JPWO2007049579A1 - スクアリリウム化合物およびそれを用いた短波長光源用光重合性組成物 - Google Patents

スクアリリウム化合物およびそれを用いた短波長光源用光重合性組成物 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2007049579A1
JPWO2007049579A1 JP2007542576A JP2007542576A JPWO2007049579A1 JP WO2007049579 A1 JPWO2007049579 A1 JP WO2007049579A1 JP 2007542576 A JP2007542576 A JP 2007542576A JP 2007542576 A JP2007542576 A JP 2007542576A JP WO2007049579 A1 JPWO2007049579 A1 JP WO2007049579A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
substituent
compound
photopolymerizable composition
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2007542576A
Other languages
English (en)
Inventor
豊 大背戸
豊 大背戸
順三 山野
順三 山野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyowa Hakko Chemical Co Ltd
Original Assignee
Kyowa Hakko Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyowa Hakko Chemical Co Ltd filed Critical Kyowa Hakko Chemical Co Ltd
Publication of JPWO2007049579A1 publication Critical patent/JPWO2007049579A1/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C225/00Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones
    • C07C225/20Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C225/00Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones
    • C07C225/22Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/08Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms
    • C07D295/096Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms with the ring nitrogen atoms and the oxygen or sulfur atoms separated by carbocyclic rings or by carbon chains interrupted by carbocyclic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/12Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms
    • C07D295/135Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms with the ring nitrogen atoms and the substituent nitrogen atoms separated by carbocyclic rings or by carbon chains interrupted by carbocyclic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B57/00Other synthetic dyes of known constitution
    • C09B57/007Squaraine dyes
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/04Systems containing only non-condensed rings with a four-membered ring

Abstract

下記の一般式(I)[式中、R1とR2は、同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基等を表し、Xは、以下の式(A)(式中、R3は、置換基を有していてもよいフェニル基等を表し、R4は、メチル基またはエチル基を表し、R5、R6、R7およびR8は、同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基等を表し)等を表す]で表されるスクアリリウム化合物、ラジカル開始剤およびエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する光重合性組成物等を提供する。

Description

本発明は、スクアリリウム化合物を短波長光源用増感剤として用いた光重合性組成物に関する。
従来技術
短波長光源技術の進展により、これを露光光源として用いるリソグラフィー分野や印刷分野の研究開発が活発に行われている。また、短波長光源の価格低下により、これを用いたダイレクトイメージング(DI)への利用が検討されている。これに伴い、短波長光源用光重合性組成物の研究開発が行われており、DI用材料はもとより、配線パターン用材料、ソルダーレジスト用材料やレジストインキ用材料への応用研究が活発に行われている。
しかし、一般に短波長光源の出力は、従来の可視領域の光源と比較して小さいため、短波長光源の波長領域(350nm〜450nm)での光重合性組成物への増感作用付与が必要となる。350nm〜450nmの光に対応する増感剤としては、ベンゾフェノン系化合物やクマリン系化合物等が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特開2004−086122号公報
本発明の目的は、短波長光源の波長領域の光に対し、優れた感度を有する光重合性組成物を提供することにある。
本発明は、以下の[1]〜[6]を提供する。
[1] 一般式(I)
Figure 2007049579
[式中、RとRは、同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、または置換基を有していてもよい複素環基を表すか、あるいはRとRは、それぞれが隣接する窒素原子と一緒になって置換基を有していてもよい複素環基を形成してもよく、
Xは、以下の式(A)
Figure 2007049579
(式中、Rは、置換基を有していてもよいベンジル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表し、
は、メチル基またはエチル基を表し、
、R、RおよびRは、同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、または置換基を有していてもよい複素環基を表すか、あるいはRとRおよび/またはRとRは、それぞれが隣接するC−Cと一緒になって芳香環を形成してもよい)、または以下の式(B)
Figure 2007049579
(式中、R、R、RおよびRは、それぞれ前記と同義であり、
は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、または置換基を有していてもよい複素環基を表す)を表す]で表されるスクアリリウム化合物、ラジカル開始剤およびエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する光重合性組成物。
[2] スクアリリウム化合物が、一般式(IA)
Figure 2007049579
(式中、R、R、R、R、R、R、RおよびRは、それぞれ前記と同義である)で表される前記[1]記載の光重合性組成物。
[3] スクアリリウム化合物が、一般式(IB)
Figure 2007049579
(式中、R、R、R、R、R、RおよびRは、それぞれ前記と同義である)で表される前記[1]記載の光重合性組成物。
