WO2007135900A1 - グラビア製版ロール及びその製造方法 - Google Patents

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WO2007135900A1
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resin
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Tsutomu Sato
Tatsuo Shigeta
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Think Laboratory Co., Ltd.
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    • B41N1/16—Curved printing plates, especially cylinders
    • B41N1/22—Curved printing plates, especially cylinders made of other substances
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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    • B41F13/10—Forme cylinders
    • B41F13/11—Gravure cylinders
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix

Definitions

  • the present invention relates to a gravure printing roll used for gravure printing, which relates to a gravure printing roll having improved durability at a surface portion and a method for producing the same.
  • Patent Document 1 there is a light absorber encapsulated with a hydrophilic substance or a hydrophilic film, or a hydrophilic substance encapsulated with a light absorbing film.
  • the above-described gravure plate roll made of resin has the disadvantage that its surface hardness is remarkably lower than that of hard chrome-plated metal, and is a thermoplastic resin that eliminates such a disadvantage.
  • a plate material for laser plate making comprising a light absorber and further containing a water repellent or an oil repellent (Patent Document 2).
  • the conventional gravure plate roll as described above has a problem in durability because the surface of the grease is exposed on the surface, and the life of a few thousand sheets is shortened. There was a problem.
  • the applicant of the present application forms a resin film on the surface of the plate base material so that the film thickness becomes equal to the cell depth, forms an ultra-hard film on the surface of the resin film,
  • the gravure printing plate in which a part of the ultra-hard film and a part of the resin film are burned out to expose the plate base and cells for containing ink are formed there is proposed (Patent Literature). 3).
  • Patent Document 3 it is necessary to remove the ultra-hard film and the resin film with a laser in order to form a gravure cell. For this reason, after the gravure cell is formed, there is a portion where the resin film and the plate substrate are exposed, so that the printing durability is a problem.
  • Patent Document 1 JP-A-5-246165
  • Patent Document 2 JP-A-7-276837
  • Patent Document 3 JP-A-11 309950
  • Patent Document 4 JP 2003-197611
  • the present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and is a gravure plate opening with improved durability and a longer life than a conventional gravure plate roll from which a resin layer is exposed. It is an object to provide a tool and a manufacturing method thereof.
  • a gravure plate-making roll of the present invention comprises a plate base material, a resin layer provided on the surface of the plate base material, and a gravure cell formed on the resin layer. And a surface reinforcing coating layer formed to cover the surface of the resin layer and the gravure cell.
  • the method for producing a gravure plate roll of the present invention comprises a step of preparing a plate base material, a step of forming a resin layer on the surface of the plate base material, and a gravure cell on the surface of the resin layer. Forming a gravure cell, and forming a surface-enhanced coating layer so as to cover the resin layer on which the gravure cell is formed and the surface of the gravure cell.
  • the plate base material for example, aluminum, iron, or CFRP (carbon fiber reinforced resin) in a hollow roll shape is preferably used.
  • the thickness of the resin layer is 5 ⁇ m to 50 ⁇ m, the depth of the gravure cell is 3 ⁇ m to 10 ⁇ m, and the thickness of the surface reinforcing coating layer is 0.1 to LO / zm is preferred.
  • Examples of the resin (synthetic resin, etc.) used for the resin layer include, for example, phenol resin, polyethylene, polypropylene, polyester, polyacrylate ester, polystyrene, polyvinylidene chloride, polycarbonate, ethylene Acetate butyl copolymer, ethylene 'acrylate copolymer, ethylene' butyl alcohol copolymer, poly (butyl acetate), urethane, polyacrylonitrile, polybutene, polyacetal, polyamide, polyimide, aramid, ionomer, nitrified cotton, polyethylene
  • naphthalate, methyl terpene copolymer, polyfluorinated bur fluorine resin, monoacid-trifluorinated styrene, tetrafluorinated styrene, carboxylated olefin, and the like can be applied.
  • the gravure cell may be formed by a laser method (laser oscillator, for example, a laser oscillated by a YAG laser device to irradiate the surface of the resin layer to form a predetermined gravure cell) or an electronic engraving method (digital For example, a diamond engraving needle is mechanically operated by a signal to engrave a gravure cell on the surface of the resin layer).
  • laser method laser oscillator, for example, a laser oscillated by a YAG laser device to irradiate the surface of the resin layer to form a predetermined gravure cell
  • an electronic engraving method digital
  • a diamond engraving needle is mechanically operated by a signal to engrave a gravure cell on the surface of the resin layer.
  • a conventional surface-enhanced coating layer such as chromium plating, a diamond-like carbon (DLC) coating layer, a silicon dioxide silicon coating layer formed from perhydropolysilazane, or the like can be applied.
  • DLC diamond-like carbon
  • chrome plating is performed as the surface reinforcing coating layer
  • the chrome plating may be performed by a conventionally known method.
  • the DLC coating layer is formed as the surface reinforcing coating layer, it is preferable to provide an adhesion layer between the resin layer and the DLC coating layer.
  • a method of forming the DLC coating layer a PVD method or a CVD method can be used.
  • PVD method known methods such as a sputtering method, a vacuum evaporation method (electron beam method), an ion plating method, an MBE method (molecular beam epitaxy method), a laser ablation method, and an ion assist film formation method can be applied.
  • CVD methods include APCVD (Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition), which forms a film at normal pressure, LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition), which forms a film at a reduced pressure of about 0.05 Torr, and 600 Torr, which is slightly lower than normal pressure.
  • APCVD Absolutpheric Pressure Chemical Vapor Deposition
  • LPCVD Low Pressure Chemical Vapor Deposition
  • SACVD method Sub atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition
  • ultra high vacuum UHVCVD method Ultra-High-Vacuum Chemical Vapor Deposition
  • high frequency plasma energy Plasma CVD method Pulsma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
  • photo-CVD method using excitation by ultraviolet light
  • MOCVD method for compound crystal growth using organic metal as source
  • Vapor Deposition A known method such as Vapor Deposition
  • the DLC coating layer by the PVD method, it is preferable to form the DLC coating layer after providing a metal layer and a metal carbide layer of the metal as an adhesion layer on the resin layer.
  • a metal layer As the metal of the metal layer, tungsten (W), silicon (Si), titanium (Ti), chromium (Cr), tantalum (which can be carbonized and preferably has high affinity with copper) are preferred.
  • Ta And a group force of zirconium (Zr) force.
  • One or two or more kinds of metals selected are preferably used.
  • the metal carbide layer is a metal carbide gradient layer, and the composition ratio of carbon in the metal carbide gradient layer is such that the carbon ratio gradually increases with respect to the metal layer side force and the DLC coating layer direction. It ’s set!
  • a DLC coating layer by the CVD method, it is preferable to form a DLC coating layer by providing an adhesion layer on the resin layer.
  • Phosphorus (P), titanium (Ti) and silicon (Si) and more preferably one or more selected from the group consisting of:
  • the surface-enhanced coating layer is formed from a perhydropolysilazane solution using a perhydropolysilazane solution as a raw material
  • a known solvent may be used as a solvent for dissolving perhydropolysilazane.
