KR20080108601A

KR20080108601A - 살균 방법 및 시스템

Info

Publication number: KR20080108601A
Application number: KR1020087026869A
Authority: KR
Inventors: 에드워드 케이 와이 정; 로이스 에이 레비언; 로버트 더블유 로드; 마크 에이 말라무드; 존 디 주니어 리날도; 로웰 엘 주니어 우드
Original assignee: 시리트 엘엘씨
Priority date: 2006-03-31
Filing date: 2007-03-28
Publication date: 2008-12-15
Also published as: KR20130140225A; EP2007438A4; WO2007127006A2; US20070231189A1; WO2007127006A3; KR101423608B1; EP2007438A2; KR101488886B1; US8277724B2; US20080085223A1; JP2009532097A

Abstract

하나 이상의 영역들 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들을 살균하기 위한 방법 및 시스템이 설명된다. 몇몇 실시형태들에서, 본 방법 및 시스템은 살균 방사선의 이용을 통해 하나 이상의 영역들 또는 하나 이상의 영역들의 부분들을 살균하는데 이용될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 본 방법 및 시스템은 하나 이상의 영역들 또는 하나 이상의 영역들의 부분들 내에 있는 사람들과 같은 객체들이 살균 방사선으로 실질적으로 조사되지 않도록 이용될 수 있다.

살균 방법, 살균 시스템, 살균 방사선

Description

살균 방법 및 시스템{STERILIZATION METHODS AND SYSTEMS}

기술 분야

본 개시는 건강 관리 영역의 살균과 같은 많은 방면에서 이용될 수도 있는 방법 및 시스템에 관한 것이다.

요약

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 단계, 및 상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 (sterilizing radiation) 소스들로 송신하는 단계를 포함하는 살균 방법이 제공된다. 전술한 것 외에도, 다른 방법 양태들이 청구범위, 도면, 및/또는 본 출원의 일부를 형성하는 텍스트에서 설명된다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화 (approximation) 하는 단계, 및 상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는 살균 방법이 제공된다. 전술한 것 외에도, 다른 방법 양태들이 청구범위, 도면, 및/또는 본 출원의 일부를 형성하는 텍스트에서 설명된다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수 신하는 단계, 및 상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계를 포함하는 살균 방법이 제공된다. 전술한 것 외에도, 다른 방법 양태들이 청구범위, 도면, 및/또는 본 출원의 일부를 형성하는 텍스트에서 설명된다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단, 및 상기 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함하는 살균 시스템이 제공된다.

몇몇 실시형태들에서, 관련된 시스템은 여기에 언급된 방법 양태들을 유효하게 하기 위한 회로 및/또는 프로그래밍을 포함하고, 여기에 한정되는 것은 아니며, 회로 및/또는 프로그래밍은, 시스템 설계자의 설계 선택에 따라 여기 언급된 방법 양태들을 유효하게 하도록 구성된 하드웨어, 소프트웨어, 및/또는 펌웨어의 실질적인 임의의 조합일 수 있다. 전술한 것 외에도, 다른 시스템 양태들이 청구범위, 도면, 및/또는 본 출원의 일부를 형성하는 텍스트에서 설명된다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하기 위한 회로, 및 상기 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하기 위한 회로에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하기 위한 회로를 포함하는 살균 시스템이 제공된다. 전술한 것 외에도, 다른 시스템 양태들이 청구범위, 도면, 및/또는 본 출원의 일부를 형성하는 텍스트에서 설명된다.

전술한 요약은 예시적인 것에 지나지 아니하며, 어떤 방식으로든 한정할 의도는 아니다. 상기 설명된 예시적인 양태들, 실시형태들, 및 특징들 외에도, 추가적인 양태들, 실시형태들, 및 특징들이 도면 및 이어지는 청구범위 및 상세한 설명을 참조하여 자명하게 될 것이다.

도면의 간단한 설명

도 1a 는 실시형태들이 구현될 수도 있는 일 예시적인 시스템 (100) 을 나타낸다.

도 1b 는 실시형태들이 구현될 수도 있는 일 예시적인 시스템 (130) 을 나타낸다.

도 1c 는 실시형태들이 구현될 수도 있는 일 예시적인 시스템 (160) 을 나타낸다.

도 1d 는 실시형태들이 구현될 수도 있는 일 예시적인 시스템 (190) 을 나타낸다.

도 2 는 살균 방법에 관련된 예시적인 동작들을 나타내는 동작 플로우를 나타낸다.

도 3 은 도 2 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 4 는 도 2 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 5 는 도 2 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 6 은 도 2 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 7 은 도 2 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 8 은 살균 방법에 관련된 예시적인 동작들을 나타내는 동작 플로우를 나타낸다.

도 9 는 도 8 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 10 은 도 8 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 11 은 도 8 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 12 는 도 8 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 13 은 살균 방법에 관련된 예시적인 동작들을 나타내는 동작 플로우를 나타낸다.

도 14 는 도 13 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 15 는 도 13 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 16 은 도 13 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 17 는 도 13 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 18 은 도 13 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 19 는 도 13 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 20 은 도 13 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 21 은 도 13 의 예시적인 동작 플로우의 대안적인 실시형태를 나타낸다.

도 22 는 살균 방법에 관련된 예시적인 동작들을 나타내는 동작 플로우를 나타낸다.

상세한 설명

이하의 상세한 설명에서, 본원의 일부를 형성하는 첨부 도면에 대한 참조가 이루어진다. 도면에서, 구문에서 달리 지시하지 않는 한, 유사한 심볼들은 통상적으로 유사한 구성요소들을 식별한다. 상세한 설명, 도면, 및 청구범위에서 설명된 예시적인 실시형태들은 한정적으로 의미되는 것은 아니다. 본원에서 제공되는 주제의 사상 또는 범위로부터 벗어남이 없이, 다른 실시형태들이 활용될 수도 있고, 다른 변경들이 이루어질 수도 있다.

다양한 양태들 및 실시형태들이 본원에 설명되었지만, 다른 양태들 및 실시형태들도 당업자에게 있어 자명할 것이다. 본원에 개시된 다양한 양태들 및 실시형태들은 이어지는 청구범위에 의해 나타내어지는 진정한 범위 및 사상에 대한 예시를 위한 것이며, 한정적인 목적을 위한 것이 아니다.

도 1a 는 실시형태들이 구현될 수도 있는 일 예시적인 시스템 (100) 을 나타낸다. 몇몇 실시형태들에서, 시스템 (100) 은, 하나 이상의 영역들, 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들, 일 영역 내의 하나 이상의 객체들, 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 살균하는데 이용될 수도 있는 살균 방법을 제공하도록 동작가능하다. 몇몇 실시형태들에서, 시스템 (100) 은, 하나 이상의 영역들의 살균, 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들의 살균, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 객체들의 살균, 하나 이상의 영역들의 살균의 회피, 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들의 살균의 회피, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 객체들의 살균의 회피, 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합에 이용될 수 있는 살균 방법을 제공하도록 동작가능하다. 몇몇 실시형태들에서, 시스템 (100) 은, 하나 이상의 영역들 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들 내에 존재 하는 하나 이상의 사람들을 살균 방사선에 노출시키지 않고 하나 이상의 영역들 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들을 살균하도록 동작가능하다. 몇몇 실시형태들에서, 시스템 (100) 은, 하나 이상의 영역들 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들 내에 존재하는 하나 이상의 사람들을 살균 방사선에 실질적으로 노출시키지 않고 하나 이상의 영역들 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들을 살균하도록 동작가능하다.

시스템 (100) 은 하나 이상의 결정 유닛들 (102) 을 포함한다. 하나 이상의 결정 유닛들은 하나 이상의 객체들 (104) 이 하나 이상의 영역들 (106) 또는 하나 이상의 영역들의 부분들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는데 이용될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 결정 유닛들 (102) 은 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들을 검출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 결정 유닛들 (102) 은 하나 이상의 영역들 (106) 내의 표면들 사이의 하나 이상의 거리들을 결정할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 결정 유닛들 (102) 은 하나 이상의 그림자들이 하나 이상의 영역들 (106) 내에 존재하는지를 결정할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 결정 유닛들 (102) 은 하나 이상의 영역들 (106) 내에 존재 또는 부재하는 하나 이상의 객체들에 대응하는 하나 이상의 형상들을 결정할 수 있다. 하나 이상의 결정 유닛들 (102) 은 수많은 기술들을 활용할 수도 있다. 예를 들어, 결정 유닛 (102) 은, 장파장 적외선 방사선과 같은 적외선 방사선; 망막 반사; 각막 반사; 카드 판독기, 배지 (badge) 판독기, 바 코드 판독기 등과 같은 태그 판독기; 동작 검 출; 레이더 검출; 음파 검출; 컴퓨터 모델링; 레이저 및 적외선 레인지 파인더와 같은 레인지 파인더 (range finder); 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 포함하는 기술들을 이용할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

시스템 (100) 은 하나 이상의 객체들 (104) 의 존재 또는 부재를 포함한다. 수많은 객체들이 하나 이상의 영역들 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들 내에 존재 또는 부재할 수도 있다. 이러한 객체들의 예로는, 사람들, 사람이 아닌 동물들, 식물들, 수술 도구들, 요리 기구, 식기, 싱크대, 테이블, 기계, 폐기 영역들 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

시스템 (100) 은 하나 이상의 영역들 (106) 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들을 포함한다. 시스템 (100) 은 수많은 영역들 및 영역들의 부분들 내에서 이용될 수도 있다. 이러한 영역들의 예로는, 수술실 및 수술 구역과 같은 병원; 비행기, 기차, 자동차, 지하철, 버스와 같은 수송 수단; 부엌; 욕실 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 영역들은 하나 이상의 영역들의 부분들을 포함할 수 있다. 하나 이상의 영역들의 부분들의 예로는, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 싱크대, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 테이블, 하나 이상의 수실시 내의 바닥의 하나 이상의 섹션들, 하나 이상의 수술실 내의 벽의 하나 이상의 섹션들 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 하나 이상의 영역들 (106) 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들은 수많은 타입의 오염물을 포함할 수 있다. 이러한 오염물의 예들로는, 박테리아, 균들, 바이러스, 포자, 미생물, 알들 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 살균 방사선은 이러한 오염물을 죽이거나 비활성으로 하는데 이용될 수 있다. 예시적인 조사 (irradiation) 파라미터들이 표 1 에 제공되고, 표준 프로토콜을 통해 쉽게 결정될 수 있다.

표 1 : 자외선 정화기를 이용한 살균을 위한 샘플 파라미터들

박테리아	90% 까지의 살균을 위한 에너지 (mW-sec/cm²)	99% 까지의 살균을 위한 에너지 (mW-sec/cm²)
Bacillus anthracis (탄저균)	4.52	9.04
S. enteritidis (살모넬라 장염균)	4.00	8.00
B. megatherium sp.(vegetative) (거대균-증식)	1.30	2.60
B. megatherium sp.(spores) (거대균-포자)	2.73	5.46
B. paratyphosus (파라티프스균)	3.20	6.40
B.subtilis (고초균)	7.10	14.20
B.subtilis spores (고초균-포자)	12.00	24.00
Corynebacterium diphtheriae (디프테리아균)	3.37	6.74
Eberthella typhosa (장티프스균)	2.14	4.28
Escherichia coli (대장균)	3.00	6.00
Micrococcus candidus (순백색구균)	6.05	12.10
Micrococcus sphaeroides (단구균)	10.00	20.00
Neisseria catarrhalis (임균 유사균)	4.40	8.80
Phytomonas tumefaciens. (파이토모나스 튜머페션즈)	4.40	8.80
Proteus vulgaris (변형균)	2.64	5.28
Pseudomonas aeruginosa (녹농균)	5.50	11.00
Pseudomonas fluorescens (형광균)	3.50	7.00
S. typhimurium (살모넬라 타이피뮤리움)	8.00	16.00
Sarcina Lutea (무아포 혐기성균)	19.70	39.40
Seratia marcescens (세라티아 마르센스)	2.42	4.84
Dysentery bacilli (세균성 적리)	2.20	4.40
Shigella paradysenteriae (이질균)	1.68	3.36
Spirillum rubrum (나선균)	4.40	8.80
Staphylococcus albus (포도상구균)	1.84	3.68
Staphylococcus aureus (황색포도상구균)	2.60	5.20
Streptococcus hemolyticus (용혈성연쇄상구균)	2.16	4.32
Streptococcus lactis (산생성균)	6.15	12.30
Streptocuccus viridans (녹색연쇄상구균)	2.00	4.00

시스템 (100) 은 하나 이상의 송신 유닛들 (108) 을 포함한다. 하나 이상의 송신 유닛들 (108) 은 하나 이상의 결정 유닛들 (102) 에 응답하여 하나 이상의 신호들 (110) 을 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 로 송신할 수 있다. 하나 이상의 송신 유닛들 (108) 은 수많은 타입의 신호들 (110) 을 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 로 송신할 수 있다. 예를 들어, 하나 이상의 송신 유닛들 (108) 은, 유선 신호, 적외선 신호, 광학 신호, 무선 (RF) 신호, 디지털 신호, 아날로그 신호, 또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 포함하지만 이들에 한정되는 것은 아닌 신호 (110) 를 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 로 송신할 수 있다.

시스템 (100) 은 하나 이상의 신호들 (110) 을 포함한다. 하나 이상의 신호 (110) 는 수많은 타입의 정보를 포함할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들 (110) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 이 실질적으로 일정하게 살균 방사선을 방출하도록 하는 명령들을 포함할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들 (110) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 이 살균 방사선을 펄스로서 방출하도록 하는 명령들을 포함할 수 있다. 신호 (110) 는, 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 로부터 방출되는, 자외광 및/또는 감마 방사선과 같은 수많은 타입의 살균 방사선 및/또는 이들의 조합과 관련한 명령들을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들 (110) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 로부터 방출되는 방사선의 파장들에 관련된 정보를 포함할 수 있다. 예를 들어, 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들 (110) 은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 이, 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장들 및/또는 실질적으로 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장들의 임의의 조합을 갖는 자외광 을 방출하도록 하는 명령들을 포함할 수 있다. 다른 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들 (110) 은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 이, 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장들 및/또는 실질적으로 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장들의 임의의 조합을 갖는 자외광을 방출하도록 하는 명령들을 포함할 수 있다. 다른 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들 (110) 은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 이, 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장들 및/또는 실질적으로 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장들의 임의의 조합을 갖는 자외광을 방출하도록 하는 명령들을 포함할 수 있다. 또 다른 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들 (110) 은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 이, 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장들 및/또는 실질적으로 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장들의 임의의 조합을 갖는 자외광을 방출하도록 하는 명령들을 포함할 수 있다. 또 다른 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들 (110) 은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 이, 약 265 나노미터의 파장으로 중심을 두지만 비대칭인 파장들을 갖는 자외광 및/또는 실질적으로 이러한 광의 파장들의 임의의 조합을 갖는 자외광을 방출하도록 하는 명령들을 포함할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들 (110) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 이 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 로부터 하나 이상의 파장들의 방사선의 방출을 배제하도록 하는 명령들을 포함할 수도 있다. 하나 이상의 신호들 (110) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 로부터 살균 방사선의 방출을 지향시키기 위한 명령들을 포함할 수 있다. 하나 이상의 신호들 (110) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 로부터 살균 방사선의 방출을 형상화하기 위한 명령들을 포함할 수 있다. 하나 이상의 신호들 (110) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 이 수많은 타입의 비살균 방사선을 방출하도록 하는 명령들을 포함할 수 있다. 이러한 비살균 방사선에는, 적외선 방사선, 음향 방사선, 초음파 방사선 등이 포함될 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들 (110) 은, 하나 이상의 영역들 (106) 내의 하나 이상의 표면들에서 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 까지의 거리들에 관련된 정보를 포함할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 이러한 정보는 살균 방사선을 지향 (direct) 시키는데 이용될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서 이러한 정보는 살균 방사선을 형상화 (shape) 및/또는 포커싱하는데 이용될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들 (110) 은 하나 이상의 레코딩 디바이스들 (114) 로 송신될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들 (110) 은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 이, 하나 이상의 영역들 (106) 에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 하나 이상의 영역들 (106) 상으로 살균 방사선을 방출하도록 하는 명령들을 포함할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들 (110) 은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 이, 하나 이상의 영역들 (106) 에 우선순위를 정하여 살균 방사선을 방출하도록 하는 명령들을 포함할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이, 긴박, 대기, 강도 등과 관련하여 하나 이상의 영역들 (106) 에 조사하도록 하는 명령들을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 우선순위 를 정하는 방식은, 환자에게 아주 해로운, 또는 감염 우려가 높은 영역들 및 공간들이 가장 엄격 및/또는 빈번하게 조사되도록 특정될 수 있도록, 기준이 되는 둘러싸인 체적에서의 상대적인 위치들 또는 절대적인 위치들 중 어느 일방의 함수들로서 하나 이상의 영역들 (106) 의 조사와 같은, 살균 조사의 시간 통합된 강도와 관련한 하나 이상의 영역들 (106) 에 대한 조사를 포함한다. 하나 이상의 신호들 (110) 은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 이, 하나 이상의 영역들 (106) 내의 하나 이상의 객체들 (104) 에 대응하는 하나 이상의 형상들에 대응하여 살균 방사선을 조사하도록 하는 명령들을 포함할 수 있다.

