直于第二运动平面延伸，载体单元(112)能够相对于基础单元(114)围绕第二倾斜轴线倾斜并且第二倾斜轴线相对于第一倾斜轴线倾斜地延伸，
其特征在于，
-第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)彼此运动学并联地布置在基础单元(114)与载体单元(112)之间，
-第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)分别设计为四连杆机构，所述四连杆机构允许载体单元(112)相对于基础单元(114)在相应的运动平面中进行平移运动，
-第一支撑单元(115)和第二支撑单元(116)分别具有至少一个脱耦区段，所述脱耦区段允许在相应的另一支撑单元的运动平面中进行平移运动。
31.按权利要求30所述的方法，其中，所述光学模块是分面反射镜。
32.一种光学成像方法，其中，
-通过具有第一光学元件组(106)的照明装置(102)照亮对象(104.1)并且
-借助具有第二光学元件组(107)的投射装置(103)在图像装置(105)上产生对象(104.1)的图像，
其特征在于，
-在照明装置(102)和/或投射装置(103)中、在产生图像时应用按权利要求31所述的方法。
33.按权利要求32所述的光学成像方法，其中，所述光学成像方法用于微光刻。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102017207763A1 (de) * 2017-05-09 2018-04-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Gelenkanordnung für ein optisches Element, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102017120678A1 (de) * 2017-09-07 2019-03-21 Blickfeld GmbH Scaneinheit mit Robustheit gegenüber Schock
DE102020200371A1 (de) * 2020-01-14 2020-12-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Facettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
DE102020205117A1 (de) * 2020-04-22 2020-12-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Kipplagerungseinrichtung und Projektionsbelichtungsanlage
CN111624729B (zh) * 2020-05-29 2021-09-17 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 快速反射镜
DE102022210171A1 (de) * 2022-09-27 2024-03-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches element, optisches system und projektionsbelichtungsanlage

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1808186A (zh) * 2006-02-09 2006-07-26 北京航空航天大学 巨磁致伸缩快速转向反射镜
CN101048677A (zh) * 2004-10-27 2007-10-03 讯宝科技公司 惯性驱动扫描装置及方法
CN102227598A (zh) * 2008-10-01 2011-10-26 斯蒂芬·波尔克 太阳能收集器
CN102612667A (zh) * 2009-11-18 2012-07-25 Asml荷兰有限公司 光刻设备以及器件制造方法
CN102695989A (zh) * 2009-12-29 2012-09-26 Asml荷兰有限公司 照射系统、光刻设备以及照射方法
DE102012204142A1 (de) * 2012-03-16 2013-03-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Kollektor
DE202014007183U1 (de) * 2014-09-03 2014-10-14 Eberhard Mordig Klappbares Spiegelgestell mit schwenkbarem Lichtstrahler
CN105074574A (zh) * 2013-02-22 2015-11-18 卡尔蔡司Smt有限责任公司 Euv光刻装置的照明系统及其分面反射镜

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10053587A1 (de) 2000-10-27 2002-05-02 Zeiss Carl Beleuchtungssystem mit variabler Einstellung der Ausleuchtung
US6542304B2 (en) * 1999-05-17 2003-04-01 Toolz, Ltd. Laser beam device with apertured reflective element
DE10115914A1 (de) * 2001-03-30 2002-10-02 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes in einer Optik
JP2004281644A (ja) * 2003-03-14 2004-10-07 Canon Inc 駆動機構及びそれを用いた露光装置、デバイスの製造方法
DE102010003169A1 (de) 2010-03-23 2011-02-10 Carl Zeiss Smt Ag Feldfacettenspiegel zum Einsetzen einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektions-Lithografie
WO2012175116A1 (en) * 2011-06-21 2012-12-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Facet mirror device
DE102012221831A1 (de) * 2012-11-29 2014-06-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Anordnung zur Aktuierung wenigstens eines optischen Elementes in einem optischen System
DE102012223034A1 (de) 2012-12-13 2013-12-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungssystem einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102014214288A1 (de) 2013-07-23 2015-01-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Kipplagerungseinrichtung für spiegelelemente
DE102014215452A1 (de) * 2014-08-05 2016-04-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Verkippen eines optischen Elements

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101048677A (zh) * 2004-10-27 2007-10-03 讯宝科技公司 惯性驱动扫描装置及方法
CN1808186A (zh) * 2006-02-09 2006-07-26 北京航空航天大学 巨磁致伸缩快速转向反射镜
CN102227598A (zh) * 2008-10-01 2011-10-26 斯蒂芬·波尔克 太阳能收集器
CN102612667A (zh) * 2009-11-18 2012-07-25 Asml荷兰有限公司 光刻设备以及器件制造方法
CN102695989A (zh) * 2009-12-29 2012-09-26 Asml荷兰有限公司 照射系统、光刻设备以及照射方法
DE102012204142A1 (de) * 2012-03-16 2013-03-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Kollektor
CN105074574A (zh) * 2013-02-22 2015-11-18 卡尔蔡司Smt有限责任公司 Euv光刻装置的照明系统及其分面反射镜
DE202014007183U1 (de) * 2014-09-03 2014-10-14 Eberhard Mordig Klappbares Spiegelgestell mit schwenkbarem Lichtstrahler

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