KR20090122187A - 섬유-반응성 아조 염료의 혼합물 - Google Patents

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KR20090122187A
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슈테판 마이어
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다이스타 텍스틸파르벤 게엠베하 운트 콤파니 도이칠란트 카게
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Abstract

본 발명은 하기 화학식 (I)의 하나 이상의 염료 및 화학식 (II)의 하나 이상의 염료 (여기서, D1, D2, D3 RA, RB, RC, Z1 및 M 은 제 1 항에서 제시된 의미를 가짐), 제조 방법 및 이의 용도에 관한 것이다:
[화학식 I]
Figure 112009044694235-PCT00060
[화학식 II]
Figure 112009044694235-PCT00061
.
섬유-반응성 아조 염료

Description

섬유-반응성 아조 염료의 혼합물 {MIXTURES OF FIBRE-REACTIVE AZO DYES}
본 발명은 섬유-반응성 아조 염료의 기술 분야에 관한 것이다.
섬유-반응성 아조 염료 혼합물 및 히드록실- 및 카르복사미도-함유 재료를 금빛 황색 내지 오렌지색으로 염색하기 위한 이의 용도는 예를 들어 EP 1 000 982 A2 및 CN 1861695 로부터 공지되어 있다. 그러나, 이들은 염색 작업의 경제성을 궁극적으로 타협하여 해결하는, 특정 성능 결점, 예를 들어 낮은 염료 농도에서의 불충분한 색상 축적(color buildup)을 가진다.
결과적으로, 개선된 특성, 예컨대 양호한 견뢰도와 결합된 경사 급한 색상 축적을 가진 신규한 반응성 염료 또는 반응성 염료 혼합물에 대한 요구가 계속된다. 이들은 더욱이 또한 양호한 염색 수율을 제공하고, 높은 반응성을 가지고, 이들은 더욱 특히 높은 정도의 고착을 가지는 염색물을 제공할 것이다.
본 발명은 이어서, 상기 기재한 특성을 높은 정도로 가지는 염료 혼합물을 제공한다. 신규한 염료 혼합물은 특히 고착의 높은 수율 및 섬유에 고착되지 않은 부분에 대한 신속한 워시오프(washoff)에 대하여 유명하다. 추가로, 염색물은 양호한 일반적인 견뢰도, 예를 들어 높은 광견뢰도 및 매우 양혼한 습윤견뢰도(wetfastness)를 나타낸다.
본 발명은 따라서 하기 화학식 (I)의 하나 이상의 염료 및 하기 화학식 (II)의 하나 이상의 염료를 함유하는 염료 혼합물을 제공한다:
[화학식 (I)]
Figure 112009044694235-PCT00001
[화학식 (II)]
Figure 112009044694235-PCT00002
[식 중,
D1, D2 및 D3 은 독립적으로 하기 화학식 (III)의 기를 나타내거나,
[화학식 (III)]
Figure 112009044694235-PCT00003
{식 중,
R1 과 R2 는 독립적으로 수소, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 설포, 카르복실, 시아노, 니트로, 아미도, 우레이도 또는 할로겐이고;
X1 은 수소, 설포, 화학식 -SO2-Z2의 기임 (여기서,
Z2 는 -CH=CH2 또는 -CH2CH2Z3 이고,
Z3 는 히드록실 또는 알칼리-제거가능한 기임)};
또는 하기 화학식 (IV)의 기임:
[화학식 (IV)]
Figure 112009044694235-PCT00004
;
또는 여기서,
D1, D2 및 D3 은 독립적으로 하기 화학식 (V)의 기를 나타내거나,
[화학식 (V)]
Figure 112009044694235-PCT00005
{식 중,
R3 과 R4 는 독립적으로 수소, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 설포, 카르복실, 시아노, 니트로, 아미도, 우레이도 또는 할로겐이고;
X2 는 X1 의 의미 중 하나를 가짐};
또는 여기서,
D1, D2 및 D3 은 독립적으로 하기 화학식 (VI)의 기를 나타내거나:
[화학식 (VI)]
Figure 112009044694235-PCT00006
{식 중,
R5 와 R6 은 독립적으로 R1 의 의미 중 하나를 가지고;
R7 은 수소, (C1-C4)-알킬, 비치환 또는 (C1-C4)-알킬-, (C1-C4)-알콕시-, 설포-, 할로겐- 또는 카르복실-치환 페닐이고;
Z4 는 하기 화학식 (VII), (VIII) 또는 (IX)의 기임:
[화학식 (VII)]
Figure 112009044694235-PCT00007
[화학식 (VIII)]
Figure 112009044694235-PCT00008
[화학식 (IX)]
Figure 112009044694235-PCT00009
(식 중,
V 는 불소 또는 염소이고;
U1 과 U2 는 독립적으로 불소, 염소 또는 수소이고;
Q1 과 Q2 는 독립적으로 염소, 불소, 시안아미도, 히드록실, (C1-C6)-알콕시, 페녹시, 설포페녹시, 머캅토, (C1-C6)-알킬머캅토, 피리디노, 카르복시피리디노, 카르바모일피리디노 또는 하기 화학식 (X) 또는 (XI)의 기임:
[화학식 (X)]
Figure 112009044694235-PCT00010
[화학식 (XI)]
Figure 112009044694235-PCT00011
(식 중,
R8 은 수소, (C1-C6)-알킬, 설포-(C1-C6)-알킬, 페닐 또는 (C1-C4)-알킬-, (C1-C4)-알콕시-, 히드록실-, 설포-, 할로겐-, 카르복실-, 아세트아미도-, 우레이도-치환 페닐이고;
R9 와 R10 은 독립적으로 R8 의 의미 중 하나를 가지거나, 또는 조합하여 화학식 -(CH2)j- 의 기 또는 화학식 -(CH2)2-E-(CH2)2- 의 기를 형성하고, 여기서, j 는 4 또는 5 이고, E 는 산소, 황, 설포닐 또는 -NR11 이고, R11 은 (C1-C6)-알킬이고;
W 는 비치환, 또는 (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 카르복실, 설포, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 또는 2개의 치환기로 치환되는 페닐렌이거나, 또는 (C1-C4)-알킬렌페닐렌, (C2-C6)-알킬렌이거나 (이는 산소, 황, 설포닐, 아미노, 카르보닐 또는 카르복사미도에 의해 방해받을 수 있음), 또는 비치환, 또는 (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 설포, 카르복실, 아미도, 우레이도 및 할로겐으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 또는 2개의 치환기로 치환되는 페닐렌 CONH 페닐렌이거나, 또는 비치환, 또는 1 또는 2개의 설포기에 의해 치환되는 나프틸렌이고;
Z5 는 Z2 의 의미 중 하나를 가짐))};
또는 여기서,
D1, D2 및 D3 은 독립적으로 하기 화학식 (XII)의 기를 나타내고:
[화학식 (XII)]
Figure 112009044694235-PCT00012
{식 중,
R12 는 수소, (C1-C4)-알킬, 아릴 또는 치환 아릴이고;
R13 과 R14 는 독립적으로 수소, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 설포, 카르복실, 시아노, 니트로, 아미도, 우레이도 또는 할로겐이고;
A 는 하기 화학식 (XIII)의 기이거나:
[화학식 (XIII)]
Figure 112009044694235-PCT00013
(식 중,
R15 와 R16 은 독립적으로 수소, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 설포, 카르복실, 시아노, 니트로, 아미도, 우레이도 또는 할로겐임); 또는
A 는 하기 화학식 (XIV)의 기이거나:
[화학식 (XIV)]
Figure 112009044694235-PCT00014
(식 중,
R17 과 R18 은 독립적으로 수소, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 설포, 카르복실, 시아노, 니트로, 아미도, 우레이도 또는 할로겐임); 또는
A 는 하기 화학식 (XV)의 기이고:
[화학식 (XV)]
Figure 112009044694235-PCT00015
(식 중,
k 는 1 초과의 정수이고;
R19 와 R20 은 독립적으로 수소, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 시아노, 아미도, 할로겐 또는 아릴임);
X3 은 X1 의 의미 중 하나를 가짐};
RA 는 수소 또는 하기 화학식 (XVII)의 기이고:
[화학식 (XVII)]
Figure 112009044694235-PCT00016
;
RB 는 아세트아미도, 우레이도, 메틸, 메톡시 또는 하기 화학식 (XVIII)의 기이고:
[화학식 (XVIII)]
Figure 112009044694235-PCT00017
{식 중,
Q3 과 Q4 는 독립적으로 Q1 의 의미 중 하나를 가짐};
RC 는 수소, 메틸, 메톡시 또는 설포이고;
Z1 은 Z4 의 의미 중 하나를 가지고;
M 은 수소, 알칼리 금속 또는 1 당량의 알칼리토금속임];
여기서, 화학식 (I) 과 (II) 의 염료는 화학식 -SO2Z2 또는 Z4, 화학식 (XVIII) 또는 Z1 의 하나 이상의 섬유-반응성 기를 함유하고,
여기서, 하기 화학식 (A)의 화합물은 염료물질의 총량을 기준으로, 최대 1 중량%의 양으로 함유됨:
[화학식 (A)]
Figure 112009044694235-PCT00018
[식 중,
D4 는 하기 화학식 (B) 또는 (C)의 기이고:
[화학식 (B)]
Figure 112009044694235-PCT00019
[화학식 (C)]
Figure 112009044694235-PCT00020
{식 중,
EA (0-3) 및 EB (0-3) 은 동일 또는 상이하고, 수소, -SO3M, -OH, -COOM, -F, -Cl, -Br, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로부터 선택된 0 내지 3개의 기이고;
p 와 q 는 0 내지 2 의 수이고;
ZA 와 ZB 는 하기 화학식 (Da), (Db), (Dc) 또는 (Dd)의 기임;
[화학식 (Da)]
Figure 112009044694235-PCT00021
[화학식 (Db)]
Figure 112009044694235-PCT00022
[화학식 (Dc)]
Figure 112009044694235-PCT00023
[화학식 (Dd)]
Figure 112009044694235-PCT00024
(식 중, r 은 0 내지 5 의 수이고;
Hal 은 할로겐이고;
YA 는 비닐, β-클로로에틸, β-브로모에틸, β-아세틸에틸, β-설파토에틸, β-페녹시에틸, β-포스파토에틸 또는 -CH2-CH2-U 기이고;
U 는 알칼리성 조건 하에 분해될 수 있는 이탈기임)};
M 은 상기 제시된 바와 같이 정의됨].
