KR20080099143A

KR20080099143A - 광도파로의 제조 방법

Info

Publication number: KR20080099143A
Application number: KR1020080040997A
Authority: KR
Inventors: 유스케 시미즈
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2007-05-08
Filing date: 2008-05-01
Publication date: 2008-11-12
Also published as: JP2008281654A; KR101430266B1; JP4875537B2; US20080277809A1; EP1990664A3; EP1990664A2; CN101303436A; CN101303436B

Abstract

본 발명은 버어를 발생시키지 않고 제조할 때의 공정수의 삭감 및 제조 비용의 절감을 도모할 수 있는 광도파로의 제조 방법을 제공하는 것으로,

오버클래드층(4)의 형성이 오버 클래드층(4)의 표면 형상에 대응하는 틀면(11a)을 갖는 오목부(11)와 상기 오목부(11)에 연통하는 관통 구멍(12)이 형성되어 있는 성형틀(10)을 준비하고, 그 성형틀(10)의 상기 오목부(11a)의 개구면을 언더클래드층(2)의 표면에 밀착시키고, 그 상태에서 상기 오목부(11)의 틀면(11a)과 언더클래드층(2)의 표면으로 둘러싸인 성형 공간에, 오버클래드층(4)의 형성 재료인 액상 수지를 상기 관통 구멍으로부터 주입하는 것을 특징으로 한다.

Description

광도파로의 제조 방법{METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL WAVEGUIDE}

본 발명은 광통신, 광정보 처리, 그 밖의 일반 광학에서 널리 사용되는 광도파로의 제조 방법에 관한 것이다.

광도파로는 광도파로 디바이스, 광집적회로, 광배선 기판 등의 광디바이스에 편입되어 있고 광통신, 광정보 처리, 그 밖의 일반 광학 분야에서 널리 사용되고 있다. 광도파로는 통상, 광의 통로인 코어가 소정 패턴으로 형성되고, 상기 코어를 덮도록 언더클래드층과 오버클래드층이 형성되어 있다(예를 들어, 일본 공개특허공보 2005-165138호 참조).

이들 코어, 언더클래드층 및 오버클래드층을 소정 패턴으로 형성하는 경우, 통상, 각각의 형성 재료로서 감광성 수지가 사용되고, 그 형성시에 각각의 감광성 수지의 도포, 노광, 현상 및 건조의 각 공정이 실시된다.

그러나, 상기 코어, 언더클래드층 및 오버클래드층을 각각 형성할 때마다 상기 도포, 노광, 현상 및 건조의 각 공정을 실시하면, 많은 공정수를 필요로 하고, 제조 비용도 높아진다. 그 중에서도 노광 및 현상의 각 공정은 더욱 세밀한 많은 공정으로 이루어져 있다. 이 점에서, 더욱 개선의 여지가 있다.

그래서, 공정수 삭감을 위해 예를 들어 오버클래드층을, 다음과 같이 틀 성형하는 방법이 통상 생각된다. 즉, 도 2의 (a)에 도시한 바와 같이 우선 기판(1) 상에, 언더클래드층(2) 및 코어(3)를 차례로 형성한다. 그리고, 오버클래드층(4)[도 2(b) 참조]의 표면 형상에 대응하는 틀면(21a)을 갖는 오목부(21)가 형성되어 있는 성형틀(20)을 준비하고, 또한 오버클래드층(4)의 형성 재료로서 열경화성 수지 시트(40)를 준비한다. 다음에, 그 열경화성 수지 시트(4)를, 상기 언더클래드층(2) 및 코어(3)의 상방에 위치 결정한다. 그리고, 도 2의 (b)에 도시한 바와 같이, 언더클래드층(2) 상에서 상기 열경화성 수지 시트(40)를 상기 성형틀(20)에서 프레스하고, 그 상태에서 가열하여 경화시킴으로써 오버클래드층(4)을 형성한다. 그 후, 틀에서 분리한다. 이 방법에 의해 오버클래드층(4)을 형성하면 상기 도포, 노광, 현상 등의 공정이 불필요해지므로, 오버클래드층(4)의 형성에 필요한 공정수 및 비용을 감소시킬 수 있다.

