JPH01207070A - 滅菌方法および装置 - Google Patents
滅菌方法および装置Info
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- JPH01207070A JPH01207070A JP63265968A JP26596888A JPH01207070A JP H01207070 A JPH01207070 A JP H01207070A JP 63265968 A JP63265968 A JP 63265968A JP 26596888 A JP26596888 A JP 26596888A JP H01207070 A JPH01207070 A JP H01207070A
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Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
- A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
- A61L2/08—Radiation
- A61L2/10—Ultra-violet radiation
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は滅菌技術、より詳しくは紫外線を使用した新規
で改良された滅菌法および装置に関する。
で改良された滅菌法および装置に関する。
従来より、紫外線滅菌ないし殺菌輻射は低圧の水銀蒸気
中で放電により生じる253.7ナノメータの紫外線で
行なわれている。この波長範囲の紫外線は微生物を不活
性化することができる。微生物を殺すのに必要な紫外線
のエネルギ量は時間と強度の積であり、1平方センチメ
ートル当りマイクロワット秒で測定される。実験室での
研究によれば、大抵のウィルスおよびバクテリヤの90
%不活性化のためには800071W −s/cm’で
充分である。生き残った微生物は弱められた状態にあり
、複製(replication)を阻止され、熱を含
む他の不活性化方法に対して抵抗力が低下する。
中で放電により生じる253.7ナノメータの紫外線で
行なわれている。この波長範囲の紫外線は微生物を不活
性化することができる。微生物を殺すのに必要な紫外線
のエネルギ量は時間と強度の積であり、1平方センチメ
ートル当りマイクロワット秒で測定される。実験室での
研究によれば、大抵のウィルスおよびバクテリヤの90
%不活性化のためには800071W −s/cm’で
充分である。生き残った微生物は弱められた状態にあり
、複製(replication)を阻止され、熱を含
む他の不活性化方法に対して抵抗力が低下する。
この方法は静的滅菌法と呼ぶことができ、この方法では
紫外線を表面に直接受けた微生物のみが不活性化される
。商業的に純粋なチタンまたはチタン合金の器具や移植
物ないし挿入物(implants:以下インブラント
という)に通常関連して、連続的に形成される酸化物の
層によって保護されたウィルスやバクテリヤは活性状態
で残る。この紫外線からの微生物の保護は従来よりrス
クリーニング効果(screening effec
t) Jと呼ばれている。
紫外線を表面に直接受けた微生物のみが不活性化される
。商業的に純粋なチタンまたはチタン合金の器具や移植
物ないし挿入物(implants:以下インブラント
という)に通常関連して、連続的に形成される酸化物の
層によって保護されたウィルスやバクテリヤは活性状態
で残る。この紫外線からの微生物の保護は従来よりrス
クリーニング効果(screening effec
t) Jと呼ばれている。
酸化物層に加えて、集塊、血清、血液、または他の細胞
ですらシールド、シャドーゾーン(shadowxon
e)ないしスクリーン効果を生じる。従って、従来の紫
外線を用いる滅菌法は臨床的適用範囲が非常に限られ信
頼性に欠く。
ですらシールド、シャドーゾーン(shadowxon
e)ないしスクリーン効果を生じる。従って、従来の紫
外線を用いる滅菌法は臨床的適用範囲が非常に限られ信
頼性に欠く。
最近、表面エネルギ活性化(surface ener
gyactivation)の現象が種々の研究対象と
なっている。これらの研究は、物質表面上の生物皮膜お
よびその生体接着(bioadhesion)ないし生
体適合性(biocompatibility)との関
係を研究の対象としている。生体接着はインブラントの
骨間化を成功させる必須要件である。長年にわたる研究
は滅菌法、汚染菌、臨界裏面張力 (critical
5urfacetens 1on)、無線周波数グロ
ー放電装置を含む。これらの研究によれば、生体接着性
は清潔なまたは表面が活性化され滅菌された物質の表面
によって高められることが判明した。清潔または表面活
性化とは、表面に汚染菌、汚染集塊および酸化物層が存
在しないことである。従って、このような金属または物
質の表面は周囲の環境に対して裸であり反応性か極めて
高い。
gyactivation)の現象が種々の研究対象と
なっている。これらの研究は、物質表面上の生物皮膜お
よびその生体接着(bioadhesion)ないし生
体適合性(biocompatibility)との関
係を研究の対象としている。生体接着はインブラントの
骨間化を成功させる必須要件である。長年にわたる研究
は滅菌法、汚染菌、臨界裏面張力 (critical
5urfacetens 1on)、無線周波数グロ
ー放電装置を含む。これらの研究によれば、生体接着性
は清潔なまたは表面が活性化され滅菌された物質の表面
によって高められることが判明した。清潔または表面活
性化とは、表面に汚染菌、汚染集塊および酸化物層が存
在しないことである。従って、このような金属または物
質の表面は周囲の環境に対して裸であり反応性か極めて
高い。
無線周波数グロー放電装置は表面エネルギ活性化の研究
のための実験に使用されてきた。物質の臨界表面張力が
変えられ、それによって表面エネルギ活性化がなされる
。この表面エネルギ活性化を材料上で行なうために、そ
の処理はイオン化されたガス分子を室内で激しく動かす
か、または/および微小燃焼(microcombus
tion)によって分離された汚染層物質を完全にガス
化して室内から排出させることによって除去する必要が
ある。無線周波数グロー放電に関しては二つの重要な点
に留意しなければならない。第一に、表面エネルギ活性
化ないし物質表面のクリーニングは滅菌を意味しないこ
とであり、第二に、物質表面の固有性を変化、変更また
は破壊してはならないことである。
のための実験に使用されてきた。物質の臨界表面張力が
変えられ、それによって表面エネルギ活性化がなされる
。この表面エネルギ活性化を材料上で行なうために、そ
の処理はイオン化されたガス分子を室内で激しく動かす
か、または/および微小燃焼(microcombus
tion)によって分離された汚染層物質を完全にガス
化して室内から排出させることによって除去する必要が
ある。無線周波数グロー放電に関しては二つの重要な点
に留意しなければならない。第一に、表面エネルギ活性
化ないし物質表面のクリーニングは滅菌を意味しないこ
とであり、第二に、物質表面の固有性を変化、変更また
は破壊してはならないことである。
従って、物質表面の動的滅菌を行ない、その臨界表面張
力を増加させ、これによって表面エネルギを誘起し生体
接着性を増加させる紫外線滅菌方法および装置を提供す
ることは極めて望ましい。
力を増加させ、これによって表面エネルギを誘起し生体
接着性を増加させる紫外線滅菌方法および装置を提供す
ることは極めて望ましい。
本発明の目的は、従来の紫外線による技術では達しえな
い程度の滅菌効果を実現する紫外線を使用した滅菌方法
および装置を提供することである。
い程度の滅菌効果を実現する紫外線を使用した滅菌方法
および装置を提供することである。
本発明の他の目的は、微生物の微小燃焼または灰化(a
shing)を含む完全に単一工程の滅菌作用が物質表
面上で行なわれる滅菌方法を提供することである。
shing)を含む完全に単一工程の滅菌作用が物質表
面上で行なわれる滅菌方法を提供することである。
本発明の他の目的は、従来の紫外線滅菌に伴なうシール
ディング(shielding)ないしスクリーニング
効果を除いた動的滅菌工程が物質表面で行なわれる滅菌
方法を提供することである。
ディング(shielding)ないしスクリーニング
効果を除いた動的滅菌工程が物質表面で行なわれる滅菌
方法を提供することである。
本発明の他の目的は、物質表面ないし標本上において臨
界表面張力を変化、すなわち増減させる滅菌方法を提供
することである。
界表面張力を変化、すなわち増減させる滅菌方法を提供
することである。
本発明の他の目的は、物質表面ないし標本上の酸化物層
のような生物的汚染層を、その物質表面の固有性を変え
ることなく積極的に除去する滅菌方法を提供することで
ある。
のような生物的汚染層を、その物質表面の固有性を変え
ることなく積極的に除去する滅菌方法を提供することで
ある。
本発明の他の目的は、上記方法を実施するための比較的
簡単な構造をもち作用が効果的な装置を提供することで
ある。
簡単な構造をもち作用が効果的な装置を提供することで
ある。
本発明の方法および装置では、水銀/ガリウムメタルハ
ライド(mercury/gallium metal
halide)紫外光源を用い、微生物を紫外光と光
源から放出されるガス状金属酸化物に露呈する。露呈時
間は約0.3秒〜約60秒、露呈距離は約0.635c
m (約0.25インチ)〜約10.16cm (約