[4] スクアリリウム化合物が350nm〜450nmの波長領域に最大吸収波長を有する前記[1]〜[3]のいずれかに記載の光重合性組成物。
[5] 一般式(Ia)
Figure 2007049579
(式中、R1aとR2aは、同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、または置換基を有していてもよい複素環基を表すか、あるいはR1aとR2aは、それぞれが隣接する窒素原子と一緒になって置換基を有していてもよい複素環基を形成してもよく、
3a、R4a、R5a、R6a、R7aおよびR8aは、それぞれ前記R、R、R、R、RおよびRと同義である)で表されるスクアリリウム化合物。
[6] 一般式(Ib)
Figure 2007049579
(式中、R1b、R2b、R5b、R6b、R7bおよびR8bは、それぞれ前記R、R、R、R、RおよびRと同義であり、
9bは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、または置換基を有していてもよい複素環基を表す)で表されるスクアリリウム化合物。
本発明により、短波長光源の波長領域の光に対し、優れた感度を有する光重合性組成物を提供することができる。
以下、一般式(I)で表される化合物を化合物(I)という。他の式番号を付した化合物についても同様に表現する。
一般式の各基の定義において、アルキル基およびアルコキシル基におけるアルキル部分としては、例えば、直鎖もしくは分岐状の炭素数1〜6のアルキル基または炭素数3〜8の環状アルキル基があげられ、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、2−メチルブチル基、tert−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等があげられる。
アラルキル基としては、例えば、炭素数7〜15のアラルキル基があげられ、具体的には、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基等があげられる。
アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基等があげられる。
複素環基としては、芳香族複素環基および脂環式複素環基があげられる。
芳香族複素環基としては、例えば窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1個の原子を含む5員または6員の単環性芳香族複素環基、3〜8員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1個の原子を含む縮環性芳香族複素環基等があげられ、より具体的にはピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、キノリル基、イソキノリル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、ナフチリジニル基、シンノリニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、チエニル基、フリル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、インドリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、プリニル基、カルバゾリル基等があげられる。
脂環式複素環基としては、例えば窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1個の原子を含む5員または6員の単環性脂環式複素環基、3〜8員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1個の原子を含む縮環性脂環式複素環基等があげられ、より具体的にはピロリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、チオモルホリニル基、ホモピペリジル基、ホモピペラジニル基、テトラヒドロピリジル基、テトラヒドロキノリル基、テトラヒドロイソキノリル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、ジヒドロベンゾフラニル基、テトラヒドロカルバゾリル基等があげられる。
とRおよび/またはRとRが隣接するベンゼン環のC−Cと一緒になって形成される芳香環としては、例えば、二環または三環性の縮環性芳香環等があげられ、具体的には、ナフタレン環、アントラセン環等があげられる。
とRが隣接する窒素原子と一緒になって形成される複素環基およびR1aとR2aが隣接する窒素原子と一緒になって形成される複素環基としては、例えば、少なくとも1個の窒素原子を含む5員または6員の単環性複素環基(該単環性複素環基は、他の窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい)、3〜8員の環が縮合した二環または三環性で少なくとも1個の窒素原子を含む縮環性複素環基(該縮環性複素環基は、他の窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい)等があげられ、その具体例としては、ピロリジニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、チオモルホリノ基、ホモピペリジノ基、ホモピペラジニル基、テトラヒドロピリジル基、テトラヒドロキノリル基、テトラヒドロイソキノリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、インドリル基、インドリニル基、イソインドリル基等があげられる。
アルキル基およびアルコキシル基の置換基としては、例えば、同一または異なって1〜3個の置換基、具体的には、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基等があげられる。ここで、アルコキシル基におけるアルキル部分は前記と同義である。アルコキシアルコキシル基のアルキル部分は前記と同義であり、アルキレン部分は前記低級アルキル基から水素原子を1つ除いたものと同義である。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子があげられる。
アラルキル基、アリール基、複素環基、RとRが隣接する窒素原子と一緒になって形成される複素環基、R1aとR2aが隣接する窒素原子と一緒になって形成される複素環基、ベンジル基、およびフェニル基の置換基としては、例えば、同一または異なって1〜5個の置換基、具体的には、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシル基、ニトロ基、アルキル置換または非置換のアミノ基、ベンゾイル基等があげられる。ここで、ハロゲン原子、アルキル基およびアルコキシル基におけるアルキル部分は、それぞれ前記と同義である。アルキル置換のアミノ基のアルキル部分は前記アルキル基と同義である。なお、アルキル置換のアミノ基が2つのアルキル基で置換されたアミノ基である場合、2つのアルキル基は同一でも異なっていてもよい。
化合物(I)は、公知の方法(WO01/44233等)に準じて製造することができる。
例えば、化合物(Ia)および(Ib)は、以下のように製造することができる。
反応式1
Figure 2007049579
反応式2
Figure 2007049579
反応式3
Figure 2007049579
反応式4
Figure 2007049579
反応式5
Figure 2007049579
反応式6
Figure 2007049579
[式中、R1a、R2a、R3a、R4a、R5a、R6a、R7aおよびR8a、ならびにR1b、R2b、R5b、R6b、R7b、R8bおよびR9bはそれぞれ前記と同義であり、Wは塩素原子または臭素原子を表す]
反応式1
化合物(IV)は、化合物(II)と1〜2倍モルの化合物(III)とを、0〜2倍モルの塩基存在下で、溶媒中、0〜40℃で1〜20時間反応させることにより得られる。
溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド(DMSO)等があげられる。
塩基としては、例えばキノリン、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基または炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基があげられる。
化合物(III)は、市販品として入手が可能である。
反応式2
