JP5131707B2 - クッション性を有するグラビア版及びその製造方法 - Google Patents
クッション性を有するグラビア版及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5131707B2 JP5131707B2 JP2009511806A JP2009511806A JP5131707B2 JP 5131707 B2 JP5131707 B2 JP 5131707B2 JP 2009511806 A JP2009511806 A JP 2009511806A JP 2009511806 A JP2009511806 A JP 2009511806A JP 5131707 B2 JP5131707 B2 JP 5131707B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gravure
- material layer
- plate material
- photosensitive plate
- heat treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 87
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 60
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 47
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 37
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 30
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 30
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 29
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 15
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 14
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 10
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 100
- 239000010408 film Substances 0.000 description 51
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 17
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 11
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 10
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 9
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- -1 solvesso Chemical compound 0.000 description 4
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropoxy)propane Chemical compound CC(C)COCC(C)C SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N ethylcyclohexane Chemical compound CCC1CCCCC1 IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N limonene Chemical compound CC(=C)C1CCC(C)=CC1 XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005026 oriented polypropylene Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229920006378 biaxially oriented polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011127 biaxially oriented polypropylene Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000003738 black carbon Substances 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000004918 carbon fiber reinforced polymer Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCC[14CH3] DIOQZVSQGTUSAI-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 229940087305 limonene Drugs 0.000 description 1
- 235000001510 limonene Nutrition 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N n-butylhexane Natural products CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N para-hydroxystyrene Natural products OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 150000003513 tertiary aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Description
本発明方法は本発明のグラビア版を製造するために用いられる。前記感光性版材層は、少なくとも光重合反応後、即ち光重合反応の前後又は後においてクッション性と耐刷力を有するものである。
感光性版材層12の膜厚をセルの深さと同じとすることにより、クッション層11bが露出するようにセルが形成され[図3(d)]、感光性版材層12の膜厚をセルの深さよりも厚くすることにより、クッション層11bが露出せず、感光性版材層12の表面にセルが形成される[図1(d)]。セルの深さが深い(例えば、深度1mm以上)の場合、感光性版材として感光性シート状物を用いることが好ましく、セルの深さが浅い(例えば、深度1mm未満)の場合、感光性版材として感光剤を用いることが好ましい。例えば、
グラビアセルの深度が2〜20μmの場合、感光剤を用いて2〜30μmの感光性版材層を形成することが好適である。
この感光性版材層12は、通常は、シート状の感光性版材を巻き付け接着し、その後、精密円筒研磨することによって形成される。前記感光性版材は表面平滑度が高いシート状であり、継ぎ目に隙間が開かないように巻付けることが好ましい。
フォトリソグラフィの手順について、感光性版材層12としてネガ型感光性版材層を用いた場合を例として、以下に説明する。