4.0インチ)、紫外光の波長は約175nm〜約45
0 n rnで、相対エネルギは1メートルにおいて約
1.3マイクロワット/cm2/nmに等しいかこれよ
り大きい値から約250マイクロワツト/cm2/nm
に等しいかこれより小さい値までの範囲である。ガス状
金属酸化物は二酸化チタン(titanium dio
xide)である。微生物が物体表面上にあるとき、こ
の表面が紫外光および金属酸化物、すなわち、二酸化チ
タンに露呈され、その表面上で動的滅菌作用が行なわれ
、その結果表面上の臨界表面張力が変化され、生物的汚
染層が物体表面の固有□性を変えることなくその表面か
ら積極的に除去され、この表面上の微生物のシールディ
ングないしスクリーニングを除き、微生物の微小燃焼を
伴なう物体表面の完全滅菌が行なわれる。加つるに、チ
タンが添加ないしドープされ(titanium−do
ped)オゾンの発生を防止する(ozone−fre
e:以下オゾンフリーという)石英(quartz)が
光源と微生物の間に作用関係に配備される。
ライド(mercury/gallium metal
halide)紫外光源を用い、微生物を紫外光と光
源から放出されるガス状金属酸化物に露呈する。露呈時
間は約0.3秒〜約60秒、露呈距離は約0.635c
m (約0.25インチ)〜約10.16cm (約
4.0インチ)、紫外光の波長は約175nm〜約45
0 n rnで、相対エネルギは1メートルにおいて約
1.3マイクロワット/cm2/nmに等しいかこれよ
り大きい値から約250マイクロワツト/cm2/nm
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金属酸化物は二酸化チタン(titanium dio
xide)である。微生物が物体表面上にあるとき、こ
の表面が紫外光および金属酸化物、すなわち、二酸化チ
タンに露呈され、その表面上で動的滅菌作用が行なわれ
、その結果表面上の臨界表面張力が変化され、生物的汚
染層が物体表面の固有□性を変えることなくその表面か
ら積極的に除去され、この表面上の微生物のシールディ
ングないしスクリーニングを除き、微生物の微小燃焼を
伴なう物体表面の完全滅菌が行なわれる。加つるに、チ
タンが添加ないしドープされ(titanium−do
ped)オゾンの発生を防止する(ozone−fre
e:以下オゾンフリーという)石英(quartz)が
光源と微生物の間に作用関係に配備される。
以下図示実施例を説明する。
本発明の紫外線滅菌方法および装置は物質表面の動的滅
菌を行ない、物質表面の臨界表面張力を増し、これによ
って表面エネルギを話起し、生体接着性を高める。この
動的滅菌は紫外線と分子励起を組合わせる。この方法は
出力波長が約175nmから約450nmのオゾンフリ
ー石英のメタルハライド水銀/ガリウム紫外線ランプに
よって達成される。175nm乃至450nmの波長範
囲では相対的エネルギ範囲は1メートルで1.3μW/
cm2/nmに等しいかそれ以上、または、250μW
/cm2/nmに等しいかそれ以下である。この方法を
達成するメタルハライド水銀/ガリウム紫外線ランプの
動作範囲を第1図のグラフに斜線部分で示す。このグラ
フは本発明による物質表面の滅菌および浄化のための相
対的エネルギ/波長範囲を示すグラフである。この方法
を達成するために、物質表面の露光時間は約60秒から
約0.3秒の範囲で可変である。この物質表面の露光時
間はランプの相対的エネルギ、マイクロワット出力およ
び破壊されるべき微生物の種類による。物質表面と光源
間の距離は約0.635cm(約0.25インチ )
か ら約10.16cm (約 4.0インチ )
の範囲である。周囲温度ないし室温は前述の距離範囲内
で約40℃と約150℃の間で可変である。
菌を行ない、物質表面の臨界表面張力を増し、これによ
って表面エネルギを話起し、生体接着性を高める。この
動的滅菌は紫外線と分子励起を組合わせる。この方法は
出力波長が約175nmから約450nmのオゾンフリ
ー石英のメタルハライド水銀/ガリウム紫外線ランプに
よって達成される。175nm乃至450nmの波長範
囲では相対的エネルギ範囲は1メートルで1.3μW/
cm2/nmに等しいかそれ以上、または、250μW
/cm2/nmに等しいかそれ以下である。この方法を
達成するメタルハライド水銀/ガリウム紫外線ランプの
動作範囲を第1図のグラフに斜線部分で示す。このグラ
フは本発明による物質表面の滅菌および浄化のための相
対的エネルギ/波長範囲を示すグラフである。この方法
を達成するために、物質表面の露光時間は約60秒から
約0.3秒の範囲で可変である。この物質表面の露光時
間はランプの相対的エネルギ、マイクロワット出力およ
び破壊されるべき微生物の種類による。物質表面と光源
間の距離は約0.635cm(約0.25インチ )
か ら約10.16cm (約 4.0インチ )
の範囲である。周囲温度ないし室温は前述の距離範囲内
で約40℃と約150℃の間で可変である。
前述した高エネルギ出力パラメータを有し、チタンがト
ープされたオゾンフリー石英管を有する水銀/ガリウム
金属ハロゲン化物紫外線ランプはガス状の二酸化チタン
を放出する。この点についてはやがて詳述する。包囲さ
れた室内での330〜450 nmの波長範囲の紫外線
に加えて、この放出により表面エネルギ活性化作用が行
なわれる。試料の臨界表面エネルギが増大すると、生体
接着性ないし生体適合性を高めることが実験により証明
されている。この種のより詳しい試験とその結果は’
5urface Analysis Of Titan
ium FollowingSterilizatio
n −Role In Implant −T
i5sueInterface and Bioa
dhesion J (James Il、Do
un−doulakis、 Roswell Park
Memorial In5titute八nnual
Re5earch Report、 1986.)を
参照されたい。この報告に詳述されているように、第2
A図は予め滅菌されたチタン試料の接触角(conta
ctangle)測定値のジスマンプロット(Zism
an plot)である。第2B図〜第2F図はそれぞ
れ次の方法によって滅菌された試料における接触角測定
値のジスマンプロットである。すなわち、乾燥加熱処理
、蒸気滅菌、本発明による紫外線、山内ガラスビート滅
菌および無線周波数グロー放電である。
ープされたオゾンフリー石英管を有する水銀/ガリウム
金属ハロゲン化物紫外線ランプはガス状の二酸化チタン
を放出する。この点についてはやがて詳述する。包囲さ
れた室内での330〜450 nmの波長範囲の紫外線
に加えて、この放出により表面エネルギ活性化作用が行
なわれる。試料の臨界表面エネルギが増大すると、生体
接着性ないし生体適合性を高めることが実験により証明
されている。この種のより詳しい試験とその結果は’
5urface Analysis Of Titan
ium FollowingSterilizatio
n −Role In Implant −T
i5sueInterface and Bioa
dhesion J (James Il、Do
un−doulakis、 Roswell Park
Memorial In5titute八nnual
Re5earch Report、 1986.)を
参照されたい。この報告に詳述されているように、第2
A図は予め滅菌されたチタン試料の接触角(conta
ctangle)測定値のジスマンプロット(Zism
an plot)である。第2B図〜第2F図はそれぞ
れ次の方法によって滅菌された試料における接触角測定
値のジスマンプロットである。すなわち、乾燥加熱処理
、蒸気滅菌、本発明による紫外線、山内ガラスビート滅
菌および無線周波数グロー放電である。
本発明方法による第2D図のグラフは強い生物反応の可
能性を示す高いPとゆるい傾斜を示している。
能性を示す高いPとゆるい傾斜を示している。
ハタテリヤ、ウィルス、胞子(spores)を含む一
般の微生物を破壊するのに必要な殺菌エネルギ、すなわ
ち、滅菌力は平方センチメートル(cm’)当りのマイ
クロ(μ)ジュール(J)、あるいは、単位面積当りの
仕事量(work per area)で与えられる。
般の微生物を破壊するのに必要な殺菌エネルギ、すなわ
ち、滅菌力は平方センチメートル(cm’)当りのマイ
クロ(μ)ジュール(J)、あるいは、単位面積当りの
仕事量(work per area)で与えられる。
仕事Er、 (J )はワット(W)によるエネルギと
秒(sec、)による時間との積である。従って、1μ
J−1μWx1秒 または、 1 μ J/cm’ −1μ W ・秒/cm 2
滅菌は253.7nmの波長で行なわれる。253.7
nmの波長において、前述の紫外線ランプは1メートル
で14.14[1μW/cm2/nmを発生する。もし
、253.7nunでの相対エネルギが14.146μ
W/cm2、前述のランプでのMPET (最大許容露
出時間)が9.7641秒であれば、単位面積当りの仕
事量は138.123μm秒/cm2である。従来の滅
菌水銀灯を用いる滅菌法でたいていの微生物を破壊する
には8000μW・秒/cm2を必要とする。
秒(sec、)による時間との積である。従って、1μ
J−1μWx1秒 または、 1 μ J/cm’ −1μ W ・秒/cm 2
滅菌は253.7nmの波長で行なわれる。253.7
nmの波長において、前述の紫外線ランプは1メートル
で14.14[1μW/cm2/nmを発生する。もし
、253.7nunでの相対エネルギが14.146μ
W/cm2、前述のランプでのMPET (最大許容露
