JPWO2008059705A1 - グラビア製版ロール及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、毒性がなくかつ公害発生の心配も皆無な表面強化被覆層を具備するとともに耐刷力に優れた新規なグラビア製版ロール及びその製造方法を提供する。版母材と、該版母材の表面に設けられかつ表面に多数のグラビアセルが形成された銅メッキ層と、該銅メッキ層の表面に設けられた密着層と、該密着層の表面を被覆するダイヤモンドライクカーボン被膜とからなり、前記密着層及びダイヤモンドライクカーボン被膜をCVD法により作成するようにした。
Description
本発明は、クロムめっきを用いることなく、充分な強度を有する表面強化被覆層を具備することができるようにしたグラビア製版ロール及びその製造方法に関し、特にクロム層に替わる表面強化被覆層としてダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜を設けるようにしたグラビア製版ロール及びその製造方法に関する。
グラビア印刷では、グラビア製版ロール(グラビアシリンダー)に対し、製版情報に応じた微小な凹部(グラビアセル)を形成して版面を製作し当該グラビアセルにインキを充填して被印刷物に転写するものである。一般的なグラビア製版ロールにおいては、アルミニウムや鉄などの版母材の表面に版面形成用の銅めっき層(版材)を設け、該銅めっき層にエッチングによって製版情報に応じ多数の微小な凹部(グラビアセル)を形成し、次いでグラビア製版ロールの耐刷力を増すためのクロムめっきによって硬質のクロム層を形成して表面強化被覆層とし、製版(版面の製作)が完了する。しかし、クロムめっき工程においては毒性の高い六価クロムを用いているために、作業の安全維持を図るために余分なコストがかかる他、公害発生の問題もあり、クロム層に替わる表面強化被覆層の出現が待望されているのが現状である。
一方、グラビア製版ロール(グラビアシリンダー)の製造について、セルを形成した銅めっき層にダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜を形成し、表面強化被覆層として用いる技術は知られているが(特許文献1)、DLC被膜は銅との密着性が弱く、剥離し易いという問題があった。また、本願出願人の一方は、版母材にゴム又は樹脂層を形成し、その上にダイヤモンドライクカーボン(DLC)の被膜を形成した後、セルを形成し、グラビア印刷版を製造する技術をすでに提案している(特許文献2〜4)。
特開平4−282296号公報
特開平11−309950号公報
特開平11−327124号公報
特開2000−15770号公報
本発明者らは、上記した従来技術の問題点に鑑み、クロム層に替わる表面強化被覆層について鋭意研究を続けたところ、CVD法により形成された密着層と、CVD法により形成されたダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜とを組み合わせて用い、又は、特定の下地金属めっき層と、CVD法により形成された密着層と、CVD法により形成されたダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜とを組み合わせて用いることによってクロム層に匹敵する強度を有しかつ毒性はなく公害発生の心配も全くない表面強化被覆層を得ることができることを見出し、本発明を完成した。
本発明は、毒性がなくかつ公害発生の心配も皆無な表面強化被覆層を具備するとともに耐刷力に優れた新規なグラビア製版ロール及びその製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明のグラビア製版ロールの第1の態様は、版母材と、該版母材の表面に設けられかつ表面に多数のグラビアセルが形成された銅めっき層と、該銅めっき層の表面に設けられた密着層と、該密着層の表面を被覆するダイヤモンドライクカーボン被膜とを有し、前記密着層及びダイヤモンドライクカーボン被膜をCVD法により作成することを特徴とする。
本発明のグラビア製版ロールの第2の態様は、版母材と、該版母材の表面に設けられかつ表面に多数のグラビアセルが形成された銅めっき層と、該グラビアセルが形成された銅めっき層の表面に設けられた下地金属めっき層と、該下地金属めっき層の表面に設けられた密着層と、該密着層の表面を被覆するダイヤモンドライクカーボン被膜とを有し、前記下地金属めっき層がニッケル(Ni)、コバルト(Co)、及び鉄(Fe)からなる群から選ばれる金属のめっき層であり、前記密着層及びダイヤモンドライクカーボン被膜をCVD法により作成することを特徴とする。
本発明のグラビア製版ロールの製造方法の第1の態様は、版母材を準備する工程と、該版母材の表面に銅めっき層を形成する銅めっき工程と、該銅めっき層の表面に多数のグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、該銅めっき層の表面に密着層を形成する密着層形成工程と、該密着層の表面にダイヤモンドライクカーボン被膜を形成するダイヤモンドライクカーボン被膜形成工程とを含み、前記密着層及びダイヤモンドライクカーボン被膜をCVD法により作成することを特徴とする。