(C1-C4)-알킬기는 직쇄 또는 분지형일 수 있고, 특히 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, n-부틸, i-부틸, sec-부틸 및 tert-부틸이다. 메틸과 에틸이 바람직하다. 동일한 논리가 (C1-C4)-알콕시기에 적용되고, 이는 따라서 바람직하게는 메톡시와 에톡시이다. 동일한 논리가 또한 알킬렌기에 적용되고, 이는 특히 에틸렌, 프로필렌 및 부틸렌이다.
아릴은 특히 페닐 또는 나프틸, 바람직하게는 페닐이다. 치환 아릴은 바람직하게는 (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 설포, 카르복실, 아미도 및 할로겐으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1, 2 또는 3개의 서로 독립적인 치환기를 가진다.
할로겐은 특히 불소, 염소 및 브롬이고, 불소와 염소가 바람직하다.
알칼리 M 은 특히 리튬, 나트륨 또는 칼륨이고; 알칼리토금속 등가의 M 은 특히 등가의 칼슘이다. M 은 바람직하게는 수소 또는 나트륨이다.
알칼리-제거가능한 Z3 은 예를 들어 할로겐 원자, 예컨대 염소 및 브롬, 유기 카르복실산 및 설폰산, 예를 들어 알킬카르복실산, 치환 또는 비치환 벤젠카르복실산 및 치환 또는 비치환 벤젠설폰산의 에스테르기, 특히 탄소수 2 내지 5 의 알카노일옥시, 예컨대 아세틸옥시, 및 또한 벤조일옥시, 설포벤조일옥시, 페닐설포닐옥시 및 톨루일설포닐옥시, 또한 인산, 황산 및 티오황산 (포스파토, 설파토 및 티오설파토 기)로서 무기산의 산성 에스테르기, 유사하게 각각 탄소수 1 내지 4 의 알킬기를 가지는 디알킬아미노기, 예컨대 디메틸아미노 및 디에틸아미노이다.
Z3 은 바람직하게는 비닐, β-클로로에틸 및 더욱 바람직하게는 β-설파토에틸이다.
"설포", "카르복실", "티오설파토", "포스파토" 및 "설파토"기는 이들의 산 형태 뿐만아니라 이들의 염 형태를 포함한다. 따라서, 설포기는 화학식 -SO3M 의 기이고, 티오설파토기는 화학식 -S-SO3M 의 기이고, 카르복실기는 화학식 -COOM 의 기이고, 포스파토기는 화학식 -OPO3M2 의 기이고, 설파토기는 화학식 -OSO3M 의 기이고, 각각 M 은 상기 정의한 바와 같다.
화학식 (I) 과 (II)의 염료가 섬유-반응성기 -SO2Z2 또는 -SO2Z5 인 경우, 이는 부분적으로 비닐설포닐기로서 및 부분적으로 -CH2CH2Z3 로서, 바람직하게는 β-설파토에틸설포닐기로서 존재할 수 있다. 비닐설포닐기를 가지는 각각의 염료 분획은 각각의 총 염료를 기준으로 특히 약 30 몰% 이하이다.
라디칼 R1 과 R2 는 바람직하게는 수소, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 설포 또는 카르복실이고, 더욱 바람직하게는 수소, 메틸, 메톡시 또는 설포이다.
라디칼 R3 내지 R6 및 R12 내지 R20 은 바람직하게는 수소, R3 내지 R6, R17 및 R18 은 또한 바람직하게는 설포이다.
라디칼 R7 내지 R10 은 바람직하게는 수소 또는 메틸이고, R7 과 R8 은 또한 바람직하게는 페닐이고, R9 와 R10 은 또한 바람직하게는 2-설포에틸, 2-, 3- 또는 4-설포페닐이다. 추가로, R9 와 R10 은 바람직하게는 조합되어 -(CH2)2-O-(CH2)2- 를 형성한다. 라디칼 RA 와 RC 는 바람직하게는 수소인 반면, RB 는 바람직하게는 아세트아미도 또는 우레이도이다.
본 발명의 바람직한 염료 혼합물은 따라서
R1 과 R2 는 수소, 메틸, 메톡시 또는 설포이고;
R3 내지 R6 은 수소 또는 설포이고;
R7 과 R8 은 수소 또는 페닐이고;
R9 와 R10 은 수소, 2-설포에틸, 2-, 3- 또는 4-설포페닐이거나 또는 조합하여 -(CH2)2-O-(CH2)2- 를 형성하고;
R11 은 수소 또는 메틸이고;
R12 내지 R16, R19, R20, RA 및 RC 은 수소이고;
R17 과 R18 은 수소 또는 설포이고;
RB 는 아세트아미도 또는 우레이도인 혼합물이다.
화학식 (III)의 기에서의 X1-SO2Z2 는 바람직하게는 디아조기에 대해 메타 또는 파라로 배치된다.
화학식 (V)의 기에서 디아조기에 이어지는 결합은 바람직하게는 나프탈렌 핵에 β-위치로 결합된다.
화학식 (III) 과 (V)의 바람직한 기는 4-설포페닐, 2,4-디설포페닐, 2,5-디설포페닐, 4,8-디설포나프트-2-일, 6,8-디설포나프트-2-일, 1,5-디설포나프트-2-일, 4,6,8-트리설포나프트-2-일, 3,6,8-트리설포나프트-2-일, 2-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2-설포-4-(4설포페닐아조)페닐, 3-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 4-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2-카르복시-5-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2-클로로-4-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2-클로로-5-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2-브로모-4-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2-설포-4-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2-설포-5-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2-메톡시-5-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2-에톡시-5-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2,5-디메톡시-4-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2-메톡시-5-메틸-4-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2-메틸-4-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2- 또는 3- 또는 4-(β-티오설파토에틸설포닐)페닐, 2-메톡시-5-(β-티오설파토에틸설포닐)페닐, 2-설포-4-(β-포스파토에틸설포닐)페닐, 2- 또는 3- 또는 4-비닐설포닐페닐, 2-설포-4-비닐설포닐페닐, 2-클로로-4-(β-클로로에틸설포닐)페닐, 2-클로로-5-(β-클로로에틸설포닐)페닐, 3- 또는 4-(β-아세톡시에틸설포닐)페닐, 6- 또는 8-(β-설파토에틸설포닐)나프트-2-일, 6-(β-설파토에틸설포닐)-1-설포나프트-2-일 및 8-(β-설파토에틸설포닐)-6-설포나프트-2-일이고, 이중 3-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 4-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2-설포-4-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2-메톡시-5-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2,5-디메톡시-4-(β-설파토에틸설포닐)페닐, 2-메톡시-5-메틸-4-(β-설파토에틸설포닐)페닐 및 3- 또는 4-비닐설포닐페닐이 바람직하다.
화학식 (X)의 기에서 W 는 바람직하게는 1,3-페닐렌, 1,4-페닐렌, 2-설포-1,4-페닐렌, 2-메톡시-1,5-페닐렌, 2,5-디메톡시-1,4-페닐렌, 2-메톡시-5-메틸-1,4-페닐렌, 1,2-에틸렌 또는 1,3-프로필렌이다.
Q1 과 Q2 기 및 각각 Q3 과 Q4 의 바람직한 예는 독립적으로 불소, 염소, 히드록실, 메톡시, 에톡시, 페녹시, 3-설포페녹시, 4-설포페녹시, 메틸머캅토, 시안아미도, 아미노, 메틸아미노, 에틸아미노, 모르폴리노, 피페리디노, 페닐아미노, 메틸페닐아미노, 2-설포페닐아미노, 3-설포페닐아미노, 4-설포페닐아미노, 2,4-디설포페닐아미노, 2,5-디설포페닐아미노, 2-설포에틸아미노, N-메틸-2-설포에틸아미노, 피리디노, 3-카르복시피리디노, 4-카르복시피리디노, 3-카르바모일피리디노, 4-카르바모일피리디노, 2-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, 3-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, 4-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, N-에틸-3-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, N-에틸-4-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, 2-카르복시-5-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노), 2-클로로-4-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, 2-클로로-5-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, 2-브로모-4-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, 2-설포-4-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, 2-설포-5-(2-설파토에틸설포닐)페닐아미노, 2-메톡시-5-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, 2,5-디메톡시-4-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, 2-메톡시-5-메틸-4-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, 2-메틸-4-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, 2-(비닐설포닐)-페닐아미노, 3-(비닐설포닐)-페닐아미노, 4-(비닐설포닐)-페닐아미노, N-에틸-3-(비닐설포닐)-페닐아미노, N-에틸-4-(비닐설포닐)-페닐아미노, 6-(2-설파토에틸설포닐)-나프트-2-일아미노, 8-(2-설파토에틸설포닐)-나프트-2-일아미노, 8-(2-설파토에틸설포닐)-6-설포-나프트-2-일아미노, 3-(2-(2-설파토에틸설포닐)-에틸카르바모일)-페닐아미노, 4-(2-(2-설파토에틸설포닐)-에틸카르바모일)-페닐아미노, 3-(2-(비닐설포닐)-에틸카르바모일)-페닐아미노, 4-(2-(2-비닐설포닐)-에틸카르바모일)-페닐아미노, 4-(N-메틸-2-(2-설파토에틸설포닐)-에틸카르바모일)-페닐아미노, 4-(N-페닐-2-(2-설파토에틸설포닐)에틸카르바모일)페닐아미노, 4-(3-(2-설파토에틸설포닐)-페닐카르바모일)-페닐아미노, 4-(4-(2-설파토에틸설포닐)-페닐카르바모일)-페닐아미노, 3-(3-(2-설파토에틸설포닐)-페닐카르바모일)-페닐아미노, 3-(4-(2-설파토에틸설포닐)-페닐카르바모일)-페닐아미노, 3-(2-설파토에틸설포닐)-프로필아미노, N-메틸-N-(2-(2-설파토에틸설포닐)-에틸)-아미노, N-페닐-N-(2-(2-설파토에틸설포닐)-에틸)-아미노, N-페닐-N-(2-(2-설파토에틸설포닐)-프로필)-아미노 및 2-[2-(2-클로로에틸설포닐)에톡시]에틸아미노이다. 더욱 바람직하게, Q1 과 Q2 는 불소 또는 염소이고, Q3 과 Q4 는 여기서 언급된 다른 의미 중 하나를 가진다.
