KR20080021033A - 그라비아제판 롤 및 그의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 독성이 없고 동시에 공해발생의 염려도 전무(皆無)한 표면강화 피복층을 구비하는 것과 동시에 내쇄력(耐刷力)이 뛰어난 신규한 그라비아제판 롤 및 그의 제조방법을 제공한다.
판모재와, 이 판모재의 표면에 만들어지고, 동시에 표면에 다수의 그라비아 셀이 형성된 구리도금층과, 이 구리도금층의 표면을 피복하는 이산화규소피막으로 이루어지며 퍼하이드로폴리실라잔용액을 사용해서 상기 이산화규소 피막을 형성하도록 했다. 상기 구리도금층의 두께가 50~200μm, 상기 그라비아 셀의 심도가 5~150μm 및 상기 이산화규소피막의 두께가 0.1~5μm, 바람직하게는 0.1~3μm, 더 바람직하게는 0.1~1μm인 것이 바람직하다.
퍼하이드로폴리실라잔, 도포막, 구리도금, 그라비아 셀, 이산화규소

Description

그라비아제판 롤 및 그의 제조방법{Gravure platemaking roll and process for producing the same}
본 발명은 크롬도금을 사용하는 일 없이 충분한 강도를 가지는 표면강화 피복층을 구비할 수 있도록 한 그라비아제판 롤 및 그의 제조방법에 관한 것으로서, 특히 크롬층을 대체하는 표면강화 피복층으로서 이산화규소 피막층을 만들도록 한 그라비아제판 롤 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
그라비아 인쇄에서는 판모재에 대하여 제판정보에 따른 미소한 요부(그라비아 셀)를 형성하여 판면을 제작하고 당해 그라비아 셀에 잉크를 충전해서 피(被)인쇄물에 전사하는 것이다. 일반적으로 그라비아제판 롤에 있어서는 알루미늄이나 철 등의 금속제 중공 롤이나 CFRP(탄소섬유강화플라스틱)제 중공 롤의 표면에 판면형성용의 구리도금층(판재)를 만들고, 이 구리도금층의 에칭에 의해 제판정보에 따른 다수의 미소한 요부(그라비아 셀)를 형성하고, 다음으로 그라비아제판 롤의 내쇄력(耐刷力)을 늘리기 위해 크롬도금에 의해 경질의 크롬층을 형성하여 표면강화 피복층으로 하고 제판(판면의 제작)을 완료한다. 그러나 크롬도금공정에 있어서는 독성 높은 6가(六價)크롬을 사용하고 있기 때문에 작업의 안전 유지를 도모하기 위해서 여분의 비용이 드는 것 외에 공해발생의 문제도 있어서 크롬층을 대체하는 표면 강화 피복층의 출현이 요구되고 있는 것이 현재상태이다.
한편, 퍼하이드로폴리실라잔(PerhydroPolysilazane:PHPS)용액을 금속이나 수지등의 기체(基體)에 도포해서, 대기중 또는 수증기를 포함하는 분위기 중에서 열처리하고 이산화규소의 피막을 형성하는 방법은 공지되어 있으며(특허문헌 1 ~ 4), 이 경질에서 강인(强靭)한 이산화규소(SiO2) 피막에 의해 자동차 등의 교통기관의 외장내장의 보호막, 안경테 등의 금속제 장식품의 열화(劣化)방지막, 건축물의 내장외장의 열화·오염 방지막이나 각종기판, 예를 들면, 각종 금속부재, 각종 플라스틱부재, 각종 세라믹부재, 태양전지용기판, 각종 광도파로용(光導波路用)기판, 액정용 기판 등을 피복하는 기술이 알려져 있다(특허문헌 1 ~ 4). 그러나 그라비아제판 롤(그라비아실린더)의 제조에 있어서 구리도금층에 퍼하이드로폴리실라잔 용액을 사용해서 이산화규소피막을 형성하고 크롬층을 대체하는 표면강화 피복층으로서 사용하는 기술은 아직 개발되고 있지 않다.