本発明のグラビア製版ロールの製造方法の第2の態様は、版母材を準備する工程と、該版母材の表面に銅めっき層を形成する銅めっき工程と、該銅めっき層の表面に多数のグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、該グラビアセルが形成された銅めっき層の表面に下地金属めっき層を形成する下地金属めっき層形成工程と、該下地金属めっき層の表面に密着層を形成する密着層形成工程と、該密着層の表面にダイヤモンドライクカーボン被膜を形成するダイヤモンドライクカーボン被膜形成工程とを含み、前記下地金属めっき層が、ニッケル(Ni)、コバルト(Co)、及び鉄(Fe)からなる群から選ばれる金属のめっき層であり、前記密着層及びダイヤモンドライクカーボン被膜をCVD法により作成することを特徴とする。
前記密着層が、アルミニウム(Al)、リン(P)、チタン(Ti)、及び珪素(Si)からなる群から選ばれる一種又は二種以上から形成されるのが好ましい。
前記銅めっき層の厚さが50〜200μm、前記グラビアセルの深度が5〜150μm、前記密着層の厚さが0.1〜1μm、及び前記ダイヤモンドライクカーボン被膜の厚さが0.1〜10μmであるのが好ましい。また、前記下地金属めっき層の厚さが0.1〜5μmであるのが好ましい。
前記密着層を形成するために、トリメチルアルミニウム、チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトラエトキシド、テトラメチルシラン、亜リン酸トリメチル、ヘキサメチルジシロキサンからなる群から選ばれる一種又は二種以上のガス種を用いるのが好適である。
前記グラビアセルの形成は、エッチング法又は電子彫刻法によって行えばよいが、エッチング法が好適である。ここでエッチング法はグラビアシリンダーの版胴面に感光液を塗布して直接焼き付けた後、エッチングしてグラビアセルを形成する方法である。電子彫刻法は、デジタル信号によりダイヤモンド彫刻針を機械的に作動させグラビアシリンダーの銅表面にグラビアセルを彫刻する方法である。
本発明のグラビア製版ロールの第1の態様によれば、CVD法により形成された密着層と、CVD法により形成されたダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜とを組み合わせて用いることによって、表面強化被覆層として密着性の高いダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜を形成することができ、従って、クロムめっき工程を省略することができるので、毒性の高い六価クロムを用いることがなくなり、作業の安全性を図るための余分なコストが不要で、公害発生の心配も全くなく、しかもダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜はクロム層に匹敵する強度を有し耐刷力にも優れるという大きな効果を奏するものである。
本発明のグラビア製版ロールの第2の態様によれば、特定の下地金属めっき層と、CVD法により形成された密着層と、CVD法により形成されたダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜とを組み合わせて用いることによって、表面強化被覆層として密着性の高いダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜を形成することができ、従って、クロムめっき工程を省略することができるので、毒性の高い六価クロムを用いることがなくなり、作業の安全性を図るための余分なコストが不要で、公害発生の心配も全くなく、しかもダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜はクロム層に匹敵する強度を有し耐刷力にも優れるという大きな効果を奏するものである。
10:版母材(中空ロール)、10a,10b:グラビア製版ロール、12:銅めっき層、14:グラビアセル、15:下地金属めっき層、16:密着層、18:ダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜。
以下に本発明の実施の形態を説明するが、これら実施の形態は例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもない。
本発明方法の第1の態様を図1〜図3を用いて説明する。図1(a)及び図3において、符号10は版母材で、アルミニウム、鉄又は炭素繊維強化樹脂(CFRP)等からなる中空ロールが用いられる(図2のステップ100)。該中空ロール10の表面には銅メッ
キ処理によって銅メッキ層12が形成される(図2のステップ102)。
キ処理によって銅メッキ層12が形成される(図2のステップ102)。
該銅メッキ層12の表面には多数の微小な凹部(グラビアセル)14が形成される(図2のステップ104)。グラビアセル14の形成方法としては、エッチング法(版胴面に感光液を塗布して直接焼き付けた後、エッチングしてグラビアセル14を形成する)や電子彫刻法(デジタル信号によりダイヤモンド彫刻針を機械的に作動させ銅表面にグラビアセル14を彫刻する)等の公知の方法を用いることができるが、エッチング法が好適である。
次に、グラビアセル14を形成した銅メッキ層12(グラビアセル14を含む)の表面に密着層16を形成する(図2のステップ106)。該密着層16の形成方法としては、CVD法、好ましくはプラズマCVD法を適用する。