그러나, 열경화성 수지 시트(40)를 성형틀(20)에서 프레스하는 상기 방법에서는 언더클래드층(2)과 성형틀(20) 사이에 열경화성 수지 시트(40)를 끼우기 위 해, 형성된 오버클래드층(4)의 단 가장자리에 버어(41)가 발생하기 쉽다. 이 때문에, 그 버어(41)를 제거하는 공정이 필요해지고, 공정수 삭감 및 비용 절감이 불충분해지고 있다. 또한, 코어(3)의 선단부에 대응하는 오버클래드층(4)의 부분이, 도시한 바와 같이 렌즈 형상(곡면)(4a)으로 형성되어 있는 경우에는 그 렌즈 형상(4a) 부분의 단부에 상기 버어(burr)(41)가 존재하면, 광의 집광 등에 장해가 발생한다.

본 발명은 이와 같은 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 오버클래드층을 형성할 때 버어를 발생시키지 않고 광도파로를 제조할 때의 공정수의 삭감 및 제조 비용의 절감을 도모할 수 있는 광도파로의 제조 방법의 제공을 그 목적으로 한다.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 광도파로의 제조 방법은 언더클래드층의 표면에 코어를 패턴 형성하고, 그 코어의 표면에 오버클래드층을 피복 형성하여 광도파로를 제조하는 방법으로서, 상기 오버클래드층의 형성이, 오버클래드층의 표면 형상에 대응하는 틀면을 갖는 오목부와 상기 오목부에 연통하는 관통 구멍이 형성되어 있는 성형틀을 준비하고, 그 성형틀의 상기 오목부의 개구면을 언더클래드층의 표면에 밀착시키고, 그 상태에서 상기 오목부의 틀면과 언더클래드층의 표면으로 둘러싸인 성형 공간에, 오버클래드층의 형성 재료인 액상의 수지를 상기 관통 구멍으로부터 주입한 후, 경화시킴으로써 실시되는 구성을 취한다.

본 발명의 광도파로의 제조 방법은 오버클래드층의 형성이, 오버클래드층의 표면 형상에 대응하는 틀면을 갖는 오목부와 상기 오목부에 연통하는 관통 구멍이 형성되어 있는 성형틀을 준비하고, 그 성형틀의 상기 오목부의 개구면을 언더클래드층의 표면에 밀착시키고, 그 상태에서 상기 오목부의 틀면과 언더클래드층의 표면으로 둘러싸인 성형 공간에, 오버클래드층의 형성 재료인 액상의 수지를 상기 관통 구멍으로부터 주입한 후 경화시킴으로써 실시되므로, 오버클래드층의 형성시에 버어가 발생하지 않는다. 또한, 오버클래드층의 형성이 틀 성형이므로, 노광후의 현상 공정 등이 불필요해져, 공정수를 삭감할 수 있고 그 결과 제조 비용의 절감을 도모할 수 있다.

다음에, 본 발명의 실시 형태를 도면에 기초하여 상세하게 설명한다.

도 1의 (a)~(e)는 본 발명의 광도파로의 제조 방법의 일 실시 형태를 도시하고 있다. 상기 실시 형태에서는 기판(1)의 표면에, 언더클래드층(2)과 코어(3)와 오버클래드층(4)으로 이루어진 광도파로[도 1의 (e) 참조]를 제조할 때, 상기 오버클래드층(4)의 형성을, 액상의 수지를 형성 재료로 하고 주입용 관통 구멍(12)을 갖는 성형틀(10)을 사용하여, 주형(틀 형성)에 의해 실시한다[도 1의 (c), (d) 참조]. 이것이 본 발명의 특징이다.

즉, 상기 오버클래드층(4)의 형성 재료인 액상의 수지로서는 예를 들어, 감광성 수지, 폴리이미드 수지, 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 그리고, 상기 액상의 수지는 상기 성형틀(10)에 형성된 관통구멍(12)으로부터 형성 공간에 주입되므로, 그 점도는 바람직하게는 100~2000mPa·s의 범위 내로 설정된다.