특허문헌 1: 일본특개2001-089126
특허문헌 2: 일본특개2002-105676
특허문헌 3: 일본특개2003-197611
특허문헌 4: 일본특개2003-336010
발명의 개시
발명이 해결하고자 하는 과제
본 발명자는 상기 한 종래기술의 문제점을 감안해서, 크롬층을 대체하는 표면강화 피복층에 관해서 예의연구를 계속한 결과, 퍼하이드로폴리실라잔 용액을 사용해서 이산화규소피막을 형성하는 것에 의해 크롬층에 필적하는 강도를 가지고 동시에 독성이 없어서 공해발생 염려도 전혀 없는 표면강화 피복층을 얻을 수 있는 것을 견출하고 본 발명을 완성했다.
본 발명은 독성이 없는 동시에 공해발생의 염려도 전무한 표면강화 피복층을 구비하는 것과 동시에 내쇄력이 뛰어난 신규한 그라비아제판 롤 및 그의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
과제를 해결하기 위한 수단
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 그라비아제판 롤은 판모재와, 이 판모재의 표면에 만들어지고 동시에 표면에 다수의 그라비아 셀이 형성된 구리도금층과, 이 구리도금층의 표면을 피복하는 이산화규소 피막으로 이루어지며 퍼하이드로폴리실라잔 용액을 사용해서 상기 이산화규소피막을 형성하는 것을 특징으로 한다. 판모재로서는 철, 알루미늄 등의 금속제 중공 롤이나, CFRP(탄소섬유강화플라스틱)제 중공 롤을 사용할 수 있다.
본 발명의 그라비아제판 롤에 있어서는 상기 구리도금의 두께가 50~200μm, 상기 그라비아 셀의 심도가 5~150μm 및 상기 이산화규소피막의 두께가 0.1~5μm, 바람직하게는 0.1~3μm, 더 바람직하게는 0.1~1μm인 것이 바람직하다.
본 발명의 그라비아제판 롤의 제조방법은 판모재를 준비하는 공정과, 이 판모재의 표면에 구리도금층을 형성하는 구리도금공정, 이 구리도금층의 표면에 다수의 그라비아 셀을 형성하는 그라비아 셀 형성공정과, 이 그라비아 셀이 형성된 구리도금층의 표면에 이산화규소피막을 형성하는 이산화규소피막 형성공정으로 이루어지며 퍼하이드로폴리실라잔용액을 사용해서 상기 이산화규소피막을 형성하는 것을 특징으로 한다.
상기 퍼하이드로폴리실라잔을 용해하는 용제로서는 공지의 것이 사용되지만 예를 들면 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에테르, THF, 염화메틸렌, 사염화탄소 외에 특허문헌 3에 기재된 것처럼 아니솔, 데카린, 사이클로헥센, 메틸사이클로헥산,에틸사이클로헥산, 리모넨, 헥산, 옥탄, 노난, 데칸, C8-C11 알칸혼합물, C18-C11 방향족탄화수소혼합물, C8 이상의 방향족탄화수소를 5중량%이상 25중량%이하로 함유하는 지방족/ 지환식 탄화수소혼합물, 솔베소, 디이소프로필에테르, 메틸터셜부틸에테르, 데카히드로나프탈렌 및 디부틸에테르 등을 사용할 수 있다.
상기한 각종 용제에 용해되고 제작되는 퍼하이드로폴리실라잔용액은 그대로 과열수증기에 의한 가열처리에 의해 이산화규소로 전화하지만, 반응속도의 증가, 반응시간의 단축, 반응온도의 저하, 형성되는 이산화규소피막의 밀착성의 향상을 도모할 목적으로 촉매를 사용하는 것이 바람직하다. 이들 촉매도 공지되어 있고, 예를 들면, 아민이나 팔라디움 (Palladium)이 사용되지만, 구체적으로는 특허문헌 1에 기재 된것처럼 유기아민, 예를 들면 C1-5의 알킬기가 1-3개 배치된 제1-제3급의 직선 체인형 지방족아민, 페닐기가 1-3개 배치된 제1-제3급의 방향족아민, 피리딘(pyridine) 또는 이것에 메틸, 에틸기 등의 알킬기가 핵 치환된 고리형 지방족아민 등을 들 수 있고, 더 바람직한 것으로서 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노부틸아민, 모노프로필아민, 디프로필아민 등을 들 수 있다. 이러한 촉매는 퍼하이드로폴리실라잔 용액에 미리 첨가해두어도 되고, 또한 과열 수증기에 의해 가열처리 할 때 처리 분위기 중에 기화상태로 함유시킬 수도 있다.