出時間)が9.7641秒であれば、単位面積当りの仕
事量は138.123μm秒/cm2である。従来の滅
菌水銀灯を用いる滅菌法でたいていの微生物を破壊する
には8000μW・秒/cm2を必要とする。
上述したことは、253.7nmの紫外線エネルギと表
面分子励起および微小燃焼とを組合わせた前述のDou
ndoulakisによる報告に詳しい。従来の紫外線
源は分子を通り光子エネルギにより分子を励起する能力
を欠いていた。本発明による動的滅菌は表面の分子を通
りこれを励起することがで診るので、従来の紫外線法に
通常伴なうエネルギ量を必要としない。動的滅菌におけ
る励起現象はスパッタリング(sputtering)
に似ており、表面分子の運動を伴なう。この過程におい
て多量の熱エネルギが解放され不安定な表面の残片を微
小燃焼させる。
面分子励起および微小燃焼とを組合わせた前述のDou
ndoulakisによる報告に詳しい。従来の紫外線
源は分子を通り光子エネルギにより分子を励起する能力
を欠いていた。本発明による動的滅菌は表面の分子を通
りこれを励起することがで診るので、従来の紫外線法に
通常伴なうエネルギ量を必要としない。動的滅菌におけ
る励起現象はスパッタリング(sputtering)
に似ており、表面分子の運動を伴なう。この過程におい
て多量の熱エネルギが解放され不安定な表面の残片を微
小燃焼させる。
表面エネルギ活性化工程の活動と253.7nmの紫外
線の静的滅菌エネルギを組合せることにより、前述した
シールディングないしスクリーニング効果の現象が除去
される。さらに、表面エネルギ活性化中に発生する微小
燃焼が253.7nmの紫外線に対して生き残った微生
物を不活性化ないし組織学的用語で云えば「灰化」する
。350〜450nmの紫外線がこの「灰化」を行なう
ものと思われる。従って、本発明による滅菌中に活動的
ないし動的プロセスが物質表面で進行する。この動的プ
ロセスは物質表面の固有性を物理的または化学的に変化
ないし損傷することなしに完全滅菌を容易にする。この
滅菌法の主な適用例において、鋭い刃を有する医療器具
例えば外科用メスをその刃を傷つけたり鈍化させずに完
全に滅菌することかでざる。
線の静的滅菌エネルギを組合せることにより、前述した
シールディングないしスクリーニング効果の現象が除去
される。さらに、表面エネルギ活性化中に発生する微小
燃焼が253.7nmの紫外線に対して生き残った微生
物を不活性化ないし組織学的用語で云えば「灰化」する
。350〜450nmの紫外線がこの「灰化」を行なう
ものと思われる。従って、本発明による滅菌中に活動的
ないし動的プロセスが物質表面で進行する。この動的プ
ロセスは物質表面の固有性を物理的または化学的に変化
ないし損傷することなしに完全滅菌を容易にする。この
滅菌法の主な適用例において、鋭い刃を有する医療器具
例えば外科用メスをその刃を傷つけたり鈍化させずに完
全に滅菌することかでざる。
本発明の方法を実施する装置を第3図〜第5図に示す。
この装置はほぼ長方形のハウジングないしケース10を
含み、このハウジングは前パネル12、後パネル14、
上パネル16、底パネル18、および両側パネル20.
22からなる。ゲート機構24が、前パネル12に取付
けられたブラケット26に回動可能に連結されている。
含み、このハウジングは前パネル12、後パネル14、
上パネル16、底パネル18、および両側パネル20.
22からなる。ゲート機構24が、前パネル12に取付
けられたブラケット26に回動可能に連結されている。
ハウジング10内のシャッタ部材28が前パネル12に
回動可能に取付けられたロッド30の一端に固定されて
いる。このロッドの外端にはノブ32が設けられ、この
ノブはロック片ないしタブ34を有し、ノブ32をロッ
ク位置に回動させたとぎに、タブ34がゲート機構24
に係合するようになっている。
回動可能に取付けられたロッド30の一端に固定されて
いる。このロッドの外端にはノブ32が設けられ、この
ノブはロック片ないしタブ34を有し、ノブ32をロッ
ク位置に回動させたとぎに、タブ34がゲート機構24
に係合するようになっている。
パネル12にはさらに三つの手動操作スイッチ、すなわ
ち、ランプスイッチ36、電源スィッチ38および表面
エネルギ活性化(s、e、a、)スイッチ40が設けら
れている。それぞれのスイッチが投入されたことを示す
指示ランプ42.44.46が設けられている。
ち、ランプスイッチ36、電源スィッチ38および表面
エネルギ活性化(s、e、a、)スイッチ40が設けら
れている。それぞれのスイッチが投入されたことを示す
指示ランプ42.44.46が設けられている。
本発明の装置は2個の同じランプ48.50を備えてい
る。このランプは各々チタンがドープされたオゾンフリ
ー石英管を有する水銀/ガリウムメタルハライドランプ
、である。各ランプ48.50はU字状をなし、ブラケ
ット52.54にそれぞれ取り付lすられている。ブラ
ケット52.54はハウジング10に固定された他の取
付ブラケット集合体55に支持されている。ランプ48
.50は軸方向ないし長手方向に間隔をおいて配置され
、それぞれ脚部が反対方向に向けられ、二つのぼぼ平行
な平面に配備されている。この結果、滅菌されるべき物
体を両ランプの間にこれに沿って配置できる。2個のU
字状ランプが配置されていることにより、物体、例えば
移植物、充填物、挿入物などのインブラント(impl
ants)に実質上完全な円形状露光を行なう。
る。このランプは各々チタンがドープされたオゾンフリ
ー石英管を有する水銀/ガリウムメタルハライドランプ
、である。各ランプ48.50はU字状をなし、ブラケ
ット52.54にそれぞれ取り付lすられている。ブラ
ケット52.54はハウジング10に固定された他の取
付ブラケット集合体55に支持されている。ランプ48
.50は軸方向ないし長手方向に間隔をおいて配置され
、それぞれ脚部が反対方向に向けられ、二つのぼぼ平行
な平面に配備されている。この結果、滅菌されるべき物
体を両ランプの間にこれに沿って配置できる。2個のU
字状ランプが配置されていることにより、物体、例えば
移植物、充填物、挿入物などのインブラント(impl
ants)に実質上完全な円形状露光を行なう。
本発明の装置は、さらに、ゲート機構24に固定された
管56と、この管56内を摺動しその外端にノブ60を
備えたロッド58と、このロッド58に担われた試料な
いし材料ホルダないしトレー62とを含む試料スライド
機構からなる。トレ−62には直立ピン64が設けられ
、これに滅菌されるべき物体が保持される。シャッタ2
8が開位置に回動されると、トレー62をロッド58に
よって第3図で左に動かし、トレー62とこれに支持さ
れた物体とをランプ48.50によって区画された区域
内に配置することができる。
管56と、この管56内を摺動しその外端にノブ60を
備えたロッド58と、このロッド58に担われた試料な
いし材料ホルダないしトレー62とを含む試料スライド
機構からなる。トレ−62には直立ピン64が設けられ
、これに滅菌されるべき物体が保持される。シャッタ2
8が開位置に回動されると、トレー62をロッド58に
よって第3図で左に動かし、トレー62とこれに支持さ
れた物体とをランプ48.50によって区画された区域
内に配置することができる。
反射器65がハウジング10内に設けられランプ48.
50を包囲してこの装置の使用者を付加的に保護する。
50を包囲してこの装置の使用者を付加的に保護する。
ブラケット68に支持された第1フアン66がランプ4
8.50を冷却するために、また、ブラケット72に支
持された第2フアン70がハウジング10内の排気のた
めにそれぞれ設けられている。
8.50を冷却するために、また、ブラケット72に支
持された第2フアン70がハウジング10内の排気のた
めにそれぞれ設けられている。
本発明装置はさらに変圧器74、ターミナルブロック7
6、力制御リレー78および四つのコンデンサ80.8
2.84.86を備えている。これらの部材の目的につ
いては後述する。タイマ(図示路)が前パネル12上の
ノブ88によって調節される。
6、力制御リレー78および四つのコンデンサ80.8
2.84.86を備えている。これらの部材の目的につ
いては後述する。タイマ(図示路)が前パネル12上の
ノブ88によって調節される。
第5図はランプ48.50、変圧器74、コンデンサ8
0.82.84.86、ランプスイッチ36およびs、
e、a、スイッチ40の接続を示す回路図である。ラン
プスイッチ36が閉じられると、逓昇変圧器74の一次
側が115ボルト、220アンペアの入力電力で動作す
べく在来線電圧に接続される。この電圧は逓昇変圧器7
4によって昇圧されランプ48.50を動作させる。各
ランプは公称800または1500ワツト、500アー
クボルトの管状メタルハライド紫外線ランプで、ここに
示された動作パラメータを有する。
0.82.84.86、ランプスイッチ36およびs、
e、a、スイッチ40の接続を示す回路図である。ラン
プスイッチ36が閉じられると、逓昇変圧器74の一次
側が115ボルト、220アンペアの入力電力で動作す
べく在来線電圧に接続される。この電圧は逓昇変圧器7
4によって昇圧されランプ48.50を動作させる。各
ランプは公称800または1500ワツト、500アー
クボルトの管状メタルハライド紫外線ランプで、ここに
示された動作パラメータを有する。
本装置はランプの寿命を延長させるためにアイドルない
し待機モードを有している。アイドルモードは第5図の
回路のコンデンサ群80.82.84.86とs、e、
a、スイッチ40によって達成される。スイッチ40が
開かれると、コンデンサ80.82のみがランプ48.
