KR20090036000A - 스핀 헤드 및 이에 사용되는 척 핀, 그리고 상기 스핀헤드를 사용하여 기판을 처리하는 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판을 지지하는 스핀 헤드를 제공한다. 스핀 헤드는 회전 가능한 몸체와 이로부터 상부로 돌출되며 회전시 상기 몸체에 놓인 기판의 측부를 지지하는 척 핀들을 가진다. 척 핀은 상하 방향으로 상기 몸체에 제공된 수직 로드와 상기 수직 로드로부터 측 방향으로 연장되며 회전시 상기 몸체에 놓인 기판의 측부와 접촉되는 지지 로드를 가진다. 기판이 회전될 때, 수직 로드는 기판으로부터 측 방향으로 이격되게 위치된다. 지지 로드는 유선형으로 제공된 측면을 가진다. 지지 로드는 상부에서 바라볼 때, 끝단으로 갈수록 폭이 점진적으로 줄어드는 접촉부를 가진다.
스핀 헤드, 척 핀, 부압

Description

스핀 헤드 및 이에 사용되는 척 핀, 그리고 상기 스핀 헤드를 사용하여 기판을 처리하는 방법{SPIN HEAD, CHUCK PIN USED IN THE SPIN HEAD, AND METHOD FOR TREATING A SUBSTRATE WITH THE SPIN HEAD}
본 발명은 기판 처리를 위한 장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 반도체 공정 등에서 기판을 지지하며 회전 가능한 스핀 헤드 및 이를 이용하여 기판을 처리하는 방법에 관한 것이다.
반도체 공정은 웨이퍼 상에 박막, 이물질, 파티클 등을 식각하거나 세정하는 공정을 포함한다. 이와 같은 공정은 패턴 면이 위 또는 아래를 향하도록 웨이퍼를 스핀 헤드 상에 놓고, 스핀 헤드를 회전시키고, 웨이퍼 상에 처리액을 공급함으로써 이루어진다. 스핀 헤드 상에는 웨이퍼가 스핀 헤드의 측 방향으로 이탈되는 것을 방지하기 위해 웨이퍼의 측부를 지지하는 척 핀들이 설치된다. 척 핀들은 기판이 스핀 헤드 상에 로딩 또는 언 로딩 될 때 기판이 놓이는 공간을 제공하는 대기 위치와 스핀 헤드 상에 놓인 기판이 회전되면서 공정이 수행될 때 기판의 측부와 접촉되는 지지 위치 간에 이동된다.
도 23은 일반적인 구조의 스핀 헤드(900)를 보여준다. 스핀 헤드(900)는 회 전되는 몸체(920), 기판(W)의 하면을 지지하는 지지 핀들(960), 그리고 기판(W)의 측부를 지지하는 척 핀들(940)을 가진다. 척 핀들(940)은 회전 가능한 수직 로드(942)와, 이로부터 상부로 돌출되며 수직 로드(942)에 대해 편심된 지지 로드(944)를 가진다. 처리액은 기판(W)의 상면 중심으로 공급되고, 처리액이 기판의 하면에서 일정 영역 안쪽으로 유입되지 않도록 가스가 기판(W)의 하면에 공급된다.
도 24는 도 23과 같은 구조의 척 핀(940) 사용시 문제점을 보여주는 도면으로, 상부에서 바라본 도면이다. 도 23과 같은 구조의 척 핀(940)은 수직 로드(942)가 기판(W)과 인접하게 위치되고 있고, 지지 로드(944)가 원형으로 제공되어 있다. 따라서 기판(W)이 회전될 때 기판(W)의 중심에서 가장자리를 향하는 기류가 척 핀(940) 근처에서는 척 핀(940)으로 인해 큰 폭으로 벌어지도록 형성된다. 따라서 척 핀(940)과 접촉이 이루어지는 기판(W)의 영역으로 처리액이 원활하게 공급되지 않아, 그 영역에서 공정 불량이 발생된다.
도 25는 도 23과 같은 구조에서 지지 핀(960) 사용시 문제점을 보여주는 도면으로, 기판(W)의 저면에서 바라본 도면이다. 도 23과 같이 기판(W)과 몸체(920) 사이에 지지 핀(960)이 제공되는 경우, 기판(W)의 하면으로 공급되어 외측으로 흐르는 가스는 지지 핀(960)이 제공된 영역에서 일정 폭으로 벌어져 흐른다. 이로 인해 지지 핀(960)이 제공된 영역에서 가스 량의 부족으로 인해 처리액이 설정 영역보다 안쪽으로 기판(W)과 몸체(920) 사이로 유입된다. 이로 인해, 기판(W)의 하면 가장자리의 처리 폭의 균일도가 저하된다. 또한, 척 핀(940)의 수직 로드(942)가 기판(W)의 하면으로 공급된 가스의 흐름을 방해하므로, 수직 로드(942)가 제공되는 영역에서 처리액이 설정 영역보다 안쪽으로 기판(W)과 몸체(920) 사이로 유입된다.
또한, 일반적으로 지지 로드(944)가 대기 위치에서 지지 위치로 이동될 때, 수직 로드들(942)은 단일의 구동 메커니즘에 의해 모두 함께 회전 이동된다. 따라서 척 핀(940) 등의 제조시 가공 공차 등이 있는 경우, 모든 지지 로드들(944)이 지지 위치로 이동되었다 할지라도 일부 지지 로드(944)는 기판(W)의 측부와 접촉되지 않는다. 이는 회전시 기판(W)의 지지가 불안정할 뿐 아니라, 기판(W)과 접촉된 일부 지지 로드들(944)에 힘이 집중되어 지지 로드(944)가 파손되기 쉽다.
또한, 스핀 헤드가 고속으로 회전되는 경우, 지지 위치에 있는 지지 로드들(944)이 원심력에 의해 대기 위치를 향하는 방향으로 이동되고, 이로 인해 기판(W)의 지지가 불안정하다.
본 발명은 기판의 상면 전체 영역으로 처리액을 균일하게 공급할 수 있는 스핀 헤드 및 기판 처리 방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 기판의 상면으로 공급된 세정액을 사용하여 기판의 하면 가장자리를 처리할 때, 기판의 하면 가장자리 영역이 균일하게 처리되도록 하는 스핀 헤드 및 기판 처리 방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 모든 척 핀들이 기판과 접촉을 유지할 수 있는 구조를 가진 스핀 헤드를 제공한다.
또한, 본 발명은 고속 회전시에도 척 핀들이 안정적으로 기판의 측부와 접촉될 수 있는 구조를 가진 스핀 헤드를 제공한다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 기판을 지지하는 스핀 헤드를 제공한다. 상기 스핀 헤드는 회전 가능한 몸체와 상기 몸체로부터 상부로 돌출되며 회전시 상기 몸체에 놓인 기판의 측부를 지지하는 척 핀들을 가진다. 상기 척 핀은 상하 방향으로 상기 몸체에 제공된 수직 로드와 상기 수직 로드로부터 측 방향으로 연장되며 회전시 상기 몸체에 놓인 기판의 측부와 접촉되는 지지 로드를 가진다.
일 실시예에 의하면, 상기 지지 로드는 그 끝단까지 연장되며 상부에서 바라 볼 때 폭이 감소 되도록 형상 지어진 접촉부를 가질 수 있다. 상기 접촉부는 상기 지지 로드의 길이 방향을 따라 라운드진 측면을 가질 수 있다. 또한, 상기 접촉부는 상기 지지 로드의 길이 방향을 따라 유선형으로 제공된 측면을 가질 수 있다. 상기 수평 로드는 그 길이방향을 따라 상기 몸체의 상부 면으로부터 높이가 동일하게 제공될 수 있다. 상기 수평 로드의 끝단은 상부에서 바라볼 때 점으로서 제공될 수 있다.
다른 실시예에 의하면, 상기 지지 로드는 상기 수직 로드로부터 측 방향으로 연장되는 수평 로드와 상기 수평 로드의 끝단으로부터 아래 방향으로 굴곡 지는 접촉 로드를 가진다. 상기 접촉 로드는 그 길이방향을 따라 동일한 단면을 가질 수 있다. 상기 접촉 로드는 그 단면이 상기 수직 로드로부터 멀어지는 방향으로 갈수록 폭이 좁아지도록 형상 지어질 수 있다. 상기 접촉 로드는 유선형으로 제공된 측면을 가질 수 있다. 상기 수직 로드는 단면이 원형으로 제공되며 상부에서 바라볼 때 상기 접촉 로드의 단면의 폭은 상기 수직 로드의 단면의 지름보다 적은 폭으로 제공될 수 있다.
상기 스핀 헤드에는 상기 몸체의 반경 방향을 따라 상기 척 핀들을 이동시키는 척 핀 이동 유닛을 포함될 수 있다. 일 예에 의하면, 상기 척 핀 이동 유닛은 상기 지지 로드와 고정 결합되는 이동 로드들, 회전 가능하며 상기 척 핀이 상기 몸체의 중심으로부터 멀어지는 방향으로 이동될 수 있도록 상기 외측면에 돌기를 가지는 캠, 그리고 상기 척 핀들 각각이 서로 독립적으로 상기 몸체의 중심을 향하는 방향으로 이동되도록 상기 이동 로드 각각에 독립적으로 힘을 인가하는 척 핀 복원기들을 가진다.
상기 척 핀 이동 유닛에는 상기 몸체가 회전시 원심력에 의해 상기 척 핀들이 상기 몸체의 중심으로부터 멀어지는 것을 방지하기 위해 상기 척 핀들을 상기 몸체의 중심을 향하는 방향으로 밀어주는 접촉 유지 부재들이 제공될 수 있다.
