KR20090008534A - 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물 및 이의제조방법 - Google Patents
옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물 및 이의제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20090008534A KR20090008534A KR1020070071545A KR20070071545A KR20090008534A KR 20090008534 A KR20090008534 A KR 20090008534A KR 1020070071545 A KR1020070071545 A KR 1020070071545A KR 20070071545 A KR20070071545 A KR 20070071545A KR 20090008534 A KR20090008534 A KR 20090008534A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- formula
- group
- ppm
- compound
- photoactive compound
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C259/00—Compounds containing carboxyl groups, an oxygen atom of a carboxyl group being replaced by a nitrogen atom, this nitrogen atom being further bound to an oxygen atom and not being part of nitro or nitroso groups
- C07C259/04—Compounds containing carboxyl groups, an oxygen atom of a carboxyl group being replaced by a nitrogen atom, this nitrogen atom being further bound to an oxygen atom and not being part of nitro or nitroso groups without replacement of the other oxygen atom of the carboxyl group, e.g. hydroxamic acids
- C07C259/06—Compounds containing carboxyl groups, an oxygen atom of a carboxyl group being replaced by a nitrogen atom, this nitrogen atom being further bound to an oxygen atom and not being part of nitro or nitroso groups without replacement of the other oxygen atom of the carboxyl group, e.g. hydroxamic acids having carbon atoms of hydroxamic groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/32—Oximes
- C07C251/34—Oximes with oxygen atoms of oxyimino groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C233/00—Carboxylic acid amides
- C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
- C07C233/16—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms
- C07C233/17—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom
- C07C233/18—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom having the carbon atom of the carboxamide group bound to a hydrogen atom or to a carbon atom of an acyclic saturated carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/32—Oximes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/32—Oximes
- C07C251/34—Oximes with oxygen atoms of oxyimino groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals
- C07C251/36—Oximes with oxygen atoms of oxyimino groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals with the carbon atoms of the oxyimino groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/23—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
- C07C323/46—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms
- C07C323/47—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms to oxygen atoms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
Description
Claims (11)
- 하기 화학식 1a 또는 화학식 1b로 표시되는 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물:<화학식 1a><화학식 1b>상기 화학식 1a 또는 화학식 1b에서,n=2이며,X는 2가의 C2~C6의 알킬렌; 할로겐, CN, C1~C6의 알킬, C1~C6의 알콕시, C1~C6의 알킬티오기, 및 모폴리노기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 페닐렌, 비페닐렌, 비스페닐렌, 스티릴렌, 또는 나프틸렌; 할로겐, CN, C1~C6의 알킬, C1~C6의 알콕시, C1~C6의 알킬티오기, 및 모폴리노기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환된 또는 비치환된 C5~C20의 아릴렌기; 할로겐, CN, C1~C6의 알킬, C1~C6의 알콕시, C1~C6의 알킬티오기, 및 모폴리노기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환된 또는 비치환된, O, N 또는 S를 포함하는 C4~C20의 2가 이형고리기; 또는 , , , 및 으로 이루어진 군으로부터 선택되고(*는 연결부위이다),Y는 C1~C6의 알킬; 할로겐, CN, C1~C6의 알킬, C1~C6의 알콕시, C1~C6의 알킬티오기, 및 모폴리노기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환 또는 비치환된 페닐; 할로겐, CN, C1~C6의 알킬, C1~C6의 알콕시, C1~C6의 알킬티오기, 및 모폴리노기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환된 또는 비치환된 C5~C20의 아릴; 할로겐, CN, C1~C6의 알킬, C1~C6의 알콕시, C1~C6의 알킬티오기, 및 모폴리노기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 기로 치환된 또는 비치환된, O, N 또는 S를 포함하는 C4~C20의 이형고리기로 이루어진 군으로부터 선택되고,R1, R2, R3는 C1~C6의 알킬, 니트릴 및 페닐로 이루어진 군으로부터 선택된다.
- 3) 상기 2) 단계에서 생성된 화합물에 R1-C(O)-Cl, R2-C(O)-Cl, R3-C(O)-Cl 및 염기를 첨가하여 화학식 1a 또는 화학식 1b와 같은 구조의 화합물을 생성하는 단계를 포함하는 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물의 제조방법:상기 제조방법에서, n, X, Y, R1, R2, 및 R3의 정의는 상기 화학식 1a 및 화학식 1b에서의 정의와 같다.
- 청구항 4에 있어서, 상기 1) 단계에서 사용되는 상기 염기는 수산화 나트륨 또는 아세트산 나트륨인 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물의 제조방법.
- 청구항 4에 있어서, 상기 1) 단계에서 사용되는 상기 염기는 물에 희석하여 사용하는 것인 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물의 제조방법.
- 청구항 6에 있어서, 상기 1) 단계에서 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 중 선택되는 어느 하나를 용매로 추가하여 사용하는 것인 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물의 제조방법.
