KR20090062445A - 다층 구조를 가지는 화상 형성 장치용 전사벨트 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 열가소성 수지를 포함하는 베이스 층; 및 탄소나노튜브가 분산된 열가소성 수지 복합재로 이루어진 피복층으로 이루어지고, 상기 피복층은 베이스 층의 한 면에 적층된 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치용 전사벨트에 관한 것이다. 상기 화상 형성 장치용 전사벨트는 큰 표면저항률, 우수한 저항 균일성, 균일한 전기 전도성 및 우수한 기계적 물성을 가진다.
탄소나노튜브, 열가소성 수지, 표면 저항, 전기전도도, 화상 성형 장치, 전사벨트, 공압출

Description

다층 구조를 가지는 화상 형성 장치용 전사벨트{Intermediate Transfer Belt Having Multilayered Structure}
발명의 분야
본 발명은 전자사진방식을 이용한 화상 형성 장치, 특히 컬러 복사기, 컬러 레이저 프린터 등의 컬러 화상 형성 장치에 있어서, 감광드럼 위의 토너상(像)을 전사재(종이)에 전사하기 위해서 이용되는 화상 형성 장치용 전사벨트에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 열가소성 수지를 포함하는 베이스 층에 탄소나노튜브가 분산된 열가소성 수지 복합재로 이루어진 피복층이 적층된 다층 구조를 가지는 화상 형성 장치용 전사벨트에 관한 것이다.
발명의 배경
최근 PC, 디지털 비디오, 디지털 카메라, 카메라부착 휴대 전화 등의 정보 기기의 고성능화, 고용량화가 진행되어, 사진이나 화상 등의 컬러 정보가 간편하게 취급할 수 있게 되어 왔다. 또한 출력장치인 프린터의 색채화가 급속히 진행되고 있으며 특히, 컬러 프린터에 대해 고속, 고화질, 컴팩트화, 고 신뢰성의 요구가 높아지고 있다. 이러한 요구들을 달성할 수 있는 중요 부분 중의 하나로 중간 전사 벨트를 들 수 있다.
복사기, 프린터 등의 전자 사진 기기는 색채화에 수반해, 고화질, 고속화, 컴팩트화, 범용 용지 대응이 요구되고 있다. 이것들을 달성하기 위해, 전자 사진 기기의 전사 프로세스에 대해 중간 전사 벨트 방식이 채용되어 반도전성의 중간 전사 벨트가 중요 부품이 되고 있다.
이러한 중간 전사 벨트의 재료로서는 폴리카보네이트(PC), 폴리비닐리덴 플로라이드(PVDF), 폴리 아미드이미드(PAI), 폴리이미드(PI) 수지나 고무(Rubber) 등의 수지가 사용되고 있다. 화상 형성 장치용 전사벨트는 벨트의 둘레방향의 큰 저항률(표면저항률) 및 표면저항률보다는 작은 두께방향의 저항률(체적저항치)를 가질 것 또한 이들 저항률이 벨트면 위의 위치, 사용 환경, 전압 등에 의해 변동되지 않을 것, 벨트의 둘레방향의 인장탄성률이 높을 것, 표면이 평활하고 또한 접촉각이 커서 토너가 벨트로부터 전사재(종이)에 전사되기 쉬울 것(우수한 박리토너성), 감광드럼이나 토너 등을 화학적으로 오염시키지 않을 것(우수한 비오염성), 난연성일 것, 등의 특성이 요구되고 있다.
중간 전사 벨트를 제조하는데 사용되는 반도전성 열가소성 수지 조성물은 통상적으로 열가소성 수지에 카본블랙 등의 전도성 첨가제를 혼합, 분산시켜 제조된다. 그러나, 상기 카본 블랙과 같은 전도성 첨가제의 경우, 상당량이 첨가되지 않 는 한 (중량 대비 10 % 이상) 반도전성 열가소성 수지의 전기 전도성을 원하는 정도로 충분히 확보하기 어려우며 다량의 전도성 첨가제를 첨가하면 상기 전기 전도성 열가소성 수지의 기본적 물성, 예를 들어, 내충격성, 탄성율 등의 기계적 물성이 크게 저하될 수 있다.
일본특허등록 제2,560,727호에서는 폴리이미드에 카본 블랙을 분산시켜 전사벨트에 이용하는 방법을 소개하였다. 그러나 상기 방법은 10 중량% 이상의 카본 블랙의 분산을 위하여 용액상태로 제조해야하는 번거로움이 있다.