상기 몸체에는 그 상부에 놓인 기판을 상기 몸체로부터 이격시키도록 가스를 분사하는 하부 노즐 부재가 형성될 수 있다. 상기 하부 노즐 부재의 분사구는 상기 몸체의 상면에 원형으로 형성될 수 있다. 상기 하부 노즐 부재는 가스 공급관과 연결되며 그 길이방향을 따라 동일한 단면적을 가지는 통로부와 상기 통로부로부터 상부로 연장되어 상기 분사구와 통하며 상부로 갈수록 점진적으로 단면적이 커지는 분사부를 가질 수 있다.
또한, 본 발명은 회전에 의해 기판을 지지하는 스핀 헤드에서 기판의 측부를 지지하기 위해 사용되는 척 핀을 제공한다. 상기 척 핀은 상하 방향으로 배치되는 수직 로드와 상기 수직 로드로부터 측 방향으로 연장되는 지지 로드를 포함한다.
일 예에 의하면, 상기 지지 로드는 그 끝단까지 연장되며 상기 끝단으로 갈수록 폭이 점진적으로 감소되는 접촉부를 가진다. 상기 접촉부는 상기 지지 로드의 길이방향을 따라 라운드진 측면을 가질 수 있다. 또는 상기 접촉부는 유선형으로 제공된 측면을 가질 수 있다. 상기 수평 로드는 그 길이방향을 따라 상기 몸체의 상부 면으로부터 높이가 동일하게 제공될 수 있다.
다른 예에 의하면, 상기 지지 로드는 상기 수직 로드로부터 측 방향으로 연장되는 수평 로드와 상기 수평 로드의 끝단으로부터 아래 방향으로 굴곡 지는 접촉 로드를 포함한다. 상기 접촉 로드는 그 단면이 상기 수직 로드로부터 멀어지는 방향으로 갈수록 폭이 좁아지도록 형상 지어질 수 있다. 상기 접촉 로드는 그 길이방향을 따라 동일한 단면을 가질 수 있다. 상기 접촉 로드는 유선형으로 제공된 측면을 가질 수 있다.
또한, 본 발명은 기판을 처리하는 방법을 제공한다. 본 발명에 의하면, 스핀 헤드에 놓인 기판의 측부에 척 핀들을 접촉시켜 상기 기판을 지지하되, 상기 척 핀은 상하 방향으로 상기 몸체에 제공된 수직 로드와 상기 수직 로드로부터 측 방향으로 연장되는 지지 로드를 포함하고, 상기 척 핀이 상기 기판을 지지할 때, 상기 수직 로드는 상기 기판으로부터 측방향으로 이격되게 위치되고, 상기 접촉 로드의 끝단이 상기 기판에 접촉된다.
일 예에 의하면, 상기 접촉 로드는 그 끝단까지 연장되며 상부에서 바라볼 때 폭이 감소 되도록 형상 지어진 접촉부를 가지며, 상기 접촉 로드는 상기 스핀 헤드에 놓인 기판과 동일 높이로 수평 방향으로 배치되도록 제공된다.
다른 예에 의하면, 상기 지지 로드는 상기 수직 로드로부터 측 방향으로 연장되는 수평 로드와 상기 수평 로드의 끝단으로부터 아래 방향으로 굴곡 지는 접촉 로드를 가지며, 상기 수평 로드는 상기 스핀 헤드에 놓인 기판보다 높은 높이로 수평 방향으로 배치되도록 제공되고, 상기 접촉 로드는 상기 스핀 헤드에 놓인 기판과 동일 높이 또는 그 아래까지 연장된다. 상기 접촉 로드는 상부에서 바라볼 때 그 단면이 상기 수직 로드로부터 멀어지는 방향으로 갈수록 폭이 좁아지도록 제공될 수 있다. 상기 접촉 로드는 그 길이방향을 따라 동일한 단면을 가지도록 제공될 수 있다.
상기 기판은 패턴 면이 아래를 향하도록 상기 스핀 헤드 상에 놓이고, 상기 스핀 헤드가 회전하면서 상기 기판의 상부 중앙에서 상기 기판으로 처리액이 공급될 수 있다.
상기 기판은 상기 스핀 헤드로부터 상부를 향하도록 분사되는 가스압에 의해 상기 스핀 헤드로부터 이격되게 놓일 수 있다.
본 발명에 의하면, 척 핀들을 사용하여 기판의 측부를 지지시, 기판과 척 핀이 접촉되는 영역까지 처리액이 원활하게 공급되므로, 기판의 전체 영역에서 공정 균일도를 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 기판의 상면을 처리한 후 하면으로 유입된 처리액이 기판의 하면 가장자리를 균일한 폭으로 처리할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면 기판의 측부를 척 핀들을 사용하여 지지시, 모든 척 핀들이 기판의 측부와 접촉된다. 따라서 기판이 위치가 안정적이며, 일부 척 핀들에 힘이 집중되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 고속으로 기판이 회전되는 경우에도 척 핀들이 기판의 측부와 접촉되는 지지 위치에 유지될 수 있다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면 도 1 내지 도 21을 참조하여 더욱 상세히 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발 명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
아래의 실시예에서는 약액, 린스액, 그리고 건조가스를 사용하여 기판(W)을 세정하는 장치를 예로 들어 설명한다. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않으며, 식각 공정 등과 같이 기판(W)을 회전시키면서 공정을 수행하는 다양한 종류의 장치에 모두 적용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(1)를 개략적으로 보여주는 평면도이다. 도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 유체 공급 유닛(10), 용기(20), 승강 유닛(30), 그리고 스핀 헤드(40)를 가진다. 유체 공급 유닛(10)은 기판 처리를 위한 처리액이나 처리 가스를 기판(W)으로 공급한다. 스핀 헤드(40)는 공정 진행시 기판(W)을 지지하고, 기판(W)을 회전시킨다. 기판(W)은 그 패턴면이 아래를 향하도록 스핀 헤드(40)에 놓인다. 그러나 이와 달리 기판(W)은 그 패턴면이 상부를 향하도록 스핀 헤드(40)에 놓일 수 있다. 용기(20)는 공정에 사용된 약액 및 공정시 발생됨 흄(fume)이 외부로 튀거나 유출되는 것을 방지한다. 승강 유닛(30)은 스핀 헤드(40) 또는 용기(20)를 상하로 승강시키며, 용기(20) 내에서 용기(20)와 스핀 헤드(40) 간의 상대 높이를 변화시킨다.
유체 공급 유닛(10)은 스핀 헤드(40)에 놓인 기판(W)의 상면 중앙으로 처리 액이나 처리 가스를 공급하는 상부 노즐 부재(100a)와 기판(W)의 하면으로 가스를 공급하는 하부 노즐 부재(100b)를 가진다. 기판(W)은 스핀 헤드(40)의 상부면으로부터 일정 거리 이격되도록 스핀 헤드(40) 상에 놓인다. 하부 노즐 부재(100b)는 스핀 헤드(40)와 기판(W) 사이의 공간으로 가스를 공급한다. 가스는 질소 가스일 수 있다. 이와 달리 가스로는 질소 가스 이외에 불활성 가스나 청정 공기가 사용될 수 있다. 상부 노즐 부재(100a)로부터 기판(W)의 상면 중앙으로 공급된 처리액이나 처리 가스는 원심력에 의해 기판(W)의 가장자리로 퍼진 후, 기판(W)의 하면 영역으로 유입된다. 하부 노즐 부재(100b)로부터 기판(W)의 하면 중앙부로 가스를 공급하고, 가스는 기판(W)의 하면 영역으로 처리액이나 처리 가스가 일정 거리 이상 유입되는 것을 방지한다. 따라서 처리액 및 처리 가스에 의해 기판(W)은 상면 전체 영역과 하면 가장자리의 일정 영역을 처리한다. 또한, 하부 노즐 부재(100b)로부터 공급된 가스는 부압에 의해 기판(W)을 스핀 헤드(40)로부터 일정 높이 이격시킨다. 기판(W)은 그 하면이 스핀 헤드(40)로부터 이격된 상태에서 스핀 헤드(40)에 놓인다.
상부 노즐 부재(100a)는 약액 공급 노즐(120a), 린스액 공급 노즐(140a), 그리고 건조 가스 공급 노즐(160a)을 가진다. 약액 공급 노즐(120a)은 복수의 종류의 약액들을 기판(W)으로 공급한다. 약액 공급 노즐(120a)은 복수의 분사기들(121), 지지 바(122), 그리고 바 이동기(125)를 가진다. 분사기들(121)은 용기(20)의 일측에 배치된다. 분사기(121)는 약액 저장부(도시되지 않음)와 연결되어 약액 저장부로부터 약액을 공급받는다. 각각의 분사기(121)는 서로 상이한 종류의 약액을 저장 하는 약액 저장부와 연결된다. 분사기들(121)은 일방향으로 나란하게 배치된다. 각각의 분사기(121)는 상부로 돌출된 돌기(121a)를 가지고, 돌기(121a)의 측면에는 홈(도시되지 않음)이 형성될 수 있다. 약액은 황산, 질산, 암모니아, 불산 등이거나, 이들과 탈이온수의 혼합액일 수 있다. 각각의 분사기(121)의 끝단에는 토출구가 형성된다.
지지 바(122)는 복수의 분사기들(121) 중 어느 하나와 결합하고, 이를 스핀 헤드(40)에 놓인 기판(W)의 상부로 이동시킨다. 지지 바(122)는 긴 로드 형상을 가지며, 지지 바(122)는 그 길이 방향이 분사기들(121)이 배열되는 방향과 수직하도록 배치된다. 지지 바(122)의 하면에는 분사기(121)와의 결합을 위한 홀더(도시되지 않음)가 제공되고, 홀더는 분사기(121)의 돌기(121a)에 형성된 홈에 삽입 가능한 암들(도시되지 않음)을 가진다. 암들은 돌기(121a)의 외측에서 돌기(121a)의 홈을 향하는 방향으로 회전 또는 이동될 수 있는 구조로 제공될 수 있다.