化合物(V)は、化合物(IV)を50〜90容量%の酢酸水溶液中で、90〜120℃で0.1〜7時間、または50〜99重量%のトリフルオロ酢酸水溶液中で、45〜50℃で0.1〜3時間処理することにより得られる。
反応式3
化合物(Ia)は、化合物(V)と1〜5倍モルの化合物(VIa)とを溶媒中、80〜150℃の温度で、1〜15時間反応させることにより得られる。
溶媒としては、例えば、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール系溶媒、または該アルコール系溶媒(50容量%以上)とベンゼン、トルエンもしくはキシレンとの混合溶媒等が用いられる。
反応後、必要に応じて、目的化合物を有機合成化学で通常用いられる方法(カラムクロマトグラフィー法または再結晶法)で精製してもよい。
化合物(VI)は、市販品として入手が可能である。
反応式4
化合物(VIII)は、化合物(II)と1〜2倍モルの化合物(VII)とを、1〜2倍モルの酸性触媒存在下で、溶媒中、0〜40℃で1〜20時間反応させることにより得られる。
溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン等の脂肪族ニトロ化炭化水素類があげられる。
酸性触媒としては、例えば塩化アルミニウム、臭化アルミニウム等のハロゲン化アルミニウム、フッ化第二鉄、塩化第二鉄、臭化第二鉄等のハロゲン化第二鉄、酸化第二鉄等の酸化鉄、フッ化第二アンチモン、塩化第二アンチモン等のハロゲン化第二アンチモン、塩化亜鉛、硫酸第二鉄、トリフルオロメタンスルホン酸、フルオロスルホン酸があげられる。
化合物(VII)は、市販品として入手が可能である。
反応式5
化合物(IX)は、化合物(VIII)を50〜90容量%の酢酸水溶液中で、90〜120℃で0.1〜7時間、または50〜99重量%のトリフルオロ酢酸水溶液中で、45〜50℃で0.1〜3時間処理することにより得られる。
反応式6
化合物(Ib)は、化合物(IX)と化合物(VIb)から、前記化合物(Ia)の合成法と同様な方法によって得られる
以下に、化合物(Ia)および(Ib)の好ましい具体例を例示する。
Figure 2007049579
本発明のスクアリリウム化合物は、光重合性組成物として使用することができ、短波長光源用増感剤、3次元記録材料としての二光子吸収用色素、フィルター用色素、あるいは短波長光源用記録材料として使用することができる。
短波長光源用の光重合性組成物は、350nm〜450nmの波長領域に最大吸収波長を有する増感剤を含有することが、黄色灯下での操作性の面からも好ましい。350nm〜450nmの波長領域に最大吸収波長を有するスクアリリウム化合物は、吸収波長領域が短波長光源の波長領域に合致するため、短波長光源用増感剤として適している。
次に、本発明の光重合性組成物について説明する。
本発明の光重合性組成物は、化合物(I)、ラジカル開始剤およびエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を混合させることにより得ることができる。必要に応じてバインダーあるいは通常の添加剤(例えば、重合加速剤、熱重合禁止剤、可塑剤等)を混合することにより調製してもよい。また、ソルダーレジスト用やレジストインキ用等の用途に応じて、上記光重合性組成物に、熱硬化性化合物を混合してもよく、成膜性向上のために無機充填剤等の添加剤を混合してもよい。
ラジカル開始剤としては、少なくとも1個のトリハロメチル基で置換したs−トリアジン化合物類〔2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(フラン−2−イル)ビニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシ−1−ナフタレニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等〕、有機過酸化物類〔3,3',4,4'−テトラキス(tert−ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン等〕、N−フェニルグリシン類(N−フェニルグリシン、p−クロロ−N−フェニルグリシン、m−メチル−N−フェニルグリシン等)、芳香族スルホニルハライド化合物類(ベンゼンスルホニルクロライド、p−トルエンスルホニルクロライド等)、イミダゾール二量体類〔2,2'−ビス(o−クロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール等)、金属−アレーン錯体類〔(η−ベンゼン)(η−シクロペンタジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェート、フルオロアリールチタノセン等〕、ジアリールヨードニウム塩(8−アニリノナフタレン−1−スルホン酸ジフェニルヨードニウム塩等)、トリアリールスルホニウム塩、分枝鎖状ポリエチレンイミン類、アルキルまたはアリールほう酸塩類(テトラブチルアンモニウムトリフェニルブチルボレート等)、芳香族ケトン類(チオキサントン等)、アルキルフェノン類(2−ベンジル−2−(ジメチルアミノ)−4'−モルホリノブチロフェノン等、あるいはベンゾインエーテル、ベンジルジメチルケタール等)、ジケトン類、アシルオキシムエステル類、硫黄化合物(チオール、ジスルフィド等)、ホスフィンオキシド類等があげられる。ラジカル開始剤は単独もしくは二種以上を混合して用いられる。
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、光重合性組成物を露光した場合に発生したラジカルにより付加重合し光重合性組成物の硬化や不溶化をもたらすものであればどのようなものでもよく、例えば、エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1つ有するモノマー、オリゴマーまたは主鎖もしくは側鎖にエチレン性不飽和二重結合を有するポリマー等が、単独もしくは二種以上を混合して用いられる。
エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1つ有するモノマーとしては、例えば、不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸とモノヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と芳香族ポリヒドロキシ化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸とポリヒドロキシ化合物とのエステル化反応により得られるエステル等があげられる。
不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸等があげられる。
不飽和カルボン酸とモノヒドロキシ化合物とのエステルとしては、例えば、メチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−フェノキシエチルアクリレート、p−クロロフェニルアクリレート、2−(1−ナフチルオキシ)エチルアクリレート、o−ビフェニルアクリレート、ペンタクロロフェニルアクリレート、2,4,6−トリブロモフェニルアクリレート、2−ナフチルアクリレート、2−(2−ナフチルオキシ)エチルアクリレート、トリフルオロエチルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、ジブロモプロピルアクリレート、エチル−2−クロロアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等のアクリル酸エステル、これらのアクリル酸部をメタクリル酸に代えた化合物、これらの誘導体等があげられる。
不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロキシ化合物とのエステルとしては、例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリス(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリセロールアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート等のアクリル酸エステル、これらのアクリル酸部をメタクリル酸に代えた化合物、その他、脂肪族ポリヒドロキシ化合物のイタコン酸エステル、クロトン酸エステル、マレイン酸エステル等があげられる。