본 발명의 그라비아제판 롤의 제조방법에 있어서는 상기 구리도금층의 두께가 50~200μm, 상기 그라비아 셀의 심도가 5~150μm, 상기 이산화규소피막의 두께가 0.1~5μm, 바람직하게는 0.1~3μm, 더 바람직하게는 0.1~1μm인 것이 바람직하다.
상기 이산화규소피막 형성공정이 퍼하이드로폴리실라잔용액을 상기 구리도금층 표면에 도포하고 소정 막 두께의 도포막을 형성하는 도포막 형성처리와, 상기 도포된 퍼하이드로폴리실라잔 도포막을 과열 수증기에 의해 소정시간 가열하고 소정 경도의 이산화규소피막으로 하는 피막형성열처리로 이루어진 것이 바람직하다.
퍼하이드로폴리실라잔용액의 도포막 두께는 퍼하이드로폴리실라잔용액의 농도에 의존해서 변동하지만, 피막형성 열처리 후 이산화규소피막의 두께가 0.1~5μm, 바람직하게는 0.1~3μm, 더 바람직하게는 0.1~1μm이 되도록 도포하면 된다. 예를 들면, 퍼하이드로폴리실라잔용액의 농도가 20%의 경우에 목표로 하는 이산화규소피막의 두께가 5배 정도의 도포막 두께로 하면 된다. 가열시간은 과열수증기의 온도에 의해 변동하지만, 5분~1시간 정도로 충분하다. 작성되는 이산화규소피막의 경도는 비커스(vickers)경도에서 800~3000정도이다.
상기 가열처리에 의해 형성된 이산화규소피막의 표면을 냉수 또는 온수에서 세정하는 공정을 더 포함하는 것이 바람직하다. 형성된 이산화규소피막의 표면을 냉수 또는 온수로 세정하는 것에 의해 이산화규소피막의 품질을 향상시킬 수 있다. 냉수는 상온수를 사용하면 되고, 온수는 40℃~100℃정도의 가열수를 사용하면 된다. 세정시간은 30초~10분 정도가 충분하다.
상기 퍼하이드로폴리실라잔의 도포방식으로서는 스프레이(spray)코팅, 잉크젯트(inkjet)도포, 메니스커스(meniscus)코팅, 파운팅(pounding)코팅, 딥(deep) 코팅, 회전도포, 롤(roll)도포, 와이어바도포, 에어나이프(air-knife)도포, 블레이드도포, 커튼도포 등을 사용할 수 있다.
상기 과열수증기의 온도는 100℃를 넘는 것, 바람직하게는 300℃이하의 것이 사용되지만, 중공 롤의 재질이 알루미늄의 경우에는 200℃를 넘는 가열은 중공 롤의 열화(劣化)를 초래하므로 100℃가 넘고 200℃이하가 바람직하다.
상기 그라비아 셀의 형성은 에칭법 또는 전자조각법에 의해 실시하면 되지만, 에칭법이 적합하다. 여기에서 에칭법은 판모재의 판동면(구리도금층)에 감광액(感光液)을 도포해서 직접인화한 후 에칭하여 그라비아 셀을 형성하는 방법이다. 전자조각법은 디지털 신호에 의해 다이아몬드 조각침을 기계적으로 작동시켜서 판모재의 구리도금층 표면에 그라비아 셀을 조각하는 방법이다.
도 1은 본 발명의 그라비아제판 롤의 제조공정을 모식적으로 나타내는 설명도이며, (a)는 판모재의 전체 단면도, (b)는 판모재의 표면에 구리도금층을 형성한 상태를 나타내는 부분 확대단면도, (c)는 판모재의 구리도금층에 그라비아 셀을 형성한 상태를 나타내는 부분 확대단면도, (d)는 판모재의 구리도금층 표면에 퍼하이 드로폴리실라잔의 도포층을 형성한 상태를 나타내는 부분 확대단면도,(e)는 퍼하이드로폴리실라잔 도포층을 과열수증기에 의한 열처리에 의해 이산화규소피막으로 한 상태를 나타내는 부분 확대단면도이다.
도 2는 본 발명의 그라비아제판 롤의 제조방법을 나타내는 플로차트이다.
부호의 설명
10:판모재, 10a:그라비아제판 롤, 12:구리도금층, 14:그라비아 셀, 16:퍼하이드로폴리실라잔도포층, 18:이산화규소피막.