시스템 (100) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 을 포함한다. 수많은 살균 방사선 소스들이 시스템 (100) 내에서 이용될 수도 있다. 이러한 살균 방사선 소스들의 예들로는, 코발트-60 소스로부터의 방사, 하나 이상의 주파수 4 배-Nd YAG/유리 레이저 (네오디뮴-도핑 이트륨 알루미늄 가닛 (Nd:Y₃Al₅O₁₂)) 으로부터 방출되는 코히어런트 (coherent) 광, 하나 이상의 저압 수은 공진 램프들로부터 방출되는 인코히어런트 광, 가변 염료 레이저 (tunable dye laser) 로부터의 방사를 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 살균 방사선의 소스들은 당업계에 공지되어 있으며, 상업적으로 이용가능하다 (XENON Corporation, Wilmington, MA; Big Sky Laser Technologies, Inc., Bozeman, MT; Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618). 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 은 하나 이상의 형태들의 비살균 방사선을 방출할 수 있다. 이러한 비살균 방사선의 예들로는, 적외선 방사선, 음향 방사선, 초음파 방사선 등을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 의 파라미터들 셋트에 따라 살균 방사선을 방출할 것이다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 에 의해 수신된 하나 이상의 신호들 (110) 내에 포함된 명령들에 따라 살균 방사선을 방출할 것이다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 의 파라미터들 셋트에 따라서, 그리고 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 에 의해 수신된 하나 이상의 신호들 (110) 내에 포함된 명령들에 따라 살균 방사선을 방출할 것이다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터의 살균 방사선의 방출은 프로그래밍된 스케쥴, 루틴 또는 시퀀스, 또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 따르도록, 시작 및 정지, 강도 변조, 일시 중지, 개시, 중단, 재개시, 프로그래밍될 수 있다.

시스템 (100) 은 하나 이상의 레코딩 디바이스들 (114) 을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들 (110) 이 하나 이상의 레코딩 디바이스들 (114) 로 송신된다. 하나 이상의 레코딩 디바이스들은 수많은 타입의 정보를 기록할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 레코딩 디바이스들은, 방사선의 하나 이상의 주파수들, 방사선의 하나 이상의 강도들, 조사의 하나 이상의 지속기간들, 방사선의 하나 이상의 파장들, 조사의 하나 이상의 시간들, 조사되는 하나 이상의 영역들, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 객체들의 존재 또는 부재, 하나 이상의 영역들 내에 존재하는 하나 이상의 객체들의 정체 (identity), 하나 이상의 영역들이 조사되는 지속 시간, 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합들을 기록할 수 있고, 이들을 이용하여 하나 이상의 영역들이 살균 또는 부분적으로 살균될 것이다. 많은 타입의 레코딩 디바이스들 (114) 이 이용될 수도 있다. 이러한 레코딩 디바이스들의 예들로는, 많은 타입의 메모리, 광학 디스크들, 자기 디스크들, 자기 테이프 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 레코딩 디바이스들은 사용자 상호작용 (116) 을 제공한다.

시스템 (100) 이 사용자 상호작용 (116) 을 제공할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 사용자 (118) 는, 하나 이상의 송신 유닛들 (108), 하나 이상의 결정 유닛들 (102), 하나 이상의 레코딩 디바이스들 (114), 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112), 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합과 상호작용할 수도 있다. 이러한 상호작용으로는, 시간, 장소, 지속기간, 강도, 우선순위, 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합과 관련하여 하나 이상의 영역들 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들의 살균에 관련된 명령들을 입력하는 것을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 사용자 (118) 는 수많은 기술들의 이용을 통해 상호작용한다. 예를 들어, 사용자 상호작용 (116) 은 키보드의 이용을 통한 것과 같은 유선 방법들의 이용, 무선 방법들의 이용, 인터넷의 이용 등을 통해서 발생할 수 있다.

몇몇 실시형태들에서, 살균 방법은 하나 이상의 영역들의 완전한 살균, 하나 이상의 영역들의 부분적 살균, 하나 이상의 영역들의 일부분 살균, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 객체들의 살균, 또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 포함한다. 다른 실시형태들에서, 본 발명의 방법은, 하나 이상의 영역들의 살균 회피, 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들의 살균 회피, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 객체들의 살균 회피, 또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 포함한다. 또 다른 실시형태들에서, 본 발명의 방법은, 하나 이상의 영역들의 부분적 살균, 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들의 살균, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 객체들의 살균, 하나 이상의 영역들의 살균 회피, 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들의 살균 회피, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 객체들의 살균 회피, 또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 포함한다.

도 1b 는 실시형태들이 구현될 수도 있는 일 예시적인 시스템 (130) 을 나타낸다. 몇몇 실시형태들에서, 시스템 (130) 은 영역, 영역의 일부분, 영역 내의 객체들, 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 살균하는데 이용될 수도 있는 살균 방법을 제공하도록 동작가능하다. 몇몇 실시형태들에서, 시스템 (130) 은 영역의 살균, 영역의 일부의 살균, 영역 내의 객체들의 살균, 영역의 살균 회피, 영역의 일부분의 살균 회피, 영역 내의 객체들의 살균 회피, 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합에 이용될 수 있는 살균 방법을 제공하도록 동작가능하다. 몇몇 실시형태들에서, 시스템 (130) 은 영역 (106) 또는 영역의 부분 내에 존재하는 하나 이상의 사람들을 살균 방사선에 노출시키지 않고 영역 (106) 또는 영역의 부분을 살균하도록 동작가능하다. 몇몇 실시형태들에서, 시스템 (130) 은 영역 (106) 또는 영역의 부분 내에 존재하는 하나 이상의 사람들을 살균 방사선에 실질적으로 노출시키지 않고 영역 (106) 또는 영역의 부분을 살균하도록 동작가능하다.

시스템 (130) 은 하나 이상의 근사화 유닛들 (132) 을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 근사화 유닛들 (132) 은 하나 이상의 영역들 (106) 내의 하나 이상의 표면들 (134) 사이의 하나 이상의 거리들의 근사치를 구는데 이용될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 근사화 유닛들 (132) 은 하나 이상의 영역들 (106) 의 하나 이상의 표면들과 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 사이의 하나 이상의 거리들을 근사화하는데 이용될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 표면들 (134) 은 하나 이상의 영역들 (106) 내에 포함된 하나 이상의 객체들 (104) 상에 있을 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 표면들 (134) 은 하나 이상의 사람들 상에 있을 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 근사화 유닛들 (132) 은 하나 이상의 영역들 (106) 내에 존재 또는 부재하는 하나 이상의 객체들 (104) 에 대응하는 하나 이상의 형상들 사이의 거리들의 근사치를 구할 수 있다. 하나 이상의 근사화 유닛들 (132) 은 수많은 기술들을 활용할 수도 있다. 예를 들어, 근사화 유닛 (132) 은, 장파장 적외선 방사선과 같은 적외선 방사선; 망막 반사; 각막 반사; 카드 판독기, 배지 판독기, 바 코드 판독기 등과 같은 태그 판독기; 동작 검출; 레이더 검출; 음파 검출; 컴퓨터 모델링; 레이저 및 적외선 레인지 파인더와 같은 레인지 파인더; 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 포함하는 기술들을 이용할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 근사화된 거리들은 살균 방사선을 하나 이상의 객체들 (104) 또는 표면들 (134) 상으로 지향하거나 살균 방사선을 하나 이상의 객체들 (104) 또는 표면들 (134) 로부터 멀어지도록 하는데 이용될 수 있다.

시스템 (130) 의 다른 구성요소들은 시스템 (100) 을 참조하여 설명하였다.

도 1c 는 실시형태들이 구현될 수도 있는 일 예시적인 시스템 (160) 을 나타낸다. 몇몇 실시형태들에서, 시스템 (160) 은, 영역, 영역의 일부분, 영역 내의 객체들, 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 살균하는데 이용될 수도 있는 살균 방법을 제공하도록 동작가능하다. 몇몇 실시형태들에서, 시스템 (160) 은 영역의 살균, 영역의 일부분의 살균, 영역 내의 객체들의 살균, 영역의 살균 회피, 영역의 일부분의 살균 회피, 영역 내의 객체들의 살균 회피, 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합에 이용될 수 있는 살균 방법을 제공하도록 동작가능하다. 몇몇 실시형태들에서, 시스템 (160) 은 영역 (106) 또는 영역의 부분 내에 존재하는 하나 이상의 사람들을 살균 방사선에 노출시키지 않고 영역 (106) 또는 영역의 부분을 살균하도록 동작가능하다. 몇몇 실시형태들에서, 시스템 (160) 은 영역 (106) 또는 영역의 부분 내에 존재하는 하나 이상의 사람들을 살균 방사선에 실질적으로 노출시키지 않고 영역 (106) 또는 영역의 부분을 살균하도록 동작가능하다.

시스템 (160) 은 하나 이상의 검출기들 (162) 을 포함한다. 하나 이상의 검출기들 (162) 은 하나 이상의 영역들 (106) 또는 하나 이상의 영역들의 부분들 내의 하나 이상의 객체들 (104) 의 존재 또는 부재를 검출하는데 이용될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들 (162) 은 하나 이상의 영역들 (106) 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들의 하나 이상의 사람들의 존재 또는 부재를 검출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들 (162) 은 하나 이상의 그림자들이 하나 이상의 영역들 (106) 내에 존재하는지를 검출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들 (162) 은 하나 이상의 영역들 (106) 내에 존재 또는 부재하는 하나 이상의 객체들에 대응하는 하나 이상의 형상들을 검출할 수 있다. 하나 이상의 검출기들 (162) 은 수많은 기술들을 활용할 수도 있다. 예를 들어, 검출기 (162) 는, 장파장 적외선 방사선과 같은 적외선 방사선; 망막 반사; 각막 반사; 카드 판독기, 배지 판독기, 바 코드 판독기 등과 같은 태그 판독기; 동작 검출; 레이더 검출; 음파 검출; 컴퓨터 모델링; 레이저 및 적외선 레인지 파인더와 같은 레인지 파인더; 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 포함하는 기술들을 이용할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

시스템 (160) 은 하나 이상의 수신 유닛들 (164) 을 포함한다. 하나 이상의 수신 유닛들 (164) 은 하나 이상의 검출기들 (162) 로부터 하나 이상의 신호들 (110) 을 수신할 수 있다. 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 은 하나 이상의 수신 유닛들 (164) 에 응답하여 살균 방사선을 방출하거나 방출하지 않을 수 있다.

시스템 (160) 의 다른 구성요소들은 시스템 (100) 을 참조하여 설명하였다.

도 1d 는 실시형태들이 구현될 수도 있는 일 예시적인 시스템 (190) 을 나타 낸다. 몇몇 실시형태들에서, 시스템 (190) 은 영역, 영역의 일부분, 영역 내의 객체들, 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 살균하는데 이용될 수도 있는 살균 방법을 제공하도록 동작가능하다. 몇몇 실시형태들에서, 시스템 (190) 은 영역의 살균, 영역의 일부분의 살균, 영역 내의 객체들의 살균, 영역의 살균 회피, 영역의 일부분의 살균 회피, 영역 내의 객체들의 살균 회피, 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합에 이용될 수 있는 살균 방법을 제공하도록 동작가능하다. 몇몇 실시형태들에서, 시스템 (190) 은 영역 (106) 또는 영역의 부분 내에 존재하는 하나 이상의 사람들을 살균 방사선에 노출시키지 않고 영역 (106) 또는 영역의 부분을 살균하도록 동작가능하다. 몇몇 실시형태들에서, 시스템 (190) 은 영역 (106) 또는 영역의 부분 내에 존재하는 하나 이상의 사람들을 살균 방사선에 실질적으로 노출시키지 않고 영역 (106) 또는 영역의 부분을 살균하도록 동작가능하다.

시스템 (190) 은 하나 이상의 영역들 (106) 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들 내에 하나 이상의 객체들의 존재 또는 부재를 결정하기 위한 회로 (192) 를 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 회로 (192) 는 하나 이상의 영역들 (106) 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들에 하나 이상의 사람들의 존재 또는 부재를 결정할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 회로 (192) 는 하나 이상의 그림자들이 하나 이상의 영역들 (106) 내에 존재하는지를 결정할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 회로 (192) 는, 하나 이상의 영역들 (106) 내에 존재 또는 부재하는 하나 이상의 객체들에 대응하는 하나 이상의 형상들을 결정할 수 있다. 회로 (192) 는 수많은 기술들을 활용할 수도 있다. 예를 들어, 회로 (192) 는, 장파장 적외선 방사선과 같은 적외선 방사선; 망막 반사; 각막 반사; 카드 판독기, 배지 판독기, 바 코드 판독기 등과 같은 태그 판독기; 동작 검출; 레이더 검출; 음파 검출; 컴퓨터 모델링; 레이저 및 적외선 레인지 파인더와 같은 레인지 파인더; 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 포함하는 기술들을 이용할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

시스템 (190) 은 하나 이상의 신호들 (110) 을 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 로 송신하기 위한 회로를 포함한다. 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 은 송신을 위한 회로 (194) 로부터의 신호에 응답하여 살균 방사선을 방출하거나 방출하지 않을 수 있다. 송신을 위한 회로 (194) 는 수많은 타입의 신호들 (110) 을 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 로 송신할 수 있다. 예를 들어, 송신을 위한 회로 (194) 는 유선 신호, 적외선 신호, 광학 신호, 무선 (RF) 신호, 디지털 신호, 아날로그 신호, 또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 포함하지만 이들에 한정되는 것은 아닌 신호 (110) 를 하나 이상의 살균 방사선 소스들 (112) 로 송신할 수 있다.

시스템 (190) 은 하나 이상의 레코딩 디바이스들 (114) 을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 레코딩 디바이스들 (114) 은 송신을 위한 회로 (194) 와 통신하고, 결정을 위한 회로 (192) 와 통신하고, 또는 송신을 위한 회로 (194) 및 결정을 위한 회로 (192) 양자 모두와 통신한다.

시스템 (190) 의 다른 구성요소들은 시스템 (100) 을 참조하여 설명하였다.

다음으로는 프로세스들의 구현들을 나타내는 일련의 플로우차트들이다. 이해의 용이함을 위해, 플로우차트들은 최초의 플로우차트는 개괄적인 "큰 그림" 을 통해 구현들을 나타내고, 그 이후, 이어지는 플로우차트들은 하나 이상의 이전에 제공된 플로우차트들 상에서 구축되는 하위 단계들 또는 추가적인 단계들로서 대안적인 구현들 및/또는 "큰 그림" 의 확장들을 제공한다. 당업자라면, 본원에 활용된 표시 스타일 (예를 들어, 전체적인 모습을 나타내는 플로우차트(들)의 표시, 및 이후, 후속 플로우차트들에서 추가적인 것들 및/또는 더 상세한 내용들을 제공) 은 일반적으로 다양한 프로세스 구현들의 신속하고 쉬운 이해를 허용한다는 것을 알수 있을 것이다. 또한, 당업자라면 본원에 이용된 표시 스타일은 모듈 및/또는 객체 지향 프로그램 설계 패러다임에도 적합하다는 것을 알 수 있을 것이다.