- 청구항 4에 있어서, 상기 2) 단계에서 상기 NH2OH·HCl과 카르복실산의 나트륨 염을 물에 희석하여 사용하는 것인 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물의 제조방법.
- 청구항 8에 있어서, 상기 2) 단계에서 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 중 선택되는 어느 하나를 용매로 추가하여 사용하는 것인 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물의 제조방법.
- 청구항 4에 있어서, 상기 3) 단계에서 상기 염기는 아민인 것인 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물의 제조방법.
- 청구항 10에 있어서, 상기 3) 단계에서 디클로로메탄, 클로로포름, 테트라히드로퓨란, 디에틸 에테르, 및 에틸 아세테이트 중 선택되는 어느 하나를 용매로 추가하여 사용하는 것인 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물의 제조방법.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070071545A KR101007440B1 (ko) | 2007-07-18 | 2007-07-18 | 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물 및 이의제조방법 |
JP2010502954A JP5132759B2 (ja) | 2007-07-18 | 2008-07-15 | オキシムエステルを含む樹枝状光活性化合物およびその製造方法 |
EP08778812A EP2164826B1 (en) | 2007-07-18 | 2008-07-15 | Dendritic photoactive compound comprising oxime ester and method for preparing the same |
US12/452,690 US8198462B2 (en) | 2007-07-18 | 2008-07-15 | Dendritic photoactive compound comprising oxime ester and method for preparing the same |
PCT/KR2008/004154 WO2009011538A2 (en) | 2007-07-18 | 2008-07-15 | Dendritic photoactive compound comprising oxime ester and method for preparing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070071545A KR101007440B1 (ko) | 2007-07-18 | 2007-07-18 | 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물 및 이의제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090008534A true KR20090008534A (ko) | 2009-01-22 |
KR101007440B1 KR101007440B1 (ko) | 2011-01-12 |
Family
ID=40260216
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070071545A KR101007440B1 (ko) | 2007-07-18 | 2007-07-18 | 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물 및 이의제조방법 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8198462B2 (ko) |
EP (1) | EP2164826B1 (ko) |
JP (1) | JP5132759B2 (ko) |
KR (1) | KR101007440B1 (ko) |
WO (1) | WO2009011538A2 (ko) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013018978A1 (ko) * | 2011-08-04 | 2013-02-07 | 주식회사 엘지화학 | 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 |
KR101384478B1 (ko) * | 2012-05-31 | 2014-04-10 | 주식회사 엘지화학 | 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 |
KR101403775B1 (ko) * | 2012-05-30 | 2014-06-03 | 주식회사 엘지화학 | 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5760374B2 (ja) * | 2009-10-23 | 2015-08-12 | 三菱化学株式会社 | ケトオキシムエステル系化合物及びその利用 |
JP2012184175A (ja) * | 2011-03-03 | 2012-09-27 | Taoka Chem Co Ltd | 高純度3−アセチル−9−エチルカルバゾールの製造方法。 |
EP2788325B1 (en) * | 2011-12-07 | 2016-08-10 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
WO2013165207A1 (ko) | 2012-05-03 | 2013-11-07 | 한국화학연구원 | 신규한 옥심에스테르 플로렌 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물 |
CN103819583B (zh) * | 2014-03-18 | 2016-05-18 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 一种含硝基双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
CN104614940B (zh) * | 2015-02-05 | 2019-04-09 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种感光性树脂组合物及其应用 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2393345A1 (fr) * | 1977-06-01 | 1978-12-29 | Agfa Gevaert Nv | Fabrication d'elements modifies sous forme d'images |
GB2029423A (en) | 1978-08-25 | 1980-03-19 | Agfa Gevaert Nv | Photo-polymerisable materials and recording method |
JPH0721630B2 (ja) | 1984-11-14 | 1995-03-08 | 旭化成工業株式会社 | 感光性組成物 |
US4590145A (en) | 1985-06-28 | 1986-05-20 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Photopolymerization initiator comprised of thioxanthones and oxime esters |
JPS6468750A (en) | 1987-09-09 | 1989-03-14 | Asahi Chemical Ind | Formation of pattern having heat resistance |
JPH034226A (ja) | 1989-06-01 | 1991-01-10 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 耐熱性を有するパターンの形成方法 |
JP3651713B2 (ja) * | 1996-02-29 | 2005-05-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
US6001517A (en) | 1996-10-31 | 1999-12-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Positive photosensitive polymer composition, method of forming a pattern and electronic parts |
JP3723312B2 (ja) | 1997-02-25 | 2005-12-07 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
JP3004226B2 (ja) | 1997-07-11 | 2000-01-31 | 一志 毅 | 法面保護工法及び該工法に用いる金網 |