이하에서 본 발명의 실시형태를 설명하지만, 이들 실시의 형태는 예시적으로 나타내는 것이므로, 본 발명의 기술사상에서 벗어나지 않는 한 다양한 변형이 가능하다는 것은 말할 것도 없다.
본 발명방법은 도 1 및 도 2를 이용해서 설명한다. 도 1(a)에 있어서, 부호 (10)는 판모재에서 알루미늄, 철 또는 CFRP 등으로 이루어진 중공 롤이 사용되고 있다(도 2의 스텝 100). 이 판모재(10)의 표면에는 구리도금처리에 의해 구리도금층(12)이 형성된다(도 2의 스텝 102).
이 구리도금층(12)의 표면에는 다수의 미소한 요부(그라비아 셀)(14)가 형성된다(도 2의 스텝 104). 그라비아 셀(14)의 형성방법으로서는 에칭법(판동면, 즉 구리도금층에 감광액을 도포해서 직접 인화한 후 에칭하여 그라이바 셀(14)을 형성한다)이나 전자조각법(디지털 신호에 의해 다이아몬드 조각침을 기계적으로 작동시켜서 구리도금층 표면에 그라비아 셀(14)을 조각한다) 등의 공지의 방법을 이용할 수 있지만 에칭법이 적합하다.
그 다음으로 상기 그라비아 셀(14)을 형성한 구리도금층(12)(그라비아 셀(14)을 포함)의 표면에 퍼하이드로폴리실라잔의 도포층(16)을 형성한다(도 2의 스텝 106). 퍼하이드로폴리실라잔의 도포층(16)의 형성방법으로서 퍼하이드로폴리실라잔용액을 스프레이코팅, 잉크젯트도포, 메니스커스코팅, 파운팅 코팅, 딥 코팅, 회전도포, 롤도포, 와이어바도포, 에어나이프도포, 블레이드도포, 커튼도포 등의 도포방식으로 도포하면 된다.
상기 퍼하이드로폴리실라잔을 용해하는 용제로서는 공지의 것을 사용하면 되지만 예를 들면 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에테르, THF, 염화메틸렌, 사염화탄소 외에 특허문헌 3에 기재된 것처럼 아니솔, 데카린, 사이클로헥센, 메틸사이클로헥산, 에틸사이클로헥산, 리모넨, 헥산, 옥탄, 노난, 데칸, C8-C11 알칸혼합물, C18-C11 방향족 탄화수소혼합물, C8이상의 방향족탄화수소를 5중량% 이상 25중량%이하로 함유하는 지방족/지환식 탄화수소혼합물, 솔베소, 디이소프로필에테르, 메틸터셜부틸에테르, 데카하이드로나프탈렌 및 디부틸에테르 등을 사용할 수 있다.
상기 한 각종 용제에 용해되어 제작되는 퍼하이드로폴리실라잔용액은 그대로 과열수증기에 의한 가열처리에 의해 이산화규소로 전화하지만, 반응속도의 증가, 반응시간의 단축, 반응온도의 저하, 형성되는 이산화규소피막의 밀착성의 향상을 도모할 목적으로 촉매를 사용하는 것이 바람직하다. 이들 촉매도 공지되어 있고, 예를 들면 아민이나 페러다임이 사용되지만 구체적으로는 특허문헌 1에 표기된 것처럼 유기아민, 예를 들면 C1-5의 알킬기가 1-3개 배치된 제1-제3급의 직선체인형 지방족아민, 페닐기가 1-3개 배치된 제1-제3급의 방향족아민, 피리딘 또는 이것에 메틸, 에틸기 등의 알킬기가 치환된 고리형 지방족아민 등을 들 수 있고, 더 바람직한 것으로서 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노부틸아민, 모노프로필아민, 디프로필아민 등을 들 수 있다. 이러한 촉매는 퍼하이드로폴리실라잔 용액에 미리 첨가해두어도 되고, 또한 과열수증기에 의해 가열처리 할 때 처리 분위기 중에 기화상태로 함유시킬 수도 있다.
계속해서 상기 퍼하이드로폴리실라잔 도포층(16)에 대해서 과열수증기에 의한 열처리를 실시하는 것에 의해 이산화규소피막(18)으로 한다(도 2의 스텝108).