不飽和カルボン酸と芳香族ポリヒドロキシ化合物とのエステルとしては、例えば、ハイドロキノンジアクリレート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリアクリレート等の他、EO変性ビスフェノールAジアクリレート、トリス(β−アクリロイルオキシエチル)−s−シアヌレート等の不飽和カルボン酸と芳香族ポリヒドロキシ化合物誘導体とのエステル等もあげられる。
不飽和カルボン酸と多価カルボン酸とポリヒドロキシ化合物とのエステル化反応により得られるエステルとしては、例えば、アクリル酸とフタル酸とエチレングリコールとの縮合物、アクリル酸とマレイン酸とジエチレングリコールとの縮合物、メタクリル酸とテレフタル酸とペンタエリスリトールとの縮合物、アクリル酸とアジピン酸とブタンジオールとグリセリンとの縮合物、アクリル酸とトリメット酸とジエチレングリコールとの縮合物等があげられる。
その他本発明に用いられるエチレン性不飽和二重結合を少なくとも1つ有するモノマーあるいはオリゴマーとしては、例えば、エチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類、フタル酸ジアクリル等のアリルエステルおよびそのプレポリマー、ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物、グリセリンジメタクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとの縮合物等のウレタンアクリレート、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドン等があげられる。
主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有するポリマーとしては、例えば、不飽和二価カルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反応により得られるポリエステル、不飽和二価カルボン酸とジアミンとの重縮合反応により得られるポリアミド等があげられる。
側鎖にエチレン性不飽和二重結合を有するポリマーとしては、例えば、側鎖に不飽和結合をもつ二価カルボン酸、例えば、イタコン酸、プロピリデンコハク酸、エチリデンマロン酸等とジヒドロキシまたはジアミン化合物との重縮合体等があげられる。また、側鎖にヒドロキシ基、ハロゲン化メチル基、エポキシ基等の官能基を有する重合体、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリレート)、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂ポリエピクロルヒドリン等とアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸との高分子反応により得られるポリマーも使用できる。
バインダーとしては、例えば、ポリメタクリル酸エステルまたはその部分加水分解物、ポリアクリル酸エステルまたはその部分加水分解物、ポリ酢酸ビニルまたはその部分加水分解物、酢酸ビニルとエチレンとの共重合体またはその部分加水分解物、ポリスチレン、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリクロロプレン、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、フェノールノボラックまたはクレゾールノボラック樹脂、ポリビニルフェノール、ビニルフェノールとメタクリル酸エステルとの共重合体、ポリエチレンオキサイド、ポリメチルイソプロペニルケトン、メタクリル酸エステルとフェニルイソプロペニルケトンとの共重合体、ポリウレタン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、アセチルセルロース、アセチルブチルセルロース、ニトロセルロース、ポリビニルカルバゾールまたはその誘導体、ビニルカルバゾールとスチレンとの共重合体、ビニルカルバゾールとメタクリル酸エステルとの共重合体、ビニルカルバゾールとアクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニルピロリドンまたはその誘導体、ビニルピロリドンとスチレンとの共重合体、ビニルピロリドンとメタクリル酸エステルとの共重合体、ビニルピロリドンとアクリル酸エステルとの共重合体、スチレンとマレイン酸(モノエステル)との共重合体、その他、アクリル酸エステル、アクリル酸、メタクリル酸エステル、メタクリル酸、(無水)マレイン酸、アクリロニトリル、アクリルアミド、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共重合可能なモノマーから2種以上選択して製造される共重合体等があげられる。
重合加速剤としては、例えば、2−メルカプトベンズチアゾール等があげられる。
熱重合禁止剤としては、例えば、p−tert−ブチルカテコール、ハイドロキノン、
クロラニル等があげられる。
可塑剤としては、例えば、ジエチルヘキシルフタレート、ジイソブチルフタレート、トリクレシルホスフェート、ジエチルヘキシルセバケート、ジエチルヘキシルアジペート等があげられる。
熱硬化性化合物としては、例えば、エポキシ基を少なくとも一つ以上有するメタクリレートモノマーあるいはアクリレートモノマー、エポキシ基を少なくとも一つ以上有するスチレンモノマー、他に反応性基を含まないポリグリシジル化合物等があげられ、さらにエポキシ基を二つ以上有するポリマー、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ウレタン変性エポキシ樹脂、エポキシ基含有共重合体等がそれぞれあげられる。
無機充填剤としては、例えば、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等があげられる。
本発明の光重合性組成物におけるラジカル開始剤の使用量は、化合物(I)1重量部(以下、重量部を部と称する)に対して、0.1〜100部、好ましくは1〜50部である。
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物の使用量は、化合物(I)1部に対して、2〜1000部、好ましくは20〜200部である。
バインダーの使用量は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物100部に対して10〜1000部、好ましくは60〜200部である。
熱重合禁止剤の使用量は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物100部に対して0.01〜10部、もしくは熱硬化性化合物に対して0.01〜10部である。
熱硬化性化合物および無機充填剤の使用量は、全組成物100部に対して、それぞれ0.1〜100部、好ましくは1〜20部および0.1〜80部、好ましくは1〜10である。
本発明の光重合性組成物は、350nm〜450nmの波長領域において優れた感度を有しており、短波長光源用の感光材料として有用である。
本発明の光重合性組成物は、DI用材料、配線パターン用材料、ソルダーレジスト用材料、レジストインキ用材料、フォトンモードCTP版材、ドライフィルムレジスト、デジタルプルーフ、ホログラム、短波長光源用記録材料、また、接着剤等の感光材料として使用することができる。
本発明の光重合性組成物をDI用材料等の用途に使用する場合は、本発明の光重合性組成物を含む溶液をスピンコート法等により塗布した基板(アルミニウム板、プリント配線板、銅張積層板等)に短波長光を照射し、続いて水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液等を現像液として現像を行い、水で洗浄し乾燥させることにより、DI用材料等を得ることができる。
以下に、実施例、試験例により、本発明をさらに具体的に説明する。
(化合物1の製造)
原料である4−(N−フェニル−N−メチルアミノフェニル)−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオンは、WO01/44233記載の方法に準じて合成した。
4−(N−フェニル−N−メチルアミノフェニル)−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオン400mgとアニリン135mgを、ブタノール1.5mlとトルエン1.5mlの混合溶媒に加え、120℃で6時間反応させた。その後、溶媒を留去し、残渣をメタノールにて再結晶し、析出した黄色固体を濾取することにより化合物1(332mg)を得た。
H−NMRδ(DMSO−d) ppm:3.37(3H,s),6.89(2H, d,J=8.3Hz),7.22−7.47(10H,m),7.88(2H,br),10.60(1H,br).
