KR20090082197A - 편광자 보호 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 - Google Patents

편광자 보호 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 Download PDF

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KR20090082197A
KR20090082197A KR1020097008541A KR20097008541A KR20090082197A KR 20090082197 A KR20090082197 A KR 20090082197A KR 1020097008541 A KR1020097008541 A KR 1020097008541A KR 20097008541 A KR20097008541 A KR 20097008541A KR 20090082197 A KR20090082197 A KR 20090082197A
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히로코 이즈미
요시토모 나카타
겐-이치 우에다
다이스케 핫토리
다다시 고지마
히로유키 다카오
츠토무 하니
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가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이
닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

원료로서 자외선 흡수성 단량체를 사용함으로써 우수한 자외선 흡수 능력을 발현시킴과 함께, 우수한 내열성을 갖고, 우수한 광학적 투명성을 가지며, 착색 및 발포가 매우 적은 편광자 보호 필름을 제공하는 것, 그러한 편광자 보호 필름을 사용한, 외관 결점이 적은 편광판을 제공하는 것, 그러한 편광판을 사용한 고품위의 화상 표시 장치를 제공하는 것.
본 발명의 편광자 보호 필름은, 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율이 30％ 이하이고, 자외선 흡수성 단량체와 (메타)아크릴계 단량체를 함유하는 단량체 조성물을 중합시켜 얻어지는 (메타)아크릴계 수지를 주성분으로서 함유하는 수지 성분을 함유하는 성형 재료를 압출 성형에 의해 성형하여 얻어진다.
편광자 보호 필름, 편광자, 편광판

Description

편광자 보호 필름, 편광판 및 화상 표시 장치{POLARIZER PROTECTION FILM, POLARIZING PLATE AND IMAGE DISPLAY}
본 발명은, 편광자 보호 필름, 그것을 사용한 편광판, 및 그 편광판을 적어도 1 장 포함하는, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, PDP 등의 화상 표시 장치에 관한 것이다.
액정 표시 장치에는, 그 화상 형성 방식으로부터 액정 패널 표면을 형성하는 유리 기판의 양측에 편광판을 배치하는 것이 필요 불가결하다. 편광판은, 일반적으로는, 폴리비닐알코올계 필름과 요오드 등의 이색성 재료로 이루어지는 편광자의 양면에, 편광자 보호 필름을 폴리비닐알코올계 접착제에 의해 부착시킨 것이 사용되고 있다.
편광자 보호 필름에는, 액정이나 편광자를 자외선 열화로부터 방지하는 목적으로 자외선 흡수 성능이 필요한 경우가 있다. 편광자 보호 필름으로서 사용하는 광학 필름의 수지 성분으로서, 현재까지 트리아세틸셀룰로오스가 일반적으로 흔히 사용되고 있다. 현재는, 편광자 보호 필름으로서의 트리아세틸셀룰로오스 필름 중에 자외선 흡수제를 첨가하여 자외선 흡수 성능을 갖게 하고 있다.
그러나, 트리아세틸셀룰로오스는 내습열성이 충분하지 않아, 트리아세틸셀룰 로오스 필름을 편광자 보호 필름으로서 사용한 편광판을 고온 또는 고습하에서 사용하면, 편광도나 색상 등 편광판의 성능이 저하된다는 결점이 있다. 또한 트리아세틸셀룰로오스 필름은 경사 방향의 입사광에 대하여 위상차를 발생한다. 이러한 위상차는, 최근 액정 디스플레이의 대형화가 진행됨에 따라, 현저히 시야각 특성에 영향을 미치게 되었다.
그래서, 종래의 트리아세틸셀룰로오스를 대신할 편광자 보호 필름의 재료로서 투명성의 열가소성 수지가 검토되었고, 투명성의 열가소성 수지에 자외선 흡수제를 첨가하여 자외선 흡수 성능을 갖게 한 편광자 보호 필름도 보고되어 있다 (특허 문헌 1 ∼ 2 참조). 그러나, 이와 같은 편광자 보호 필름에 있어서는, 자외선 흡수제를 첨가하기 전의 재료 수지의 Tg (유리 전이 온도) 와 비교하여 첨가한 후의 Tg 가 크게 저하된다는 문제 (내열성 저하의 문제) 나, 수지가 착색 (황변) 된다는 문제가 있다. 따라서, 우수한 자외선 흡수 능력을 가짐과 함께, 우수한 내열성, 우수한 광학적 투명성을 갖는 편광자 보호 필름의 개발이 강하게 요망되고 있다.
특허 문헌 1 : 일본 공개특허공보 평9-166711호
특허 문헌 2 : 일본 공개특허공보 제2004-45893호
발명의 개시
발명이 해결하고자 하는 과제
본 발명의 과제는, (1) 원료로서 자외선 흡수성 단량체를 사용함으로써 우수한 자외선 흡수 능력을 발현시킴과 함께, 우수한 내열성을 갖고, 우수한 광학적 투명성을 가지며, 착색 및 발포가 매우 적은 편광자 보호 필름을 제공하는 것, (2) 그러한 편광자 보호 필름을 사용한, 외관 결점이 적은 편광판을 제공하는 것, (3) 그러한 편광판을 사용한 고품위의 화상 표시 장치를 제공하는 것에 있다.
과제를 해결하기 위한 수단
본 발명의 편광자 보호 필름은, 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율이 30％ 이하이고,
자외선 흡수성 단량체와 (메타)아크릴계 단량체를 함유하는 단량체 조성물을 중합시켜 얻어지는 (메타)아크릴계 수지를 주성분으로서 함유하는 수지 성분을 함유하는 성형 재료를 압출 성형에 의해 성형하여 얻어진다.
바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 자외선 흡수성 단량체가, 벤조페논계 자외선 흡수성 단량체 및/또는 벤조트리아졸계 자외선 흡수성 단량체이다.
바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 단량체 조성물 중에 있어서의 상기 자외선 흡수성 단량체의 함유량이 1 ∼ 30 중량％ 이다.
바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 (메타)아크릴계 수지가 락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지이다.
바람직한 실시형태에 있어서는, 두께 80㎛ 에 있어서의 b 값이 1.5 미만이다.
바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 성형 재료는, 상기 수지 성분 100 중량부에 대하여 0.2 중량부 이상의 280℃ 에서 20 분간의 가열에 있어서의 중량 감소가 10％ 이하인 산화 방지제를 함유한다.
바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 산화 방지제가 페놀계 산화 방지제를 함유한다.
바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 산화 방지제가, 상기 수지 성분 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 이상의 페놀계 산화 방지제와 0.1 중량부 이상의 티오에테르계 산화 방지제를 함유한다.
바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 산화 방지제가, 상기 수지 성분 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 이상의 페놀계 산화 방지제와 0.1 중량부 이상의 인계 산화 방지제를 함유한다.
바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 압출 성형시의 성형 재료의 온도가 250℃ 이상이다.
본 발명의 다른 국면에 의하면, 편광판이 제공된다. 본 발명의 편광판은, 폴리비닐알코올계 수지로 형성되는 편광자와 편광자 보호 필름인 본 발명의 광학 필름을 포함하는 편광판으로서, 그 편광자가 접착제층을 개재하여 그 편광자 보호 필름에 접착되어 이루어진다.
바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 접착제층이 폴리비닐알코올계 접착제로 형성되는 층이다.
바람직한 실시형태에 있어서는, 최외층의 적어도 일방으로서 점착제층을 추가로 갖는다.
본 발명의 다른 국면에 의하면, 화상 표시 장치가 제공된다. 본 발명의 화상 표시 장치는, 본 발명의 편광판을 적어도 1 장 포함한다.
발명의 효과
본 발명에 의하면, 원료로서 자외선 흡수성 단량체를 사용함으로써 우수한 자외선 흡수 능력을 발현시킴과 함께, 우수한 내열성을 갖고, 우수한 광학적 투명성을 가지며, 착색 및 발포가 매우 적은 편광자 보호 필름을 제공할 수 있다. 또한, 그러한 편광자 보호 필름을 사용한, 외관 결점이 적은 편광판을 제공할 수 있다. 또한, 그러한 편광판을 사용한 고품위의 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.
이와 같은 효과는, 압출 성형할 때의 성형 재료로서, 자외선 흡수성 단량체와 (메타)아크릴계 단량체를 함유하는 단량체 조성물을 중합시켜 얻어지는 (메타)아크릴계 수지를 주성분으로서 함유하는 수지 성분을 함유하는 성형 재료를 사용함으로써 발현할 수 있게 된다.
도 1 은, 본 발명의 편광판의 일례를 나타내는 단면도이다.
도 2 는, 본 발명의 바람직한 실시형태에 의한 액정 표시 장치의 개략 단면도이다.
부호의 설명
10 : 액정 셀
11, 11' : 유리 기판
12 : 액정층
13 : 스페이서
20, 20' : 위상차 필름
30, 30' : 편광판
31 : 편광자
32 : 접착제층
33 : 접착 용이층
34 : 편광자 보호 필름
35 : 접착제층
36 : 광학 필름
40 : 도광판
50 : 광원
60 : 리플렉터
100 : 액정 표시 장치
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
이하, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이들의 실시형태에 한정되지 않는다.
〔A. 편광자 보호 필름〕
〔A-1. 수지 성분〕
본 발명의 편광자 보호 필름은, (메타)아크릴계 수지를 주성분으로서 함유하는 수지 성분을 함유하는 성형 재료를 압출 성형에 의해 성형하여 얻어진다. 즉, 본 발명의 편광자 보호 필름은 (메타)아크릴계 수지를 주성분으로서 함유한다.
상기 (메타)아크릴계 수지는, 자외선 흡수성 단량체와 (메타)아크릴계 단량체를 함유하는 단량체 조성물을 중합시켜 얻어진다. 자외선 흡수성 단량체는, 1 종만을 사용해도 되고 2 종 이상을 병용해도 된다. (메타)아크릴계 단량체는, 1 종만을 사용해도 되고 2 종 이상을 병용해도 된다.
상기 단량체 조성물 중에 있어서의 상기 자외선 흡수성 단량체의 함유량은, 바람직하게는 1 ∼ 30 중량％, 보다 바람직하게는 2 ∼ 25 중량％, 더욱 바람직하게는 3 ∼ 20 중량％, 특히 바람직하게는 5 ∼ 15 중량％ 이다. 상기 단량체 조성물 중에 있어서의 상기 자외선 흡수성 단량체의 함유량이 상기 범위 내에 있으면, 자외선 흡수능을 충분히 발휘할 수 있음과 함께, (메타)아크릴계 단량체와의 공중합성도 저해되지 않는다.
상기 자외선 흡수성 단량체로는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위 내에서 임의의 적절한 자외선 흡수능을 갖는 단량체를 채용할 수 있다. 바람직하게는, 벤조페논계 자외선 흡수성 단량체, 벤조트리아졸계 자외선 흡수성 단량체, 트리아진계 자외선 흡수성 단량체이다.
상기 벤조페논계 자외선 흡수성 단량체로는, 예를 들어 2-히드록시-4-아크릴로일옥시벤조페논, 2-히드록시-4-메타크릴로일옥시벤조페논, 2-히드록시-4-(2-아크릴로일옥시)에톡시벤조페논, 2-히드록시-4-(2-메타크릴로일옥시)에톡시벤조페논, 2-히드록시-4-(2-메틸-2-아크릴로일옥시)에톡시벤조페논을 들 수 있다.
상기 벤조트리아졸계 자외선 흡수성 단량체로는, 예를 들어 2-[2'-히드록시- 5'-(아크릴로일옥시메틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시)페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-5'-(아크릴로일옥시)페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-(메타크릴로일옥시)페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-3'-메틸-5'-(아크릴로일옥시)페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시프로필)페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-5'-(아크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-3'-메틸-5'-(아크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-5'-(아크릴로일옥시부틸)페닐]-5-메틸벤조트리아졸, [2-히드록시-3-t-부틸-5-(아크릴로일옥시에톡시카르보닐에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]-2H-벤조트리아졸 (RUVA-93), 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시)페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-3'-t-부틸-5'-(메타크릴로일옥시)페닐]-2H-벤조트리아졸, 하기 화학식으로 나타내는 UVA-5 를 들 수 있다.
상기 트리아진계 자외선 흡수성 단량체로는, 예를 들어 하기 화학식으로 나타내는 UVA-2, UVA-3, UVA-4 를 들 수 있다.
상기 자외선 흡수성 단량체 중에서도, 소량으로 높은 자외선 흡수능을 나타낸다는 점에서, 바람직하게는 벤조트리아졸계 자외선 흡수성 단량체, 트리아진계 자외선 흡수성 단량체이고, 보다 바람직하게는 RUVA-93, UVA-2, UVA-3, UVA-4, UVA-5 이고, 특히 바람직하게는 UVA-5 이다.
[화학식 1]
Figure 112009025149992-PCT00001
상기 (메타)아크릴계 단량체로는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위 내에서 임의의 적절한 (메타)아크릴계 단량체를 채용할 수 있다. 예를 들어 (메타)아크릴산, (메타)아크릴산에스테르를 들 수 있다. 바람직하게는, (메타)아크릴산 C1-6 알킬을 들 수 있다. 보다 바람직하게는 메타크릴산메틸을 들 수 있다.
상기 단량체 조성물 중에는, 상기 자외선 흡수성 단량체 및 상기 (메타)아크릴계 단량체 이외에, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위 내에서 임의의 적절한 그 밖의 단량체가 함유되어 있어도 된다. 그 밖의 단량체로는, 예를 들어 스티렌, 노르보르넨, N-치환 말레이미드를 들 수 있다. N-치환 말레이미드의 구체 예로는, 예를 들어 N-시클로헥실말레이미드, N-페닐말레이미드, N-메틸말레이미드, N-에틸말레이미드, N-이소프로필말레이미드, N-t-부틸말레이미드, N-벤질말레이미드를 들 수 있다. 상기 N-치환 말레이미드 중에서도, 내열성, 투명성, 저착색성이 우수하다는 점에서, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드가 특히 바람직하다. 이들 N-치환 말레이미드는, 1 종만 사용해도 되고 2 종 이상을 병용 해도 된다. N-치환 말레이미드를 사용하는 경우, 그 함유 비율은, 상기 단량체 조성물 중 15 ∼ 50 중량％ 인 것이 바람직하다. N-치환 말레이미드의 함유 비율이 15 중량％ 이하이면, 내열성이 낮아질 우려가 있다. N-치환 말레이미드의 함유 비율이 50 중량％ 를 초과하면, 투명성이 저하될 우려가 있다.
상기 단량체 조성물의 중합 방법은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위 내에서 임의의 적절한 중합 방법을 채용할 수 있다.
상기 (메타)아크릴계 수지로는, Tg (유리 전이 온도) 가 바람직하게는 110℃ 이상, 보다 바람직하게는 115℃ 이상, 더욱 바람직하게는 120℃ 이상, 특히 바람직하게는 125℃ 이상, 가장 바람직하게는 130℃ 이상이다. 본 발명의 편광자 보호 필름은, Tg (유리 전이 온도) 가 110℃ 이상인 (메타)아크릴계 수지를 주성분으로 함유함으로써, 예를 들어 편광자 보호 필름으로서 편광판에 편입시킨 경우에, 내구성이 우수한 것으로 될 수 있다. 상기 (메타)아크릴계 수지의 Tg 의 상한값은 특별히 한정되지 않지만, 성형성 등의 관점에서, 바람직하게는 170℃ 이하이다.