미국특허등록 제5,021,036호의 경우 폴리카보네이트에 5-20 중량%의 아세틸렌 블랙 등을 분산시켜 전사벨트를 얻었으나, 상기 전사벨트는 고함량 필러의 분산 문제와 물성저하가 수반된다.
미국특허등록 제4,559,164호는 방향족 폴리카보네이트(polycarbonate)와 폴리알킬렌 테레프탈레이트(polyalkylene terephthalate) 및 카본 블랙을 특정 비율로 블랜딩하여 전도성 수지를 제조하는 방법을 개시한다. 하지만 상기 특허에는 시트 또는 필름에 대한 언급은 없다.
미국특허등록 제4,876,033호는 폴리카보네이트(polycarbonate)와 폴리알킬렌 테레프탈레이트(polyalkylene terephthalate)에 카본 블랙과 그래파이트(graphite)를 혼합하여 블랜딩한 후, 이를 시트로 제조하는 방법을 개시하고 있다. 상기 미국특허등록 제4,559,164호 및 제4,876,033호에 언급된 수지는 모두 파단 점 신률이 20 % 미만이므로 필름 성형용으로 사용하기에는 적합하지 못하다.
다층 구조의 필름을 형성하여 전사벨트로 응용하고자 한 예는 미국특허공개 번호 제2007/0116958호 A1에 언급되었다. 상기의 공개된 특허에서도 공압출의 방법으로 필름을 제조하는 방법을 제시하였으나 다량의 카본 블랙이 함유된 필름층과 베이스 필름층과의 높은 충격강도 등의 물성 차이로 인하여 접합이나 구부림 등에 취약하다.
일반적으로 전사벨트를 이루는 필름은 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 또는 불소수지 등의 수지에 카본 블랙의 함량을 10∼20 중량% 정도 분산시켜 얻을 수 있다. 그러나 이와 같이 과도한 양의 카본 블랙을 사용할 경우, 균일한 분산이 어렵고 전사벨트용 필름으로 사용하고자 하는 필름의 기본적인 물리적 특성이 감소하는 단점이 있다.
따라서, 본 발명자들은 상기의 문제점들을 해결하기 위하여, 소량의 전도성 분산제로도 높은 전도성이 구현되고 분산성이 우수하며, 기존의 고분자 수지가 가지는 점성 및 탄성 특성을 저해하지 않으며, 균일한 저항 특성, 박리 토너성 및 비오염성 등의 특성을 구비한 다층 구조를 가지는 화상 형성 장치용 전사벨트를 개발하기에 이른 것이다.
본 발명의 목적은 균일한 저항 특성과 우수한 전도성을 갖는 다층 구조의 화상 형성 장치용 전사벨트를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 다른 목적은 기계적 물성을 유지하면서 전기 전도성이 우수한 다층 구조의 화상 형성 장치용 전사벨트를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 큰 표면저항률과 우수한 분산성을 가지는 다층 구조의 화상 형성 장치용 전사벨트를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 박리 토너성과 비오염성이 우수한 다층 구조의 화상 형성 장치용 전사벨트를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 베이스 층을 여러 종류의 고분자 수지로 사용할 수 있어 필름에 유연성을 부여하여 구겨짐 등의 취급상 불편을 감소시킬 수 있는 다층 구조의 화상 형성 장치용 전사벨트를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 전도성 필러를 피복 층에만 투입하므로 전도성 필러 사용량을 감소시켜 궁극적으로 필름의 제조 가격을 낮출 수 있는 다층 구조의 화상 형성 장치용 전사벨트를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 피복층의 두께를 조절하여 필름의 전도도를 조절할 수 있어 다양한 용도의 전사벨트에 응용이 가능한 다층 구조의 화상 형성 장치용 전사벨트를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 상기 및 기타의 목적은 하기 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다.
발명의 요약
본 발명은 (A) 열가소성 수지를 포함하는 베이스 층; 및 (B) 탄소나노튜브가 분산된 열가소성 수지 복합재로 이루어진 피복층으로 이루어지고, 상기 피복층(B) 은 베이스 층(A)의 한 면에 적층된 구조를 가지는 화상 형성 장치용 전사벨트에 관한 것이다.
상기 피복층(B)은 열가소성 수지 95∼99.9 중량%와 탄소나노튜브 0.1∼5 중량%를 포함하여 이루어진다.
상기 탄소나노튜브는 직경이 0.5∼100 nm이며, 길이는 0.01∼100 μm이며, 종횡비(L/D)가 100∼1,000이다.
