CN104456455B - 一种灯装置、基板清洁设备及其工作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种灯装置、基板清洁设备及其工作方法,所述灯装置包括多个远紫外线灯和多个连接结构,所述连接结构位于相邻的两个所述远紫外线灯之间,一个所述远紫外线灯上设置有第一凹槽,相邻的另一个所述远紫外线灯上设置有第二凹槽,所述连接结构的一端位于所述第一凹槽内,所述连接结构的另一端位于所述第二凹槽内,从而避免了划伤玻璃基板,提高了显示面板的良率和有机物去除能力。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种灯装置、基板清洁设备及其工作方法。
背景技术
在显示面板的清洁工艺中,远紫外线设备用于去除玻璃基板表面存在的有机物。图1为现有技术中基板清洁设备的结构示意图,图2为图1所示基板清洁设备的A部分结构放大图,图3为图1所示灯装置的结构示意图。如图1-3所示,所述基板清洁设备包括第一固定端101、第二固定端102以及灯装置,所述灯装置的一端与所述第一固定端101连接,所述灯装置的另一端与所述第二固定端102连接。所述灯装置包括多个远紫外线灯103和多个连接结构104,所述连接结构104位于相邻的两个所述远紫外线灯103之间,用于承载所述远紫外线灯103。所述连接结构104通过固定件(图中未示出)与位于所述远紫外线灯103的上方的其它部件连接,从而实现承载所述远紫外线灯103的功能。所述远紫外线灯103的下方设置有玻璃基板105,所述玻璃基板105位于多个承重轮106上。
远紫外线单元处于清洁工艺的后半部分:红外单元之后,冷却单元之前。所述红外单元通过高温去除所述玻璃基板105表面残留的水气,所述玻璃基板105通过所述红外单元之后表面温度会达到100℃以上。由于所述连接结构104暴露在所述远紫外线灯103的表面,因此高温会导致所述连接结构104与所述玻璃基板105之间的距离减小,使得所述连接结构104接触到所述玻璃基板105的表面,从而划伤所述玻璃基板105,影响显示面板的良率。
发明内容
为解决上述问题,本发明提供一种灯装置、基板清洁设备及其工作方法,用于解决现有技术中连接结构划伤玻璃基板,影响显示面板的良率的问题。
为此,本发明提供一种灯装置,包括多个远紫外线灯和多个连接结构,所述连接结构位于相邻的两个所述远紫外线灯之间,一个所述远紫外线灯上设置有第一凹槽,相邻的另一个所述远紫外线灯上设置有第二凹槽,所述连接结构的一端位于所述第一凹槽内,所述连接结构的另一端位于所述第二凹槽内。
可选的,所述第一凹槽和所述第二凹槽相对设置。
可选的,所述第一凹槽设置在一个所述远紫外线灯的底部,所述第二凹槽设置在另一个所述远紫外线灯的底部。
可选的,所述第一凹槽设置在一个所述远紫外线灯的侧面,所述第二凹槽设置在另一个所述远紫外线灯的侧面。
本发明还提供一种基板清洁设备,包括第一固定端、第二固定端以及上述任一灯装置,所述灯装置的一端与所述第一固定端连接,所述灯装置的另一端与所述第二固定端连接,所述远紫外线灯的下方设置有玻璃基板,所述远紫外线灯用于对所述玻璃基板进行紫外线照射。
可选的,还包括传感器,所述传感器设置在所述远紫外线灯上,所述传感器用于测量所述远紫外线灯与所述玻璃基板的距离。
可选的,所述传感器的数量为多个。
可选的,所述传感器的数量为两个,一个所述传感器靠近所述第一固定端,另一所述传感器靠近所述第二固定端。
可选的,还包括第一调节滑块、第一电动机、第二调节滑块、第二电动机和控制器,所述第一调节滑块与所述第一固定端连接,所述第一电动机与所述第一调节滑块连接,所述第二调节滑块与所述第二固定端连接,所述第二电动机与所述第二调节滑块连接;