바 이동기(125)는 스핀 헤드(40)에 놓인 기판(W)의 상부 위치와 분사기들(121)의 상부 위치 간에 지지 바(122)를 직선 이동시킨다. 바 이동기(125)는 브라켓(123), 가이드 레일(124), 그리고 구동기(도시되지 않음)를 가진다. 가이드 레일(124)은 분사기들(121)의 외측에서부터, 분사기(121), 그리고 용기(20)를 지나 용기(20)의 외측까지 길게 일직선으로 연장된다. 가이드 레일(124)에는 이를 따라 이동 가능하도록 브라켓(123)이 결합되고, 브라켓(123)에는 지지 바(122)가 고정결합된다. 구동기는 브라켓(123)을 직선이동시키는 구동력을 제공한다. 브라켓(123)의 직선 이동은 모터와 스크류를 가지는 어셈블리에 의해 이루어질 수 있다. 선택 적으로 브라켓(123)의 직선 이동은 벨트와 풀리, 그리고 모터를 가진 어셈블리에 의해 이루어질 수 있다. 선택적으로 브라켓(123)의 직선 이동은 리니어 모터에 의해 이루어질 수 있다.
용기(20)의 다른 일측에는 린스액 공급 노즐(140a)이 배치되고, 용기(20)의 또 다른 일측에는 건조가스 공급 노즐(160a)이 배치된다. 린스액 공급 노즐(140a)은 분사기(141), 지지 바(142), 그리고 구동기(144)를 가진다. 분사기(141)는 지지 바(142)의 일 끝단에 고정 결합된다. 지지 바(142)의 다른 끝단에는 구동기(144)에 의해 회전되는 회전축(도시되지 않음)이 고정 결합된다. 분사기(141)는 린스액 저장부(도시되지 않음)로부터 린스액을 공급받는다. 건조가스 공급 노즐(160a)은 린스액 공급 노즐(140a)과 대체로 유사한 구조를 가진다. 건조가스 공급 노즐(160a)은 이소프로필 알코올과 질소 가스를 공급한다. 질소 가스는 가열된 질소 가스일 수 있다. 하부 노즐 부재(100b)의 구조는 후술한다.
도 2는 용기의 단면도이고, 도 3은 용기를 종방향으로 절단한 사시도이다. 도 2와 도 3을 참조하면, 용기(20)는 내부에 상부가 개방되고 기판(W)이 처리되는 공간(32)을 가지고, 공간(32)에는 스핀 헤드(40)가 배치된다. 스핀 헤드(40)의 하면에는 스핀 헤드(40)를 지지하고 회전시키는 회전 축(42)이 고정 결합된다. 회전 축(42)은 용기(20)의 바닥면에 형성된 개구를 통해 용기(20) 외부까지 돌출된다. 회전 축(42)에는 이에 회전력을 제공하는 모터와 같은 구동기(44)가 고정 결합된다.
도 3은 용기(20)의 내부 구조를 보여주는 절단된 사시도이다. 도 2와 도 3을 참조하면, 용기(20)는 공정에 사용된 약액들을 분리하여 회수할 수 있는 구조를 가진다. 이는 약액들의 재사용이 가능하게 한다. 용기(20)는 복수의 회수통들(220, 240, 260)을 가진다. 각각의 회수통(220, 240, 260)은 공정에 사용된 처리액들 중 서로 상이한 종류의 처리액을 회수한다. 본 실시 예에서 용기(20)는 3개의 회수통들을 가진다. 각각의 회수통들을 내부 회수통(220), 중간 회수통(240), 그리고 외부 회수통(260)이라 칭한다.
내부 회수통(220)은 스핀 헤드(40)를 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 중간 회수통(240)은 내부 회수통(220)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되며, 외부 회수통(260)은 중간 회수통(240)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 각각의 회수통(220, 240, 260)은 용기(20) 내에서 용기 내 공간(42)과 통하는 유입구(227, 247, 267)를 가진다. 각각의 유입구(227, 247, 267)는 스핀 헤드(40)의 둘레에 링 형상으로 제공된다. 기판(W)으로 분사되어 공정에 사용된 약액들은 기판(W)의 회전으로 인한 원심력에 의해 유입구(227, 247, 267)를 통해 회수통(220, 240, 260)으로 유입된다. 외부 회수통(260)의 유입구(267)는 중간 회수통(240)의 유입구(247)의 수직 상부에 제공되고, 중간 회수통(240)의 유입구(247)는 내부 회수통(220)의 유입구(227)의 수직 상부에 제공된다. 즉, 내부 회수통(220), 중간 회수통(240), 그리고 외부 회수통(260)의 유입구(227, 247, 267)들은 서로 간에 높이가 상이하도록 제공된다.
내부 회수통(220)은 외벽(222), 바닥벽(224), 내벽(226), 그리고 안내벽(228)을 가진다. 외벽(222), 바닥벽(224), 내벽(226), 그리고 안내벽(228) 각각 은 링 형상을 가진다. 외벽(222)은 스핀 헤드(40)로부터 멀어지는 방향으로 하향 경사진 경사벽(222a)과 이의 하단으로부터 아래 방향으로 수직하게 연장되는 수직벽(222b)을 가진다. 바닥벽(224)은 수직벽(222b)의 하단으로부터 스핀 헤드(40)를 향하는 방향으로 수평하게 연장된다. 바닥벽(222b)의 끝단은 경사벽(222a)의 상단과 동일한 위치까지 연장된다. 내벽(226)은 바닥벽(224)의 안쪽 끝단으로부터 위 방향으로 수직하게 연장된다. 내벽(226)은 그 상단이 경사벽(222a)의 상단과 일정거리 이격되도록 하는 위치까지 연장된다. 내벽(226)과 경사벽(222a) 사이의 상하 방향으로 이격된 공간은 상술한 내부 회수통(220)의 유입구(227)로서 기능한다.
내벽(226)에는 링을 이루는 배치로 복수의 개구들(223)이 형성된다. 각각의 개구들(223)은 슬릿 형상으로 제공된다. 개구(223)는 내부 회수통(220)으로 유입된 가스들이 스핀 헤드(40) 내 아래 공간을 통해 외부로 배출되도록 하는 배기구로서 기능한다. 바닥벽(224)에는 배출관(225)이 결합된다. 내부 회수통(220)을 통해 유입된 처리액은 배출관(225)을 통해 외부의 약액 재생을 위한 시스템으로 배출된다.
안내벽(228)은 내벽(226)의 상단으로부터 스핀 헤드(40)로부터 멀어지는 방향으로 하향 경사진 경사벽(228a)과 이의 하단으로부터 아래로 상하 방향으로 수직하게 연장되는 수직벽(228b)을 가진다. 수직벽(228b)의 하단은 바닥벽(224)으로부터 일정거리 이격되게 위치된다. 안내벽(228)은 유입구(227)를 통해 유입된 처리액이 외벽(222), 바닥벽(224), 내벽(226)으로 둘러싸인 공간(229)으로 원활하게 흐를 수 있도록 안내한다.
중간 회수통(240)은 외벽(242), 바닥벽(244), 내벽(246), 그리고 돌출 벽(248)을 가진다. 중간 회수통(240)의 외벽(242), 바닥벽(244), 그리고 내벽(246)은 내부 회수통(220)의 외벽(222), 바닥벽(224), 그리고 내벽(226)과 대체로 유사한 형상을 가지나, 중간 회수통(240)이 내부 회수통(220)을 감싸도록 내부 회수통(220)에 비해 큰 크기를 갖는다. 중간 회수통(240)의 외벽(242)의 경사벽(242a)의 상단과 내부 회수통(220)의 외벽(222)의 경사벽(222a)의 상단은 상하 방향으로 일정 거리 이격되게 위치되며, 이격된 공간은 중간 회수통(240)의 유입구(247)로서 기능한다. 돌출벽(248)은 바닥벽(244)의 끝단으로부터 아래 방향으로 수직하게 연장된다. 중간 회수통(240)의 내벽(246)의 상단은 내부 회수통(220)의 바닥벽(224)의 끝단과 접촉된다. 중간 회수통(240)의 내벽(246)에는 가스의 배출을 위한 슬릿 형상의 배기구들(243)이 링을 이루는 배열로 제공된다. 바닥벽(244)에는 배출관(245)이 결합되며, 중간 회수통(240)을 통해 유입된 처리액은 배출관(245)을 통해 외부의 약액 재생을 위한 시스템으로 배출된다.
외부 회수통(260)은 외벽(262)과 바닥벽(264)을 가진다. 외부 회수통(260)의 외벽(262)은 중간 회수통(240)의 외벽(242)과 유사한 형상을 가지나, 외부 회수통(260)이 중간 회수통(240)을 감싸도록 중간 회수통(240)에 비해 큰 크기를 갖는다. 외부 회수통(260)의 외벽(262)의 경사벽(262a)의 상단과 중간 회수통(240)의 외벽(242)의 경사벽(242b)의 상단은 상하 방향으로 일정 거리 이격되게 위치되며, 이격된 공간은 외부 회수통(260)의 유입구(267)로서 기능한다. 바닥벽(264)은 대체로 원판 형상을 가지며, 중앙에 회전 축(42)이 삽입되는 개구가 형성된다. 바닥벽(264)에는 배출관(265)이 결합되고, 외부 회수통(260)을 통해 유입된 처리액은 배출관(265)을 통해 외부의 약액 재생을 위한 시스템으로 배출된다. 외부 회수통(260)은 용기(20) 전체의 외벽으로서 기능한다. 외부 회수통(260)의 바닥벽(264)에는 배기관(263)이 결합되며, 외부 회수통(260)으로 유입된 가스는 배기관(263)을 통해 외부로 배기한다. 또한, 내부 회수통(220)의 내벽(226)에 제공된 배기구(223) 및 중간 회수통(240)의 내벽(246)에 제공된 배기구(243)를 통해 흘러나온 가스는 외부 회수통(260)에 연결된 배기관(263)을 통해 외부로 배기된다. 배기관(263)은 바닥벽(264)으로부터 상부로 일정 길이 돌출되도록 설치된다.