前記マスク13の形成方法は特に制限はないが、例えば、カーボン含有ポリマーよりなる黒色コート剤又はネガ型のフォトクロミック剤をコーティングにより成膜し、YAGレーザ或いは半導体レーザを照射することにより、グラビア画像の非画線部に対応させて感光性版材層14を飛ばして露出するか透過するように形成する方法や、グラビア画像の非画線部が透明であるネガ型のマスクフィルムを用いる方法、感光剤を前記感光性版材層にコートし電磁波照射により光重合反応を起こし現像することにより形成するネガ型のレジスト画像とする方法等が挙げられる。
前記ネガ型のフォトクロミック剤としては、有色のときに紫外線遮蔽性を有しレーザ照射により透明になる有機フォトクロミック分子単独、又は有機フォトクロミック分子と高分子との相溶体を用いることが、半導体レーザによる焼付けが良好にでき省エネルギーが図れる為、好ましい。
感光性版材層12に対する現像液は、例えば、特開平4−18564号公報、特開平4−285967号公報、特開平5−249695号公報、特開平6−258847号公報、特開平7−234523号公報、特開平8−95257号公報等に示される現像剤を使用できる。
ペルヒドロポリシラザン塗布膜16の形成方法としては、ペルヒドロポリシラザン溶液を、スプレーコート、インクジェット塗布、メニスカスコート、ファウンティンコート、ディップコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布等の公知の塗布方法を用いて塗布すればよい。
これらの溶剤は単独で用いられてもよいし、二種以上を併用してもよい。溶剤の使用量は特に制限はなく、溶液の塗布方法により適宜選択すればよいが、例えば、スプレーコート法やファウンティンコート法により塗布する場合、溶液中にペルヒドロポリシラザンを0.5質量%〜10質量%含むように溶剤を用いることが好ましい。
前記二酸化珪素被膜の厚さは0.1〜5μm、好ましくは0.1〜3μm、さらに好ましくは0.1〜1μmであることが好適である。
前記加熱処理としては、第1次及び第2次加熱処理を含む複数段の加熱処理とするのがより好ましく、第1次加熱処理の条件を100℃〜170℃、1分〜30分、及び第2次加熱処理の条件を140℃〜200℃、1分〜30分とし、第2次加熱処理の温度を第1次加熱処理の温度よりも高く設定するようにした構成を採用するのが好適である。さらに、上記第2次加熱処理の温度を第1次加熱処理の温度よりも5℃以上、好ましくは10℃以上高く設定するのがよい。
まず、円周600mm、面長1100mmのアルミ中空ロールの表面に厚さ5cmの合
成ゴムシートを巻きつけ強固に接着して研磨機を用いて円筒研削及び鏡面研磨してその表面を均一な研磨面とし、クッション層を有する版母材を形成した。
実施例1では感光性版材層の厚さを5μmとした場合を例示したが、厚さ2mmのシート状感光性版材層をクッション層の表面に巻付け接着し、1mm深さのグラビアセルを実施例1と同様の方法で作成したクッション性を有するグラビア版を作成した。このグラビア版を用いて実施例1と同様に印刷テストを行ったところ実施例1と同様の良好な結果を得た。
Claims (7)
- ゴムまたはクッション性を有する樹脂からなるクッション層と、該クッション層の表面に形成されかつ光重合性を有し、少なくとも光重合反応後においてクッション性と耐刷力を有する感光性版材層と、該感光性版材層の表面に形成されたグラビアセルと、該グラビアセルを形成した該感光性版材層の表面に形成された二酸化珪素被膜と、を含み、ペルヒドロポリシラザン溶液を用いて前記二酸化珪素被膜を形成することを特徴とするクッション性を有するグラビア版。
- 前記クッション層が露出しないように、前記感光性版材層の表面にグラビアセルを形成することを特徴とする請求項1記載のクッション性を有するグラビア版。
- 前記クッション層が露出するように、前記感光性版材層の表面にグラビアセルを形成することを特徴とする請求項1記載のクッション性を有するグラビア版。
- 請求項1〜3のいずれか1項記載のクッション性を有するグラビア版の製造方法であって、
ゴムまたはクッション性を有する樹脂からなるクッション層の表面に、光重合性を有し、少なくとも光重合反応後においてクッション性と耐刷力を有する感光性版材層を形成する工程と、
該感光性版材層の表面にグラビアセルを形成する工程と、
該グラビアセルを形成した該感光性版材層の表面を被覆する二酸化珪素被膜を形成する工程と、を有し、
ペルヒドロポリシラザン溶液を用いて前記二酸化珪素被膜を形成することを特徴とするクッション性を有するグラビア版の製造方法。 - 前記二酸化珪素被膜を形成する方法が、
前記感光性版材層の表面にペルヒドロポリシラザン溶液を塗布しペルヒドロポリシラザン塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、
前記塗布されたペルヒドロポリシラザン塗布膜を過熱水蒸気によって所定の条件で加熱処理して二酸化珪素被膜を前記感光性版材層の表面に形成する工程と、を有し、
前記加熱処理が第1次及び第2次加熱処理を含む複数段の加熱処理であり、第1次加熱処理の条件を100℃〜170℃、1分〜30分、及び第2次加熱処理の条件を140℃〜200℃、1分〜30分とし、第2次加熱処理の温度を第1次加熱処理の温度よりも高く設定することを特徴とする請求項4記載のクッション性を有するグラビア版の製造方法。 - 前記加熱処理によって形成された二酸化珪素被膜の表面を冷水又は温水で洗浄する工程をさらに有することを特徴とする請求項5記載のクッション性を有するグラビア版の製造方法。
- 前記二酸化珪素被膜の厚さが0.1〜5μmであることを特徴とする請求項4〜6のいずれか1項記載のクッション性を有するグラビア版の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009511806A JP5131707B2 (ja) | 2007-04-18 | 2008-04-15 | クッション性を有するグラビア版及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007109692 | 2007-04-18 | ||
JP2007109692 | 2007-04-18 | ||
JP2009511806A JP5131707B2 (ja) | 2007-04-18 | 2008-04-15 | クッション性を有するグラビア版及びその製造方法 |
PCT/JP2008/057330 WO2008133105A1 (ja) | 2007-04-18 | 2008-04-15 | クッション性を有するグラビア版及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008133105A1 JPWO2008133105A1 (ja) | 2010-07-22 |
JP5131707B2 true JP5131707B2 (ja) | 2013-01-30 |
Family
ID=39925563
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009511806A Active JP5131707B2 (ja) | 2007-04-18 | 2008-04-15 | クッション性を有するグラビア版及びその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5131707B2 (ja) |
KR (1) | KR101367784B1 (ja) |
WO (1) | WO2008133105A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5058733B2 (ja) * | 2007-09-12 | 2012-10-24 | AzエレクトロニックマテリアルズIp株式会社 | ケイ素含有微細パターン形成用組成物を用いた微細パターン形成方法 |