상기 틀 성형에 사용되는 성형틀(10)에는 상기 오버클래드층(4)의 표면 형상에 대응하는 틀면(11a)을 갖는 오목부(11)가 형성되어 있고, 오버클래드층(4)을 형성할 때, 그 오목부(11)의 개구면을 언더클래드층(2)의 표면에 밀착시킴으로써, 상기 오목부(11)의 틀면(11a)과 언더클래드층(2)의 표면으로 둘러싸인 공간이 성형 공간으로 형성되도록 이루어져 있다. 또한, 상기 성형틀(10)에는 상기 액상의 수지를 상기 성형 공간에 주입하기 위한 관통 구멍(12)이, 상기 오목부(11)에 연통한 상태에서 형성되어 있다. 또한, 상기 실시형태에서는 상기 오목부(11)의 틀면(11a) 중, 코어(3)의 선단부에 대응하는 부분(11b)이 렌즈 곡면으로 형성되어 있다. 그리고, 상기 성형틀(10)의 크기는 오버클래드층(4)의 크기에 의존하고, 특별히 한정되지 않지만, 두께는 2~5㎜ 정도로 설정된다. 또한, 상기 관통 구멍(12)의 개구 형상도 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 장방형, 원형 등으로 형성되고, 그 크기도 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 개구 형상이 장방형이면 50~100㎜×100~1000㎜ 정도로 설정된다.

상기 오버클래드층(4) 형성용 액상의 수지 및 성형틀(10)을 사용하여 오버클래드층(4)을 형성할 때에는 후에 상술한 바와 같이, 상기 성형 공간에 채워진 액상의 수지를 경화시키는 것이 실시되지만, 그 경화는 예를 들어 오버클래드층(4)의 형성 재료로서 감광성 수지가 사용되는 경우에는, 상기 성형틀(10)을 통하여 자외선 등의 조사선을 노광한 후에 가열 처리가 실시되고, 폴리이미드 수지가 사용되는 경우에는 가열 처리가 실시된다. 이와 같이, 상기 액상의 수지 경화는 그 수지의 종류에 따라 처리가 다르므로, 상기 성형틀(10)로서는 감광성 수지를 노광하는 경 우에는 자외선 등의 조사선을 투과시키는 관점으로부터 예를 들어 석영제의 것이 사용되고, 폴리이미드 수지를 가열 처리하는 경우에는 예를 들어, 석영제, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 수지제, 금속제의 것이 사용된다.

그리고, 본 발명의 광도파로의 제조 방법은 상기 오버클래드층(4) 형성용 액상의 수지 및 성형틀(10)을 사용하고, 예를 들어 다음과 같이 하여 실시된다.

즉, 우선 평판 형상의 기판(1)[도 1의 (a) 참조]를 준비한다. 상기 기판(1)으로서는 특별히 한정되는 것은 아니고, 그 형성 재료로서는 예를 들어, 수지, 유리, 실리콘, 금속 등을 들 수 있고, 상기 수지로서는 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리이미드 등을 들 수 있고, 금속으로서는 예를 들어 스테인리스 등을 들 수 있다. 또한, 기판(1)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 통상 50~200㎛의 범위 내로 설정된다.

다음에, 도 1의 (a)와 같이 상기 기판(1) 표면의 소정 영역에, 언더클래드층(2)을 형성한다. 상기 언더클래드층(2)의 형성 재료로서는 감광성 수지, 폴리이미드 수지, 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 그리고, 언더클래드층(2)의 형성은 다음과 같이 하여 실시된다. 즉, 우선 상기 수지가 용매에 용해되어 있는 바니시를 기판(1) 상에 도포한다. 상기 바니시의 도포는 예를 들어 스핀코트법, 딥핑법, 캐스팅법, 인젝션법, 잉크젯법 등에 의해 실시된다. 다음에, 이를 경화시킨다. 상기 경화시에 언더클래드층(2)의 형성 재료로서 감광성 수지가 사용되는 경우에는 원하는 언더클래드층(2)의 형상에 대응하는 개구 패턴이 형성되어 있는 포토마스크를 통하여 조사선에 의해 노광한다. 상기 노광된 부분이 언더클래드층(2)이 된다. 또한, 언더클래드층(2)의 형성 재료로서 폴리이미드 수지가 사용되는 경우에는 통상 300~400℃×60~180분간의 가열 처리에 의해 경화시킨다. 언더클래드층(2)의 두께는 통상 5~50㎛의 범위 내로 설정된다. 이와 같이 하여 언더클래드층(2)을 제작한다.