所述传感器还用于将测量的距离传输至所述控制器;
所述控制器用于将接收的距离与预先设定的标准距离进行比较,通过比较的结果控制所述第一电动机和所述第二电动机的动作;
所述第一电动机用于在所述控制器的控制下通过所述第一调节滑块调节所述距离;
所述第二电动机用于在所述控制器的控制下通过所述第二调节滑块调节所述距离。
可选的,所述测量的距离为第一间隙值,所述预先设定的标准距离为第二间隙值;
所述控制器用于当所述第一间隙值大于所述第二间隙值时控制所述第一电动机通过所述第一调节滑块将所述第一固定端抬高,并且控制所述第二电动机通过所述第二调节滑块将所述第二固定端抬高;或者
所述控制器用于当所述第一间隙值小于所述第二间隙值时控制所述第一电动机通过所述第一调节滑块将所述第一固定端降低,并且控制所述第二电动机通过所述第二调节滑块将所述第二固定端降低。
可选的,所述第一调节滑块包括第一上楔形滑块和第一下楔形滑块,所述第一上楔形滑块位于所述第一下楔形滑块之上,所述第一上楔形滑块的楔形面和所述第一下楔形滑块的楔形面滑动接触,所述第一上楔形滑块与所述第一固定端的下表面连接,所述第一下楔形滑块的外侧与所述第一电动机连接;
所述第二调节滑块包括第二上楔形滑块和第二下楔形滑块,所述第二上楔形滑块位于所述第二下楔形滑块之上,所述第二上楔形滑块的楔形面和所述第二下楔形滑块的楔形面滑动接触,所述第二上楔形滑块与所述第二固定端的下表面连接,所述第二下楔形滑块的外侧与所述第二电动机连接;
所述第一下楔形滑块用于在所述第一电动机的作用下前进,以带动所述第一上楔形滑块向上运动;
所述第二下楔形滑块用于在所述第二电动机的作用下前进,以带动所述第二上楔形滑块向上运动;或者
所述第一下楔形滑块用于在所述第一电动机的作用下后退,以带动所述第一上楔形滑块向下运动;
所述第二下楔形滑块用于在所述第二电动机的作用下后退,以带动所述第二上楔形滑块向下运动。
本发明提供一种基板清洁设备的工作方法,所述基板清洁设备包括第一固定端、第二固定端以及上述任一灯装置,所述灯装置的一端与所述第一固定端连接,所述灯装置的另一端与所述第二固定端连接;
所述工作方法包括:
将玻璃基板设置在所述远紫外线灯的下方;
所述远紫外线灯对所述玻璃基板进行紫外线照射。
可选的,所述基板清洁设备还包括第一调节滑块、第一电动机、第二调节滑块、第二电动机和控制器,所述第一调节滑块与所述第一固定端连接,所述第一电动机与所述第一调节滑块连接,所述第二调节滑块与所述第二固定端连接,所述第二电动机与所述第二调节滑块连接;
所述工作方法还包括:
所述传感器测量所述远紫外线灯与所述玻璃基板的距离,并将测量的距离传输至所述控制器;
所述控制器将接收的距离与预先设定的标准距离进行比较,通过比较的结果控制所述第一电动机和所述第二电动机的动作;
所述第一电动机在所述控制器的控制下通过所述第一调节滑块调节所述距离,所述第二电动机在所述控制器的控制下通过所述第二调节滑块调节所述距离。
可选的,所述测量的距离为第一间隙值,所述预先设定的标准距离为第二间隙值;
所述控制器将接收的距离与预先设定的标准距离进行比较,通过比较的结果控制所述第一电动机和所述第二电动机的动作,所述第一电动机在所述控制器的控制下通过所述第一调节滑块调节所述距离,所述第二电动机在所述控制器的控制下通过所述第二调节滑块调节所述距离的步骤包括:
当所述第一间隙值大于所述第二间隙值时,所述控制器控制所述第一电动机通过所述第一调节滑块将所述第一固定端抬高,并且控制所述第二电动机通过所述第二调节滑块将所述第二固定端抬高;或者
当所述第一间隙值小于所述第二间隙值时,所述控制器控制所述第一电动机通过所述第一调节滑块将所述第一固定端降低,并且控制所述第二电动机通过所述第二调节滑块将所述第二固定端降低。
可选的,所述第一调节滑块包括第一上楔形滑块和第一下楔形滑块,所述第一上楔形滑块位于所述第一下楔形滑块之上,所述第一上楔形滑块的楔形面和所述第一下楔形滑块的楔形面滑动接触,所述第一上楔形滑块与所述第一固定端的下表面连接,所述第一下楔形滑块的外侧与所述第一电动机连接;
所述第二调节滑块包括第二上楔形滑块和第二下楔形滑块,所述第二上楔形滑块位于所述第二下楔形滑块之上,所述第二上楔形滑块的楔形面和所述第二下楔形滑块的楔形面滑动接触,所述第二上楔形滑块与所述第二固定端的下表面连接,所述第二下楔形滑块的外侧与所述第二电动机连接;
所述第一电动机在所述控制器的控制下通过所述第一调节滑块调节所述距离,所述第二电动机在所述控制器的控制下通过所述第二调节滑块调节所述距离的步骤包括:
所述第一下楔形滑块在所述第一电动机的作用下前进,以带动所述第一上楔形滑块向上运动;
所述第二下楔形滑块在所述第二电动机的作用下前进,以带动所述第二上楔形滑块向上运动;或者
所述第一下楔形滑块在所述第一电动机的作用下后退,以带动所述第一上楔形滑块向下运动;
所述第二下楔形滑块在所述第二电动机的作用下后退,以带动所述第二上楔形滑块向下运动。
本发明具有下述有益效果:
本发明提供的灯装置、基板清洁设备及其工作方法中,所述灯装置包括多个远紫外线灯和多个连接结构,所述连接结构位于相邻的两个所述远紫外线灯之间,一个所述远紫外线灯上设置有第一凹槽,相邻的另一个所述远紫外线灯上设置有第二凹槽,所述连接结构的一端位于所述第一凹槽内,所述连接结构的另一端位于所述第二凹槽内,从而避免了划伤玻璃基板,提高了显示面板的良率和有机物去除能力。
附图说明
图1为现有技术中基板清洁设备的结构示意图;
图2为图1所示基板清洁设备的A部分结构放大图;
图3为图1所示灯装置的结构示意图;
图4为本发明实施例一提供的一种灯装置的结构示意图;
图5为本发明实施例二提供的一种基板清洁设备的结构示意图;
图6为图5所示基板清洁设备的B部分结构放大图;
图7为本发明实施例三提供的一种基板清洁设备的工作方法的流程图。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图对本发明提供的灯装置、基板清洁设备及其工作方法进行详细描述。
实施例一
图4为本发明实施例一提供的一种灯装置的结构示意图。如图4所示,所述灯装置包括多个远紫外线灯103和多个连接结构104,所述连接结构104位于相邻的两个所述远紫外线灯103之间。一个所述远紫外线灯103上设置有第一凹槽107,相邻的另一个所述远紫外线灯103上设置有第二凹槽108。可选的,所述远紫外线灯103与设置在其上的凹槽是一体成型的。也就是说,在所述远紫外线灯103形成时凹槽已经形成。所述连接结构104的一端位于所述第一凹槽107内,所述连接结构104的另一端位于所述第二凹槽108内。所述连接结构104设置在所述第一凹槽107和所述第二凹槽108内,从而避免了划伤玻璃基板,提高了显示面板的良率和有机物去除能力。
本实施例中,所述第一凹槽107和所述第二凹槽108相对设置。所述第一凹槽107设置在一个所述远紫外线灯103的底部,所述第二凹槽108设置在另一个所述远紫外线灯103的底部。可选的,所述第一凹槽107设置在一个所述远紫外线灯103的侧面,所述第二凹槽108设置在另一个所述远紫外线灯103的侧面。相对设置的所述第一凹槽107和所述第二凹槽108位于所述远紫外线灯103的底部或侧面使得所述灯装置结构简单,成本低廉。