상기 (메타)아크릴계 수지로서, 높은 내열성, 높은 투명성, 높은 기계적 강 도를 갖는 점에서, 락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지가 바람직하다.
락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지로는, 일본 공개특허공보 2000-230016호, 일본 공개특허공보 2001-151814호, 일본 공개특허공보 2002-120326호, 일본 공개특허공보 2002-254544호, 일본 공개특허공보 2005-146084호, 일본 공개특허공보 2006-171464호 등에 기재된, 락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지를 제조할 때의 단량체 조성물 중에, 추가로 상기 자외선 흡수성 단량체가 함유되어 있는 단량체 조성물로부터 제조되는 (메타)아크릴계 수지를 들 수 있다.
락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지는, 바람직하게는 하기 일반식 (1) 로 나타내는 락톤고리 구조를 갖는다.
[화학식 2]
Figure 112009025149992-PCT00002
(일반식 (1) 중, R1, R2 및 R3 은, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 20 의 유기 잔기를 나타낸다. 또한, 유기 잔기는 산소 원자를 함유하고 있어도 된다)
유기 잔기로는, 구체적으로는 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 탄소수가 1 ∼ 20 인 알킬기 ; 에테닐기, 프로페닐기 등의 탄소수가 1 ∼ 20 인 불포화 지방족 탄 화수소기 ; 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수가 1 ∼ 20 인 방향족 탄화수소기 ; 상기 알킬기, 상기 불포화 탄화수소기, 상기 방향족 탄화수소기의 수소 원자 1 개 이상이 수산기로 치환된 기 ; 상기 알킬기, 상기 불포화 탄화수소기, 상기 방향족 탄화수소기의 수소 원자 1 개 이상이 카르복실기로 치환된 기 ; 상기 알킬기, 불포화 탄화수소기, 방향족 탄화수소기의 수소 원자 1 개 이상이 에테르기로 치환된 기 : 상기 알킬기, 상기 불포화 탄화수소기, 상기 방향족 탄화수소기의 수소 원자 1 개 이상이 에스테르기로 치환된 기를 바람직하게 들 수 있다.
락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지의 구조 중 일반식 (1) 로 나타내는 락톤고리 구조의 함유 비율은, 바람직하게는 5 ∼ 90 중량％, 보다 바람직하게는 10 ∼ 70 중량％, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 60 중량％, 특히 바람직하게는 10 ∼ 50 중량％ 이다. 락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지의 구조 중 일반식 (1) 로 나타내는 락톤고리 구조의 함유 비율이 5 중량％ 보다 적으면 내열성, 내용제성, 표면 경도가 불충분해질 우려가 있다. 락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지의 구조 중 일반식 (1) 로 나타내는 락톤고리 구조의 함유 비율이 90 중량％ 보다 많으면 성형 가공성이 부족해질 우려가 있다.
락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지는, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 구조 이외의 구조를 갖고 있어도 된다. 상기 일반식 (1) 로 나타내는 락톤고리 구조 이외의 구조로는, 예를 들어 락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지의 제조 방법으로서 이후에 설명하는 (메타)아크릴산에스테르, 수산기 함유 단량체, 불포화 카르복실산, 하기 일반식 (2) 로 나타내는 단량체에서 선택되는 적어도 1 종 을 중합시켜 구축되는 중합체 구조 단위 (반복 단위) 가 바람직하다.
[화학식 3]
Figure 112009025149992-PCT00003
(일반식 (2) 중, R4 는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, X 는 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 아릴기, -OAc 기, -CN 기, -CO-R5 기, 또는 -C-O-R6 기를 나타내고, Ac 기는 아세틸기를 나타내고, R5 및 R6 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 20 의 유기 잔기를 나타낸다)
락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지 구조 중 상기 일반식 (1) 로 나타내는 락톤고리 구조 이외의 구조의 함유 비율은, (메타)아크릴산에스테르를 중합시켜 구축되는 중합체 구조 단위 (반복 구조 단위) 의 경우, 바람직하게는 10 ∼ 95 중량％, 보다 바람직하게는 10 ∼ 90 중량％, 더욱 바람직하게는 40 ∼ 90 중량％, 특히 바람직하게는 50 ∼ 90 중량％ 이고, 수산기 함유 단량체를 중합시켜 구축되는 중합체 구조 단위 (반복 구조 단위) 의 경우, 바람직하게는 0 ∼ 30 중량％, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 중량％, 더욱 바람직하게는 0 ∼ 15 중량％, 특히 바람직하게는 0 ∼ 10 중량％ 이다. 불포화 카르복실산을 중합시켜 구축되는 중합체 구조 단위 (반복 구조 단위) 의 경우, 바람직하게는 0 ∼ 30 중량％, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 중량％, 더욱 바람직하게는 0 ∼ 15 중량％, 특히 바람직하게는 0 ∼ 10 중량％ 이다. 일반식 (2) 로 나타내는 단량체를 중합시켜 구축되 는 중합체 구조 단위 (반복 구조 단위) 의 경우, 바람직하게는 0 ∼ 30 중량％, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 중량％, 더욱 바람직하게는 0 ∼ 15 중량％, 특히 바람직하게는 0 ∼ 10 중량％ 이다.
락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지는, 질량 평균 분자량 (중량 평균 분자량이라고 칭하는 경우도 있다) 이, 바람직하게는 1000 ∼ 2000000, 보다 바람직하게는 5000 ∼ 1000000, 더욱 바람직하게는 10000 ∼ 500000, 특히 바람직하게는 50000 ∼ 500000 이다. 질량 평균 분자량이 상기 범위에서 벗어나면, 본 발명의 효과를 충분히 발휘하지 못할 우려가 있다.
락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지는, Tg (유리 전이 온도) 가 바람직하게는 110℃ 이상, 보다 바람직하게는 115℃ 이상, 더욱 바람직하게는 120℃ 이상, 더욱 바람직하게는 125℃ 이상, 더욱 바람직하게는 130℃ 이상, 특히 바람직하게는 135℃ 이상, 가장 바람직하게는 140℃ 이상이다. Tg 가 110℃ 이상인 것에 의해, 예를 들어 편광자 보호 필름으로서 편광판에 편입시킨 경우에, 내구성이 우수한 것으로 될 수 있다. 상기 락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지의 Tg 의 상한값은 특별히 한정되지 않지만, 성형성 등의 관점에서, 바람직하게는 170℃ 이하이다.
락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지는, 사출 성형에 의해 얻어지는 성형품의 ASTM-D-1003 에 준한 방법으로 측정되는 전체 광선 투과율이 높으면 높을수록 바람직하고, 바람직하게는 85％ 이상, 보다 바람직하게는 88％ 이상, 더욱 바람직하게는 90％ 이상이다. 전체 광선 투과율은 투명성의 기준으로서, 전체 광 선 투과율이 85％ 미만이면 투명성이 저하되어, 편광자 보호 필름으로서 사용하지 못할 우려가 있다.
락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지는, 임의의 적절한 방법으로 제조할 수 있다. 예를 들어 일본 공개특허공보 제2000-230016호, 일본 공개특허공보 제2001-151814호, 일본 공개특허공보 제2002-120326호, 일본 공개특허공보 제2002-254544호, 일본 공개특허공보 제2005-146084호, 일본 공개특허공보 제2006-171464호 등에 기재된 락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지를 제조하는 방법을 원용할 수 있다.
본 발명의 편광자 보호 필름 중의 상기 (메타)아크릴계 수지의 함유량은, 바람직하게는 50 ∼ 100 중량％, 보다 바람직하게는 50 ∼ 99 중량％, 더욱 바람직하게는 60 ∼ 98 중량％, 특히 바람직하게는 70 ∼ 97 중량％ 이다. 본 발명의 편광자 보호 필름 중의 상기 (메타)아크릴계 수지의 함유량이 50 중량％ 미만인 경우에는, (메타)아크릴계 수지가 본래 갖는 고내열성, 고투명성을 충분히 반영하지 못할 우려가 있다.
본 발명의 편광자 보호 필름 중에는, 상기 (메타)아크릴계 수지 이외의 수지 성분이 함유되어 있어도 된다. 상기 (메타)아크릴계 수지 이외의 수지 성분으로는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 임의의 적절한 수지 성분을 채용할 수 있다.
본 발명의 편광자 보호 필름을 성형할 때에 사용하는 성형 재료 중의 상기 (메타)아크릴계 수지의 함유량은, 바람직하게는 50 ∼ 100 중량％, 보다 바람직하 게는 50 ∼ 99 중량％, 더욱 바람직하게는 60 ∼ 98 중량％, 특히 바람직하게는 70 ∼ 97 중량％ 이다. 본 발명의 편광자 보호 필름을 성형할 때에 사용하는 성형 재료 중의 상기 (메타)아크릴계 수지의 함유량이 50 중량％ 미만인 경우에는, (메타)아크릴계 수지가 본래 갖는 고내열성, 고투명성을 충분히 반영하지 못할 우려가 있다.
본 발명의 편광자 보호 필름을 성형할 때에 사용하는 성형 재료 중에는, 상기 (메타)아크릴계 수지 이외의 수지 성분이 함유되어 있어도 된다. 상기 (메타)아크릴계 수지 이외의 수지 성분으로는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 임의의 적절한 수지 성분을 채용할 수 있다.
〔A-2. 산화 방지제〕
본 발명의 편광자 보호 필름에 있어서는, 상기 성형 재료는, 상기 수지 성분 100 중량부에 대하여 0.2 중량부 이상의 280℃ 에서 20 분간의 가열에 있어서의 중량 감소가 10％ 이하인 산화 방지제를 함유하는 것이 바람직하다.
(메타)아크릴계 수지는, 일반적으로 약 250℃ 이상에서 분해가 촉진되어 (메타)아크릴계 단량체가 생성된다는 문제가 있다. 그래서, 현재까지 (메타)아크릴계 수지는, 일반적으로는 약 240℃ 이하에서 성형되었다 (예를 들어 일본 공개특허공보 2005-82716호, 일본 공개특허공보 2004-2835호, 일본 공개특허공보 평9-164638호, 일본 공개특허공보 평9-164638호).
편광자 보호 필름에는 외관 결점이 적은 것이 요망된다. 그래서, 편광자 보호 필름 재료로서 (메타)아크릴계 수지를 주성분으로 하는 수지 재료를 사용하는 경우, 외관 결점의 원인이 되는 수지 재료 중의 이물질 등을 제거하기 위해서, 당해 수지 재료를 함유하는 성형 재료를 압출 성형하여 편광자 보호 필름을 성형할 때에 폴리머 필터에 통과시켜 이물질을 제거할 필요가 있다. 이와 같이 (메타)아크릴계 수지를 주성분으로 하는 수지 재료를 함유하는 성형 재료를 폴리머 필터에 통과시키기 위해서는, (메타)아크릴계 수지를 함유하는 성형 재료의 점도를 충분히 낮출 필요가 있고, 점도를 충분히 낮추기 위해서는 폴리머 필터 통과시의 (메타)아크릴계 수지의 온도를 높일 필요가 있다. 그러나, (메타)아크릴계 수지의 온도를 높이면, 분해가 촉진되어 (메타)아크릴계 모노머가 생성된다. 이 모노머의 생성에 의해 편광자 보호 필름의 성형시에 발포가 발생하여, 편광자 보호 필름으로서 사용할 수 없다는 문제가 있다.
본 발명의 편광자 보호 필름에 있어서 특정 산화 방지제를 사용함으로써, (메타)아크릴계 수지의 분해가 억제되고, 라디칼의 발생이 억제된다. 이러한 점에서, 라디칼이 수지나 각종 첨가제에 어택 (attack) 함으로써 일어나는 발포, 착색을 방지할 수 있다. 또한, 산화 방지제의 존재에 의해, 고온하에 있어서의 자외선 흡수성 단량체 혹은 당해 단량체 유래의 구조 부분에서 유래하는 착색을 방지할 수 있다. 또한, 상기 특정 산화 방지제란, 「280℃ 에서 20 분간의 가열에 있어서의 중량 감소가 10％ 이하」라는 특정 조건을 갖는 산화 방지제이다.
본 발명의 편광자 보호 필름에 있어서 특정 산화 방지제를 사용함으로써, 성형 온도를 250℃ 이상으로 해도, 최종적으로 얻어지는 편광자 보호 필름의 착색이나, 편광자 보호 필름 중에 발포가 생성되는 것을 충분히 억제할 수 있다.
상기 산화 방지제의 양은, 상기 수지 성분 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 0.2 중량부 이상이고, 보다 바람직하게는 0.2 ∼ 5 중량부, 더욱 바람직하게는 0.5 ∼ 3 중량부, 특히 바람직하게는 0.1 ∼ 2.5 중량부이다. 상기 산화 방지제의 양이 0.2 중량부보다 작으면, 수지 성분 (특히 (메타)아크릴계 수지) 의 분해가 촉진될 우려가 있다. 상기 산화 방지제의 양이 5 중량부보다 크면, 얻어지는 편광자 보호 필름의 광학 특성이 저하될 우려가 있다.
상기 산화 방지제는, 280℃ 에서 20 분간의 가열에 있어서의 중량 감소가 10％ 이하이다. 「280℃ 에서 20 분간의 가열에 있어서의 중량 감소」의 측정 방법에 대해서는 후술한다. 상기 산화 방지제는, 280℃ 에서 20 분간의 가열에 있어서의 중량 감소가 작으면 작을수록 바람직하다. 280℃ 에서 20 분간의 가열에 있어서의 중량 감소는, 바람직하게는 9％ 이하, 보다 바람직하게는 8％ 이하, 더욱 바람직하게는 6％ 이하, 특히 바람직하게는 5％ 이하이다. 280℃ 에서 20 분간의 가열에 있어서의 중량 감소가 10％ 보다 큰 산화 방지제를 사용한 경우, 편광자 보호 필름 성형시에 수지 성분 (특히 (메타)아크릴계 수지) 의 분해가 촉진되고 발포가 발생하여, 편광자 보호 필름으로서 사용하지 못할 우려가 있다.