승강 유닛(30)은 용기(20)를 상하 방향으로 직선 이동시킨다. 용기(20)가 상하로 이동됨에 따라 스핀 헤드(40)에 대한 용기(20)의 상대 높이가 변경된다. 승강 유닛(30)은 브라켓(32), 이동 축(34), 그리고 구동기(36)를 가진다. 브라켓(32)은 용기(20)의 외벽에 고정설치되고, 브라켓(32)에는 구동기(36)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동 축(34)이 고정결합된다. 기판(W)이 스핀 헤드(40)에 놓이거나, 스핀 헤드(40)로부터 들어 올릴 때 스핀 헤드(40)가 용기(20)의 상부로 돌출되도록 스핀 헤드(40)는 하강한다. 또한, 공정이 진행시에는 기판(W)에 공급된 처리액의 종류에 따라 처리액이 기설정된 회수통(220, 240, 260)으로 유입될 수 있도록 용기(20)의 높이가 조절한다. 상술한 바와 반대로, 승강 유닛(30)은 스핀 헤드(40)를 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.
다음에는 도 4와 도 5를 참조하여 스핀 헤드(40)의 구조에 대해 설명한다. 도 4는 스핀 헤드(40)의 평면도이고, 도 5는 도 4의 선 Ⅰ-Ⅰ를 따라 절단한 스핀 헤드(40)의 단면도이다. 스핀 헤드(40)는 몸체(300), 척 핀들(500), 그리고 척 핀 이동 유닛(600)을 가진다.
척 핀(500)은 몸체(300)의 가장자리 영역에 몸체(300)의 상부면으로부터 상부로 돌출되도록 몸체(300)에 설치된다. 척 핀(500)은 약 여섯 개가 제공될 수 있다. 척 핀(500)은 스핀 헤드(40)가 회전될 때 기판(W)이 정 위치에서 측 방향으로 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 척 핀들(500)은 모두 동일한 형상 및 크기를 가진다.
도 6은 척 핀(500)의 일 실시예를 보여주는 사시도이다. 척 핀(500)은 수직 로드(520), 지지 로드(540), 체결부(560), 그리고 걸림부(580)를 가진다. 수직 로드(520)는 대체로 상하 방향으로 배치되도록 몸체(300)에 결합된다. 수직 로드(520)는 그 길이방향에 수직하게 절단시 원형의 단면을 가진다. 기판(W)이 회전될 때, 수직 로드(520)는 기판(W)으로부터 측방향으로 이격되도록 위치된다. 지지 로드(540)는 수직 로드(520)로부터 측 방향으로 연장된다. 지지 로드(540)는 수직 로드(520)의 끝단으로부터 대체로 수평 방향으로 제공된다. 지지 로드(540)는 그 일단부터 끝단까지 몸체(300)로부터 동일 높이 이격되게 제공된다. 지지 로드(540)는 그 높이가 기판(W)이 몸체(300) 상에 놓일 때 몸체(300)로부터 이격된 높이와 대체로 동일하게 배치된다. 기판(W)이 몸체(300)에 놓인 상태에서 회전될 때, 지지 로드(540)의 끝단은 기판(W)의 측부와 접촉된다.
지지 로드(540)는 그 끝단까지 연장되며 상부에서 바라볼 때 폭이 감소 되도 록 형상 지어진 접촉부(542)를 가진다. 접촉부(542)는 양 측면(542a)를 가지며, 각각의 측면(542a)은 서로 대칭이 되게 제공된다. 접촉부(542)의 측면(542a)는 라운드지게 제공된다. 접촉부(542)의 측면(542a)는 유선형으로 제공될 수 있다. 접촉부(542)는 그 폭이 수직 로드(520)의 지름보다는 작게 제공된다. 기판(W)과 접촉되는 접촉부(542)의 끝단(546)은 상부에서 바라볼 때 점으로서 제공된다. 접촉부(542)는 수직 로드(520)로부터 직접 연장되게 제공될 수 있다. 이와 달리 도 7과 같이 접촉부(542)와 수직 로드(520) 사이에 폭이 일정한 중간부(543)가 제공될 수 있다.
체결부(560)는 지지 로드(520)로부터 아래 방향으로 연장된다. 체결부(560)에는 척 핀 이동 유닛(600)과의 체결을 위한 나사홀이 형성된다. 걸림부(580)는 지지 로드(520)로부터 외측으로 연장되며, 링 형상으로 제공된다. 걸림부(580)는 몸체(300)의 상부면과 밀착되며, 척 핀들(500)이 모두 동일한 높이로 돌출되도록 한다.
도 8은 공정 진행시 척 핀(500)이 기판(W)을 지지하고 있는 상태를 보여주는 단면도이고, 도 9는 스핀 헤드(40)가 회전시 기류(처리액)의 방향을 보여주는 평면도이다. 도 8에 도시된 바와 같이 비교적 단면적이 넓은 수직 로드(520)는 기판(W)으로부터 일정 거리 이격된 상태로 배치된다. 또한 기판(W)의 측부는 상부에서 바라볼 때 비교적 수직 로드(520)보다 폭이 좁고 유선형으로 형상지어진 측면(542a)을 가진 접촉부(542)에 의해 지지된다. 따라서 기판(W)이 회전될 때 처리액은 접촉부(542)의 끝단(546)까지 도달한 후 접촉부(542)의 측면(542a)을 따라 흐른다. 처 리액이 지지 로드(540)와 기판(W)이 접촉되는 영역까지 도달하므로, 상기 접촉 영역에서 공정 불량이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
도 10은 척 핀(500´)의 다른 실시예를 보여주는 도면이다. 도 10을 참조하면, 척 핀(500´)은 수직 로드(520´), 지지 로드(540´), 체결부(560´), 그리고 걸림부(580´)를 가진다. 척 핀(500´)의 수직 로드(500´), 체결부(520´), 그리고 걸림부(560´)의 구조는 도 6의 척 핀의 수직 로드(500), 체결부(520), 그리고 걸림부(560)와 대체로 동일하므로 상세한 설명은 생략한다. 지지 로드(540´)는 수평 로드(542´)와 접촉 로드(544´)를 가진다. 수평 로드(542´)는 수직 로드(520´)로부터 수평 방향으로 연장된다. 접촉 로드(544´)는 수평 로드(542´)의 끝단으로부터 아래 방향으로 일정 길이 돌출된다. 접촉 로드(544´)는 기판(W)과 동일한 높이 또는 그 아래까지 연장된다. 수평 로드(542´)는 공정 진행시 기판(W)보다 높은 위치에 배치되고, 접촉 로드(544´)는 상부에서 바라볼 때 그 끝단(546´)이 기판(W)의 측부와 접촉되는 위치에 배치된다.
접촉 로드(544´)는 상부에서 바라볼 때 수직 로드(520´)로부터 멀어지는 방향으로 갈수록 점진적으로 폭이 좁아지는 형상을 가진다. 접촉 로드(544´)의 끝단(546´)은 상부에서 바라볼 때 점으로서 제공된다. 접촉 로드(544´)는 측면(544a´)을 가진다. 접촉 로드(544´)의 측면(544a´)은 라운드지도록 형상지어진다. 접촉 로드(544´)의 측면(544a´)은 유선형으로 형상 지어질 수 있다. 접촉 로드(544´)는 그 길이방향을 따라 동일한 단면을 가진다. 상부에서 바라볼 때 접촉 로드(544´)의 횡단면의 폭은 수직 로드(520´)의 단면의 지름보다 적은 폭으로 제공된다.
도 11은 기판(W)이 회전될 때 도 10의 접촉 로드(544´)에 의해 기판(W)이 지지되는 상태를 보여주는 도면이다. 수직 로드(520´)는 기판(W)으로부터 일정 거리 이격되게 배치되고, 수평 로드(542´)는 기판(W)보다 높은 위치에 제공되므로, 수평 로드(542´)와 수직 로드(520´)는 기판(W)의 회전에 의해 발생되는 기류에 영향을 미치지 않는다. 기판(W)의 측면과 접촉되는 접촉 로드(544´)는 폭이 좁고 측면(544a´)이 유선형으로 제공되므로, 처리액은 상부에서 바라볼 때 접촉 로드(544´)의 끝단(546´)까지 도달되고, 따라서 기판(W)과 척 핀(500´)이 접촉되는 영역까지 처리액이 공급된다.