50と接続されアイドルモードになる。スイッチ40が
閉じられると、四つのコンデンサ80.82.84.8
6全部がランプ48.50と接続され、全動作ないしハ
イモードになる。アイドルモードが設けられていること
により、s、e、a、スイッチ40を閉じて装置をハイ
モードにしたときに、ランプを完全動作させるために付
加的なウオームアツプ時間を必要としない。パワスイッ
チ38は第5図では省略されているが、ファン66.7
0の動作を制御する。
し待機モードを有している。アイドルモードは第5図の
回路のコンデンサ群80.82.84.86とs、e、
a、スイッチ40によって達成される。スイッチ40が
開かれると、コンデンサ80.82のみがランプ48.
50と接続されアイドルモードになる。スイッチ40が
閉じられると、四つのコンデンサ80.82.84.8
6全部がランプ48.50と接続され、全動作ないしハ
イモードになる。アイドルモードが設けられていること
により、s、e、a、スイッチ40を閉じて装置をハイ
モードにしたときに、ランプを完全動作させるために付
加的なウオームアツプ時間を必要としない。パワスイッ
チ38は第5図では省略されているが、ファン66.7
0の動作を制御する。
第3図〜第5図に示す装置において、各ランプ48.5
0は0字ないし馬蹄形をなし、GTE−5ylvani
a社製の定格1500ワットMP1500T4tl/8
M型として市場で人手できる。このランプのほかに、同
社製の棒状ないし管状のMP1500T4/8B型も市
場で人手できる。この種のランプは200nm以下の輻
射線をほとんどないしは全く透過させない、すなわち、
オゾンフリータイプの、チタンをドープされた(tit
anium−doped)石英管を有している。上記範
囲はオゾン発生域であり、石英管によるこの帯域におけ
る透過度の減少によってオゾンに付随するeJ在的危険
性を回避できる。装置の他の構成において、滅菌される
べき物体ないし物質をオゾンフリー石英管ないし導管内
に配置し、ランプをこの管ないし導管の外側および(ま
たは)まわりに配置することもできる。例えば、滅菌さ
れるべき血液のような液体はこのような管内を通される
。
0は0字ないし馬蹄形をなし、GTE−5ylvani
a社製の定格1500ワットMP1500T4tl/8
M型として市場で人手できる。このランプのほかに、同
社製の棒状ないし管状のMP1500T4/8B型も市
場で人手できる。この種のランプは200nm以下の輻
射線をほとんどないしは全く透過させない、すなわち、
オゾンフリータイプの、チタンをドープされた(tit
anium−doped)石英管を有している。上記範
囲はオゾン発生域であり、石英管によるこの帯域におけ
る透過度の減少によってオゾンに付随するeJ在的危険
性を回避できる。装置の他の構成において、滅菌される
べき物体ないし物質をオゾンフリー石英管ないし導管内
に配置し、ランプをこの管ないし導管の外側および(ま
たは)まわりに配置することもできる。例えば、滅菌さ
れるべき血液のような液体はこのような管内を通される
。
本発明の方法の過程中に放出されるガス状の二酸化チタ
ンはオゾンフリー石英のランプを大気中で動作させるこ
とに起因する。ランプのオゾンフリー石英管は透明目的
のためにチタンが添加される。チタンをドープされたオ
ゾンフリー石英管を有する紫外線ランプは空気中で動作
されると二酸化チタンを放出することが知られている。
ンはオゾンフリー石英のランプを大気中で動作させるこ
とに起因する。ランプのオゾンフリー石英管は透明目的
のためにチタンが添加される。チタンをドープされたオ
ゾンフリー石英管を有する紫外線ランプは空気中で動作
されると二酸化チタンを放出することが知られている。
空気中での動作は、紫外線に露光されたときオゾンフリ
ー石英から解放されるチタンと結合して酸化物を生成す
る酸素を供給するために必要である。二酸化チタンによ
って本発明の動的滅菌特性における励起現象が発生する
。
ー石英から解放されるチタンと結合して酸化物を生成す
る酸素を供給するために必要である。二酸化チタンによ
って本発明の動的滅菌特性における励起現象が発生する
。
次に、本発明の方法を実施するための第3図〜第5図の
装置を動作させる一連の工程を例示する。
装置を動作させる一連の工程を例示する。
1、ハウジング10を強固な水平台上に垂直位置に配置
する。
する。
2、全てのスイッチ36.38.40をオフ位置にセッ
トし、ノブ32を第4図で反時計方向に回転させ、タブ
34をロック位置に置く(こうしないと装置は動作しな
い)。これにより、シャッタ28が開位置に置かれる。
トし、ノブ32を第4図で反時計方向に回転させ、タブ
34をロック位置に置く(こうしないと装置は動作しな
い)。これにより、シャッタ28が開位置に置かれる。
3、ハウジング10を115ボルト、220アンペアの
接地されたコンセントに接続する。
接地されたコンセントに接続する。
4、パワスイッチ38をオンにしてファン66.70を
動作させる。
動作させる。
5゜s、e、a、スイッチ40をハイ(IIIG旧にし
、四つの全てのコンデンサを回路に接続する。
、四つの全てのコンデンサを回路に接続する。
6、ランプスイッチ36をオンにし、変圧器74、ラン
プ48.50、コンデンサ80.82.84.86に電
力を供給する。
プ48.50、コンデンサ80.82.84.86に電
力を供給する。
7、各ランプの初期ウアームアップ時間を5分間とする
。
。
8 、 s、e、a、スイッチ40をロー(LOW)
にし、装置をアイドルモードにする。
にし、装置をアイドルモードにする。
9、ロッド58により試料引き出し具ないしホルダをハ
ウジングから引き出す。
ウジングから引き出す。
10、ドアロックノブ32を第4図で時計方向に回動さ
せてシャッタ28を閉じ、ドアないしゲート24を解錠
する。そしてドア24を回動させて試料ホルダ62に近
付けるようにする。
せてシャッタ28を閉じ、ドアないしゲート24を解錠
する。そしてドア24を回動させて試料ホルダ62に近
付けるようにする。
11、滅菌されるべき器具、インブラント、または試料
を試料ホルダ62に載置する。
を試料ホルダ62に載置する。
12、ドア24を回動させ、ホルダ62をハウジング内
に挿入し、ドアロック32をロック位置に(反時計方向
に)回動させてシャッタ28を開き、ドア24をロック
する。
に挿入し、ドアロック32をロック位置に(反時計方向
に)回動させてシャッタ28を開き、ドア24をロック
する。
13 、 s、e、a、スイッチ40をハイ(HIG旧
にする。
にする。
14、ロッド58を用いて引ぎ出しないし試料ホルダ6
2をハウジング内に押し込む。
2をハウジング内に押し込む。
15.8秒間材料の表面エネルギ活性化と滅菌を行なう
。
。
16、工程8〜10を繰返して滅菌された物体を取り除
く。
く。
第3図〜第5図の装置を用いて上記工程により例として
三つの試料、すなわち、チタン製歯科用インブラント、
チタン製医療用器具およびプラスチック製外科用縫糸を
滅菌した。
三つの試料、すなわち、チタン製歯科用インブラント、
チタン製医療用器具およびプラスチック製外科用縫糸を
滅菌した。
まず、この工程を指標に対して行ない、本発明の方法と
装置の滅菌能力を確認した。すなわち、指標はアメリカ
ン・ステライザ・カンパニ社のアムスコ・メディカル・
プロダクツ部門製の定格13000μW・秒/cm2の
ものを使用した。これは試験媒体の入ったガラスびんの
形態をしており、このガラスびんを装置の室内に収容し
、前述の操作を行った。そしてガラスびんを取り出し、
試験片を媒体中に挿入した。試験片をガラスびんの媒体
から取り出し約24時間培養した。それから試験片をカ
ラーチャートと比較したが、本発明の方法と装置は滅菌
のための13000エネルギレベルを達成したことを示
した。それから処理操作をインブラント、器具および縫
糸に対して順次実施した。各々の場合において、操作終
了後、試料を分光分析によって検査し、完全な滅菌を確
認した。8秒という比較的短い露光時間は特にプラスチ
ック縫糸を滅菌するのに有効である。相当長い露光時間
を必要とする従来の方法はプラスチック縫糸を溶融させ
たり損傷を与えるおそれがある。
装置の滅菌能力を確認した。すなわち、指標はアメリカ