  • benzene, toluene, xylene, ether, THF, methylene chloride, carbon tetrachloride solvesso, diisopropyl ether, methyl tertiary butyl ether, decahydronaphthalene, as well as a sole described in Patent Document 4, Decalin, cyclohexane, cyclohexene, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, limonene, hexane, octane, nonane, decane, C8-C11 alkane mixture, C1 8-C11 aromatic hydrocarbon mixture, C8 or more fragrance
  • the perhydropolysilazane solution prepared by dissolving in the various solvents described above is converted into silicon dioxide by heat treatment with superheated steam as it is, but the reaction rate is increased, the reaction time is shortened, and the reaction temperature is decreased.
  • a catalyst is preferably used for the purpose of improving the adhesion of the formed silicon dioxide coating layer. These catalysts are also known, for example, the ability to use amine-palladium. Specifically, organic amines, for example, primary and tertiary linear aliphatics having 13 C1-C5 alkyl groups arranged.
  • tertiary-aromatic amines in which 13 phenyl groups are arranged, pyridine, or cycloaliphatic amines in which alkyl groups such as methyl and ethyl groups are substituted with nuclei.
  • examples include jetylamine, triethylamine, monobutylamine, monopropylamine, dipropylamine and the like.
  • These catalysts are preliminarily added to the perhydropolysilazane solution. It can also be added, and can also be contained in a vaporized state in the treatment atmosphere during the heat treatment with superheated steam.
  • the perhydropolysilazane solution may be applied by spray coating, ink jet coating, meniscus coating, fountain coating, date coating, spin coating, roll coating, wire bar coating, air knife.
  • Known coating methods such as coating, blade coating and curtain coating can be applied.
  • the perhydropolysilazane coating layer is heated with superheated steam for a predetermined time. It is preferable to use a silicon dioxide coating layer with hardness.
  • the temperature of the superheated steam is 100 ° C or higher, preferably more than 100 ° C and 300 ° C or lower. The optimal temperature is appropriately set according to the material of the hollow roll and the resin layer. Not too long.
  • Conditions for the primary heat treatment in which the heat treatment in the silicon dioxide-silicon coating layer forming step is preferably a multi-stage heat treatment including a primary heat treatment and a secondary heat treatment.
  • 100 ° C. to 170 ° C., 1 minute to 30 minutes, and the conditions of the second heat treatment are 140 ° C. to 200 ° C., 1 minute to 30 minutes, and the temperature of the second heat treatment is It is more preferable to set the temperature higher than the temperature of the primary heat treatment.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing the order of steps in a method for producing a gravure printing roll of the present invention.
  • FIG. 2 is a flowchart showing a process sequence of a method for producing a gravure plate-making roll according to the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing the order of steps in the method for producing a gravure plate-making roll of the present invention.
  • FIG. 2 is a flowchart showing the order of steps in the method for producing a gravure printing roll of the present invention.
  • reference numeral 10 denotes a gravure plate making roll of the present invention.
  • the gravure plate roll 10 of the present invention is formed on a plate base material 12 as shown in FIG. 1 (d), a resin layer 14 provided on the surface of the plate base material 12, and the resin layer 14.
  • the gravure cell 16 is composed of a resin layer 14 and a surface reinforcing coating layer 18 provided on the surface of the gravure cell 16.
  • a plate base material 12 is prepared (step 100 in FIG. 1 (a) and FIG. 2).
  • a hollow roll having strength such as aluminum, iron, CFRP (carbon fiber reinforced resin) can be used.
  • the resin layer 14 is formed on the surface of the plate base material 12 (step 102 in FIG. 1 (b) and FIG. 2).
  • the resin used for the resin layer 14 include phenol resin, polyethylene, polypropylene, polyester, polyacrylic ester, polystyrene, polyvinylidene chloride, polycarbonate, ethylene 'bule acetate copolymer, ethylene' Acrylic acid copolymer, ethylene butyl alcohol copolymer, polyacetic acid butyl, urethane, polyacrylonitrile, polybutene, polyacetal, polyamide, polyimide, aramid, ionomer, nitrified cotton, polyethylene naphthalate, methyl terpene copolymer, Polyfluoride bur, fluorine resin, monooxytrifluoride styrene, tetrafluoride styrene, carboxyl iorefhin and the like can be applied.
  • heat treatment is performed in the process of forming
  • the gravure cell 16 is formed in the resin layer 14 (step 104 in FIG. 1 (c) and FIG. 2).
  • a laser method laser oscillator, for example, a laser oscillated by a YAG laser device, is irradiated on the surface of the resin layer to form a predetermined duller.
  • a via cell is formed
  • an electronic engraving method a gravure cell is engraved on the surface of a resin layer by mechanically operating a diamond engraving needle by a digital signal.
  • the depth of the gravure cell is preferably 3 to 10 m.
  • the surface-enhanced coating layer 18 is formed on the resin layer 14 on which the gravure cell 16 is formed (step 106 in FIG. 1 (d) and FIG. 2).
  • the surface-enhanced coating layer 18 in addition to the conventionally known surface-enhanced coating layer such as a chromium plating coating layer, a diamond-like carbon (DLC) coating layer or a silicon dioxide-silicon coating layer formed from perhydropolysilazane as a raw material, etc. Is applicable.
  • a chromium plating coating layer is applied as the surface reinforcing coating layer 18, the chromium plating is performed by a conventionally known method.
  • a DLC coating layer is formed as the surface-enhanced coating layer 18
  • a PVD method or a CVD method can be used as a method for forming the DLC coating layer.
  • PVD method known methods such as a sputtering method, a vacuum deposition method (electron beam method), an ion plating method, an MBE method (molecular beam epitaxy method), a laser ablation method, and an ion assist film forming method can be applied.
  • a sputtering method a vacuum deposition method (electron beam method), an ion plating method, an MBE method (molecular beam epitaxy method), a laser ablation method, and an ion assist film forming method.
  • APCVD method (Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition), which is formed at normal pressure
  • LPCVD method Low Pressure Chemical Vapor Deposition
  • Low pressure of about 600 Torr SACVD method Sub atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition
  • UHVCVD method of ultra-high vacuum Ultra-High-Vacuum Chemical Vapor Deposition
  • 600 ⁇ High temperature thermal CVD method at L000 ° C
  • RF plasma Plasma CVD method Pullasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
  • MOCVD method for compound crystal growth using organometallic as a source Metal A known method such as Organic Chemical Vapor Deposition
  • the hydrocarbon source gas used to form the DLC coating layer in the CVD method includes known gas species such as cyclohexane, benzene, acetylene, methane, butylbenzene, toluene, and cyclopentane. One kind or two or more kinds are used.
  • a DLC coating layer is formed on the resin layer 14 as the surface reinforcing coating layer 18.
  • the DLC coating layer is formed by the PVD method, it is preferable to provide a metal layer and a metal carbide layer, preferably a metal carbide gradient layer, as the adhesion layer.