다시 도 5를 참조하면, 몸체(300)는 상판(320), 하판(340), 그리고 누름쇠(360)를 가진다. 상판(320)은 상부에서 바라볼 때 대체로 원형으로 제공되는 상부면을 가진다. 하판(340)은 상판(320)의 아래에 배치되며, 척 핀 이동 유닛(600)이 배치되는 공간을 제공한다. 상판(320)의 가장자리 영역에는 척 핀들(500)이 삽입되는 핀 홀들(322)이 형성된다. 각각의 핀 홀(322)은 슬릿 형상으로 형성된다. 핀 홀(322)은 그 길이 방향이 상판(320)의 반경 방향을 따르도록 형성된다. 핀 홀(322)의 폭은 척 핀(500)의 지지 로드(520)의 지름과 동일하거나 이보다 조금 넓게 형성되고, 핀 홀(322)의 길이는 척 핀(500)의 반경 방향으로의 이동을 안내할 수 있는 길이로 형성된다. 핀 홀(322)의 길이는 척 핀(500)의 걸림부(580)의 지름보다 짧게 제공될 수 있다. 상술한 바와 달리 핀 홀(322)은 원형으로 형성될 수 있다. 이 경우 핀 홀(322)의 지름은 척 핀(500)의 지지 로드(520)의 지름보다는 길고 걸림부(580)의 지름보다는 짧게 제공될 수 있다.
몸체(300)에는 하부 노즐 부재(100b)가 제공된다. 하부 노즐 부재(100b)는 분사부(182), 통로부(184), 그리고 가스 공급관(186)을 가진다. 통로부(184)와 분사부(182)는 몸체(300) 내 중앙에 상하 방향으로 형성된다. 통로부(184)는 몸체(300) 내 중앙에 제공되며, 그 길이 방향을 따라 동일한 단면을 가지도록 형성된다. 통로부(184)는 대체로 원형의 단면을 가진다. 분사부(182)는 통로부(184)로부터 상부로 연장되게 제공된다. 분사부(182)의 일단은 통로부(184)의 단면과 동일하며, 상부로 갈수록 점진적으로 넓어지는 단면을 가진다. 예컨대, 분사부(182)는 원추형의 형상을 가진다. 가스 공급관(186)은 통로부(184)의 하단과 연결되며, 통로부(184)로 가스를 공급한다. 가스 공급관(186) 내에는 그 내부 통로를 개폐하거나 유량을 조절하는 밸브(186a)가 설치된다.
도 12는 기판(W)이 몸체(300)에 의해 지지된 상태, 그리고 상부 노즐 부재(100a)로부터 공급된 처리액이 흐르는 경로와 하부 노즐 부재(100b)로부터 공급된 가스가 흐르는 경로를 보여주는 도면이다. 도 12에서 실선은 하부 노즐 부재(100b)로부터 공급된 가스의 흐름을 나타내고, 점선은 상부 노즐 부재(100a)로부터 공급된 처리액의 흐름을 나타낸다. 상술한 바와 같이 하부 노즐 부재(100b)로부터 가스를 공급하여 부압에 의해 기판(W)을 몸체(300)로부터 이격되게 지지한다. 기판(W)의 상부로 공급된 처리액은 기판(W)의 상면 전체 영역을 처리하고, 하부 노즐 부재(100b)로부터 공급된 가스에 의해 기판(W)의 하면에서 이동이 제한되어 기판의 하면 가장자리의 설정 영역을 처리한다. 기판이 지지 핀에 의해 지지되는 경 우에는 지지 핀에 의해 가스의 흐름이 방해되고, 이로 인해 지지 핀이 제공되는 영역에서 처리액이 설정 위치보다 기판의 하면 안쪽으로 유입되는 문제가 있다. 그러나 본 발명의 경우, 기판(W)과 몸체(300) 사이에 지지 핀과 같은 구조물이 제공되지 않으므로, 기판(W)의 하면 전체에서 처리액에 의해 처리되는 영역이 동일하다.
도 13과 도 14는 상판(320)과 하판(340)의 결합구조를 보여주기 위한 도면들이다. 도 13은 도 4의 선 Ⅱ-Ⅱ를 따라 절단한 스핀 헤드(40)의 단면도이다. 도 14는 도 13의 "A" 방향에서 바라본 하판(340)의 저면도이다. 도 13과 도 14를 참조하면, 공정 진행시 상판(320)은 약액에 노출되므로, 상판(320)은 약액에 대해 부식이 강한 재질로 제조된다. 또한, 고온의 약액을 기판(W)으로 공급하여 공정 진행시 하판(340)의 열팽창으로 인해 척 핀(500)의 설정 위치가 틀어지지 않도록 하판(340)은 열에 강한 재질로 제조된다. 즉, 본 발명에서 상판(320)은 하판(340)에 비해 부식에 강한 재질로 이루어지고, 하판(340)은 상판(320)에 비해 열 변형이 작은 재질로 이루어진다. 일 예에 의하면, 상판(320)은 폴리 염화 비닐 재질로 이루어지고, 하판(340)은 알루미늄 재질로 이루어진다. 상판(320)과 하판(340)은 누름쇠(360)에 의해 결합된다. 상판(320)의 저면에는 나사 홈(328)이 형성되고, 이와 대응되는 하판(340) 영역에는 몸체(300)의 반경 방향을 따라 슬릿 형상의 홈(342)이 형성된다.
누름쇠(360)는 하판(340)에서 상판(320)을 향하는 방향으로 슬릿 형상의 홈(342)을 통해 하판(340)에 결합된다. 누름쇠(360)는 중앙에 상하로 관통된 홀(362c)이 형성된 누름판(362)과 나사(364)를 가진다. 나사(364)는 누름판(362)의 홀(362c), 슬릿 형상의 홈(342), 그리고 상판(320)의 나사 홈(328)에 하판(340)에서부터 상판(320)을 향하는 방향으로 삽입되어 상판(320)과 하판(340)을 결합한다. 누름판(362)은 슬릿 형상의 홈(342)에 삽입되는 삽입부(362b)와 이로부터 아래로 연장되며 하판(340)을 눌러주는 머리부(362a)를 가진다. 누름판(362)의 삽입부(362b)는 슬릿 형상의 홈(342)의 폭과 대체로 유사한 지름을 가지고, 누름판(362)의 머리부(362a)는 슬릿 형상의 홈(342)의 폭보다 긴 지름을 가진다.
도 15는 본 실시예와 같은 상판(320)과 하판(340)의 결합구조 사용시 이점을 보여준다. 도 15에서 실선은 상판(320)이 열팽창 되기 전의 상태를 보여주고, 점선은 상판(320)이 열팽창 된 후의 상태를 보여준다. 도 15와 같이 고온의 약액을 사용하여 공정 진행시 상판(320)이 열 변형되어 팽창하더라도 누름쇠(360)가 슬릿 형상이 홈(342)을 따라 하판(340)과는 독립적으로 이동된다. 따라서 상판(320)의 열 변형으로 인해 하판(340)이 팽창되는 것을 방지할 수 있다. 하판(340)에는 후술하는 바와 같이 척 핀(500)의 위치를 결정하는 다양한 구성요소가 결합되어 있으므로, 하판(340)의 팽창 방지는 척 핀(500)이 설정 위치로부터 벗어나는 것을 방지한다.
척 핀 이동 유닛(600)은 척 핀(500)을 지지 위치와 대기 위치 간에 이동한다. 지지 위치는 공정 진행시 척 핀들(500)이 기판(W)의 측부와 접촉되는 위치이고, 대기 위치는 기판(W)이 스핀 헤드(40)에 놓일 수 있도록 기판(W)보다 넓은 공간을 제공하는 위치이다. 따라서 지지 위치는 대기 위치에 비해 몸체(300)의 중앙 에 더 가까운 위치이다.
도 16은 척 핀 이동 유닛(600)의 구조를 보여주는 저면도이고, 도 17은 도 16의 'B'의 확대도이다. 척 핀 이동 유닛(600)은 이동 로드(620), 가이드 부재(640), 거리 조절기(660), 접촉 유지 부재(680), 그리고 직선 이동기(700)를 가진다.
이동 로드(620)는 척 핀(500)과 동일한 개수로 제공되며, 각각의 이동 로드(620)에는 하나의 척 핀(500)이 결합된다. 이동 로드(620)는 몸체(300)의 반경 방향과 동일한 방향으로 하판(340) 내 공간에 배치된다. 상술한 상판은 가장자리에서 아래 방향으로 돌출된 측부를 가지고, 측부에는 외측에서 내측까지 관통된 홀(329)이 형성되고, 홀(329)은 상판(320)에 제공된 핀 홀(322)과 통한다. 이동 로드(620)의 외측 일단은 홀(329) 내에 위치된다. 이동 로드(620)의 외측 일단에는 나사 홈(628)이 형성되고, 척 핀(500)과 이동 로드(620)는 나사(590)에 의해 서로 고정 결합된다. 또한, 홀(329) 내에는 이동 로드(620)를 감싸며, 외부와 하판(340) 내 공간을 실링하는 실링 부재(330)가 설치된다. 실링 부재(330)로는 오링이 사용된다. 이동 로드(620)는 내측 일단에 구름 볼(622)을 가진다. 구름 볼(622)은 이동 로드(620)에 대해 회전 가능하도록 이동 로드(620)에 결합된다.
각각의 이동 로드(620)의 이동 경로 상에는 이동 로드(620)가 반경 방향으로 직선 이동하도록 안내하는 가이드 부재(640)가 제공된다. 가이드 부재(640)로는 미끄럼 베어링이 사용될 수 있다. 미끄럼 베어링은 몸체(300)에 고정 결합된다.