더욱 바람직하게는 Q1 과 Q2 및 각각 Q3 과 Q4 기는 독립적으로 불소, 염소, 시안아미도, 모르폴리노, 2-설포페닐아미노, 3-설포페닐아미노, 4-설포페닐아미노, N-메틸-2-설포에틸아미노, 3-카르복시피리디노, 4-카르복시피리디노, 3-카르바모일피리디노, 4-카르바모일피리디노, 3-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, 4-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, 3-(비닐설포닐)-페닐아미노, 4-(비닐설포닐)-페닐아미노, 4-(3-(2-설파토에틸설포닐)-페닐카르바모일)-페닐아미노, 4-(4-(2-설파토에틸설포닐)-페닐카르바모일)-페닐아미노, 3-(3-(2-설파토에틸설포닐)-페닐카르바모일)-페닐아미노, 3-(4-(2-설파토에틸설포닐)-페닐카르바모일)-페닐아미노, N-메틸-N-(2-(2-설파토에틸설포닐)-에틸)-아미노, N-페닐-N-(2-(2-설파토에틸설포닐)-에틸)-아미노 또는 2-[2-(2-클로로에틸설포닐)-에톡시]-에틸아미노이다. 더욱 특히는, Q1 과 Q2 는 불소 또는 염소이고, Q3 과 Q4 는 여기서 언급된 다른 의미 중 하나를 가진다.
가장 바람직하게, Q1 과 Q2 및 각각 Q3 과 Q4 기는 독립적으로 불소, 염소, 시안아미도, 모르폴리노, 2-설포페닐아미노, 3-설포페닐아미노, 4-설포페닐아미노, 3-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, 4-(2-설파토에틸설포닐)-페닐아미노, 3-(비닐설포닐)-페닐아미노, 4-(비닐설포닐)-페닐아미노, N-메틸-N-(2-(2-설파토에틸설포닐)-에틸)-아미노, N-페닐-N-(2-(2-설파토에틸설포닐)-에틸)-아미노 또는 2-[2-(2-클로로에틸설포닐)-에톡시]-에틸아미노이다. 더욱 특히는, Q1 과 Q2 는 불소 또는 염소이고, Q3 과 Q4 는 여기서 언급된 다른 의미 중 하나를 가진다.
바람직하게, Z1 과 Z4 기는 2,4-디플루오로-피리미딘-6-일, 4,6-디플루오로-피리미딘-2-일, 5-클로로-2,4-디플루오로-피리미딘-6-일, 5-클로로-4,6-디플루오로-피리미딘-2-일, 4,5-디플루오로-피리미딘-6-일, 5-클로로-4-플루오로-피리미딘-6-일, 2,4,5-트리클로로-피리미딘-6-일, 4,5-디클로로-피리미딘-6-일, 2,4-디클로로-피리미딘-6-일, 4-플루오로-피리미딘-6-일, 4-클로로-피리미딘-6-일, 또는 Q1 과 Q2 에 대하여 상기 제시된 바람직한 의미를 가지는 화학식 (VIII)의 기이다.
더욱 바람직하게, Z1 과 Z4 기는 2,4-디플루오로피리미딘-6-일, 4,6-디플루오로피리미딘-2-일, 5-클로로-2,4-디플루오로피리미딘-6-일 또는 5-클로로-4,6-디플루오로피리미딘-2-일 또는 Q1 과 Q2 에 대하여 상기 제시된 특히 바람직한 의미를 가지는 화학식 (VIII)의 기이다.
가장 바람직하게, Z1 과 Z2 기는 2,4-디플루오로피리미딘-6-일 또는 5-클로로-2,4-디플루오로피리미딘-6-일 또는 Q1 과 Q2 에 대하여 상기 제시된 가장 바람직한 의미를 가지는 화학식 (VIII)의 기이다.
화학식 (XII)의 기에서 카르복사미드는 바람직하게는 디아조기에 대해 파라 또는 메타로 배치된다. A 가 페닐렌이고, X3 가 -SO2Z2 인 경우, -SO2Z2- 기는 바람직하게는 질소 원자에 대해 메타 또는 파라로 배치된다. A 가 나프틸렌인 경우, 질소 원자로 이어지는 결합은 바람직하게는 나프탈렌 핵에 β-위치로 결합된다.
치환기 A 의 바람직한 예는 1,2-페닐렌, 1,3-페닐렌, 1,4-페닐렌, 2-클로로-1,4-페닐렌, 2-클로로-1,5-페닐렌, 2-브로모-1,4-페닐렌, 2-설포-1,4-페닐렌, 2-설포-1,5-페닐렌, 2-메톡시-1,5-페닐렌, 2-에톡시-1,5-페닐렌, 2,5-디메톡시-1,4-페닐렌, 2-메톡시-5-메틸-1,4-페닐렌, 2-메틸-1,4-페닐렌, 2,6-나프틸렌, 2,8-나프틸렌, 1-설포-2,6-나프틸렌, 6-설포-2,8-나프틸렌 또는 1,2-에틸렌 및 1,3-프로필렌이다.
A 는 더욱 바람직하게는 1,3-페닐렌, 1,4-페닐렌, 2-설포-1,4-페닐렌, 2-메톡시-1,5-페닐렌, 2,5-디메톡시-1,4-페닐렌, 2-메톡시-5-메틸-1,4-페닐렌 또는 1,2-에틸렌 및 1,3-프로필렌이고, 2개의 최근-언급된 알킬렌기의 경우, R12 는 바람직하게는 페닐 또는 2-설포페닐이다.
A 가 화학식 (XV)의 기인 경우, k 는 바람직하게는 2 또는 3 이다.
D1 과 D2 가 바람직하게는 화학식 (III) 또는 (VI)의 기를 나타내는 경우, 화학식 (III)의 기가 특히 바람직하다. 본 발명의 매우 특히 바람직한 염료 혼합물에서, D1 과 D2 는 상기 언급된 바람직한 의미를 가진다.
D3 는 바람직하게는 화학식 (V)의 기 및 더욱 바람직하게는 화학식 (V)의 기를 나타내고, 여기서 R3, R4 및 X2 는 수소 또는 설포이다.
Z1 은 바람직하게는 화학식 (VIII)의 기이고, 여기서, Q1 과 Q2 는 상기 바람직한 의미를 가진다. 더욱 특히는, Q1 은 불소 또는 염소이고, Q2 는 다른 바람직한 의미 중 하나를 가진다.
더욱 바람직하게, 따라서, Z1 은 화학식 (VIII)의 기이고, 여기서, Q1 은 불소 또는 염소이고, Q2 는 시안아미도, 모르폴리노, 2-설포페닐-아미노, 3-설포페닐아미노, 4-설포페닐아미노, N-메틸-2-설포에틸아미노, 3-카르복시피리디노, 4-카르복시피리디노, 3-카르바모일피리디노, 4-카르바모일피리디노, 3-(2-설파토에틸설포닐)페닐아미노, 4-(2-설파토에틸설포닐)페닐아미노, 3-(비닐설포닐)페닐아미노, 4-(비닐설포닐)페닐아미노), 4-(3-(2-설파토에틸설포닐)페닐카르바모일)페닐아미노, 4-(4-(2-설파토에틸설포닐)페닐카르바모일)페닐아미노, 3-(3-(2-설파토에틸설포닐)페닐카르바모일)페닐아미노, 3-(4-(2-설파토에틸설포닐)-페닐카르바모일)페닐아미노, N-메틸-N-(2-(2-설파토에틸설포닐)에틸)아미노, N-페닐-N-(2-(2-설파토에틸설포닐)에틸)아미노, 또는 2-[2-(2-클로로에틸설포닐)에톡시]에틸아미노이다.
가장 바람직하게, 따라서, Z1 은 화학식 (VIII)의 기이고, 여기서, Q1 은 불소 또는 염소이고, Q2 는 시안아미도, 모르폴리노, 2-설포페닐아미노, 3-설포페닐아미노, 4-설포페닐아미노, 3-(2-설파토에틸설포닐)페닐아미노, 4-(2-설파토에틸설포닐)페닐아미노, 3-(비닐설포닐)페닐아미노, 4-(비닐설포닐)페닐아미노), N-메틸-N-(2-(2-설파토에틸설포닐)에틸)아미노, N-페닐-N-(2-(2-설파토에틸설포닐)에틸)아미노, 또는 2-[2-(2-클로로에틸설포닐)에톡시]에틸아미노이다.