본 발명에 따른 전사벨트는 인가 전압 100 내지 250V에서 표면 저항값이 1×108∼1×1012 Ω/sq이고, 50∼150 ㎛ 범위의 두께를 가진다.
이하, 본 발명의 다층 구조를 가지는 화상 형성 장치용 전사벨트 수지 조성물의 각 성분에 대하여 다음과 같이 상세히 설명한다.
발명의 구체예에 대한 상세한 설명
(A) 베이스 층
본 발명의 베이스 층(A)은 압출 또는 사출 성형이 가능한 임의의 열가소성 수지를 사용할 수 있으며, 열가소성 범용 플라스틱과 열가소성 엔지니어링 플라스틱을 제한없이 사용할 수 있다.
상기 베이스 층(A)에 사용되는 열가소성 수지의 예로는 폴리올레핀수지, 폴리아세탈 수지, 아크릴계 수지, 폴리메타크릴계 수지, 폴리카보네이트 수지, 스티 렌계 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리아릴설폰 수지, 폴리에테르이미드 수지, 폴리에테르설폰 수지, 불소화 비닐리덴 수지, 폴리설폰 수지 및 액정중합체 수지를 들 수 있다. 상기 수지는 단독 또는 2종 이상의 공중합체 또는 혼합물의 형태로 사용될 수 있다.
또한, 상기 베이스 층 열가소성 수지의 물성 또는 적용되는 제품의 종류 등을 고려하여, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 에틸렌과 비닐아세테이트의 공중합체 수지, 에틸렌과 메틸메타아크릴레이트의 공중합체 수지 등의 폴리올레핀 수지; 스티렌계 수지; 또는 폴리아미드 수지, 폴리에틸렌 테레프탈레이트나 폴리부틸렌 테레프탈레이트와 같은 폴리에스테르 수지 또는 폴리카보네이트 수지 등의 열가소성 엔지니어링 플라스틱을 사용하는 것이 바람직하다. 그러나, 상기 열가소성 수지가 이에 제한되어 사용되는 것은 아니며, 다른 종류의 열가소성 수지를 사용할 수도 있음은 물론이다.
바람직하게는 폴리카보네이트 또는 융점 200℃ 이상의 열가소성 고무(thermoplastic elastomer) 또는 이들의 공중합체를 사용할 수 있다. 상기 열가소성 고무에는 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리에테르, 폴리올레핀, 폴리우레탄, 스티렌, 아크릴 계통 등이 포함된다.
상기 열가소성 수지에는 반응 안정제, 에스테르 교환반응 억제제, 자외선 흡수제, 열안정제, 산화방지제, 난연제, 활제, 염료, 안료, 무기 필러, 가소제, 충격보강제 등의 첨가제가 더 포함될 수 있다. 상기 첨가제는 열가소성 수지 100 중량부에 대하여, 10 중량부 이하, 바람직하게는 0.001 내지 10 중량부의 범위로 포함 될 수 있다.
(B) 피복층
본 발명의 피복층(B)은 베이스 층(A)의 한 면에 적층된 구조를 갖는다.
상기 피복층(B)은 탄소나노튜브가 분산된 열가소성 수지 복합재로 이루어진다. 본 발명에서는 상기 피복층(B)은 열가소성 수지 95∼99.9 중량%와 탄소나노튜브 0.1∼5 중량%를 포함하여 이루어진다.
상기 피복층에 사용되는 열가소성 수지로는 압출 또는 사출 성형이 가능한 임의의 열가소성 수지가 사용될 수 있고, 열가소성 범용 플라스틱과 열가소성 엔지니어링 플라스틱을 제한없이 사용할 수 있다. 예를 들어, 폴리올레핀수지, 폴리아세탈 수지, 아크릴계 수지, 폴리메타크릴계 수지, 폴리카보네이트 수지, 스티렌계 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리아릴설폰 수지, 폴리에테르이미드 수지, 폴리에테르설폰 수지, 불소화 비닐리덴 수지, 폴리설폰 수지 및 액정중합체 수지를 들 수 있다. 상기 수지는 단독 또는 2종 이상의 공중합체 또는 혼합물의 형태로 사용될 수 있다.
상기 탄소나노튜브가 분산된 열가소성 수지 복합재의 물성 또는 적용되는 제품의 종류 등을 고려하여, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 에틸렌과 비닐아세테이트의 공중합체 수지, 에틸렌과 메틸메타아크릴레이트의 공중합체 수지 등의 폴리올레핀 수지; 스티렌계 수지; 또는 폴리아미드 수지, 폴리에틸렌 테레프탈레이트나 폴리부틸렌 테레프탈레이트와 같은 폴리에스테르 수지 또는 폴리카보네이트 수지 등의 열가소성 엔지니어링 플라스틱을 사용하는 것이 바람직하다. 그러나, 상기 열가소성 수지가 이에 제한되어 사용되는 것은 아니며, 다른 종류의 열가소성 수지를 사용할 수도 있음은 물론이다.
본 발명의 하나의 구체예에서는 상기 열가소성 수지로 폴리카보네이트 수지가 사용된다. 상기 폴리카보네이트 수지의 중량 평균 분자량은 15,000∼50,000g/mol이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 20,000∼40,000g/mol이다.
상기 폴리카보네이트 수지로는 선형 폴리카보네이트 수지 뿐만 아니라, 분지형 폴리카보네이트 수지 또는 폴리에스테르카보네이트 공중합체 수지를 제한없이 사용할 수 있다. 이때, 상기 분지형 폴리카보네이트 수지는 상기 디페놀 화합물의 전량에 대해 0.05∼2몰%의 3가 또는 그 이상의 다관능 화합물, 예를 들어, 3가 또는 그 이상의 페놀기를 화합물을 첨가하여 제조할 수 있다. 또한, 상기 폴리에스테르카보네이트 공중합체 수지는 에스테르 전구체, 예를 들어, 2 관능 카르복실산의 존재 하에 중합 반응을 진행하여 제조할 수 있으며, 이러한 폴리에스테르카보네이트 공중합체 수지를 단독으로 사용하거나 다른 폴리카보네이트 수지와 혼합하여 사용할 수도 있다. 또한, 상기 폴리카보네이트 수지로는 호모 폴리카보네이트 수지 또는 코폴리카보네이트 수지를 제한없이 사용할 수 있고, 이들의 혼합물을 사용할 수도 있다.
본 발명의 다른 구체예에서는 상기 열가소성 수지로 폴리부틸렌 테레프탈레이트 수지가 사용될 수 있다. 상기 폴리부틸렌 테레프탈레이트 수지는 1,4-부탄디올과 테레프탈산 또는 디메틸 테레프탈레이트를 직접 에스테르화 반응 또는 에스테 르 교환반응을 하여 축중합하여 제조되는 것으로 상업적 구입이 용이하다. 본 발명의 또 다른 구체예에서는 수지의 충격강도를 높이기 위하여 폴리부틸렌 테레프탈레이트를 폴리테트라메틸렌글리콜(PTMG), 폴리에틸렌글리콜(PEG), 폴리프로필렌글리콜(PPG), 저분자량 지방족 폴리에스테르 또는 지방족 폴리아미드로 공중합하거나 충격향상성분을 블렌딩한 변성 폴리부틸렌 테레프탈레이트로의 형태로 사용할 수 있다.
본 발명에 사용되는 폴리부틸렌 테레프탈레이트는 o-클로로 페놀 25℃로 측정시 고유점도[η]가 0.36∼1.6 인 것이 바람직하고, 0.52∼1.25인 것이 보다 바람직하다. 상기 고유점도 범위 내에서 기계적 특성과 성형성의 물성밸런스가 보다 우수하다.
본 발명에서는 피복층(B)의 전도성 분산제로 높은 기계적 강도와 높은 영스모듈러스(Young's Modulus)와 높은 종횡비(aspect ratio)의 기계적 특성을 가지는 탄소나노튜브를 사용한다. 일반적으로 탄소나노튜브는 높은 전기 전도성과 높은 열안정성을 가지므로, 이러한 탄소나노튜브를 고분자 복합체에 응용하면 기계적, 열적, 전기적 특성이 향상된 탄소나노튜브-고분자 복합체를 제조할 수 있다.
상기 탄소나노튜브를 합성하는 방법은 전기 방전법(Arc-discharge), 레이저 어블레이션법(Laser ablation), 플라즈마 화학기상증착법(plasma chemical vapor deposition), 열화학 기상증착법(Thermal chemical vapor deposition), 전기분해법 등이 있으며, 본 발명에서 사용된 탄소나노튜브는 상기 합성 방법에 관계없이 얻어진 탄소나노튜브들 모두가 사용될 수 있다.
상기 탄소나노튜브는 그 벽의 개수에 따라 단일벽 탄소나노튜브(single wall carbon nanotube), 이중벽 탄소나노튜브(double wall carbon nanotube), 다중벽 탄소나노튜브(multi wall carbon nanotube)로 나눌 수 있는데, 본 발명에서 사용되는 탄소나노튜브는 그 종류에 제한을 두지 않으나, 다중벽 탄소나노튜브를 사용하는 것이 경제성과 가공성 면에서 바람직하다.