직선 이동기(700)는 척 핀(500)이 대기 위치와 지지 위치 간에 이동될 수 있도록 이동 로드(620)를 몸체(300)의 반경 방향으로 직선 이동시킨다. 직선 이동기(700)는 캠(720), 캠 구동기(730), 캠 복원기(760), 그리고 척 핀 복원기(780)를 가진다. 캠(720)은 대체로 원형의 링 형상을 가진다. 캠(720)은 그 외주면으로부터 외측 방향으로 돌출되도록 연장된 돌기들(740)을 가진다. 돌기(740)는 이동 로드(620)들의 수와 동일하게 제공되며, 이들 각각과 대응될 수 있는 위치에 형성된다. 돌기(740)는 대체로 완만한 경사를 가진 전면(742)과 급경사를 가진 후면(744)을 가진다. 캠 구동기(730)는 캠(720)을 제 1 회전 방향(82)으로 회전시키고, 캠 복원기(760)는 캠(720)을 제 1 회전 방향(82)과 반대 방향인 제 2 회전 방향(84)으로 회전시킨다. 캠 구동기(730)로는 캠(720)을 일정 각도 회전시키는 로터리 실린더가 사용된다. 로터리 실린더는 회전축(도시되지 않음)을 회전시키고, 회전축은 캠(720)에 고정결합된다. 돌기(740)의 일측에는 캠(720)의 회전각을 제한하도록 캠 스토퍼(750)가 몸체(300)에 고정 설치된다 제공된다. 캠 복원기(760)로는 복원력으로서 탄성력을 제공하는 스프링(762)이 사용된다. 캠(720)에는 스프링(762)의 일단이 고정 결합되는 제 1 걸쇠(764)가 제공되고, 하판(340)에는 스프링(762)의 타단이 고정결합되는 제 2 걸쇠(766)가 제공된다. 제 1 걸쇠(764)는 제 2 걸쇠(766)에 비해 이에 상응하는 돌기(740)에 더 인접하게 배치된다.
일 예에 의하면, 캠 구동기(730)는 구름 볼(622)이 캠(720)의 외측면에서 돌기(740)의 전면(742)을 타고 올라가도록 캠(720)을 회전시킨다. 캠(720)이 제 1 회전 방향(82)으로 회전함에 따라 척 핀(500)은 지지 위치에서 대기 위치로 이동되 고, 캠 복원기(760)의 스프링(762)은 인장된다. 캠 구동기(730)로부터의 구동력이 제거되면 캠(720)은 스프링(762)의 탄성력에 의해 제 2 회전 방향(84)으로 회전되고, 구름 볼(622)은 캠(720)의 돌기(740)의 전면(742)에서 멀어진다. 본 예에 의하면, 척 핀(500)이 지지 위치에 있을 때 스프링(762)이 평형 상태에 있으므로, 공정 진행 중 캠 구동기(730)에 에러가 생긴 경우에도 기판(W)은 척 핀(500)에 의해 안정적으로 지지된다.
이와 달리, 캠의 복원력은 자력에 의해 제공될 수 있다. 이 경우, 도 18과 같이 캠(720)에 제 1 자석(762a)이 배치되고, 몸체(300)에 제 2 자석(762b)이 제공되며, 제 1 자석(762a)과 제 2 자석(762b)은 캠(720) 구동력이 제거될 때 척 핀(500)이 대기 위치에서 지지 위치로 이동될 수 있도록 배치된다. 일 예에 의하면, 제 1 자석(762a)는 이에 상응되는 돌기(740)와 제 2 자석(762b) 사이에 배치되고, 제 1 자석(762a)과 제 2 자석(762b)은 동일 상이한 극성이 서로 마주보도록 배치된다.
다른 예에 의하면, 캠 구동기(730)는 척 핀(500)이 대기 위치에서 지지 위치로 이동되도록 캠(720)을 회전시키고, 캠 복원기(760)는 척 핀(500)이 지지 위치에서 대기 위치로 이동되도록 캠(720)을 회전시킬 수 있다.
또 다른 예에 의하면, 대기 위치에서 지지 위치로의 척 핀(500)의 이동 및 지지 위치에서 대기 위치로의 척 핀(500)의 이동 모두 캠 구동기(730)에 의해 이루어도록 제공될 수 있다.
상술한 바와 같이 캠(720)이 제 1 회전 방향(82)으로 회전시, 구름 볼(622)이 돌기(740)의 전면(742)을 타고 캠(720)에서 멀어지는 방향으로 이동된다. 척 핀 복원기(780)는 캠(720)이 제 2 회전 방향(84)으로 회전될 때 복원력에 의해 척 핀(500)이 대기 위치에서 지지 위치로 이동되도록 한다. 일 예에 의하면, 도 9에 도시된 바와 같이 척 핀 복원기(780)는 스프링(782)과 같은 탄성 부재를 가지고, 복원력으로는 탄성력이 사용된다. 스프링(782)의 일단은 이동 로드(620)의 일측으로부터 연장된 제 1 걸쇠(784)에 고정결합되고, 스프링(782)의 타단은 몸체(300)에 고정 설치된 제 2 걸쇠(786)에 고정 결합된다. 제 2 걸쇠(786)는 제 1 걸쇠(784)와 캠(720) 사이에 배치된다. 따라서 이동 로드(620)가 캠(720)의 중심으로부터 멀어지는 방향으로 이동될 때 스프링(782)은 인장된다. 그리고 캠(720)이 복원력에 의해 제 2 회전 방향(84)으로 회전될 때, 이동 로드(620)는 스프링(782)의 탄성력에 의해 캠(720)의 중심을 향하는 방향으로 이동한다. 이로 인해, 척 핀(500)은 대기 위치에서 지지 위치로 이동된다.
이와 달리, 척 핀(500)을 대기 위치에서 지지 위치로 복원력은 자력에 의해 제공될 수 있다. 이 경우, 이동 로드(620)에 제 1 자석(782a)이 배치되고, 몸체(300)에 제 2 자석(782b)이 제공되며, 제 1 자석(782a)과 제 2 자석(782b)의 극성은 캠 구동기(730)의 구동력이 제거될 때 척 핀(500)이 대기 위치에서 지지 위치로 이동될 수 있도록 제공된다. 도 19와 같이 제 2 자석(782b)이 제 1 자석(782a)에 비해 몸체(300)의 중심에 더 가깝게 위치되는 경우 제 1 자석(782a)과 제 2 자석(782b)은 서로 상이한 극성끼리 마주보도록 배치된다. 이와 달리 도 12b와 같이 제 1 자석(782a)이 제 2 자석(782b)에 비해 몸체(300)의 중심에 더 가깝게 위치되는 경우 제 1 자석(782a)과 제 2 자석(782b)은 서로 동일한 극성끼리 마주보도록 배치된다.
모든 이동 로드(620)들이 단일의 힘에 의해 몸체(300)의 중심을 향하는 방향으로 이동되도록 제공되면, 척 핀들(500)은 독립적으로 이동될 수 없다. 따라서 척 핀(500), 이동 로드(620), 그리고 캠(720) 등과 같은 구성물에 가공 오차 등이 있는 경우, 지지 위치에서 일부 척 핀들(500)은 기판(W)의 측부와 비접촉하고, 나머지 일부 척 핀들(500)만이 기판(W)의 측부와 지지된다. 이는 스핀 헤드(40)가 회전시 기판(W)과 접촉되는 일부 척 핀들(500)에만 하중이 집중되어, 척 핀(500)이 파손되기 쉽다. 그러나 본 발명에서 척 핀 복원기(780)는 각각의 이동 로드(620)에 설치되므로, 각각의 이동 로드들(620)은 다른 이동 로드들(620)과 관계없이 복원력을 받아 몸체(300)의 중심을 향하는 방향으로 이동된다. 따라서 비록 척 핀(500), 이동 로드(620), 그리고 캠(720) 등과 같은 구성물에 가공 오차 등이 있다 할지라도, 각각의 척 핀(500)이 이에 해당되는 복원력에 의해 기판(W)의 측부와 접촉되는 위치까지 이동된다.
도 20a와 도 20b는 캠(720)의 회전 방향, 캠 복원기(760) 및 척 핀 복원기(780)의 상태, 그리고 이동 로드(620)의 이동 방향 간의 관계를 보여주는 도면이다. 도 20a와 같이 캠 구동기(730)에 의해 캠(720)이 제 1 회전 방향(82)으로 회전되면, 캠 복원기(760)의 스프링(762)은 인장되고, 이동 로드(620)는 지지 위치에서 대기 위치로 이동되고, 척 핀 복원기(780)의 스프링(782)은 인장된다. 이후, 도 20b와 같이 캠 구동기(730)로부터 동력이 제거되면, 캠 복원기(760)의 탄성력에 의해 캠(720)이 제 2 회전 방향(84)으로 회전되고, 척 핀 복원기(780)의 탄성력에 의해 이동 로드(620)가 대기 위치에서 지지 위치로 이동된다.
상술한 예에서는 척 핀(500)이 몸체(300)의 반경 방향을 따라 직선 이동함으로써 대기 위치와 지지 위치 간에 위치 변경이 되는 것으로 설명하였다. 그러나 이와 달리, 척 핀 이동 유닛은 수직 로드(520)를 회전시키는 구조로 제공되고, 지지 로드(540)는 수직 로드(520)의 회전에 의해 대기 위치와 지지 위치 간에 위치 변경이 될 수 있다.
스핀 헤드(40)가 고속으로 회전되는 경우, 종종 원심력에 의해 척 핀(500)이 몸체(300)의 외측으로 반경 방향을 따라 이동된다. 이로 인해 공정 진행 중 척 핀들(500)에 의한 기판(W)의 지지가 불안정하다. 접촉 유지 부재(680)는 스핀 헤드(40)가 회전시 지지 위치에서 척 핀(500)이 기판(W)의 측부와 접촉을 계속적으로 유지하도록 한다. 접촉 유지 부재(680)는 고정 핀(680a)과 유지 바(680b)를 가진다. 고정 핀(680a)은 이동 로드(620)로부터 돌출되도록 이동 로드(620)에 고정 설치된다. 유지 바(680b)는 스핀 헤드(40)가 회전될 때 몸체(300)의 중심을 향하는 방향으로 고정 핀(680a)을 밀어준다.