  • the metal layer has a thickness of 0.1 to
  • the thickness of the metal carbide layer is 0.1 to 1 ⁇ m, and the thickness of the DLC coating layer is 0.1 to 10 m.
  • the method for forming the metal layer and the metal carbide layer is not particularly limited, but using the same type of method as the method for forming the DLC coating layer makes it possible to use the same apparatus, which is preferable.
  • the metal in the metal layer includes tungsten (W), silicon (Si), titanium (Ti), chromium (Cr), tantalum (Ta), and a group force that also includes zirconium (Zr) force. These metals are preferably used.
  • the metal in the metal carbide layer preferably the metal carbide inclined layer
  • the same metal as the metal layer is used.
  • the composition ratio of carbon in the metal carbide gradient layer is set so that the metal layer side force gradually increases with respect to the direction of the DLC coating layer.
  • the film is formed so that the composition ratio of carbon increases from 0% to gradually (stepwise or steplessly), and finally reaches 100%.
  • a known method may be used as a method for adjusting the composition ratio of carbon in the metal carbide layer, preferably the metal carbide inclined layer.
  • a sputtering method using a solid metal target, an argon gas atmosphere
  • the amount of carbon in the metal carbide layer is gradually increased in a stepped or stepless manner by increasing the injection amount of hydrocarbon gas such as methane gas, ethane gas, propane gas, butane gas, and acetylene gas.
  • hydrocarbon gas such as methane gas, ethane gas, propane gas, butane gas, and acetylene gas.
  • Side force To form a metal carbide layer, that is, a metal carbide gradient layer, in which the thread and composition ratio of both carbon and metal are changed so as to gradually increase stepwise or steplessly in the direction of the DLC coating layer. Can do.
  • the adhesion layer is selected from one or two selected group forces of aluminum (A1), phosphorus (P), titanium (Ti), and silicon (Si). More than seeds Are preferably formed.
  • the thickness of the adhesion layer is preferably 0.1 to 1 ⁇ m.
  • the method for forming the adhesion layer is not particularly limited, but using the same type of method as the method for forming the DLC coating layer enables the same apparatus to be used, which is preferable.
  • the adhesion layer is formed by the CVD method, trimethylaluminum, titanium tetraisopropoxide, titanium tetraethoxide, tetramethylsilane, trimethyl phosphite, hexamethyldisiloxane Power group It is preferable to use the following gas species.
  • a perhydropolysilazane coating layer is formed on the surface of the resin layer.
  • a perhydropolysilazane solution is prepared by dissolving perhydropolysilazane in a known solvent as described above, and this perhydropolysilazane solution is spray-coated, inkjet-coated, meniscus-coated, or coated. Apply by well-known coating methods such as untinting coating, date coating, spin coating, roll coating, wire bar coating, air knife coating, blade coating and curtain coating.
  • the coating film of the perhydropolysilazane solution is a coating film having a predetermined thickness according to the thickness of the silicon dioxide coating layer to be formed (a silicon dioxide coating formed in consideration of the loss of heat treatment). It is preferable to form a thicker film than the layer.
  • the thickness of the silicon dioxide coating layer is preferably 0.1 to 10, preferably 0.1 to 5 111, more preferably 0.1 to 3 111, and more preferably 0.1 to 1 ⁇ m. It is.
  • the perhydropolysilazane solution prepared by dissolving in the various solvents described above is converted into silicon dioxide by heating with superheated steam as it is, but the reaction rate is increased, the reaction time is shortened, and the reaction temperature is decreased. It is preferable to use a catalyst as described above for the purpose of improving the adhesion of the silicon dioxide coating layer to be formed.
  • the perhydropolysilazane coating layer is heated with superheated steam for a predetermined time. It is preferable to use a silicon dioxide coating layer with hardness.
  • the temperature of the superheated steam is 100 ° C or higher, preferably more than 100 ° C and 300 ° C or lower. The optimal temperature is appropriately set according to the material of the hollow roll and the resin layer. Not too long.
  • the treatment time is about 1 minute to 1 hour, preferably about 5 minutes to 40 minutes, more preferably It is about 10 to 30 minutes. The longer the treatment time is, the higher the hardness of the silicon dioxide-silicon coating layer is. In view of economics, the above treatment time is suitable.
  • the heat treatment with superheated steam may be a single-stage treatment, but is preferably a multi-stage heat treatment including a primary and a secondary heat treatment, and the conditions of the primary heat treatment are 100 ° C to 170 ° C, preferably 105 ° C to 170 ° C, 1 minute to 30 minutes, and the conditions of the secondary heat treatment are 140 ° C to 200 ° C, 1 minute to 30 minutes, It is preferable to set the temperature of the secondary heat treatment higher than the temperature of the primary heat treatment, and the temperature of the secondary heat treatment is at least 5 ° C higher than the temperature of the primary heat treatment! Is preferred, higher than 10 ° C !, more preferred!
  • the method further includes a step of washing the surface of the silicon dioxide coating layer formed by the heat treatment with cold water or hot water!
  • the quality of the silicon dioxide silicon coating layer can be improved by washing the surface of the formed silicon dioxide silicon coating layer with cold water or warm water.
  • Cold water should be room temperature water, and warm water should be 40 ° C to 100 ° C heated water V.
  • a cleaning time of about 30 seconds to 10 minutes is sufficient.
  • a plate base material (aluminum hollow roll) having a circumference of 600 mm and a surface length of 1100 mm was prepared.
  • a resin layer and a gravure cell were formed on the plate base material by the following procedure.
  • a 10 m heat-resistant phenolic resin layer was formed on the plate base material.
  • the surface of this resin layer was polished using a 4H polishing machine (Sink's Laboratory polishing machine) to make the surface of the resin layer a uniform polished surface.
  • a gravure cell was formed on the surface of the resin layer using a laser oscillator (YAG laser).
  • a 20% dibutyl ether solution of perhydropolysilazane (product name: Aquamica (registered trademark of AZ Electronic Materials Co., Ltd.) NL120A, manufactured by AZ Electronic Materials Co., Ltd.) is formed into the above gravure cell.
  • HVLP spray coating was performed on the cylinder having the grease layer. The coating thickness uniformly applied to the cylinder was 0.8 ⁇ m. Cylinders coated with this perhydropolysilazane are heated with superheated steam. Stepwise heat treatment was performed (primary heating: treatment at 140 ° C for 10 minutes, secondary heating: treatment at 170 ° C for 10 minutes).
  • the gravure platemaking roll of the present invention was completed.
  • cyan ink as the printing ink (Zancup viscosity 18 seconds) (water-based ink super rampy pure indigo 800PR-5) manufactured by Sakata Inx Co., Ltd. was applied to the produced gravure plate roll, and OPP (Oriented Polypropylene Film : A biaxially stretched polypropylene film) was used to perform a printing test (printing speed: 120 mZ).
  • the obtained printed matter was able to be printed up to a length of 50,000 m, which is longer than the plate capri.
  • the accuracy of the pattern did not change.