CVD法としては、常圧で成膜するAPCVD(Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition)、0.05Torr程度の減圧で成膜するLPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)、常圧よりやや低い600Torr程度の圧力のSACVD(Subatmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition)、超高真空のUHVCVD(Ultra-High-Vacuum Chemical Vapor Deposition)、600〜1000℃の高温の熱CVD、高周波プラズマエネルギーを用い200〜450℃で成膜するプラズマCVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition)、紫外線による励起を利用した光CVD、ソースに有機金属を用いた化合物結晶成長用のMOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)等が知られているが、プラズマCVDが好適である。
プラズマCVD法は、減圧下でCVD法を行う際により低温で薄膜形成を行う目的から、プラズマ励起を利用して原料ガスを分解させ、基板上で反応堆積させる方法である。
前記密着層16が、アルミニウム(Al)、リン(P)、チタン(Ti)、及び珪素(Si)からなる群から選ばれる一種又は二種以上から形成されるのが好ましい。
前記密着層16を形成するために、トリメチルアルミニウム、チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトラエトキシド、テトラメチルシラン、亜リン酸トリメチル、ヘキサメチルジシロキサンからなる群から選ばれる一種又は二種以上のガス種を用いるのが好適である。
前記密着層16として使用する上記ガス種に含まれるアルミニウム(Al)、リン(P)、チタン(Ti)、及び珪素(Si)が銅メッキ層12と共有結合するため、銅メッキ層12上にダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜18を直接成膜する方法より密着性が向上する。ダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜18と密着層16との結合が良い理由は上記ガスが炭化水素ガスであるためダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜18との密着性が高いからである。また、上記ガスはチャンバー内に導入され、プラズマCVD法によって成膜されるため、密着層16は全体に均一に成膜されるという利点がある。
続いて、前記密着層16の表面にダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜18を被覆形成する(図2のステップ108)。ダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜18の形成方法としては、密着層16の形成と同様に、CVD法、好ましくはプラズマCVD法を適用する。
前記銅メッキ層12の厚さが50〜200μm、前記グラビアセル14の深度が5〜150μm、前記密着層16の厚さが0.1〜1μm、及び前記ダイヤモンドライクカーボン被膜18の厚さが0.1〜10μmであるのが好ましい。
上記したダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜18により被覆し、このダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜18を表面強化被覆層として作用させることによって、毒性がなくかつ公害発生の心配も皆無となるとともに耐刷力に優れたグラビア製版ロール10aを得ることができる。
本発明方法の第2の態様を図4〜図6を用いて説明する。図4(a)及び図6において、符号10は版母材で、アルミニウム、鉄又は炭素繊維強化樹脂(CFRP)等からなる中空ロールが用いられる(図5のステップ200)。該中空ロール10の表面には銅めっき処理によって銅めっき層12が形成される(図5のステップ202)。
該銅めっき層12の表面には多数の微小な凹部(グラビアセル)14が形成される(図5のステップ204)。グラビアセル14の形成方法としては、ステップ104において前述した方法を同様に用いることができる。
次に、グラビアセル14を形成した銅めっき層12(グラビアセル14を含む)の表面に下地金属めっき層15を形成する(図5のステップ206)。該下地金属めっき層15は、ニッケル(Ni)、コバルト(Co)、及び鉄(Fe)からなる群から選ばれる金属のめっき層である。前記下地金属めっき層15の厚さが0.1〜5μmであるのが好ましい。
さらに、該下地金属めっき層15の表面に密着層16を形成する(図5のステップ208)。該密着層16の形成方法としては、ステップ106において前述した方法を同様に適用することができる。
続いて、前記密着層16の表面にダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜18を被覆形成する(図5のステップ210)。ダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜18の形成方法としては、ステップ108において前述した方法を同様に用いることができる。