일 예에 의하면, 유지 바(680b)는 스핀 헤드(40)의 회전시 발생되는 역 원심력에 의해 고정 핀(680a)을 밀어주도록 형상 지어진다. 다시 도 16을 참조하면, 유지 바(680b)는 중앙부(682), 누름부(684), 그리고 안내부(686)를 가진다. 중앙 부(682)는 축 핀(681)에 의해 몸체(300)에 결합되어, 몸체(300)에 대해 회전 가능하도록 제공된다. 누름부(684)는 스핀 헤드(40)가 회전될 때 몸체(300)의 중심을 향하는 방향으로 고정 핀(680a)을 밀어준다. 안내부(686)는 스핀 헤드(40)가 회전될 때 누름부(684)가 고정 핀(680a)를 향하는 방향으로 이동되도록 안내한다. 누름부(684)는 중앙부(682)로부터 일방향으로 연장되고, 안내부(686)는 누름부(684)와 둔각을 이루도록 중앙부(682)로부터 연장된다. 누름부(684)와 안내부(686)는 각각 로드 형상을 가진다.
스핀 헤드(40)가 회전될 때 안내부(686)는 누름부(684)에 비해 몸체(300)의 외측 방향으로 이동되려는 힘이 더 크도록 제공된다. 안내부(686)는 누름부(684)에 비해 무겁게 제공된다. 상부에서 바라볼 때 안내부(686)는 누름부(684)에 비해 넓은 폭을 가지도록 형성될 수 있다. 또한, 안내부(686)의 끝단은 누름부(684)에 비해 두꺼운 부분을 가지도록 형성될 수 있다.
접촉 유지 부재(680)는 누름부(684)가 이동 로드(620)를 향하고 안내부(686)가 이동 로드(620)부터 멀어지도록 배치된다. 누름부(684)는 고정 핀(680a)을 기준으로 캠(720)의 반대 측에 배치된다. 안내부(686)는 몸체(300)의 반경 방향으로부터 멀어질수록 이동 로드(620)와의 간격이 멀어지도록 배치된다.
도 21은 접촉 유지 부재(680)가 동작되는 과정을 보여준다. 스핀 헤드(40)가 회전되지 않을 때에는 누름부(684)에는 힘이 제공되지 않는다. 이동 로드(620)가 캠(720)의 회전에 의해 몸체(300)의 중심으로부터 멀어지는 방향으로 이동될 때, 고정 핀(680a)은 누름부(684)를 몸체(300)의 반경 방향의 외측으로 밀고, 누름 부(684)는 이동 로드(620)의 이동을 간섭하지 않는 위치로 회전된다. 이 때 안내부(686)가 설정 범위 이상 회전되지 않도록, 안내부(686)를 기준으로 이동 로드(620)의 반대측에는 몸체(300)에 고정 결합되는 스토퍼(687)가 제공된다. 척 핀(500)이 지지 위치로 이동되고 스핀 헤드(40)가 회전되는 동안에, 안내부(686)는 원심력을 받고, 이동 로드(620)를 향하는 방향으로 회전된다. 누름부(684)는 안내부(686)와 고정되어 있으므로 안내부(686)와 함께 회전된다. 즉, 누름부(684)는 역 원심력에 의해 고정 핀(680a)을 향하는 방향으로 회전되고, 고정 핀(680a)을 몸체(300)의 중심을 향하는 방향으로 밀어준다. 이는 스핀 헤드(40)가 회전되는 동안 척 핀(500)이 계속적으로 기판(W)의 측부에 접촉을 유지하도록 한다.
상술한 예에서 접촉 유지 부재(680)는 스핀 헤드(40)의 회전으로 인한 역 원심력에 의해 고정 핀(680a)을 밀어주므로, 접촉 유지 부재(680)의 회전을 위한 별도의 구동기가 불필요하고 장치 구조가 단순하다. 그러나 본 실시예와 달리, 접촉 유지 부재(680)는 별도의 구동기에 의해 스핀 헤드(40)가 회전될 때 이동 로드(620)를 몸체(300)의 중심을 향하는 방향으로 밀어주도록 구성될 수 있다.
종종 전 단계 공정에서 기판(W)에 수행된 공정의 종류에 따라 기판(W)의 지름이 변경된다. 예컨대, 전 단계 공정에서 기판(W)에 열처리 공정이 수행되는 경우 기판(W)이 팽창되어 기판(W)의 지름이 변화된다. 거리 조절기(660)는 기판(W)의 지지 위치를 조절한다. 거리 조절기(660)는 조절 블럭(662)과 고정쇠(664)를 가진다. 조절 블럭(662)은 상하 방향으로 슬릿 형상의 관통 구(662a)가 형성되며, 그 길이 방향이 이동 로드(620)의 이동 방향과 나란하도록 배치된다. 고정쇠(664)는 조절 블럭(662)을 몸체(300)에 고정시킨다. 고정쇠(664)는 머리부(664a)와 이로부터 연장되는 삽입부(664b)를 가진다. 머리부(664a)는 관통 구(662a)의 폭보다 넓은 단면적을 가지고, 삽입부(664b)는 관통 구(662a)를 통과한 후 몸체(300)에 형성된 나사 홈(도시되지 않음)과 결합된다. 삽입부(664b)가 몸체(300)에 삽입됨에 따라 머리부(664a)는 조절 블럭(662)을 몸체(300)에 대해 누르고, 이에 의해 조절 블럭(662)은 몸체(300)에 고정된다. 고정쇠(664)는 두 개가 제공될 수 있다. 이동 로드(620)에는 스토퍼(666)가 제공된다. 스토퍼(666)는 조절 블럭(662)이 스토퍼(666)와 캠(720) 사이에 위치되도록 이동 로드(620)에 제공된다. 스토퍼(666)는 척 핀 복원기(780)의 복원력에 의해 이동 로드(620)가 몸체(300)의 중심을 향하는 방향으로 이동될 때 조절 블럭(662)의 일 단과 접촉되어, 이동 로드(620)의 이동 거리를 제한한다.
척 핀(500)의 지지 위치를 변경하고자 하는 경우, 처음에 작업자는 고정쇠들(664)을 풀어주어, 머리부(664a)가 조절 블럭(662)을 누르는 힘을 제거한다. 다음에 작업자는 조절 블럭(662)을 이동시킨다. 조절 블럭(662)이 몸체(300)의 반경 방향으로 외측을 향해 이동하면, 척 핀(500)의 지지 위치가 몸체(300)의 중심에서 멀어지는 방향으로 변경된다. 조절 블럭(662)이 몸체(300)의 반경 방향의 내측으로 이동되면, 척 핀(500)의 지지 위치가 몸체(300)의 중심에 가까워지는 방향으로 변경된다. 이 후, 작업자는 다시 고정쇠(664)를 조여 조절 블럭(662)을 몸체(300)에 고정시킨다. 도 22는 조절 블럭(662)의 위치가 변경될 때 척 핀(500)의 지지 위치 가 변경된 상태를 보여준다. 실선은 조절 블럭(662)의 위치가 변경되기 전의 상태이고, 점선은 조절 블럭(662)의 위치가 변경된 후의 상태이다.
도 1은 본 발명의 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 2는 본 발명의 용기를 보여주는 단면도이다.
도 3은 도 2의 용기 내부를 보여주는 종방향으로 절단된 용기의 사시도이다.
도 4는 스핀 헤드의 평면도이다.
도 5는 도 4의 선 Ⅰ-Ⅰ를 따라 절단한 스핀 헤드의 단면도이다.
도 6은 척 핀의 일 실시예를 보여주는 사시도이다.
도 7은 도 6의 척 핀의 변형 예를 보여주는 사시도이다.
도 8은 도 6의 척 핀에 의해 기판의 측부가 지지된 상태를 보여주는 도면이다.
도 9는 기판이 회전될 때 기류의 흐름을 보여주는 도면이다.
도 10은 척 핀의 다른 실시예를 보여주는 사시도이다.
도 11은 도 10의 척 핀에 의해 기판의 측부가 지지된 상태를 보여주는 도면이다.
도 12는 기판이 몸체에 의해 지지된 상태, 그리고 상부 노즐 부재로부터 공급된 처리액의 흐름과 하부 노즐 부재로부터 공급된 가스의 흐름을 보여주는 도면이다.
도 13은 도 4의 선 Ⅱ-Ⅱ를 따라 절단한 스핀 헤드의 단면도이다.
도 14는 도 13의 'A'에서 바라본 하판을 보여주는 도면이다.
도 15는 상판이 팽창시 상판과 하판 사이의 관계를 보여주는 도면이다.
도 16은 척 핀 이동 유닛을 보여주기 위해 아래에서 바라본 하판의 내부 구조이다.
도 17은 도 16의 'B' 부분의 확대도이다.
도 18은 도 17의 캠 복원기의 다른 예를 보여주는 도면이다.
도 19는 척 핀 복원기의 다른 예를 보여주는 도면이다.
도 20a와 도 20b는 척 핀이 대기 위치와 지지 위치 간에 이동될 때 척 핀 이동 유닛의 구성들에 작용되는 힘과 구성들의 이동 방향을 보여주는 도면이다.
도 21은 접촉 유지 부재가 역 원심력에 의해 척 핀이 기판과 접촉되도록 하는 과정을 보여주는 도면이다.
도 22는 조절 블럭의 위치 변경으로 인해 척 핀의 지지 위치가 변경되는 과정을 보여주는 도면이다.