US20120060999A1 (en) * | 2010-02-23 | 2012-03-15 | Yael Kowal-Blau | Removable top blanket |
JP2012137778A (ja) * | 2012-03-19 | 2012-07-19 | Az Electronic Materials Ip Ltd | ケイ素含有微細パターン形成用組成物 |
CN102998900A (zh) * | 2012-12-01 | 2013-03-27 | 刘华礼 | 一种超薄感光层感光版的制法 |
CN113832465B (zh) * | 2021-09-01 | 2023-11-10 | 安徽亚泰包装科技股份有限公司 | 一种提升二次腐蚀压纹版压纹效果的腐蚀处理工艺 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000199949A (ja) * | 1998-12-30 | 2000-07-18 | Think Laboratory Co Ltd | クッション性を有するグラビア版の製造方法 |
WO2007013333A1 (ja) * | 2005-07-25 | 2007-02-01 | Think Laboratory Co., Ltd. | グラビア製版ロール及びその製造方法 |
WO2007135900A1 (ja) * | 2006-05-23 | 2007-11-29 | Think Laboratory Co., Ltd. | グラビア製版ロール及びその製造方法 |
-
2008
- 2008-04-15 WO PCT/JP2008/057330 patent/WO2008133105A1/ja active Application Filing
- 2008-04-15 KR KR1020097012973A patent/KR101367784B1/ko active IP Right Grant
- 2008-04-15 JP JP2009511806A patent/JP5131707B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000199949A (ja) * | 1998-12-30 | 2000-07-18 | Think Laboratory Co Ltd | クッション性を有するグラビア版の製造方法 |
WO2007013333A1 (ja) * | 2005-07-25 | 2007-02-01 | Think Laboratory Co., Ltd. | グラビア製版ロール及びその製造方法 |
WO2007135900A1 (ja) * | 2006-05-23 | 2007-11-29 | Think Laboratory Co., Ltd. | グラビア製版ロール及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101367784B1 (ko) | 2014-02-26 |
WO2008133105A1 (ja) | 2008-11-06 |
KR20090129983A (ko) | 2009-12-17 |
JPWO2008133105A1 (ja) | 2010-07-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7901863B2 (en) | Photosensitive resin composition for laser engravable printing substrate | |
TWI254835B (en) | Processless digitally imaged photopolymer elements using microspheres | |
EP1731325B1 (en) | Hollow cylindrical printing element | |
JP5131707B2 (ja) | クッション性を有するグラビア版及びその製造方法 | |
JP2000501662A (ja) | 平版印刷版での画像形成 | |
JP5198999B2 (ja) | クッション性を有するグラビア版の製造方法 | |
WO2007013333A1 (ja) | グラビア製版ロール及びその製造方法 | |
WO2005106597A3 (en) | Photopolymer plate and method for imaging the surface of a photopolymer plate | |
JP5198998B2 (ja) | クッション性を有するグラビア版及びその製造方法 | |
CN107969149A (zh) | 具有集成阻挡层的可数字成像柔版印版 | |
JP6219954B2 (ja) | 凸版印刷版の製造方法 | |
JP2011088353A (ja) | 印刷版の製造方法 | |
EP1194816B1 (en) | Method for producing a digitally imaged screen for use in a screen printing process | |
JP2009090663A (ja) | グラビア両面同時印刷装置 | |
JP2009090661A (ja) | グラビア製版ロール及びその製造方法 | |
JP4672396B2 (ja) | 中空円筒状印刷基材 | |
TWI667131B (zh) | 樹脂積層體及凸版印刷版原版 | |
JP2006069120A (ja) | 電子回路あるいは光学部材の製造方法 | |
JP4117943B2 (ja) | クッション性を有する印刷版の製造方法 | |
JP4502367B2 (ja) | レーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版の製造方法 | |
JP4454709B2 (ja) | クッション性を有するグラビア版の製造方法 | |
JP3923655B2 (ja) | クッション性を有する凹版 | |
JP4433420B2 (ja) | フレキソ印刷用感光性構成体及びその製造方法 | |
JP2010064281A (ja) | シート状印刷原版、シート状印刷版および、印刷原版もしくは印刷版の装着方法 | |
JP2015150798A (ja) | 樹脂積層体および凸版印刷版原版 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110325 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120904 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121003 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121026 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121030 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151116 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5131707 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |