JP2005165138A - 光導波路 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 アンダークラッド層3と、そのアンダークラッド層3の上に設けられるコア層4と、アンダークラッド層3の上にコア層4を被覆するように設けられるオーバークラッド層5とを備える光導波路6であって、アンダークラッド層3、コア層4およびオーバークラッド層5を、ポリイミドから形成し、かつ、アンダークラッド層3を、重量平均分子量1.5×105以上のポリアミド酸をイミド化することにより、形成する。
【選択図】 図1
Description
(n1=コア層の屈折率、n2=アンダークラッド層の屈折率)
屈折率の調整は、有機テトラカルボン酸二無水物またはジアミンとして、複数の種類を用いて、それらの組成比を適宜変更することにより行う。
上記式(1)中、Arで示されるオルソ位にニトロ基を有する芳香族基として、好ましくは、o−ニトロフェニル基が挙げられ、また、R1、R2、R3、R4およびR5で示される炭素数1、2または3のアルキル基として、好ましくは、メチル基(C1)、エチル基(C2)、n−プロピル基(C3)、i−プロピル基(C3)が挙げられる。
(クラッド層ポリアミド酸ワニスの合成)
窒素雰囲気下、攪拌羽根を備えた500mLのセパラブルフラスコ内で、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル(TFMB)(0.1モル(32.02g))を、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)178.38gに溶解させ、攪拌羽根の回転数を200min−1に設定して攪拌しながら、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物(6FDA)(0.1モル(44.42g))を加えた。反応の進行に伴なって、粘度が上昇し、攪拌が困難となったので、1時間後には、攪拌羽根の回転数を10min−1に設定した。反応温度を35℃に調整して、仕込みから6時間後に反応を終了した。
窒素雰囲気下、攪拌羽根を備えた500mLセパラブルフラスコ内で、1,3−ビス(アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン(APDS)(0.004モル(0.87mg))を、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)177.79gに溶解させ、攪拌羽根の回転数を200min−1に設定して攪拌しながら、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル(TFMB)(0.097モル(30.90g))、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物(6FDA)(0.100モル(44.42g))を順に加えた。反応の進行に伴なって、粘度が上昇し、攪拌が困難となったので、1時間後には、攪拌羽根の回転数を10min−1に設定した。反応温度を35℃に調整して、仕込みから6時間後に反応を終了した。
窒素雰囲気下、攪拌羽根を備えた500mLのセパラブルフラスコ内で、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル(TFMB)(0.1モル(32.02g))を、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)178.38gに溶解させ、攪拌羽根の回転数を200min−1に設定して攪拌しながら、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物(6FDA)(0.1モル(44.42g))を加えた。反応の進行に伴なって、粘度が上昇し、攪拌が困難となったので、1時間後には、攪拌羽根の回転数を10min−1に設定した。反応温度を35℃に調整して、仕込みから6時間後に反応を終了した。
厚み525μmのシリコンウエハを、基板として用意し(図1(a)参照)、その基板の上に、密着層ポリアミド酸ワニスを、スピンコート法により塗布し、90℃で15分間、予備乾燥して溶媒を除去した。その後、真空下、385℃で2時間加熱することでイミド化し、厚み5μmの密着層を形成した(図1(b)参照)。
クラッド層ポリアミド酸ワニスの合成において、反応温度を35℃から25℃に変更して、ポリアミド酸の重量平均分子量Mw=2.92×105(GPC測定による標準ポリエチレンオキサイド換算値)のクラッド層ポリアミド酸ワニスを合成し、それを用いた以外は、実施例1と同様の操作により、光導波路を得た。なお、この光導波路のアンダークラッド層を観察したところ、クラックは確認されなかった。
クラッド層ポリアミド酸ワニスの合成において、反応終了後、さらに、オイルバスを用いて反応系を60℃に保持してエージングし、メカニカルスターラーを用いて50min−1で攪拌し、粘度を10Pa・sまで低下させることにより、ポリアミド酸の重量平均分子量Mw=1.31×105(GPC測定による標準ポリエチレンオキサイド換算値)のクラッド層ポリアミド酸ワニスを合成し、それを用いた以外は、実施例1と同様の操作により、光導波路を得た。
4 コア層
5 オーバークラッド層
6 光導波路
Claims (1)
- 下部クラッド層と、前記下部クラッド層の上に設けられるコア層と、前記下部クラッド層の上に前記コア層を被覆するように設けられる上部クラッド層とを備える光導波路であって、
前記下部クラッド層、前記コア層および前記上部クラッド層は、ポリイミドから形成されており、
前記下部クラッド層は、重量平均分子量1.5×105以上のポリアミド酸をイミド化することにより、形成されていることを特徴とする、光導波路。
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