SG77689A1 (en) | 1998-06-26 | 2001-01-16 | Ciba Sc Holding Ag | New o-acyloxime photoinitiators |
EP1163553B1 (en) | 1999-03-03 | 2006-06-14 | Ciba SC Holding AG | Oxime derivatives and the use thereof as photoinitiators |
CN100528838C (zh) | 2001-06-11 | 2009-08-19 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 具有复合结构的肟酯光引发剂 |
KR100897224B1 (ko) | 2004-02-23 | 2009-05-14 | 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 | 옥심 에스테르 화합물, 광중합성 조성물 및 이것을 사용한컬러 필터 |
TW200627061A (en) | 2004-10-20 | 2006-08-01 | Mitsubishi Chem Corp | Photosensitive composition, image-forming base material, image-forming material, and image-forming method |
JP2007041493A (ja) * | 2004-10-20 | 2007-02-15 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性組成物、及び青紫色レーザー用感光性組成物並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法 |
EP2144900B1 (en) * | 2007-05-11 | 2015-03-18 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
-
2007
- 2007-07-18 KR KR1020070071545A patent/KR101007440B1/ko active IP Right Grant
-
2008
- 2008-07-15 JP JP2010502954A patent/JP5132759B2/ja active Active
- 2008-07-15 WO PCT/KR2008/004154 patent/WO2009011538A2/en active Application Filing
- 2008-07-15 US US12/452,690 patent/US8198462B2/en active Active
- 2008-07-15 EP EP08778812A patent/EP2164826B1/en active Active
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013018978A1 (ko) * | 2011-08-04 | 2013-02-07 | 주식회사 엘지화학 | 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 |
US8871430B2 (en) | 2011-08-04 | 2014-10-28 | Lg Chem, Ltd. | Photoactive compound and photosensitive resin composition comprising the same |
KR101403775B1 (ko) * | 2012-05-30 | 2014-06-03 | 주식회사 엘지화학 | 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 |
KR101384478B1 (ko) * | 2012-05-31 | 2014-04-10 | 주식회사 엘지화학 | 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100145068A1 (en) | 2010-06-10 |
US8198462B2 (en) | 2012-06-12 |
EP2164826A4 (en) | 2012-02-29 |
WO2009011538A2 (en) | 2009-01-22 |
WO2009011538A3 (en) | 2009-03-19 |
EP2164826B1 (en) | 2013-04-03 |
KR101007440B1 (ko) | 2011-01-12 |
JP2010523650A (ja) | 2010-07-15 |
EP2164826A2 (en) | 2010-03-24 |
JP5132759B2 (ja) | 2013-01-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101007440B1 (ko) | 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물 및 이의제조방법 | |
KR101798220B1 (ko) | 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도 | |
TWI406847B (zh) | 肟酯化合物及使用其之感光性樹脂組成物 | |
JP5371471B2 (ja) | オキシムエステル化合物及びこれらを用いた感光性樹脂組成物 | |
US8168369B2 (en) | Photoactive compound and photosensitive resin composition containing the same | |
JP6328642B2 (ja) | シクロペンタンジオンオキシムエステルとその応用 | |
BE1010726A5 (fr) | Sulfonates d'oximes et leur utilisation comme acides sulfoniques latents. | |
TWI475006B (zh) | 光聚合起始劑及感光性組成物 | |
JP2500533B2 (ja) | 新規なジアゾジスルホン化合物 | |
KR20130016043A (ko) | 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 | |
JP2010538060A (ja) | 光活性化合物およびこれを含む感光性樹脂組成物 | |
JP5944898B2 (ja) | 光重合開始剤、感光性組成物及び硬化物 | |
JPWO2007049579A1 (ja) | スクアリリウム化合物およびそれを用いた短波長光源用光重合性組成物 | |
KR101102248B1 (ko) | 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 | |
JP7519276B2 (ja) | 新規な光重合開始剤及びこれらを用いた感光性樹脂組成物 | |
JP4865793B2 (ja) | オキシムエステルを有するトリアジン系光活性化合物 | |
KR20120009736A (ko) | 광중합 개시제 및 이를 이용한 감광성 수지 조성물 | |
KR20080068368A (ko) | 옥심 에스테르기와 트리아진기를 동시에 포함하는 광활성화합물 및 이를 포함하는 감광성 조성물 | |
CN107765510B (zh) | 一种9-苯基吖啶大分子类光敏剂及其制备方法和应用 | |
KR100781690B1 (ko) | 다가의 옥심 에스테르 기를 갖는 광 개시제 및 이의 제조방법 | |
JP6061697B2 (ja) | 新規な光重合開始剤及びその使用方法 | |
KR101546103B1 (ko) | 실릴기를 포함한 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 | |
KR101125543B1 (ko) | 광개시제 및 이의 제조방법 | |
ES2738849T3 (es) | Derivados de ácido bisacilfosfínico, su preparación y su uso como fotoiniciadores | |
CN118221545A (zh) | 一类长烷基酰胺侧链三苯胺衍生物及其制备方法和应用 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140103 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141231 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151229 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161227 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180102 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190102 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200102 Year of fee payment: 10 |