ン・ステライザ・カンパニ社のアムスコ・メディカル・
プロダクツ部門製の定格13000μW・秒/cm2の
ものを使用した。これは試験媒体の入ったガラスびんの
形態をしており、このガラスびんを装置の室内に収容し
、前述の操作を行った。そしてガラスびんを取り出し、
試験片を媒体中に挿入した。試験片をガラスびんの媒体
から取り出し約24時間培養した。それから試験片をカ
ラーチャートと比較したが、本発明の方法と装置は滅菌
のための13000エネルギレベルを達成したことを示
した。それから処理操作をインブラント、器具および縫
糸に対して順次実施した。各々の場合において、操作終
了後、試料を分光分析によって検査し、完全な滅菌を確
認した。8秒という比較的短い露光時間は特にプラスチ
ック縫糸を滅菌するのに有効である。相当長い露光時間
を必要とする従来の方法はプラスチック縫糸を溶融させ
たり損傷を与えるおそれがある。
本発明の他の実施例について次に説明する。
まず、プロトコール(Protocol) Aにおい
て、市場で入手できる68個の商業的に純粋なチタン製
口腔内インブラントを使用した。このインブラントは不
規則ないし複雑な形をしているため「シャドーゾーンJ
が形成される。すなわち、これらの物体はニューヨーク
州、ホランドのパッド・インダストリーズ・インコーホ
レイテッド社の製品として市場で入手でき、その一端が
ねじ部をなし他端に管状フランジを有する。また、これ
らのうちの半数のものにはその管状フランジ側の端に閉
封プラグを嵌着した。全てのインブラントをさらに表1
の第1段目に示すように四つのカテゴリーに分けた。4
8個のインブラントは二つの等数のグループに分けた。
て、市場で入手できる68個の商業的に純粋なチタン製
口腔内インブラントを使用した。このインブラントは不
規則ないし複雑な形をしているため「シャドーゾーンJ
が形成される。すなわち、これらの物体はニューヨーク
州、ホランドのパッド・インダストリーズ・インコーホ
レイテッド社の製品として市場で入手でき、その一端が
ねじ部をなし他端に管状フランジを有する。また、これ
らのうちの半数のものにはその管状フランジ側の端に閉
封プラグを嵌着した。全てのインブラントをさらに表1
の第1段目に示すように四つのカテゴリーに分けた。4
8個のインブラントは二つの等数のグループに分けた。
そのうち一つのグループは閉封プラグを付け、他方は開
封プラグを付けなかった。残りのインブラントも二つの
等数の対照群に分けた。各対照群は閉封プラグ付きの5
個とこれを付けない5個の合計10個を含み、一つの対
照群を陽性対照(positive control)
とし、他を陰性対照(negative contro
l)とした。
封プラグを付けなかった。残りのインブラントも二つの
等数の対照群に分けた。各対照群は閉封プラグ付きの5
個とこれを付けない5個の合計10個を含み、一つの対
照群を陽性対照(positive control)
とし、他を陰性対照(negative contro
l)とした。
全てのカテゴリーのものを表1の2段目に示すように残
漬のでない洗浄剤で20分間超音波洗浄し滅菌のために
包装した。洗浄剤はイリノイ州、シカゴのヒユーフリー
デイ社製のT M Sを用いた。表1の3段目に示すよ
うに、滅菌はヴアーニトロンレジェンシー(Verni
toron Regency)オートクレーブ内で実施
した。滅菌サイクルは120℃、15psiで20分間
の給温加熱した。この予備処理は接種前に汚染がないこ
とを保証するために行なった。
漬のでない洗浄剤で20分間超音波洗浄し滅菌のために
包装した。洗浄剤はイリノイ州、シカゴのヒユーフリー
デイ社製のT M Sを用いた。表1の3段目に示すよ
うに、滅菌はヴアーニトロンレジェンシー(Verni
toron Regency)オートクレーブ内で実施
した。滅菌サイクルは120℃、15psiで20分間
の給温加熱した。この予備処理は接種前に汚染がないこ
とを保証するために行なった。
表1
トドクレープ 同左 同左 同左で滅菌
展開された生物指標はバチルスステアロサーモフィルス
(Bacillus Stearothermophi
lus) (以下[lSという)の臓子(spore
s)である。この微生物はダラム陰性好気性桿菌(gr
am negative aerobicrOd 1)
acteria)である。その胞子は他の微生物と比較
して、熱に対して最大の低抗力を示し、かつ、輻射線に
対する感応性が低い。この稲は給温加熱とイオン化輻射
線の滅菌効果の指標として国立保健機構(Nation
al In5titute of 1lealth)に
よって−船釣に推奨されている。使用したこの胞子は、
市販の生物指標、特に、3Mカンパニによる滅菌モニタ
テスト(Attest 5terilization
Monitor−ing)をメリーランド州、コツキー
ズヴイルのBBLマイクロバイオロジー・システムズ社
製トリブチケース大豆ブロス(汁) (tryptic
ase soy broth)(以下TSBまたはブロ
スという) 5ml中において56℃で1週間培養した
ものである。これによってブロス中のバクテリアが接種
菌(inoculum)として使用できる胞子形成静的
相に達した。
(Bacillus Stearothermophi
lus) (以下[lSという)の臓子(spore
s)である。この微生物はダラム陰性好気性桿菌(gr
am negative aerobicrOd 1)
acteria)である。その胞子は他の微生物と比較
して、熱に対して最大の低抗力を示し、かつ、輻射線に
対する感応性が低い。この稲は給温加熱とイオン化輻射
線の滅菌効果の指標として国立保健機構(Nation
al In5titute of 1lealth)に
よって−船釣に推奨されている。使用したこの胞子は、
市販の生物指標、特に、3Mカンパニによる滅菌モニタ
テスト(Attest 5terilization
Monitor−ing)をメリーランド州、コツキー
ズヴイルのBBLマイクロバイオロジー・システムズ社
製トリブチケース大豆ブロス(汁) (tryptic
ase soy broth)(以下TSBまたはブロ
スという) 5ml中において56℃で1週間培養した
ものである。これによってブロス中のバクテリアが接種
菌(inoculum)として使用できる胞子形成静的
相に達した。
閉封プラグを備えた3個のインブラントの各々に106
の4度のO5胞子を接種した。接種はインブラントの」
二部とねじ部に限定した。この接種には滅菌した中]J
のラクダ毛の絵筆を用いた。この汚染したインブラント
をそのフランジ部を垂直に保持して第3図の装置の試料
ホルダ62のような滅菌したチタン製の皿の上に載置し
た。これらのインブラントを第3図第4図の装置におい
て2537人の紫外線で処理した。この波長は短波長強
度測定用BLAに−RAY紫外線メータで確認した。最
初の露光を10秒間行ない、次いでインブラントを他の
滅菌されたチタントレー上に上下逆さにして+fi!
置し、再び10秒間露光した。インブラントは滅菌ピン
セットで取扱った。次に、開封プラグのないインブラン
トに上記と同じ方法で接種して、これをポスト上に置い
た。装置内で最初の露光を10秒間行ない、その後第2
の露光のために滅菌チタントレーに移した。各カテゴリ
ーから交互に1回当り3個のインブラントを用いて18
回のテストを行なった。所望の露光処理を行なってから
各々のインブラントを5 mlのTSB(1木の試験管
につき1個のインブラント)中に入れ、56℃で48時
間培養した。ブロスとインブラントの入った試験管内の
滅菌の失敗を示す澗りによって滅菌効果を評価した。
の4度のO5胞子を接種した。接種はインブラントの」
二部とねじ部に限定した。この接種には滅菌した中]J
のラクダ毛の絵筆を用いた。この汚染したインブラント
をそのフランジ部を垂直に保持して第3図の装置の試料
ホルダ62のような滅菌したチタン製の皿の上に載置し
た。これらのインブラントを第3図第4図の装置におい
て2537人の紫外線で処理した。この波長は短波長強
度測定用BLAに−RAY紫外線メータで確認した。最
初の露光を10秒間行ない、次いでインブラントを他の
滅菌されたチタントレー上に上下逆さにして+fi!
