KR20080042435A - 반도체 메모리 장치 및 그의 레이아웃 방법 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 99
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 22
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims description 41
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 87
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
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- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
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- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/409—Read-write [R-W] circuits
- G11C11/4097—Bit-line organisation, e.g. bit-line layout, folded bit lines
-
- G—PHYSICS
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- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/02—Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
- G11C5/025—Geometric lay-out considerations of storage- and peripheral-blocks in a semiconductor storage device
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- G—PHYSICS
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- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/10—Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
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- G—PHYSICS
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- G11C7/18—Bit line organisation; Bit line lay-out
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- G11C8/10—Decoders
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- G11C8/14—Word line organisation; Word line lay-out
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Description
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- 주변 회로 영역을 사이에 두고 제1 방향으로 분할된 제1 영역과 제2 영역을 구비하는 반도체 메모리 장치에 있어서:상기 제1 영역 내에서 로우 디코더가 형성된 영역을 사이에 두고 상기 제1 방향으로 분할 배치된 제1 뱅크 및 제2 뱅크;상기 제2 영역 내에서 로우 디코더가 형성된 영역을 사이에 두고 상기 제1 방향으로 분할 배치된 제3 뱅크 및 제4 뱅크를 구비하고,상기 제1 내지 제4 뱅크 각각은 컬럼 디코더가 형성된 영역을 사이에 두고 2 개씩의 메모리 매트들로 분할되어 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
- 제1항에 있어서,상기 주변 회로 영역에는 데이터를 감지 및 증폭하여 상기 반도체 메모리 장치의 출력단으로 전송하기 위한 입출력 센스앰프가 배치됨을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
- 제1항에 있어서,상기 반도체 메모리 장치는 상기 제1 내지 제4 뱅크가 배치되는 영역 및 상기 주변 회로 영역이 아닌 에지 영역에 배치된 복수 개의 데이터용 패드들을 구비함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
- 제3항에 있어서,상기 패드들은 상기 컬럼 디코더가 형성된 영역을 사이에 두고 각각 2 개씩 나눠진 메모리 매트들에 대응되게 2 개의 패드 그룹인 상위 패드 그룹과 하위 패드 그룹으로 구별되며, 상기 상위 패드 그룹에 대응되는 메모리 매트들은 상기 상위 패드 그룹을 통해 데이터를 전송하고, 상기 하위 패드 그룹에 대응되는 메모리 매트들은 상기 하위 패드 그룹을 통해 데이터를 전송함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
- 제2항에 있어서,상기 4개의 뱅크들이 상기 입출력 센스앰프를 공유함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
- 반도체 메모리 장치의 레이아웃 구조에 있어서:데이터를 감지 및 증폭하기 위한 입출력 센스앰프가 형성된 영역을 사이에 두고 4 개의 뱅크들이 2 개의 그룹으로 분할 배치되고, 상기 4 개의 뱅크들은 각각 2 개씩의 메모리 매트들로 분할되어 컬럼 디코더가 형성된 영역을 사이에 두고 배치되며, 상기 2 개의 그룹 각각에서 뱅크를 달리하는 메모리 매트들은 로우 디코더가 형성된 영역을 사이에 두고 분할 배치됨을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 레이아웃 구조.
- 제6항에 있어서,상기 반도체 메모리 장치에서 상기 뱅크들 및 상기 입출력 센스앰프가 형성되지 않은 영역인 에지 영역에는 복수 개의 데이터용 패드들이 배치됨을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 레이아웃 구조.
- 제7항에 있어서,상기 패드들은 상기 컬럼 디코더가 형성된 영역을 사이에 두고 각각 2 개씩 분할된 메모리 매트들에 대응되게 2 개의 패드 그룹인 상위 패드 그룹과 하위 패드 그룹으로 구별되며, 상기 상위 패드 그룹에 대응되는 메모리 매트들은 상기 상위 패드 그룹을 통해 데이터를 전송하고, 상기 하위 패드 그룹에 대응되는 메모리 매트들은 상기 하위 패드 그룹을 통해 데이터를 전송함을 특징으로 하는 반도체 메모 리 장치의 레이아웃 구조.
- 제6항에 있어서,상기 4개의 뱅크들이 상기 입출력 센스앰프를 공유함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 레이아웃 구조.
- 복수 개의 에지 패드들을 구비하며 제1 배선층에 비트라인 센스앰프로부터 출력되는 데이터를 전송하기 위한 로컬 입출력 라인이 배치되는 반도체 메모리 장치에 있어서:상기 반도체 메모리 장치의 셀 어레이의 상부에서 상기 제1 배선층의 상부인 제2 배선층에 배치되어 로컬 입출력 멀티플렉서를 통해 상기 로컬 입출력 라인과 선택적으로 연결되는 글로벌 입출력 라인;상기 글로벌 입출력 라인의 데이터를 글로벌 입출력 멀티플렉서로 전송하기 위해 상기 셀 어레이의 상부에서 상기 글로벌 입출력 라인과 교차하는 방향으로 상기 제2 배선층의 상부인 제3 배선층에 배치되는 유니버셜 입출력 라인;상기 글로벌 입출력 멀티플렉서로부터 출력되는 데이터를 입출력 센스앰프로 전송하기 위해 상기 제3 배선층에 배치되는 데이터 입출력 라인;상기 입출력 센스앰프로부터 출력되는 데이터를 데이터 버스 멀티플렉서로 전송하기 위해 상기 제3 배선층에 배치되는 제1 데이터 라인;상기 데이터 버스 멀티플렉서로부터 출력되는 데이터를 데이터 출력 버퍼로 전송하기 위해 상기 셀 어레이의 상부에서 상기 제3 배선층에 배치되는 제2 데이터 라인; 및상기 셀 어레이와 상기 에지 패드들 중 일부인 데이터용 패드들 사이의 영역에서 상기 제2 배선층에 배치되어 상기 데이터 출력 버퍼의 출력을 상기 데이터용 패드들로 전송하기 위한 제3 데이터 라인을 구비함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
- 제10항에 있어서,상기 제2 데이터 라인은 상기 유니버셜 입출력 라인과 대체로 평행하게 배치됨을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
- 제10항에 있어서,상기 제3 배선층에 상기 셀 어레이의 상부에서 상기 유니버셜 입출력 라인과 평행하게 배치되는 파워 라인을 더 구비함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
- 제12항에 있어서,상기 제3 배선층에 상기 셀 어레이의 상부에서 상기 유니버셜 입출력 라인과 평행하게 배치되는 컨트롤 신호 라인을 더 구비함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
- 제10항에 있어서,상기 반도체 메모리 장치는 상기 데이터 버스 멀티플렉서와 상기 데이터 출력 버퍼 사이에 리피터를 더 구비함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
- 제14항에 있어서,상기 반도체 메모리 장치는 상기 셀 어레이 영역과 주변 회로 영역 사이에 상기 리피터를 배치하기 위한 리피터 영역을 더 구비함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
- 복수 개의 에지 패드들을 구비하며 제1 배선층에 메모리 셀 측으로 데이터를 전송하기 위한 로컬 입출력 라인이 배치되는 반도체 메모리 장치에 있어서:상기 에지 패드들로부터 제공되는 데이터를 데이터 입력 버퍼로 전송하기 위 해, 상기 제1 배선층의 상부층인 제2 배선층에 배치되는 제1 데이터 라인;상기 데이터 입력 버퍼에서 출력된 데이터를 데이터 입력 멀티 플렉서로 전송하기 위해, 상기 반도체 메모리 장치의 셀 어레이의 상부이면서 상기 제2 배선층의 상부층인 제3 배선층에 배치되는 제2 데이터 라인;상기 데이터 입력 멀티 플렉서에서 출력된 데이터를 데이터 입력 드라이버로 전송하기 위해, 상기 제3 배선층에 배치되는 제3 데이터 라인;상기 데이터 입력 드라이버에서 출력되는 데이터를 글로벌 입출력 멀티플렉서로 전송하기 위해, 상기 제3 배선층에 배치되는 데이터 입출력 라인;상기 글로벌 입출력 멀티플렉서로부터 출력되는 데이터를 글로벌 입출력 라인으로 전송하기 위해, 상기 셀 어레이의 상부에서 상기 제3 배선층에 배치되는 유니버셜 입출력 라인;상기 셀 어레이의 상부이면서 상기 제2 배선층에서 상기 유니버셜 입출력 라인과 교차하는 방향으로 배치되어 상기 유니버셜 입출력 라인으로부터 전송된 데이터를 로컬 입출력 멀티플렉서로 전송하기 위한 글로벌 입출력 라인을 구비함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
- 제16항에 있어서,상기 제3 배선층에 상기 셀 어레이의 상부에서 상기 유니버셜 입출력 라인과 평행하게 배치되는 파워 라인을 더 구비함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
- 제17항에 있어서,상기 제3 배선층에 상기 셀 어레이의 상부에서 상기 유니버셜 입출력 라인과 평행하게 배치되는 컨트롤 신호 라인을 더 구비함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
- 반도체 메모리 장치의 레이아웃 방법에 있어서:데이터를 감지 및 증폭하여 상기 반도체 메모리 장치의 출력단으로 전송하기 위한 입출력 센스앰프가 형성된 영역을 사이에 두고 4 개의 뱅크들을 2 개의 그룹으로 분할 배치하고, 상기 4 개의 뱅크들은 각각 2 개의 메모리 매트들로 나누어 컬럼 디코더가 형성된 영역을 사이에 두고 분할 배치하며, 상기 2 개의 그룹 각각에서 뱅크를 달리하는 메모리 매트들은 로우 디코더가 형성된 영역을 사이에 두고 분할 배치함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 레이아웃 방법.
- 복수 개의 에지 패드들을 구비하며 제1 배선층에 비트라인 센스앰프로부터 출력되는 데이터를 출력단으로 전송하기 위한 로컬 입출력 라인이 배치되는 반도체 메모리 장치의 라인 배치 방법에 있어서:상기 반도체 메모리 장치의 셀 어레이의 상부에서 상기 제1 배선층의 상부인 제2 배선층에 로컬 입출력 멀티플렉서를 통해 상기 로컬 입출력 라인과 선택적으로 연결되는 글로벌 입출력 라인을 배치하는 단계;상기 글로벌 입출력 라인의 데이터를 글로벌 입출력 멀티플렉서로 전송하기 위해 상기 셀 어레이의 상부에서 상기 글로벌 입출력 라인과 교차하고 상기 제2 배선층의 상부인 제3 배선층에 유니버셜 입출력 라인을 배치하는 단계;상기 글로벌 입출력 멀티플렉서로부터 출력되는 데이터를 입출력 센스앰프로 전송하기 위해 상기 제3 배선층에 데이터 입출력 라인을 배치하는 단계;상기 입출력 센스앰프로부터 출력되는 데이터를 데이터 버스 멀티플렉서로 전송하기 위해 상기 제3 배선층에 제1 데이터 라인을 배치하는 단계;상기 데이터 버스 멀티플렉서의 출력을 데이터 출력 버퍼로 전송하기 위해 상기 제3 배선층에 상기 셀 어레이의 상부에서 상기 유니버셜 입출력 라인과 평행하게 제2 데이터 라인을 배치하는 단계; 및상기 셀 어레이와 상기 에지 패드들 중 일부인 데이터용 패드들 사이의 영역에서 상기 제2 배선층에 상기 데이터 출력 버퍼로부터 출력되는 데이터를 상기 데이터용 패드들로 전송하기 위한 제3 데이터 라인을 배치하는 단계를 구비함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 라인 배치 방법.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060110884A KR100855586B1 (ko) | 2006-11-10 | 2006-11-10 | 반도체 메모리 장치 및 그의 레이아웃 방법 |
US11/935,869 US7738311B2 (en) | 2006-11-10 | 2007-11-06 | Semiconductor memory devices having optimized memory block organization and data line routing for reducing chip size and increasing speed |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060110884A KR100855586B1 (ko) | 2006-11-10 | 2006-11-10 | 반도체 메모리 장치 및 그의 레이아웃 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080042435A true KR20080042435A (ko) | 2008-05-15 |
KR100855586B1 KR100855586B1 (ko) | 2008-09-01 |
Family
ID=39369057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060110884A KR100855586B1 (ko) | 2006-11-10 | 2006-11-10 | 반도체 메모리 장치 및 그의 레이아웃 방법 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7738311B2 (ko) |
KR (1) | KR100855586B1 (ko) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7782703B2 (en) * | 2008-02-01 | 2010-08-24 | Qimonda North America Corp. | Semiconductor memory having a bank with sub-banks |
KR101154001B1 (ko) * | 2009-11-12 | 2012-06-08 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 어드레스제어회로 및 반도체메모리장치 |
KR101679037B1 (ko) * | 2010-01-25 | 2016-12-07 | 삼성전자 주식회사 | 비트라인 커플링 노이즈를 감소시키는 반도체 메모리 장치 |
KR20140008766A (ko) | 2012-07-11 | 2014-01-22 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체메모리장치 |
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JP2018032141A (ja) * | 2016-08-23 | 2018-03-01 | 東芝メモリ株式会社 | 半導体装置 |
KR102643710B1 (ko) * | 2016-09-20 | 2024-03-06 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 저항 변화 메모리 장치 |
WO2018125135A1 (en) * | 2016-12-29 | 2018-07-05 | Intel Corporation | Sram with hierarchical bit lines in monolithic 3d integrated chips |
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KR102407184B1 (ko) * | 2017-10-31 | 2022-06-10 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 메모리 장치 및 이를 포함하는 반도체 시스템 |
KR102571550B1 (ko) | 2018-02-14 | 2023-08-28 | 삼성전자주식회사 | 메모리 장치, 메모리 시스템 및 전자 장치 |
KR102580944B1 (ko) | 2018-04-20 | 2023-09-20 | 삼성전자주식회사 | 에러 정정 기능을 갖는 메모리 장치와 그 동작 방법 |
KR102468291B1 (ko) | 2018-04-30 | 2022-11-21 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치 |
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US11600307B2 (en) | 2020-12-29 | 2023-03-07 | Qualcomm Incorporated | Memory circuit architecture |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
2006
- 2006-11-10 KR KR1020060110884A patent/KR100855586B1/ko active IP Right Grant
-
2007
- 2007-11-06 US US11/935,869 patent/US7738311B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7738311B2 (en) | 2010-06-15 |
US20080112251A1 (en) | 2008-05-15 |
KR100855586B1 (ko) | 2008-09-01 |
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Date | Code | Title | Description |
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A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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Payment date: 20130731 Year of fee payment: 6 |
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