  • the adhesion of the silicon dioxide silicon coating layer to the etched cylinder was not problematic.
  • the gradation from the highlight portion to the shadow portion of the gravure cylinder of the present invention is good, and it is determined that there is no problem in ink transferability.
  • a gravure printing roll of the present invention was produced in the same manner as in Example 1 except that a DLC coating layer was formed by the PVD method in the following procedure instead of the silicon dioxide-silicon coating layer as the surface reinforcing coating layer.
  • a tungsten layer was formed by sputtering on the top surface of the resin layer on which the gravure cell was formed. The sputtering conditions are as follows.
  • Tungsten sample solid tungsten target, atmosphere: argon gas atmosphere, film formation temperature: 200 to 300 ° C., film formation time: 60 minutes, film formation thickness: 0.1 m.
  • a tungsten carbide layer was formed on the upper surface of the tungsten layer by a sputtering method.
  • the sputtering conditions are as follows.
  • Tungsten sample solid tungsten target, atmosphere: gradually increase hydrocarbon gas in argon gas atmosphere, film formation temperature: 200-300 ° C, film formation time: 60 minutes, film thickness: 0.1 ⁇ m 0
  • a DLC coating layer was formed on the upper surface of the tungsten carbide layer by sputtering.
  • the sputtering conditions are as follows.
  • DLC sample solid carbon target, atmosphere: argon gas atmosphere, deposition temperature: 200
  • a gravure printing roll of the present invention was produced in the same manner as in Example 1 except that a DLC coating layer was formed by the CVD method in the following procedure instead of the silicon dioxide-silicon coating layer as the surface reinforcing coating layer.
  • a DLC coating layer was formed by the CVD method in the following procedure instead of the silicon dioxide-silicon coating layer as the surface reinforcing coating layer.
  • an aluminum layer having a thickness of 0.1 ⁇ m was formed by plasma CVD using trimethylaluminum as a gas species on the upper surface of the resin layer on which the gravure cell was formed.
  • a DLC coating layer having a thickness of 1 ⁇ m was formed on the upper surface of the aluminum layer by plasma CVD. In this way, a gravure platemaking roll was completed.
  • a printing test was conducted in the same manner as in Example 1. As a result, good printing results similar to those in Example 1 could be obtained.
  • a gravure printing roll of the present invention was prepared in the same manner as in Example 1 except that a chromium plating coating layer was formed by a conventional method instead of the silicon dioxide-silicon dioxide coating layer of Example 1. When a printing test was performed, it was confirmed that good printing results similar to those in Example 1 could be obtained.

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Abstract

　従来の樹脂層が露出したグラビア製版ロールよりも耐久性が向上し、長寿命化を図ったグラビア製版ロール及びその製造方法を提供する。版母材と、該版母材の表面に設けられた樹脂層と、該樹脂層に形成されたグラビアセルと、該樹脂層及びグラビアセルの表面を被覆するように形成された表面強化被覆層と、を含むグラビア製版ロールとした。前記表面強化被覆層が、ＤＬＣ被覆層、二酸化珪素被覆層又はクロムメッキ被覆層であることが好ましい。                                                            

Description

明 細 書
グラビア製版ロール及びその製造方法
技術分野
[0001] 本発明は、グラビア印刷に用いられるグラビア製版ロールであって、表面部分の耐 久性が向上したグラビア製版ロール及びその製造方法に関する。
背景技術
[0002] 従来、榭脂製のグラビア製版ロールとして、例えば、シート状の榭脂製の基材中に
、親水性物質または親水性膜で包んだ光吸収体あるいは光吸収膜で包んだ親水性 物質を内在させたものがある (特許文献 1)。
[0003] しかし、上記したような榭脂製のグラビア製版ロールは、ハードクロムメツキ金属に比 ベ、その表面硬度が著しく低いという欠点があり、力かる欠点を解消すベぐ熱可塑 性榭脂及び光吸収剤を含んでなるレーザー製版用版材料において、更に、撥水剤 又は撥油剤を含有させたものがある (特許文献 2)。