도 2 는 살균 방법의 수행에 관련된 동작들의 예들을 나타내는 동작 플로우 (200) 를 나타낸다. 도 2 에서, 그리고 살균 방법의 수행 동안 이용되는 동작들의 다양한 예들을 포함하는 이어지는 도면들에서, 논의 및 설명이, 도 1a 의 전술한 예와 관련하여, 및/또는 다른 예들 및 내용들과 관련하여 제공될 수도 있다. 그러나, 동작들이 수많은 다른 환경들 및 내용들, 및/또는 도 1a 의 수정된 버전들에서 실행될 수도 있다는 것을 이해할 필요가 있다. 또한, 다양한 동작들이 도시된 시퀀스(들)로 표현되지만, 다양한 동작들은 도시된 것들 외의 다른 순서들로 수행될 수도 있고, 또는, 동시에 수행될 수도 있다는 것을 이해할 필요가 있다.

개시 동작 후에, 동작 플로우 (200) 는 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 것을 포함하는 동작 (210) 을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 결정 유닛들이, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하기 위해 동작한다. 몇몇 실시형태들에서, 단일 결정 유닛이 하나의 영역 내의 하나 이상의 객체들의 존재 또는 부재를 결정하기 위해 동작한다. 몇몇 실시형태들에서, 단일 결정 유닛이 2 이상의 영역들 내의 하나 이상의 객체들의 존재 또는 부재를 결정하기 위해 동작한다. 몇몇 실시형태들에서, 2 이상의 결정 유닛들이 하나의 영역 내의 하나 이상의 객체들의 존재 또는 부재를 결정하기 위해 동작한다. 몇몇 실시형태들에서, 2 이상의 결정 유닛들이 2 이상의 영역들 내의 하나 이상의 객체들의 존재 또는 부재를 결정하기 위해 동작한다.

동작 플로우 (200) 는 또한, 상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함하는 송신 동작 (220) 을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 상기 결정하는 동작에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신한다. 따라서, 몇몇 실시형태들에서, 하나의 송신 유닛이 하나 이상의 신호들을 단일 살균 방사선 소스로 또는 다수의 살균 방사선 소스들로 송신할 수 있다. 예를 들어, 몇몇 실시형태들에서, 하나의 송신 유닛이 하나의 신호를 하나의 살균 방사선 소스로 송신한다. 몇몇 실시형태에서, 하나의 송신 유닛이 하나를 초과하는 신호를 하나의 살균 방사선 소스로 송신한다. 다른 실시형태들에서, 하나의 송신 유닛이 하나의 신호를 하나를 초과하는 살균 방사선 소스로 송 신한다. 또 다른 실시형태들에서, 하나의 송신 유닛이 하나를 초과하는 신호를 하나를 초과하는 살균 방사선 소스로 송신한다. 또한, 2 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 신호들을 단일 살균 방사선 소스로 또는 다수의 살균 방사선 소스들로 각각 송신할 수 있다. 예를 들어, 몇몇 실시형태들에서, 2 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 신호들을 단일 살균 방사선 소스로 각각 송신할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 2 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 신호들을 다수의 살균 방사선 소스들로 각각 송신할 수 있다.

도 3 은 도 2 의 예시적인 동작 플로우 (200) 의 대안적인 실시형태를 나타낸다. 도 3 은 결정 동작 (210) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (302), 동작 (304), 동작 (306), 동작 (308) 을 포함할 수도 있다.

동작 (302) 에서, 결정 동작 (210) 은 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들을 검출하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 결정 유닛들이 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들을 검출하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 한 사람과 관련된 하나의 신호가 검출될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 한 사람과 관련된 하나 이상의 신호들이 검출될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들이 검출될 수 있다. 다른 실시형태들에서, 한 사람과 관련된 적어도 하나의 신호를 검출하는 단계는 한 사람과 관련된 임의의 신호의 부재를 검출하는 단계를 포함한다. 예를 들어, 영역으로부터 하나 이상의 사람들의 부재가 검출될 수 있다.

하나 이상의 사람들과 관련된 수많은 신호들이 검출될 수 있다. 이러한 신호들의 예로는, 적외선 방사선, 망막 반사, 동작 검출, 프로파일 검출, 및 실질적으로 이들의 임의의 조합을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 몇몇 실시형태들에서, 사람에 부착된 태그는 하나 이상의 영역들에서 사람의 존재 또는 부재를 나타내기 위해 검출될 수 있다. 예를 들어, 태그는, 하나 이상의 사람들이 하나 이상의 영역들에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 것을 제공하기 위해 결정 유닛에 의해 인식되는 신호를 송신할 수 있다. 다른 실시형태들에서, 하나 이상의 영역들 내에 사람의 존재 또는 부재는 그 하나 이상의 영역들을 입장하는데 이용되는 액세스 디바이스의 사용을 통해 검출될 수 있다. 예를 들어, 액세스 카드, 키 패드, 자물쇠, 또는 영역으로의 사람의 입장에 관련되는 다른 디바이스가 그 영역 내의 사람의 존재 또는 부재를 나타내기 위해 결정 유닛에 의해 검출될 수 있다.

동작 (304) 에서, 결정 동작 (210) 은 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 사이의 하나 이상의 거리들을 결정하는 것을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 결정 유닛들이, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 사이의 하나 이상의 거리들을 결정하는데 이용된다. 이러한 결정은 이러한 거리들의 근사화를 포함할 수 있다. 수많은 방법들이 영역 내의 표면들 사이의 거리들을 결정하는데 이용될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 컴퓨터 모델링이 영역의 크기 및 영역 내의 표면들 사이의 거리들을 결정하는데 이용될 수 있다. 다른 실시형태들에서, 영역 내에 포함된 표면들 사이의 거리들은 다른 방법들, 및 레이저 레인지 파인딩, 음향 탐지기, 레이더 등을 포함하는 방법들의 조합들을 통해 결정될 수 있다. 영역 내의 표면들까지의 거리들의 결정은 모델링되는 영역 내의 객체들의 위치 결정을 허용한다. 또한, 영역 내의 표면들까지의 거리들의 결정은 결정된 거리에 따라 살균 방사선이 조정될 수 있도록 허용한다.

동작 (306) 에서, 결정 동작 (210) 은 하나 이상의 그림자들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지를 결정하는 것을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 결정 유닛들이, 하나 이상의 그림자들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지를 결정하는데 이용된다. 그림자들은 방사선 소스와 영역의 부분 사이에 위치된 객체에 의해 입사 방사선이 영역의 일부를 조사하는 것이 방해될 때 발생할 수도 있다. 이러한 그림자들의 존재를 결정하는 것은, 입사 방사선에 의해 살균되지 않을 영역의 부분들이 비살균 상태로 예측되고 지정되도록 허용한다. 다르게는, 이러한 그림자들의 존재를 결정하는 것은, 제 2 살균 방사선 소스로부터 방출되는 살균 방사선을 이용한 그림자들의 조사를 제공한다. 이러한 결정하는 단계는 지정된 위치에서 살균 방사선 소스로부터 방출되는 자외광과 같은 방사선이 영역의 소정 부분 상에 부딪힐지를 결정하기 위한 컴퓨터 모델링을 포함할 수 있다. 하나 이상의 그림자들이 영역 내에 존재하는지를 결정하는데, 영역 전체를 통해 위치된 센서들의 이용, 조사될 때 형광을 발하거나 색이 변하는 표시자의 이용 등을 포함하는 추가적인 방법들이 이용될 수도 있다.

동작 (308) 에서, 결정 동작 (210) 은 하나 이상의 영역들에 존재 또는 부재 하는 하나 이상의 객체들에 대응하는 하나 이상의 형상들을 결정하는 것을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 결정 유닛들이 하나 이상의 영역들에 존재 또는 부재하는 하나 이상의 객체들에 대응하는 하나 이상의 형상들을 결정하는데 이용된다. 영역 내에 존재하는 객체들은 살균 방사선으로 조사됨으로써 살균되는 그들의 능력에 영향을 미칠 수도 있는 다양한 형상들을 가질 수 있다. 따라서, 객체들의 형상의 결정은 객체가 더욱 적절하게 살균될 수 있도록 객체에 입사하도록 하는 살균 조사의 조정을 제공한다. 예를 들어, 살균 방사선의 빔은 채널들 내의 공간들이 살균 방사선으로 적절하게 살균되도록 객체 내에 포함되는 채널들로 지향되도록 조정될 수도 있다. 객체의 형상은 수많은 기법의 이용을 통해 결정될 수도 있다. 예를 들어, 몇몇 실시형태들에서, 영역에 존재하는 객체의 형상을 결정하기 위해 컴퓨터 모델링이 이용될 수 있다. 다른 실시형태들에서, 영역 내에 존재하는 하나 이상의 객체들에 대응하는 형상들은 사진술 방법들, 광학적 방법들 등의 이용을 통해 결정될 수 있다. 수많은 객체들이 하나 이상의 영역들 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들 내에 존재 또는 부재할 수도 있다. 이러한 객체들의 예로는, 사람들, 사람이 아닌 동물들, 식물들, 수술 도구들, 요리 기구, 식기, 싱크대, 테이블, 기계, 폐기 영역들 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

도 4 는 도 2 의 예시적인 동작 플로우 (200) 의 대안적인 실시형태들을 나타낸다. 도 4 는 송신 동작 (220) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (402), 동작 (404), 동작 (406), 동작 (408), 및/또는 동작 (410) 을 포함할 수도 있다.

동작 (402) 에서, 송신 동작 (220) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 실질적으로 일정하게 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 이 경우에, 하나 이상의 살균 방사선 소스들은, 실질적으로 주기적인 패턴에 따라 방사선의 방출 및 비방출을 교대로 하는 것을 포함하지 않는 방식으로 방사선을 방출할 것이다. 하지만, 이러한 방출은 프로그래밍된 스케쥴, 루틴 또는 시퀀스, 또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 따르도록, 시작 및 정지, 강도 변조, 일시 중지, 개시, 중단, 재개시, 프로그래밍될 수 있다. 일정한 방출에 반해, 펄스 방식으로 방출되는 방사선은 실질적으로 주기적으로 반복되는 패턴에 따른 방사선의 방출 및 비방출을 포함한다.

동작 (404) 에서, 송신 동작 (220) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 펄스로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 이 경우, 방사선은 방출 기간과 그 다음에 오는 비방출 기간을 교대로 하는 것을 포함하는 실질적으로 주기적인 프로그램에 따라 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출될 것이다. 예를 들어, 방사선은 특정적으로 이격된 시간 포인트들에서 발생하는 플래시들로 방출된다. 펄스로 서 방출되는 방사선의 방출은 프로그래밍된 스케쥴, 루틴 또는 시퀀스, 및 실질적으로 이들의 임의의 조합을 따르도록, 시작 및 정지, 강도 변조, 일시 중지, 개시, 중단, 재개시, 프로그래밍될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 펄스 방식의 방사선의 방출은 살균 방사선 소스와 관련된 열 출력을 감소시키기 위해 이용될 수도 있다.

동작 (406) 에서, 송신 동작 (220) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 수많은 파장들의 자외광이 살균 방사선 소스로부터 방출될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 260 나노미터 내지 270 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 약 260 나노미터의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 265 나노미터에 중심을 두지만 비대칭인 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 또한, 몇몇 실시형태들 에서, 자외광을 방출하는 살균 방사선 소스는 또한 추가적인 형태 (form) 들의 방사선을 방출할 수 있다. 이들 추가적인 형태들의 방사선으로는, 감마 방사선, 가시광, 적외선 방사선, 전자빔 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 자외선 방사선 소스들은 상업적으로 이용가능하다 (Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618).

동작 (408) 에서, 송신 동작 (220) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 수많은 파장들의 자외광이 살균 방사선 소스로부터 방출될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 260 나노미터 내지 270 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 약 260 나노미터의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 265 나노미터에 중심을 두지만 비대칭인 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 또한, 몇몇 실시형태들에서, 자외광을 방출하는 살균 방사선 소스는 또한 추가적인 형태들의 방사선을 방출할 수 있다. 이들 추가적인 형태들의 방사선으로는, 감마 방사선, 가시광, 적외선 방사선, 전자빔 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 자외선 방사선 소스들은 상업적으로 이용가능하다 (Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618).

동작 (410) 에서, 송신 동작 (220) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 260 나노미터 내지 270 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방 사선 소스는 약 260 나노미터의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 265 나노미터에 중심을 두지만 비대칭인 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 또한, 몇몇 실시형태들에서, 자외광을 방출하는 살균 방사선 소스는 또한 추가적인 형태들의 방사선을 방출할 수 있다. 이들 추가적인 형태들의 방사선으로는, 감마 방사선, 가시광, 적외선 방사선, 전자빔 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 자외선 방사선 소스들은 상업적으로 이용가능하다 (Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618).

도 5 는 도 2 의 예시적인 동작 플로우 (200) 의 대안적인 실시형태들을 나타낸다. 도 5 는 송신 동작 (220) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (502), 동작 (504), 동작 (506), 동작 (508), 및/또는 동작 (510) 을 포함할 수도 있다.

동작 (502) 에서, 송신 동작 (220) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 260 나노미터 내지 270 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 약 260 나노미터의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 265 나노미터에 중심을 두지만 비대칭인 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 또한, 몇몇 실시형태들에서, 자외광을 방출하는 살균 방사선 소스는 또한 추가적인 형태들의 방사선을 방출할 수 있다. 이들 추가적인 형태들의 방사선으로는, 감마 방사선, 가시광, 적외선 방사선, 전자빔 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 자외선 방사선 소스들은 상업적으로 이용가능하다 (Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618).

동작 (504) 에서, 송신 유닛 (220) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 감마 방사선으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 감마 방사선은 코발트-60 을 포함하는 살균 방사선 소스로부터 방출될 수도 있다. 이러한 소스들은 공지되어 있고, 상업적으로 이용가능하다 (MDS Nordion, Ottawa, Ontario, Canada).

동작 (506) 에서, 송신 유닛 (220) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 지향시키도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 지향시키기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 영역의 일부분 상에 부딪치도록 지향된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 하나 이상의 객체들 또는 표면들로부터 멀어지도록 지향된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 하나 이상의 정의된 표면들 또는 객체들 상에 부딪치도록 포커싱된다. 살균 방사선의 포커싱은 소정의 영역 상에 부딪치는 살균 방사선의 강도를 증가시키는 기능을 할 수 있다. 따라서, 살균 방사선은 이러한 처리의 필요로 영역 또는 영역의 부분 상에서 강화될 수도 있다.

동작 (508) 에서, 송신 유닛 (220) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 형상화하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 형상화하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 살균 방사선은 수많은 방법들의 이용을 통해 형상화될 수도 있다. 예를 들어, 렌즈들 및 거울들이 살균 방사선을 형상화하기 위해 이용될 수 있다. 따라서, 살균 방사선의 공간 분포가 제어될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 하나 이상의 특정 영역들 또는 객체들이 조사되도록 형상화된다. 몇몇 실시형 태들에서, 살균 방사선은 하나 이상의 특정 영역들 또는 객체들을 조사하는 것을 회피하도록 형상화된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 빔으로 형상화되어, 하나 이상의 영역들 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들을 살균하기 위해 스위핑 (sweeping) 될 수 있다.

동작 (510) 에서, 송신 유닛 (220) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 하여금 살균 방사선이 하나 이상의 객체들 상으로 방출하는 것을 회피하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 살균 방사선이 하나 이상의 객체들 상으로 방출하는 것을 회피하도록 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 수많은 객체들이 하나 이상의 영역 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들 내에 존재 또는 부재할 수도 있다. 이러한 객체들의 예로는, 사람들, 사람이 아닌 동물들, 식물들, 수술 도구들, 요리 기구, 식기, 싱크대, 테이블, 기계, 폐기 영역들 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

도 6 은 도 2 의 예시적인 동작 플로우 (200) 의 대안적인 실시형태들을 나타낸다. 도 6 은 송신 동작 (220) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (602), 동작 (604), 동작 (606), 동작 (608), 및/또는 동작 (610) 을 포함할 수도 있다.