上記したダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜18により前記密着層16の表面を被覆し、このダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜18を表面強化被覆層として作用させることによって、毒性がなくかつ公害発生の心配も皆無となるとともに耐刷力に優れたグラビア製版ロール10bを得ることができる。
以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。
(実施例1〜3)
円周600mm、面長1100mmのグラビアシリンダー(アルミ中空ロール)をメッキ槽に装着し、陽極室をコンピューターシステムによる自動スライド装置で20mmまで中空ロールに近接させ、メッキ液をオーバーフローさせ、中空ロールを全没させて18A/dm2、6.0Vで80μmの銅メッキ層を形成した。メッキ時間は20分、メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一な銅メッキ層を得た。
円周600mm、面長1100mmのグラビアシリンダー(アルミ中空ロール)をメッキ槽に装着し、陽極室をコンピューターシステムによる自動スライド装置で20mmまで中空ロールに近接させ、メッキ液をオーバーフローさせ、中空ロールを全没させて18A/dm2、6.0Vで80μmの銅メッキ層を形成した。メッキ時間は20分、メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一な銅メッキ層を得た。
上記形成した銅メッキ層に感光膜をコートして画像をレーザー露光し現像しバーニングしてレジスト画像を形成し、次いでプラズマエッチング等のドライエッチングを行ってグラビアセルからなる画像を彫り込み、その後レジスト画像を取り除くことにより印刷版を形成した。このとき、グラビアセルの深度を10μm(実施例1)、18μm(実施例2)、30μm(実施例3)とした3本の中空ロールを作製した。
このグラビアセルを形成した銅メッキ層の上面にガス種としてトリメチルアルミニウムを用いプラズマCVD法によって厚さ0.1μmのアルミニウム(Al)層を形成した。
次に、アルミニウム(Al)の上面にプラズマCVD法によって厚さ1μmのダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜を被覆形成した。このようにして、グラビア製版ロール(グラビアシリンダー)を完成した。
上記した3本のグラビアシリンダーを用いて、実施例1(グラビアセルの深度:10μm)のグラビアシリンダーに対しては水性インキ、実施例2(グラビアセルの深度:18μm)に対しては油性インキ、実施例3(グラビアセルの深度:30μm)に対しては銀ペーストインキをそれぞれ適用してOPPフィルム(Oriented Polypropylene Film:2軸延伸ポリプロピレンフィルム)を用いて印刷テスト(印刷速度:200m/分、OPPフィルムの長さ:4000m)を行った。得られた印刷物はいずれも版カブリがなく、転移性が良好であった。この結果として、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜は従来のクロム層に匹敵する性能を有し、クロム層代替品として充分使用できることを確認した。
(実施例4〜6)
実施例1〜3と同様にしてグラビアセルの深度を10μm(実施例4)、18μm(実施例5)、30μm(実施例6)とした3本の中空ロールを作製した。上記3本の中空ロールに対してガス種をチタニウムテトライソプロポキシドとしてプラズマCVD法によって厚さ0.1μmのチタン(Ti)層を形成した以外は実施例1〜3と同様に処理してグラビア製版ロールを完成し、同様に印刷テストを行ったところ、同様に版カブリがなく、転移性が良好な印刷物を得ることができた。これらの実施例においてもダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜は従来のクロム層に匹敵する性能を有し、クロム層代替品として充分使用できることを確認した。
実施例1〜3と同様にしてグラビアセルの深度を10μm(実施例4)、18μm(実施例5)、30μm(実施例6)とした3本の中空ロールを作製した。上記3本の中空ロールに対してガス種をチタニウムテトライソプロポキシドとしてプラズマCVD法によって厚さ0.1μmのチタン(Ti)層を形成した以外は実施例1〜3と同様に処理してグラビア製版ロールを完成し、同様に印刷テストを行ったところ、同様に版カブリがなく、転移性が良好な印刷物を得ることができた。これらの実施例においてもダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜は従来のクロム層に匹敵する性能を有し、クロム層代替品として充分使用できることを確認した。
なお、ガス種として、チタニウムテトラエトキシド、テトラメチルシラン、亜リン酸トリメチル、ヘキサメチルジシロキサンを用い、プラズマCVD法によってそれぞれ厚さ0.1μmのチタン(Ti)層、珪素(Si)層、リン(P)層、珪素(Si)層を形成して、同様の実験を行い、同様の結果が得られることを確認した。
(実施例7)