다음에, 도 1의 (b)에 도시한 바와 같이, 상기 언더클래드층(2)의 표면에, 코어(3)를 형성한다. 상기 코어(3)의 형성 재료로서는 통상, 감광성 수지를 들 수 있고, 상기 언더클래드층(2) 및 후기의 오버클래드층(4)[도 1의 (e) 참조]의 형성 재료보다도 굴절률이 큰 재료가 사용된다. 상기 굴절률의 조정은 예를 들어 상기 언더클래드층(2), 코어(3), 오버클래드층(4)의 각 형성 재료의 종류의 선택이나 조성 비율을 조정하여 실시할 수 있다. 그리고, 코어(3)의 형성은 다음과 같이 하여 실시된다. 즉, 우선 상기와 동일하게, 감광성 수지가 용매에 용해되어 있는 바니시를 언더클래드층(2) 상에 도포한다. 상기 바니시의 도포는 상기와 동일하게 예를 들어 스핀코트법, 딥핑법, 캐스팅법, 인젝션법, 잉크젯법 등에 의해 실시된다. 다음에 이를 건조하여 수지층을 형성한다. 상기 건조는 50~120℃×10~30분간의 가열 처리에 의해 실시된다.

그리고, 상기 수지층을 원하는 코어(3) 패턴에 대응하는 개구 패턴이 형성되어 있는 포토마스크(도시하지 않음)를 통하여 조사선에 의해 노광한다. 상기 노광된 부분이, 미노광 부분의 용해 제거 공정을 거쳐 코어(3)가 된다. 이에 대해서 상세하게 설명하면, 상기 노광용 조사선으로서는 예를 들어 가시광, 자외선, 적외선, X선, α선, β선, γ선 등이 사용된다. 바람직하게는 자외선이 사용된다. 자 외선을 사용하면, 큰 에너지를 조사하여 큰 경화 속도를 얻을 수 있으며, 또한 조사 장치도 소형이고 저렴하고 생산 비용의 절감을 도모할 수 있기 때문이다. 자외선의 광원으로서는 예를 들어 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등 등을 들 수 있고, 자외선의 조사량은 통상 10~10000mJ/㎠, 바람직하게는 50~3000mJ/㎠이다.

상기 노광후, 광반응을 완결시키기 위해 가열 처리를 실시한다. 상기 가열 처리는 80~250℃, 바람직하게는 100~200℃에서 10초~2시간, 바람직하게는 5분~1시간의 범위 내에서 실시한다. 그 후, 현상액을 사용하여 현상을 실시함으로써, 수지층에서의 미노광 부분을 용해시켜 제거하고, 잔존한 수지층을 코어(3)의 패턴으로 형성한다. 또한, 상기 현상은 예를 들어 침지법, 스프레이법, 퍼들링법 등이 사용된다. 또한, 현상제로서는 예를 들어 유기계의 용매, 알칼리계 수용액을 함유하는 유기계의 용매 등이 사용된다. 이와 같은 현상제 및 현상 조건은 광중합성 수지 조성물의 조성에 의해 적절하게 선택된다.

그리고, 상기 코어(3)의 패턴에 형성된 잔존 수지층 중의 현상액을 가열 처리에 의해 제거한다. 상기 가열 처리는 통상, 80~120℃×10~30분간의 범위 내에서 실시된다. 이에 의해, 상기 코어(3)의 패턴 형성된 잔존 수지층을 코어(3)에 형성한다. 또한, 각 코어(3)의 두께는 통상 5~30㎛의 범위 내로 설정되고, 그 폭은 통상 5~30㎛의 범위 내로 설정된다. 또한, 각 코어(3)의 선단으로부터 출사되는 광의 발산을 방지하거나, 각 코어(3)의 선단에 입사하는 광을 집속시켜 광전송 효율을 보다 높일 수 있는 관점에서 각 코어(3)의 선단은 렌즈 형상으로 형성되는 것이 바람직하다.