置し、再び10秒間露光した。インブラントは滅菌ピン
セットで取扱った。次に、開封プラグのないインブラン
トに上記と同じ方法で接種して、これをポスト上に置い
た。装置内で最初の露光を10秒間行ない、その後第2
の露光のために滅菌チタントレーに移した。各カテゴリ
ーから交互に1回当り3個のインブラントを用いて18
回のテストを行なった。所望の露光処理を行なってから
各々のインブラントを5 mlのTSB(1木の試験管
につき1個のインブラント)中に入れ、56℃で48時
間培養した。ブロスとインブラントの入った試験管内の
滅菌の失敗を示す澗りによって滅菌効果を評価した。
試験中、10個のインブラントを同じ方法でそれぞれ1
0回時を異にして接種して陽性対照とした。また、複数
のインブラントを陰性対照として使用した。これらのイ
ンブラントは1分間滅菌ペトリ皿上に載せて室内条件に
露呈した。外部汚染物が実験に入ってくるかどうかを見
るためにこれを10回行なった。再び全ての陽性対照お
よび陰性対照インブラントをTSB中に入れ同様に培養
した。
0回時を異にして接種して陽性対照とした。また、複数
のインブラントを陰性対照として使用した。これらのイ
ンブラントは1分間滅菌ペトリ皿上に載せて室内条件に
露呈した。外部汚染物が実験に入ってくるかどうかを見
るためにこれを10回行なった。再び全ての陽性対照お
よび陰性対照インブラントをTSB中に入れ同様に培養
した。
24時間後、全ての試験管をメリーランド州、コッキー
ズヴイルのBBLマイクロバイオロジー・システムズ社
から人手できる5%の羊の血液を加えたトリプチケース
寒天培地て継代培養した。これは陰性対照には行なわな
かった。この継代培養物を56℃て7日間培養し、最初
の増殖培地(growth medium)が適当であ
ることを確認した。
ズヴイルのBBLマイクロバイオロジー・システムズ社
から人手できる5%の羊の血液を加えたトリプチケース
寒天培地て継代培養した。これは陰性対照には行なわな
かった。この継代培養物を56℃て7日間培養し、最初
の増殖培地(growth medium)が適当であ
ることを確認した。
全実験中滅菌状態を厳格に維持した。 ・次に、プロト
コールBとして商業的に純粋なチタン製インブラント5
個をプロトコールAと同様に用意した。ここでも、接種
は滅菌絵筆で行なった。しかし、これらのインブラント
は1時間乾燥させてから走査型電子顕微鏡(以下SEM
という)て検査した。SEM検査後、汚染したインブラ
ントに再び接種し、SEMの電子ビームによる妨害がな
いことを保証した。紫外線露光をまず10秒間行ない、
次いて適当な手動操作により下側をさらに10秒間露光
した。次いでこれらをTSB中に入れ56℃で48時間
培養した。滅菌結果を認めると、インブラントを回収し
てSEMによる2回目の検査を行なった。この処理を表
IIに示す。ここでも、全実験中滅菌状態を維持した。
コールBとして商業的に純粋なチタン製インブラント5
個をプロトコールAと同様に用意した。ここでも、接種
は滅菌絵筆で行なった。しかし、これらのインブラント
は1時間乾燥させてから走査型電子顕微鏡(以下SEM
という)て検査した。SEM検査後、汚染したインブラ
ントに再び接種し、SEMの電子ビームによる妨害がな
いことを保証した。紫外線露光をまず10秒間行ない、
次いて適当な手動操作により下側をさらに10秒間露光
した。次いでこれらをTSB中に入れ56℃で48時間
培養した。滅菌結果を認めると、インブラントを回収し
てSEMによる2回目の検査を行なった。この処理を表
IIに示す。ここでも、全実験中滅菌状態を維持した。
表II
同様に予備処理滅菌
バチルスステアロサーモフィルス
(BS)の胞子を接種
走査型電子顕微鏡(SEM)検査
再接種
紫外線処理
2回目のSEM検査
チタン製インブラントをBSの胞子で汚染した後紫外線
処理して得られたプロトコールAの結果は、不規則な形
状の物体に対する滅菌効果を立証した。48個のインブ
ラントのうちただ1個のみが微生物の増殖を示すブロス
の濁りによって示される滅菌効果の基準と一致しなかっ
た。実験の結果は増殖培地中の濁度と陽性対照および陰
性対照の各々の結果とを比較することにより決定した。
処理して得られたプロトコールAの結果は、不規則な形
状の物体に対する滅菌効果を立証した。48個のインブ
ラントのうちただ1個のみが微生物の増殖を示すブロス
の濁りによって示される滅菌効果の基準と一致しなかっ
た。実験の結果は増殖培地中の濁度と陽性対照および陰
性対照の各々の結果とを比較することにより決定した。
さらに、陽性対照中に存在する濁りは生存可能な(微)
生物が接種中に存在していることを示した。陰性対照は
環境からの汚染が実験に侵入しないことを規定した。す
なわち、陰性対照は使用されないブロスと比べたとき澄
明のままであった。
生物が接種中に存在していることを示した。陰性対照は
環境からの汚染が実験に侵入しないことを規定した。す
なわち、陰性対照は使用されないブロスと比べたとき澄
明のままであった。
生のデータの分析によれば、閉封プラグを有するインブ
ラントの96%が滅菌され、閉封プラグを有しないイン
ブラントの100%が全て滅菌された。これはブロスに
濁りのないことによって示された。これらのパーセント
値は不規則な形状の物体によって形成される「シャドー
ゾーン」が結果に大きい影うを与えないことを意味して
いる。
ラントの96%が滅菌され、閉封プラグを有しないイン
ブラントの100%が全て滅菌された。これはブロスに
濁りのないことによって示された。これらのパーセント
値は不規則な形状の物体によって形成される「シャドー
ゾーン」が結果に大きい影うを与えないことを意味して
いる。
24時間後になされた継代培養(subculture
)はTSBに対して同様の結果を確認した。栄養価を高
めた増殖培地も失敗したインブラント以外はコロニーの
生成に役立たなかった。従って、使用した最初の増殖培
地による妨害は認められなかった。
)はTSBに対して同様の結果を確認した。栄養価を高
めた増殖培地も失敗したインブラント以外はコロニーの
生成に役立たなかった。従って、使用した最初の増殖培
地による妨害は認められなかった。
表II+は室内と紫外線(UV)チェンバ内の温度変化
を示す。実験開始時にUVチェンバの温度は90℃で、
試験を完了したときは100℃であった。各試験中、U
Vチェンバの温度は各10秒の露光で10℃だけ上昇し
た。UV装置を不確定的に動作させない限り、大きな温
度上昇は認められなかった。
を示す。実験開始時にUVチェンバの温度は90℃で、
試験を完了したときは100℃であった。各試験中、U
Vチェンバの温度は各10秒の露光で10℃だけ上昇し
た。UV装置を不確定的に動作させない限り、大きな温
度上昇は認められなかった。
滅菌に失敗したインブラントを最初の試験で処理した。
同じ試験の他の二つのインブラントは滅菌が成功してい
た。失敗のインブラントは滅菌室から試験管に穆すとき
に汚染された表面と不注意に接触したことがわかってい
た。
た。失敗のインブラントは滅菌室から試験管に穆すとき
に汚染された表面と不注意に接触したことがわかってい
た。
プロトコールBの結果をSEM検査で観察した。
このプロトコールは接種物が胞子を有しており、これが
死亡した増殖細胞の破片と混合されることを確認するた
めに案出された。インブラントの個々のねじ部をS E
M検査した結果、胞子をもつ接種物の破片と切削工程
によるねじ部の欠損が観察された。SEMの倍率を大き
くすることによって、胞子が存在し、これが欠損部のま
わりに分散していることが判明した。ここでもUV処理
によって5個全てのインブラントが滅菌され、TSB中
に濁りを発生させなかった。滅菌後インブラントを再び
SEMで検査したが、欠損部に破片や胞子は観察されな
かった。この知見は、微小欠陥および増殖細胞の破片に
よる「スクリン−ニゲ効果」が実験結果に影響を及ぼさ
ないという事実を支持するものである。
死亡した増殖細胞の破片と混合されることを確認するた
めに案出された。インブラントの個々のねじ部をS E
M検査した結果、胞子をもつ接種物の破片と切削工程
によるねじ部の欠損が観察された。SEMの倍率を大き
くすることによって、胞子が存在し、これが欠損部のま
わりに分散していることが判明した。ここでもUV処理
によって5個全てのインブラントが滅菌され、TSB中
に濁りを発生させなかった。滅菌後インブラントを再び
SEMで検査したが、欠損部に破片や胞子は観察されな
かった。この知見は、微小欠陥および増殖細胞の破片に
よる「スクリン−ニゲ効果」が実験結果に影響を及ぼさ
ないという事実を支持するものである。
表III
肌珀(チェンバーを20分ウオームアツプ後)24℃
90℃ ・ 22℃ 100℃上述の
ことから次の結論が得られる。紫外光による動的滅菌法
は不規則な形状の物体の全表面を照射する能力を有して
おり、従来の紫外光の使用に伴う「シャドーゾーン」や
「スクリーニング効果」を除去できる。動的滅菌法は生
物指標の胞子を破壊する迅速かつ便利な方法であり、こ
れが紫外光の滅菌能力を立証している。動的滅菌法は骨
同化(osseointegration)に必要な表
面特性を制御できるために、チタンインブラントの滅菌