본 발명의 특히 바람직한 염료 혼합물은 하기 화학식 (Ia)의 하나 이상의 염료 및 하기 화학식 (IIa)의 하나 이상의 염료를 함유한다:
[화학식 (Ia)]
Figure 112009044694235-PCT00025
[화학식 (IIa)]
Figure 112009044694235-PCT00026
[식 중, R1a, R1b, R2a 및 R2b 는 독립적으로 수소, 메틸, 메톡시 또는 설포이고;
Z2 와 Z5 는 독립적으로 비닐 또는 β-설파토에틸이고;
D3, RB, RC 및 M 은 상기 정의한 바와 같음].
본 발명의 염료 혼합물은 모두 총 염료를 기준으로 화학식 (I)의 염료 또는 염료들을 1중량% 내지 99중량%, 바람직하게는 10중량% 내지 90중량%의 양으로, 그리고 화학식 (II)의 염료 또는 염료들을 1중량% 내지 99중량%, 바람직하게는 10중량% 내지 90중량%의 양으로 함유한다.
본 발명의 바람직한 염료 혼합물은 염료물질의 총량을 기준으로 화학식 (A)의 화합물을 최대 0.5 중량%의 양으로 함유하는 반면, 본 발명의 특히 바람직한 염료 혼합물은 화학식 (A)의 화합물을 함유하지 않는다.
본 발명에 따른 염료는 고체 또는 액체 (용해된) 형태의 제조물로서 존재할 수 있다. 고체 형태에서, 이들은 대개 수용성 및 특히 섬유-반응성 염료의 경우에 통상적인 전해질 염, 예컨대 염화 나트륨, 염화 칼륨 및 황산 나트륨을 함유하고, 시판 염료에 통상적인 보조물, 예컨대 수용액의 pH 를 3 내지 7 로 고정할 수 있는 완충 물질, 예를 들어 나트륨 아세테이트, 나트륨 보레이트, 중탄산 나트륨, 인산이수소 나트륨, 나트륨 트리시트레이트 및 인산수소 이나트륨, 및 소량의 건조제를 추가로 함유할 수 있거나, 또는 이들이 액체, 수용액 (프린트 페이스트 중 통상적인 형태의 증점제의 내용물을 포함함)의 경우, 이들은 또한 상기 제조물에 대해 장기간의 수명을 보장하는 물질, 예를 들어 곰팡이 방지제를 함유한다.
고체 형태에서, 전해질 염을 함유하고, 이하 하나 이상의 상기한 보조물을 포함 또는 포함하지 않는 제조물로 지칭되는 본 발명에 따른 염료 혼합물은 일반적으로 과립 또는 분말로서 존재한다. 상기 제조물에서, 상기 염료 혼합물은 이를 함유하는 제조물을 기준으로, 20 내지 90중량%로 존재한다. 완충 물질은 제조물을 기준으로, 5중량% 이하의 총량으로 일반적으로 존재한다.
본 발명에 따른 염료 혼합물이 수용액 중에 존재하는 경우, 상기 용액의 총 염료 함량은 약 50중량% 이하, 예를 들어 5 내지 50중량%이고, 전해질 염 함량은 수용액을 기준으로 바람직하게는 10중량% 미만이다. 상기 수용액 (액체 제조물)은 또한 일반적으로 5중량% 이하 및 바람직하게는 0.1 내지 2중량%인 양으로 완충 물질을 함유할 수 있다.
본 발명에 따른 염료 혼합물은 이의 염료 분말 또는 과립의 형태이든지 또는 수용액, 예를 들어 추가적으로 통상적인 보조물을 함유할 수 있는, 이의 합성한 대로의 용액의 형태에서 통상적인 방식으로, 예를 들어 개별 염료를 기계적으로 혼합함으로써 제조가능하다.
대체물로서, 목적하는 함량 비율에서의 디아조와 결합 성분의 적합한 혼합물은 통상적인 디아조화(diazotization) 및 결합 반응에 의해 수득될 수 있다.
β-클로로에틸설포닐 또는 β-티오설파토에틸설포닐 또는 β-설파토에틸설포닐기 뿐만아니라 또한 비닐설포닐기를 반응성 라디칼로서 함유하는 염료 혼합물은, 또한 적절히 치환된 비닐설포닐아닐린 또는 나프틸아민으로부터 출발할 뿐만아니라 염료 혼합물 (여기서, Z3 가 목적하는 분획에 요구되는 알칼리의 양을 포함한 β-클로로에틸, β-티오설파토에틸 또는 β-설파토에틸임)의 반응에 의해 그리고 언급된 β-치환 에틸설포닐기를 비닐설포닐기로 전환하여 합성될 수 있다. 상기 전환은 당업자에게 친근한 방식으로 수행된다.
화학식 (I)의 염료는 공지되어 있고, EP 0 785 237 A1 에 기재되어 있다. 화학식 (II)의 염료는 유사하게 공지되어 있고, 문헌에 광범위하게 기재되어 있다. 화학식 (I)의 염료와 화학식 (II)의 염료는 당업자에게 알려진 합성의 표준 방법에 의해 수득가능하다.
본 발명의 염료 혼합물은 유용한 적용 특성을 가지고, 카르복사미도- 및/또는 히드록실-함유 재료를 염색하고 프린팅하는데 사용될 수 있다. 언급한 재료는 예를 들어 시트형(sheetlike) 구조, 예컨대 종이 및 가죽의 형태, 필름, 예를 들어 폴리아미드 필름의 형태 또는 벌크(bulk) 조성물, 예를 들어 폴리아미드 또는 폴리우레탄의 형태로 존재할 수 있다. 그러나, 특히 이들은 언급한 재료의 섬유 형태로 존재한다. 본 발명의 염료 혼합물은 임의 종류의 셀룰로오스 섬유질 재료를 염색하고 프린팅하는데 사용된다. 이들은 바람직하게는 면화 또는 폴리에스테르 섬유와 함께 폴리아미드로 조성된 폴리아미드 섬유 또는 혼방 직물(blend fabric)을 염색하거나 또는 프린팅하는데 유용하다. 본 발명의 염료 혼합물을 프린트 텍스타일(textile), 종이 또는 다른 재료로 잉크젯(inkjet) 방법에 의해 사용하는 것이 또한 가능하다.
이에 따라 본 발명은 또한 상기 재료를 염색 또는 프린팅하기 위한 본 발명의 염료 혼합물의 용도, 또는 착색제로서 본 발명의 염료 혼합물을 사용함으로써, 통상적인 방식으로 상기 재료를 염색 또는 프린팅하기 위한 다소의 방법을 제공한다. 본 발명의 염료 혼합물은 상기 재료, 바람직하게는 섬유 재료에 매우 양호한 견뢰도 특성을 가지는 오렌지색 내지 적색 염색물을 제공한다.
유리하게, 본 발명의 염료 혼합물의 합성한 대로의 용액은 완충 물질의 첨가 후 적절한 경우, 그리고 농축 또는 희석 후 적절한 경우, 염색을 위한 액체 제조물로서 직접 사용될 수 있다.
섬유 재료 및 섬유는 특히 여기서 직포(woven fabric), 실로서 또는 묶음(hank) 또는 감긴 다발(wound package)의 형태로 존재할 수 있는 텍스타일 섬유이다.
카르복사미도-함유 재료는 예를 들어 특히 섬유 형태의 합성 및 천연 폴리아미드 및 폴리우레탄, 예를 들어 양모 및 다른 동물털, 명주실, 가죽, 나일론-6,6, 나일론-6, 나일론-11 및 나일론-4 이다.
히드록실-함유 재료는 천연 또는 합성 유래의 것, 예를 들어 셀룰로오스 섬유 재료 또는 이의 재생된 제품 및 폴리비닐 알코올이다. 셀룰로오스 섬유 재료는 바람직하게는 면화 뿐만아니라 다른 식물성 섬유, 예컨대 리넨, 대마, 황마 및 마황 섬유이다. 재생된 셀룰로오스 섬유는 예를 들어 스테이플(staple) 비스코스 및 필라멘트(filament) 비스코스이다.
본 발명의 염료 혼합물은 수용성 염료 및 특히 섬유-반응성 염료에 대해 알려진 적용 기술에 의해, 언급한 재료, 특히 언급한 섬유 재료에 적용되고 고착될 수 있다.
셀룰로오스 섬유 상에, 이들은 장액(long liquor)으로부터 게다가 단액(short liquor)으로부터 배출 방법에 의해, 각종 산-결합제 및 적절하게는 중성 염, 예컨대 염화 나트륨 또는 황산 나트륨을 사용하여, 매우 양호한 색 수율을 가지는 염색물을 제조한다. 염색은 바람직하게는 pH 3 내지 7 및 특히 pH 4 내지 6 에서 배출 방법에 의해 수행된다. 상기 액체 비율은 광범위한 범위 내에서 선택될 수 있고, 예를 들어 3:1 내지 100:1 및 바람직하게는 5:1 내지 30:1 이다. 적용물은 바람직하게는 40 내지 105℃의 온도, 적절하다면 초대기압(superatmospheric pressure) 하 130℃ 이하의 온도, 및 적절하다면 통상적인 염색 보조물의 존재 하에서 수조로부터 존재한다. 염색된 재료의 습윤견뢰도를 증진시키기 위해, 비고착된 염료는 뒷처리에서 제거될 수 있다. 상기 뒷처리는 특히 pH 8 내지 9 및 온도 75 내지 80℃에서 수행된다.