[0004] し力しながら、上記したような従来のグラビア製版ロールでは、榭脂面が表面に露 出していたために、耐久性に問題があり、数千枚程度の印刷で寿命となってしまうと いう問題があった。
[0005] また、本願出願人は、版基材の表面に、膜厚がセルの深さに等しくなるように榭脂 膜を形成し、榭脂膜の表面に超硬質膜を形成し、レーザーを照射して超硬質膜の一 部と榭脂膜の一部を焼失して版基材を露出しそこにインキを収容するセルを形成し たグラビア印刷版を提案して 、る (特許文献 3)。
[0006] しかし、上記特許文献 3では、グラビアセルを形成するために、超硬質膜及び榭脂 膜をレーザーにより除去する必要がある。そのため、グラビアセルを形成した後には、 榭脂膜及び版基材が露出した部分が存在してしまうため、耐刷力が問題となってい た。
特許文献 1：特開平 5— 246165
特許文献 2：特開平 7— 276837
特許文献 3：特開平 11 309950 特許文献 4：特開 2003— 197611
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0007] 本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑みなされたもので、従来の榭脂層が露 出したグラビア製版ロールよりも耐久性が向上し、長寿命化を図ったグラビア製版口 ール及びその製造方法を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
[0008] 上記課題を解決するために、本発明のグラビア製版ロールは、版母材と、該版母材 の表面に設けられた榭脂層と、該榭脂層に形成されたグラビアセルと、該榭脂層及 びグラビアセルの表面を被覆するように形成された表面強化被覆層と、を有すること を特徴とする。
[0009] 本発明のグラビア製版ロールの製造方法は、版母材を準備する工程と、該版母材 の表面に榭脂層を形成する榭脂層形成工程と、該榭脂層にグラビアセルを形成する グラビアセル形成工程と、該グラビアセルが形成された榭脂層及びグラビアセルの表 面を被覆するように表面強化被覆層を形成する表面強化被覆層形成工程と、を含む ことを特徴とする。
[0010] 前記版母材としては、例えば中空ロール状としたアルミ、鉄、又は CFRP (炭素繊維 強化榭脂）が好適に用いられる。
[0011] 前記榭脂層の厚さが 5 μ m〜50 μ m、前記グラビアセルの深度が 3 μ m〜10 μ m 、及び前記表面強化被覆層の厚さが、 0. 1〜： LO /z mであるのが好ましい。
[0012] 前記榭脂層に用いられる榭脂 (合成樹脂等）としては、例えば、フエノール榭脂、ポ リエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリ 塩化ビ-リデン、ポリカーボネート、エチレン '酢酸ビュル共重合体、エチレン'アタリ ル酸共重合体、エチレン 'ビュルアルコール共重合体、ポリ酢酸ビュル、ウレタン、ポ リアクリロニトリル、ポリブテン、ポリアセタール、ポリアミド、ポリイミド、ァラミド、アイオノ マー、硝化綿、ポリエチレンナフタレート、メチルテルペン共重合体、ポリ弗化ビュル 、弗素榭脂、一酸ィ匕三弗化工チレン、四弗化工チレン、カルボキシル化ォレフイン等 が適用できる。 [0013] 前記グラビアセルを形成する方法としては、レーザー法 (レーザー発振器、たとえば 、YAGレーザー装置により発振したレーザーを榭脂層表面照射して所定のグラビア セルを形成する)や電子彫刻法 (デジタル信号によりダイヤモンド彫刻針を機械的に 作動させ榭脂層表面にグラビアセルを彫刻する）等が適用できる。
[0014] 前記表面強化被覆層としては、クロムメツキなどの従来の表面強化被覆層、ダイヤ モンドライクカーボン (DLC)被覆層やペルヒドロポリシラザンを原料として形成した二 酸ィ匕珪素被覆層などが適用できる。
[0015] 表面強化被覆層として、クロムメツキを行う場合には、従来公知の手法によりクロムメ ツキを行えばよい。
[0016] 表面強化被覆層として DLC被覆層を形成する場合には、榭脂層と DLC被覆層の 間に密着層を設けることが好ましい。
[0017] DLC被覆層の形成方法としては、 PVD法又は CVD法を用いることができる。
PVD法としてはスパッタリング法、真空蒸着法 (エレクトロンビーム法）、イオンプレ 一ティング法、 MBE法（分子線エピタキシー法）、レーザーアブレーシヨン法、イオン アシスト成膜法等の公知の方法を適用できる。
CVD法としては、常圧で成膜する APCVD法（Atmospheric Pressure Chemical Va por Deposition)、 0. 05Torr程度の減圧で成膜する LPCVD法（Low Pressure Che mical Vapor Deposition)、常圧よりやや低い 600Torr程度の圧力の SACVD法（Sub atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition)、超高真空の UHVCVD法 (Ultr a- High- Vacuum Chemical Vapor Deposition) , 600〜： L000°Cの高温の熱 CVD法、 高周波プラズマエネルギーを用い 200〜450°Cで成膜するプラズマ CVD法（Plasma -Enhanced Chemical Vapor Deposition)、紫外線による励起を利用した光 CVD法、 ソースに有機金属を用いた化合物結晶成長用の MOCVD法 (Metal Organic Chemi cal Vapor Deposition)等の公知の方法を適用できる。
[0018] PVD法によって DLC被覆層を形成するにあたっては、榭脂層の上に密着層として 金属層及び当該金属の炭化金属層を設けてから DLC被覆層を形成するのが好まし い。前記金属層の金属としては、炭化可能でありかつ銅と親和性の高い金属を用い るのが好ましぐタングステン (W)、珪素（Si)、チタン (Ti)、クロム（Cr)、タンタル (Ta )、及びジルコニウム (Zr)力 なる群力 選ばれる一種又は二種以上の金属が好適 に用いられる。前記炭化金属層が、炭化金属傾斜層であって、該炭化金属傾斜層に おける炭素の組成比が前記金属層側力 前記 DLC被覆層方向に対して炭素の比 率が徐々に増大するように設定されて!、るのが好ま 、。
[0019] また、 CVD法によって DLC被覆層を形成するにあたっては、榭脂層の上に密着層 を設けてカゝら DLC被覆層を形成するのが好ましぐ該密着層が、アルミニウム (Al)、 リン (P)、チタン (Ti)及び珪素（Si)からなる群から選ばれる一種又は二種以上から 形成されるのがより好まし 、。
[0020] 表面強化被覆層として、ペルヒドロポリシラザン溶液を原料として形成した二酸ィ匕珪 素被覆層を形成する場合、ペルヒドロポリシラザンを溶解する溶剤としては公知のも のを用いればよいが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エーテル、 THF、塩化 メチレン、四塩化炭素、ソルべッソ、ジイソプロピルエーテル、メチルターシャリーブチ ルエーテル、デカヒドロナフタリンのほか特許文献 4に記載されたようなァ-ソール、 デカリン、シクロへキサン、シクロへキセン、メチルシクロへキサン、ェチルシクロへキ サン、リモネン、へキサン、オクタン、ノナン、デカン、 C8— C11アルカン混合物、 C1 8— C11芳香族炭化水素混合物、 C8以上の芳香族炭化水素を 5重量％以上 25重 量％以下含有する脂肪族 Z脂環式炭化水素混合物、及びジブチルエーテルなどを 用!/、ることができる。