상기 한 이산화규소피막(18)을 형성하고, 이 이산화규소피막(18)을 표면강화 피복층으로서 작용시키는 것에 의해 독성이 없고 동시에 공해발생의 염려도 전무(皆無) 한 것과 동시에 내쇄력이 뛰어난 신규한 그라비아제판 롤(10a)을 얻을 수 있다.
상기 구리도금층의 두께가 50~200μm, 상기 그라비아 셀의 심도가 5~150μm, 상기 이산화규소피막의 두께가 0.1~5μm, 바람직하게는 0.1~3μm, 더 바람직하게는 0.1~1μm인 것이 바람직하다.
상기 과열수증기의 온도는 100℃을 넘는 것, 바람직하게는 300℃이하의 것이 사용되지만, 판모재의 재질이 알루미늄의 경우에는 200℃를 넘는 가열은 판모재의 열화(劣化)를 초래하므로 100℃가 넘고 200℃이하가 바람직하다.
실시예
이하에 실시예를 들어서 본 발명을 더 구체적으로 설명하지만, 이들 실시예 는 예시적으로 나타낸 것이므로 한정적으로 해석되어서는 않된다는 것은 말할 것도 없다.
(실시예1)
부메랑라인(주식회사 씽크·라보라토리제 그라비아제판 롤 제조장치)을 사용해서 아래에서 기술한 구리도금층의 형성 및 에칭처리까지 실시했다. 우선 원주(圓周) 600㎜, 면장(面長) 1100㎜의 그라비아 실린더(알루미늄 중공 롤)를 도금조(槽)로 장착하고 양극실을 컴퓨터시스템에 의해 자동슬라이드 장치에서 20㎜까지 중공 롤에 근접시켜서 도금액을 오버플로우시켜서 중공 롤을 전몰시키고 18A/d㎡, 6.0V에서 80μm의 구리도금층을 형성했다. 도금시간은 20분, 도금표면은 부츠나 피트(pit)의 발생이 없고 균일한 구리도금층을 얻었다. 이 구리도금층의 표면을 4H연마기(주식회사 씽크·라보라토리제 연마기)를 사용해서 12분간 연마하고 당해 구리도금층의 표면을 균일한 연마면으로 했다.
상기 형성한 구리도금층에 감광막(感光膜)(서멀레지스터(Thermal Register): TSER-2104E4)을 도포(후온테인코타), 건조했다. 얻어진 감광막의 막 두께는 막두께 측정기(FILLMETRICS사 제조, F20 마쯔시타 테크노트레이딩사 판매)로 측정한 결과, 4μm이였다. 그 다음에 화상을 레이저 노광(露光)해서 현상했다. 상기 레이저노광은 Laser Stream FX를 사용해서 노광조건 5분/㎡/10W에서 소정의 패턴노광을 실시했다. 또 상기 현상은 TLD현상액(주식회사 씽크·라보라토리제 현상액)을 사용하고 현상액 희석비율(원액 1: 물 7)에서 24℃ 60초간 실시하여, 소정의 패턴을 형성했다. 이 패턴을 건조(burning)해서 레지스터화상을 형성했다.
또한, 실린더에칭을 실시하고 그라비아 셀에서 이루어진 화상을 음각하고, 그 후 레지스터 화상을 제거하는 것에 의해 인쇄판을 형성했다. 이때 그라비아 셀의 심도를 12μm로서 실린더를 제작했다. 상기 에칭은 구리농도 60g/L, 염산농도 35g/L, 온도 37℃, 시간 70초의 조건에서 스프레이방식에 의해 실시했다.
본 발명에 관계되는 6육가(六價) 크롬 대체막을 아래와 같이 실시했다. 퍼하이드로폴리실라잔의 20% 디부틸에테르용액(제품명:아크아미카NL120A-20, 「아크아미카」는 AZ일렉트로닉머티리얼즈주식회사의 등록상표)을 상기 인쇄판을 형성한 실린더에 대하여 HVLP스프레이 도포를 실시했다. 당해 실린더로 균일하게 도포된 도포막 두께는 0.8μm이였다. 이 퍼하이드로폴리실라잔이 도포된 실린더를 과열 수증기(200℃/100%RH)에서 30분간 처리했다. 이와 같이하여 그라비아제판 롤(그라비아실린더)을 완성했다. 이 실린더 표면에는 막두께 0.2μm의 이산화규소피막이 형성되고, 그 피막의 비커스경도를 측정했는데 2500이였다.
계속해서 얻어진 그라비아실린더에 대하여 인쇄잉크로서 시안(CN)2잉크(잔컵 (Zahuncup)점도 18초, 사카타잉크스사제조 수성잉크스파라미퓨어남(藍)800PR-5)를 적용하고 OPP(Oriented Polypropylene Film:2축연신(軸延伸) 폴리프로필렌필름)를 사용해서 인쇄 테스트(인쇄속도:120m/분)를 실시했다. 얻어진 인쇄물은 판흐림이 없고 50,000m의 길이까지 인쇄할 수 있었다. 패턴의 정도(精度)는 변화가 없었다. 또 에칭된 구리도금실린더에 대하여 이산화규소피막의 밀착성은 문제가 없었다. 이 본 발명의 그라비아 실린더의 하이라이트부에서 그림자부의 그라데이션은 상법에 따라서 제작한 크롬도금 그라비아실린더와 변하지 않았던 것에서 잉크 전이성(轉移性)은 문제가 없다고 판단된다. 이 결과로서 퍼하이드로폴리실라잔 유래의 이산화규소 피막은 종래의 크롬층에 필적하는 성능을 가지고 크롬층 대체품으로서 충분히사용 할 수 있는 것을 확인했다.
본 발명에 의하면, 표면강화 피복층으로서 퍼하이드로폴리실라잔 용액에서 형성된 이산화규소피막을 사용하는 것에 의해 크롬도금 공정을 생략할 수 있으므로 독성 높은 6가(六價)크롬을 사용하지 않게 되어 작업의 안전성을 도모하기 위하여 여분의 비용이 불필요하고 공해발생의 염려도 전혀 없게 되고, 게다가 이산화규소피막은 크롬층에 필적하는 강도를 가지고 내쇄력에도 뛰어나다고 하는 큰 효과가 있다.

Claims (7)

  1. 판모재와, 이 판모재의 표면에 만들어지고, 동시에 표면에 다수의 그라비아 셀이 형성된 구리도금층과, 이 구리도금층의 표면을 피복하는 이산화규소피막을 포함하고, 퍼하이드로폴리실라잔용액을 사용해서 상기 이산화규소피막을 형성하는 것을 특징으로 하는 그라비아제판 롤.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 구리도금층의 두께가 50~200μm, 상기 그라비아 셀의 심도가 5~150μm 및 상기 이산화규소피막의 두께가 0.1~5μm인 것을 특징으로 하는 그라비아제판 롤.
  3. 판모재를 준비하는 공정과, 이 판모재의 표면에 구리도금층을 형성하는 구리도금공정과, 이 구리도금층의 표면에 다수의 그라비아 셀을 형성하는 그라비아 셀 형성공정과, 이 그라비아 셀이 형성된 구리도금층의 표면에 이산화규소피막을 형성하는 이산화규소피막 형성공정을 포함하고, 퍼하이드로폴리실라잔 용액을 사용해서 상기 이산화규소피막을 형성하는 것을 특징으로 하는 그라비아제판 롤의 제조방법.
  4. 제 3항에 있어서, 상기 구리도금층의 두께가 50~200μm, 상기 그라비아 셀의 심도가 5~150μm, 상기 이산화규소피막의 두께가 0.1~5μm인 것을 특징으로 하는 그라비아제판 롤의 제조방법.
  5. 제 3항 또는 제 4항에 있어서, 상기 이산화규소피막형성공정이 퍼하이드로폴리실라잔 용액을 상기 구리도금층 표면에 도포하고 소정 막 두께의 도포막을 형성하는 도포막 형성 처리와, 상기 도포된 퍼하이드로폴리실라잔 도포막을 과열 수증기에 의해 소정시간 가열하고 소정 경도의 이산화규소피막으로 하는 피막형성 열처리를 포함하는 것을 특징으로 하는 그라비아제판 롤의 제조방법.
  6. 제 5항에 있어서, 상기 가열처리에 의해 형성된 이산화규소피막의 표면을 냉수 또는 온수로 세정하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그라비아제판 롤의 제조방법.
  7. 제 3항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 그라비아 셀의 형성을 에칭법 또는 전자조각법에 의해 실시하는 것을 특징으로 하는 그라비아제판 롤의 제조방법.
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