여기서 하나의 가능한 절차는 상기 재료를 가온한 조에 도입하는 것이고, 목적하는 온도로 상기 조를 점차적으로 가열하고, 염색 작업을 완성하는 것이다. 염료의 배출을 촉진하는 중성 염은 또한 실제 염색 온도에 이르게 된 후 목적에 따라 단지 조에 첨가될 수 있다.
패딩(padding) 방법은 마찬가지로 셀룰로오스 섬유 상에 매우 양호한 색상 축적 및 우수한 색 수율을 제공하고, 상기 염료는 실온 또는 승온, 예를 들어 약 60℃ 이하에서 배칭(batching)하거나, 또는 스티밍(steaming) 또는 건조 열에 의한 통상적인 방식으로 고착가능하다.
유사하게, 셀룰로오스 섬유용 통상적인 프린팅 방법은, 예를 들어 중탄산 나트륨를 함유하는 프린트 페이스트 또는 일부 다른 산-결합제로 프린팅하고, 이어서 100 내지 103℃에서의 스티밍에 의한 하나의 단계로 실시될 수 있거나, 또는 예를 들어 중성 내지 약 산성 프린트 색상으로 프린팅하고, 이어서 프린팅된 재료를 고온 전해질-함유 알칼리성 조에 통과시키거나 또는 알칼리성 전해질-함유 패딩액(padding liquor)으로 오버패딩(overpadding)한 다음 배칭 또는 스티밍하거나 또는 알칼리-오버패딩된 재료의 건조 열 처리에 의해 고착하는 것에 의한 2개의 단계로 실시될 수 있는데, 이러한 셀룰로오스 섬유용 통상적인 프린팅 방법은 잘-정의된 윤곽선 및 명백한 백색 바탕을 가진 강한 색상 프린트를 제조한다. 프린트의 결과는 고착 조건의 변화에 의해, 가능하다면, 거의 영향받지 않는다.
통상적인 열고착 방법에 따라 건조 열에 의해 고착되는 경우, 120 내지 200℃에서 고온의 기체가 사용된다. 101 내지 103℃의 통상적인 스팀(steam)에 더하여, 과열된 스팀 및 160℃ 이하의 온도에서 고압 스팀을 사용하는 것이 또한 가능하다.
셀룰로오스 섬유 상의 염료의 고착을 수행하는 산-결합제는 예를 들어 알칼리 금속의 수용성 염기성 염 및 마찬가지로 무기 또는 유기 산의 알칼리토금속 또는 가열시 알칼리를 유리하는 화합물이다. 알칼리 금속 수산화물 및 약 내지 중 무기 또는 유기 산의 알칼리 금속 염이 특히 적합하고, 바람직한 알칼리 금속 화합물은 나트륨 및 칼륨 화합물이다. 상기 산-결합제는 예를 들어 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산 나트륨, 중탄산 나트륨, 탄산 칼륨, 나트륨 포르메이트, 인산이수소 나트륨, 인산수소 이나트륨, 나트륨 트리클로로아세테이트, 물유리 또는 인산 삼나트륨이다.
본 발명의 염료 혼합물은 잘 알려진 염색 및 프린팅 방법으로 적용된 경우 셀룰로오스 섬유 상에 축적 곡선의 가파른 진행 및 현저한 색 강도(color strength)로 유명하다. 셀룰로오스 섬유 재료 상에 본 발명의 염료 혼합물과 함께 수득가능한 염색물 및 프린트물은 추가로 양호한 광견뢰도, 및 특히, 양호한 습윤견뢰도, 예컨대 세척, 제분, 물, 해수, 크로스염색(crossdyeing) 및 산성 및 알칼리성 발한에 대한 견뢰도, 또한 플릿팅(pleating), 고온압축 및 러빙(rubbing)에 대한 양호한 견뢰도를 가진다.
비고착된 염료 부분을 제거하기 위한 헹굼의 통상적인 뒷처리 다음에 수득되는 염색물 및 프린트물은 우수한 습윤견뢰도를 추가로 나타내는데, 특히 이는 비고착된 염료 부분이 냉수 중 이의 양호한 용해성 때문에 용이하게 세척되기 때문이다.
더욱이, 본 발명에 따른 염료 혼합물은 또한 양모의 섬유-반응성 염색을 위해 사용될 수 있다. 게다가, 비펠팅(nonfelting) 또는 저-펠팅 피니시(finish)가 제공된 양모 (비교, 예를 들어 H. Rath, Lehrbuch der Textilchemie, Springer-Verlag, 3rd edition (1972), pages 295-299, 특히 Hercosett 방법에 의해 끝마무리됨 (page 298); J. Soc. Dyers and Colourists 1972, 93-99, and 1975, 33-44) 는 매우 양호한 견뢰도 특성으로 염색될 수 있다. 양모 상의 염색 방법은 여기서, 산성 매질로부터 통상적인 방식으로 실시된다. 예를 들어, 아세트산 및/또는 암모늄 설페이트 또는 아세트산 및 암모늄 아세테이트 또는 나트륨 아세테이트를 염욕(dyebath)에 첨가하여 목적하는 pH 를 수득할 수 있다. 허용가능한 균일성의 염색을 수득하기 위해서, 통상적인 평활제(leveling agent), 예를 들어 염화시아누르산과 3배 몰량의 아미노벤젠설폰산 및/또는 아미노나프탈렌설폰산과의 반응 생성물 기재의, 또는 예를 들어 스테아릴아민과 에틸렌 옥사이드와의 반응 생성물 기재의 평활제를 첨가하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 본 발명에 따른 염료 혼합물은, 바람직하게는 pH 조절 하에 pH 가 약 3.5 내지 5.5 인 산성 염욕으로부터 배출 과정을 처음 수행하고, 이어서 염색 시간의 종점으로 갈수록, 중성 및 임의로 pH 8.5 이하의 약 알칼리성 범위로 이동하여, 특히 매우 진한 염색물에 대하여, 본 발명에 따른 염료 혼합물의 염료와 섬유 사이의 전체 반응성 결합을 초래한다. 동시에, 반응적으로 결합되지 않은 염료 부분이 제거된다.
여기서 기재된 절차는 또한 다른 천연 폴리아미드 또는 합성 폴리아미드 및 폴리우레탄으로 구성된 섬유 재료 상에 염색물의 제조에 적용된다. 상기 재료는 당업자에게 알려지고 문헌에 기재된 프린팅 방법 및 통상적인 염색을 이용하여 염색될 수 있다 (예를 들어 H.-K. Rouette, Handbuch der Textilveredlung, Deutscher Fachverlag GmbH, Frankfurt/Main 참조). 일반적으로, 염색되는 재료는 약 40℃의 온도에서의 조에 도입되고, 얼마간 이에서 교반되고, 염욕은 이어서 목적하는 약 산성, 바람직하게는 약 아세트산의 pH 로 조정되고, 실제 염색은 60 내지 98℃의 온도에서 실시된다. 그러나, 염색물은 또한 비점 또는 밀봉된 염색 장치 내 106℃ 이하의 온도에서 실시될 수 있다. 본 발명에 따른 염료 혼합물의 수용성이 매우 양호하기 때문에, 이들은 또한 통상적인 연속적 염색 방법에서 이점을 가지고 사용될 수 있다. 본 발명에 따른 염료 혼합물의 색 강도는 매우 높다.
본 발명은 또한 본 발명의 염료 혼합물을 함유하는, 잉크젯 방법에 의한 디지털 텍스타일 프린팅용 잉크를 제공한다.
본 발명의 잉크는 본 발명의 염료 혼합물을 잉크의 총 중량을 기준으로 예를 들어 0.1중량% 내지 50중량%의 양, 바람직하게는 1중량% 내지 30중량%의 양 및 더욱 바람직하게는 1중량% 내지 15중량%의 양으로 함유한다. 상기 잉크가 또한 본 발명의 염료 혼합물과 텍스타일 프린팅에서 사용된 다른 염료의 혼합물을 함유할 수 있음이 인지될 것이다. 연속 흐름 (continuous flow) 방법에서 사용되는 잉크에 대하여, 0.5 내지 25 mS/m 의 전도성은 전해질을 첨가함으로써 설정될 수 있다. 유용한 전해질은 예를 들어 질산 리튬과 질산 칼륨을 포함한다.
본 발명의 잉크는 1 내지 50중량% 및 바람직하게는 5 내지 30중량% 의 총량으로 유기 용매를 함유할 수 있다.