円周600mm、面長1100mmのグラビアシリンダー(アルミ中空ロール)をめっき槽に装着し、陽極室をコンピューターシステムによる自動スライド装置で20mmまで中空ロールに近接させ、めっき液をオーバーフローさせ、中空ロールを全没させて18A/dm2、6.0Vで80μmの銅めっき層を形成した。めっき時間は20分、めっき表面はブツやピットの発生がなく、均一な銅めっき層を得た。
円周600mm、面長1100mmのグラビアシリンダー(アルミ中空ロール)をめっき槽に装着し、陽極室をコンピューターシステムによる自動スライド装置で20mmまで中空ロールに近接させ、めっき液をオーバーフローさせ、中空ロールを全没させて18A/dm2、6.0Vで80μmの銅めっき層を形成した。めっき時間は20分、めっき表面はブツやピットの発生がなく、均一な銅めっき層を得た。
上記形成した銅めっき層に感光膜をコートして画像をレーザー露光し現像しバーニングしてレジスト画像を形成し、次いでプラズマエッチング等のドライエッチングを行ってグラビアセルからなる画像を彫り込み、その後レジスト画像を取り除くことにより印刷版を形成した。このとき、グラビアセルの深度を10μmとした中空ロールを作製した。
この中空ロールに対してコバルトめっき槽によって下記する条件でコバルトめっきを施して厚さ1μmのコバルトめっき層を形成した。
コバルトめっき液組成(溶媒:水)
硫酸コバルト 250g/L
塩化コバルト 40g/L
ホウ酸 30g/L
pH 4.5
液温度 50℃
電流密度 2A/dm2
めっき時間 3分間
コバルトめっき液組成(溶媒:水)
硫酸コバルト 250g/L
塩化コバルト 40g/L
ホウ酸 30g/L
pH 4.5
液温度 50℃
電流密度 2A/dm2
めっき時間 3分間
このコバルトめっき層の上面にガス種としてヘキサメチルジシロキサンを用いプラズマCVD法によって厚さ0.1μmの珪素(Si)層を形成した。
次に、珪素(Si)層の上面にプラズマCVD法によって厚さ2μmのダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜を被覆形成した。このようにして、グラビア製版ロール(グラビアシリンダー)を完成した。このグラビアシリンダーのダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜のビッカース硬度を測定したところ1280であり、十分な硬度を有することがわかった。また、そのスクラッチ試験をおこなったところスクラッチ試験値は8.34Nであり、実施例8に比べて密着性がより向上していることがわかった。
スクラッチ試験について図7を用いて説明する。図7はスクラッチ試験機を示す概略説明図である。図7において、テーブル(図示せず)の上に薄膜50を成膜した基板52を置き、その基板52の上にダイヤモンド圧子54を密着させ、徐々に荷重56を加えていき、同時に基板52を一定の速度で移動させ密着力を測定する。この時、AE(アコースティック・エミッション)センサー58により、基板52に成膜されている薄膜50の剥離やクラックに起因する破壊音を超音波として検出し、同時に摩擦力も検出することができる。スクラッチ痕60の光学顕微鏡等による観察、摩擦力の波形の急激な上昇とAEの波形の急激な変化から、各ポイントや剥離臨界荷重を読み取りその機械的な強度や密着性を考察する。特に剥離臨界荷重は、工業的には薄膜の密着力として比較されることが多い。また、膜厚に対して使用する圧子先端の曲率半径には注意が必要である。図7において、62は深さセンサー及び64は摩擦力センサーである。ISO20502:2005(E)には、スクラッチの剥離モードの例が示されている。通常使用する圧子54は、200μmダイヤモンド圧子である。なお、図中において、PDは深さセンサー、FTは摩擦力センサーである。
上記したグラビアシリンダーを用いて、水性インキを適用してOPPフィルム(Oriented Polypropylene Film:2軸延伸ポリプロピレンフィルム)を用いて印刷テスト(印刷速度:200m/分、OPPフィルムの長さ:4000m)を行った。得られた印刷物はいずれも版カブリがなく、転移性が良好であった。この結果として、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜は従来のクロム層に匹敵する性能を有し、クロム層代替品として充分使用できることを確認した。
(実施例8)
中空ロールに対してコバルトめっきを行わなかった以外は実施例7と同様に処理してグラビア製版ロールを完成した。このグラビアシリンダーのダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜のビッカース硬度を測定したところ1280であった。また、そのスクラッチ試験をおこなったところスクラッチ試験値は7.05Nであった。
中空ロールに対してコバルトめっきを行わなかった以外は実施例7と同様に処理してグラビア製版ロールを完成した。このグラビアシリンダーのダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜のビッカース硬度を測定したところ1280であった。また、そのスクラッチ試験をおこなったところスクラッチ試験値は7.05Nであった。
(実施例9)