[0021] 上記した各種溶剤に溶解されて作製されるペルヒドロポリシラザン溶液は、そのまま でも過熱水蒸気による加熱処理によって二酸化珪素へ転化するが、反応速度の増 カロ、反応時間の短縮、反応温度の低下、形成される二酸化珪素被覆層の密着性の 向上等を図る目的で触媒を用いるのが好ましい。これらの触媒も公知であり、例えば アミンゃパラジウムが用いられる力 具体的には、有機ァミン、例えば C1— C5のアル キル基が 1 3個配置された第 1 第 3級の直鎖状脂肪族ァミン、フエニル基が 1 3 個配置された第 1—第 3級の芳香族ァミン、ピリジン又はこれにメチル、ェチル基等の アルキル基が核置換された環状脂肪族ァミン等が挙げられ、さらに好まし 、ものとし て、ジェチルァミン、トリエチルァミン、モノブチルァミン、モノプロピルァミン、ジプロピ ルァミン等を挙げることができる。これらの触媒はペルヒドロポリシラザン溶液に予め 添加しておいてもよぐまた過熱水蒸気による加熱処理の際の処理雰囲気中に気化 状態で含有させることもできる。
[0022] 前記ペルヒドロポリシラザン溶液を塗布する方法としては、ペルヒドロポリシラザン溶 液をスプレーコート、インクジェット塗布、メニスカスコート、フアウンティンコート、デイツ プコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗 布、カーテン塗布等の公知の塗布方法が適用できる。
[0023] 前記ペルヒドロポリシラザン溶液の塗布層を二酸ィ匕珪素被覆層とする二酸ィ匕珪素 被覆層形成工程としては、前記ペルヒドロポリシラザン塗布層を過熱水蒸気によって 所定時間加熱して所定の硬度の二酸化珪素被覆層とすることが好ま ヽ。前記過熱 水蒸気の温度は 100°C以上、好ましくは 100°Cを超え 300°C以下のものが用いられ る力 中空ロール及び榭脂層の材質に応じて適宜最適な温度を設定することはいう までもない。
[0024] 前記二酸ィ匕珪素被覆層形成工程における加熱処理が、第 1次及び第 2次加熱処 理を含む複数段の加熱処理であることが好ましぐ該第 1次加熱処理の条件を 100 °C〜170°C、 1分〜 30分、及び該第 2次加熱処理の条件を 140°C〜200°C、 1分〜 30分とし、該第 2次加熱処理の温度を該第 1次加熱処理の温度よりも高く設定するこ とがより好ましい。
発明の効果
[0025] 本発明によれば、従来の榭脂層が露出したグラビア製版ロールよりも耐久性が向上 し、長寿命化を図ったグラビア製版ロール及びその製造方法を提供することができる という著大な効果を奏する。
図面の簡単な説明
[0026] [図 1]本発明のグラビア製版ロールの製造方法の工程順を示す模式図である。
[図 2]本発明のグラビア製版ロールの製造方法の工程順を示すフローチャートである 符号の説明
[0027] 10:グラビア製版ロール、 12:版母材、 14:榭脂層、 16 :グラビアセル、 18 :表面強 化被覆層。 発明を実施するための最良の形態
[0028] 以下に本発明の実施の形態を添付図面とともに説明するが、これら実施の形態は 例示的に示されるもので、本発明の技術思想力 逸脱しない限り種々の変形が可能 なことはいうまでもない。
[0029] 図 1は本発明のグラビア製版ロールの製造方法の工程順を示す模式図である。図 2は本発明のグラビア製版ロールの製造方法の工程順を示すフローチャートである。
[0030] 本発明のグラビア製版ロール及びその製造方法を図 1及び図 2を用いて説明する。
図中、符号 10は本発明のグラビア製版ロールである。本発明のグラビア製版ロール 10は、図 1 (d)に示される如ぐ版母材 12と、該版母材 12の表面に設けられた榭脂 層 14と、該榭脂層 14に形成されたグラビアセル 16と、該榭脂層 14及びグラビアセル 16の表面に設けられた表面強化被覆層 18とから構成されて 、る。
[0031] グラビア製版ロール 10の製造にあたっては、まず、版母材 12を準備する（図 1 (a) 及び図 2のステップ 100)。版母材 12としては、アルミ、鉄、 CFRP (炭素繊維強化榭 脂）など力もなる中空ロールを使用できる。
[0032] 次に、版母材 12の表面に榭脂層 14を形成する（図 1 (b)及び図 2のステップ 102) 。榭脂層 14に用いられる榭脂としては、例えば、フエノール榭脂、ポリエチレン、ポリ プロピレン、ポリエステル、ポリアクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビ-リデン、 ポリカーボネート、エチレン '酢酸ビュル共重合体、エチレン 'アクリル酸共重合体、ェ チレン'ビュルアルコール共重合体、ポリ酢酸ビュル、ウレタン、ポリアクリロニトリル、 ポリブテン、ポリアセタール、ポリアミド、ポリイミド、ァラミド、アイオノマー、硝化綿、ポ リエチレンナフタレート、メチルテルペン共重合体、ポリ弗化ビュル、弗素榭脂、一酸 化三弗化工チレン、四弗化工チレン、カルボキシルイ匕ォレフイン等が適用できる。な お、表面強化被覆層の形成工程等において加熱処理を施す場合は、該加熱処理に 耐え得る耐熱性を有する榭脂を用いる必要がある。前記榭脂層の厚さは m〜50 μ mが好適である。
[0033] 次に、榭脂層 14にグラビアセル 16を形成する（図 1 (c)及び図 2のステップ 104)。
前記グラビアセル 16を形成する方法としては、レーザー法 (レーザー発振器、たとえ ば、 YAGレーザー装置により発振したレーザーを榭脂層表面に照射して所定のダラ ビアセルを形成する)や電子彫刻法 (デジタル信号によりダイヤモンド彫刻針を機械 的に作動させ榭脂層表面にグラビアセルを彫刻する）等が適用できる。グラビアセル の深度は 3 m〜10 mが好適である。
[0034] そして、グラビアセル 16が形成された榭脂層 14の上に表面強化被覆層 18を形成 する（図 1 (d)及び図 2のステップ 106)。表面強化被覆層 18としては、クロムメツキ被 覆層などの従来周知の表面強化被覆層の他に、ダイヤモンドライクカーボン (DLC) 被覆層やペルヒドロポリシラザンを原料として形成した二酸ィ匕珪素被覆層などが適用 できる。
[0035] 表面強化被覆層 18として、クロムメツキ被覆層を適用する場合には、従来公知の手 法によりクロムメツキを行えばょ 、。
[0036] 表面強化被覆層 18として DLC被覆層を形成する場合には、 DLC被覆層の形成 方法としては、 PVD法又は CVD法を用いることができる。
PVD法としては、スパッタリング法、真空蒸着法 (エレクトロンビーム法）、イオンプレ 一ティング法、 MBE法（分子線エピタキシー法）、レーザーアブレーシヨン法、イオン アシスト成膜法等の公知の方法を適用できる。
[0037] CVD法としては、常圧で成膜する APCVD法（Atmospheric Pressure Chemical Va por Deposition)、 0. 05Torr程度の減圧で成膜する LPCVD法（Low Pressure Che mical Vapor Deposition)、常圧よりやや低い 600Torr程度の圧力の SACVD法（Sub atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition)、超高真空の UHVCVD法 (Ultr a- High- Vacuum Chemical Vapor Deposition) , 600〜： L000°Cの高温の熱 CVD法、 高周波プラズマエネルギーを用い 200〜450°Cで成膜するプラズマ CVD法（Plasma -Enhanced Chemical Vapor Deposition)、紫外線による励起を利用した光 CVD法、 ソースに有機金属を用いた化合物結晶成長用の MOCVD法 (Metal Organic Chemi cal Vapor Deposition)等の公知の方法が適用できる。
CVD法にぉ 、て DLC被覆層を形成するために用いられる炭化水素系原料ガスと しては、シクロへキサン、ベンゼン、アセチレン、メタン、ブチルベンゼン、トルエン、シ クロペンタン等の公知のガス種の一種又は二種以上が用いられる。
[0038] なお、表面強化被覆層 18として榭脂層 14の上に DLC被覆層を形成するにあたつ ては、榭脂層 14の上に密着層を設けてカゝら DLC被覆層を形成するのが好ましい。 PVD法で DLC被覆層を形成する場合には、密着層として、金属層及び炭化金属 層、好ましくは炭化金属傾斜層を設けることが好ましい。前記金属層の厚さが 0. 1〜