に使用すべぎである。
90℃ ・ 22℃ 100℃上述の
ことから次の結論が得られる。紫外光による動的滅菌法
は不規則な形状の物体の全表面を照射する能力を有して
おり、従来の紫外光の使用に伴う「シャドーゾーン」や
「スクリーニング効果」を除去できる。動的滅菌法は生
物指標の胞子を破壊する迅速かつ便利な方法であり、こ
れが紫外光の滅菌能力を立証している。動的滅菌法は骨
同化(osseointegration)に必要な表
面特性を制御できるために、チタンインブラントの滅菌
に使用すべぎである。
本発明の方法および装置は、従来の紫外線滅菌法に伴な
うシールディング(shielding)ないしスクリ
ーニング(screening)を有効に除去し、これ
によってより高度な滅菌を達成できる。すなわち、本発
明の方法および装置は動的滅菌法を使用するが、この方
法では紫外光が物体の表面上の分子を貫通し、これを励
起し、これによって熱エネルギを解放する。その結果、
バクテリア、ウィルスおよび胞子を含む全ての表面破片
(debris)を、滅菌された物体を損傷腐食させる
ことなく、蒸発させる。オートクレーブのような他の滅
菌装置は、熱、圧力または蒸気を組合せて使用し時間の
経過により物体表面を鈍化摩耗させる。この種の従来方
法の他の制限は滅菌はできるが、異物を気化しないこと
である。
うシールディング(shielding)ないしスクリ
ーニング(screening)を有効に除去し、これ
によってより高度な滅菌を達成できる。すなわち、本発
明の方法および装置は動的滅菌法を使用するが、この方
法では紫外光が物体の表面上の分子を貫通し、これを励
起し、これによって熱エネルギを解放する。その結果、
バクテリア、ウィルスおよび胞子を含む全ての表面破片
(debris)を、滅菌された物体を損傷腐食させる
ことなく、蒸発させる。オートクレーブのような他の滅
菌装置は、熱、圧力または蒸気を組合せて使用し時間の
経過により物体表面を鈍化摩耗させる。この種の従来方
法の他の制限は滅菌はできるが、異物を気化しないこと
である。
無線周波数のグロー放電と比較して、本発明の方法は多
数の利点がある。無線周波数のグロー放電による処理時
間は典型的に約20分で、アルゴンガスの入った真空室
を必要とし、滅菌される表面は浄化されるだけでなく組
織が変化する。本発明によれば、処理時間は最大で約1
分であり、しばしばこれより相当に短く、しかも処理を
標準的ないし平常の大気条件下で行なうことができ、元
の表面を浄化するが破損することはない。本発明のプロ
セスは波長253.7nmの紫外線で滅菌を達成するが
、これと比較できる滅菌データは無線周波数グロー放電
では得られない。
数の利点がある。無線周波数のグロー放電による処理時
間は典型的に約20分で、アルゴンガスの入った真空室
を必要とし、滅菌される表面は浄化されるだけでなく組
織が変化する。本発明によれば、処理時間は最大で約1
分であり、しばしばこれより相当に短く、しかも処理を
標準的ないし平常の大気条件下で行なうことができ、元
の表面を浄化するが破損することはない。本発明のプロ
セスは波長253.7nmの紫外線で滅菌を達成するが
、これと比較できる滅菌データは無線周波数グロー放電
では得られない。
本発明の方法および装置は広い適用分野において有利に
使用できる。前記例に示したように、生物指標胞子を破
壊することから本発明は不規則な形状の物体、特にチタ
ン製インブラントの滅菌に有利である。すなわち、本発
明の方法および装置は、インブラントの表面の滅菌、イ
ンブラント表面からの全ての有機物破片の除去を可能に
し極めて清潔な表面と高い臨界表面張力を生成し、従っ
て、40〜70ダイン/c■の高い表面エネルギを得る
ことかできる。これらの結果の重要性は、紫外線処理に
よって清浄化および滅菌作用に加えて高い表面エネルギ
が得られ、口腔および顎骨顔面インブラント、整形イン
ブラント、を椎固定具において、臨床成功率を改善する
ために、極めて重要なインブラントの骨同化として知ら
れている組織の接着性ないし受容性を改善ないし促進す
る。
使用できる。前記例に示したように、生物指標胞子を破
壊することから本発明は不規則な形状の物体、特にチタ
ン製インブラントの滅菌に有利である。すなわち、本発
明の方法および装置は、インブラントの表面の滅菌、イ
ンブラント表面からの全ての有機物破片の除去を可能に
し極めて清潔な表面と高い臨界表面張力を生成し、従っ
て、40〜70ダイン/c■の高い表面エネルギを得る
ことかできる。これらの結果の重要性は、紫外線処理に
よって清浄化および滅菌作用に加えて高い表面エネルギ
が得られ、口腔および顎骨顔面インブラント、整形イン
ブラント、を椎固定具において、臨床成功率を改善する
ために、極めて重要なインブラントの骨同化として知ら
れている組織の接着性ないし受容性を改善ないし促進す
る。
本発明の装置は、8〜10秒で滅菌と清浄化を行なうこ
とができ、発熱が最少ですみ、椅子の傍で使用できるの
で、患者に対して応急使用が可能であり、医師、歯科医
師、および類似の保健業務の要求に答えることができる
。
とができ、発熱が最少ですみ、椅子の傍で使用できるの
で、患者に対して応急使用が可能であり、医師、歯科医
師、および類似の保健業務の要求に答えることができる
。
本発明の方法および装置は、水や高熱を使用せずに滅菌
および浄化ができるので、鋭い刃の維持、外科用器具の
防錆や防蝕、繊維力を失わせない縫糸の再滅菌に使用で
きる。さらに、本発明の方法および装置は、小さいチタ
ン製弁、小寸法の電子部品、その他の小さい金属ないし
プラスチック製部品を浄化し、これらの部品の機能を妨
害する望ましくない汚染物質を除去することもできる。
および浄化ができるので、鋭い刃の維持、外科用器具の
防錆や防蝕、繊維力を失わせない縫糸の再滅菌に使用で
きる。さらに、本発明の方法および装置は、小さいチタ
ン製弁、小寸法の電子部品、その他の小さい金属ないし
プラスチック製部品を浄化し、これらの部品の機能を妨
害する望ましくない汚染物質を除去することもできる。
プラスチック製の縫合糸のようなプラスチック製品を浄
化する能力をプラスチック製容器や包装の浄化にも拡張
適用し、食品産業において本発明の方法および装置を利
用することができる。さらには、最少二の水と汚水の処
理により血液のような流体ないし液体の滅菌に使用する
こともで参る。
化する能力をプラスチック製容器や包装の浄化にも拡張
適用し、食品産業において本発明の方法および装置を利
用することができる。さらには、最少二の水と汚水の処
理により血液のような流体ないし液体の滅菌に使用する
こともで参る。
以上のように、本発明の装置は物質表面の動的滅菌を行
ない、この表面の臨界表面張力を増加させ、それによっ
て表面エネルギを誘起し生体接着性を高めることができ
、従来の紫外線滅菌技術によって達しえられない程度の
滅菌を達成することができる。特に、材料表面ないし標
本の臨界表面張力を変化(増加または減少)させる。物
質表面ないし標本の固有性を変えることなくその上の酸
化物層を積極的に除去する。物質表面では動的滅菌作用
が行なわれ、従来紫外線滅菌に不可避のシールディング
やスクリーニングを回避できる。微生物の微小燃焼ない
し灰化を含む完全に単一段階の滅菌が物質表面で行なわ
れる。その結果8起される表面エネルギおよび増加した
生体接着力は迅速な骨間化を可能にし移植の治癒を早め
ることになる。
ない、この表面の臨界表面張力を増加させ、それによっ
て表面エネルギを誘起し生体接着性を高めることができ
、従来の紫外線滅菌技術によって達しえられない程度の
滅菌を達成することができる。特に、材料表面ないし標
本の臨界表面張力を変化(増加または減少)させる。物
質表面ないし標本の固有性を変えることなくその上の酸
化物層を積極的に除去する。物質表面では動的滅菌作用
が行なわれ、従来紫外線滅菌に不可避のシールディング
やスクリーニングを回避できる。微生物の微小燃焼ない
し灰化を含む完全に単一段階の滅菌が物質表面で行なわ
れる。その結果8起される表面エネルギおよび増加した
生体接着力は迅速な骨間化を可能にし移植の治癒を早め
ることになる。
以下本発明の諸態様を要約する。
(1)a)水銀/ガリウムメタルハライド紫外光源を設
ける工程と、 b)滅菌されるべき物体およびその表面を前記光源の近
傍に置く工程と、 C)前記光源を動作させ高エネルギ紫外線と金属酸化物
とを放出する工程と、 d)前記物体表面を前記紫外線および前記金属酸化物に
露呈させ前記表面上で動的滅菌作用を行なわせ、前記表
面の固有性を変えることなく前記表面の臨界表面張力を
変化させ、生物的汚染層を前記表面から積極的に除去し
、前記表面上での微生物のシールディングないしスクリ
ーニングを除き、微生物の微小燃焼とともに前記表面の
完全滅菌を行なわせる工程と、 からなる物体表面の滅菌方法。
ける工程と、 b)滅菌されるべき物体およびその表面を前記光源の近
傍に置く工程と、 C)前記光源を動作させ高エネルギ紫外線と金属酸化物
とを放出する工程と、 d)前記物体表面を前記紫外線および前記金属酸化物に
露呈させ前記表面上で動的滅菌作用を行なわせ、前記表
面の固有性を変えることなく前記表面の臨界表面張力を