中空ロールに対してガス種としてヘキサメチルジシロキサンの替わりにテトラメチルシランを用いプラズマCVD法によって厚さ0.1μmの珪素(Si)層を形成した以外は実施例7と同様に処理してグラビア製版ロールを完成した。このグラビアシリンダーのダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜のビッカース硬度を測定したところ1380であり、十分な硬度を有することがわかった。また、そのスクラッチ試験をおこなったところスクラッチ試験値は10.58Nであり、実施例10に比べて密着性がより向上していることがわかった。このグラビアシリンダーを用いて同様に印刷テストを行ったところ、同様に版カブリがなく、転移性が良好な印刷物を得ることができた。これらの実施例においてもダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜は従来のクロム層に匹敵する性能を有し、クロム層代替品として充分使用できることを確認した。
中空ロールに対してガス種としてヘキサメチルジシロキサンの替わりにテトラメチルシランを用いプラズマCVD法によって厚さ0.1μmの珪素(Si)層を形成した以外は実施例7と同様に処理してグラビア製版ロールを完成した。このグラビアシリンダーのダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜のビッカース硬度を測定したところ1380であり、十分な硬度を有することがわかった。また、そのスクラッチ試験をおこなったところスクラッチ試験値は10.58Nであり、実施例10に比べて密着性がより向上していることがわかった。このグラビアシリンダーを用いて同様に印刷テストを行ったところ、同様に版カブリがなく、転移性が良好な印刷物を得ることができた。これらの実施例においてもダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜は従来のクロム層に匹敵する性能を有し、クロム層代替品として充分使用できることを確認した。
(実施例10)
中空ロールに対してコバルトめっきを行わなかった以外は実施例9と同様に処理してグラビア製版ロールを完成した。このグラビアシリンダーのダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜のビッカース硬度を測定したところ1380であった。また、そのスクラッチ試験をおこなったところスクラッチ試験値は9.21Nであった。
中空ロールに対してコバルトめっきを行わなかった以外は実施例9と同様に処理してグラビア製版ロールを完成した。このグラビアシリンダーのダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜のビッカース硬度を測定したところ1380であった。また、そのスクラッチ試験をおこなったところスクラッチ試験値は9.21Nであった。
(実施例11)
中空ロールに対してコバルトめっきの替わりに厚さ1μmのニッケルめっき層を下記の条件で形成した以外は実施例7と同様に処理してグラビア製版ロールを完成した。
ニッケルめっき液組成(溶媒:水)
硫酸ニッケル 250g/L
塩化ニッケル 40g/L
ホウ酸 30g/L
pH 4.5
液温度 50℃
電流密度 2A/dm2
めっき時間 3分間
中空ロールに対してコバルトめっきの替わりに厚さ1μmのニッケルめっき層を下記の条件で形成した以外は実施例7と同様に処理してグラビア製版ロールを完成した。
ニッケルめっき液組成(溶媒:水)
硫酸ニッケル 250g/L
塩化ニッケル 40g/L
ホウ酸 30g/L
pH 4.5
液温度 50℃
電流密度 2A/dm2
めっき時間 3分間
このグラビアシリンダーのダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜のビッカース硬度を測定したところ1280であり、十分な硬度を有することがわかった。また、そのスクラッチ試験をおこなったところスクラッチ試験値は7.19Nであり、実施例8に比べて密着性がより向上していることがわかった。このグラビアシリンダーを用いて同様に印刷テストを行ったところ、同様に版カブリがなく、転移性が良好な印刷物を得ることができた。これらの実施例においてもダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜は従来のクロム層に匹敵する性能を有し、クロム層代替品として充分使用できることを確認した。
(実施例12)
中空ロールに対してコバルトめっきの替わりに厚さ1μmのニッケルめっき層を形成した以外は実施例9と同様に処理してグラビア製版ロールを完成した。このグラビアシリンダーのダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜のビッカース硬度を測定したところ1380であり、十分な硬度を有することがわかった。また、そのスクラッチ試験をおこなったところスクラッチ試験値は10.27Nであり、実施例10に比べて密着性がより向上していることがわかった。このグラビアシリンダーを用いて同様に印刷テストを行ったところ、同様に版カブリがなく、転移性が良好な印刷物を得ることができた。これらの実施例においてもダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜は従来のクロム層に匹敵する性能を有し、クロム層代替品として充分使用できることを確認した。