상기 산화 방지제는, 본 발명의 효과를 한층 더 발현시키기 위해서, 페놀계 산화 방지제를 함유하는 것이 바람직하다. 페놀계 산화 방지제로는, 임의의 적절한 페놀계 산화 방지제를 채용할 수 있다. 예를 들어 n-옥타데실=3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)-프로피오네이트, n-옥타데실=3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)-아세테이트, n-옥타데실=3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤조에이트, n-헥실=3,5- 디-t-부틸-4-히드록시페닐벤조에이트, n-도데실=3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐벤조에이트, 네오-도데실=3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 도데실=β(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 에틸=α-(4-히드록시-3,5-디-t-부틸페닐)이소부틸레이트, 옥타데실=α-(4-히드록시-3,5-디-t-부틸페닐)이소부틸레이트, 옥타데실=α-(4-히드록시-3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 2-(n-옥틸티오)에틸=3,5-디-t-부틸-4-히드록시-벤조에이트, 2-(n-옥틸티오)에틸=3,5-디-t-부틸-4-히드록시-페닐아세테이트, 2-(n-옥타데실티오)에틸=3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐아세테이트, 2-(n-옥타데실티오)에틸=3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤조에이트, 2-(2-히드록시에틸티오)에틸=3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤조에이트, 디에틸글리콜=비스-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시-페닐)프로피오네이트, 2-(n-옥타데실티오)에틸=3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 스테아르아미드-N,N-비스-[에틸렌=3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], n-부틸이미노-N,N-비스-[에틸렌=3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 2-(2-스테아로일옥시에틸티오)에틸=3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤조에이트, 2-(2-스테아로일옥시에틸티오)에틸=7-(3-메틸-5-t-부틸-4-히드록시페닐)헵타노에이트, 1,2-프로필렌글리콜=비스-[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 에틸렌글리콜=비스-[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 네오펜틸글리콜=비스-[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 에틸렌글리콜=비스-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐아세테이트), 글리세린-1-n-옥타데카노에이트-2,3-비스-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐아세테이트), 펜타에리트리톨-테트라키스-[3-(3',5'-디-t-부틸-4'- 히드록시페닐)프로피오네이트], 1,3,5-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 1,1,1-트리메틸올에탄-트리스-[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 소르비톨헥사-[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 2-히드록시에틸=7-(3-메틸-5-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 2-스테아로일옥시에틸=7-(3-메틸-5-t-부틸-4-히드록시페닐)헵타노에이트, 1,6-n-헥산디올-비스[(3',5'-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 펜타에리트리톨-테트라키스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시히드로신나메이트), 3,9-비스[1,1-디메틸-2-[β-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시]에틸]2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]-운데칸을 들 수 있다. 280℃ 에서 20 분간의 가열에 있어서의 중량 감소가 10％ 이하인 것으로는, 예를 들어 펜타에리트리톨-테트라키스-[3-(3',5'-디-t-부틸-4'-히드록시페닐)프로피오네이트], 3,9-비스[1,1-디메틸-2-[β-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시]에틸]2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]-운데칸, 1,3,5-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온을 들 수 있다.
상기 산화 방지제는, 본 발명의 효과를 한층 더 발현시키기 위해서, 상기 수지 성분 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 이상의 페놀계 산화 방지제와 0.1 중량부 이상의 티오에테르계 산화 방지제를 함유하는 것이 보다 바람직하다. 더욱 바람직하게는 0.25 중량부 이상의 페놀계 산화 방지제와 0.25 중량부 이상의 티오에테르계 산화 방지제를 함유하는 것이고, 특히 바람직하게는 0.4 중량부 이상의 페놀계 산화 방지제와 0.4 중량부 이상의 티오에테르계 산화 방지제를 함유하는 것이 다.
티오에테르계 산화 방지제로는, 임의의 적절한 티오에테르계 산화 방지제를 채용할 수 있다. 예를 들어 펜타에리트리틸테트라키스(3-라우릴티오프로피오네이트), 디라우릴-3,3'-티오디프로피오네이트, 디미리스틸-3,3'-티오디프로피오네이트, 디스테아릴-3,3'-티오디프로피오네이트를 들 수 있다. 280℃ 에서 20 분간의 가열에 있어서의 중량 감소가 10％ 이하인 것으로는, 예를 들어 펜타에리트리틸테트라키스(3-라우릴티오프로피오네이트) 를 들 수 있다.
상기 산화 방지제는, 본 발명의 효과를 한층 더 발현시키기 위해서, 상기 수지 성분 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 이상의 페놀계 산화 방지제와 0.1 중량부 이상의 인계 산화 방지제를 함유하는 것이 보다 바람직하다. 더욱 바람직하게는 0.25 중량부 이상의 페놀계 산화 방지제와 0.25 중량부 이상의 인계 산화 방지제를 함유하는 것이고, 특히 바람직하게는 0.5 중량부 이상의 페놀계 산화 방지제와 0.5 중량부 이상의 인계 산화 방지제를 함유하는 것이다.
인계 산화 방지제로는, 임의의 적절한 인계 산화 방지제를 채용할 수 있다. 예를 들어 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 2-[[2,4,8,10-테트라키스(1,1-디메틸에틸)디벤조[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀-6-일]옥시]-N,N-비스[2-[[2,4,8,10-테트라키스(1,1디메틸에틸)디벤조[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀-6-일]옥시]-에틸]에탄아민, 디페닐트리데실포스파이트, 트리페닐포스파이트, 2,2-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐)옥틸포스파이트, 비스(2,6-디-t-부틸-4-메틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 디스테아릴펜타에리트리톨디포스파이트, 사이클릭네오펜탄테트 라일비스(2,6-디-t-부틸-4-메틸페닐)포스파이트를 들 수 있다. 280℃ 에서 20 분간의 가열에 있어서의 중량 감소가 10％ 이하인 것으로는, 예를 들어 사이클릭네오펜탄테트라일비스(2,6-디-t-부틸-4-메틸페닐)포스파이트 등을 들 수 있다.
〔A-3. 성형 재료〕
본 발명의 편광자 보호 필름을 압출 성형에 의해 얻기 위해서 사용하는 성형 재료는 상기 수지 성분을 함유하고, 바람직하게는, 추가로 상기 산화 방지제를 함유한다. 본 발명에서 사용하는 성형 재료는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위 내에서 임의의 적절한 그 밖의 성분을 함유할 수 있다. 예를 들어 일반적인 배합제, 구체적으로는, 안정제, 활제 (滑劑), 가공 보조제, 가소제, 내충격 보조제, 위상차 저감제, 광택 제거제, 항균제, 곰팡이 방지제 등이 함유되어 있어도 된다.
〔A-4. 편광자 보호 필름의 특성〕
본 발명의 편광자 보호 필름은, 광 투과율이 높은 것이 바람직하고, 면내 위상차 Δnd 나 두께 방향 위상차 Rth 가 낮은 것이 바람직하다. 면내 위상차 Δnd 는, Δnd = (nx - ny) × d 에 의해 구할 수 있다. 두께 방향 위상차 Rth 는, Rth = (nx - nz) × d 에 의해 구할 수 있다. 여기서, nx, ny 는, 각각 지상축 방향, 진상축 방향에 있어서의 면내 굴절률이고, nz 는 두께 방향 굴절률이다. 또한, 지상축 방향이란, 면내 굴절률이 최대가 되는 방향을 말한다.
본 발명의 편광자 보호 필름의 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율은 30％ 이하이고, 바람직하게는 25％ 이하, 보다 바람직하게는 20％ 이하, 더 욱 바람직하게는 15％ 이하, 특히 바람직하게는 10％ 이하, 가장 바람직하게는 6％ 이하이다. 상기 편광자 보호 필름의 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율이 30％ 를 초과하면, 충분한 자외선 흡수 능력을 발휘하지 못할 우려가 있다.
본 발명의 편광자 보호 필름의 두께 80㎛ 에 있어서의 YI 는, 바람직하게는 1.27 이하, 보다 바람직하게는 1.25 이하, 더욱 바람직하게는 1.23 이하, 특히 바람직하게는 1.20 이하이다. 상기 YI 가 1.3 을 초과하면, 우수한 광학적 투명성이 발휘되지 않을 우려가 있다. 또한 YI 는, 예를 들어 고속 적분구식 분광 투과율 측정기 (상품명 DOT-3C : 무라카미 색채 기술 연구소 제조) 를 사용하여, 측정에 의해 얻어지는 색의 3 자극치 (X, Y, Z) 로부터 다음 식에 의해 구할 수 있다.
YI = [(1.28X - 1.06Z)/Y] × 100
본 발명의 편광자 보호 필름의 두께 80㎛ 에 있어서의 b 값 (헌터 표색계에 준한 색상의 척도) 은, 바람직하게는 1.5 미만, 보다 바람직하게는 1.0 이하이다. b 값이 1.5 이상인 경우, 필름의 착색에 의해 우수한 광학적 투명성이 발휘되지 않을 우려가 있다. 또한 b 값은, 예를 들어 편광자 보호 필름 샘플을 가로세로 3㎝ 로 재단하여, 고속 적분구식 분광 투과율 측정기 (상품명 DOT-3C : 무라카미 색채 기술 연구소 제조) 를 사용하여 색상을 측정할 수 있다. 또한, 색상을 헌터 표색계에 준하여 b 값으로 평가할 수 있다.
본 발명의 편광자 보호 필름에 있어서는, 면내 위상차 Δnd 는, 바람직하게 는 3.0㎚ 이하, 보다 바람직하게는 1.0㎚ 이하이다. 상기 면내 위상차 Δnd 가 3.0㎚ 를 초과하면, 본 발명의 효과, 특히 우수한 광학적 특성이 발휘되지 않을 우려가 있다. 두께 방향 위상차 Rth 는, 바람직하게는 5.0㎚ 이하, 보다 바람직하게는 3.0㎚ 이하이다. 상기 두께 방향 위상차 Rth 가 5.0㎚ 를 초과하면, 본 발명의 효과, 특히 우수한 광학적 특성이 발휘되지 않을 우려가 있다. 본 발명의 편광자 보호 필름이 편광자와 액정 셀 사이에 배치되는 경우에는, 상기 위상차인 것이 바람직하다.
본 발명의 편광자 보호 필름에 있어서는, 투습도가 바람직하게는 100g/㎡·24hr 이하, 보다 바람직하게는 60g/㎡·24hr 이하이다. 상기 투습도가 100g/㎡·24hr 를 초과하면, 내습성이 열등할 우려가 있다.
본 발명의 편광자 보호 필름은, 바람직하게는 우수한 기계적 강도도 갖는다. 인장 강도는, MD 방향에 있어서, 바람직하게는 65N/㎟ 이상, 보다 바람직하게는 70N/㎟ 이상, 더욱 바람직하게는 75N/㎟ 이상, 특히 바람직하게는 80N/㎟ 이상이고, TD 방향에 있어서, 바람직하게는 45N/㎟ 이상, 보다 바람직하게는 50N/㎟ 이상이고, 더욱 바람직하게는 55N/㎟ 이상, 특히 바람직하게는 60N/㎟ 이상이다. 인장 신도는, MD 방향에 있어서, 바람직하게는 6.5％ 이상, 보다 바람직하게는 7.0％ 이상, 더욱 바람직하게는 7.5％ 이상, 특히 바람직하게는 8.0％ 이상이고, TD 방향에 있어서, 바람직하게는 5.0％ 이상, 보다 바람직하게는 5.5％ 이상, 더욱 바람직하게는 6.0％ 이상, 특히 바람직하게는 6.5％ 이상이다. 인장 강도 혹은 인장 신도가 상기 범위를 벗어나는 경우에는, 우수한 기계적 강도가 발휘되지 않을 우려가 있다.
본 발명의 편광자 보호 필름은, 광학적 투명성을 나타내는 헤이즈가 낮으면 낮을수록 좋고, 바람직하게는 5％ 이하, 보다 바람직하게는 3％ 이하, 더욱 바람직하게는 1.5％ 이하, 특히 바람직하게는 1％ 이하이다. 헤이즈가 5％ 이하이면, 필름에 양호한 클리어감을 시각적으로 부여할 수 있고, 또한 1.5％ 이하로 하면, 창 등의 채광 부재로서 사용하였을 때에도 시인성과 채광성이 함께 얻어지기 때문에, 또한, 표시 장치의 전면판으로서 사용하였을 때에도 표시 내용을 양호하게 시인할 수 있기 때문에, 공업적 이용 가치가 높다.
본 발명의 편광자 보호 필름의 두께는, 바람직하게는 10 ∼ 250㎛ 이고, 보다 바람직하게는 15 ∼ 200㎛ 이고, 더욱 바람직하게는 30 ∼ 180㎛ 이고, 특히 바람직하게는 40 ∼ 160㎛ 이다. 본 발명의 편광자 보호 필름의 두께가 20㎛ 이상이면, 적절한 강도, 강성을 갖고, 라미네이트나 인쇄 등의 2 차 가공시에 취급성이 양호해진다. 또한 권취시의 응력에 의해 발생하는 위상차도 제어가 용이하고, 안정적이며 또한 용이하게 필름을 제조할 수 있다. 본 발명의 편광자 보호 필름의 두께가 200㎛ 이하이면, 필름을 감는 것이 용이해지는 것 외에, 라인 속도, 생산성, 그리고 컨트롤성이 용이해진다.
본 발명의 편광자 보호 필름은, 다른 기재에 적층하여 사용할 수 있다. 예를 들어 유리, 폴리올레핀 수지, 하이배리어층이 되는 에틸렌비닐리덴 공중합체, 폴리에스테르 등의 기재에 대하여, 접착성 수지층을 포함시킨 다층 압출 성형이나 다층 인플레이션 성형에 의해 적층 성형할 수도 있다. 열 융착성이 높은 경우 에는, 접착층을 생략하는 경우도 있다.
본 발명의 편광자 보호 필름은, 예를 들어 창이나 카포트 지붕재 등의 건축용 채광 부재, 창 등의 차량용 채광 부재, 온실 등의 농업용 채광 부재, 조명 부재, 전면 필터 등의 디스플레이 부재 등에 적층하여 사용할 수 있고, 또한, 종래부터 (메타)아크릴계 수지 필름이 피복되어 있던 가전의 하우징, 차량 내장 부재, 내장용 건축 재료, 벽지, 화장판, 현관문, 창틀, 풋스톨 등에도 적층하여 사용할 수 있다.
〔A-5. 편광자 보호 필름의 성형〕
본 발명의 편광자 보호 필름은, 상기 성형 재료를 압출 성형 (T 다이법이나 인플레이션법 등의 용융 압출법) 함으로써 얻어진다. 구체적으로는, 직접 첨가 혹은 마스터 배치법을 사용한 2 축 혼련을 실시하는 것이 바람직하다. 혼련 방법으로는, 단축(單軸) 압출기나 2 축 압출기 등의 압출기, 가압 니더, 토시바 기계사 제조의 TEM 등을 사용하여 혼련하는 것이 바람직하다. 또한, 미리 옴니믹서 등으로 프리블렌드한 것을 혼련해도 된다.
본 발명에 있어서는, 압출 성형할 때의 성형 재료로서, 상기 서술한 바와 같이, 자외선 흡수성 단량체와 (메타)아크릴계 단량체를 함유하는 단량체 조성물을 중합시켜 얻어지는 (메타)아크릴계 수지를 주성분으로서 함유하는 수지 성분을 함유하고, 바람직하게는, 추가로 그 수지 성분에 대하여 특정 비율량 이상의 특정 산화 방지제를 함유하는 성형 재료를 사용함으로써, 성형 온도를 250℃ 이상으로 해도, 최종적으로 편광자 보호 필름 중에 착색 및 발포가 생성되는 것을 충분히 억제 할 수 있다. 따라서, 압출 성형시의 성형 재료의 온도가 250℃ 이상이 되도록 온도 설정을 실시하는 것이 바람직하다. 압출 성형시의 성형 재료의 온도는, 보다 바람직하게는 250 ∼ 300℃ 이다. 온도가 지나치게 높아지면, (메타)아크릴계 수지의 분해가 진행되기 쉬울 우려가 있다.