変化させ、生物的汚染層を前記表面から積極的に除去し
、前記表面上での微生物のシールディングないしスクリ
ーニングを除き、微生物の微小燃焼とともに前記表面の
完全滅菌を行なわせる工程と、 からなる物体表面の滅菌方法。
(2)前記金属酸化物が酸化チタンである(1)項の方
法。
法。
(3)前記放射された紫外光が約175nm〜約450
nmの範囲の波長を有する(1)項の方法。
nmの範囲の波長を有する(1)項の方法。
(4)前記紫外光の相対的エネルギ範囲が1メートルに
おいて1.3μW /cm’/nmに等しいかこれより
犬であるか、または、250μW 7cm2/r+n+
に等しいかこれより小である(3)項の方法。
おいて1.3μW /cm’/nmに等しいかこれより
犬であるか、または、250μW 7cm2/r+n+
に等しいかこれより小である(3)項の方法。
(5)前記表面の露光時間が約0.3秒から約60秒の
範囲である(1)項の方法。
範囲である(1)項の方法。
(6)前記光源と前記表面の間の距離が約0.25イン
チから約4.0インチの間である(1)項の方法。
チから約4.0インチの間である(1)項の方法。
(7)前記表面露光工程が標4雲囲気中で行なわれる(
1)項の方法。
1)項の方法。
(8)前記表面露光工程が大気条件下の包囲空間内で行
なわれる(1)項の方法。
なわれる(1)項の方法。
(9)チタンをドープされたオゾンフリー石英を前記光
源と物体との間に作用関係に配置することを含む(1)
項の方法。
源と物体との間に作用関係に配置することを含む(1)
項の方法。
(10)a)水銀/ガリウムメタルハライドランプから
なる紫外光源を準備する工程と、b)前記ランプを動作
させ、微生物を前記ランプから放射される紫外光と二酸
化チタンとに約0.25インチから約4.0インチの露
出距離において約0.3秒から約60秒の範囲の露出時
間の間露呈させる工程とからなり、 前記紫外光の波長範囲が約175r+n+から約450
nmであり、その相対エネルギが1mにおいて1.3μ
W 7cm2/nmに等しいかこれより大きい値から2
50 μW 7cm2/nmに等しいかこれより小さい
値まての範囲内にあるようにした微生物を紫外光に露呈
する滅菌方法。
なる紫外光源を準備する工程と、b)前記ランプを動作
させ、微生物を前記ランプから放射される紫外光と二酸
化チタンとに約0.25インチから約4.0インチの露
出距離において約0.3秒から約60秒の範囲の露出時
間の間露呈させる工程とからなり、 前記紫外光の波長範囲が約175r+n+から約450
nmであり、その相対エネルギが1mにおいて1.3μ
W 7cm2/nmに等しいかこれより大きい値から2
50 μW 7cm2/nmに等しいかこれより小さい
値まての範囲内にあるようにした微生物を紫外光に露呈
する滅菌方法。
(11)前記微生物が前記紫外光と二酸化チタンに通常
大気条件下で露呈される(10)項の方ィ去。
大気条件下で露呈される(10)項の方ィ去。
(12)チタンをドープされたオゾンフリー石英を光源
と微生物の間に作用関係に配置することを含む(10)
項の方法。
と微生物の間に作用関係に配置することを含む(10)
項の方法。
(13)a)ガス状の二酸化チタンと約175nmから
約45Qnmの範囲の波長の紫外光を放射する水銀/ガ
リウムメタルハライド紫外線ランプと、b)前記ランプ
を動作させる電力を供給する手段と、 c)滅菌されるべき物体を前記ランプの近くに支持しそ
の物体の表面を前記ランプから放射される紫外光とガス
状二酸化チタンに露呈させる手段とからなる紫外線滅菌
装置。
約45Qnmの範囲の波長の紫外光を放射する水銀/ガ
リウムメタルハライド紫外線ランプと、b)前記ランプ
を動作させる電力を供給する手段と、 c)滅菌されるべき物体を前記ランプの近くに支持しそ
の物体の表面を前記ランプから放射される紫外光とガス
状二酸化チタンに露呈させる手段とからなる紫外線滅菌
装置。
(14)前記ランプと支持手段との間に作用関係に配置
されたチタンをドープされたオゾンフリー石英物体をさ
らに含む(13)項の装置。
されたチタンをドープされたオゾンフリー石英物体をさ
らに含む(13)項の装置。
(15)前記ランプと支持手段を包囲する手段をさらに
含む(13)項の装置。
含む(13)項の装置。
(16)a)水銀/ガリウムメタルハライド紫外光(原
を設ける工程と、 b)滅菌されるべき物体およびその表面を前記光源の近
傍に置く工程と、 C)前記光源を動作させ高エネルギ紫外線と金属酸化物
とを放出させる工程と、 d)前記物体表面を前記紫外線および前記金属酸化物に
露呈させ前記表面上で動的プロセスを行なわせ、前記表
面の固有性を変えることなく前記表面上の臨界表面張力
を増加させ、汚染層を前記表面から積極的に除去し、前
記表面上の汚染物質のシールディングないしスクリーニ
ングを除き、微生物の微小燃焼とともに前記表面の完全
滅菌を行なわせる工程と、 からなる物体表面の臨界表面エネルギを増加させる方法
。
を設ける工程と、 b)滅菌されるべき物体およびその表面を前記光源の近
傍に置く工程と、 C)前記光源を動作させ高エネルギ紫外線と金属酸化物
とを放出させる工程と、 d)前記物体表面を前記紫外線および前記金属酸化物に
露呈させ前記表面上で動的プロセスを行なわせ、前記表
面の固有性を変えることなく前記表面上の臨界表面張力
を増加させ、汚染層を前記表面から積極的に除去し、前
記表面上の汚染物質のシールディングないしスクリーニ
ングを除き、微生物の微小燃焼とともに前記表面の完全
滅菌を行なわせる工程と、 からなる物体表面の臨界表面エネルギを増加させる方法
。
(17)前記金属酸化物が酸化チタンである(16)項
の方法。
の方法。
(18)前記表面を露呈させる工程が標準大気条件下で
行なわれる(16)項の方法。
行なわれる(16)項の方法。
(19)チタンをドープされたオゾンフリー石英を前記
光源と前記物体との間に作用関係に配置することを含む
(16項)の方法。
光源と前記物体との間に作用関係に配置することを含む
(16項)の方法。
第1図は本発明による物質表面の滅菌および浄化のエネ
ルギ/波長関係を示すグラフ、第2A図は予め滅菌され
た試料の接触角測定値のジスマンプロット、 第2B図、第2C図、第2D図、第2E図、第2F図は
それぞれ本発明方法および他の種々の方法によって処理
された試料の接触角測定値のジスマンプロット、 第3図は本発明装置の一実施例の一部を省略した側面図
、 第4図は第3図の装置の端面図、 7)’、 5図は第3図、第4図の装置に含まれる電気
回路図である。 10・・・ハウジング、 24・・・ケート機構、 28・・・シャッタ部材、 36.38.40・・・スイッチ、 48.50・・・紫外線ランプ、 56・・・管、 58・・・ロッド、62・ ・ ・
トレー、 64・・ ・ピン、66.70・・・ファ
ン、 80.82.84.86・・・コンデンサ。 特許出願人 ロパート イー ダスイーilc、、5゜
ルギ/波長関係を示すグラフ、第2A図は予め滅菌され
た試料の接触角測定値のジスマンプロット、 第2B図、第2C図、第2D図、第2E図、第2F図は
それぞれ本発明方法および他の種々の方法によって処理
された試料の接触角測定値のジスマンプロット、 第3図は本発明装置の一実施例の一部を省略した側面図
、 第4図は第3図の装置の端面図、 7)’、 5図は第3図、第4図の装置に含まれる電気
回路図である。 10・・・ハウジング、 24・・・ケート機構、 28・・・シャッタ部材、 36.38.40・・・スイッチ、 48.50・・・紫外線ランプ、 56・・・管、 58・・・ロッド、62・ ・ ・
トレー、 64・・ ・ピン、66.70・・・ファ
ン、 80.82.84.86・・・コンデンサ。 特許出願人 ロパート イー ダスイーilc、、5゜
Claims (2)
- (1)a)水銀/ガリウムメタルハライド紫外光源を設
ける工程と、 b)滅菌されるべき物体およびその表面を前記光源の近
傍に置く工程と、 c)前記光源を動作させ高エネルギ紫外線と金属酸化物
とを放出させる工程と、 d)前記物体表面を前記紫外線および前記金属酸化物に
露呈させ前記表面上で動的滅菌作用を行なわせ、前記表
面の固有性を変えることなく前記表面上の臨界表面張力
を変化させ、生物汚染層を前記表面から積極的に除去し
、前記表面上の微生物のシールディングないしスクリー
ニングを除き、微生物の微小燃焼とともに前記表面の完
全滅菌を行なわせる工程と、 からなる滅菌方法。 - (2)a)ガス状の二酸化チタンと約175nmから約
450nmの範囲の波長の紫外線を放射する水銀/ガリ
ウムメタルハライド紫外線ランプと、 b)前記ランプを動作させる電力を供給する手段と、 c)滅菌されるべき物体を前記ランプの近くに支持し、
その物体の表面を前記ランプから放射される紫外線とガ
ス状二酸化チタンに露呈させる手段と、 からなる滅菌装置。
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US11250487A | 1987-10-22 | 1987-10-22 | |
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