中空ロールに対してコバルトめっきの替わりに厚さ1μmのニッケルめっき層を形成した以外は実施例9と同様に処理してグラビア製版ロールを完成した。このグラビアシリンダーのダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜のビッカース硬度を測定したところ1380であり、十分な硬度を有することがわかった。また、そのスクラッチ試験をおこなったところスクラッチ試験値は10.27Nであり、実施例10に比べて密着性がより向上していることがわかった。このグラビアシリンダーを用いて同様に印刷テストを行ったところ、同様に版カブリがなく、転移性が良好な印刷物を得ることができた。これらの実施例においてもダイヤモンドライクカーボン(DLC)被膜は従来のクロム層に匹敵する性能を有し、クロム層代替品として充分使用できることを確認した。
なお、ガス種として、チタニウムテトラエトキシド、チタニウムテトライソプロポキシド、亜リン酸トリメチル、トリメチルアルミニウムを用い、プラズマCVD法によってそれぞれ厚さ0.1μmのチタン(Ti)層、リン(P)層、アルミニウム(Al)層を形成して、同様の実験を行い、同様の結果が得られることを確認した。
Claims (10)
- 版母材と、該版母材の表面に設けられかつ表面に多数のグラビアセルが形成された銅めっき層と、該銅めっき層の表面に設けられた密着層と、該密着層の表面を被覆するダイヤモンドライクカーボン被膜とを有し、前記密着層及びダイヤモンドライクカーボン被膜をCVD法により作成することを特徴とするグラビア製版ロール。
- 版母材と、該版母材の表面に設けられかつ表面に多数のグラビアセルが形成された銅めっき層と、該グラビアセルが形成された銅めっき層の表面に設けられた下地金属めっき層と、該下地金属めっき層の表面に設けられた密着層と、該密着層の表面を被覆するダイヤモンドライクカーボン被膜とを有し、前記下地金属めっき層がニッケル(Ni)、コバルト(Co)、及び鉄(Fe)からなる群から選ばれる金属のめっき層であり、前記密着層及びダイヤモンドライクカーボン被膜をCVD法により作成することを特徴とするグラビア製版ロール。
- 前記銅めっき層の厚さが50〜200μm、前記グラビアセルの深度が5〜150μm、前記密着層の厚さが0.1〜1μm、及び前記ダイヤモンドライクカーボン被膜の厚さが0.1〜10μmであることを特徴とする請求項1記載のグラビア製版ロール。
- 前記銅めっき層の厚さが50〜200μm、前記グラビアセルの深度が5〜150μm、前記下地金属めっき層の厚さが0.1〜5μm、前記密着層の厚さが0.1〜1μm、及び前記ダイヤモンドライクカーボン被膜の厚さが0.1〜10μmであることを特徴とする請求項2記載のグラビア製版ロール。
- 前記密着層が、アルミニウム(Al)、リン(P)、チタン(Ti)、及び珪素(Si)からなる群から選ばれる一種又は二種以上からなることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載のグラビア製版ロール。
- 前記密着層を形成するために、トリメチルアルミニウム、チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトラエトキシド、テトラメチルシラン、亜リン酸トリメチル、ヘキサメチルジシロキサンからなる群から選ばれる一種又は二種以上のガス種を用いることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項記載のグラビア製版ロール。
- 版母材を準備する工程と、該版母材の表面に銅めっき層を形成する銅めっき工程と、該銅めっき層の表面に多数のグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、該銅めっき層の表面に密着層を形成する密着層形成工程と、該密着層の表面にダイヤモンドライクカーボン被膜を形成するダイヤモンドライクカーボン被膜形成工程とを含み、前記密着層及びダイヤモンドライクカーボン被膜をCVD法により作成することを特徴とするグラビア製版ロールの製造方法。
- 版母材を準備する工程と、該版母材の表面に銅めっき層を形成する銅めっき工程と、該銅めっき層の表面に多数のグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、該グラビアセルが形成された銅めっき層の表面に下地金属めっき層を形成する下地金属めっき層形成工程と、該下地金属めっき層の表面に密着層を形成する密着層形成工程と、該密着層の表面にダイヤモンドライクカーボン被膜を形成するダイヤモンドライクカーボン被膜形成工程とを含み、前記下地金属めっき層がニッケル(Ni)、コバルト(Co)、及び鉄(Fe)からなる群から選ばれる金属のめっき層であり、前記密着層及びダイヤモンドライクカーボン被膜をCVD法により作成することを特徴とするグラビア製版ロールの製造方法。
- 前記密着層が、アルミニウム(Al)、リン(P)、チタン(Ti)、及び珪素(Si)からなる群から選ばれる一種又は二種以上からなることを特徴とする請求項7又は8記載のグラビア製版ロールの製造方法。