最大吸収波長(CHCl):409.0nm
モル吸光係数(CHCl):42800(mol/l)−1・cm−1
(化合物2の製造)
原料である4−(N−フェニル−N−メチルアミノフェニル)−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオンは、WO01/44233記載の方法に準じて合成した。
4−(N−フェニル−N−メチルアミノフェニル)−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオン400mgとn−オクチルアミン185mgを、ブタノール1.5mlとトルエン1.5mlの混合溶媒に加え、120℃で6時間反応させた。その後、溶媒を留去し、残渣をメタノールにて再結晶し、析出した黄色固体を濾取することにより化合物2(230mg)を得た。
H−NMRδ(DMSO−d) ppm:0.85(3H,t,J=6.8Hz),1.25−1.61(12H,m),3.67(2H,t,J=6.8Hz), 6.90(2H,d,J=9.0Hz),7.22(3H,m),7.43 (2H,m),7.86(2H,d,J=9.0Hz),8.81(1H,s).
最大吸収波長(CHCl):401.0nm
モル吸光係数(CHCl):44000(mol/l)−1・cm−1
(化合物3の製造)
原料である4−(N−ベンジル−N−エチルアミノフェニル)−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオンは、WO01/44233記載の方法に準じて合成した。
4−(N−フェニル−N−メチルアミノフェニル)−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオン400mgとn−オクチルアミン168mgを、ブタノール2.0mlとトルエン2.0mlの混合溶媒に加え、120℃で6時間反応させた。その後、溶媒を留去し、残渣をメタノールにて再結晶し、析出した黄色固体を濾取することにより化合物3(549mg)を得た。
H−NMRδ(DMSO−d) ppm:0.84(3H,t,J=7.1Hz),1.17(3H,t,J=6.8Hz),1.24−1.62(12H,m),3.52−3.68(2H,m),3.73(2H,t,J=7.1Hz),6.77(1H,d,J=3.4Hz),6.79(1H,d,J=3.4Hz),7.20−7.26(3H,m),7.31−7.35(2H,m),7.82(1H,d,J=9.0Hz),7.86(1H,d,J=9.0Hz),7.86(2H,d,J=9.0Hz),10.92(1H,s).
最大吸収波長(CHCl):404.0nm
モル吸光係数(CHCl):40300(mol/l)−1・cm−1
(化合物4の製造)
窒素雰囲気下、3,4−ジクロロ−3−シクロブテン−1,2−ジオン3.00gとトルエン1.83gをジクロロメタン5mlに溶解した。この溶液に塩化アルミニウム3.98gを少量ずつ加え、35℃で5時間攪拌した。その後、反応混合物に水とジクロロメタンを加え、有機層を水洗、乾燥した。溶媒を留去し、得られた黄色固体に酢酸15mlおよび水15mlを加え、70℃で1時間攪拌した。反応混合物をジクロロメタンで抽出、有機層を水洗、乾燥、濃縮して得られた結晶を水洗、乾燥し、4−トリル−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオン2.38gを得た。
4−トリル−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオン200mgとn−オクチルアミン137mgを、ブタノール1.5mlとトルエン1.5mlの混合溶媒に入れ、120℃で5時間反応させた。その後、析出した白色固体を濾取することにより化合物4(169mg)を得た。
H−NMRδ(DMSO−d) ppm:0.84(3H,t,J=6.8Hz),1.25−1.29(10H,m),1.66(2H,m),2.35(3H,s),3.81(2H,t,J=6.8Hz),7.31(2H,d,J=8.3Hz),7.92(1H,d,J=8.3Hz),11.71(1H,br).
最大吸収波長(CHCl):379.5nm
モル吸光係数(CHCl):44900(mol/l)−1・cm−1
(化合物5の製造)
原料である4−トリル−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオンは、実施例4と同様な操作により得た。
4−トリル−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオン50mgと2,6−ジイソプロピルアニリン47mgを、ブタノール0.75mlとトルエン0.75mlの混合溶媒に加え、120℃で5時間反応させた。その後、析出した黄白色固体を濾取することにより化合物5(54mg)を得た。
H−NMRδ(DMSO−d) ppm:1.14(12H,s),2.34(3H, s),2.98(2H,q,J=6.8Hz),7.28(2H,d,J=7.6Hz),7.34(2H,d,J=8.3Hz),7.41(1H,t,J=7.6Hz),7.97(2H,d,J=8.1Hz).
最大吸収波長(CHCl):389.5nm
モル吸光係数(CHCl):41900(mol/l)−1・cm−1
(化合物6の製造)
窒素雰囲気下、3,4−ジクロロ−3−シクロブテン−1,2−ジオン4.00gと1,3,5−トリメチルベンゼン2.87gをジクロロメタン5mlに溶解した。この溶液に塩化アルミニウム3.53gを少量ずつ加え、35℃で3時間攪拌した。その後、反応混合物に水とジクロロメタンを加え、有機層を水洗、乾燥した。溶媒を留去し、得られた黄色固体に酢酸20mlおよび水20mlを加え、70℃で1時間攪拌した。反応混合物をジクロロメタンで抽出、有機層を水洗、乾燥、濃縮して得られた結晶を水洗、乾燥し、4−(1,3,5−トリメチルフェニル)−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオン4.37gを得た。
4−(1,3,5−トリメチルフェニル)−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオン100mgとn−オクチルアミン60mgを、ブタノール1.0mlとトルエン1.0mlの混合溶媒に加え、120℃で6時間反応させた。その後、溶媒を留去し、残渣をPLC分取用プレート(展開溶媒 クロロホルム:メタノール=5:1)にて分離精製することにより化合物6(16mg)を得た。
H−NMRδ(DMSO−d) ppm:0.85(12H,s),2.34(3H,s),2.98(2H,q,J=6.8Hz),7.28(2H,d,J=7.6Hz), 7.34(2H,d,J=8.3Hz),7.41(1H,t,J=7.6Hz),7.97(2H,d,J=8.1Hz).