1 m、前記炭化金属層の厚さが 0. 1〜1 μ m、前記 DLC被覆層の厚さが 0. 1〜10 mであることが好ましい。
[0039] 金属層及び炭化金属層の形成方法は特に限定されないが、 DLC被覆層の形成方 法と同種の方法を用いることにより、同一の装置が使用可能となり、好適である。 前記金属層における金属としては、タングステン (W)、珪素（Si)、チタン (Ti)、クロ ム（Cr)、タンタル (Ta)、及びジルコニウム（Zr)力もなる群力 選ばれる一種又は二 種以上の金属が好適に用いられる。
[0040] 前記炭化金属層、好ましくは炭化金属傾斜層における金属は、前記金属層と同一 の金属を用いる。炭化金属傾斜層における炭素の組成比は金属層側力も DLC被覆 層方向に対して炭素の比率が徐々に増大するように設定する。つまり、炭素の組成 比は 0%〜徐々に（階段状もしくは無段階状に)比率を増し、最後はほぼ 100%とな るように成膜を行う。
[0041] この場合、炭化金属層、好ましくは炭化金属傾斜層中の炭素の組成比の調整方法 は公知の方法を用いればよいが、例えば、スパッタリング法（固体金属ターゲットを用 い、アルゴンガス雰囲気で炭化水素ガス、例えば、メタンガス、ェタンガス、プロパン ガス、ブタンガス、アセチレンガス等の注入量を階段状又は無段階状に徐々に増大 する）によって、炭化金属層中の炭素の割合が榭脂層の側力 DLC被覆層方向に 対して階段状又は無段階状に徐々に増大するように炭素及び金属の両者の糸且成割 合を変化させた炭化金属層、即ち炭化金属傾斜層を形成することができる。
[0042] このように炭化金属層の炭素の割合を調整することによって榭脂層及び DLC被覆 層の双方に対する金属層及び炭化金属層の密着度を向上させることができる。また 、炭化水素ガスの注入量を一定とすれば、炭素及び金属の組成割合を一定とした炭 化金属層とすることができ、炭化金属傾斜層と同様の作用を行わせることができる。
[0043] また、 CVD法によって DLC被覆層を形成する場合には、密着層がアルミニウム (A 1)、リン (P)、チタン (Ti)及び珪素（Si)力 なる群力 選ばれる一種又は二種以上か ら形成されるのが好ましい。密着層の厚さとしては 0. 1〜1 μ mが好適である。
[0044] 密着層の形成方法は特に限定されないが、 DLC被覆層の形成方法と同種の方法 を用いることにより、同一の装置が使用可能となり、好適である。 CVD法により密着層 を形成する場合、トリメチルアルミニウム、チタニウムテトライソプロポキシド、チタユウ ムテトラエトキシド、テトラメチルシラン、亜リン酸トリメチル、へキサメチルジシロキサン 力 なる群力 選ばれる一種又は二種以上のガス種を用いるのが好適である。
[0045] ペルヒドロポリシラザン溶液を原料として形成した二酸ィ匕珪素被覆層の形成方法と しては、まず榭脂層の表面にペルヒドロポリシラザン塗布層を形成する。ペルヒドロポ リシラザン塗布層の形成方法としては、ペルヒドロポリシラザンを前述したような公知 の溶剤に溶解してペルヒドロポリシラザン溶液を作製し、このペルヒドロポリシラザン溶 液をスプレーコート、インクジェット塗布、メニスカスコート、フアウンティンコート、デイツ プコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗 布、カーテン塗布等の公知の塗布方法で塗布すればょ 、。
[0046] 該ペルヒドロポリシラザン溶液の塗布膜は、形成しょうとする前記二酸化珪素被覆 層の厚さに応じて所定の膜厚の塗布膜 (加熱処理による目減りを考慮して形成される 二酸化珪素被覆層よりも厚めの膜厚とする）を形成するのが好ましい。二酸化珪素被 覆層の厚さは、 0. 1〜10 、好ましくは 0. 1〜5 111、さらに好ましくは 0. 1〜3 111 、より好ましくは 0. 1〜1 μ mであることが好適である。
[0047] 上記した各種溶剤に溶解されて作製されるペルヒドロポリシラザン溶液は、そのまま でも過熱水蒸気による加熱処理によって二酸化珪素へ転化するが、反応速度の増 カロ、反応時間の短縮、反応温度の低下、形成される二酸化珪素被覆層の密着性の 向上等を図る目的で前述したような触媒を用いるのが好ましい。
[0048] 前記ペルヒドロポリシラザン溶液の塗布層を二酸ィ匕珪素被覆層とする二酸ィ匕珪素 被覆層形成工程としては、前記ペルヒドロポリシラザン塗布層を過熱水蒸気によって 所定時間加熱して所定の硬度の二酸化珪素被覆層とすることが好ま ヽ。前記過熱 水蒸気の温度は 100°C以上、好ましくは 100°Cを超え 300°C以下のものが用いられ る力 中空ロール及び榭脂層の材質に応じて適宜最適な温度を設定することはいう までもない。処理時間は、 1分〜 1時間程度、好ましくは 5分〜 40分程度、さらに好ま しくは 10分〜 30分程度である。処理時間を長くすればそれだけ二酸ィ匕珪素被覆層 の硬度は上がる力 経済性を考慮すると上記した処理時間が好適である。
[0049] 前記過熱水蒸気による加熱処理は 1段処理でもよいが、第 1次及び第 2次加熱処 理を含む複数段の加熱処理とするのが好適であり、第 1次加熱処理の条件を 100°C 〜170°C、好ましくは 105°C〜170°C、 1分〜 30分、及び第 2次加熱処理の条件を 1 40°C〜200°C、 1分〜 30分とし、第 2次加熱処理の温度を第 1次加熱処理の温度よ りも高く設定することが好適であり、第 2次加熱処理の温度が第 1次加熱処理の温度 より 5°C以上高!、ことが好ましく、 10°C以上高!、ことがより好まし!/、。
[0050] 前記加熱処理によって形成された二酸化珪素被覆層の表面を冷水又は温水で洗 浄する工程をさらに含むのが好まし!/ヽ。形成された二酸ィ匕珪素被覆層の表面を冷水 又は温水で洗浄することによって、二酸ィ匕珪素被覆層の品質を向上させることができ る。冷水は常温水を用いればよぐ温水は 40°C〜100°C程度の加熱水を用いればよ V、。洗浄時間は 30秒〜 10分程度で十分である。
実施例
[0051] 以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例 示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでな 、ことは 、うまでもな!/、。
(実施例 1)
まず、円周 600mm、面長 1100mmの版母材（アルミ中空ロール）を準備した。この 版母材に対して下記する手順で榭脂層の形成及びグラビアセルの形成を行った。ま ず、上記版母材に 10 mの耐熱性フエノール榭脂の榭脂層を形成した。この榭脂層 の表面を 4H研磨機 (株式会社シンク'ラボラトリー製研磨機)を用いて研磨して当該 榭脂層の表面を均一な研磨面とした。ついで、レーザー発振器 (YAGレーザー）を 用 、て榭脂層の表面にグラビアセルを形成した。
[0052] 次に、ペルヒドロポリシラザンの 20%ジブチルエーテル溶液 (製品名：アクアミカ（A Zエレクトロニックマテリアルズ (株）の登録商標） NL120A、 AZエレクトロニックマテリ アルズ (株)製)を、上記グラビアセルを形成した榭脂層を有するシリンダーに対して HVLPスプレー塗布を行った。当該シリンダーに均一に塗布された塗布膜厚は 0. 8 μ mであった。このペルヒドロポリシラザンが塗布されたシリンダーを過熱水蒸気で 2 段加熱処理を行った（1次加熱： 140°Cで 10分間処理、 2次加熱： 170°Cで 10分間 処理)。このようにして、本発明のグラビア製版ロールを完成した。
[0053] 続いて、作製したグラビア製版ロールに対して印刷インキとしてシアンインキ、 （ザ一 ンカップ粘度 18秒）（サカタインクス社製水性インクスーパーラミピュア藍 800PR— 5) を適用し OPP (Oriented Polypropylene Film : 2軸延伸ポリプロピレンフィルム）を用い て印刷テスト（印刷速度： 120mZ分)を行った。得られた印刷物は版カプリがなぐ 5 0, 000mの長さまで印刷できた。パターンの精度は変化がな力つた。また、エツチン グされたシリンダーに対する二酸ィ匕珪素被覆層の密着性は問題がな力つた。この本 発明のグラビアシリンダーのハイライト部からシャドウ部のグラデーションは良好であり 、インキ転移性は問題ないと判断される。