동작 (602) 에서, 송신 동작 (220) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 객체들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신 호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 수많은 객체들이 하나 이상의 영역 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들 내에 존재 또는 부재할 수도 있다. 이러한 객체들의 예로는, 사람들, 사람이 아닌 동물들, 식물들, 수술 도구들, 요리 기구, 식기, 싱크대, 테이블, 기계, 폐기 영역들 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

동작 (604) 에서, 송신 동작 (220) 은 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 사이의 하나 이상의 거리들을 결정하는 것에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 사이의 하나 이상의 거리들을 결정하는 것에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 하나 이상의 송신 유닛들은 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 사이의 하나 이상의 거리들을 결정하는 하나 이상의 결정 유닛들에 응답한다.

단계 (606) 에서, 송신 동작 (220) 은 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 레코딩 디바이스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 레코딩 디바이스들로 송신하는데 이용된다. 많은 타입의 레코딩 디바이스들이 이용될 수도 있다. 이러한 레코딩 디바이스들의 예로는, 많은 타입의 메모리, 광학 디스크들, 자기 디스크들, 자기 테이프 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 레코딩 디바이스들은 사용자 상호작용을 제공한다. 몇몇 실시형태들에서, 신호는 살균 주파수, 살균 강도, 살균 영역 등과 관련된 정보를 포함한다.

동작 (608) 에서, 송신 동작 (220) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 공간적으로 정의된 부분들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 공간적으로 정의된 부분들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 이러한 영역들의 예로는, 수술실 및 수술 구역과 같은 병원; 비행기, 기차, 자동차, 지하철, 버스와 같은 수송 수단; 부엌; 욕실 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 하나 이상의 영역들의 공간적으로 정의된 부분들의 예로는, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 싱크대, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 테이블, 하나 이상의 수실실 내의 바닥의 하나 이상의 부분들, 하나 이상의 수술실 내의 벽의 하나 이상의 부분들 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

동작 (610) 에서, 송신 동작 (220) 은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 영역들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 그 하나 이상 의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 영역들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 그 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 하나 이상의 살균 레벨들이 하나 이상의 영역들에 대해 소망되는 살균 정도에 따라 하나 이상의 영역들에 대해 지정될 수도 있다. 예를 들어, 병원의 수술실은 높은 살균 레벨을 수신할 수도 있는 한편, 접수실은 낮은 살균 레벨을 수신할 수도 있다.

도 7 은 도 2 의 예시적인 동작 플로우 (200) 의 대안적인 실시형태들을 나타낸다. 도 7 은 송신 동작 (220) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (702), 및/또는 동작 (704) 을 포함할 수도 있다.

동작 (702) 에서, 송신 동작 (220) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 우선순위를 정하여 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 우선순위를 정하여 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 우선순위를 정하는 방식은 긴박, 대기, 강도 등과 관련하여 하나 이상의 영역들을 조사하는 것을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 우선순위를 정하는 방식은, 환자에게 아주 해로운, 또는 감염 우려가 높은 영역들 및 공간들이 가장 엄격 및/또는 빈번하게 조사되도록 특정될 수 있도록, 기준이 되는 둘러싸인 체적에서의 상대적인 위치들 또는 절대적인 위치들 중 어느 일방의 함수들로서 하나 이상의 영역들의 조사와 같은, 살균 조사의 시간 통합된 강도와 관련한 하나 이상의 영역들에 대한 조사를 포함한다.

동작 (704) 에서, 송신 동작 (220) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 영역들 내에 존재 또는 부재하는 하나 이상의 객체들에 대응하는 하나 이상의 형상들에 응답하여 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 결정 유닛들이 하나 이상의 영역들 내에 존재 또는 부재하는 하나 이상의 객체들에 대응하는 하나 이상의 형상들을 결정하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 영역들 내에 존재 또는 부재하는 하나 이상의 객체들에 대응하는 하나 이상의 형상들에 응답하여 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 영역 내에 존재하는 객체들은 살균 방사선으로 조사됨으로써 살균되는 그들의 능력에 영향을 미칠 수도 있는 다양한 형상일 수 있다. 따라서, 객체의 형상의 결정은 객체가 더욱 적절하게 살균될 수 있도록 객체 상에 입사하도록 살균 방사선의 조정을 제공한다. 예를 들어, 살균 방사선의 빔은 채널들 내의 공간 들이 살균 방사선으로 적절하게 살균되도록 객체 내에 포함되는 채널들 상으로 지향되도록 조정될 수도 있다. 객체의 형상은 수많은 기법들의 이용을 통해 결정될 수도 있다. 예를 들어, 몇몇 실시형태들에서, 컴퓨터 모델링이 영역에 존재하는 객체들의 형상을 결정하는데 이용될 수 있다. 다른 실시형태들에서, 영역에 존재하는 하나 이상의 객체들에 대응하는 형상들이 사진술 방법들, 광학적 방법들 등의 이용을 통해 결정될 수 있다.

도 8 은 살균 방법의 수행에 관련된 예시적인 동작들을 나타내는 동작 플로우 (800) 를 나타낸다. 도 8 에서, 그리고 살균 동작의 수행 동안 이용되는 동작들의 다양한 예들을 포함하는 이어지는 도면들에서, 논의 및 설명이, 도 1b 의 전술한 예와 관련하여, 및/또는 다른 예들 및 내용들과 관련하여 제공될 수도 있다. 그러나, 동작들이 수많은 다른 환경들 및 내용들, 및/또는 도 1b 의 수정된 버전들에서 실행될 수도 있다는 것을 이해할 필요가 있다. 또한, 다양한 동작들이 도시된 시퀀스(들)로 표시되지만, 다양한 동작들은 도시된 것들 외의 다른 순서들로 수행될 수도 있고, 또는, 동시에 수행될 수도 있다는 것을 이해할 필요가 있다.

개시 동작 후에, 동작 플로우 (800) 는 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들의 근사치를 구하는 것을 포함하는 근사화 동작 (810) 을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 근사화 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하기 위해 동작한다. 몇몇 실시형태들에서, 단일 근사화 유닛이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하기 위해 동작한다. 몇몇 실시형태들에서, 2 이상의 근사화 유닛이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하기 위해 동작한다. 몇몇 실시형태들에서, 2 이상의 근사화 유닛이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하기 위해 동작한다.

동작 플로우 (800) 는 또한, 전술한 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함하는 송신 동작 (820) 을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 근사화 동작 (810) 에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신한다. 따라서, 몇몇 실시형태들에서, 하나의 송신 유닛이 하나 이상의 신호들을 단일 살균 방사선 소스로 또는 다수의 살균 방사선 소스들로 송신할 수 있다. 예를 들어, 몇몇 실시형태들에서, 하나의 송신 유닛이 하나의 신호를 하나의 살균 방사선 소스로 송신한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나의 송신 유닛이 하나를 초과하는 신호를 하나의 살균 방사선 소스로 송신한다. 다른 실시형태들에서, 하나의 송신 유닛이 하나의 신호를 하나를 초과하는 살균 방사선 소스로 송신한다. 또 다른 실시형태들에서, 하나의 송신 유닛이 하나를 초과하는 신호를 하나의 살균 방사선 소스로 송신한다. 또한, 2 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 신호들을 단일 살균 방사선 소스로 또는 다수의 살균 방사선 소스들로 각각 송신할 수 있다. 예를 들어, 몇몇 실시형태들에서, 2 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 신호들을 단일 살균 방사선 소스로 각각 송신할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 2 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 신호들을 다수의 살균 방사선 소스들로 각각 송신할 수 있다.

도 9 는 도 8 의 예시적인 동작 플로우 (800) 의 대안적인 실시형태들을 나타낸다. 도 9 는 근사화 동작 (810) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (902), 동작 (904), 동작 (906), 및/또는 동작 (908) 을 포함할 수도 있다.

동작 (902) 에서, 근사화 동작 (810) 은 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들에 대응하는 하나 이상의 형상들을 근사화하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 근사화 유닛들은 하나 이상의 영역들 내에 존재 또는 부재하는 하나 이상의 객체들의 하나 이상의 표면들에 대응하는 하나 이상의 형상들 사이의 거리들의 근사치를 구할 수 있다. 하나 이상의 근사화 유닛들은 수많은 기술들을 활용할 수도 있다. 예를 들어, 근사화 유닛은, 장파장 적외선 방사선과 같은 적외선 방사선; 망막 반사; 각막 반사; 카드 판독기, 배지 판독기, 바 코드 판독기 등과 같은 태그 판독기; 동작 검출; 레이더 검출; 음파 검출; 컴퓨터 모델링; 레이저 및 적외선 레인지 파인더와 같은 레인지 파인더; 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 포함하는 기술들을 이용할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 근사화된 거리들은 살균 방사선을 하나 이상의 객 체들 또는 표면들 상으로 지향하거나 또는 살균 방사선을 하나 이상의 객체들 또는 표면들로부터 멀어지도록 지향하는데 이용될 수 있다.

동작 (904) 에서, 근사화 동작 (810) 은 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들이 하나 이상의 그림자들 내에 포함되는지를 근사화하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 근사화 유닛들이 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는 하나 이상의 그림자들 내에 포함되는지를 결정하는데 이용된다. 그림자들은 방사선 소스와 영역의 부분 사이에 위치된 객체에 의해 입사 방사선이 영역의 일부를 조사하는 것이 방해될 때 발생할 수도 있다. 이러한 그림자들의 존재를 결정하는 것은, 입사 방사선에 의해 살균되지 않을 영역의 부분들이 비살균 상태로 예측되고 지정되도록 허용한다. 다르게는, 이러한 그림자들의 존재를 결정하는 것은, 제 2 살균 방사선 소스로부터 방출되는 살균 방사선을 이용한 그림자들의 조사를 제공한다. 이러한 결정하는 단계는 지정된 위치에서 살균 방사선 소스로부터 방출되는 자외광과 같은 방사선이 영역의 소정 부분 상에 부딪힐지를 결정하기 위한 컴퓨터 모델링을 포함할 수 있다. 하나 이상의 그림자들이 영역 내에 존재하는지를 결정하는데, 하나 이상의 영역들 전체를 통해 위치된 센서들의 이용, 조사될 때 형광을 발하거나 색이 변하는 표시자의 이용 등을 포함하는 추가적인 방법들이 이용될 수도 있다.

동작 (906) 에서, 근사화 동작 (810) 은 데이터베이스를 액세스함으로써 하나 이상의 거리들을 근사화하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 근사화 유닛들이 데이터베이스를 액세스함으로써 하나 이상의 거리들을 근사화하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 데이터베이스는 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 및/또는 하나 이상의 객체들에 대한 좌표들을 포함할 것이다. 몇몇 실시형태들에서, 데이터베이스는 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 및/또는 하나 이상의 객체들에 대한 측정된 거리들을 포함할 것이다.

동작 (908) 에서, 근사화 동작 (810) 은 하나 이상의 영역들을 모델링함으로써 하나 이상의 거리들을 근사화하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 근사화 유닛들이 하나 이상의 영역들을 모델링함으로써 하나 이상의 거리들을 근사화는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 객체들, 하나 이상의 영역들, 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들 및 실질적으로 이들의 임의의 조합을 모델링하는데 컴퓨터 모델링이 이용될 수도 있다.

도 10 은 도 8 의 예시적인 동작 플로우 (800) 의 대안적인 실시형태들을 나타낸다. 도 10 은 송신 동작 (820) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (1002), 동작 (1004), 동작 (1006), 동작 (1008), 및/또는 동작 (1010) 을 포함할 수도 있다.

동작 (1002) 에서, 송신 동작 (820) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 실질적으로 일정하게 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하 나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 이 경우에, 하나 이상의 살균 방사선 소스들은, 실질적으로 주기적인 패턴에 따라 방사선의 방출 및 비방출을 교대로 하는 것을 포함하지 않는 방식으로 방사선을 방출할 것이다. 하지만, 이러한 방출은 프로그래밍된 스케쥴, 루틴 또는 시퀀스, 또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 따르도록, 시작 및 정지, 강도 변조, 일시 중지, 개시, 중단, 재개시, 프로그래밍될 수 있다. 일정한 방출에 반해, 펄스 방식으로 방출되는 방사선은 실질적으로 주기적으로 반복되는 패턴에 따른 방사선의 방출 및 비방출을 포함한다.

동작 (1004) 에서, 송신 동작 (820) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 펄스로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 이 경우, 방사선은 방출 기간과 그 다음에 오는 비방출 기간을 교대로 하는 것을 포함하는 실질적으로 주기적인 프로그램에 따라 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출될 것이다. 예를 들어, 방사선은 특정적으로 이격된 시간 포인트들에서 발생하는 플래시들로 방출된다. 펄스로서 방출되는 방사선의 방출은 프로그래밍된 스케쥴, 루틴 또는 시퀀스, 및 실질적으로 이들의 임의의 조합을 따르도록, 시작 및 정지, 강도 변조, 일시 중지, 개시, 중단, 재개시, 프로그래밍될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 펄스 방식의 방사선의 방출은 살균 방사선 소스와 관련된 열 출력을 감소시키기 위해 이용될 수도 있다.

동작 (1006) 에서, 송신 동작 (820) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 수많은 파장들의 자외광이 살균 방사선 소스로부터 방출될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 260 나노미터 내지 270 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 약 260 나노미터의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 265 나노미터에 중심을 두지만 비대칭인 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 또한, 몇몇 실시형태들에서, 자외광을 방출하는 살균 방사선 소스는 또한 추가적인 형태들의 방사선을 방출할 수 있다. 이들 추가적인 형태들의 방사선으로는, 감마 방사선, 가시광, 적외선 방사선, 전자빔 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 자외선 방사선 소스들은 상업적으로 이용가능하다 (Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618).

동작 (1008) 에서, 송신 동작 (820) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 수많은 파장들의 자외광이 살균 방사선 소스로부터 방출될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 260 나노미터 내지 270 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 약 260 나노미터의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 265 나노미터에 중심을 두지만 비대칭인 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 또한, 몇몇 실시형태들에서, 자외광을 방출하는 살균 방사선 소스는 또한 추가 적인 형태들의 방사선을 방출할 수 있다. 이들 추가적인 형태들의 방사선으로는, 감마 방사선, 가시광, 적외선 방사선, 전자빔 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 자외선 방사선 소스들은 상업적으로 이용가능하다 (Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618).

동작 (1010) 에서, 송신 동작 (820) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 260 나노미터 내지 270 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 약 260 나노미터의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 265 나노미터에 중심을 두지만 비대칭인 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 또한, 몇몇 실시형태들에서, 자외광을 방출하는 살균 방사선 소스는 또한 추가적인 형태들의 방사선을 방출할 수 있다. 이들 추가적인 형태들의 방사선으로는, 감마 방사선, 가시광, 적외선 방사선, 전자빔 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 자외선 방사선 소스들은 상업적으로 이용가능하다 (Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618).

도 11 은 도 8 의 예시적인 동작 플로우 (800) 의 대안적인 실시형태들을 나타낸다. 도 11 은 송신 동작 (820) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (1102), 동작 (1104), 동작 (1106), 동작 (1108), 및/또는 동작 (1110) 을 포함할 수도 있다.

동작 (1102) 에서, 송신 동작 (820) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 260 나노미터 내지 270 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 약 260 나노미터의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 265 나노미터에 중심을 두지만 비대칭인 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 또한, 몇몇 실시형태들에서, 자외광을 방출하는 살균 방사선 소스는 또한 추가적인 형태들의 방사선을 방출할 수 있다. 이들 추가적인 형태들의 방사선으로는, 감마 방사선, 가시광, 적외선 방사선, 전자빔 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 자외선 방사선 소스들은 상업적으로 이용가능하다 (Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618).

동작 (1104) 에서, 송신 동작 (820) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 감마 방사선으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 감마 방사선은 코발트-60 을 포함하는 살균 방사선 소스로부터 방출될 수도 있다. 이러한 소스들은 공지되어 있으며, 상업적으로 이용가능하다 (MDS Nordion, Ottawa, Ontario, Canada).

동작 (1106) 에서, 송신 동작 (820) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 지향시키도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 지향시키기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 영역의 일부분 상에 부딪치도록 지향된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 하나 이상의 객체들 또는 표면들로부터 멀어지도록 지향된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 하나 이상의 정의된 표면들 또는 객체들 상에 부딪치도록 포커싱된다. 살균 방사선의 포커싱은 소정의 영역 상에 부딪치는 살균 방사선의 강도를 증가시키는 기능을 할 수 있다. 따라서, 살균 방사선은 이러한 처리의 필요로 영역 또는 영역의 부분 상에서 강화될 수도 있다.

동작 (1108) 에서, 송신 유닛 (820) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 형상화하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 형상화하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 살균 방사선은 수많은 방법들의 이용을 통해 형상화될 수도 있다. 예를 들어, 렌즈들 및 거울들이 살균 방사선을 형상화하기 위해 이용될 수 있다. 따라서, 살균 방사선의 공간 분포가 제어될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 하나 이상의 특정 영역들 또는 객체들이 조사되도록 형상화된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 하나 이상의 특정 영역들 또는 객체들을 조사하는 것을 회피하도록 형상화된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 빔으로 형상화되어, 하 나 이상의 영역들 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들을 살균하기 위해 스위핑될 수 있다.

동작 (1110) 에서, 송신 유닛 (820) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 하여금 살균 방사선이 하나 이상의 표면들 상으로 방출하는 것을 회피하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 살균 방사선이 하나 이상의 객체들 상으로 방출하는 것을 회피하도록 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 수많은 객체들이 하나 이상의 영역 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들 내에 존재 또는 부재할 수도 있다. 이러한 객체들의 예로는, 사람들, 사람이 아닌 동물들, 식물들, 수술 도구들, 요리 기구, 식기, 싱크대, 테이블, 기계, 폐기 영역들 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

도 12 는 도 8 의 예시적인 동작 플로우 (800) 의 대안적인 실시형태들을 나타낸다. 도 12 는 송신 동작 (820) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (1202), 동작 (1204), 동작 (1206), 동작 (1208), 및/또는 동작 (1210) 을 포함할 수도 있다.

동작 (1202) 에서, 송신 동작 (820) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇 몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 이러한 표면들의 예로는, 수술실 및 수술 구역과 같은 병원; 비행기, 기차, 자동차, 지하철, 버스와 같은 수송 수단; 부엌; 욕실 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 하나 이상의 영역들 내의 표면들의 예로는, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 싱크대 표면들, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 테이블 표면들, 하나 이상의 수실실 내의 하나 이상의 바닥 표면들, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 벽 표면들 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

동작 (1204) 에서, 송신 동작 (820) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 공간적으로 정의된 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 공간적으로 정의된 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 이러한 표면들의 예는, 수술실 및 수술 구역과 같은 병원; 비행기, 기차, 자동차, 지하철, 버스와 같은 수송 수단; 부엌; 욕실 등을 포함하지만 이에 한정되는 것은 아닌 영역들 내에서 발생할 수도 있다. 하나 이상의 영역들 내의 공간적으로 정의된 표면들의 예로는, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 싱크대 표면들, 하나 이상 의 수술실 내의 하나 이상의 테이블 표면들, 하나 이상의 수실실 내의 하나 이상의 바닥 표면들, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 벽 표면들 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

동작 (1206) 에서, 송신 동작 (820) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 표면들에 대해 지정된 살균 레벨에 따라 그 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 표면들에 대해 지정된 살균 레벨에 따라 그 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는데 이용된다. 하나 이상의 살균 레벨들이 하나 이상의 영역들에 대해 소망되는 살균 정도에 따라 하나 이상의 영역들에 대해 지정될 수도 있다. 예를 들어, 병원의 수술실은 높은 살균 레벨을 수신할 수도 있는 한편, 접수실은 낮은 살균 레벨을 수신할 수도 있다.

동작 (1208) 에서, 송신 동작 (820) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 우선순위를 정하여 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 우선순위를 정하여 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신 하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 우선순위를 정하는 방식은 긴박, 대기, 강도 등과 관련하여 하나 이상의 표면들을 조사하는 것을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 우선순위를 정하는 방식은, 환자에게 아주 해로운, 또는 감염 우려가 높은 표면들이 가장 엄격 및/또는 빈번하게 조사되도록 특정될 수 있도록, 기준이 되는 둘러싸인 체적에서의 상대적인 위치들 또는 절대적인 위치들 중 어느 일방의 함수들로서 하나 이상의 표면들의 조사와 같은, 살균 조사의 시간 통합된 강도와 관련한 하나 이상의 표면들에 대한 조사를 포함한다.

단계 (1210) 에서, 송신 동작 (820) 은 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 레코딩 디바이스들로 송신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 송신 유닛들이 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 레코딩 디바이스들로 송신하는데 이용된다. 많은 타입의 레코딩 디바이스들이 이용될 수도 있다. 이러한 레코딩 디바이스들의 예로는, 많은 타입의 메모리, 광학 디스크들, 자기 디스크들, 자기 테이프 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 레코딩 디바이스들은 사용자 상호작용을 제공한다.

도 13 은 살균 방법의 수행에 관련된 동작들의 예들을 나타내는 동작 플로우 (1300) 를 나타낸다. 도 13 에서, 그리고 살균 방법의 수행 동안 이용되는 동작들의 다양한 예들을 포함하는 이어지는 도면들에서, 논의 및 설명이, 도 1c 의 전술한 예와 관련하여, 및/또는 다른 예들 및 내용들과 관련하여 제공될 수도 있다. 그러나, 동작들이 수많은 다른 환경들 및 내용들, 및/또는 도 1c 의 수정 된 버전들에서 실행될 수도 있다는 것을 이해할 필요가 있다. 또한, 다양한 동작들이 도시된 시퀀스(들)로 표현되지만, 다양한 동작들은 도시된 것들 외의 다른 순서들로 수행될 수도 있고, 또는, 동시에 수행될 수도 있다는 것을 이해할 필요가 있다.

개시 동작 후에, 동작 플로우 (1300) 는 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 것을 포함하는 수신 동작 (1310) 을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하도록 동작한다. 몇몇 실시형태들에서, 단일 수신 유닛이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하도록 동작한다. 몇몇 실시형태들에서, 2 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하기 위해 동작한다. 몇몇 실시형태들에서, 2 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하기 위해 동작한다.

동작 플로우 (1300) 는 또한 상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 것을 포함하는 방출 동작 (1320) 을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 전술한 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출한다. 따라서, 몇몇 실시형태들에서, 단일의 살균 방사선 소스 또는 수많은 살균 방사선 소스들이 하나의 수신 유닛들에 응답할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나의 살균 방사선 소스가 하나 이상의 수신 유닛들에 응답할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 수신 유닛들에 응답할 수 있다.

도 14 는 도 13 의 예시적인 동작 플로우 (1300) 의 대안적인 실시형태들을 나타낸다. 도 14 는 수신 동작 (1310) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (1402), 동작 (1404), 동작 (1406), 동작 (1408), 및/또는 동작 (1410) 을 포함할 수도 있다.

동작 (1402) 에서, 수신 동작 (1310) 은 살균 방사선을 실질적으로 일정하게 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 살균 방사선을 실질적으로 일정하게 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신한다. 이 경우에, 방사선은, 실질적으로 주기적인 패턴에 따라 방사선의 방출 및 비방출을 교대로 하는 것을 포함하지 않는 방식으로 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출될 것이다. 하지만, 이러한 방출은 프로그래밍된 스케쥴, 루틴 또는 시퀀스, 또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 따르도록, 시작 및 정지, 강도 변조, 일시 중지, 개시, 중단, 재개시, 프로그래밍될 수 있다. 일정한 방출에 반해, 펄스 방식으로 방출되는 방사선은 실질적으로 주기적으로 반복되는 패턴에 따른 방사선의 방출 및 비방출을 포함한다.

동작 (1404) 에서, 수신 동작 (1310) 은 살균 방사선을 펄스로서 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수 신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 살균 방사선을 펄스로서 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신한다. 이 경우, 방사선은 방출 기간과 그 다음의 비방출 기간을 교대로 하는 것을 포함하는 실질적으로 주기적 프로그램에 따라 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출될 것이다. 예를 들어, 방사선은 특정적으로 이격된 시간 포인트들에서 발생하는 플래시들로 방출된다. 펄스로서 방출되는 방사선의 방출은 프로그래밍된 스케쥴, 루틴 또는 시퀀스, 및 실질적으로 이들의 임의의 조합을 따르도록, 시작 및 정지, 강도 변조, 일시 중지, 개시, 중단, 재개시, 프로그래밍될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 펄스 방식의 방사선의 방출은 살균 방사선 소스와 관련된 열 출력을 감소시키기 위해 이용될 수도 있다.

동작 (1406) 에서, 수신 동작 (1310) 은 살균 방사선을 자외광으로서 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 살균 방사선을 자외광으로서 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신한다. 몇몇 실시형태들에서, 수많은 파장들의 자외광이 살균 방사선 소스로부터 방출될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 255 나노미터 내지 280 나노 미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 260 나노미터 내지 270 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 약 260 나노미터의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 265 나노미터에 중심을 두지만 비대칭인 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 또한, 몇몇 실시형태들에서, 자외광을 방출하는 살균 방사선 소스는 또한 추가적인 형태들의 방사선을 방출할 수 있다. 이들 추가적인 형태들의 방사선으로는, 감마 방사선, 가시광, 적외선 방사선, 전자빔 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 자외선 방사선 소스들은 상업적으로 이용가능하다 (Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618).

동작 (1408) 에서, 수신 동작 (1310) 은 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신한다. 몇몇 실시형태들에서, 수많은 파장들의 자외광이 살균 방사선 소스로부터 방출될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 260 나노미터 내지 270 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 약 260 나노미터의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 265 나노미터에 중심을 두지만 비대칭인 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 또한, 몇몇 실시형태들에서, 자외광을 방출하는 살균 방사선 소스는 또한 추가적인 형태들의 방사선을 방출할 수 있다. 이들 추가적인 형태들의 방사선으로는, 감마 방사선, 가시광, 적외선 방사선, 전자빔 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 자외선 방사선 소스들은 상업적으로 이용가능하다 (Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618).

동작 (1410) 에서, 수신 동작 (1310) 은 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신한다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 260 나노미터 내지 270 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 약 260 나노미터의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 265 나노미터에 중심을 두지만 비대칭인 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 또한, 몇몇 실시형태들에서, 자외광을 방출하는 살균 방사선 소스는 또한 추가적인 형태들의 방사선을 방출할 수 있다. 이들 추가적인 형태들의 방사선으로는, 감마 방사선, 가시광, 적외선 방사선, 전자빔 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 자외선 방사선 소스들은 상업적으로 이용가능하다 (Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618).

도 15 는 도 13 의 예시적인 동작 플로우 (1300) 의 대안적인 실시형태들을 나타낸다. 도 15 는 수신 동작 (1310) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (1502), 동작 (1504), 동작 (1506), 동작 (1508), 및/또는 동작 (1510) 을 포함할 수도 있다.

동작 (1502) 에서, 수신 동작 (1310) 은 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛 들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신한다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 260 나노미터 내지 270 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 약 260 나노미터의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 265 나노미터에 중심을 두지만 비대칭인 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 또한, 몇몇 실시형태들에서, 자외광을 방출하는 살균 방사선 소스는 또한 추가적인 형태들의 방사선을 방출할 수 있다. 이들 추가적인 형태들의 방사선으로는, 감마 방사선, 가시광, 적외선 방사선, 전자빔 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 자외선 방사선 소스들은 상업적으로 이용가능하다 (Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618).

동작 (1504) 에서, 수신 동작 (1310) 은 살균 방사선을 감마 방사선으로서 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 살균 방사선을 감마 방사선으로서 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신한다. 감마 방사선은 코발트-60 을 포함하는 살균 방사선 소스로부터 방출될 수도 있다. 이러한 소스들은 공지되어 있고, 상업적으로 이용가능하다 (MDS Nordion, Ottawa, Ontario, Canada).

동작 (1506) 에서, 수신 유닛 (1310) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 지향시키는 것과 관련된 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 지향시키는 것과 관련된 명령들을 수신한다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 영역의 일부분 상에 부딪치도록 지향된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 하나 이상의 객체들 또는 표면들로부터 멀어지도록 지향된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 하나 이상의 정의된 표면들 또는 객체들 상에 부딪치도록 포커싱된다. 살균 방사선의 포커싱은 소정의 영역 상에 부딪치는 살균 방사선의 강도를 증가시키는 기능을 할 수 있다. 따라서, 살균 방사선은 이러한 처리의 필요로 영역 또는 영역의 부분 상에서 강화될 수도 있다.

동작 (1508) 에서, 송신 유닛 (1310) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 형상화하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태 들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 형상화는 것과 관련된 명령들을 수신한다. 살균 방사선은 수많은 방법들의 이용을 통해 형상화될 수도 있다. 예를 들어, 렌즈들 및 거울들이 살균 방사선을 형상화하기 위해 이용될 수 있다. 따라서, 살균 방사선의 공간 분포가 제어될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 하나 이상의 특정 영역들 또는 객체들이 조사되도록 형상화된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 하나 이상의 특정 영역들 또는 객체들을 조사하는 것을 회피하도록 형상화된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 빔으로 형상화되어, 하나 이상의 영역들 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들을 살균하기 위해 스위핑될 수 있다.

동작 (1510) 에서, 수신 동작 (1310) 은 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들을 수신한다. 몇몇 실시형태들에서, 한 사람과 관련된 하나의 신호가 수신될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 한 사람과 관련된 하나 이상의 신호들이 수신될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들이 수신될 수 있다. 다른 실시형태들에서, 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들을 수신하는 것은 하나 이상의 사람들과 관련된 임의의 신호의 부재를 수신하는 것을 포함한다. 하나 이 상의 사람들과 관련된 수많은 신호들이 수신될 수 있다. 이러한 신호들의 예로는, 적외선 방사선, 망막 반사, 동작 검출, 프로파일 검출, 및 실질적으로 이들의 임의의 조합을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들을 수신하는 것은 하나 이상의 사람들에 부착된 하나 이상의 태그들과 관련된 하나 이상의 신호들을 수신하는 것을 포함한다. 다른 실시형태들에서, 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들을 수신하는 것은 하나 이상의 영역들에 입장하는데 이용되는 하나 이상의 액세스 디바이스들과 관련된 하나 이상의 신호들을 수신하는 것을 포함한다. 액세스 디바이스들의 예로는, 액세스 카드, 키 패드, 자물쇠, 또는 하나 이상의 영역들로의 하나 이상의 사람들의 입장에 관련되는 다른 디바이스들을 포함한다.

도 16 은 도 13 의 예시적인 동작 플로우 (1300) 의 대안적인 실시형태들을 나타낸다. 도 16 은 수신 동작 (1310) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (1602), 동작 (1604), 동작 (1606), 동작 (1608), 및/또는 동작 (1610) 을 포함할 수도 있다.

동작 (1602) 에서, 수신 동작 (1310) 은 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들 및 하나 이상의 사람들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하기 위한 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신 하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들 및 하나 이상의 사람들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하기 위한 명령들을 수신한다. 몇몇 실시형태들에서, 한 사람과 관련된 하나의 신호가 수신될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 한 사람과 관련된 하나 이상의 신호들이 수신된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들이 수신될 수 있다. 다른 실시형태들에서, 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들을 수신하는 것은 하나 이상의 사람들과 관련된 임의의 신호의 부재를 수신하는 것을 포함한다. 하나 이상의 사람들과 관련된 수많은 신호들이 수신될 수 있다. 이러한 신호들의 예로는, 적외선 방사선, 망막 반사, 동작 검출, 프로파일 검출, 및 실질적으로 이들의 임의의 조합을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들을 수신하는 것은 하나 이상의 사람들에 부착된 하나 이상의 태그들과 관련된 하나 이상의 신호들을 수신하는 것을 포함한다. 다른 실시형태들에서, 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들을 수신하는 것은 하나 이상의 영역들에 입장하는데 이용되는 하나 이상의 액세스 디바이스들과 관련된 하나 이상의 신호들을 수신하는 것을 포함한다. 액세스 디바이스들의 예로는, 액세스 카드, 키 패드, 자물쇠, 또는 하나 이상의 영역들로의 하나 이상의 사람들의 입장에 관련되는 다른 디바이스들을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 사람들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하기 위한 명령들은 하나 이상의 사람들로부터 살균 방사선을 멀리 떨 어지도록 지향시키기 위한 명령들을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 사람들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하기 위한 명령들은 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터의 살균 방사선의 방출을 중지하기 위한 명령들을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 사람들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하기 위한 명령들은 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터의 살균 방사선의 방출을 시작하지 않기 위한 명령들을 포함한다.