本实施例提供的灯装置中,所述灯装置包括多个远紫外线灯和多个连接结构,所述连接结构位于相邻的两个所述远紫外线灯之间,一个所述远紫外线灯上设置有第一凹槽,相邻的另一个所述远紫外线灯上设置有第二凹槽,所述连接结构的一端位于所述第一凹槽内,所述连接结构的另一端位于所述第二凹槽内,从而避免了划伤玻璃基板,提高了显示面板的良率和有机物去除能力。
实施例二
图5为本发明实施例二提供的一种基板清洁设备的结构示意图,图6为图5所示基板清洁设备的B部分结构放大图。如图5-6所示,所述基板清洁设备包括第一固定端101、第二固定端102以及灯装置。所述灯装置的一端与所述第一固定端101连接,所述灯装置的另一端与所述第二固定端102连接。参见图4,所述灯装置包括多个远紫外线灯103和多个连接结构104,所述连接结构104位于相邻的两个所述远紫外线灯103之间。一个所述远紫外线灯103上设置有第一凹槽107,相邻的另一个所述远紫外线灯103上设置有第二凹槽108。所述连接结构104的一端位于所述第一凹槽107内,所述连接结构104的另一端位于所述第二凹槽108内,所述连接结构104设置在所述第一凹槽107和所述第二凹槽108内。所述远紫外线灯103的下方设置有多个承重轮106,所述承重轮106用于承载玻璃基板105。所述远紫外线灯103用于对所述玻璃基板进行紫外线照射,从而实现去除有机物的功能。由于所述连接结构104设置在所述第一凹槽107和所述第二凹槽108内,从而避免了划伤玻璃基板,提高了显示面板的良率和有机物去除能力。
本实施例中,所述基板清洁设备还包括传感器109,所述传感器109设置在所述远紫外线灯103上。可选的,所述传感器109通过双面胶贴附在所述远紫外线灯103的一侧,从而避免影响所述远紫外线灯103照射下方的玻璃基板。优选的,所述传感器109的数量为多个。更优选的,所述传感器109的数量为两个,一个所述传感器109靠近所述第一固定端101,另一所述传感器109靠近所述第二固定端102。所述传感器109用于测量所述远紫外线灯103与所述玻璃基板105的距离。通过所述传感器109,所述基板清洁设备可以自动监控所述远紫外线灯103与所述玻璃基板105的距离,从而保证了所述基板清洁设备的运行安全,增强了有机物去除能力。
本实施例中,所述基板清洁设备还包括第一调节滑块201、第一电动机203、第二调节滑块202、第二电动机204和控制器(图中未示出)。所述第一调节滑块201与所述第一固定端101连接,所述第一电动机203与所述第一调节滑块201连接。所述第二调节滑块202与所述第二固定端102连接,所述第二电动机204与所述第二调节滑块202连接。所述传感器109还用于将测量的距离传输至所述控制器。所述控制器用于将接收的距离与预先设定的标准距离进行比较,通过比较的结果控制所述第一电动机203和所述第二电动机204的动作。所述第一电动机203用于在所述控制器的控制下通过所述第一调节滑块201调节所述距离,所述第二电动机204用于在所述控制器的控制下通过所述第二调节滑块202调节所述距离。
在实际应用中,所述测量的距离为第一间隙值,所述预先设定的标准距离为第二间隙值。当所述第一间隙值大于第二间隙值时,所述控制器控制所述第一电动机203通过所述第一调节滑块201将所述第一固定端101抬高,同时所述控制器控制所述第二电动机204通过所述第二调节滑块202将所述第二固定端102抬高。当所述第一间隙值小于第二间隙值时,所述控制器控制所述第一电动机203通过所述第一调节滑块201将所述第一固定端101降低,同时所述控制器控制所述第二电动机204通过所述第二调节滑块202将所述第二固定端102降低。