最大吸収波長(CHCl):338.0nmと390.0nm
モル吸光係数(CHCl):21900(mol/l)−1・cm−1
(化合物7の製造)
窒素雰囲気下、3,4−ジクロロ−3−シクロブテン−1,2−ジオン3.00gとベンゼン1.55gをジクロロメタン5mlに溶解した。この溶液に塩化アルミニウム3.98gを少量ずつ加え、35℃で5時間攪拌した。その後、反応混合物に水とジクロロメタンを加え、有機層を水洗、乾燥した。溶媒を留去し、得られた黄色固体に酢酸20mlおよび水20mlを加え、70℃で3時間攪拌した。反応混合物をジクロロメタンで抽出、有機層を水洗、乾燥、濃縮して得られた結晶を水洗、乾燥し、4−フェニル−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオン1.92gを得た。
4−フェニル−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオン100mgとn−オクチルアミン74mgを、ブタノール0.75mlとトルエン0.75mlの混合溶媒に加え、120℃で6時間反応させた。その後、溶媒を留去し、残渣をメタノールにて再結晶し、析出した白桃色固体を濾取することにより化合物7(16mg)を得た。
H−NMRδ(DMSO−d) ppm:0.84(3H,t,J=6.8Hz),1.25−1.66(12H,m),3.83(2H,t,J=6.8Hz),7.44−7.51(3H,m),8.00−8.03(2H,m).
最大吸収波長(CHCl):372.5nm
モル吸光係数(CHCl):34200(mol/l)−1・cm−1
(化合物8の製造)
原料である4−フェニル−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオンは、実施例7と同様な操作により得た。
4−フェニル−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオン100mgとモルホリン51mgを、ブタノール0.75mlとトルエン0.75mlの混合溶媒に加え、120℃で6時間反応させた。その後、析出した黄白色固体を濾取することにより化合物8(118mg)を得た。
H−NMRδ(DMSO−d) ppm:3.91(4H,t,J=4.6Hz),4.13(4H,t,J=4.4Hz),7.45−7.51(3H,m),8.00−8.01(2H,m).
最大吸収波長(CHCl):385.0nm
モル吸光係数(CHCl):40800(mol/l)−1・cm−1
(化合物9の製造)
窒素雰囲気下、3,4−ジクロロ−3−シクロブテン−1,2−ジオン3.00gとナフタレン2.55gをジクロロメタン5mlに溶解した。この溶液に塩化アルミニウム3.98gを少量ずつ加え、35℃で5時間攪拌した。その後、反応混合物に水とジクロロメタンを加え、有機層を水洗、乾燥した。溶媒を留去し、得られた黄色固体に酢酸15mlおよび水15mlを加え、70℃で1時間攪拌した。反応混合物をジクロロメタンで抽出、有機層を水洗、乾燥、濃縮して得られた結晶を水洗、乾燥し、4−(1−ナフチル)−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオン0.70gを得た。
4−(1−ナフチル)−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオン50mgとn−オクチルアミン29mgを、ブタノール0.75mlとトルエン0.75mlの混合溶媒に加え、120℃で5時間反応させた。その後、析出した黄色固体を濾取することにより化合物5(9mg)を得た。
H−NMRδ(DMSO−d) ppm:0.84(3H,t,J=6.8Hz),1.26−1.32(10H,m),1.71(2H,t,J=6.8Hz),3.91(2H,t,J=7.1Hz),7.58−7.94(3H,m),7.96(1H,d,J=7.6Hz),8.02(1H,d,J=8.1Hz),8.62(1H,d,J=7.6Hz),9.24(1H,d,J=8.1Hz).
最大吸収波長(CHCl):420.5nm
モル吸光係数(CHCl):41900(mol/l)−1・cm−1
(化合物10の製造)
原料である4−(N−フェニル−N−メチルアミノフェニル)−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオンは、WO01/44233記載の方法に準じて合成した。
4−(N−フェニル−N−メチルアミノフェニル)−3−ヒドロキシシクロブテン−1,2−ジオン100mgと2−アミノベンゾフェノン108mgを、ブタノール1.5mlとトルエン1.5mlの混合溶媒に加え、120℃で6時間反応させた。その後、析出した赤褐色固体を濾取することにより化合物10(108mg)を得た。
H−NMRδ(DMSO−d) ppm:3.35(3H,s),6.84(2H, d,J=9.0Hz),7.24−7.69(16H,m),10.76(1H,br).