압출 성형은, 드라이 라미네이션법과 같이, 가공시에 사용되는 접착제 중의 용매, 예를 들어 드라이 라미네이션용 접착제 중의 유기 용제를 건조, 비산시킬 필요가 없어, 용매 건조 공정이 불필요하고, 생산성이 우수하다.
본 발명의 편광자 보호 필름을 얻기 위한 성형 방법의 바람직한 실시형태의 일례로는, 성형 재료를 2 축 혼련기에 첨가하고 성형 온도를 250℃ 이상으로 하여 압출하여 수지 펠릿을 제조하고, 얻어진 수지 펠릿을 T 다이에 연결된 단축 압출기에 공급하고 다이스 온도 250℃ 이상에서 압출하여, 편광자 보호 필름으로 한다. 본 발명에 있어서 압출 성형에 의해 얻어지는 편광자 보호 필름의 두께는, 바람직하게는 20 ∼ 250㎛, 보다 바람직하게는 25 ∼ 200㎛, 더욱 바람직하게는 30 ∼ 180㎛, 특히 바람직하게는 40 ∼ 160㎛ 이다.
T 다이법으로 압출 필름 성형하는 경우에는, 임의의 적절한 단축 압출기나 2 축 압출기의 선단부에 T 다이를 장착하고, 필름상으로 압출된 필름을 감아 롤형상 필름을 얻을 수 있다. 이 때, 감김 롤의 온도를 적절히 조정하여 압출 방향으로 연신을 가함으로써, 1 축 연신 공정으로 할 수도 있다. 또한, 압출 방향과 수직인 방향으로 필름을 연신하는 공정을 가함으로써, 축차 2 축 연신, 동시 2 축 연신 등의 공정을 가할 수도 있다.
본 발명에 있어서의 편광자 보호 필름은, 종연신 및/또는 횡연신에 의해 연신되어 있어도 된다. 상기 연신은, 종연신만에 의한 연신 (자유단 1 축 연신) 이어도 되고, 횡연신만에 의한 연신 (고정단 1 축 연신) 이어도 되지만, 종연신 배율이 1.1 ∼ 3.0 배, 횡연신 배율이 1.1 ∼ 3.0 배인 축차 연신 또는 동시 2 축 연신인 것이 바람직하다. 종연신만에 의한 연신 (자유단 1 축 연신) 이나 횡연신만에 의한 연신 (고정단 1 축 연신) 에서는, 연신 방향으로만 필름 강도가 높아지고, 연신 방향에 대하여 직각 방향으로는 강도가 높아지지 않아, 필름 전체로서 충분한 필름 강도가 얻어지지 않을 우려가 있다. 상기 종연신 배율은, 보다 바람직하게는 1.2 ∼ 2.5 배, 더욱 바람직하게는 1.3 ∼ 2.0 배이다. 상기 횡연신 배율은, 보다 바람직하게는 1.2 ∼ 2.5 배, 더욱 바람직하게는 1.4 ∼ 2.5 배이다. 종연신 배율, 횡연신 배율이 1.1 배 미만인 경우, 연신 배율이 지나치게 낮아, 연신의 효과가 거의 없을 우려가 있다. 종연신 배율, 횡연신 배율이 3.0 배를 초과하면, 필름 단면 (端面) 의 평활성 문제에 의해 연신 절단이 발생하기 쉽다.
상기 연신 온도는, 연신시키는 필름의 Tg ∼ (Tg + 30℃) 가 바람직하다. 상기 연신 온도가 Tg 보다 낮으면 필름이 파단되어 버릴 우려가 있다. 상기 연신 온도가 (Tg + 30℃) 를 초과하면, 필름이 용융되기 시작하여 통지 (通紙) 가 곤란해질 우려가 있다.
본 발명의 편광자 보호 필름은, 종연신 및/또는 횡연신에 의해 연신되어 이루어짐으로써, 우수한 광학적 특성을 가짐과 함께, 기계적 강도도 우수하며, 생산성이나 리워크성이 향상된다. 연신 후의 편광자 보호 필름의 두께는, 바람직하 게는 10 ∼ 80㎛, 보다 바람직하게는 15 ∼ 60㎛ 이다.
〔B. 편광판〕
본 발명의 편광판은, 본 발명의 편광자 보호 필름을 포함한다. 바람직하게는, 폴리비닐알코올계 수지로 형성되는 편광자와 본 발명의 편광자 보호 필름을 포함하는 편광판으로서, 그 편광자가 접착제층을 개재하여 그 편광자 보호 필름에 접착되어 이루어진다.
본 발명 편광판의 바람직한 실시형태의 하나는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 편광자 (31) 의 일방의 면이, 접착제층 (32) 및 접착 용이층 (33) 을 개재하여 본 발명의 편광자 보호 필름 (34) 에 접착되어 있고, 편광자 (31) 의 다른 일방의 면이, 접착제층 (35) 을 개재하여 광학 필름 (36) 에 접착되어 이루어지는 형태이다. 광학 필름 (36) 은 본 발명의 편광자 보호 필름이어도 되고, 다른 임의의 적절한 광학 필름이어도 된다.
상기 폴리비닐알코올계 수지로 형성되는 편광자는, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 이색성 물질 (대표적으로는, 요오드, 이색성 염료) 로 염색하여 1 축 연신한 것이 사용된다. 폴리비닐알코올계 수지 필름을 구성하는 폴리비닐알코올계 수지의 중합도는, 바람직하게는 100 ∼ 5000, 더욱 바람직하게는 1400 ∼ 4000 이다. 편광자를 구성하는 폴리비닐알코올계 수지 필름은, 임의의 적절한 방법 (예를 들어 수지를 물 또는 유기 용매에 용해시킨 용액을 유연 성막하는 유연법, 캐스트법, 압출법) 에 의해 성형될 수 있다. 편광자의 두께는, 편광판이 사용되는 LCD 의 목적이나 용도에 따라 적절히 설정될 수 있는데, 대표적으로는 5 ∼ 80㎛ 이다.
편광자의 제조 방법으로는, 목적, 사용 재료 및 조건 등에 따라 임의의 적절한 방법이 채용될 수 있다. 대표적으로는, 상기 폴리비닐알코올계 수지 필름을, 팽윤, 염색, 가교, 연신, 수세 및 건조 공정으로 이루어지는 일련의 제조 공정에 제공하는 방법이 채용된다. 건조 공정을 제외한 각 처리 공정에 있어서는, 각각의 공정에 사용되는 용액을 함유하는 욕 중에 폴리비닐알코올계 수지 필름을 침지시킴으로써 처리한다. 팽윤, 염색, 가교, 연신, 수세 및 건조의 각 처리 순서, 횟수 및 실시 유무는, 목적, 사용 재료 및 조건 등에 따라 적절히 설정될 수 있다. 예를 들어 몇 가지 처리를 하나의 공정으로 동시에 실시해도 되고, 특정 처리를 생략해도 된다. 보다 상세하게는, 예를 들어 연신 처리는, 염색 처리 후에 실시해도 되고, 염색 처리 전에 실시해도 되며, 팽윤 처리, 염색 처리 및 가교 처리와 동시에 실시해도 된다. 또한 예를 들어 가교 처리를 연신 처리의 전후에 실시하는 것이 바람직하게 채용될 수 있다. 또한 예를 들어 수세 처리는, 모든 처리 후에 실시해도 되고, 특정 처리 후에만 실시해도 된다.
팽윤 공정은, 대표적으로는, 상기 폴리비닐알코올계 수지 필름을 물로 채운 처리욕 (팽윤욕) 중에 침지시킴으로써 실시된다. 이 처리에 의해, 폴리비닐알코올계 수지 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정함과 함께, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 팽윤시킴으로써 염색 얼룩 등의 불균일성을 방지할 수 있다. 팽윤욕에는, 글리세린이나 요오드화칼륨 등이 적절히 첨가될 수 있다. 팽윤욕의 온도는, 대표적으로는 20 ∼ 60℃ 정도이고, 팽윤욕에 침지시키는 시간은, 대표 적으로는 0.1 ∼ 10 분 정도이다.
염색 공정은, 대표적으로는, 상기 폴리비닐알코올계 수지 필름을 요오드 등의 이색성 물질을 함유하는 처리욕 (염색욕) 중에 침지시킴으로써 실시된다. 염색욕의 용액에 사용되는 용매는 물이 일반적으로 사용되지만, 물과 상용성을 갖는 유기 용매가 적당량 첨가되어 있어도 된다. 이색성 물질은, 용매 100 중량부에 대하여, 대표적으로는 0.1 ∼ 1.0 중량부의 비율로 사용된다. 이색성 물질로서 요오드를 사용하는 경우에는, 염색욕의 용액은 요오드화물 등의 보조제를 추가로 함유하는 것이 바람직하다. 염색 효율이 개선되기 때문이다. 보조제는, 용매 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 0.02 ∼ 20 중량부, 더욱 바람직하게는 2 ∼ 10 중량부의 비율로 사용된다. 요오드화물의 구체예로는, 요오드화칼륨, 요오드화리튬, 요오드화나트륨, 요오드화아연, 요오드화알루미늄, 요오드화납, 요오드화구리, 요오드화바륨, 요오드화칼슘, 요오드화주석, 요오드화티탄을 들 수 있다. 염색욕의 온도는, 대표적으로는 20 ∼ 70℃ 정도이고, 염색욕에 침지시키는 시간은, 대표적으로는 1 ∼ 20 분 정도이다.
가교 공정은, 대표적으로는, 상기 염색 처리된 폴리비닐알코올계 수지 필름을, 가교제를 함유하는 처리욕 (가교욕) 중에 침지시킴으로써 실시된다. 가교제로는 임의의 적절한 가교제가 채용될 수 있다. 가교제의 구체예로는, 붕산, 붕사 등의 붕소 화합물, 글리옥살, 글루타르알데히드 등을 들 수 있다. 이들은, 단독으로 또는 조합하여 사용될 수 있다. 가교욕의 용액에 사용되는 용매는 물이 일반적으로 사용되지만, 물과 상용성을 갖는 유기 용매가 적당량 첨가되어 있어도 된다. 가교제는, 용매 100 중량부에 대하여, 대표적으로는 1 ∼ 10 중량부의 비율로 사용된다. 가교제의 농도가 1 중량부 미만인 경우에는, 충분한 광학 특성을 얻을 수 없는 경우가 많다. 가교제의 농도가 10 중량부를 초과하는 경우에는, 연신시에 필름에 발생하는 연신력이 커지고, 얻어지는 편광판이 수축되어 버리는 경우가 있다. 가교욕의 용액은, 요오드화물 등의 보조제를 추가로 함유하는 것이 바람직하다. 면 내에 균일한 특성이 얻어지기 쉽기 때문이다. 보조제의 농도는, 바람직하게는 0.05 ∼ 15 중량％, 더욱 바람직하게는 0.5 ∼ 8 중량％ 이다. 요오드화물의 구체예는, 염색 공정의 경우와 동일하다. 가교욕의 온도는, 대표적으로는 20 ∼ 70℃ 정도, 바람직하게는 40 ∼ 60℃ 이다. 가교욕에 침지시키는 시간은, 대표적으로는 1 초 ∼ 15 분 정도, 바람직하게는 5 초 ∼ 10 분이다.
연신 공정은, 상기와 같이 어떠한 단계에서 실시해도 된다. 구체적으로는, 염색 처리 후에 실시해도 되고, 염색 처리 전에 실시해도 되며, 팽윤 처리, 염색 처리 및 가교 처리와 동시에 실시해도 되고, 가교 처리 후에 실시해도 된다. 폴리비닐알코올계 수지 필름의 누적 연신 배율은, 5 배 이상으로 할 필요가 있고, 바람직하게는 5 ∼ 7 배, 더욱 바람직하게는 5 ∼ 6.5 배이다. 누적 연신 배율이 5 배 미만인 경우에는, 고편광도의 편광판을 얻기 곤란해지는 경우가 있다. 누적 연신 배율이 7 배를 초과하는 경우에는, 폴리비닐알코올계 수지 필름 (편광자) 이 파단되기 쉬워지는 경우가 있다. 연신의 구체적인 방법으로는, 임의의 적절한 방법이 채용될 수 있다. 예를 들어 습식 연신법을 채용한 경우에는, 폴 리비닐알코올계 수지 필름을 처리욕 (연신욕) 중에서 소정 배율로 연신한다. 연신욕의 용액으로는, 물 또는 유기 용매 (예를 들어 에탄올) 등의 용매 중에, 각종 금속염, 요오드, 붕소 또는 아연의 화합물을 첨가한 용액이 바람직하게 사용된다.
수세 공정은, 대표적으로는, 상기 각종 처리가 실시된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 처리욕 (수세욕) 중에 침지시킴으로써 실시된다. 수세 공정에 의해, 폴리비닐알코올계 수지 필름의 불필요 잔존물을 씻어낼 수 있다. 수세욕은 순수이어도 되고, 요오드화물 (예를 들어 요오드화칼륨, 요오드화나트륨) 의 수용액이어도 된다. 요오드화물 수용액의 농도는, 바람직하게는 0.1 ∼ 10 질량％ 이다. 요오드화물 수용액에는, 황산아연, 염화아연 등의 보조제를 첨가해도 된다. 수세욕의 온도는, 바람직하게는 10 ∼ 60℃, 더욱 바람직하게는 30 ∼ 40℃ 이다. 침지 시간은, 대표적으로는 1 초 ∼ 1 분이다. 수세 공정은 1 회만 실시해도 되고, 필요에 따라 복수 회 실시해도 된다. 복수 회 실시하는 경우, 각 처리에 사용되는 수세욕에 함유되는 첨가제의 종류나 농도는 적절히 조정될 수 있다. 예를 들어 수세 공정은, 폴리머 필름을 요오드화칼륨 수용액 (0.1 ∼ 10 질량％, 10 ∼ 60℃) 에 1 초 ∼ 1 분 침지시키는 공정과, 순수로 씻는 공정을 포함한다.
건조 공정으로는, 임의의 적절한 건조 방법 (예를 들어 자연 건조, 송풍 건조, 가열 건조) 이 채용될 수 있다. 예를 들어 가열 건조의 경우에는, 건조 온도는 대표적으로는 20 ∼ 80℃ 이고, 건조 시간은 대표적으로는 1 ∼ 10 분이다. 이상과 같이 하여 편광자가 얻어진다.
본 발명의 편광판에 있어서는, 상기 편광자가 접착제층을 개재하여 본 발명의 편광자 보호 필름에 접착되어 이루어진다.
본 발명에 있어서, 본 발명의 편광자 보호 필름과 편광자의 접착은, 접착제로 형성되는 접착제층을 개재하여 실시된다. 이 접착제층은, 보다 강한 접착성을 발현하기 위해서, 폴리비닐알코올계 접착제로 형성되는 층이 바람직하다. 폴리비닐알코올계 접착제는, 폴리비닐알코올계 수지와 가교제를 함유한다.