本实施例中,所述第一调节滑块201包括第一上楔形滑块205和第一下楔形滑块206,所述第一上楔形滑块205位于所述第一下楔形滑块206之上,所述第一上楔形滑块205的楔形面和所述第一下楔形滑块206的楔形面滑动接触,所述第一上楔形滑块205与所述第一固定端101的下表面连接,所述第一下楔形滑块206的外侧与所述第一电动机203连接。所述第二调节滑块202包括第二上楔形滑块207和第二下楔形滑块208,所述第二上楔形滑块207位于所述第二下楔形滑块208之上,所述第二上楔形滑块207的楔形面和所述第二下楔形滑块208的楔形面滑动接触,所述第二上楔形滑块207与所述第二固定端102的下表面连接,所述第二下楔形滑块208的外侧与所述第二电动机204连接。
具体来说,所述第一下楔形滑块206在所述第一电动机203的作用下前进,以带动所述第一上楔形滑块205向上运动,从而调高所述第一固定端101的高度。所述第一下楔形滑块206在所述第一电动机203的作用下后退,以带动所述第一上楔形滑块205向下运动,从而调低所述第一固定端101的高度。所述第二下楔形滑块208在所述第二电动机204的作用下前进,以带动所述第二上楔形滑块207向上运动,从而调高所述第二固定端102的高度。所述第二下楔形滑块208在所述第二电动机204的作用下后退,以带动所述第二上楔形滑块207向下运动,从而调低所述第二固定端102的高度。通过调节所述第一固定端101和所述第二固定端102的高度,所述基板清洁设备实现了对所述第一间隙值的自动调节和监控。
本发明提供的基板清洁设备中,所述灯装置包括多个远紫外线灯和多个连接结构,所述连接结构位于相邻的两个所述远紫外线灯之间,一个所述远紫外线灯上设置有第一凹槽,相邻的另一个所述远紫外线灯上设置有第二凹槽,所述连接结构的一端位于所述第一凹槽内,所述连接结构的另一端位于所述第二凹槽内,从而避免了划伤玻璃基板,提高了显示面板的良率和有机物去除能力。
实施例三
图7为本发明实施例三提供的一种基板清洁设备的工作方法的流程图。如图7所示,所述工作方法包括:
步骤7001、将玻璃基板设置在所述远紫外线灯的下方。
本实施例中,所述基板清洁设备包括第一固定端、第二固定端以及灯装置。所述灯装置的一端与所述第一固定端连接,所述灯装置的另一端与所述第二固定端连接。所述灯装置包括多个远紫外线灯和多个连接结构,所述连接结构位于相邻的两个所述远紫外线灯之间。一个所述远紫外线灯上设置有第一凹槽,相邻的另一个所述远紫外线灯上设置有第二凹槽。所述连接结构的一端位于所述第一凹槽内,所述连接结构的另一端位于所述第二凹槽内,所述连接结构设置在所述第一凹槽和所述第二凹槽内。可选的,所述远紫外线灯103的下方设置有多个承重轮106,所述承重轮106承载玻璃基板105。
步骤7002、所述远紫外线灯对所述玻璃基板进行紫外线照射。
本实施例中,所述远紫外线灯103对所述玻璃基板进行紫外线照射,从而实现去除有机物的功能。同时,由于所述连接结构设置在所述第一凹槽和所述第二凹槽内,从而避免了划伤玻璃基板,提高了显示面板的良率和有机物去除能力。
在实际应用中,所述基板清洁设备还包括第一调节滑块、第一电动机、第二调节滑块、第二电动机和控制器。所述第一调节滑块与所述第一固定端连接,所述第一电动机与所述第一调节滑块连接。所述第二调节滑块与所述第二固定端连接,所述第二电动机与所述第二调节滑块连接。