- 前記密着層を形成するために、トリメチルアルミニウム、チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトラエトキシド、テトラメチルシラン、亜リン酸トリメチル、ヘキサメチルジシロキサンからなる群から選ばれる一種又は二種以上のガス種を用いることを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項記載のグラビア製版ロールの製造方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006306875 | 2006-11-13 | ||
JP2006306875 | 2006-11-13 | ||
JP2006345938 | 2006-12-22 | ||
JP2006345938 | 2006-12-22 | ||
PCT/JP2007/070918 WO2008059705A1 (fr) | 2006-11-13 | 2007-10-26 | Rouleau à graver pour photogravure et son procédé de fabrication |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008059705A1 true JPWO2008059705A1 (ja) | 2010-03-04 |
Family
ID=39401514
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008544104A Pending JPWO2008059705A1 (ja) | 2006-11-13 | 2007-10-26 | グラビア製版ロール及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2008059705A1 (ja) |
WO (1) | WO2008059705A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2013176048A1 (ja) * | 2012-05-25 | 2016-01-12 | 旭硝子株式会社 | 原料供給方法および原料供給装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06299146A (ja) * | 1993-04-20 | 1994-10-25 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | シリカ被覆蛍光体の製造方法 |
JP2002105641A (ja) * | 2000-10-03 | 2002-04-10 | Murakami Corp | 複合材およびその製造方法 |
JP2002172752A (ja) * | 2000-12-06 | 2002-06-18 | Utec:Kk | ドクターブレード及び印刷版 |
JP2004130718A (ja) * | 2002-10-11 | 2004-04-30 | Nikka Kk | 版胴および輪転印刷機 |
JP2004353018A (ja) * | 2003-05-28 | 2004-12-16 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 摺動部材及びその製造方法 |
JP2005319678A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Nippon Zeon Co Ltd | 積層体、発光素子及びその使用 |
-
2007
- 2007-10-26 JP JP2008544104A patent/JPWO2008059705A1/ja active Pending
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06299146A (ja) * | 1993-04-20 | 1994-10-25 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | シリカ被覆蛍光体の製造方法 |
JP2002105641A (ja) * | 2000-10-03 | 2002-04-10 | Murakami Corp | 複合材およびその製造方法 |
JP2002172752A (ja) * | 2000-12-06 | 2002-06-18 | Utec:Kk | ドクターブレード及び印刷版 |
JP2004130718A (ja) * | 2002-10-11 | 2004-04-30 | Nikka Kk | 版胴および輪転印刷機 |
JP2004353018A (ja) * | 2003-05-28 | 2004-12-16 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 摺動部材及びその製造方法 |
JP2005319678A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Nippon Zeon Co Ltd | 積層体、発光素子及びその使用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2008059705A1 (fr) | 2008-05-22 |
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|
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