적합한 유기 용매는 예를 들어 알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 이소프로판올, 1-부탄올, tert-부탄올, 펜틸 알코올, 다가 알코올 예를 들어: 1,2-에탄디올, 1,2,3-프로판트리올, 부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,2-프로판디올, 2,3-프로판디올, 펜탄디올, 1,4-펜탄디올, 1,5-펜탄디올, 헥산디올, D,L-1,2-헥산디올, 1,6-헥산디올, 1,2,6-헥산트리올, 1,2-옥탄디올, 폴리알킬렌 글리콜, 예를 들어: 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 알킬렌기 수 2 내지 8 의 알킬렌 글리콜, 예를 들어 모노에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 테트라에틸렌 글리콜, 티오글리콜, 티오디글리콜, 부틸트리글리콜, 헥실렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 트리프로필렌 글리콜, 다가 알코올의 저급 알킬 에테르, 예를 들어: 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노헥실 에테르, 트리에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 트리에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르, 트리프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 테트라에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 테트라에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르, 테트라에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노부틸 에테르, 트리프로필렌 글리콜 이소프로필 에테르, 폴리알킬렌 글리콜 에테르, 예컨대 예를 들어: 폴리에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 폴리프로필렌 글리콜 글리세롤 에테르, 폴리에틸렌 글리콜 트리데실 에테르, 폴리에틸렌 글리콜 노닐페닐 에테르,
아민, 예컨대 예를 들어: 메틸아민, 에틸아민, 트리에틸아민, 디에틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 디부틸아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, N-포르밀에탄올아민, 에틸렌디아민,
우레아 유도체, 예컨대 예를 들어: 우레아, 티오우레아, N-메틸우레아, N,N'-엡실론-디메틸우레아, 에틸렌우레아, 1,1,3,3-테트라메틸우레아, N-아세틸에탄올아민, 아미드, 예컨대 예를 들어: 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 아세트아미드,
케톤 또는 케토 알코올, 예컨대 예를 들어: 아세톤, 디아세톤 알코올,
시클릭 에테르, 예컨대 예를 들어; 테트라히드로푸란, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 2-부톡시에탄올, 벤질 알코올, 2-부톡시에탄올, 감마 부티로락톤, 엡실론-카프로락탐,
추가로 설포란, 디메틸설포란, 메틸설포란, 2,4-디메틸설포란, 디메틸 설폰, 부타디엔 설폰, 디메틸 설폭사이드, 디부틸 설폭사이드, N-시클로헥실피롤리돈, N-메틸-2-피롤리돈, N-에틸피롤리돈, 2-피롤리돈, 1-(2-히드록시에틸)-2-피롤리돈, 1-(3-히드록시프로필)-2-피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 1,3-디메틸-2-이미다졸리논, 1,3-비스메톡시메틸이미다졸리딘, 2-(2-메톡시에톡시)에탄올, 2-(2-에톡시에톡시)에탄올, 2-(2-부톡시에톡시)에탄올, 2-(2-프로폭시에톡시)에탄올, 피리딘, 피페리딘, 부티로락톤, 트리메틸프로판, 1,2-디메톡시프로판, 디옥산, 에틸 아세테이트, 에틸렌디아민테트라아세테이트, 에틸 펜틸 에테르, 1,2-디메톡시프로판 및 트리메틸프로판이다.
본 발명의 잉크는 20 내지 50℃의 온도 범위에서 점성도를 1.5 내지 40.0 mPas 의 범위로 설정하기 위한 통상적인 첨가제, 예를 들어 점도 조정기를 추가로 함유할 수 있다. 바람직한 잉크는 1.5 내지 20 mPas 의 점도를 가지고, 특히 바람직한 잉크는 1.5 내지 15 mPas 의 점도를 가진다.
유용한 점도 조정제는 유동학적 첨가제, 예를 들어:
폴리비닐카프로락탐, 폴리비닐피롤리돈 및 이의 공중합체 폴리에테르폴리올, 연관 증점제, 폴리우레아, 폴리우레탄, 나트륨 알지네이트, 개질된 갈락토만난(galactomannan), 폴리에테르우레아, 폴리우레탄, 비이온성 셀룰로오스 에테르를 포함한다.
추가의 첨가제로서 상기 발명의 잉크는 사용된 방법 (열적 또는 피에조기술(piezotechnology))의 작용으로서 필요에 따라 적용되는 표면 장력 20 내지 65 mN/m를 설정하는 계면-활성 물질을 포함할 수 있다.
유용한 계면-활성 물질은 예를 들어 하기를 포함한다: 모든 계면활성제, 바람직하게는 비이온성 계면활성제, 부틸디글리콜, 1,2-헥산디올.
상기 잉크는 추가로 통상적인 첨가제, 예를 들어 잉크의 총량을 기준으로 0.01 내지 1중량%의 양으로 진균 및 박테리아 성장을 저해하는 물질을 포함한다.
본 발명의 잉크는 수 중 성분을 혼합하는 것에 의한 통상적인 방식으로 제조될 수 있다.
본 발명의 잉크는 매우 다양한 예비처리된 재료, 예컨대 명주실, 가죽, 양모, 임의 종류의 셀룰로오스 섬유 재료 및 폴리우레탄, 및 특히 폴리아미드 섬유를 프린팅하기 위한 잉크젯 프린팅 방법에서 유용하다. 본 발명의 프린팅 잉크는 또한 혼방 직물, 예를 들어 면화, 명주실, 양모의 폴리에스테르 섬유 또는 폴리아미드 섬유와의 배합물에 존재하는 예비처리된 히드록실- 또는 아미노-함유 섬유를 프린팅하는데 유용하다.
통상적인 텍스타일 프린팅과 대조적으로, 프린팅 잉크가 이미 모든 고착 화학 제품 및 반응성 염료용 증점제를 함유하는 경우, 잉크젯 프린팅시 보조물은 분리된 예비처리 단계에서 텍스타일 기판에 적용되어야만 한다.
텍스타일 기판, 예를 들어 셀룰로오스 및 재생된 셀룰로오스 섬유 및 또한 명주실 및 양모의 예비처리는, 프린팅 이전에 알칼리성 수용액으로 수행된다. 반응성 염료를 고착하기 위해, 알칼리, 예를 들어 탄산 나트륨, 중탄산 나트륨, 나트륨 아세테이트, 인산 삼나트륨, 나트륨 실리케이트, 수산화 나트륨, 알칼리 공여체 예컨대, 나트륨 클로로아세테이트, 나트륨 포르메이트, 굴수성 물질 예컨대, 우레아, 환원 억제제, 예를 들어 나트륨 니트로벤젠설포네이트, 및 또한 프린팅 잉크가 적용된 경우 운동의 흐름을 방해하는 증점제, 예를 들어 나트륨 알지네이트, 개질된 폴리아크릴레이트 또는 매우 에테르화된 갈락토만난에 대한 요구가 존재한다.
상기 예비처리 시약은 적합한 기구를 사용하여, 예를 들어 2- 또는 3-롤 패드, 폼(foam) 적용에 의한 비접촉식(contactless) 분무 기술을 이용하여 또는 적절히 적용된 잉크젯 기술을 이용하여, 한정된 양의 텍스타일 기판에 균일하게 적용된 후, 이어서 건조된다.
프린팅 후, 상기 텍스타일 섬유 재료는 120 내지 150℃에서 건조된 다음, 고착된다.
반응성 염료로 제조된 잉크젯 프린트의 고착은 실온에서 또는 포화 스팀으로, 과열된 스팀으로, 고온 공기로, 마이크로웨이브로, 적외선으로, 레이저 또는 전자빔(electron beam)으로 또는 다른 적합한 에너지 이동 기술로 수행될 수 있다.
1- 및 2-상 고착 방법으로 구별된다:
1-상 고착에서, 필요한 고착 화학제품은 이미 텍스타일 기판 상에 존재한다.
2-상 고착에서, 상기 예비처리는 불필요하다. 고착은 단지 알칼리를 요구하고, 이는 중간 건조 없이, 잉크젯 프린팅을 후속하면서 고착 방법 이전에 적용된다. 우레아와 같은 추가의 첨가제 또는 증점제에 대한 요구가 없다.
고착 다음에 프린트 뒷처리를 수행하고, 이는 양호한 견뢰도, 고 휘도 및 결점 없는 백색 바탕에 대한 필수 조건이다.
본 발명의 잉크를 사용하여 제조된 프린트는 특히 폴리아미드 상에서, 높은 색 강도 및 높은 섬유-염료 결합 안정성을 산성 영역 뿐만아니라 알칼리 영역 중에서 가지고, 또한 양호한 광견뢰도 및 매우 양호한 습윤견뢰도 특성, 예컨대 세척, 물, 해수, 크로스염색 및 발한에 대한 견뢰도, 및 또한 플릿팅, 고온압축 및 러빙에 대한 양호한 견뢰도를 가진다.
하기 실시예는 본 발명을 설명한다. 부 및 백분율은 별도로 제시하지 않으면 중량에 의한 것이다. 중량부는 리터에 대한 킬로그램으로서 부피부(parts by volume)이다. 식에 의한 실시예에 기재된 화합물은 나트륨 염 형태로 제시되는데, 그 이유는 이들이 일반적으로 이의 염, 바람직하게는 나트륨 또는 칼륨 염 형태로 제조되고 단리되고, 이의 염 형태로 염색을 위해 사용되기 때문이다. 하기 실시예에 기재된 출발 화합물, 특히 표 실시예는 유리산 형태 또는 마찬가지로 이의 염, 바람직하게는 나트륨 또는 칼륨 염과 같은 알칼리 금속 염 형태로 합성시 사용될 수 있다.
실시예 1
75% 분획 중 하기 화학식 (Ib)의 오렌지색 염료를 함유하는 전해질-함유 염료 분말 20 부 및 75% 분획 중 하기 화학식 (IIb)의 황색 염료를 함유하는 전해질-함유 염료 분말 80 부
[화학식 (Ib)]
Figure 112009044694235-PCT00027
[화학식 (IIb)]
Figure 112009044694235-PCT00028
를 물 500부에 용해시키고, 생성된 염료 용액을 pH 5.5~6.5 로 조정하였다. 상기 염료 용액을 증발시켜 황색 내지 금빛 황색 염색물 및 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 조건 하에 면화 상의 프린트를 제공하는 염료 혼합물을 수득하였다.
대안적으로, 수득된 염료 용액은 포스페이트 완충제의 첨가에 의해 pH 5.5~6 에서 완충물이 될 수 있고, 추가 희석되거나 또는 농축되어 정의된 강도의 액체 타입을 제공할 수 있다.