상기 폴리비닐알코올계 수지는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 폴리아세트산비닐을 비누화하여 얻어진 폴리비닐알코올 ; 그 유도체 ; 또한 아세트산비닐과 공중합성을 갖는 단량체의 공중합체의 비누화물 ; 폴리비닐알코올을 아세탈화, 우레탄화, 에테르화, 그래프트화, 인산에스테르화하거나 한 변성 폴리비닐알코올 ; 등을 들 수 있다. 상기 단량체로는, (무수) 말레산, 푸마르산, 크로톤산, 이타콘산, (메타)아크릴산 등의 불포화 카르복실산 및 그 에스테르류 ; 에틸렌, 프로필렌 등의 α-올레핀, (메타)알릴술폰산(소다), 술폰산소다(모노알킬말레이트), 디술폰산소다알킬말레이트, N-메틸올아크릴아미드, 아크릴아미드알킬술폰산 알칼리염, N-비닐피롤리돈, N-비닐피롤리돈 유도체 등을 들 수 있다. 이들 폴리비닐알코올계 수지는 1 종만 사용해도 되고 2 종 이상을 병용해도 된다.
상기 폴리비닐알코올계 수지는, 접착성 면에서는, 평균 중합도가 바람직하게는 100 ∼ 3000, 보다 바람직하게는 500 ∼ 3000 이고, 평균 비누화도가 바람직하게는 85 ∼ 100 몰％, 보다 바람직하게는 90 ∼ 100 몰％ 이다.
상기 폴리비닐알코올계 수지로는, 아세토아세틸기를 갖는 폴리비닐알코올계 수지를 사용할 수 있다. 아세토아세틸기를 갖는 폴리비닐알코올계 수지는, 반응성이 높은 관능기를 갖는 폴리비닐알코올계 접착제이고, 편광판의 내구성이 향상된다는 점에서 바람직하다.
아세토아세틸기를 함유하는 폴리비닐알코올계 수지는, 폴리비닐알코올계 수지와 디케텐을 공지된 방법으로 반응시켜 얻어진다. 예를 들어 폴리비닐알코올계 수지를 아세트산 등의 용매 중에 분산시켜 두고, 이것에 디케텐을 첨가하는 방법, 폴리비닐알코올계 수지를 디메틸포름아미드 또는 디옥산 등의 용매에 미리 용해시켜 두고, 이것에 디케텐을 첨가하는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 폴리비닐알코올에 디케텐 가스 또는 액상 디케텐을 직접 접촉시키는 방법을 들 수 있다.
아세토아세틸기를 갖는 폴리비닐알코올계 수지의 아세토아세틸기 변성도는, 0.1 몰％ 이상이면 특별히 제한은 없다. 0.1 몰％ 미만에서는 접착제층의 내수성이 불충분하여 부적당하다. 아세토아세틸기 변성도는, 바람직하게는 0.1 ∼ 40 몰％, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 20 몰％ 이다. 아세토아세틸기 변성도가 40 몰％ 를 초과하면 가교제와의 반응점이 적어지고, 내수성의 향상 효과가 작다. 아세토아세틸기 변성도는 NMR 에 의해 측정한 값이다.
상기 가교제로는, 폴리비닐알코올계 접착제에 사용되고 있는 것을 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 가교제는, 폴리비닐알코올계 수지와 반응성을 갖는 관능기를 적어도 2 개 갖는 화합물을 사용할 수 있다. 예를 들어 에틸렌디아민, 트리에틸렌아민, 헥사메틸렌디아민 등의 알킬렌기와 아미노기를 2 개 갖는 알 킬렌디아민류 (그 중에서도 헥사메틸렌디아민이 바람직하다) ; 톨릴렌디이소시아네이트, 수소화 톨릴렌디이소시아네이트, 트리메틸렌프로판톨릴렌디이소시아네이트 애덕트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 메틸렌비스(4-페닐메탄트리이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 및 이들의 케토옥심 블록물 또는 페놀 블록물 등의 이소시아네이트류 ; 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 글리세린 디 또는 트리 글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 디글리시딜아닐린, 디글리시딜아민 등의 에폭시류 ; 포름알데히드, 아세트알데히드, 프로피온알데히드, 부틸알데히드 등의 모노 알데히드류 ; 글리옥살, 말론디알데히드, 숙신디알데히드, 글루타르디알데히드, 말레인디알데히드, 프탈디알데히드 등의 디알데히드류 ; 메틸올우레아, 메틸올멜라민, 알킬화 메틸올우레아, 알킬화 메틸올화 멜라민, 아세토구아나민, 벤조구아나민과 포름알데히드의 축합물 등의 아미노-포름알데히드 수지 ; 또한 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 칼슘, 알루미늄, 철, 니켈 등의 이가 금속, 또는 삼가 금속의 염 및 그 산화물 ; 등을 들 수 있다. 가교제로는 멜라민계 가교제가 바람직하고, 특히 메틸올멜라민이 바람직하다.
상기 가교제의 배합량은, 폴리비닐알코올계 수지 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 0.1 ∼ 35 중량부, 보다 바람직하게는 10 ∼ 25 중량부이다. 한편, 내구성을 보다 향상시키려면, 폴리비닐알코올계 수지 100 중량부에 대하여, 가교제를 30 중량부 초과 46 중량부 이하의 범위에서 배합할 수 있다. 특히, 아세토아세틸기를 함유하는 폴리비닐알코올계 수지를 사용하는 경우에는, 가교제의 사용 량을 30 중량부를 초과하여 사용하는 것이 바람직하다. 가교제를 30 중량부 초과 46 중량부 이하의 범위에서 배합함으로써 내수성이 향상된다.
또한, 상기 폴리비닐알코올계 접착제에는, 추가로 실란 커플링제, 티탄 커플링제 등의 커플링제, 각종 점착 부여제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 내열 안정제, 내가수분해 안정제 등의 안정제 등을 배합할 수도 있다.
본 발명의 편광자 보호 필름은, 편광자와 접하는 면에 접착성 향상을 위해서 접착 용이 처리를 할 수 있다. 접착 용이 처리로는, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 저압 UV 처리, 비누화 처리 등의 표면 처리나 앵커층을 형성하는 방법을 들 수 있고, 이들을 병용할 수도 있다. 이들 중에서도, 코로나 처리, 앵커층을 형성하는 방법, 및 이들을 병용하는 방법이 바람직하다.
상기 앵커층으로는, 예를 들어 반응성 관능기를 갖는 실리콘층을 들 수 있다. 반응성 관능기를 갖는 실리콘층의 재료는 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 이소시아네이트기 함유 알콕시실란올류, 아미노기 함유 알콕시실란올류, 메르캅토기 함유 알콕시실란올류, 카르복시 함유 알콕시실란올류, 에폭시기 함유 알콕시실란올류, 비닐형 불포화기 함유 알콕시실란올류, 할로겐기 함유 알콕시실란올류, 이소시아네이트기 함유 알콕시실란올류를 들 수 있고, 아미노계 실란올이 바람직하다. 또한 상기 실란올을 효율적으로 반응시키기 위한 티탄계 촉매나 주석계 촉매를 첨가함으로써, 접착력을 강고하게 할 수 있다. 또한 상기 반응성 관능기를 갖는 실리콘에 다른 첨가제를 첨가해도 된다. 구체적으로는 추가로 테르펜 수지, 페놀 수지, 테르펜-페놀 수지, 로진 수지, 자일렌 수지 등의 점착 부여 제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 내열 안정제 등의 안정제 등을 사용해도 된다. 또한 앵커층으로서, 셀룰로오스아세테이트부틸레이트 수지를 비누화시킨 것으로 이루어지는 층도 들 수 있다.
상기 반응성 관능기를 갖는 실리콘층은 공지된 기술에 의해 도공, 건조시켜 형성된다. 실리콘층의 두께는, 건조 후에, 바람직하게는 1 ∼ 100㎚, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 50㎚ 이다. 도공시, 반응성 관능기를 갖는 실리콘을 용제로 희석시켜도 된다. 희석 용제는 특별히 제한되지 않지만, 알코올류를 들 수 있다. 희석 농도는 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 1 ∼ 5 중량％, 보다 바람직하게는 1 ∼ 3 중량％ 이다.
상기 접착제층의 형성은, 상기 접착제를 본 발명의 편광자 보호 필름의 어느 한 측 또는 양측, 편광자의 어느 한 측 또는 양측에 도포함으로써 실시한다. 본 발명의 편광자 보호 필름과 편광자를 부착시킨 후에는, 건조 공정을 실시하여, 도포 건조층으로 이루어지는 접착제층을 형성한다. 접착제층을 형성한 후에 이것을 부착시킬 수도 있다. 편광자와 본 발명의 편광자 보호 필름의 부착은, 롤 라미네이터 등에 의해 실시할 수 있다. 가열 건조 온도, 건조 시간은 접착제의 종류에 따라 적절히 결정된다.
접착제층의 두께는, 건조 후의 두께로 지나치게 두꺼워지면, 본 발명의 편광자 보호 필름의 접착성 면에서 바람직하지 않기 때문에, 바람직하게는 0.01 ∼ 10㎛, 더욱 바람직하게는 0.03 ∼ 5㎛ 이다.
편광자에 대한 본 발명의 편광자 보호 필름의 부착은, 편광자의 양면에, 본 발명의 편광자 보호 필름의 일방측에서 접착할 수 있다.
또한, 편광자에 대한 본 발명의 편광자 보호 필름의 부착은, 편광자의 편면에 본 발명의 편광자 보호 필름의 일방측에서 접착하고, 다른 일방의 편면에 셀룰로오스계 수지를 부착할 수 있다.
상기 셀룰로오스계 수지는 특별히 한정되지 않지만, 트리아세틸셀룰로오스가 투명성, 접착성 면에서 바람직하다. 셀룰로오스계 수지의 두께는, 바람직하게는 30 ∼ 100㎛, 보다 바람직하게는 40 ∼ 80㎛ 이다. 두께가 30㎛ 보다 얇으면 필름 강도가 저하되어 작업성이 열등하고, 100㎛ 보다 두꺼우면 내구성에 있어서 광 투과율의 저하가 현저해진다.
본 발명의 편광판은, 최외층의 적어도 일방으로서 점착제층을 갖고 있어도 된다 (이와 같은 편광판을 점착형 편광판이라고 칭하는 경우가 있다). 특히 바람직한 형태로서, 본 발명의 편광자 보호 필름의 편광자가 접착되어 있지 않은 측에, 다른 광학 필름이나 액정 셀 등의 타부재와 접착시키기 위한 점착제층을 형성할 수 있다.
상기 점착제층을 형성하는 점착제는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 아크릴계 중합체, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리에테르, 불소계나 고무계 등의 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 것을 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 특히, 아크릴계 점착제와 같이 광학적 투명성이 우수하고, 적절한 젖음성과 응집성과 접착성의 점착 특성을 나타내고, 내후성이나 내열성 등이 우수한 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 특히, 탄소수가 4 ∼ 12 인 아크릴계 폴리머로 이루어지는 아크릴계 점착제가 바람직하다.
또한 상기에 추가하여, 흡습에 의한 발포 현상이나 벗겨짐 현상의 방지, 열팽창차 등에 의한 광학 특성의 저하나 액정 셀의 휨 방지, 나아가서는 고품질이며 내구성이 우수한 액정 표시 장치의 형성성 등의 면에서, 흡습률이 낮고 내열성이 우수한 점착제층이 바람직하다.
상기 점착제층은, 예를 들어 천연물이나 합성물의 수지류, 특히 점착성 부여 수지나, 유리 섬유, 유리 비드, 금속 분말, 그 밖의 무기 분말 등으로 이루어지는 충전제나 안료, 착색제, 산화 방지제 등의 점착제층에 첨가되는 첨가제를 함유하고 있어도 된다.
또한 미립자를 함유하여 광 확산성을 나타내는 점착제층 등이어도 된다.
상기 점착제층의 부설은 적절한 방식에 의해 실시할 수 있다. 그 예로는, 예를 들어 톨루엔이나 아세트산에틸 등의 적절한 용제의 단독물 또는 혼합물로 이루어지는 용매에 베이스 폴리머 또는 그 조성물을 용해 또는 분산시킨 10 ∼ 40 중량％ 정도의 점착제 용액을 조제하고, 그것을 유연 방식이나 도공 방식 등의 적절한 전개 방식으로 편광판 상 또는 편광자 보호 필름 상에 직접 부설하는 방식, 혹은 상기에 준하여 세퍼레이터 상에 점착제층을 형성하고 그것을 편광자 보호 필름면에 이착시키는 방식 등을 들 수 있다.
점착제층은, 상이한 조성 또는 종류 등의 중첩층으로서 편광판의 편면 또는 양면에 형성할 수도 있다. 또한 양면에 형성하는 경우에, 편광판의 표리에 있어서 상이한 조성이나 종류나 두께 등의 점착제층으로 할 수도 있다.
점착제층의 두께는, 사용 목적이나 접착력 등에 따라 적절히 결정할 수 있고, 바람직하게는 1 ∼ 40㎛ 이고, 보다 바람직하게는 5 ∼ 30㎛ 이고, 특히 바람직하게는 10 ∼ 25㎛ 이다. 1㎛ 보다 얇으면 내구성이 나빠지고, 또한 40㎛ 보다 두꺼워지면 발포 등에 의해 들뜨거나 벗겨지기 쉬워 외관 불량이 된다.
본 발명의 편광자 보호 필름과 상기 점착제층 간의 밀착성을 향상시키기 위해서, 그 층 사이에 앵커층을 형성할 수도 있다.
상기 앵커층으로는, 바람직하게는 폴리우레탄, 폴리에스테르, 분자 중에 아미노기를 함유하는 폴리머류에서 선택되는 앵커층이 사용되고, 특히 바람직하게는 분자 중에 아미노기를 함유한 폴리머류가 사용된다. 분자 중에 아미노기를 함유한 폴리머는, 분자 중의 아미노기가, 점착제 중의 카르복실기나, 도전성 폴리머 중의 극성기와 반응 혹은 이온성 상호 작용 등의 상호 작용을 나타내기 때문에 양호한 밀착성이 확보된다.
분자 중에 아미노기를 함유하는 폴리머류로는, 예를 들어 폴리에틸렌이민, 폴리알릴아민, 폴리비닐아민, 폴리비닐피리딘, 폴리비닐피롤리딘, 전술한 아크릴계 점착제의 공중합 모노머에서 나타낸 디메틸아미노에틸아크릴레이트 등의 함아미노기 함유 모노머의 중합체 등을 들 수 있다.
상기 앵커층에 대전 방지성을 부여하기 위해서 대전 방지제를 첨가할 수도 있다. 대전 방지성 부여를 위한 대전 방지제로는, 이온성 계면 활성제계, 폴리아닐린, 폴리티오펜, 폴리피롤, 폴리퀴녹살린 등의 도전 폴리머계, 산화주석, 산화안티몬, 산화인듐 등의 금속 산화물계 등을 들 수 있는데, 특히 광학 특성, 외관, 대전 방지 효과, 및 대전 방지 효과의 열 (熱) 시, 가습시에서의 안정성이라는 관점에서, 도전성 폴리머계가 바람직하게 사용된다. 이 중에서도, 폴리아닐린, 폴리티오펜 등의 수용성 도전성 폴리머, 혹은 수분산성 도전성 폴리머가 특히 바람직하게 사용된다. 이것은, 대전 방지층의 형성 재료로서 수용성 도전성 폴리머나 수분산성 도전성 폴리머를 사용한 경우, 도포 공정시에 유기 용제에 의한 편광자 보호 필름 기재의 변질을 억제할 수 있기 때문이다.
본 발명에 있어서, 상기한 편광판을 형성하는 편광자나 광학 필름 (편광자 보호 필름 등), 또한 점착제층 등의 각 층에는, 예를 들어 살리실산에스테르계 화합물이나 벤조페놀계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물이나 시아노아크릴레이트계 화합물, 니켈 착염계 화합물 등의 자외선 흡수제로 처리하는 방식 등의 방식에 의해 자외선 흡수능을 갖게 한 것 등이어도 된다.
본 발명의 편광판은, 액정 셀의 시인측, 백라이트측 중 어느 편측에 형성해도 되고 양측에 형성해도 되고, 한정되지 않는다.
〔C. 화상 표시 장치〕
다음으로, 본 발명의 화상 표시 장치에 대하여 설명한다. 본 발명의 화상 표시 장치는 본 발명의 편광판을 적어도 1 장 포함한다. 여기서는 일례로서 액정 표시 장치에 대하여 설명하지만, 본 발명이 편광판을 필요로 하는 모든 표시 장치에 적용될 수 있는 것은 말할 필요도 없다. 본 발명의 편광판을 적용할 수 있는 화상 표시 장치의 구체예로는, 일렉트로루미네선스 (EL) 디스플레이, 플라즈마 디스플레이 (PD), 전계 방출 디스플레이 (FED : Field Emission Display) 와 같 은 자발광형 표시 장치를 들 수 있다. 도 2 는, 본 발명의 바람직한 실시형태에 의한 액정 표시 장치의 개략 단면도이다. 도시된 예에서는 투과형 액정 표시 장치에 대하여 설명하지만, 본 발명이 반사형 액정 표시 장치 등에도 적용되는 것은 말할 필요도 없다.
액정 표시 장치 (100) 는, 액정 셀 (10) 과, 액정 셀 (10) 을 사이에 두고 배치된 위상차 필름 (20, 20') 과, 위상차 필름 (20, 20') 의 외측에 배치된 편광판 (30, 30') 과, 도광판 (40) 과, 광원 (50) 과, 리플렉터 (60) 를 구비한다. 편광판 (30, 30') 은, 그 편광축이 서로 직교하도록 배치되어 있다. 액정 셀 (10) 은, 1 쌍의 유리 기판 (11, 11') 과, 그 기판 사이에 배치된 표시 매체로서의 액정층 (12) 을 갖는다. 일방의 기판 (11) 에는, 액정의 전기 광학 특성을 제어하는 스위칭 소자 (대표적으로는 TFT) 와, 이 스위칭 소자에 게이트 신호를 부여하는 주사선 및 소스 신호를 부여하는 신호선이 형성되어 있다 (모두 도시 생략). 타방의 유리 기판 (11') 에는, 컬러 필터를 구성하는 컬러층과 차광층 (블랙 매트릭스층) 이 형성되어 있다 (모두 도시 생략). 기판 (11, 11') 의 간격 (셀 갭) 은 스페이서 (13) 에 의해 제어되어 있다. 본 발명의 액정 표시 장치에 있어서는, 편광판 (30, 30') 의 적어도 1 개로서 상기 기재된 본 발명의 편광판이 채용된다.
예를 들어 TN 방식의 경우에는, 이와 같은 액정 표시 장치 (100) 는, 전압 무인가시에는 액정층 (12) 의 액정 분자가 편광축을 90 도 어긋나게 하는 상태로 배열되어 있다. 그러한 상태에 있어서는, 편광판에 의해 일 방향의 광만이 투 과한 입사광은, 액정 분자에 의해 90 도 틀어진다. 상기와 같이, 편광판은 그 편광축이 서로 직교하도록 배치되어 있기 때문에, 타방의 편광판에 도달한 광 (편광) 은 당해 편광판을 투과한다. 따라서, 전압 무인가시에는, 액정 표시 장치 (100) 는 백(白) 표시를 실시한다 (노멀리 화이트 방식). 한편, 이와 같은 액정 표시 장치 (100) 에 전압을 인가하면, 액정층 (12) 내의 액정 분자의 배열이 변화된다. 그 결과, 타방의 편광판에 도달한 광 (편광) 은, 당해 편광판을 투과하지 못하고 흑 표시로 된다. 이와 같은 표시의 전환을, 액티브 소자를 사용하여 화소마다 실시함으로써 화상이 형성된다.
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하겠지만, 본 발명은 이들 실시예에는 한정되지 않는다. 또한, 특별히 언급하지 않는 한, 실시예, 비교예 중의 퍼센트는 중량 기준이다. 평가는 이하와 같이 하여 실시하였다.
(중량 평균 분자량)
중합체의 중량 평균 분자량은, GPC (토소사 제조 GPC 시스템) 의 폴리스티렌 환산에 의해 구하였다. 전개액은 클로로포름을 사용하였다.
(수지의 열분석)
수지의 열분석은, 시료 약 10㎎, 승온 속도 10℃/min, 질소 플로우 50cc/min 의 조건으로, DSC ((주) 리가쿠사 제조, 장치명 : DSC-8230) 를 사용하여 실시하였다. 또한, 유리 전이 온도 (Tg) 는, ASTM-D-3418 에 따라 중점법으로 구하였다.
(락톤고리 구조 단위의 함유 비율)
먼저, 중합으로 얻어진 중합체 조성으로부터 모든 수산기가 메탄올로서 탈알코올되었을 때에 일어나는 중량 감소량을 기준으로 하여, 다이나믹 TG 측정에 있어서 중량 감소가 시작되기 전인 150℃ 부터 중합체의 분해가 시작되기 전인 300℃ 까지의 탈알코올 반응에 의한 중량 감소로부터, 탈알코올 반응률을 구하였다.
즉, 락톤고리 구조를 가진 중합체의 다이나믹 TG 측정에 있어서 150℃ 부터 300℃ 까지의 중량 감소율을 측정하여, 얻어진 실측 중량 감소율을 (X) 로 한다. 한편, 당해 중합체의 조성으로부터, 그 중합체 조성에 함유되는 모든 수산기가 락톤고리의 형성에 관여하기 때문에 알코올로 되어 탈알코올된다고 가정했을 때의 이론 중량 감소율 (즉, 그 조성상에 있어서 100％ 탈알코올 반응이 일어났다고 가정하여 산출한 중량 감소율) 을 (Y) 로 한다. 또한, 이론 중량 감소율 (Y) 는, 보다 구체적으로는, 중합체 중의 탈알코올 반응에 관여하는 구조 (수산기) 를 갖는 원료 단량체의 몰비, 즉 당해 중합체 조성에 있어서의 상기 원료 단량체의 함유율로부터 산출할 수 있다. 이들 값 (X, Y) 를 탈알코올 계산식 :
1 - (실측 중량 감소율 (X)/이론 중량 감소율 (Y))
에 대입하여 그 값을 구하고, ％ 로 표기하면, 탈알코올 반응률이 얻어진다.
예로서, 후술하는 참고예 3 에서 얻어지는 펠릿에 있어서 락톤고리 구조가 차지하는 비율을 계산한다. 이 중합체의 이론 중량 감소율 (Y) 를 구해 보면, 메탄올의 분자량은 32 이고, 2-(히드록시메틸)아크릴산메틸의 분자량은 116 이고, 2-(히드록시메틸)아크릴산메틸의 중합체 중의 함유율 (중량비) 은 조성상 20 중량 ％ 이기 때문에, (32/116) × 20 ≒ 5.52 중량％ 가 된다. 한편, 다이나믹 TG 측정에 의한 실측 중량 감소율 (X) 는 0.18 중량％ 이었다. 이들 값을 상기 탈알코올 계산식에 대입시키면, 1 - (0.18/5.52) ≒ 0.967 이 되므로, 탈알코올 반응률은 96.7 중량％ 이다.
그리고, 이 탈알코올 반응률의 분량만큼 소정의 락톤고리화가 이루어진 것으로 하여, 락톤고리화에 관여하는 구조 (히드록시기) 를 갖는 원료 단량체의 당해 공중합체 조성에 있어서의 함유율 (중량비) 에 탈알코올 반응률을 곱하고, 락톤고리 단위 구조의 함유율 (중량비) 로 환산함으로써, 당해 공중합체에 있어서의 락톤고리 구조의 함유 비율을 산출할 수 있다. 참고예 3 의 경우, 2-(히드록시메틸)아크릴산메틸의 당해 공중합체에 있어서의 함유율이 20.0 중량％, 산출한 탈알코올 반응률이 96.7 중량％, 분자량이 116 인 2-(히드록시메틸)아크릴산메틸이 메타크릴산메틸과 축합된 경우에 생성되는 락톤고리화 구조 단위의 식량이 170 인 것으로부터, 당해 공중합체 내에 있어서의 락톤고리의 함유 비율은 28.3 중량％ ((20.0 × 0.967 × 170/116) 중량％) 가 된다.
(280℃ 에서 20 분간의 가열에 있어서의 중량 감소)
280℃ 에서 20 분간의 가열에 있어서의 중량 감소는, 질소 기류 중에서 280℃ 에서 20 분간 가열하였을 때의 중량 감소율로 평가하였다. 시료 약 5 ∼ 10㎎ 을 사용하고, 열중량 분석 장치 (세이코 인스트루먼트 (주) 제조, TG/DTA6200) 로 질소 기류 중에서 측정하였다. 10℃/분으로 280℃ 까지 승온시킨 후, 280℃ 에서 20 분간 유지하였다. 처리 전의 중량 = M0, 처리 후의 중량 = M1, 중량 감소율 (％) = M 으로 하였을 때, 다음 식으로 계산하였다.
M = (M1 - M0)/M0
(380㎚ 에서의 광선 투과율)
필름 샘플을 가로세로 3㎝ 로 재단하고, (주) 시마즈 제작소 제조의 「UV-VIS-NIR-SPECTROMETER UV3150」(실시예 1 ∼ 3, 비교예 1) 또는 「UV-3100」(실시예 5 ∼ 15, 비교예 2) 으로, 380㎚ 에서의 광선 투과율을 측정하였다.
(b 값)
필름 샘플을 가로세로 3㎝ 로 재단하고, 고속 적분구식 분광 투과율 측정기 (상품명 DOT-3C : 무라카미 색채 기술 연구소 제조) 를 사용하여 색상을 측정하였다. 색상은 헌터 표색계에 준하여 b 값으로 평가하였다.
(가열에 의한 착색 평가)
얻어진 수지 펠릿을 질소 분위기하, 280℃ 에서 20 분간 가열하였다. 가열 전의 수지 펠릿의 색과 가열 후의 수지 펠릿의 색을 비교하였다.
× … 황색기가 증가.
○ … 거의 변화 없음 (거의 착색 없음).
◎ … 전혀 변화 없음 (전혀 착색 없음).
(수지의 착색도 (YI))
수지의 착색도 (YI) 는 수지를 클로로포름에 용해시키고, 15 중량％ 로 하여 석영 셀에 넣고, JIS-K-7103 에 따라 색차계 (닛폰 덴쇼쿠 공업사 제조, 장치명 : SZ-Σ90) 를 사용하여 투과광으로 측정하였다.
(발포 유무의 관찰)
단축 압출기로 다이스 온도 290℃ 에서 T 다이로부터 압출하였을 때, T 다이로부터 압출되는 수지를 관찰하여 발포 유무를 관찰하였다.
×× … 전체면에 직경 (타원 형상인 경우에는 장직경) 0.5㎜ 이상의 발포가 다수 관찰된다.
× … 전체면에 직경 (타원 형상인 경우에는 장직경) 0.5㎜ 이상의 발포가 관찰된다.
○ … 0.5㎜ 이하의 발포가 관찰된다.
◎ … 육안으로는 발포가 관찰되지 않는다.
(내열 분해성의 평가 방법)
시험관에 1g 의 수지를 넣고, 260℃ 로 승온시킨 히트 블록 (SCINICS 사 제조 DRY-BLOCK-Bath) 에 시험관을 삽입하였다. 그대로 30 분간 유지한 후 시험관을 꺼내, 그 안의 수지의 분해, 발포 상태를 육안으로 관찰하였다. 하기의 상태 관찰의 기준으로 판단하였다.
× … 착색, 발포가 현저하다. 발포에 의한 기포면의 상승이 크다.
△ … 착색, 발포되었다. 발포에 의한 기포면이 상승하였다.
○ … 착색, 발포되지 않았거나, 발포되었어도 그 정도가 작다.
〔참고예 1〕: 편광자의 제조
두께 80㎛ 의 폴리비닐알코올 필름을 5 중량％ (중량비 : 요오드/요오드화칼륨 = 1/10) 의 요오드 수용액 중에서 염색하였다. 이어서, 3 중량％ 의 붕산 및 2 중량％ 요오드화칼륨을 함유하는 수용액에 침지시키고, 또한 4 중량％ 의 붕산 및 3 중량％ 의 요오드화칼륨을 함유하는 수용액 중에서 5.5 배까지 연신한 후, 5 중량％ 의 요오드화칼륨 수용액에 침지시켰다. 그 후, 40℃ 의 오븐에서 3 분간 건조시켜 두께 30㎛ 의 편광자를 얻었다.
〔참고예 2〕: 락톤고리 함유 아크릴계 수지의 제조 (자외선 흡수성 단량체 사용)
교반 장치, 온도 센서, 냉각관, 질소 도입관을 구비한 30ℓ 반응 용기에, 7000g 의 메타크릴산메틸 (MMA), 1000g 의 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸, 2000g 의 2-(히드록시메틸)아크릴산메틸 (MHMA), 10000g 의 톨루엔을 주입하고, 이것에 질소를 통하게 하면서 105℃ 까지 승온시키고, 환류시킨 시점에서, 개시제로서 10.0g 의 t-아밀퍼옥시 이소노나노에이트 (아르케마 요시토미 제조, 상품명 : 루파솔 570) 를 첨가함과 동시에, 20.0g 의 개시제와 100g 의 톨루엔으로 이루어지는 용액을 4 시간 동안 적하하면서, 환류하 (약 105 ∼ 110℃) 에서 용액 중합을 실시하고, 추가로 4 시간 동안 숙성시켰다.