동작 (1604) 에서, 수신 동작 (1310) 은 하나 이상의 영역들 내의 표면들 사이의 하나 이상의 거리들을 나타내는 하나 이상의 신호들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 영역들 내의 표면들 사이의 하나 이상의 거리들을 나타내는 하나 이상의 신호들을 수신한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들은 하나 이상의 영역들 내의 표면들 사이의 하나 이상의 거리들을 근사화한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 신호들은 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 표면들과 하나 이상의 살균 방사선 소스들 간의 근사화 거리들을 나타낸다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 표면들은 하나 이상의 영역들 내에 포함된 하나 이상의 객체들 상에 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 표면들은 하나 이상의 사람들 상에 있다.

동작 (1606) 에서, 수신 동작 (1310) 은 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하기 위한 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하기 위한 명령들을 수신한다. 이러한 영역들의 예로는, 수술실 및 수술 구역과 같은 병원; 비행기, 기차, 자동차, 지하철, 버스와 같은 수송 수단; 부엌; 욕실 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 하나 이상의 영역들의 표면들의 예로는, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 싱크대 표면들, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 테이블 표면들, 하나 이상의 수실실 내의 하나 이상의 바닥 표면들, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 벽 표면들 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

동작 (1608) 에서, 수신 동작 (1310) 은 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신한다. 이러한 영역들의 예로는, 수술실 및 수술 구역과 같은 병원; 비행기, 기차, 자동차, 지하철, 버스와 같은 수송 수단; 부엌; 욕실 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 하나 이상의 영역들의 표면들의 예로는, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 싱크대 표면들, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 테이블 표면들, 하나 이상의 수실실 내의 하나 이상의 바닥 표면들, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 벽 표면들 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

동작 (1610) 에서, 수신 동작 (1310) 은 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 공간적으로 정의된 부분들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 공간적으로 정의된 부분들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신한다. 이러한 영역들의 예로는, 수술실 및 수술 구역과 같은 병원; 비행기, 기차, 자동차, 지하철, 버스와 같은 수송 수단; 부엌; 욕실 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 하나 이상의 영역들의 공간적으로 정의된 부분들의 예로는, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 싱크대, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 테이블, 하나 이상의 수실실 내의 바닥의 하나 이상의 부분들, 하나 이상의 수술실 내의 벽의 하나 이상의 부분들 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

도 17 은 도 13 의 예시적인 동작 플로우 (1300) 의 대안적인 실시형태들을 나타낸다. 도 17 은 수신 동작 (1310) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (1702), 동작 (1704), 동작 (1706), 및/또는 동작 (1708) 을 포함할 수도 있다.

동작 (1702) 에서, 수신 동작 (1310) 은 하나 이상의 영역들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 그 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 영역들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 그 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신한다. 하나 이상의 살균 레벨들이 하나 이상의 영역들에 대해 소망되는 살균 정도에 따라 하나 이상의 영역들에 대해 지정될 수도 있다. 예를 들어, 병원의 수술실은 높은 살균 레벨을 수신할 수도 있는 한편, 접수실은 낮은 살균 레벨을 수신할 수도 있다.

동작 (1704) 에서, 수신 동작 (1310) 은 하나 이상의 표면들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 그 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 표면들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 살균 방사선을 그 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신한다. 하나 이상의 살균 레벨들이 하나 이상의 영역들에 대해 소망되는 살균 정도에 따라 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들에 대해 지정될 수도 있다. 예를 들어, 병원의 수술실은 높은 살균 레벨을 수신할 수도 있는 한편, 접수실은 낮은 살균 레벨을 수신할 수도 있다.

동작 (1706) 에서, 수신 동작 (1310) 은 하나 이상의 영역들 상으로 우선순위를 정하여 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 영역들 상으로 우선순위를 정하여 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신한다. 우선순위를 정하는 방식은 긴박, 대기, 강도 등과 관련하여 하나 이상의 영역들을 조사하는 것을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 우선순위를 정하는 방식은, 환자에게 아주 해로운, 또는 감염 우려가 높은 영역들 및 공간들이 가장 엄격 및/또는 빈번하게 조사되도록 특정될 수 있도록, 기준이 되는 둘러싸인 체적에서의 상대적인 위치들 또는 절대적인 위치들 중 어느 일방의 함수들로서 하나 이상의 영역들의 조사와 같은, 살균 조사의 시간 통합된 강도와 관련한 하나 이상의 영역들에 대한 조사를 포함한다.

동작 (1708) 에서, 수신 동작 (1310) 은 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 우선순위를 정하여 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들이 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 우선순위를 정하여 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신한다. 몇몇 실시형태들에서, 우선순위를 정하는 방식은 긴박, 대 기, 강도 등과 관련하여 하나 이상의 영역들을 조사하는 것을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 우선순위를 정하는 방식은, 환자에게 아주 해로운, 또는 감염 우려가 높은 영역들 및 공간들이 가장 엄격 및/또는 빈번하게 조사되도록 특정될 수 있도록, 기준이 되는 둘러싸인 체적에서의 상대적인 위치들 또는 절대적인 위치들 중 어느 일방의 함수들로서 하나 이상의 영역들의 조사와 같은, 살균 조사의 시간 통합된 강도와 관련한 하나 이상의 영역들에 대한 조사를 포함한다.

도 18 은 도 13 의 예시적인 동작 플로우 (1300) 의 대안적인 실시형태들을 나타낸다. 도 18 은 방출 동작 (1320) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (1802), 동작 (1804), 동작 (1806), 동작 (1808), 및/또는 동작 (1810) 을 포함할 수도 있다.

동작 (1802) 에서, 방출 동작 (1320) 은 살균 방사선을 실질적으로 일정하게 방출하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들은 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들은 살균 방사선을 실질적으로 일정하게 방출할 수도 있다. 이 경우에, 하나 이상의 살균 방사선 소스들은, 실질적으로 주기적인 패턴에 따라 방사선의 방출 및 비방출을 교대로 하는 것을 포함하지 않는 방식으로 방사선을 방출될 것이다. 하지만, 이러한 방출은 프로그래밍된 스케쥴, 루틴 또는 시퀀스, 또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 따르도록, 시작 및 정지, 강도 변조, 일시 중지, 개시, 중단, 재개시, 프로그래밍 될 수 있다. 일정한 방출에 반해, 펄스 방식으로 방출되는 방사선은 실질적으로 주기적으로 반복되는 패턴에 따른 방사선의 방출 및 비방출을 포함한다.

동작 (1804) 에서, 방출 동작 (1320) 은 살균 방사선을 펄스로서 방출하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 펄스로서 방출할 수도 있다. 이 경우, 방사선은 방출 기간과 그 다음에 오는 비방출 기간을 교대로 하는 것을 포함하는 실질적으로 주기적인 프로그램에 따라 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출될 것이다. 예를 들어, 방사선은 특정적으로 이격된 시간 포인트들에서 발생하는 플래시들로 방출된다. 펄스로서 방출되는 방사선의 방출은 프로그래밍된 스케쥴, 루틴 또는 시퀀스, 및 실질적으로 이들의 임의의 조합을 따르도록, 시작 및 정지, 강도 변조, 일시 중지, 개시, 중단, 재개시, 프로그래밍될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 펄스 방식의 방사선의 방출은 살균 방사선 소스와 관련된 열 출력을 감소시키기 위해 이용될 수도 있다.

동작 (1806) 에서, 방출 동작 (1320) 은 살균 방사선을 자외광으로서 방출하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 자외광으로서 방출할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 수많은 파장들의 자외광이 살균 방사선 소스로부터 방출될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 100 나 노미터 내지 400 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 260 나노미터 내지 270 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 약 260 나노미터의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 265 나노미터에 중심을 두지만 비대칭인 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 또한, 몇몇 실시형태들에서, 자외광을 방출하는 살균 방사선 소스는 또한 추가적인 형태들의 방사선을 방출할 수 있다. 이들 추가적인 형태들의 방사선으로는, 감마 방사선, 가시광, 적외선 방사선, 전자빔 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 자외선 방사선 소스들은 상업적으로 이용가능하다 (Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618).

동작 (1808) 에서, 방출 동작 (1320) 은 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스는 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 수많은 파장들의 자외광이 살균 방사선 소스로부터 방출될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 260 나노미터 내지 270 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 약 260 나노미터의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 265 나노미터에 중심을 두지만 비대칭인 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 또한, 몇몇 실시형태들에서, 자외광을 방출하는 살균 방사선 소스는 또한 추가적인 형태들의 방사선을 방출할 수 있다. 이들 추가적인 형태들의 방사선으로는, 감마 방사선, 가시광, 적외선 방사선, 전자빔 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 자외선 방사선 소스들은 상업적으로 이용가능하다 (Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618).

동작 (1810) 에서, 방출 동작 (1320) 은 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 수많은 파장 들의 자외광이 살균 방사선 소스로부터 방출될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들은 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 260 나노미터 내지 270 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 약 260 나노미터의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 265 나노미터에 중심을 두지만 비대칭인 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 또한, 몇몇 실시형태들에서, 자외광을 방출하는 살균 방사선 소스는 또한 추가적인 형태들의 방사선을 방출할 수 있다. 이들 추가적인 형태들의 방사선으로는, 감마 방사선, 가시광, 적외선 방사선, 전자빔 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 자외선 방사선 소스들은 상업적으로 이용가능하다 (Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618).

도 19 는 도 13 의 예시적인 동작 플로우 (1300) 의 대안적인 실시형태들을 나타낸다. 도 19 는 방출 동작 (1320) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (1902), 동작 (1904), 동작 (1906), 동작 (1908), 및/또는 동작 (1910) 을 포함할 수도 있다.

동작 (1902) 에서, 방출 동작 (1320) 은 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 수많은 파장들의 자외광이 살균 방사선 소스로부터 방출될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들은 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들은 255 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 260 나노미터 내지 270 나노미터 사이의 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 약 260 나노미터의 자외광을 방출할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선 소스는 265 나노미터에 중심을 두지만 비대칭인 임의의 파장의 자외광을 방출할 수 있다. 또한, 몇몇 실시형태들에서, 자외광을 방출하는 살균 방사선 소스는 또한 추가적인 형태들의 방사선을 방출할 수 있다. 이들 추가적인 형태들의 방사선으로는, 감마 방사선, 가시광, 적외선 방사선, 전자빔 등을 포함할 수 있고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 자외선 방사선 소스들은 상업적으로 이용가능하다 (Enhance-It, LLC, Hilton Head Island, SC 29926 및 Advanced Sterilization Products, Irvine, CA 92618).

동작 (1904) 에서, 방출 동작 (1320) 은 감마 방사선으로서 살균 방사선을 방출하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 감마 방사선으로서 살균 방사선을 방출할 수도 있다. 감마 방사선은 코발트-60 을 포함하는 살균 방사선 소스로부터 방출될 수도 있다. 이러한 소스들은 공지되어 있고, 상업적으로 이용가능하다 (MDS Nordion, Ottawa, Ontario, Canada).

동작 (1906) 에서, 방출 동작 (1320) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 지향시키는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들은 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 지향시킬 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 영역의 일부분 상에 부딪치도록 지향된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 하나 이상의 객체들 또는 표면들로부터 멀어지도록 지향된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 하나 이상의 정의된 표면들 또는 객체들 상에 부딪치도록 포커싱된다. 살균 방사선의 포커싱은 소정의 영역 상에 부딪치는 살균 방사선의 강도를 증가시키는 기능을 할 수 있다. 따라서, 살균 방사선은 이러한 처리의 필요로 영역 또는 영역의 부분 상에서 강화될 수도 있다.

동작 (1908) 에서, 방출 동작 (1320) 은 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 형상화하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형 태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들은 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 형상화 수도 있다. 살균 방사선은 수많은 방법들의 이용을 통해 형상화될 수도 있다. 예를 들어, 렌즈들 및 거울들이 살균 방사선을 형상화하기 위해 이용될 수 있다. 따라서, 살균 방사선의 공간 분포가 제어될 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 하나 이상의 특정 영역들 또는 객체들이 조사되도록 형상화된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 하나 이상의 특정 영역들 또는 객체들을 조사하는 것을 회피하도록 형상화된다. 몇몇 실시형태들에서, 살균 방사선은 빔으로 형상화되어, 하나 이상의 영역들 또는 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 부분들을 살균하기 위해 스위핑될 수 있다.

동작 (1910) 에서, 방출 동작 (1320) 은 하나 이상의 사람들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들은 하나 이상의 사람들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 사람들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하는 것은 하나 이상의 사람들로부터 살균 방사선을 멀리 떨어지도록 지향시키는 것을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 사람들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하는 것은 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터의 살균 방사선의 방출 을 중지하기 위한 명령들을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 사람들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하는 것은 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터의 살균 방사선의 방출을 시작하지 않기 위한 명령들을 포함한다.

도 20 은 도 13 의 예시적인 동작 플로우 (1300) 의 대안적인 실시형태들을 나타낸다. 도 20 은 방출 동작 (1320) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (2002), 동작 (2004), 동작 (2006), 동작 (2008), 및/또는 동작 (2010) 을 포함할 수도 있다.

동작 (2002) 에서, 방출 동작 (1320) 은 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들은 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피한다. 이러한 영역들의 예로는, 수술실 및 수술 구역과 같은 병원; 비행기, 기차, 자동차, 지하철, 버스와 같은 수송 수단; 부엌; 욕실 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 하나 이상의 영역들 내의 표면들의 예로는, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 싱크대 표면들, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 테이블 표면들, 하나 이상의 수실실 내의 하나 이상의 바닥 표면들, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 벽 표면들 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

동작 (2004) 에서, 방출 동작 (1320) 은 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들은 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출한다. 이러한 영역들의 예로는, 수술실 및 수술 구역과 같은 병원; 비행기, 기차, 자동차, 지하철, 버스와 같은 수송 수단; 부엌; 욕실 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 하나 이상의 영역들 내의 표면들의 예로는, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 싱크대 표면들, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 테이블 표면들, 하나 이상의 수실실 내의 하나 이상의 바닥 표면들, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 벽 표면들 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

동작 (2006) 에서, 방출 동작 (1320) 은 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 공간적으로 정의된 부분들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들은 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 공간적으로 정의된 부분들 상으로 살균 방사선을 방출한다. 이러한 영역들의 예로는, 수술실 및 수술 구역과 같은 병원; 비행기, 기차, 자동차, 지하철, 버스와 같은 수송 수단; 부엌; 욕실 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 하나 이상의 영역들 내의 표면들의 예로는, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 싱크대 표면들, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 테이블 표면들, 하나 이상의 수실실 내의 하나 이상의 바닥 표면들, 하나 이상의 수술실 내의 하나 이상의 벽 표면들 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

동작 (2008) 에서, 방출 동작 (1320) 은, 하나 이상의 영역들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 그 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 영역들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 그 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출한다. 하나 이상의 살균 레벨들이 하나 이상의 영역들에 대해 소망되는 살균 정도에 따라 하나 이상의 영역들에 대해 지정될 수도 있다. 예를 들어, 병원의 수술실은 높은 살균 레벨을 수신할 수도 있는 한편, 접수실은 낮은 살균 레벨을 수신할 수도 있다.

동작 (2010) 에서, 방출 동작 (1320) 은 하나 이상의 표면들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨에 따라 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 표면들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출한다. 하나 이상의 살균 레벨들이 하나 이상의 표면들에 대해 소망되는 살균 정도에 따라 하나 이상의 표면들에 대해 지정될 수도 있다. 예를 들어, 병원의 수술실 내의 표면은 높은 살균 레벨을 수신할 수도 있는 한편, 접수실 내의 표면은 낮은 살균 레벨을 수신할 수도 있다.