본 발명에서 사용되는 탄소나노튜브의 크기는 직경 0.5∼100 nm인 것이 바람직하며, 1∼10 nm인 것이 더욱 바람직하다. 길이는 0.01∼100 μm인 것이 바람직하며, 0.5∼10 μm 인 것이 보다 바람직하다. 상기 직경과 길이 범위 내에서 전기전도성이 보다 바람직하다.
본 발명에서 사용되는 탄소나노튜브는 상기와 같은 크기로 인하여 종횡비(L/D)가 크며, 종횡비 (L/D)가 100 이상인 것이 바람직하며, 100 내지 1,000인 것이 보다 바람직하다. 상기 종횡비 내에서 전기전도성이 보다 바람직하다.
본 발명의 열가소성 수지 복합재에 포함되는 탄소나노튜브의 함량은 0.1 중량% 내지 5 중량%, 바람직하게는 0.3 중량% 내지 3 중량%, 가장 바람직하게는 0.5 중량% 내지 2.5 중량%이다. 만일 탄소나노튜브가 0.1 중량% 미만으로 사용되는 경우 충분한 전도성을 얻을 수 없으며, 5 중량%를 초과하여 사용되는 경우, 분산성이 저하될 수 있으며, 수지 고유의 물성이 저하될 수 있다.
상기 탄소나노튜브가 분산된 열가소성 수지 복합재에는 반응 안정제, 에스테르 교환반응 억제제, 자외선 흡수제, 열안정제, 산화방지제, 난연제, 활제, 염료, 안료, 무기 필러, 가소제, 충격보강제 등의 첨가제가 더 포함될 수 있다. 상기 첨 가제는 열가소성 수지 100 중량부에 대하여 10 중량부 이하, 바람직하게는 0.001 내지 10 중량부의 범위로 포함될 수 있다.
다층 구조를 가지는 반도전성 전사벨트의 제조
상기에서 설명한 베이스 층을 구성하는 열가소성 수지와 탄소나노튜브가 분산되어 있는 열가소성 수지 복합재는 전사벨트로 제조하기 위하여 공지의 방법으로 제조할 수 있다.
예를 들면, 본 발명의 구성성분과 기타 첨가제들을 혼합한 후, 압출기 내에서 용융 압출하고 각각 펠렛(pellet)의 형태로 제조할 수 있다. 베이스 층의 열가소성 수지는 직경 65 mm, L/D=36의 1축 압출기를 이용하고 용융한다. 피복층의 탄소나노튜브가 분산된 열가소성 수지 복합재는 직경 40 mm, L/D=36의 1축 압출기를 이용하여 용융한다. 두 수지는 피드 블록(feed block)을 통해 적층되어 환 형태의 다이가 부착된 일축 압출기에 투입하고 다이 입구에서 녹아 있던 수지 조성물은 환 형태의 다이를 통해 냉각 시스템을 거치면서 고형화되고 실린더 형태의 전사벨트를 얻을 수 있다. 이와 같은 경우, 비정질화를 위하여 몰드에서 빠져나온 수지는 물, 공기 또는 냉각장치 등을 이용하여 빠르게 냉각시킨다. 보다 구체적으로는, 압출기에서 빠져나온 수지는 원하는 형태인 실린더 모양의 형태를 갖추며 금속 몰드와 냉각장치를 거치는데 이때 수지가 지니고 있는 열을 흡수하여 모양의 변형 및 결정화도를 낮춘다. 또한 금속 몰드에서 빠져나오는 수지는 얇은 필름 형태의 실린더 모양으로 만들기 위해 일정한 속도로 잡아당기며 그 속도는 1 m/min에서 7 m/min이 적당하다.
상기와 같이 제조된 반도전성 전사벨트는 두께가 50∼150 ㎛인 것이 바람직하고, 80∼120 ㎛인 것이 보다 바람직하다.
본 발명에서 탄소나노튜브가 분산된 열가소성 수지 복합재로 이루어진 피복층(B)의 두께는 탄소나노튜브의 함량에 따라 변화될 수 있다. 탄소나노튜브의 함량이 동일할 경우, 피복층(B)의 두께가 두꺼울수록 투명도가 저하될 수 있으므로 탄소나노튜브의 함량에 따라 피복층(B)의 두께를 적절히 설계한다. 본 발명에서는 상기 피복층(B)의 두께는 바람직하게는 0.2∼30㎛ 의 범위로 사용할 수 있다.