最大吸収波長(CHCl):428.0nm
モル吸光係数(CHCl):43100(mol/l)−1・cm−1
ペンタエリスリトールトリアクリレート(新中村化学工業株式会社製、NK ESTER―TMM―3)100部、ポリビニルピロリドン(東京化成工業株式会社製、K-90、重量平均分子量360000)100部、2−ベンジル−2−(ジメチルアミノ)−4'−モルホリノブチロフェノン(シグマアルドリッチジャパン株式会社製;ラジカル開始剤)8部、化合物1〜5のスクアリリウム化合物1部をエチルセロソルブ1900部に溶解して光重合性組成物1〜5を得た。これらの光重合性組成物をそれぞれ、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、回転塗布法により製膜し、温風乾燥し、光重合性組成物の膜を作製した。
[比較例1]
増感剤であるスクアリリウム化合物の代わりに、Coumarin153(シグマアルドリッチジャパン株式会社製、最大吸収波長419nm(アセトニトリル溶液中))を使用し、実施例11に記載の方法で膜を作製した。また、実施例11に記載の方法において、増感剤であるスクアリリウム化合物を加えないことで(その他の条件は実施例11と同一)、色素無の膜を作製した。
[試験例1]
実施例11および比較例1により得られた光重合性組成物の膜の感度を「フォトポリマーの基礎と応用」(監修 山岡亜夫 株式会社シーエムシー出版 1997年)に準じて評価した。
窒素気流下、超高圧水銀灯の光をY−50 シャープカットフィルター(旭テクノグラス製)、L−39 シャープカットフィルター(旭テクノグラス製)、ND−25 減光フィルター(旭テクノグラス製)、およびステップタブレットを通して膜に露光した。次いで、水により現像を行い、膜の残存段数に相当するステップタブレットの透過度、紫外線積算照度計UVPF−AI(アイグラフィックス株式会社製)および受光器PD405(アイグラフィックス株式会社製)により求めた照射光量から、硬化に必要な最低エネルギー量を求め、これを光重合性組成物の膜の感度とした。
光重合性組成物1〜5を使用した場合の膜の感度および色素無として作製した場合の膜の感度を、Coumarin153を使用した場合の膜の感度を1として、その相対比(相対感度)で、表1に示す。
Figure 2007049579
ペンタエリスリトールトリアクリレート(新中村化学工業株式会社製、NK ESTER―TMM―3)100部、ポリビニルピロリドン(東京化成工業株式会社製、K-90、重量平均分子量360000)100部、2−[2−(フラン−2−イル)ビニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン(和光純薬株式会社製;ラジカル開始剤)8部、化合物2、化合物3または化合物5のスクアリリウム化合物1部をエチルセロソルブ1900部に溶解して光重合性組成物6〜8を得た。これらの光重合性組成物をそれぞれ、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、回転塗布法により製膜し、温風乾燥し、光重合性組成物の膜を作製した。
[比較例2]
増感剤であるスクアリリウム化合物の代わりに、Coumarin153(シグマアルドリッチジャパン株式会社製、最大吸収波長419nm(アセトニトリル溶液中))を使用し、実施例12に記載する方法で膜を作製した。また、増感剤であるスクアリリウム化合物を入れないとした以外の条件は同じとして、実施例12に記載する方法で色素無の膜を作製した。
[試験例2]
実施例12および比較例2により得られた光重合性組成物の膜の感度を、試験例1に記載の方法で評価した。
光重合性組成物6〜8を使用した場合の膜の感度および色素無として作製した場合の膜の感度を、Coumarin153を使用した場合の膜の感度を1として、その相対比(相対感度)で、表2に示す。
Figure 2007049579
表1または表2の結果より、本発明の光重合性組成物を用いた場合、Coumarin153を用いた場合および色素無の場合に比べ、硬化に必要な最低エネルギーが小さく、短波長光源に対して優れた感度を有することがわかる。
本発明により、短波長光源の波長領域の光に対し優れた感度を有する光重合性組成物を提供することができる。

Claims (6)

  1. 一般式(I)
    Figure 2007049579
    [式中、RとRは、同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、または置換基を有していてもよい複素環基を表すか、あるいはRとRは、それぞれが隣接する窒素原子と一緒になって置換基を有していてもよい複素環基を形成してもよく、
    Xは、以下の式(A)
    Figure 2007049579
    (式中、Rは、置換基を有していてもよいベンジル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表し、
    は、メチル基またはエチル基を表し、
    、R、RおよびRは、同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、または置換基を有していてもよい複素環基を表すか、あるいはRとRおよび/またはRとRは、それぞれが隣接するC−Cと一緒になって芳香環を形成してもよい)、または以下の式(B)
    Figure 2007049579
    (式中、R、R、RおよびRは、それぞれ前記と同義であり、
    は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、または置換基を有していてもよい複素環基を表す)を表す]で表されるスクアリリウム化合物、ラジカル開始剤およびエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する光重合性組成物。
  2. スクアリリウム化合物が、一般式(IA)
    Figure 2007049579
    (式中、R、R、R、R、R、R、RおよびRは、それぞれ前記と同義である)で表される請求項1記載の光重合性組成物。
  3. スクアリリウム化合物が、一般式(IB)
    Figure 2007049579
    (式中、R、R、R、R、R、RおよびRは、それぞれ前記と同義である)で表される請求項1記載の光重合性組成物。
  4. スクアリリウム化合物が350nm〜450nmの波長領域に最大吸収波長を有する請求項1〜3のいずれかに記載の光重合性組成物。
  5. 一般式(Ia)
    Figure 2007049579
    (式中、R1aとR2aは、同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、または置換基を有していてもよい複素環基を表すか、あるいはR1aとR2aは、それぞれが隣接する窒素原子と一緒になって置換基を有していてもよい複素環基を形成してもよく、
    3a、R4a、R5a、R6a、R7aおよびR8aは、それぞれ前記R、R、R、R、RおよびRと同義である)で表されるスクアリリウム化合物。
  6. 一般式(Ib)
    Figure 2007049579
    (式中、R1b、R2b、R5b、R6b、R7bおよびR8bは、それぞれ前記R、R、R、R、RおよびRと同義であり、
    9bは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、または置換基を有していてもよい複素環基を表す)で表されるスクアリリウム化合物。
JP2007542576A 2005-10-24 2006-10-24 スクアリリウム化合物およびそれを用いた短波長光源用光重合性組成物 Withdrawn JPWO2007049579A1 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005308892 2005-10-24
JP2005308892 2005-10-24