도 21 은 도 13 의 예시적인 동작 플로우 (1300) 의 대안적인 실시형태들을 나타낸다. 도 21 은 방출 동작 (1320) 이 적어도 하나의 추가적인 동작을 포함할 수도 있는 예시적인 실시형태들을 나타낸다. 추가적인 동작들은 동작 (2102), 및/또는 동작 (2104) 을 포함할 수도 있다.

동작 (2102) 에서, 방출 동작 (1320) 은 하나 이상의 영역들 상으로 우선순위를 정하여 살균 방사선을 방출하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들은 하나 이상의 영역들 상으로 우선순위를 정하여 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 우선순위를 정하는 방식은 긴박, 대기, 강도 등과 관련하여 하나 이상의 영역들을 조사하는 것을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 우선순위를 정하는 방식은, 환자에게 아주 해로운, 또는 감염 우려가 높은 영역들 및 공간들이 가장 엄격 및/또는 빈번하게 조사되도록 특정될 수 있도록, 기준이 되는 둘러싸인 체적에서의 상대적인 위치들 또는 절대적인 위치들 중 어느 일방의 함수들로서 하나 이상의 영역들의 조사와 같은, 살균 조사의 시간 통합된 강도와 관련한 하 나 이상의 영역들에 대한 조사를 포함한다.

동작 (2104) 에서, 방출 동작 (1320) 은 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 우선순위를 정하여 살균 방사선을 방출하는 것을 포함할 수도 있다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 수신 유닛들에 응답하여 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들은 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 우선순위를 정하여 살균 방사선을 방출한다. 몇몇 실시형태들에서, 우선순위를 정하는 방식은 긴박, 대기, 강도 등과 관련하여 하나 이상의 표면들을 조사하는 것을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 우선순위를 정하는 방식은, 환자에게 아주 해로운, 또는 감염 우려가 높은 영역들 및 공간들이 가장 엄격 및/또는 빈번하게 조사되도록 특정될 수 있도록, 기준이 되는 둘러싸인 체적에서의 상대적인 위치들 또는 절대적인 위치들 중 어느 일방의 함수들로서 하나 이상의 표면들의 조사와 같은, 살균 조사의 시간 통합된 강도와 관련한 하나 이상의 표면들에 대한 조사를 포함한다.

도 22 는 살균 방법의 수행에 관련된 예시적인 동작들을 나타내는 동작 플로우 (2200) 를 나타낸다. 도 22 에서, 그리고, 살균 동작의 수행 동안 이용되는 동작들의 다양한 예들을 포함하는 이어지는 도면들에서, 논의 및 설명이, 도 1d 의 전술한 예와 관련하여, 및/또는 다른 예들 및 내용들과 관련하여 제공될 수도 있다. 그러나, 동작들이 수많은 다른 환경들 및 내용들, 및/또는 도 1d 의 수정된 버전들에서 실행될 수도 있다는 것을 이해할 필요가 있다. 또한, 다양한 동 작들이 도시된 시퀀스(들)로 표현되지만, 다양한 동작들은 도시된 것들 외의 다른 순서들로 수행될 수도 있고, 또는, 동시에 수행될 수도 있다는 것을 이해할 필요가 있다.

개시 동작 후에, 동작 플로우 (2200) 는 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하기 위한 회로를 포함하는 동작 (2210) 을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 결정하기 위한 회로들이, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지를 결정하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 결정하기 위한 회로가 하나의 영역 내의 하나 이상의 객체들의 존재 또는 부재를 결정하는데 이용된다. 몇몇 실시형태들에서, 결정하기 위한 회로가 2 이상의 영역들 내의 하나 이상의 객체들의 존재 또는 부재를 결정하는데 이용된다.

동작 플로우 (2200) 는 또한, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 부재하는지를 결정기 위한 회로에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하기 위한 회로를 포함하는 동작 (2220) 을 포함한다. 몇몇 실시형태들에서, 송신하기 위한 회로가 하나 이상의 신호들을 단일 살균 방사선 소스로 또는 다수의 살균 방사선 소스들로 송신할 수 있다. 예를 들어, 몇몇 실시형태들에서, 송신하기 위한 회로는 하나의 신호를 하나의 살균 방사선 소스로 송신할 수 있다. 몇몇 실시형태들에서, 송신하기 위한 회로는 하나를 초과하는 신호를 하나의 살균 방사선 소스로 송신할 수 있다. 다른 실시형태들에서, 송신하기 위한 회로는 하나의 신호를 하나를 초과하는 살균 방사 선 소스들로 송신할 수 있다. 또 다른 실시형태들에서, 송신하기 위한 회로는 하나를 초과하는 신호를 하나를 초과하는 살균 방사선 소스들로 송신할 수 있다.

본원의 실질적으로 임의의 복수 및/또는 단수 용어들과 관련하여, 당업자는 문맥 및/또는 적용에 따라 적절하게 복수를 단수로 및/또는 단수를 복수로 해석할 수 있다. 다양한 단수/복수 변환은 간명함을 위해 본원에서 표현적으로 전개되지는 않았다.

본원에서 설명된 현안 주제의 특정 양태들이 나타내어지고 설명되었지만, 본원의 교시들에 기초하여 변경들 및 수정들이 본원에서 설명된 주제 및 그것의 더 넓은 양태들로부터 벗어나지 않고 이루어질 수도 있다는 것과, 따라서, 첨부된 청구범위는 이러한 모든 변경들 및 수정들을 본원에서 설명된 주제의 사상 및 범위 내로서 그들의 범위 내로 포함하게 된다는 것은 당업자에게 있어 자명하다. 또한, 본 발명은 첨부된 청구범위에 의해 정의된다는 것을 이해할 필요가 있다. 일반적으로 본원에서 사용된 용어들, 그리고 특히 첨부된 청구범위에서 사용된 용어들 (예를 들어, 첨부된 청구범위의 본문) 은 일반적으로 "개방" 용어들로서 의도된다 (예를 들어, "포함하는 (including)" 이라는 용어는 "포함는, 하지만 이에 한정되는 것은 아닌" 으로 해석되어야 하고, "갖는 (having)" 이라는 용어는 "적어도 갖는" 으로 해석되어야 하며, "포함하다 (includes)" 라는 용어는 "포함하며, 하지만 이에 한정되는 것은 아닌" 으로 해석되어야 하는 등이다) 는 것을 당업자라면 이해할 것이다. 도입된 청구항 인용의 특정 수가 의도된다면, 이러한 의도는 청구항에서 분명하게 표현적으로 인용될 것이고, 이러한 인용이 없는 경우에는 이 러한 의도가 없다는 것 또한 당업자라면 이해할 것이다. 예를 들어, 이해를 위한 보조 수단으로서, 다음에 첨부된 청구항들은 청구항 인용을 도입하기 위해 도입 구문 "적어도 하나 (at least one)" 및 "하나 이상 (one or more)" 의 사용을 포함할 수도 있다. 하지만, 이러한 구문의 사용이 부정관사 "a" 또는 "an" 에 의한 청구항 인용의 도입이 이러한 도입된 청구항 인용을 포함하는 임의의 특정 청구항이 오직 하나의 이러한 인용을 포함하는 발명으로 한정하는 것을 의미하는 것으로 해석되어져서는 아니되며, 동일한 청구항에서 도입 구문 "하나 이상" 또는 "적어도 하나" 와 "a" 또는 "an" 과 같은 부정관사를 포함하고 있을 때에도 역시 마찬가지이며 (예를 들어, "a" 및/또는"an" 은 통상적으로 "적어도 하나" 또는 "하나 이상" 을 의미하는 것으로 해석되어야 한다), 청구항 인용을 도입하기 위해 이용된 정관사의 사용의 경우에도 마찬가지의 논리가 적용된다. 또한, 도입된 청구항 인용의 특정 수가 분명하게 표현적으로 인용되는 경우에도, 이러한 인용은 통상적으로 적어도 인용된 수를 의미하는 것으로 해석되어야 한다는 것을 (예를 들어, 다른 수식어구 없어 단지 "2 인용들" 이라는 인용은 통상적으로 적어도 2 인용들, 또는 2 이상의 인용들을 의미한다) 당업자는 인식할 것이다. 또한, "A, B, 및 C 중 적어도 하나 등" 과 유사한 관례적인 표현이 사용되는 경우에, 일반적으로 이러한 구성은 당업자가 이러한 관례적인 표현을 이해할 것이라는 의미로 의도된다 (예를 들어, "A, B, 및 C 중 적어도 하나를 갖는 시스템" 은 A 단독, B 단독, C 단독, A 와 B 함께, A 와 C 함께, B 와 C 함께, 및/또는 A, B, 및 C 함께 등을 갖는 시스템들을 포함하고, 하지만, 이에 한정되는 것은 아니다). "A, B, 또는 C 중 적어도 하나 등" 과 유사한 관례적인 표현이 사용되는 경우에, 일반적으로 이러한 구성은 당업자가 이러한 관례적인 표현을 이해할 것이라는 의미로 의도된다 (예를 들어, "A, B, 또는 C 중 적어도 하나를 갖는 시스템" 은 A 단독, B 단독, C 단독, A 와 B 함께, A 와 C 함께, B 와 C 함께, 및/또는 A, B, 및 C 함께 등을 갖는 시스템들을 포함하고, 하지만, 이에 한정되는 것은 아니다). 또한, 상세한 설명, 청구범위, 또는 도면에서 2 이상의 양자택일적 용어들을 나타내는 사실상 임의의 이접적 단어 및/또는 구문은 그 용어들 중 하나, 그 용어들 중 어느 하나, 그 양자 용어 모두를 포함하는 가능성을 고려하는 것으로서 당업자는 이해할 것이다. 예를 들어, 구문 "A 또는 B" 는 "A" 또는 "B" 또는 "A 및 B" 의 가능성을 포함하는 것으로 이해될 것이다.

당업자라면 당해 기술분야의 기술 수준이 시스템들의 양태들의 하드웨어 구현과 소프트웨어 구현 사이에 거의 차이가 없는 정도까지 발전했다는 것을 인식할 것이며, 하드웨어와 소프트웨어의 이용은 일반적으로 비용 대 효율 간의 트레이드오프 (tradeoff) 를 나타내는 설계상의 선택 문제라는 것을 (하지만 항상 그런 것은 아니며, 어떤 내용들에서는 하드웨어와 소프트웨어 사이의 선택은 심각하게 될 수 있다) 인식할 것이다. 당업자라면, 본원에서 설명된 프로세스들 및/또는 시스템들 및/또는 다른 기술들이 유효하게 될 수 있는 다양한 매개 수단이 존재하고 (예를 들어, 하드웨어, 소프트웨어, 및/또는 펌웨어), 선호되는 매개 수단이 프로세스들 및/또는 시스템들 및/또는 다른 기술들이 전개되는 상황에 따라 변화할 것이라는 것을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 구현자가 속도 및 정확성이 중요 하다고 결정한다면, 그 구현자는 주로 하드웨어 및/또는 펌웨어 매개 수단을 선택할 수도 있고; 다르게, 만약 유연성이 중요하다면, 구현자는 주로 소프트웨어 구현을 선택할 수도 있으며; 또는, 또 다르게는, 구현자는 하드웨어, 소프트웨어, 및/또는 펌웨어의 어떤 조합을 선택할 수도 있다. 따라서, 본원에서 설명된 프로세스들 및/또는 디바이스들 및/또는 다른 기술들이 유효하게 될 수도 있는 몇 가지 가능한 매개 수단이 존재하며, 이들 중 이용되는 임의의 매개 수단은 그 매개 수단이 전개될 상황 및 구현자의 관심 (예를 들어, 속도, 유연성, 또는 예측가능성) 에 따라 선택되고, 이는 변할 수도 있다는 점에서, 이들 매개 수단들 중 어느 것도 본질적으로 다른 매개 수단에 비해 우수하지는 않다. 구현들의 시각적 양태는 통상적으로 시각 지향적 하드웨어, 소프트웨어, 및 펌웨어를 채용할 것이라는 것을 당업자는 인식할 것이다.

전술한 상세한 설명은 블록 다이어그램, 플로우차트, 및/또는 예들의 이용을 통해 디바이스들 및/또는 프로레스들의 다양한 실시형태들을 전개하였다. 이러한 블록 다이어그램, 플로우차트, 및/또는 예들이 하나 이상의 기능들 및/또는 동작들을 포함하는 한, 당업자들은 이러한 블록 다이어그램, 플로우차트, 또는 예들 내의 각각의 기능 및/또는 동작은 넓은 범위의 하드웨어, 소프트웨어, 펌웨어, 또는 실질적으로 이들의 임의의 조합에 의해 개별적으로 및/또는 집합적으로 구현될 수 있다는 것을 이해할 것이다. 일 실시형태에서, 본원에서 설명된 주제의 몇 부분들은 주문형 집적 회로 (ASIC), 필드 프로그래밍가능 게이트 어레이 (FPGA), 디지털 신호 프로세서 (DSP), 또는 다른 통합된 형식들을 통해 구현될 수도 있다. 하지만, 본원에서 개시된 몇몇 양태의 실시형태들은, 전체적으로 또는 부분적으로, 하나 이상의 컴퓨터 상에서 실행되는 하나 이상의 컴퓨터 프로그램으로서 (예를 들어, 하나 이상의 컴퓨터 시스템 상에서 실행되는 하나 이상의 프로그램으로서), 하나 이상의 프로세서 상에서 실행되는 하나 이상의 프로그램으로서 (예를 들어, 하나 이상의 마이크로프로세서 상에서 실행되는 하나 이상의 프로그램으로서), 펌웨어로서, 또는 실질적으로 이들의 임의의 조합으로서 집적 회로에서 동등하게 구현될 수 있고, 회로를 설계하는 것 및/또는 소프트웨어 및/또는 펌웨어를 위한 코드를 기록하는 것은 본 개시에 비추어 당업자에게 있어서 자명한 것이라는 것을 당업자들은 인식할 것이다. 또한, 당업자라면, 본원에서 설명된 주제의 메커니즘들은 다양한 형태들의 프로그램 제품으로서 배포될 수 있고, 본원에서 설명된 주제의 예시적인 실시형태는 배포를 실제로 수행하기 위해 이용되는 신호 포함 매체의 특정 타입에 무관하게 적용될 수 있다는 것을 알 수 있을 것이다. 신호 포함 매체의 예로는, 플로피 디스크, 하드 디스크 드라이브, 컴팩트 디스크 (CD), 디지털 비디오 디스크 (DVD), 디지털 테이프, 컴퓨터 메모리 등과 같은 기록가능 타입 매체; 디지털 및/또는 아날로그 통신 매체 (예를 들어, 광섬유 케이블, 도파관, 유선 통신 링크, 무선 통신 링크 등) 와 같은 송신 타입 매체를 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

일반적인 의미로, 본원에 개시된 다양한 실시형태들은 하드웨어, 소프트웨어, 또는 실질적으로 이들의 임의의 조합과 같은 다양한 범위의 전기적 구성요소들; 및 강체, 스프링 또는 염력체, 유체, 및 전자기 활성화 디바이스, 또는 실질적 으로 이들의 임의의 조합과 같은, 기계적 힘 또는 운동을 부여하는 다양한 범위의 구성요소들을 갖는 다양한 타입의 전기 기계적 시스템들에 의해 개별적으로 및/또는 집합적으로 구현될 수 있다는 것을 당업자들은 인식할 것이다. 따라서, 본원에 사용된 "전기-기계적 시스템" 은, 변환기 (예를 들어, 액츄에이터, 모터, 압전 수정 등) 와 동작가능하게 연결된 전기 회로, 적어도 하나의 이산 전기 회로를 갖는 전기 회로, 적어도 하나의 집적 회로를 갖는 전기 회로, 적어도 하나의 주문형 집적 회로를 갖는 전기 회로, 컴퓨터 프로그램에 의해 구성되는 범용 컴퓨팅 디바이스를 형성하는 전기 회로 (예를 들어, 본원에 설명된 프로세스들 및/또는 디바이스들을 적어도 부분적으로 수행하는 컴퓨터 프로그램에 의해 구성되는 범용 컴퓨터, 또는, 본원에 설명된 프로세스들 및/또는 디바이스들을 적어도 부분적으로 수행하는 컴퓨터 프로그램에 의해 구성되는 마이크로프로세서), 메모리 디바이스를 형성하는 전기 회로 (예를 들어, 랜덤 액세스 메모리의 형태), 통신 디바이스를 형성하는 전기 회로 (예를 들어, 모뎀, 통신 스위치, 또는 광학-전기적 장비), 및 광학 또는 다른 유사물과 같은 임의의 비전기적 유사물 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 당업자라면, 전기 기계적 시스템의 예로는, 다양한 소비자 전자 시스템, 및 동력 운송 시스템, 공장 자동화 시스템, 보안 시스템, 및 통신 컴퓨팅 시스템과 같은 다른 시스템들을 포함하고, 이에 한정되지 않는다는 것을 또한 알 수 있을 것이다. 당업자라면, 본원에서 사용된 전기-기계적이라는 말은 본원에서 달리 기술하는 내용을 제외하고는 전기적 액츄에이션 및 기계적 액츄에이션 양자 모두를 갖는 시스템에 반드시 한정되는 것은 아니라는 것을 인식할 것 이다.