한 구체예에서는 상기 피복층(B)의 탄소나노튜브 함량이 2.5∼5 중량%일 경우, 피복층의 두께는 0.15∼3㎛, 바람직하게는 0.2∼2㎛의 범위로 사용할 수 있다. 다른 구체예에서는 상기 피복층(B)의 탄소나노튜브 함량이 1∼2.4 중량%일 경우, 피복층의 두께는 2∼25㎛, 바람직하게는 2∼10㎛의 범위로 사용할 수 있다. 피복층의 두께가 상기 범위 내일 때, 전도도가 우수하고, 베이스층의 높은 물성이 유지되어 화상형성 장치용 전사벨트에 바람직하게 적용될 수 있다.
상기 반도전성 전사벨트는 인가 전압 100 내지 250V에서 표면 저항값이 1×108∼1×1012 Ω/sq 인 것이 바람직하고, 1×109∼1×1011 Ω/sq인 것이 보다 바람직하다.
상기 다층 구조를 가지는 전사벨트의 표면 저항은 탄소나노튜브의 함량과 필름 가공 속도 조절을 통해 조절이 가능하다.
다층구조로 제조된 전사벨트용 필름의 경우, 베이스 층을 여러 종류의 고분자 수지로 변경이 용이하다. 따라서 필름에 유연성을 부여하여 구겨짐 등의 취급상 불편 또는 불량 감소에 도움을 줄 수 있다. 또한, 전도성 필러를 피복 층에만 투입할 수 있으므로 전도성 필러 사용량이 감소하여 필름의 제조 가격을 낮출 수 있다. 또한 피복층의 두께를 조절하여 필름의 전도도를 조절할 수 있어 다양한 용도의 전사벨트에 응용이 가능하다는 장점이 있다.
본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 더 잘 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명의 예시 목적을 위한 것이며 첨부된 특허청구범위에 의하여 한정되는 보호범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.
실시예
하기의 실시예 및 비교실시예에서 사용된 각 성분 및 첨가제의 사양은 다음과 같다.
(A) 베이스 층 : 폴리카보네이트 수지인 Teijin의 Panlite 1250WP를 사용하였다.
(B) 피복층
(B1) 열가소성 수지
(B12) 폴리카보네이트 : 중량평균분자량(Mw) 25,000인 비스페놀-A형의 폴리카보네이트를 사용하였다(Teijin L-1225wx).
(B12) 폴리부틸렌 테레프탈레이트 : 1,4-부탄디올과 테레프탈산 또는 디메틸 테레프탈레이트를 직접 에스테르화 반응 또는 에스테르 교환반응을 하여 축중합한 중합체를 사용하였으며, 고유점도가 1.0인 폴리부틸렌 테레프탈레이트를 사용하였다(Chang Chun PBT1200-211H).
(B2) 전도성 분산제
(B21) 탄소나노튜브 : 벨기에 Nanocyl 사의 NC 7000 제품으로 두께 10∼15 nm, 길이 1∼25 ㎛인 다중벽 탄소나노튜브를 사용하였다.
(B22) 카본블랙: Mitsubishi Chemical의 Ketjen black 600JD를 사용하였다.
실시예 1∼11
상기 표 1에 나타낸 조성으로 각 성분을 혼합한 후에, 통상적으로 고분자 재료의 혼합에 사용되는 혼합기(mixer)에서 혼합하였다. 그 다음, L/D=36, φ=45㎜ (압출기 구경)인 이축 압출기에 상기 혼합물을 투입하여 펠렛 형태의 수지 조성물로 제조하였다. 얻어진 탄소나노튜브가 함유된 수지 조성물(B)과 베이스 필름(A)으로 사용될 열가소성 수지를 환 형태의 다이가 부착된 일축 압출기의 각기 다른 투입구에 투입하고 토출량을 조절하여 각각의 수지들이 충분히 녹은 후, 다이 입구에서 만나게 하였다. 다이 입구에서 녹아 있던 수지 조성물은 환 형태의 다이를 통해 냉각 시스템을 거치면서 고형화되고 실린더 형태의 전사벨트를 얻을 수 있었다. 상기 전사벨트의 표면 저항, 투명도 및 두께를 측정하여 표 1에 나타내었다.