도 23은 일반적인 스핀 헤드를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 24는 도 23과 같은 구조의 척 핀 사용시 문제점을 보여주는 도면이다.
도 25는 도 23과 같은 지지 핀 사용시 문제점을 보여주는 도면이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 유체 공급 유닛 20 : 용기
30 : 승강 유닛 40 : 스핀 헤드
100a : 상부 노즐 부재 100b : 하부 노즐 부재
220 : 내부 회수통 240 : 중간 회수통
260 : 외부 회수통 300 : 몸체
320 : 상판 340 : 하판
360 : 누름쇠 500 : 척 핀
520 : 수직 로드 540 : 지지 로드
600 : 척 핀 이동 유닛 620 : 이동 로드
640 : 직선 이동 가이드 부재 660 : 거리 조절기
680 : 접촉 유지 부재 700 : 직선 이동기
720 : 캠 740 : 돌기
760 : 캠 복원기 780 : 척 핀 복원기

Claims (33)

  1. 기판을 지지하는 스핀 헤드에 있어서,
    회전 가능한 몸체와; 그리고
    상기 몸체로부터 상부로 돌출되는, 그리고 회전시 상기 몸체에 놓인 기판의 측부를 지지하는 척 핀들을 포함하되,
    상기 척 핀은,
    상하 방향으로 상기 몸체에 제공된 수직 로드와; 그리고
    상기 수직 로드로부터 측 방향으로 연장되며, 회전시 상기 몸체에 놓인 기판의 측부와 접촉되는 지지 로드를 포함하는 것을 특징으로 하는 스핀 헤드.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 지지 로드는 그 끝단까지 연장되며 상부에서 바라볼 때 폭이 감소 되도록 형상 지어진 접촉부를 가지는 것을 특징으로 하는 스핀 헤드.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 접촉부는 상기 지지 로드의 길이 방향을 따라 라운드진 측면을 가지는 것을 특징으로 하는 스핀 헤드.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 접촉부는 상기 지지 로드의 길이 방향을 따라 유선형으로 제공된 측면을 가지는 것을 특징으로 하는 스핀 헤드.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 수평 로드는 그 길이방향을 따라 상기 몸체의 상부 면으로부터 높이가 동일하게 제공된 것을 특징으로 하는 스핀 헤드.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 지지 로드는 상기 수직 로드로부터 연장되는 부분으로부터 끝단까지 상부에서 바라볼 때 폭이 점진적으로 감소 되도록 형상 지어진 것을 특징으로 하는 스핀 헤드.
  7. 제 2 항에 있어서,
    상기 수평 로드의 끝단은 상부에서 바라볼 때 점으로서 제공되는 것을 특징으로 하는 스핀 헤드.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 지지 로드는,
    상기 수직 로드로부터 측 방향으로 연장되는 수평 로드와;
    상기 수평 로드의 끝단으로부터 아래 방향으로 굴곡 지는 접촉 로드를 포함 하는 것을 특징으로 하는 스핀 헤드.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 접촉 로드는 그 길이방향을 따라 동일한 단면을 가지는 것을 특징으로 하는 스핀 헤드.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 접촉 로드는 그 단면이 상기 수직 로드로부터 멀어지는 방향으로 갈수록 폭이 좁아지도록 형상 지어진 것을 특징으로 하는 스핀 헤드.
  11. 제 8 항에 있어서,
    상기 접촉 로드는 유선형으로 제공된 측면을 가지는 것을 특징으로 하는 스핀 헤드.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 수직 로드는 단면이 원형으로 제공되며,
    상부에서 바라볼 때 상기 접촉 로드의 단면의 폭은 상기 수직 로드의 단면의 지름보다 적은 폭으로 제공되는 것을 특징으로 하는 스핀 헤드.
  13. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 스핀 헤드는 상기 몸체의 반경 방향을 따라 상기 척 핀들을 이동시키는 척 핀 이동 유닛을 포함하되,
    상기 척 핀 이동 유닛은,
    상기 지지 로드와 고정 결합되는 이동 로드들과;
    회전 가능하며, 상기 척 핀이 상기 몸체의 중심으로부터 멀어지는 방향으로 이동될 수 있도록 상기 외측면에 돌기를 가지는 캠과; 그리고
    상기 척 핀들 각각이 서로 독립적으로 상기 몸체의 중심을 향하는 방향으로 이동되도록 상기 이동 로드 각각에 독립적으로 힘을 인가하는 척 핀 복원기들을 구비하는 것을 특징으로 하는 스핀 헤드.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 척 핀 이동 유닛은,
    상기 몸체가 회전시 원심력에 의해 상기 척 핀들이 상기 몸체의 중심으로부터 멀어지는 것을 방지하기 위해 상기 척 핀들을 상기 몸체의 중심을 향하는 방향으로 밀어주는 접촉 유지 부재들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스핀 헤드.
  15. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 몸체에는 그 상부에 놓인 기판을 상기 몸체로부터 이격시키도록 가스를 분사하는 하부 노즐 부재가 형성되는 것을 특징으로 하는 스핀 헤드
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 하부 노즐 부재의 분사구는 상기 몸체의 상면에 원형으로 형성되는 것을 특징으로 하는 스핀 헤드.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 하부 노즐 부재는,
    가스 공급관과 연결되며 그 길이방향을 따라 동일한 단면적을 가지는 통로부와;
    상기 통로부로부터 상부로 연장되어 상기 분사구와 통하며, 상부로 갈수록 점진적으로 단면적이 커지는 분사부를 가지는 것을 특징으로 하는 스핀 헤드.
  18. 회전에 의해 기판을 지지하는 스핀 헤드에서 기판의 측부를 지지하기 위해 사용되는 척 핀에 있어서,
    상기 척 핀은,
    상하 방향으로 배치되는 수직 로드와;
    상기 수직 로드로부터 측 방향으로 연장되는 지지 로드를 포함하는 것을 특징으로 하는 척 핀.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 지지 로드는 그 끝단까지 연장되며 상기 끝단으로 갈수록 폭이 점진적 으로 감소되는 접촉부를 가지는 것을 특징으로 하는 척 핀.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 접촉부는 상기 지지 로드의 길이방향을 따라 라운드진 측면을 가지는 것을 특징으로 하는 척 핀.
  21. 제 19 항에 있어서,
    상기 접촉부는 유선형으로 제공된 측면을 가지는 것을 특징으로 하는 척 핀.
  22. 제 19 항에 있어서,
    상기 수평 로드는 그 길이방향을 따라 상기 몸체의 상부 면으로부터 높이가 동일하게 제공된 것을 특징으로 하는 척 핀.
  23. 제 18 항에 있어서,
    상기 지지 로드는,
    상기 수직 로드로부터 측 방향으로 연장되는 수평 로드와;
    상기 수평 로드의 끝단으로부터 아래 방향으로 굴곡 지는 접촉 로드를 포함하는 것을 특징으로 하는 척 핀.
  24. 제 23 항에 있어서,
    상기 접촉 로드는 그 단면이 상기 수직 로드로부터 멀어지는 방향으로 갈수록 폭이 좁아지도록 형상 지어진 것을 특징으로 하는 척 핀.
  25. 제 24 항에 있어서,
    상기 접촉 로드는 그 길이방향을 따라 동일한 단면을 가지는 것을 특징으로 하는 척 핀.
  26. 제 24 항에 있어서,
    상기 접촉 로드는 유선형으로 제공된 측면을 가지는 것을 특징으로 하는 척 핀.
  27. 기판을 처리하는 방법에 있어서,
    스핀 헤드에 놓인 기판의 측부에 척 핀들을 접촉시켜 상기 기판을 지지하되,
    상기 척 핀은 상하 방향으로 상기 몸체에 제공된 수직 로드와 상기 수직 로드로부터 측 방향으로 연장되는 지지 로드를 포함하고,
    상기 척 핀이 상기 기판을 지지할 때, 상기 수직 로드는 상기 기판으로부터 측방향으로 이격되게 위치되고, 상기 접촉 로드의 끝단이 상기 기판에 접촉되도록 하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  28. 제 27 항에 있어서,
    상기 접촉 로드는 그 끝단까지 연장되며 상부에서 바라볼 때 폭이 감소 되도록 형상 지어진 접촉부를 가지며, 상기 접촉 로드는 상기 스핀 헤드에 놓인 기판과 동일 높이로 수평 방향으로 배치되도록 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  29. 제 27 항에 있어서,
    상기 지지 로드는 상기 수직 로드로부터 측 방향으로 연장되는 수평 로드와 상기 수평 로드의 끝단으로부터 아래 방향으로 굴곡 지는 접촉 로드를 가지며, 상기 수평 로드는 상기 스핀 헤드에 놓인 기판보다 높은 높이로 수평 방향으로 배치되도록 제공되고, 상기 접촉 로드는 상기 스핀 헤드에 놓인 기판과 동일 높이 또는 그 아래까지 연장되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  30. 제 29 항에 있어서,
    상기 접촉 로드는 상부에서 바라볼 때 그 단면이 상기 수직 로드로부터 멀어지는 방향으로 갈수록 폭이 좁아지도록 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  31. 제 30 항에 있어서,
    상기 접촉 로드는 그 길이방향을 따라 동일한 단면을 가지도록 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  32. 제 27항 내지 제 31 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판은 패턴 면이 아래를 향하도록 상기 스핀 헤드 상에 놓이고, 상기 스핀 헤드가 회전하면서 상기 기판의 상부 중앙에서 상기 기판으로 처리액이 공급되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  33. 제 32 항에 있어서,
    상기 기판은 상기 스핀 헤드로부터 상부를 향하도록 분사되는 가스압에 의해 상기 스핀 헤드로부터 이격되게 놓이는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
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