일반적 의미에서, 넓은 범위의 하드웨어, 소프트웨어, 펌웨어, 또는 이들의 임의의 조합에 의해 개별적으로 및/또는 집합적으로 구현될 수 있는, 본원에 설명된 다양한 양태들이 다양한 타입의 "전기적 회로" 로 구성되는 것으로 고찰될 수 있다는 것을 당업자라면 인식할 수 있을 것이다. 따라서, 본원에서 사용된 바와 같이 "전기적 회로" 는, 적어도 하나의 이산 전기 회로를 갖는 전기 회로, 적어도 하나의 집적 회로를 갖는 전기 회로, 적어도 하나의 주문형 집적 회로를 갖는 전기 회로, 컴퓨터 프로그램에 의해 구성되는 범용 컴퓨팅 디바이스를 형성하는 전기 회로 (예를 들어, 본원에 설명된 프로세스들 및/또는 디바이스들을 적어도 부분적으로 수행하는 컴퓨터 프로그램에 의해 구성되는 범용 컴퓨터, 또는, 본원에 설명된 프로세스들 및/또는 디바이스들을 적어도 부분적으로 수행하는 컴퓨터 프로그램에 의해 구성되는 마이크로프로세서), 메모리 디바이스를 형성하는 전기 회로 (예를 들어, 랜덤 액세스 메모리의 형태), 및/또는 통신 디바이스를 형성하는 전기 회로 (예를 들어, 모뎀, 통신 스위치, 또는 광학-전기적 장비) 등을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 당업자라면, 본원에서 설명된 주제가 아날로그 방식 또는 디지털 방식 또는 이들의 어떤 조합으로 구현될 수도 있다는 것을 인식할 것이다.

본원에 전개된 방식(들)으로 디바이스들 및/또는 프로세스들 및/또는 시스템들을 구현하고, 그 후, 이렇게 구현된 디바이스들 및/또는 프로세스들 및/또는 시스템들을 포괄적인 디바이스들 및/또는 프로세스들 및/또는 시스템들로 통합하기 위해 엔지니어링 및/또는 사업적 수완을 사용하는 것은 당업계에 있어 통상적이라는 것을 당업자는 인식할 것이다. 즉, 본원에서 설명된 디바이스들 및/또는 프로세스들 및/또는 시스템들의 적어도 일부는 합리적인 양의 실험을 통해 다른 디바이스들 및/또는 프로세스들 및/또는 시스템들로 통합될 수 있다. 당업자라면 이러한 다른 디바이스들 및/또는 프로세스들 및/또는 시스템들의 예로는, 내용 및 적용에 따라 적절하게, (a) 공중 수송 수단 (예를 들어, 비행키, 로켓, 호버크라프트, 헬리콥터 등), (b) 육상 수송 수단 (예를 들어, 자동차, 트럭, 기관차, 탱크, 병력 수송 장갑차 등), (c) 빌딩 (예를 들어, 집, 창고, 사무실 등), (d) 가전 제품 (예를 들어, 냉장고, 세탁기, 드라이어 등), (e) 통신 시스템 (예를 들어, 네트워킹된 시스템, 전화 시스템, VoIP (voice over IP) 시스템 등), (f) 비지니스 엔티티 (예를 들어, Comcast Cable 과 같은 인터넷 서비스 제공자 (ISP) 엔티티, Quest, Southwestern Bell 등), 또는 (g) Sprint, Cingular, Nextel 등과 같은 유/무선 서비스 엔티티 등등의 디바이스들 및/또는 프로세스들 및/또는 시스템들의 전부 또는 일부를 포함한다는 것을 인식할 것이다.

사용자 (118) 가 본원에서는 단일의 도시된 모습으로서 나타내어지거나 설명되었지만, 당업자라면, 사용자 (118) 는 사람인 사용자, 로봇인 사용자 (예를 들어, 연산수행 엔티티), 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합 (예를 들어, 사용자는 하나 이상의 로봇 대행자에 의해 보조받을 수도 있다) 을 표시할 수도 있다는 것을 알 수 있을 것이다. 또한, 본원에 전개된 바와 같은 사용자 (118) 는 비록 단일 엔티티로서 나타내어져 있지만, 사실은 2 이상의 엔티티들로 이루어질 수 도 있다. 당업자라면 일반적으로 본원에서 사용된 바와 같은 "전송자" 및/또는 다른 엔티티 지향 용어들에도 역시 동일한 원리가 적용될 수도 있다.

본원에서 설명된 주제는 때로 상이한 다른 구성요소들 내에 포함된 또는 상이한 다른 구성요소들과 연결된 상이한 구성요소들을 나타낸다. 이러한 기술된 아키텍쳐들은 단지 예시에 지나지 않고, 사실 동일한 기능을 달성하는 많은 다른 아키텍쳐들이 구현될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 개념적 의미에서, 동일한 기능을 달성하기 위한 임의의 배열의 구성요소들은 소망하는 기능이 달성되도록 효율적으로 "연관" 된다. 따라서, 특정 기능을 달성하기 위해 조합된 본원의 임의의 2 개의 구성요소들은 아키텍쳐나 매개 구성요소들에 상관 없이 소망되는 기능이 달성되도록 서로 "연관" 된 것으로 보일 수 있다. 마찬가지로, 그렇게 연관된 임의의 2 개의 구성요소들은 소망되는 기능을 달성하기 위해 서로 "동작적으로 접속된" 또는 "동작적으로 연결된" 것으로서 또한 보일 수 있고, 그렇게 연관될 수 있는 임의의 2 개의 구성요소들은 소망되는 기능을 달성하기 위해 서로 "동작적으로 연결가능한" 것으로서도 보일 수 있다. 동작적으로 연결가능한 것의 구체적인 예로는, 물리적으로 상호작용가능한 및/또는 물리적으로 상호작용하는 구성요소들, 및/또는 무선으로 상호작용가능한 및/또는 무선으로 상호작용하는 구성요소들, 및/또는 논리적으로 상호작용하는 및/또는 논리적으로 상호작용가능한 구성요소들을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

수많은 타입의 수단이 본원에서 설명된 시스템의 하나 이상의 실시형태들 내에 포함될 수도 있다. 이러한 수단의 예로는, 회로, 프로그래밍, 하드웨어, 소 프트웨어, 펌웨어, 전기-기계적 시스템, 로직, 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

몇몇 실시형태들에서, 시스템은, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단, 및 상기 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함한다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단은, 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들을 검출하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단은, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 사이의 하나 이상의 거리들을 결정하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단은, 하나 이상의 그림자들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지를 결정하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단은, 하나 이상의 영역들 내에 존재 또는 부재하는 하나 이상의 객체들에 대응하는 하나 이상의 형상들을 결정하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 실질적으로 일정하게 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 펄스로서 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 자외광으로서 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들 로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 감마 방사선으로서 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 지향시키도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 형상화하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 객체들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 객체들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 사이의 하나 이상의 거리들을 결정하는 것에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 레코딩 디바이스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 공간적으로 정의된 부분들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 영역들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 그 하나 이상 의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 우선순위를 정하여 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 영역들 내에 존재 또는 부재하는 하나 이상의 객체들에 대응하는 하나 이상의 형상들에 응답하여 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

수많은 타입의 수단들이 본원에서 설명된 시스템의 하나 이상의 실시형태들 내에 포함될 수도 있다. 이러한 수단의 예로는, 회로, 프로그래밍, 하드웨어, 소프트웨어, 펌웨어, 전기-기계적 시스템, 로직, 및/또는 실질적으로 이들의 임의의 조합을 포함하고, 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.

몇몇 실시형태들에서, 시스템은 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단, 및 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단은, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들에 대응하는 하나 이상의 형상들을 근사화하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단은, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들이 하나 이상의 그림자들 내에 포함되는지를 근사화하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단은, 데이터베이스를 액세스함으로써 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단은, 하나 이상의 영역들을 모델링함으로써 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 실질적으로 일정하게 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 펄스로서 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 자외광으로서 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 감마 방사선으로서 방출하 도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 지향시키도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 형상화하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 공간적으로 정의된 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 하나 이상의 표면들에 대해 지정된 살균 레벨에 따라 그 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 우선순위를 정하여 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 수단에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 수단은, 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 레코딩 디바이스들로 송신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 시스템은, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단, 및 상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 살균 방사선을 실질적으로 일정하게 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 살균 방사선을 펄스로서 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 살균 방사선을 자외광으로서 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 살균 방사선을 감마 방사선으로서 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출된 살균 방사선을 지향 시키는 것과 관련된 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출된 살균 방사선을 형상화하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들 및 하나 이상의 사람들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하기 위한 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 하나 이상의 영역들 내의 표면들 사이의 하나 이상의 거리들을 나타내는 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하기 위한 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 공간적으로 정의된 부분들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 하나 이상의 영역들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 그 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 하나 이상의 표면들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 그 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 우선순위를 정하여 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단은, 우선순위를 정하여 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수 신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 살균 방사선을 실질적으로 일정하게 방출하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 살균 방사선을 펄스로서 방출하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 살균 방사선을 자외광으로서 방출하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 살균 방사선을 감마 방사선으로서 방출하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출된 살균 방사선을 지향시키는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출된 살균 방사선을 형상화하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 하나 이상의 사람들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수 신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 공간적으로 정의된 부분들 상으로 살균 방사선을 방출하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 하나 이상의 영역들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 그 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 하나 이상의 표면들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 그 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 우선순위를 정하여 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하는 수단을 포함할 수도 있다.

몇몇 실시형태들에서, 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 수단에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 수단은, 우선순위를 정하여 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 수단을 포함할 수도 있다.

Claims

하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 단계; 및

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 단계는, 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들을 검출하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 단계는, 상기 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 사이의 하나 이상의 거리들을 결정하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 단계는, 하나 이상의 그림자들이 상기 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지를 결정하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 하나 이상의 객체들이 하나 이상의 영역들 내에 존재하는지 또는 부재하는지를 결정하는 단계는, 상기 하나 이상의 영역들 내에 존재 또는 부재하는 상기 하나 이상의 객체들에 대응하는 하나 이상의 형상들을 결정하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 실질적으로 일정하게 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 펄스로서 방출하도록 지시하기 위해 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 자외광으로서 방출하도록 지시하기 위해 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 감마 방사선으로서 방출하도록 지시하기 위해 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 지향시키도록 지시하기 위해 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 형상화하도록 지시하기 위해 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 상기 하나 이상의 객체들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하도록 지시하기 위해 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 상기 하나 이상의 객체들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 사이의 하나 이상의 거리들을 결정하는 것에 응답하여 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 레코딩 디바이스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 상기 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 공간적으로 정의된 부분들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 상기 하나 이상의 영역들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 상기 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 우선순위를 정하여 상기 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 결정하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 상기 하나 이상의 영역들 내에 존재 또는 부재하는 상기 하나 이상의 객체들에 대응하는 하나 이상의 형상들에 응답하여 살균 방사선을 방출하도록 지시하기 위해 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함 하는, 살균 방법.
하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 단계; 및

상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 단계는, 상기 하나 이상의 영역들 내의 상기 하나 이상의 표면들에 대응하는 하나 이상의 형상들을 근사화하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 단계는, 상기 하나 이상의 영역들 내의 상기 하나 이상의 표면들이 하나 이상의 그림자들 내에 포함되는지를 근사화하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 단계는, 데이터베이스에 액세스함으로써 상기 하나 이상의 거리들을 근사화하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들까지의 하나 이상의 거리들을 근사화하는 단계는, 상기 하나 이상의 영역들을 모델링함으로써 상기 하나 이상의 거리들을 근사화하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 실질적으로 일정하게 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 펄스로서 방출하도록 지시하는 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하 나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 자외광으로서 방출하도록 지시하는 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소 스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 살균 방사선을 감마 방사선으로서 방출하도록 지시하는 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 지향시키도록 지시하는 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신 하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 형상화하도록 지시하는 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 상기 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하도록 지시하는 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 상기 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 상기 하나 이 상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 상기 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 공간적으로 정의된 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 상기 하나 이상의 표면들에 대해 지정된 살균 레벨에 따라 상기 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들이 우선순위를 정하여 상기 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하도록 지시하는 상기 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 23 항에 있어서,

상기 근사화하는 단계에 응답하여 하나 이상의 신호들을 상기 하나 이상의 살균 방사선 소스들로 송신하는 단계는, 상기 하나 이상의 신호들을 하나 이상의 레코딩 디바이스들로 송신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계; 및

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 살균 방사선을 실질적으로 일정하게 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 살균 방사선을 펄스로서 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 살균 방사선을 자외광으로서 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 살균 방사선을 감마 방사선으로서 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 지향시키는 것과 관련된 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 형상화하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 하나 이상의 사람들과 관련된 하나 이상의 신호들 및 상기 하나 이상의 사람들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하기 위한 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 하나 이상의 영역들 내의 표면들 사이의 하나 이상의 거리들을 나타내는 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하기 위한 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 공간적으로 정의된 부분들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 하나 이상의 영역들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 상기 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 상기 하나 이상의 영역들 내의 상기 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 우선순위를 정하여 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 하나 이상의 검출기들로부터 하나 이상의 신호들을 수신하는 단계는, 우선순위를 정하여 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것과 관련된 명령들을 수신하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 살균 방사선을 실질적으로 일정하게 방출하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 살균 방사선을 펄스로서 방출하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 살균 방사선을 자외광으로서 방출하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 100 나노미터 내지 400 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 180 나노미터 내지 300 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 250 나노미터 내지 280 나노미터 사이의 파장을 갖는 자외광으로서 살균 방사선을 방출하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 살균 방사 선을 감마 방사선으로서 방출하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 지향시키는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 하나 이상의 살균 방사선 소스들로부터 방출되는 살균 방사선을 형상화하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 하나 이상의 사람들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 것을 회피하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 하나 이상의 영역들의 하나 이상의 공간적으로 정의된 부분들 상으로 살균 방사선을 방출하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 하나 이상의 영역들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따라 상기 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들에 대해 지정된 하나 이상의 살균 레벨들에 따 라 상기 하나 이상의 영역들 내의 상기 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 우선순위를 정하여 하나 이상의 영역들 상으로 살균 방사선을 방출하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 43 항에 있어서,

상기 수신하는 단계에 응답하여 살균 방사선을 방출하는 단계는, 우선순위를 정하여 하나 이상의 영역들 내의 하나 이상의 표면들 상으로 살균 방사선을 방출하는 단계를 포함하는, 살균 방법.
제 1 항 내지 제 79 항 중 어느 한 항에 기재된 살균 방법을 수행하는 수단을 포함하는, 시스템.
제 80 항에 있어서,

상기 제 1 항 내지 제 79 항 중 어느 한 항에 기재된 살균 방법을 수행하는 수단은 회로를 포함하는, 시스템.
제 80 항에 있어서,

상기 제 1 항 내지 제 79 항 중 어느 한 항에 기재된 살균 방법을 수행하는 수단은 하나 이상의 프로그램 명령들을 포함하는, 시스템.
제 80 항에 있어서,

상기 제 1 항 내지 제 79 항 중 어느 한 항에 기재된 살균 방법을 수행하는 수단은 로직을 포함하는, 시스템.