PCT/JP2006/321098 WO2007049579A1 (ja) 2005-10-24 2006-10-24 スクアリリウム化合物およびそれを用いた短波長光源用光重合性組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPWO2007049579A1 true JPWO2007049579A1 (ja) 2009-04-30

Family

ID=37967691

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007542576A Withdrawn JPWO2007049579A1 (ja) 2005-10-24 2006-10-24 スクアリリウム化合物およびそれを用いた短波長光源用光重合性組成物

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPWO2007049579A1 (ja)
TW (1) TW200720842A (ja)
WO (1) WO2007049579A1 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100065112A1 (en) 2008-09-15 2010-03-18 Thompson Mark E Organic Photosensitive Devices Comprising a Squaraine Containing Organoheterojunction and Methods of Making Same
JP5550136B2 (ja) * 2010-03-05 2014-07-16 カーリットホールディングス株式会社 青紫色半導体レーザー用感光性組成物
EP2673321A2 (en) * 2011-02-09 2013-12-18 Stephen R. Forrest Organic photosensitive devices comprising aryl squaraines and methods of making the same
JP5646426B2 (ja) * 2011-09-30 2014-12-24 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示装置
JP6126851B2 (ja) * 2013-01-28 2017-05-10 カーリットホールディングス株式会社 紫外線硬化型樹脂組成物
JP6151033B2 (ja) * 2013-01-28 2017-06-21 カーリットホールディングス株式会社 紫外線硬化型樹脂組成物
JP6509600B2 (ja) * 2015-03-17 2019-05-08 株式会社日本触媒 オキソカーボン系化合物を含む硬化物の製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5147758A (en) * 1991-02-19 1992-09-15 E. I. Du Pont De Nemours And Company Red sensitive photopolymerizable compositions
JP2871181B2 (ja) * 1991-07-09 1999-03-17 ブラザー工業株式会社 光硬化型組成物
DE69525609T2 (de) * 1994-09-21 2002-09-19 Kyowa Hakko Kogyo Kk Eine eine squariliumverbindung enthaltende photopolymerisierbare zusammensetzung
JPH09127694A (ja) * 1995-10-31 1997-05-16 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
EP1152037B1 (en) * 1999-12-16 2004-05-19 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Squarylium compounds and optical recording media made by using the same
JP4183918B2 (ja) * 2001-02-14 2008-11-19 株式会社リコー 光記録媒体及びこれを用いる光記録方法
JP4156215B2 (ja) * 2001-06-14 2008-09-24 株式会社リコー 光記録媒体、これを用いる光記録方法および光記録装置
KR20040097204A (ko) * 2002-04-08 2004-11-17 교와 핫꼬 케미카루 가부시키가이샤 광중합성 조성물
JP2005319728A (ja) * 2004-05-11 2005-11-17 Ricoh Co Ltd 光記録媒体、並びにこれを用いる記録再生方法及び光記録装置
JPWO2006041155A1 (ja) * 2004-10-14 2008-05-22 協和発酵ケミカル株式会社 スクアリリウム化合物ならびにこれを用いた光電変換材料、光電変換素子および光電気化学電池
JPWO2006041156A1 (ja) * 2004-10-14 2008-05-22 協和発酵ケミカル株式会社 スクアリリウム化合物ならびにこれを用いた光電変換材料、光電変換素子および光電気化学電池

Also Published As

Publication number Publication date
TW200720842A (en) 2007-06-01
WO2007049579A1 (ja) 2007-05-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI406847B (zh) 肟酯化合物及使用其之感光性樹脂組成物
JP3441246B2 (ja) 光重合性組成物
JP5371471B2 (ja) オキシムエステル化合物及びこれらを用いた感光性樹脂組成物
JPWO2007049579A1 (ja) スクアリリウム化合物およびそれを用いた短波長光源用光重合性組成物
JP5132759B2 (ja) オキシムエステルを含む樹枝状光活性化合物およびその製造方法
JP3324279B2 (ja) 光重合性組成物
JP3279035B2 (ja) 光重合性組成物及び感光材料
EP0611997B1 (en) Photopolymerizable composition
JP2009138175A (ja) スクアリリウム化合物およびそれを用いた短波長光源用光重合性組成物
JP3739136B2 (ja) 可視光感光性樹脂組成物およびその用途
JP4865793B2 (ja) オキシムエステルを有するトリアジン系光活性化合物
JP3324266B2 (ja) 光重合性組成物及び感光材料
JP2022078550A (ja) 新規な光重合開始剤及びこれらを用いた感光性樹脂組成物
JP3753292B2 (ja) 光重合性組成物及び感光性平版印刷版
JPH04184344A (ja) 光重合性組成物
JPH03223759A (ja) 感光性組成物
JP2009042491A (ja) スクアリリウム化合物およびそれを用いた短波長光源用光重合性組成物
JPH10204085A (ja) クマリン化合物およびその用途
JPH0980751A (ja) 光重合性組成物
US7528205B2 (en) Photo radical generator, photo sensitive resin composition and article
JPH08297367A (ja) 光重合性組成物
JPH0643641A (ja) 光重合性組成物
JP2005320338A (ja) 可視光感光性樹脂組成物およびその用途
JP2000056457A (ja) 光重合性組成物、画像形成材料及び感光性平版印刷版
JP2693605B2 (ja) 光重合性組成物および光重合性エレメント

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20100105