본 발명은 상기 공정의 후에, 도 1의 (c), (d)에 도시한 바와 같이 하여 오버클래드층(4)을 형성(주형)하는 것이고, 이것이 큰 특징이다. 즉, 도 1의 (c)에 도시한 바와 같이 상기 성형틀(10)을 준비하고, 틀면(11a)이 형성된 오목부(11)의 개구면을 상기 언더클래드층(2)의 표면에 밀착시킨다. 그리고, 상기 오목부(11)의 틀면(11a)과 언더클래드층(2)의 표면으로 둘러싸인 성형 공간에, 오버클래드층(4) 형성용 상기 액상의 수지를, 상기 성형틀(10)에 형성된 상기 관통 구멍(12)으로부터 주입하고, 상기 성형 공간을 액상의 수지로 채운다. 다음에, 상기 액상의 수지가 감광성 수지인 경우에는 상기 성형틀(10)을 통하여 자외선 등의 조사선을 노광한 후에 가열 처리를 실시하고, 폴리이미드 수지인 경우에는 가열 처리를 실시한다. 이에 의해, 도 1의 (d)에 도시한 바와 같이 상기 액상의 수지가 경화되고 오버클래드층(4)이 형성된다. 그리고, 도 1의 (e)에 도시한 바와 같이 틀에서 분리하여 코어(3)의 선단부에 대응하는 부분이 렌즈 형상(곡면)(4a)으로 형성되어 있는 오버클래드층(4)을 얻는다. 상기 오버클래드층(4)의 두께는 통상 50~2000㎛의 범위 내로 설정된다.

이와 같이 하여 기판(1)의 표면에 언더클래드층(2)과 코어(3)와 오버클래드층(4)으로 이루어진 광도파로를 제조할 수 있다. 상기 제조에서 오버클래드층(4)을 형성할 때에는 상기 성형틀(10)의 오목부(11)의 개구면을 언더클래드층(2)의 표면에 밀착시킨 상태에서, 오버클래드층(4) 형성용 액상 수지를, 상기 오목부(11)의 틀면(11a)과 언더클래드층(2)의 표면으로 둘러싸인 성형 공간에 주입하므로, 성형틀(10)의 오목부(11)의 개구면과 언더클래드층(2)의 표면 사이에는 액상의 수지가 들어가지 않고 오버클래드층(4)의 단 가장자리에 버어가 발생하지 않는다. 또한, 오버클래드층(4)의 형성이 틀 성형이므로, 감광성 수지를 사용하여 오버클래드층(4)을 형성하는 경우에 비해, 공정수가 적고 제조 비용의 감소를 도모할 수 있다.

그리고, 상기 광도파로를 사용할 때에는 기판(1)을 언더클래드층(2)으로부터 박리하여 사용해도 좋고, 기판(1)을 박리하지 않고 광도파로와 함께 사용해도좋다.

또한, 상기 실시형태에서는 코어(3)의 선단부에 대응하는 오버클래드층(4)의 부분을 렌즈 형상(곡면)(4a)으로 형성했지만, 이에 한정되는 것은 아니고 평면 형상 등의 비렌즈 형상으로 형성해도 좋다.

다음에, 실시예에 대해서 설명한다. 단, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.

[실시예 1]

〔언더클래드층 및 오버클래드층의 형성 재료〕

비스페녹시에탄올플루오렌디글리시딜에테르(성분 A) 35중량부, 지환식 에폭시 수지인 3’,4’-에폭시시클로헥실메틸, 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트(다이셀 가가쿠사 제조, 세록사이드 2021P)(성분 B) 40중량부(3’,4’-에폭시시클로헥산)메틸3’,4’-에폭시시클로헥실카르복실레이트(다이셀 가가쿠사 제조, 세록사이드 2081)(성분 C) 25중량부, 4,4-비스〔디(β히드록시에톡시)페닐설피니오〕페닐설피드-비스-헥사플루오로안티모네이트의 50% 프로피온카보네이트 용액(광산 발생제: 성분 D) 1중량부를 혼합함으로써, 언더클래드층 및 오버클래드층의 형성 재료(점도 1000mPa·s)를 조제했다.

〔코어의 형성 재료〕

상기 성분 A: 70중량부, 1,3,3-트리스{4-〔2-(3-옥세타닐)〕부톡시페닐}부탄: 30중량부, 상기 성분 D: 0.5중량부를 락트산 에틸 28중량부에 용해함으로써, 코어의 형성 재료를 조제했다.