실시예 2
70% 분획 중 하기 화학식 (Ib)의 오렌지색 염료를 함유하는 전해질-함유 염료 분말 20부 및 70% 분획 중 하기 화학식 (IIc)의 금빛 황색 염료를 함유하는 전해질-함유 염료 분말 80부를 서로 기계적으로 혼합하였다:
[화학식 (IIc)]
Figure 112009044694235-PCT00029
.
본 발명에 따라 생성된 염료 혼합물은 예를 들어 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 조건 하에 면화 상에 황색 염색물 및 프린트를 제공하였다.
실시예 3
75% 분획 중 화학식 (I-1)의 오렌지색 디스아조 염료를 함유하는 전해질-함유 염료 분말 20부 및 65% 분획 중 하기 화학식 (IId)의 황색 아조 염료를 함유하는 전해질-함유 염료 분말 80부를 물 500부에 용해시키고, 생성된 염료 용액을 pH 5.5~6.5 로 조정하였다:
[화학식 (IId)]
Figure 112009044694235-PCT00030
.
상기 염료 용액을 증발시켜 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 조건 하에 황색 염색물 및 프린트를 면화 상에 제공하는 염료 혼합물을 수득하였다.
대안적으로, 수득된 염료 용액은 또한 포스페이트 완충제의 첨가에 의해 pH 5.5~6 으로 완충물이 될 수 있고, 추가 희석 또는 농축되어 정의된 강도의 액체 타 입을 제공할 수 있다.
실시예 4 내지 22
후속하는 실시예는 추가의 본 발명의 염료 혼합물을 기재하였으며, 각각의 화학식 (I) 및 (II)의 염료는 나트륨 염의 형태로 각각 나열되고, 실시예 1 내지 3 에서 기재된 방법에 의해 수득가능하다. 혼합비는 중량%로 기록되었다. 상기 염료 혼합물은 예를 들어 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 방법에 의해 면화 상에 황색 내지 황색빛을 띤 오렌지색 염색물을 제공하였다.
Figure 112009044694235-PCT00031
Figure 112009044694235-PCT00032
Figure 112009044694235-PCT00033
실시예 23
실시예 1 에 따라서 수득된 염료 혼합물 2부 및 염화 나트륨 50부를 물 999부 및 탄산 나트륨 5부, 수산화 나트륨 0.7부 (32.5% 수용액의 형태)에 용해시키고, 적당하다면, 습윤제 1부를 첨가하였다. 상기 염욕을 면화 직포 100 g 에 넣었다. 염욕의 온도는 초기 10 분동안 25℃로 유지한 후, 30분에 걸쳐 최종 온도 (40~80℃)로 올리고, 최종 온도에서 추가로 60~90분 동안 유지하였다. 이후, 염색된 직물을 2분 동안 처음에 수돗물로 헹군 다음 탈이온수로 5분 동안 헹구 었다. 염색된 직물을 10분 동안 50% 아세트산 1부를 함유하는 수용액 1000부 중에 40℃에서 중성화하였다. 70℃에서 탈이온수로 다시 헹군 다음, 15분 동안 세탁 세제로 비점에서 비눗칠하고, 1회 더 헹구고, 건조시켜 매우 양호한 견뢰도 특성을 가지는 오렌지색 내지 적색 염색물을 제공하였다. 기재된 방법이 실시예 2 및 3 에 따라 수득된 염료 혼합물을 이용하여 반복되는 경우 유사한 결과를 얻었다.
실시예 24
실시예 1 에 따라 수득된 염료 혼합물 4부 및 염화 나트륨 50부를 물 998부 및 탄산 나트륨 5부, 수산화 나트륨 2부 (32.5% 수용액의 형태)에 용해시키고, 적당한 경우 습윤제 1부를 첨가하였다. 상기 염욕을 면화 직포 100 g 에 넣었다. 공정처리의 나머지를 실시예 23 에 기록된 바와 같이 실시하여 매우 양호한 견뢰도 특성을 가지는 높은 색 강도의 오렌지색 내지 적색 염색물을 제공하였다.
기재된 방법이 실시예 2 및 3 에 따라 수득된 염료 혼합물을 사용하여 반복되는 경우, 유사한 결과를 수득하였다.
실시예 25
머서법 가공된(mercerized) 면화로 이루어진 텍스타일 직물을 35 g/l 의 무수 탄산 나트륨, 100 g/l 의 우레아 및 150 g/l 의 낮은 점도 나트륨 알지네이트 용액 (6%)를 함유하는 액체로 패딩한 후 건조하였다. 상기 습윤성 픽업(wet pickup)은 70% 이었다. 이에 따라 예비처리된 텍스타일을 하기:
2% 의 실시예 1 에 따른 염료 혼합물
20% 의 설포란
0.01% 의 Mergal K9N
77.99% 의 물
을 함유하는 수성 잉크로 드롭-온-디맨드(drop-on-demand) (버블 젯, bubble jet) 잉크젯 프린트 헤드(head)를 사용하여 프린팅하였다. 상기 프린트를 완전히 건조시켰다. 102℃에서 8분 동안 포화 스팀에 의해 고착하였다. 상기 프린트를 이어서 가온한 채로 헹구고, 95℃의 고온수로 견뢰 세척시키고, 가온한 채로 헹군 다음 건조하였다. 그 결과는 우수한 서비스(service) 견뢰도를 가지는 옅은 남빛의 적색 프린트이었다.
실시예 26
머서법 가공된 면화로 이루어진 텍스타일 직물을 35 g/l 의 무수 탄산 나트륨, 50 g/l 의 우레아 및 150 g/l 의 낮은 점도 나트륨 알지네이트 용액 (6%)을 함유하는 액체로 패딩한 후 건조하였다. 상기 습윤성 픽업은 70%이었다. 이에 따라 예비처리된 텍스타일을 하기:
8% 의 실시예 1 에 따른 염료 혼합물
20% 의 1,2-프로판디올
0.01% 의 Mergal K9N 및
71.99% 의 물
을 함유하는 수성 잉크로 드롭-온-디맨드 (버블 젯) 잉크젯 프린트 헤드를 사용하여 프린팅하였다. 상기 프린트를 완전히 건조시켰다. 102℃에서 8분 동안 포화 스팀에 의해 고착시켰다.
상기 프린트를 이어서 가온한 채로 행구고, 95℃의 고온수로 견뢰 세척시키고, 가온한 채로 헹군 후 건조하였다. 그 결과는 우수한 서비스 견뢰도를 가지는 옅은 남빛의 적색 프린트이었다.
실시예 27
머서법 가공된 면화로 이루어진 텍스타일 섬유를 35 g/l 의 무수 탄산 나트륨, 100 g/l 의 우레아 및 150 g/l 의 낮은 점도 나트륨 알지네이트 용액 (6%)을 함유하는 액체로 패딩한 후 건조하였다. 습윤성 픽업이 70%이었다. 이에 따라 예비처리된 텍스타일을 하기:
8% 의 실시예 1 에 따른 염료 혼합물
15% 의 N-메틸피롤리돈
0.01% 의 Mergal K9N 및
77.99% 의 물
을 함유하는 수성 잉크로 드롭-온-디맨드 (버블 젯) 잉크젯 프린트 헤드를 사용하여 프린팅하였다. 상기 프린트를 완전히 건조하였다. 102℃에서 8분 동안 포화 스팀에 의해 고착하였다. 상기 프린트를 이어서 가온한 채 헹구고, 95℃의 고온수로 견뢰 세척시키고, 가온한 채로 헹군 다음, 건조하였다. 그 결과는 우수한 서비스 견뢰도를 가지는 옅은 남빛의 적색 프린트이었다.

Claims (10)

  1. 하기 화학식 (I)의 하나 이상의 염료 및 하기 화학식 (II)의 하나 이상의 염료를 함유하는 염료 혼합물:
    [화학식 (I)]
    Figure 112009044694235-PCT00034
    [화학식 (II)]
    Figure 112009044694235-PCT00035
    [식 중,
    D1, D2 및 D3 은 독립적으로 하기 화학식 (III)의 기를 나타내거나,
    [화학식 (III)]
    Figure 112009044694235-PCT00036
    {식 중,
    R1 과 R2 는 독립적으로 수소, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 설포, 카르복실, 시아노, 니트로, 아미도, 우레이도 또는 할로겐이고;
    X1 은 수소, 설포, 화학식 -SO2-Z2의 기임 (여기서,
    Z2 는 -CH=CH2 또는 -CH2CH2Z3 이고,
    Z3 는 히드록실 또는 알칼리-제거가능한 기임)};
    또는 하기 화학식 (IV)의 기임:
    [화학식 (IV)]
    Figure 112009044694235-PCT00037
    ;
    또는 여기서,
    D1, D2 및 D3 은 독립적으로 하기 화학식 (V)의 기를 나타내거나,
    [화학식 (V)]
    Figure 112009044694235-PCT00038
    {식 중,
    R3 과 R4 는 독립적으로 수소, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 설포, 카르복실, 시아노, 니트로, 아미도, 우레이도 또는 할로겐이고;
    X2 는 X1 의 의미 중 하나를 가짐};
    또는 여기서,
    D1, D2 및 D3 은 독립적으로 하기 화학식 (VI)의 기를 나타내거나:
    [화학식 (VI)]
    Figure 112009044694235-PCT00039
    {식 중,
    R5 와 R6 은 독립적으로 R1 의 의미 중 하나를 가지고;
    R7 은 수소, (C1-C4)-알킬, 비치환 또는 (C1-C4)-알킬-, (C1-C4)-알콕시-, 설포-, 할로겐- 또는 카르복실-치환 페닐이고;
    Z4 는 하기 화학식 (VII), (VIII) 또는 (IX)의 기임:
    [화학식 (VII)]
    Figure 112009044694235-PCT00040
    [화학식 (VIII)]
    Figure 112009044694235-PCT00041
    [화학식 (IX)]
    Figure 112009044694235-PCT00042
    (식 중,
    V 는 불소 또는 염소이고;
    U1 과 U2 는 독립적으로 불소, 염소 또는 수소이고;
    Q1 과 Q2 는 독립적으로 염소, 불소, 시안아미도, 히드록실, (C1-C6)-알콕시, 페녹시, 설포페녹시, 머캅토, (C1-C6)-알킬머캅토, 피리디노, 카르복시피리디노, 카르바모일피리디노 또는 하기 화학식 (X) 또는 (XI)의 기임:
    [화학식 (X)]
    Figure 112009044694235-PCT00043
    [화학식 (XI)]
    Figure 112009044694235-PCT00044
    (식 중,
    R8 은 수소, (C1-C6)-알킬, 설포-(C1-C6)-알킬, 페닐 또는 (C1-C4)-알킬-, (C1-C4)-알콕시-, 히드록실-, 설포-, 할로겐-, 카르복실-, 아세트아미도-, 우레이도-치환 페닐이고;
    R9 와 R10 은 독립적으로 R8 의 의미 중 하나를 가지거나, 또는 조합하여 화학식 -(CH2)j- 의 기 또는 화학식 -(CH2)2-E-(CH2)2- 의 기를 형성하고, 여기서, j 는 4 또는 5 이고, E 는 산소, 황, 설포닐 또는 -NR11 이고, R11 은 (C1-C6)-알킬이고;
    W 는 비치환, 또는 (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 카르복실, 설포, 염소 및 브롬으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 또는 2개의 치환기로 치환되는 페닐렌이거나, 또는 (C1-C4)-알킬렌페닐렌, (C2-C6)-알킬렌이거나 (이는 산소, 황, 설포닐, 아미노, 카르보닐 또는 카르복사미도에 의해 방해받을 수 있음), 또는 비치환, 또는 (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 설포, 카르복실, 아미도, 우레이도 및 할로겐으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 또는 2개의 치환기로 치환되는 페닐렌 CONH 페닐렌이거나, 또는 비치환, 또는 1 또는 2개의 설포기에 의해 치환되는 나프탈렌이고;
    Z5 는 Z2 의 의미 중 하나를 가짐))};
    또는 여기서,
    D1, D2 및 D3 은 독립적으로 하기 화학식 (XII)의 기를 나타내고:
    [화학식 (XII)]
    Figure 112009044694235-PCT00045
    {식 중,
    R12 는 수소, (C1-C4)-알킬, 아릴 또는 치환 아릴이고;
    R13 과 R14 는 독립적으로 수소, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 설포, 카르복실, 시아노, 니트로, 아미도, 우레이도 또는 할로겐이고;
    A 는 하기 화학식 (XIII)의 기이거나:
    [화학식 (XIII)]
    Figure 112009044694235-PCT00046
    (식 중,
    R15 와 R16 은 독립적으로 수소, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 설포, 카르복실, 시아노, 니트로, 아미도, 우레이도 또는 할로겐임); 또는
    A 는 하기 화학식 (XIV)의 기이거나:
    [화학식 (XIV)]
    Figure 112009044694235-PCT00047
    (식 중,
    R17 과 R18 은 독립적으로 수소, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 설포, 카르복실, 시아노, 니트로, 아미도, 우레이도 또는 할로겐임); 또는
    A 는 하기 화학식 (XV)의 기이고:
    [화학식 (XV)]
    Figure 112009044694235-PCT00048
    (식 중,
    k 는 1 초과의 정수이고;
    R19 와 R20 은 독립적으로 수소, (C1-C4)-알킬, (C1-C4)-알콕시, 히드록실, 시아노, 아미도, 할로겐 또는 아릴임);
    X3 은 X1 의 의미 중 하나를 가짐};
    RA 는 수소 또는 하기 화학식 (XVII)의 기이고:
    [화학식 (XVII)]
    Figure 112009044694235-PCT00049
    ;
    RB 는 아세트아미도, 우레이도, 메틸, 메톡시 또는 하기 화학식 (XVIII)의 기이고:
    [화학식 (XVIII)]
    Figure 112009044694235-PCT00050
    {식 중,
    Q3 과 Q4 는 독립적으로 Q1 의 의미 중 하나를 가짐};
    RC 는 수소, 메틸, 메톡시 또는 설포이고;
    Z1 은 Z4 의 의미 중 하나를 가지고;
    M 은 수소, 알칼리 금속 또는 1 당량의 알칼리토금속임];
    여기서, 화학식 (I) 과 (II) 의 염료는 화학식 -SO2Z2 또는 Z4, 화학식 (XVIII) 또는 Z1 의 하나 이상의 섬유-반응성 기를 함유하고,
    여기서, 하기 화학식 (A)의 화합물은 염료물질의 총량을 기준으로, 최대 1 중량%의 양으로 함유됨:
    [화학식 (A)]
    Figure 112009044694235-PCT00051
    [식 중,
    D4 는 하기 화학식 (B) 또는 (C)의 기이고:
    [화학식 (B)]
    Figure 112009044694235-PCT00052
    [화학식 (C)]
    Figure 112009044694235-PCT00053
    {식 중,
    EA (0-3) 및 EB (0-3) 은 동일 또는 상이하고, 수소, -SO3M, -OH, -COOM, -F, -Cl, -Br, (C1-C4)-알킬 또는 (C1-C4)-알콕시로부터 선택된 0 내지 3개의 기이고;
    p 와 q 는 0 내지 2 의 수이고;
    ZA 와 ZB 는 하기 화학식 (Da), (Db), (Dc) 또는 (Dd)의 기임;
    [화학식 (Da)]
    Figure 112009044694235-PCT00054
    [화학식 (Db)]
    Figure 112009044694235-PCT00055
    [화학식 (Dc)]
    Figure 112009044694235-PCT00056
    [화학식 (Dd)]
    Figure 112009044694235-PCT00057
    (식 중, r 은 0 내지 5 의 수이고;
    Hal 은 할로겐이고;
    YA 는 비닐, β-클로로에틸, β-브로모에틸, β-아세틸에틸, β-설파토에틸, β-페녹시에틸, β-포스파토에틸 또는 -CH2-CH2-U 기이고;
    U 는 알칼리성 조건 하에 분해될 수 있는 이탈기임)};
    M 은 상기 제시된 바와 같이 정의됨].
  2. 제 1 항에 있어서,
    R1 과 R2 는 수소, 메틸, 메톡시 또는 설포이고;
    R3 내지 R6 은 수소 또는 설포이고;
    R7 과 R8 은 수소 또는 페닐이고;
    R9 와 R10 은 수소, 2-설포에틸, 2-, 3- 또는 4-설포페닐이거나 또는 조합하여 -(CH2)2-O-(CH2)2- 를 형성하고;
    R11 은 수소 또는 메틸이고;
    R12 내지 R16, R19, R20, RA 및 RC 은 수소이고;
    R17 과 R18 은 수소 또는 설포이고;
    RB 는 아세트아미도 또는 우레이도이고;
    Z2 와 Z5 는 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설파토에틸인 염료 혼합물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, D1 및 D2 가 화학식 (III) 또는 (VI)의 기를 나타내는 염료 혼합물.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, D3 는 R3, R4 및 X2 는 수소 또는 설포인 화학식 (V)의 기를 나타내는 염료 혼합물.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, Z1 은 Q1 이 불소 또는 염소이고, Q2 가 시안아미도, 모르폴리노, 2-설포페닐아미노, 3-설포페닐아미노, 4-설포페닐아미노, 3-(2-설파토에틸설포닐)페닐아미노, 4-(2-설파토에틸설포닐)페닐아미노, 3-(비닐설포닐)페닐아미노, 4-(비닐설포닐)페닐아미노), N-메틸-N-(2-(2-설파토에틸설포닐)에틸)아미노, N-페닐-N-(2-(2-설파토에틸설포닐)에틸)아미노 또는 2-[2-(2-클로로에틸설포닐)에톡시]에틸아미노인 화학식 (VIII)의 기인 염료 혼합물.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 화학식 (Ia)의 하나 이상의 염료:
    [화학식 (Ia)]
    Figure 112009044694235-PCT00058
    및 하기 화학식 (IIa)의 하나 이상의 염료를 함유하는 염료 혼합물:
    [화학식 (IIa)]
    Figure 112009044694235-PCT00059
    [식 중,
    R1a, R1b, R2a 및 R2b 는 독립적으로 수소, 메틸, 메톡시 또는 설포이고;
    Z2 및 Z5 는 독립적으로 비닐 또는 β-설파토에틸이고;
    D3, RB, RC 및 M 은 각각 제 1 항에서 정의된 바와 같음].
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 총 염료를 기준으로 모두, 1중량% 내지 99중량%, 바람직하게는 10중량% 내지 90중량%의 양의 화학식 (I)의 염료 또는 염료들, 및 1중량% 내지 99중량%, 바람직하게는 10중량% 내지 90중량%의 양의 화학식 (II)의 염료 또는 염료들을 함유하는 염료 혼합물.
  8. 개별 염료를 각각 또는 서로 기계적으로 혼합하는 것을 포함하는, 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 따른 염료 혼합물의 제조 방법.
  9. 카르복사미도- 및/또는 히드록실-함유 물질을 염색하거나 또는 프린팅하기 위한, 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 따른 염료 혼합물의 용도.
  10. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 따른 염료 혼합물을 함유하는, 잉크젯(inkjet) 방법에 의한 디지털 텍스타일 프린팅용 잉크.
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