[0054] (実施例 2)
表面強化被覆層として二酸ィ匕珪素被覆層の代わりに下記の手順により PVD法によ り DLC被覆層を形成した以外は実施例 1と同様にして本発明のグラビア製版ロール を作製した。まず、前記したグラビアセルを形成した榭脂層の上面にスパッタリング法 によってタングステン層を形成した。スパッタリング条件は次の通りである。
タングステン試料：固体タングステンターゲット、雰囲気:アルゴンガス雰囲気、成膜 温度： 200〜300°C、成膜時間： 60分、成膜厚さ： 0. 1 m。
[0055] 次に、タングステン層の上面にスパッタリング法によって炭化タングステン層を形成 した。スパッタリング条件は次の通りである。
タングステン試料：固体タングステンターゲット、雰囲気:アルゴンガス雰囲気で炭化 水素ガスを徐々に増加、成膜温度： 200〜300°C、成膜時間： 60分、成膜厚さ：0. 1 μ m0
[0056] さらに、炭化タングステン層の上面にスパッタリング法によって DLC被覆層を被覆 形成した。スパッタリング条件は次の通りである。
DLC試料：固体カーボンターゲット、雰囲気：アルゴンガス雰囲気、成膜温度： 200
〜300°C、成膜時間： 150分、成膜厚さ：: L m。
[0057] このようにして、グラビア製版ロールを完成した。このグラビア製版ロールを用いて 実施例 1と同様に印刷テストを行ったところ実施例 1と同様の良好な印刷結果を得る ことができた。
[0058] (実施例 3)
表面強化被覆層として二酸ィ匕珪素被覆層の代わりに下記の手順により CVD法によ り DLC被覆層を形成した以外は実施例 1と同様にして本発明のグラビア製版ロール を作製した。まず、前記したグラビアセルを形成した榭脂層の上面にガス種としてトリ メチルアルミニウムを用いプラズマ CVD法によって厚さ 0. 1 μ mのアルミニウム層を 形成した。次に、アルミニウム層の上面にプラズマ CVD法によって厚さ 1 μ mの DLC 被覆層を被覆形成した。このようにしてグラビア製版ロールを完成した。このグラビア 製版ロールを用いて実施例 1と同様に印刷テストを行ったところ実施例 1と同様の良 好な印刷結果を得ることができた。
[0059] なお、実施例 1の二酸ィ匕珪素被覆層の代わりにクロムメツキ被覆層を常法により形 成した以外は実施例 1と同様にして本発明のグラビア製版ロールを作製し、同様の印 刷テストを行ったところ実施例 1と同様の良好な印刷結果を得ることができることを確 した ο

Claims

請求の範囲
[1] 版母材と、該版母材の表面に設けられた榭脂層と、該榭脂層に形成されたグラビア セルと、該榭脂層及びグラビアセルの表面を被覆するように形成された表面強化被 覆層と、を有することを特徴とするグラビア製版ロール。
[2] 前記表面強化被覆層が、 DLC被覆層、二酸ィ匕珪素被覆層又はクロムメツキ被覆層 であることを特徴とする請求項 1記載のグラビア製版ロール。
[3] 前記表面強化被覆層が DLC被覆層であり、前記榭脂層と DLC被覆層の間に密着 層を有することを特徴とする請求項 2記載のグラビア製版ロール。
[4] 請求項 1又は 2記載のグラビア製版ロールを製造する方法であって、
版母材を準備する工程と、
該版母材の表面に榭脂層を形成する榭脂層形成工程と、
該榭脂層にグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、
該グラビアセルが形成された榭脂層及びグラビアセルの表面を被覆するように表面 強化被覆層を形成する表面強化被覆層形成工程と、
を含むことを特徴とするグラビア製版ロールの製造方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008051210A (ja) * 2006-08-24 2008-03-06 Toyota Motor Corp ガスバリヤ構造およびその作製方法
JP2008254331A (ja) * 2007-04-05 2008-10-23 Hitachi Chem Co Ltd 凹版及びその製造方法
WO2008133105A1 (ja) * 2007-04-18 2008-11-06 Think Laboratory Co., Ltd. クッション性を有するグラビア版及びその製造方法
JP2010094807A (ja) * 2008-09-19 2010-04-30 Think Laboratory Co Ltd 凹部付き発熱ロール
JP2014515708A (ja) * 2011-04-18 2014-07-03 カーベーアー−ノタシ ソシエテ アノニム 凹版印刷用の印刷版、その製造方法および使用方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11291438A (ja) * 1998-04-07 1999-10-26 Toppan Printing Co Ltd 凹版印刷版の製作方法及び凹版印刷版
JPH11327124A (ja) * 1998-05-15 1999-11-26 Think Laboratory Co Ltd クッション性を有する凹版およびその製造方法
JP2000015770A (ja) * 1998-06-30 2000-01-18 Think Laboratory Co Ltd 印刷版の再利用方法
JP2004518563A (ja) * 2001-02-23 2004-06-24 コーニンクレッカ　フィリップス　エレクトロニクス　エヌ　ヴィ 印刷プレート

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11291438A (ja) * 1998-04-07 1999-10-26 Toppan Printing Co Ltd 凹版印刷版の製作方法及び凹版印刷版
JPH11327124A (ja) * 1998-05-15 1999-11-26 Think Laboratory Co Ltd クッション性を有する凹版およびその製造方法
JP2000015770A (ja) * 1998-06-30 2000-01-18 Think Laboratory Co Ltd 印刷版の再利用方法
JP2004518563A (ja) * 2001-02-23 2004-06-24 コーニンクレッカ　フィリップス　エレクトロニクス　エヌ　ヴィ 印刷プレート

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008051210A (ja) * 2006-08-24 2008-03-06 Toyota Motor Corp ガスバリヤ構造およびその作製方法
JP2008254331A (ja) * 2007-04-05 2008-10-23 Hitachi Chem Co Ltd 凹版及びその製造方法
WO2008133105A1 (ja) * 2007-04-18 2008-11-06 Think Laboratory Co., Ltd. クッション性を有するグラビア版及びその製造方法
JP5131707B2 (ja) * 2007-04-18 2013-01-30 株式会社シンク・ラボラトリー クッション性を有するグラビア版及びその製造方法
JP2010094807A (ja) * 2008-09-19 2010-04-30 Think Laboratory Co Ltd 凹部付き発熱ロール
JP2014515708A (ja) * 2011-04-18 2014-07-03 カーベーアー−ノタシ ソシエテ アノニム 凹版印刷用の印刷版、その製造方法および使用方法

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