비교실시예 1∼2
탄소나노튜브 대신 카본 블랙을 사용하고, 하기 표 1에 나타낸 조성으로 각 성분을 혼합하여 혼합물을 제조한 후, L/D=36, φ=45㎜ (압출기 구경)인 이축 압출기에 상기 혼합물을 투입하여 펠렛 형태의 수지 조성물로 제조하였다. 얻어진 수지 복합체를 환 형태의 다이가 부착된 일축 압출기에 투입하고 다이 입구에서 녹아 있던 수지 조성물은 환 형태의 다이를 통해 냉각 시스템을 거치면서 고형화되어 실린더 형태의 전사벨트를 제조할 수 있었다. 상기 전사벨트의 표면 저항, 투명도 및 두께를 측정하여 표 1에 나타내었다.
상기에서 제조된 전사벨트에 대해 하기의 방법으로 물성을 평가하였으며, 평가 결과는 표 1에 나타내었다.
1) 표면 저항(Ω/sq): Mitsubishi chemical의 Hiresta UP (MCP-HT450) 을 사용하여 통상의 4점법 방식으로 측정하였다.
2) 두께(㎛): contact type measuring 장치 (Mitutoyo사의 micrometer)를 사용하여 측정하였다.
3) 투명도 : UV/Vis 분광 광도계를 이용하여 550 nm에서의 필름의 흡광도를 측정하였다.
[표 1]
Figure 112007089587996-PAT00001
카본 블랙만 사용한 비교실시예 1의 경우, 필름 형성 후 표면 저항은 약 1010 Ω/sq 정도를 나타내었으나 그 정도의 표면 저항을 발현하기 위해서는 고 함량인 18 %의 카본 블랙이 첨가 되어야함을 알 수 있었다. 실시예 3의 경우, 3 % 탄소나노튜브를 사용한 수지 조성물을 사용하였으나 매우 얇은 1 ㎛ 정도에서 108 Ω/sq 정도의 표면 저항을 가지는 필름의 제조가 가능하고, 필요한 경우 일정한 투명도 유지도 가능한 것을 확인할 수 있다. 또한, 2 %의 탄소나노튜브를 사용한 수지 조성물을 사용하여 공압출한 실시예 10 및 11의 경우, 수 ㎛의 두께에서 1010 Ω/sq 정도의 표면 저항 발현이 가능한 것을 알 수 있다. 이것은 CNT 함량이 3%에서 2%로 낮아지면서 필름에 함유된 CNT의 양이 감소하여 3% CNT 피복층은 1 ㎛ 정도에서 적절한 전기 전도도를 나타내는 반면, 2% CNT가 함유된 피복층은 동일한 전도도를 위 하여 보다 두꺼운 수 ㎛ 정도의 두께가 형성되어야함을 알 수 있다. 실시예의 결과로부터 고분자 매트릭스에 탄소나노튜브를 혼합하였을 경우, 카본 블랙에 비하여 소량의 탄소나노튜브 첨가만으로 우수한 전도성을 나타내었으며, 다량의 첨가제 사용으로 인한 기계적 물성의 저하를 예방할 수 있다는 것을 관찰할 수 있었다. 또한 탄소나노튜브 복합체 필름이 라미네이트 되어있는 형식이라 매우 소량의 탄소나노튜브를 사용하여 필름 제조가 가능하고 열가소성 수지 층의 소재 변경이 용이하여 여러 가지 소재로의 접근이 가능하다.
상기의 결과로 볼 때 본 발명의 실시예들에 따른 전기 전도성 열가소성 수지 조성물을 이용하여 화상 형성용 전사벨트로의 응용이 가능함을 알 수 있다.
본 발명은 기계적 물성을 유지하면서 소량의 탄소나노튜브를 첨가하여 우수한 전기 전도성과 분산성 및 큰 표면저항률을 가지는 다층 구조의 화상 형성 장치용 전사벨트를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.

Claims (8)

  1. (A) 열가소성 수지를 포함하는 베이스 층; 및
    (B) 탄소나노튜브가 분산된 열가소성 수지 복합재로 이루어진 피복층;
    으로 이루어지고, 상기 피복층(B)은 베이스 층(A)의 한 면에 적층된 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치용 전사벨트.
  2. 제1항에 있어서, 상기 피복층(B)은 열가소성 수지 95∼99.9 중량%와 탄소나노튜브 0.1∼5 중량%를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치용 전사벨트.
  3. 제2항에 있어서, 상기 탄소나노튜브는 직경이 0.5∼100 nm이며, 길이는 0.01∼100 μm이며, 종횡비(L/D)가 100∼1,000인 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치용 전사벨트.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 열가소성 수지는 폴리올레핀수지, 폴리아세탈 수지, 아크릴계 수지, 폴리메타크릴계 수지, 폴리카보네이트 수지, 스티렌계 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리아릴설폰 수지, 폴리에테르이미드 수지, 폴리에테르설폰 수지, 불소화 비닐리덴 수지, 폴리설폰 수지 및 액정중합체 수지, 이들의 2종 이상의 공중합체 또는 혼합물인 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치용 전사벨트.
  5. 제4항에 있어서, 상기 열가소성 수지는 반응 안정제, 에스테르 교환반응 억제제, 자외선 흡수제, 열안정제, 산화방지제, 난연제, 활제, 염료, 안료, 무기 필러, 가소제 및 충격보강제로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 첨가제를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치용 전사벨트.
  6. 제1항에 있어서, 상기 전사벨트는 인가 전압 100 내지 250V에서 표면 저항값이 1×108∼1×1012 Ω/sq인 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치용 전사벨트.
  7. 제1항에 있어서, 상기 전사벨트는 두께가 50∼150 ㎛인 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치용 전사벨트.
  8. 베이스 층을 형성하는 열가소성 수지 펠렛과 피복층을 형성하는 탄소나노튜브가 분산된 열가소성 수지 복합재 펠렛을 환 형태의 다이가 부착된 압출기의 각기 다른 투입구에 투입하여 공압출하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치용 전사벨트의 제조방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170086854A (ko) * 2016-01-19 2017-07-27 에스케이이노베이션 주식회사 반도전체 형성용 수지 조성물 및 이를 이용해 형성된 반도전체

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100856137B1 (ko) * 2007-08-08 2008-09-02 제일모직주식회사 전기전도성 열가소성 수지 조성물 및 그 성형품
JP2009155506A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Sumitomo Rubber Ind Ltd 導電性エラストマー材料、該材料からなる導電性シートおよび導電性シームレスベルト
KR101269422B1 (ko) 2009-12-30 2013-06-04 제일모직주식회사 내마모성 및 전기전도성이 우수한 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 그 제조방법
US8426026B2 (en) 2010-04-07 2013-04-23 Xerox Corporation Intermediate transfer member comprising a toughened fluoroplastic composite surface layer
US8494421B2 (en) * 2011-02-10 2013-07-23 Xerox Corporation Seamless intermediate transfer belt
KR101091866B1 (ko) * 2011-04-29 2011-12-13 (주)영진테크 전도성 폴리에테르설폰수지조성물 및 이를 이용한 전도성 폴리에테르설폰수지의 제조방법
CN107003629B (zh) 2014-09-26 2021-06-18 惠普印迪戈股份公司 用于印刷导电迹线的含有低对称性导电材料的液体调色剂
JP6800096B2 (ja) * 2017-06-19 2020-12-16 株式会社ブリヂストン 導電性エンドレスベルト
JP2019185019A (ja) * 2018-03-30 2019-10-24 キヤノン株式会社 画像形成装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5629094A (en) * 1994-01-31 1997-05-13 Canon Kabushiki Kaisha Image transfer medium carrier member and image forming apparatus incorporating the same
US5795500A (en) * 1997-03-03 1998-08-18 Xerox Corporation Electrically conductive coatings comprising fluorinated carbon filled fluoroelastomer
JP2001242725A (ja) * 2000-03-01 2001-09-07 Fuji Xerox Co Ltd 中間転写体及び画像形成装置
US6806015B2 (en) * 2001-02-06 2004-10-19 Konica Corporation Image forming method using flattened spheroidal toner
US6946410B2 (en) * 2002-04-05 2005-09-20 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for providing nano-structures of uniform length
JP2004279917A (ja) 2003-03-18 2004-10-07 Minolta Co Ltd 画像形成装置用導電性部品及び画像形成装置
JP4304047B2 (ja) 2003-10-31 2009-07-29 住友ゴム工業株式会社 導電性ベルトおよび導電性ベルトの製造方法
KR20070058443A (ko) * 2004-08-04 2007-06-08 스미토모덴코파인폴리머 가부시키가이샤 화상형성장치용 전사벨트
JP2006276538A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Kyocera Mita Corp 中間転写ベルトおよび画像形成装置
JP5109168B2 (ja) * 2006-03-10 2012-12-26 株式会社アイ．エス．テイ 発熱定着ベルト及びその製造方法並びに画像定着装置
US20080152895A1 (en) * 2006-12-21 2008-06-26 Kock-Yee Law Carbon nanotubes for transfer belt applications

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170086854A (ko) * 2016-01-19 2017-07-27 에스케이이노베이션 주식회사 반도전체 형성용 수지 조성물 및 이를 이용해 형성된 반도전체

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