〔광도파로의 제작〕

우선, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름〔기대: 100㎜×100㎜×100㎛(두께)〕의 표면에, 상기 언더클래드층의 형성 재료를 스핀코트법에 의해 도포한 후, 형성하는 언더클래드층과 동일한 형상의 개구 패턴이 형성된 포토마스크를 통하여 2000mJ/㎠의 자외선 조사에 의한 노광을 실시했다. 계속해서, 100℃×15분간의 가열 처리를 실시함으로써 언더클래드층을 형성했다. 상기 언더클래드층의 두께를 접촉식 막후계로 측정하면 20㎛였다.

그리고, 상기 언더클래드층의 표면에, 코어의 형성 재료를 스핀코트법에 의해 도포한 후, 100℃×15분간의 건조 처리를 실시했다. 다음에, 그 상방에, 코어 패턴과 동일한 형상의 개구 패턴이 형성된 합성 석영계의 포토마스크를 설치했다. 그리고, 그 상방으로부터 컨택트 노광법으로 4000mJ/㎠의 자외선 조사에 의한 노광을 실시한 후, 120℃×15분간의 가열 처리를 실시했다. 다음에, γ-부티로락톤 수용액을 사용하여 현상함으로써, 미노광 부분을 용해 제거한 후, 120℃×30분간의 가열 처리를 실시함으로써 코어를 형성했다. 형성한 각 코어의 단면 크기는 SEM에서 특정한 바, 폭 12㎛×높이 24㎛였다.

다음에, 오버클래드층 형성용 석영제 성형틀(두께: 2.3㎜, 관통 구멍의 개구: 60㎜×200㎜의 장방형)을 준비하고, 틀면이 형성된 오목부의 개구면을 상기 언더클래드층의 표면에 밀착시켰다. 그리고, 상기 오목부의 틀면과 언더클래드층의 표면으로 둘러싸인 성형 공간에, 오버클래드층의 형성 재료(액상의 수지)를, 상기 성형틀에 형성된 관통 구멍으로부터 주입하고, 상기 성형 공간을 액상의 수지로 채웠다. 다음에, 상기 성형틀을 통하여 2000mJ/㎠의 자외선 조사에 의한 노광을 실시한 후, 120℃×15분간의 가열 처리를 실시함으로써, 코어의 선단부에 대응하는 부분이 렌즈 형상으로 형성된 오버클래드층을 형성했다. 그 후, 틀에서 분리했다. 상기 오버클래드층의 두께를 접촉식 막후계로 측정하면 500㎛(언더클래드층 표면으로부터의 두께)였다.

이와 같이 하여 기판 상에 언더클래드층, 코어 및 오버클래드층이 이 순서로 적층되어 이루어진 광도파로를 제조할 수 있었다. 상기 광도파로에는 언더클래드층의 표면의 오버클래드층의 단 가장자리에 버어는 발생하지 않았다.

도 1의 (a)~(e)는 본 발명의 광도파로의 제조 방법의 일 실시 형태를 모식적으로 도시한 설명도, 및

도 2의 (a), (b)는 종래의 광도파로의 제조 방법을 모식적으로 도시한 설명도이다.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명

2: 언더클래드층 4: 오버클래드층

10: 성형틀 11: 오목부

11a: 틀면 12: 관통 구멍

Claims

언더클래드층의 표면에 코어를 패턴 형성하고, 상기 코어 표면에 오버클래드층을 피복 형성하여 광도파로를 제조하는 방법에 있어서,

상기 오버클래드층의 형성이 오버클래드층의 표면 형상에 대응하는 틀면을 갖는 오목부와 상기 오목부에 연통하는 관통 구멍이 형성되어 있는 성형틀을 준비하고, 그 성형틀의 상기 오목부의 개구면을 언더클래드층의 표면에 밀착시키고, 그 상태에서 상기 오목부의 틀면과 언더클래드층의 표면으로 둘러싸인 성형 공간에, 오버클래드층의 형성 재료인 액상의 수지를 상기 관통 구멍으로부터 주입한 후, 경화시킴으로써 실시되는 것을 특징으로 하는 광도파로의 제조 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 성형틀의 오목부의 틀면 중 코어의 선단부에 대응하는 부분이, 렌즈 곡면으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광도파로의 제조 방법.