얻어진 중합체 용액에, 10g 의 인산스테아릴/인산디스테아릴 혼합물 (사카이 화학 제조, 상품명 : Phoslex A-18) 을 첨가하고, 환류하 (약 90 ∼ 110℃) 에서 5 시간, 고리화 축합 반응을 실시하였다. 이어서, 상기 고리화 축합 반응으로 얻어진 중합체 용액을, 배럴 온도 260℃, 회전수 100rpm, 감압도 13.3 ∼ 400hPa (10 ∼ 300mmHg), 리어 벤트수 1 개, 포어 벤트수 4 개의 벤트 타입 스크루 2 축 압출기 (φ = 29.75㎜, L/D = 30) 에, 수지량 환산으로 2.0㎏/시간의 처리 속도로 도입 하고, 그 압출기 내에서 고리화 축합 반응과 탈휘 (脫揮) 를 실시하고 압출함으로써, 투명한 락톤고리 함유 아크릴계 수지 펠릿 (A) 를 얻었다.
락톤고리 함유 아크릴계 수지 펠릿 (A) 의 락톤고리화율은 97.0％ 이었다.
〔참고예 3〕: 락톤고리 함유 아크릴계 수지의 제조 (자외선 흡수성 단량체를 사용하지 않음)
교반 장치, 온도 센서, 냉각관, 질소 도입관을 구비한 30ℓ 반응 용기에, 8000g 의 메타크릴산메틸 (MMA), 2000g 의 2-(히드록시메틸)아크릴산메틸 (MHMA), 10000g 의 톨루엔을 주입하고, 이것에 질소를 통하게 하면서 105℃ 까지 승온시키고, 환류시킨 시점에서, 개시제로서 10.0g 의 t-아밀퍼옥시 이소노나노에이트 (아르케마 요시토미 제조, 상품명 : 루파솔 570) 를 첨가함과 동시에, 20.0g 의 개시제와 100g 의 톨루엔으로 이루어지는 용액을 4 시간 동안 적하하면서, 환류하 (약 105 ∼ 110℃) 에서 용액 중합을 실시하고, 추가로 4 시간 동안 숙성시켰다.
얻어진 중합체 용액에, 10g 의 인산스테아릴/인산디스테아릴 혼합물 (사카이 화학 제조, 상품명 : Phoslex A-18) 을 첨가하고, 환류하 (약 90 ∼ 110℃) 에서 5 시간, 고리화 축합 반응을 실시하였다. 이어서, 상기 고리화 축합 반응으로 얻어진 중합체 용액을, 배럴 온도 260℃, 회전수 100rpm, 감압도 13.3 ∼ 400hPa (10 ∼ 300mmHg), 리어 벤트수 1 개, 포어 벤트수 4 개의 벤트 타입 스크루 2 축 압출기 (φ = 29.75㎜, L/D = 30) 에, 수지량 환산으로 2.0㎏/시간의 처리 속도로 도입하고, 그 압출기 내에서 고리화 축합 반응과 탈휘를 실시하고 압출함으로써, 투명한 락톤고리 함유 아크릴계 수지 펠릿 (B) 를 얻었다.
락톤고리 함유 아크릴계 수지 펠릿 (B) 의 락톤고리화율은 96.7％ 이었다.
〔실시예 1〕
참고예 2 에서 얻어진 락톤고리 함유 아크릴계 수지 펠릿 (A) 100 중량부에 대하여, 인계 산화 방지제 (ADEKA 사 제조, PEP-36) 1 중량부, 페놀계 산화 방지제 (치바 스페셜티 케미컬즈사 제조, IRGANOX1010) 1 중량부를 2 축 혼련기로 230℃ 에서 혼합하여, 수지 펠릿을 제조하였다.
사용한 각 첨가제의 280℃ 에서 20 분간의 가열에 의한 중량 감소는, 각각 인계 산화 방지제 (ADEKA 사 제조, PEP-36) = 7.9％, 페놀계 산화 방지제 (치바 스페셜티 케미컬즈사 제조, IRGANOX1010) = 4.2％ 이었다.
얻어진 수지 펠릿 (1) 에 대하여 가열에 의한 착색 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타냈다.
얻어진 수지 펠릿 (1) 을 800㎩ (6Torr), 100℃ 에서 12 시간 건조시키고, 단축 압출기로 다이스 온도 290℃ 에서 T 다이로부터 압출하여, 두께 80㎛ 의 편광자 보호 필름 (1) 을 제조하였다.
얻어진 편광자 보호 필름 (1) 에 대하여 발포 유무를 관찰하였다. 결과를 표 1 에 나타냈다.
얻어진 편광자 보호 필름 (1) 에 대하여, 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율, 두께 80㎛ 에 있어서의 b 값을 측정하였다. 결과를 표 1 에 나타냈다.
〔실시예 2〕
참고예 2 에서 얻어진 락톤고리 함유 아크릴계 수지 펠릿 (A) 100 중량부에 대하여, 티오에테르계 산화 방지제 (스미토모 화학사 제조, 스미라이저 TP-D) 1.0 중량부, 페놀계 산화 방지제 (치바 스페셜티 케미컬즈사 제조, IRGANOX1010) 1.0 중량부를 2 축 혼련기로 230℃ 에서 혼합하여, 수지 펠릿 (2) 를 제조하였다.
사용한 각 첨가제의 280℃ 에서 20 분간의 가열에 있어서의 중량 감소는, 각각 티오에테르계 산화 방지제 (스미토모 화학사 제조, 스미라이저 TP-D) = 2.4％, 페놀계 산화 방지제 (치바 스페셜티 케미컬즈사 제조, IRGANOX1010) = 4.2％ 이었다.
얻어진 수지 펠릿 (2) 에 대하여 가열에 의한 착색 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타냈다.
얻어진 수지 펠릿 (2) 를, 800㎩ (6Torr), 100℃ 에서 12 시간 건조시키고, 단축 압출기로 다이스 온도 290℃ 에서 T 다이로부터 압출하여, 두께 80㎛ 의 편광자 보호 필름 (2) 를 제조하였다.
얻어진 편광자 보호 필름 (2) 에 대하여 발포 유무를 관찰하였다. 결과를 표 1 에 나타냈다.
얻어진 편광자 보호 필름 (2) 에 대하여, 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율, 두께 80㎛ 에 있어서의 b 값을 측정하였다. 결과를 표 1 에 나타냈다.
〔실시예 3〕
참고예 2 에서 얻어진 락톤고리 함유 아크릴계 수지 펠릿 (A) 를 그대로 수 지 펠릿 (3) 으로 하였다.
얻어진 수지 펠릿 (3) 에 대하여 가열에 의한 착색 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타냈다.
얻어진 수지 펠릿 (3) 을, 800㎩ (6Torr), 100℃ 에서 12 시간 건조시키고, 단축 압출기로 다이스 온도 250℃ 에서 T 다이로부터 압출하여, 120㎛ 의 필름을 얻었다. 이 필름을 세로 방향으로 140℃ 에서 1.5 배 연신한 후, 가로 방향으로 140℃ 에서 1.3 배 연신하여, 두께 80㎛ 의 편광자 보호 필름 (3) 을 제조하였다.
얻어진 편광자 보호 필름 (3) 에 대하여 발포 유무를 관찰하였다. 결과를 표 1 에 나타냈다.
얻어진 편광자 보호 필름 (3) 에 대하여, 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율, 두께 80㎛ 에 있어서의 b 값을 측정하였다. 결과를 표 1 에 나타냈다.
〔비교예 1〕
참고예 3 에서 얻어진 락톤고리 함유 아크릴계 수지 펠릿 (B) 를 그대로 수지 펠릿 (C1) 로 하였다.
얻어진 수지 펠릿 (C1) 에 대하여 가열에 의한 착색 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타냈다.
얻어진 수지 펠릿 (C1) 을, 800㎩ (6Torr), 100℃ 에서 12 시간 건조시키고, 단축 압출기로 다이스 온도 290℃ 에서 T 다이로부터 압출하여, 두께 80㎛ 의 편광 자 보호 필름 (C1) 을 얻었다.
얻어진 편광자 보호 필름 (C1) 에 대하여 발포 유무를 관찰하였다. 결과를 표 1 에 나타냈다.
얻어진 편광자 보호 필름 (C1) 에 대하여, 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율, 두께 80㎛ 에 있어서의 b 값을 측정하였다. 결과를 표 1 에 나타냈다.
수지 펠릿의 착색 평가 발포 유무의 관찰 결과 380㎚ 에서의 광선 투과율 (％) b 값
실시예 1 ◎ ◎ 0.01 1.2
실시예 2 ◎ ◎ 0.01 1.3
실시예 3 ○ ○ 0.01 5
비교예 1 × ×× 90.57 0.726
〔실시예 4〕
(접착제)
아세토아세틸기 변성한 폴리비닐알코올 수지 100 중량부 (아세틸화도 13％) 에 대하여 메틸올멜라민 20 중량부를 함유하는 수용액을, 농도 0.5 중량％ 가 되도록 조정한 폴리비닐알코올계 접착제 수용액을 조정하였다.
(편광판의 제조)
참고예 1 에서 얻어진 편광자의 양면에 실시예 1 에서 얻어진 편광자 보호 필름 (1) 을 폴리비닐알코올계 접착제를 사용하여 부착시켰다. 폴리비닐알코올계 접착제는, 각각 아크릴 수지면측에 도포하고, 70℃ 에서 10 분간 건조시켜 편광판을 얻었다.
(점착제)
베이스 폴리머로서, 부틸아크릴레이트 : 아크릴산 : 2-히드록시에틸아크릴레이트 = 100 : 5 : 0.1 (중량비) 의 공중합체로 이루어지는 중량 평균 분자량 200 만의 아크릴계 폴리머를 함유하는 용액 (고형분 30％) 을 사용하였다. 상기 아크릴계 폴리머 용액에 이소시아네이트계 다관능성 화합물인 닛폰 폴리우레탄사 제조 콜로네이트 L 을 폴리머 고형분 100 부에 대하여 4 부, 및 첨가제 (KBM403, 신에츠 실리콘 제조) 를 0.5 부, 점도 조정을 위한 용제 (아세트산에틸) 를 첨가하여, 점착제 용액 (고형분 12％) 을 조제하였다. 당해 점착제 용액을, 건조 후의 두께가 25㎛ 가 되도록, 이형 필름 (폴리에틸렌테레프탈레이트 기재 : 다이아호일 MRF38, 미츠비시 화학 폴리에스테르 제조) 상에 도포한 후, 열풍 순환식 오븐에서 건조시켜 점착제층을 형성하였다.
(편광판 앵커층)
폴리아크릴산에스테르의 폴리에틸렌이민 부가물 (닛폰 촉매사 제조, 상품명 폴리멘트 NK380) 을 메틸이소부틸케톤으로 50 배로 희석시켰다. 이것을 편광판의 나일론 수지측에, 와이어 바 (#5) 를 사용하여 건조 후의 두께가 50㎚ 로 되도록 도포 건조시켰다.
(점착형 편광판의 제조)
상기 편광판의 앵커층에, 상기 점착제층을 형성한 이형 필름을 부착시켜, 점착제형 편광판을 제조하였다.
(편광판의 평가)
얻어진 편광판에 있어서의, 필름과 편광자의 접착성 및 외관을 평가하였다. 접착성은 양호하고, 편광자와 필름이 일체화되어 벗겨짐이 발생하지 않았다. 또한, 외관에 결점은 보이지 않았다.
〔실시예 5〕
교반 장치, 온도 센서, 냉각관, 질소 도입관을 부착한 30ℓ 반응 용기에, 37.5 부의 메타크릴산메틸 (MMA), 10 부의 2-(히드록시메틸)아크릴산메틸 (MHMA), 2.5 부의 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]-2H-벤조트리아졸 (오오츠카 화학 제조, 상품명 : RUVA-93), 50 부의 톨루엔을 주입하고, 이것에 질소를 통하게 하면서 105℃ 까지 승온시키고, 환류시킨 시점에서, 개시제로서 0.05 부의 t-아밀퍼옥시 이소노나노에이트 (아르케마 요시토미 제조, 상품명 : 루파솔 570) 를 첨가함과 동시에, 0.10 부의 t-아밀퍼옥시 이소노나노에이트를 2 시간 동안 적하하면서, 환류하 (약 105 ∼ 110℃) 에서 용액 중합을 실시하고, 추가로 4 시간 동안 숙성시켰다.
얻어진 중합체 용액에, 0.05 부의 인산스테아릴/인산디스테아릴 혼합물 (사카이 화학사 제조, 상품명 : Phoslex A-18) 을 첨가하고, 환류하 (약 90 ∼ 110℃) 에서 5 시간 고리화 축합 반응을 실시하였다. 이어서, 상기 고리화 축합 반응으로 얻어진 중합체 용액을, 배럴 온도 260℃, 회전수 100rpm, 감압도 13.3 ∼ 400hPa (10 ∼ 300mmHg), 리어 벤트수 1 개, 포어 벤트수 4 개의 벤트 타입 스크루 2 축 압출기 (φ = 29.75㎜, L/D = 30) 에, 수지량 환산으로 2.0㎏/시간의 처리 속도로 도입하고, 그 압출기 내에서 고리화 축합 반응과 탈휘를 실시하고 압출함으로써, 투명한 펠릿 (5) 를 얻었다. 얻어진 펠릿 (5) 의 분석 결과를 표 2 에 나타냈다.
얻어진 펠릿 (5) 를 20㎜φ 의 스크루를 갖는 2 축 압출기를 사용하여, 폭 150㎜ 의 코트 행거 타입 T 다이로부터 용융 압출하여, 두께 80㎛ 의 편광자 보호 필름 (5) 를 얻었다.
얻어진 편광자 보호 필름 (5) 에 대하여, 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율을 측정하였다. 결과를 표 2 에 나타냈다.
〔실시예 6〕
35 부의 메타크릴산메틸 (MMA), 10 부의 2-(히드록시메틸)아크릴산메틸 (MHMA), 2.5 부의 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]-2H-벤조트리아졸 (오오츠카 화학 제조, 상품명 : RUVA-93), 2.5 부의 스티렌 (St) 을 주입한 것 이외에는 실시예 5 와 동일한 실험을 실시하여, 투명한 펠릿 (6) 을 얻었다. 얻어진 펠릿 (6) 의 분석 결과를 표 2 에 나타냈다.
얻어진 펠릿 (6) 으로부터, 실시예 5 와 동일하게 하여 두께 80㎛ 의 편광자 보호 필름 (6) 을 얻었다. 얻어진 편광자 보호 필름 (6) 에 대하여, 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율을 측정하였다. 결과를 표 2 에 나타냈다.
〔실시예 7〕
실시예 5 에서 얻어진 펠릿 (5)/아크릴로니트릴-스티렌 공중합체 (AS 수지) = 90/10 의 중량비로 단축 압출기 (φ= 30㎜) 를 사용하여 혼련함으로써, 투명한 펠릿 (7) 을 얻었다. 얻어진 펠릿 (7) 의 분석 결과를 표 2 에 나타냈다.
얻어진 펠릿 (7) 로부터, 실시예 5 와 동일하게 하여 두께 80㎛ 의 편광자 보호 필름 (7) 을 얻었다. 얻어진 편광자 보호 필름 (7) 에 대하여, 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율을 측정하였다. 결과를 표 2 에 나타냈다.
〔실시예 8〕
교반 장치, 온도 센서, 냉각관, 질소 도입관을 부착한 30ℓ 반응 용기에, 13.25 부의 메타크릴산메틸 (MMA), 6.25 부의 N-시클로헥실말레이미드 (CHMI), 2.5 부의 2-[2'-히드록시-5'-(메타크릴로일옥시에틸)페닐]-2H-벤조트리아졸 (오오츠카 화학 제조, 상품명 : RUVA-93), 25 부의 톨루엔을 주입하고, 이것에 질소를 통하게 하면서 100℃ 까지 승온시키고, 환류시킨 시점에서, 개시제로서 0.015 부의 t-부틸퍼옥시이소프로필카보네이트 (가야쿠 아쿠조사 제조, 상품명 : 카야카르본 BIC-75) 를 첨가하였다.
계속해서, 상기 반응조에 대하여, 15.75 부의 메타크릴산메틸, 6.25 부의 N-시클로헥실말레이미드, 6 부의 스티렌, 25 부의 톨루엔, 0.081 부의 t-부틸퍼옥시이소프로필카보네이트의 혼합물을 미리 질소 가스로 버블링시켜 두고, 3.5 시간 동안 적하하고, 환류하 (약 110℃) 에서 용액 중합을 실시하고, 추가로 3.5 시간 동안 숙성시켰다.
이 중합액을 배럴 온도 240℃ 에서 컨트롤한 실시예 1 에 기재된 2 축 압출기에 공급하고, 펜트로로부터 진공 탈휘하고, 압출된 스트랜드를 펠릿화하여, 투명한 펠릿 (8) 을 얻었다. 얻어진 펠릿 (8) 의 분석 결과를 표 2 에 나타냈다.
얻어진 펠릿 (8) 로부터, 실시예 5 와 동일하게 하여 두께 80㎛ 의 편광자 보호 필름 (8) 을 얻었다. 얻어진 편광자 보호 필름 (8) 에 대하여, 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율을 측정하였다. 결과를 표 2 에 나타냈다.
〔비교예 2〕
교반 장치, 온도 센서, 냉각관, 질소 도입관을 부착한 30ℓ 반응 용기에, 40 부의 메타크릴산메틸 (MMA), 10 부의 2-(히드록시메틸)아크릴산메틸 (MHMA), 50 부의 톨루엔을 주입하고, 이것에 질소를 통하게 하면서 105℃ 까지 승온시키고, 환류시킨 시점에서, 개시제로서 0.05 부의 t-아밀퍼옥시 이소노나노에이트 (아르케마 요시토미 제조, 상품명 : 루파솔 570) 를 첨가함과 동시에, 0.10 부의 t-아밀퍼옥시 이소노나노에이트를 2 시간 동안 적하하면서, 환류하 (약 105 ∼ 110℃) 에서 용액 중합을 실시하고, 추가로 4 시간 동안 숙성시켰다.
얻어진 중합체 용액에, 0.05 부의 인산스테아릴/인산디스테아릴 혼합물 (사카이 화학사 제조, 상품명 : Phoslex A-18) 을 첨가하고, 환류하 (약 90 ∼ 110℃) 에서 5 시간 고리화 축합 반응을 실시하였다. 이어서, 상기 고리화 축합 반응으로 얻어진 중합체 용액에 2.5 부의 2-(5-메틸-2-히드록시페닐)벤조트리아졸 (치바 스페셜티 케미컬즈사 제조, 상품명 : 티누빈 P) 을 첨가하고, 충분히 교반한 후, 배럴 온도 260℃, 회전수 100rpm, 감압도 13.3 ∼ 400hPa (10 ∼ 300mmHg), 리어 벤트수 1 개, 포어 벤트수 4 개의 벤트 타입 스크루 2 축 압출기 (φ = 29.75㎜, L/D = 30) 에, 수지량 환산으로 2.0㎏/시간의 처리 속도로 도입하고, 그 압출기 내에서 고리화 축합 반응과 탈휘를 실시하고 압출함으로써, 투명한 펠릿 (C2) 를 얻었다. 얻어진 펠릿 (C2) 의 분석 결과를 표 2 에 나타냈다.
얻어진 펠릿 (C2) 로부터, 실시예 5 와 동일하게 하여 두께 80㎛ 의 편광자 보호 필름 (C2) 를 얻었다. 얻어진 편광자 보호 필름 (C2) 에 대하여, 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율을 측정하였다. 결과를 표 2 에 나타냈다.
〔실시예 9 ∼ 13〕
중합하는 모노머의 조성을 표 1 의 조성으로 한 것 이외에는 실시예 5 와 동일하게 하여 투명한 펠릿 (9) ∼ (13) 을 얻었다. 얻어진 펠릿 (9) ∼ (13) 의 분석 결과를 표 2 에 나타냈다.
얻어진 펠릿 (9) ∼ (13) 으로부터, 실시예 5 와 동일하게 하여 두께 80㎛ 의 편광자 보호 필름 (9) ∼ (13) 을 얻었다. 얻어진 편광자 보호 필름 (9) ∼ (13) 에 대하여, 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율을 측정하였다. 결과를 표 2 에 나타냈다.
〔실시예 14〕
중합하는 모노머를 MMA 37.5 부, MHMA 5 부, RUVA-93 7.5 부로 하고, 고리화 축합 반응의 촉매를 0.05 부의 인산2-에틸헥실 (사카이 화학사 제조 상품명 : Phoslex A-8) 로 한 것 이외에는 실시예 5 와 동일하게 하여 투명한 펠릿 (14) 를 얻었다. 얻어진 펠릿 (14) 의 분석 결과를 표 2 에 나타냈다.
얻어진 펠릿 (14) 로부터, 실시예 5 와 동일하게 하여 두께 80㎛ 의 편광자 보호 필름 (14) 를 얻었다. 얻어진 편광자 보호 필름 (14) 에 대하여, 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율을 측정하였다. 결과를 표 2 에 나타냈다.
〔실시예 15〕
중합하는 모노머를 MMA 35 부, MHMA 5 부, RUVA-93 10 부로 하고, 고리화 축합 반응의 촉매를 0.05 부의 인산2-에틸헥실 (사카이 화학사 제조 상품명 : Phoslex A-8) 로 한 것 이외에는 실시예 5 와 동일하게 하여 투명한 펠릿 (15) 를 얻었다. 얻어진 펠릿 (15) 의 분석 결과를 표 2 에 나타냈다.
얻어진 펠릿 (15) 로부터, 실시예 5 와 동일하게 하여 두께 80㎛ 의 편광자 보호 필름 (15) 를 얻었다. 얻어진 편광자 보호 필름 (15) 에 대하여, 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율을 측정하였다. 결과를 표 2 에 나타냈다.
Figure 112009025149992-PCT00004
본 발명의 편광자 보호 필름 및 편광판은, 각종 화상 표시 장치 (액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, PDP 등) 에 바람직하게 사용할 수 있다.

Claims (14)

  1. 두께 80㎛ 에 있어서의 380㎚ 에서의 광선 투과율이 30％ 이하이고,
    자외선 흡수성 단량체와 (메타)아크릴계 단량체를 함유하는 단량체 조성물을 중합시켜 얻어지는 (메타)아크릴계 수지를 주성분으로서 함유하는 수지 성분을 함유하는 성형 재료를 압출 성형에 의해 성형하여 얻어지는, 편광자 보호 필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 자외선 흡수성 단량체가, 벤조페논계 자외선 흡수성 단량체 및/또는 벤조트리아졸계 자외선 흡수성 단량체인, 편광자 보호 필름.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 단량체 조성물 중에 있어서의 상기 자외선 흡수성 단량체의 함유량이 1 ∼ 30 중량％ 인, 편광자 보호 필름.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 (메타)아크릴계 수지가 락톤고리 구조를 갖는 (메타)아크릴계 수지인, 편광자 보호 필름.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    두께 80㎛ 에 있어서의 b 값이 1.5 미만인, 편광자 보호 필름.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 성형 재료는, 상기 수지 성분 100 중량부에 대하여 0.2 중량부 이상의, 280℃ 에서 20 분간의 가열에 있어서의 중량 감소가 10％ 이하인 산화 방지제를 함유하는, 편광자 보호 필름.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 산화 방지제가 페놀계 산화 방지제를 함유하는, 편광자 보호 필름.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 산화 방지제가, 상기 수지 성분 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 이상의 페놀계 산화 방지제와 0.1 중량부 이상의 티오에테르계 산화 방지제를 함유하는, 편광자 보호 필름.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 산화 방지제가, 상기 수지 성분 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 이상의 페놀계 산화 방지제와 0.1 중량부 이상의 인계 산화 방지제를 함유하는, 편광자 보호 필름.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 압출 성형시의 상기 성형 재료의 온도가 250℃ 이상인, 편광자 보호 필름.
  11. 폴리비닐알코올계 수지로 형성되는 편광자와 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 기재된 편광자 보호 필름을 포함하는 편광판으로서,
    상기 편광자가 접착제층을 개재하여 상기 편광자 보호 필름에 접착되어 이루어지는, 편광판.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 접착제층이 폴리비닐알코올계 접착제로 형성되는 층인, 편광판.
  13. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,
    최외층의 적어도 일방으로서 점착제층을 추가로 갖는, 편광판.
  14. 제 11 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 기재된 편광판을 적어도 1 장 포함하는, 화상 표시 장치.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150015569A (ko) 2013-07-30 2015-02-11 동우 화인켐 주식회사 편광판 및 이의 제조 방법
KR20160111178A (ko) 2015-03-16 2016-09-26 동우 화인켐 주식회사 편광자의 제조 방법

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8824047B2 (en) * 2007-10-24 2014-09-02 Nitto Denko Corporation Polarizing plate, optical film and image display
JP4733680B2 (ja) * 2007-10-31 2011-07-27 日東電工株式会社 光学フィルム用粘着剤、粘着型光学フィルム、その製造方法および画像表示装置
JP2012203328A (ja) * 2011-03-28 2012-10-22 Nippon Shokubai Co Ltd 光学フィルム
CN102269838B (zh) * 2011-07-23 2013-09-04 明基材料有限公司 偏光片及其制造方法
CN103091768A (zh) * 2013-02-07 2013-05-08 京东方科技集团股份有限公司 一种防静电导光板及其制作方法
WO2014204168A1 (ko) * 2013-06-18 2014-12-24 주식회사 엘지화학 다층 광학 필름, 그 제조방법 및 이를 포함하는 편광판
US9171167B2 (en) * 2013-06-20 2015-10-27 The Boeing Company Methods and systems for use in analyzing cyber-security threats in an aviation platform
JP6392516B2 (ja) * 2014-01-16 2018-09-19 株式会社日本触媒 光学部材用熱可塑性樹脂組成物、熱可塑性樹脂組成物の製造方法、ならびに光学フィルム、偏光板および画像表示装置
KR101758432B1 (ko) * 2014-08-29 2017-07-17 삼성에스디아이 주식회사 편광판 및 이를 포함하는 액정표시장치
JP5871408B1 (ja) * 2014-09-19 2016-03-01 日東電工株式会社 偏光板および光学積層体
JP5871407B1 (ja) * 2014-09-19 2016-03-01 日東電工株式会社 偏光板
KR102391053B1 (ko) * 2016-06-14 2022-04-27 주식회사 쿠라레 흑색 필름
KR101935434B1 (ko) * 2016-10-12 2019-01-04 동우 화인켐 주식회사 윈도우 기판, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
JPWO2018123622A1 (ja) * 2016-12-26 2019-11-14 日本ゼオン株式会社 混合物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置および反射防止フィルム、並びに、混合物の製造方法
JP2019077855A (ja) * 2017-10-24 2019-05-23 株式会社日本触媒 （メタ）アクリル系樹脂組成物、ならびにそれを用いた成形品およびフィルム
KR102560099B1 (ko) 2018-03-30 2023-07-26 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3370205B2 (ja) * 1995-04-04 2003-01-27 新日本石油株式会社 透明導電基板
JP2928266B2 (ja) * 1989-05-08 1999-08-03 ポリプラスチックス株式会社 ポリエステル樹脂組成物及び成形品
JPH08239509A (ja) * 1995-03-06 1996-09-17 Fuji Photo Film Co Ltd ポリマーフィルム
JPH09166711A (ja) * 1995-12-15 1997-06-24 Konica Corp 偏光板用保護フィルム及び偏光板
JP2001253025A (ja) * 2000-03-13 2001-09-18 Kimoto & Co Ltd 保護フィルム
JP2001305335A (ja) * 2000-04-18 2001-10-31 Sumitomo Chem Co Ltd 液晶表示装置用部材
JP4352592B2 (ja) * 2000-07-11 2009-10-28 コニカミノルタホールディングス株式会社 セルロースエステルドープ組成物、セルロースエステルフィルムの製造方法、セルロースエステルフィルム及びそれを用いた偏光板
JP4414080B2 (ja) * 2000-10-18 2010-02-10 株式会社日本触媒 透明熱可塑性樹脂積層体
JP2002363420A (ja) * 2001-06-06 2002-12-18 Konica Corp 樹脂組成物、光学フィルム、偏光板、及び表示装置
JP2003155309A (ja) * 2001-09-05 2003-05-27 Toray Ind Inc 耐熱性共重合体およびその製造方法
JP2003103716A (ja) * 2001-09-28 2003-04-09 Kimoto & Co Ltd 表面保護シート
US6767937B2 (en) * 2001-10-03 2004-07-27 Eastman Kodak Company Stabilizer system for polymer components of displays
KR100932873B1 (ko) * 2001-12-10 2009-12-21 데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤 광학용 접착성 폴리에스테르 필름
JP2004034481A (ja) * 2002-07-03 2004-02-05 Fuji Photo Film Co Ltd セルロースアシレートフィルムの製造方法、それにより得られたセルロースアシレートフィルム、およびこのフィルムを用いた偏光板
DE60209252T3 (de) * 2002-10-08 2012-01-05 Borealis Technology Oy Stabilisierte polymerzusammensetzung
JP4158498B2 (ja) * 2002-11-20 2008-10-01 東レ株式会社 共重合体およびその製造方法
JP4926367B2 (ja) * 2003-01-23 2012-05-09 株式会社クラレ 偏光フィルム
JP4326268B2 (ja) * 2003-06-18 2009-09-02 ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社 偏光板及び液晶表示素子
CN100340873C (zh) * 2004-07-29 2007-10-03 长兴化学工业股份有限公司 抗紫外线的光学膜
JP2006215465A (ja) * 2005-02-07 2006-08-17 Nitto Denko Corp 偏光子保護フィルム、偏光板、および画像表示装置
JP2006227090A (ja) * 2005-02-15 2006-08-31 Asahi Kasei Chemicals Corp 偏光板保護フィルム
JP2007017555A (ja) * 2005-07-06 2007-01-25 Nitto Denko Corp 偏光子保護フィルム、偏光板、および画像表示装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150015569A (ko) 2013-07-30 2015-02-11 동우 화인켐 주식회사 편광판 및 이의 제조 방법
KR20160111178A (ko) 2015-03-16 2016-09-26 동우 화인켐 주식회사 편광자의 제조 방법

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