参见图5-6,所述传感器109测量所述远紫外线灯103与所述玻璃基板105的距离,并将测量的距离传输至所述控制器。所述控制器将接收的距离与预先设定的标准距离进行比较,通过比较的结果控制所述第一电动机203和所述第二电动机204的动作。所述第一电动机203用于在所述控制器的控制下通过所述第一调节滑块201调节所述距离,所述第二电动机204用于在所述控制器的控制下通过所述第二调节滑块202调节所述距离。
在实际应用中,所述测量的距离为第一间隙值,所述预先设定的标准距离为第二间隙值。当所述第一间隙值大于第二间隙值时,所述控制器控制所述第一电动机203通过所述第一调节滑块201将所述第一固定端101抬高,同时所述控制器控制所述第二电动机204通过所述第二调节滑块202将所述第二固定端102抬高。当所述第一间隙值小于第二间隙值时,所述控制器控制所述第一电动机203通过所述第一调节滑块201将所述第一固定端101降低,同时所述控制器控制所述第二电动机204通过所述第二调节滑块202将所述第二固定端102降低。
本实施例中,所述第一调节滑块201包括第一上楔形滑块205和第一下楔形滑块206,所述第一上楔形滑块205位于所述第一下楔形滑块206之上,所述第一上楔形滑块205的楔形面和所述第一下楔形滑块206的楔形面滑动接触,所述第一上楔形滑块205与所述第一固定端101的下表面连接,所述第一下楔形滑块206的外侧与所述第一电动机203连接。所述第二调节滑块202包括第二上楔形滑块207和第二下楔形滑块208,所述第二上楔形滑块207位于所述第二下楔形滑块208之上,所述第二上楔形滑块207的楔形面和所述第二下楔形滑块208的楔形面滑动接触,所述第二上楔形滑块207与所述第二固定端102的下表面连接,所述第二下楔形滑块208的外侧与所述第二电动机204连接。
具体来说,所述第一下楔形滑块206在所述第一电动机203的作用下前进,以带动所述第一上楔形滑块205向上运动,从而调高所述第一固定端101的高度。所述第一下楔形滑块206在所述第一电动机203的作用下后退,以带动所述第一上楔形滑块205向下运动,从而调低所述第一固定端101的高度。所述第二下楔形滑块208在所述第二电动机204的作用下前进,以带动所述第二上楔形滑块207向上运动,从而调高所述第二固定端102的高度。所述第二下楔形滑块208在所述第二电动机204的作用下后退,以带动所述第二上楔形滑块207向下运动,从而调低所述第二固定端102的高度。通过调节所述第一固定端101和所述第二固定端102的高度,所述基板清洁设备实现了对所述第一间隙值的自动调节和监控。
本发明提供的基板清洁设备的工作方法中,所述灯装置包括多个远紫外线灯和多个连接结构,所述连接结构位于相邻的两个所述远紫外线灯之间,一个所述远紫外线灯上设置有第一凹槽,相邻的另一个所述远紫外线灯上设置有第二凹槽,所述连接结构的一端位于所述第一凹槽内,所述连接结构的另一端位于所述第二凹槽内,从而避免了划伤玻璃基板,提高了显示面板的良率和有机物去除能力。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (17)
1.一种基板清洁设备,其特征在于,包括第一固定端、第二固定端以及灯装置,所述灯装置的一端与所述第一固定端连接,所述灯装置的另一端与所述第二固定端连接;
所述灯装置包括多个远紫外线灯和多个连接结构,所述连接结构位于相邻的两个所述远紫外线灯之间,一个所述远紫外线灯上设置有第一凹槽,相邻的另一个所述远紫外线灯上设置有第二凹槽,所述连接结构的一端位于所述第一凹槽内,所述连接结构的另一端位于所述第二凹槽内;
所述远紫外线灯的下方设置有玻璃基板,所述远紫外线灯用于对所述玻璃基板进行紫外线照射。
2.根据权利要求1所述的基板清洁设备,其特征在于,所述第一凹槽和所述第二凹槽相对设置。
3.根据权利要求2所述的基板清洁设备,其特征在于,所述第一凹槽设置在一个所述远紫外线灯的底部,所述第二凹槽设置在另一个所述远紫外线灯的底部。
4.根据权利要求2所述的基板清洁设备,其特征在于,所述第一凹槽设置在一个所述远紫外线灯的侧面,所述第二凹槽设置在另一个所述远紫外线灯的侧面。
5.根据权利要求1至4任一所述的基板清洁设备,其特征在于,还包括传感器,所述传感器设置在所述远紫外线灯上,所述传感器用于测量所述远紫外线灯与所述玻璃基板的距离。
6.根据权利要求5所述的基板清洁设备,其特征在于,所述传感器的数量为多个。
7.根据权利要求6所述的基板清洁设备,其特征在于,所述传感器的数量为两个,一个所述传感器靠近所述第一固定端,另一所述传感器靠近所述第二固定端。
8.根据权利要求5所述的基板清洁设备,其特征在于,还包括第一调节滑块、第一电动机、第二调节滑块、第二电动机和控制器,所述第一调节滑块与所述第一固定端连接,所述第一电动机与所述第一调节滑块连接,所述第二调节滑块与所述第二固定端连接,所述第二电动机与所述第二调节滑块连接;
所述传感器还用于将测量的距离传输至所述控制器;
所述控制器用于将接收的距离与预先设定的标准距离进行比较,通过比较的结果控制所述第一电动机和所述第二电动机的动作;
所述第一电动机用于在所述控制器的控制下通过所述第一调节滑块调节所述距离;
所述第二电动机用于在所述控制器的控制下通过所述第二调节滑块调节所述距离。
9.根据权利要求8所述的基板清洁设备,其特征在于,所述测量的距离为第一间隙值,所述预先设定的标准距离为第二间隙值;
所述控制器用于当所述第一间隙值大于所述第二间隙值时控制所述第一电动机通过所述第一调节滑块将所述第一固定端抬高,并且控制所述第二电动机通过所述第二调节滑块将所述第二固定端抬高;或者
所述控制器用于当所述第一间隙值小于所述第二间隙值时控制所述第一电动机通过所述第一调节滑块将所述第一固定端降低,并且控制所述第二电动机通过所述第二调节滑块将所述第二固定端降低。
10.根据权利要求8所述的基板清洁设备,其特征在于,所述第一调节滑块包括第一上楔形滑块和第一下楔形滑块,所述第一上楔形滑块位于所述第一下楔形滑块之上,所述第一上楔形滑块的楔形面和所述第一下楔形滑块的楔形面滑动接触,所述第一上楔形滑块与所述第一固定端的下表面连接,所述第一下楔形滑块的外侧与所述第一电动机连接;
所述第二调节滑块包括第二上楔形滑块和第二下楔形滑块,所述第二上楔形滑块位于所述第二下楔形滑块之上,所述第二上楔形滑块的楔形面和所述第二下楔形滑块的楔形面滑动接触,所述第二上楔形滑块与所述第二固定端的下表面连接,所述第二下楔形滑块的外侧与所述第二电动机连接;
所述第一下楔形滑块用于在所述第一电动机的作用下前进,以带动所述第一上楔形滑块向上运动;
所述第二下楔形滑块用于在所述第二电动机的作用下前进,以带动所述第二上楔形滑块向上运动;或者
所述第一下楔形滑块用于在所述第一电动机的作用下后退,以带动所述第一上楔形滑块向下运动;
所述第二下楔形滑块用于在所述第二电动机的作用下后退,以带动所述第二上楔形滑块向下运动。
11.一种基板清洁设备的工作方法,其特征在于,所述基板清洁设备包括第一固定端、第二固定端以及灯装置,所述灯装置的一端与所述第一固定端连接,所述灯装置的另一端与所述第二固定端连接,所述灯装置包括多个远紫外线灯和多个连接结构,所述连接结构位于相邻的两个所述远紫外线灯之间,一个所述远紫外线灯上设置有第一凹槽,相邻的另一个所述远紫外线灯上设置有第二凹槽,所述连接结构的一端位于所述第一凹槽内,所述连接结构的另一端位于所述第二凹槽内;
所述工作方法包括:
将玻璃基板设置在所述远紫外线灯的下方;
所述远紫外线灯对所述玻璃基板进行紫外线照射。
12.根据权利要求11所述的基板清洁设备的工作方法,其特征在于,所述第一凹槽和所述第二凹槽相对设置。
13.根据权利要求11所述的基板清洁设备的工作方法,其特征在于,所述第一凹槽设置在一个所述远紫外线灯的底部,所述第二凹槽设置在另一个所述远紫外线灯的底部。
14.根据权利要求11所述的基板清洁设备的工作方法,其特征在于,所述第一凹槽设置在一个所述远紫外线灯的侧面,所述第二凹槽设置在另一个所述远紫外线灯的侧面。
15.根据权利要求11至14任一所述的基板清洁设备的工作方法,其特征在于,所述基板清洁设备还包括传感器、第一调节滑块、第一电动机、第二调节滑块、第二电动机和控制器,所述传感器设置在所述远紫外线灯上,所述第一调节滑块与所述第一固定端连接,所述第一电动机与所述第一调节滑块连接,所述第二调节滑块与所述第二固定端连接,所述第二电动机与所述第二调节滑块连接;
所述工作方法还包括:
所述传感器测量所述远紫外线灯与所述玻璃基板的距离,并将测量的距离传输至所述控制器;
所述控制器将接收的距离与预先设定的标准距离进行比较,通过比较的结果控制所述第一电动机和所述第二电动机的动作;
所述第一电动机在所述控制器的控制下通过所述第一调节滑块调节所述距离,所述第二电动机在所述控制器的控制下通过所述第二调节滑块调节所述距离。
16.根据权利要求15所述的基板清洁设备的工作方法,其特征在于,所述测量的距离为第一间隙值,所述预先设定的标准距离为第二间隙值;
所述控制器将接收的距离与预先设定的标准距离进行比较,通过比较的结果控制所述第一电动机和所述第二电动机的动作,所述第一电动机在所述控制器的控制下通过所述第一调节滑块调节所述距离,所述第二电动机在所述控制器的控制下通过所述第二调节滑块调节所述距离的步骤包括:
当所述第一间隙值大于所述第二间隙值时,所述控制器控制所述第一电动机通过所述第一调节滑块将所述第一固定端抬高,并且控制所述第二电动机通过所述第二调节滑块将所述第二固定端抬高;或者
当所述第一间隙值小于所述第二间隙值时,所述控制器控制所述第一电动机通过所述第一调节滑块将所述第一固定端降低,并且控制所述第二电动机通过所述第二调节滑块将所述第二固定端降低。
17.根据权利要求15所述的基板清洁设备的工作方法,其特征在于,所述第一调节滑块包括第一上楔形滑块和第一下楔形滑块,所述第一上楔形滑块位于所述第一下楔形滑块之上,所述第一上楔形滑块的楔形面和所述第一下楔形滑块的楔形面滑动接触,所述第一上楔形滑块与所述第一固定端的下表面连接,所述第一下楔形滑块的外侧与所述第一电动机连接;
所述第二调节滑块包括第二上楔形滑块和第二下楔形滑块,所述第二上楔形滑块位于所述第二下楔形滑块之上,所述第二上楔形滑块的楔形面和所述第二下楔形滑块的楔形面滑动接触,所述第二上楔形滑块与所述第二固定端的下表面连接,所述第二下楔形滑块的外侧与所述第二电动机连接;
所述第一电动机在所述控制器的控制下通过所述第一调节滑块调节所述距离,所述第二电动机在所述控制器的控制下通过所述第二调节滑块调节所述距离的步骤包括:
所述第一下楔形滑块在所述第一电动机的作用下前进,以带动所述第一上楔形滑块向上运动;
所述第二下楔形滑块在所述第二电动机的作用下前进,以带动所述第二上楔形滑块向上运动;或者
所述第一下楔形滑块在所述第一电动机的作用下后退,以带动所述第一上楔形滑块向下运动;
所述第二下楔形滑块在所述第二电动机的作用下后退,以带动所述第二上楔形滑块向下运动。
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