JPH11327124A - クッション性を有する凹版およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 硬質な被印刷物に対してブランケットロール
を用いずダイレクトに印刷することができ、液晶パネル
用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリック
ス画像をカラー印刷したり、あるいはコンパクトディス
ク等に画像をカラー印刷するのに好適なクッション性を
有する凹版及びその製造方法。凹版。 【解決手段】 版基材１の表面にクッション層２を形成
し、クッション層２の表面に、セルの深さ寸法に等しく
なるようにＤＬＣ膜３を形成し、ＤＬＣ膜３に、クッシ
ョン層２が露出するようにインキを収容するセル４を形
成する。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明が属する技術分野】本願発明は、液晶パネル用ガ
ラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画
像をカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等
に画像をカラー印刷するのに好適なクッション性を有す
る凹版に関する。また本願発明は、セルの深さをハイラ
イト部からシャドウ部まで均一にすることができ、濃淡
階調度を直線的に変化させることができ、濃淡階調度が
豊かでシャープなグラビア画像が得られ、さらにライト
部のセルの表面形状を改善することによりセルからの被
印刷物へのインキの転移性が良好でありライト部が白く
抜けて見えるインキが転移していないポイントを無くし
た印刷物が得られるクッション性を有する凹版に関す
る。 【０００２】 【従来の技術】従来、液晶パネル用ガラスへカラーフィ
ルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷し
たり、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印
刷するには、グラビアオフセット印刷または水なしオフ
セット印刷が採用されてきており、グラビア印刷は採用
されてこなかった。その理由は、グラビア印刷は、クッ
ション性がないので印圧が増大するとガラスを割ってし
まったり、コンパクトディスク等に歪みを与える惧れが
あるので、ゴムからなるブランケットロールを介して印
刷することにより、印圧が増大するときはゴムの変形に
より印圧の増大を抑制できるグラビアオフセット印刷が
適切だからである。 【０００３】液晶パネル用ガラスへカラー印刷するに
は、ガラスに転移した直後のウエットのインキの膜厚を
均一な４〜６μｍとして、バックライト光を均一に透過
しかつ高い透過率を保障する必要がある。また、コンパ
クトディスク等に画像をカラー印刷するには、画像がシ
ャープに得られる限度にインキの膜厚を可能な限り薄く
する必要がある。その理由は、コンパクトディスク等に
印刷する画像は、中心に対して偏って印刷されるので、
画像を形成しているインキの重量が、次世代のコンパク
トディスク装置の流体動圧軸受を採用したスピンドルモ
ータの高速回転化にともなって、アンバランス回転の原
因として無視できなくなることが分かったからである。 【０００４】従来のグラビア印刷版は、銅メッキ層にセ
ルが形成されており、セルの深さは均一ではない。深さ
が７〜１０μｍ位に浅く、均一な深さのセルを有するグ
ラビア印刷版は、実現されてなかった。セルは、ハイラ
イト部で７〜１０μｍ位に浅く、シャドウ部で１５〜２
０μｍ位に深くエッチングされる。クロムメッキは、上
記セルが形成された銅メッキ層の表面を被覆している。 【０００５】従来のグラビア印刷版は、ウエットのイン
キの膜厚が１５〜２５μｍとなるから、液晶パネル用ガ
ラスへカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク
等に画像をカラー印刷するのにはインキの膜厚が厚すぎ
て適していない。従来のグラビア印刷版において、銅メ
ッキの表面に深さが５〜６μｍとなるようにセルをエッ
チング形成できないのは、銅メッキ被膜が結晶組織であ
るためエッチングの進行が均一に行われないためであ
る。セルの輪郭や底面に凹凸が生じたり、大きさによっ
て深さが異なったセルができることは避けられない。特
にシャドウ部の大きなセルについて、深さが４〜６μｍ
となるように得ても、ハイライト部の小さなセルについ
ては、輪郭や底面に凹凸が生じる確率が高く、４〜６μ
ｍの深さを確実に得ることはほとんど望めない。 【０００６】そこで、セルの深さが４〜６μｍのグラビ
ア版を確実に得るには、アルカリガラスに画像を焼き付
けて現像しフッ酸によりエッチングすることにより深さ
が均一なかなり正確なセルを形成することができる。た
だし、これは、グラビア印刷とはならず、ブランケット
ロールを介して印刷を行うグラビアオフセット印刷とな
る。 【０００７】こうして、従来は、液晶パネル用ガラスへ
カラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等にカ
ラー印刷するには、グラビアオフセット印刷、または水
なし平凹版オフセット印刷が採用されてきており、グラ
ビア印刷は採用されてこなかった。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
印刷法によって製作される液晶パネル用カラーフィルタ
は、画像のシャープさが低く、線画像のエッジの乱れ、
線画像の凹凸があり、フィルム法によって製作される液
晶パネル用カラーフィルタに比べて著しく品質が劣り、
このため、玩具関係にしか用途が広がらず、コンピュー
タディスプレイやテレビジョン等の高級品には全く採用
されていない。従来において、液晶パネル用ガラスへの
カラーインキの高精密なパターン転写は、フォトリソグ
ラフィーにより行われている。 【０００９】グラビアオフセット印刷によって製作され
る液晶パネル用カラーフィルタの品質が劣り原因は、次
のように考えられる。グラビアオフセット印刷は、ブラ
ンケットロールからガラス等の被印刷物にインキを転移
させる際に多少なりとも印圧が加わる。該印圧は、イン
キを押圧するので、インキの輪郭が外側に広がりあるい
は乱れ、これが、ラインアンドセペースの値を小さくで
きない原因の一つである。また、転移するインキが版か
らブランケットロールに、さらにブランケットロールか
らガラス等の被印刷物に、それぞれ１００％の確率で転
移しないときは、インキが引きちぎられる結果となり、
ガラス等の被印刷物に印刷されるインキの膜厚は均一で
なく表面に凹凸ができる。 【００１０】転移するインキがガラス等の被印刷物に１
００％の確率で転移できるとした研究結果が論文に発表
されている。それによれば、アルカリガラス製の凹版の
０．１μｍのシリコンゴムの被膜をコートして離型性を
付与すること、及びセルに光硬化性のインキを盛った時
点で光を照射してインキを半乾きにして千切れ難いイン
キにすることによって、版からブランケットロールに１
００％の確率でインキを転移させることができたとして
おり、さらに、シリコン誘導体のブランケットロールに
転移したインキを液晶パネル用ガラスに印刷する前にも
う一度光を照射してインキを半乾きにして千切れ難いイ
ンキにするとともに、液晶パネル用ガラスの表面に０．
２〜０．３μｍの膜厚のアクリル系粘着剤をコートする
ことにより、ブランケットロールから液晶パネル用ガラ
スに１００％の確率でインキを転移させることができた
としている。 【００１１】しかし、ブランケットロールから液晶パネ
ル用ガラスに１００％の確率でインキを転移させるため
には、版や印刷装置を超精密に製作することが必須条件
である。すなわち、通常の印刷装置の機械精度では、ブ
ランケットロールから液晶パネル用ガラスにインキを転
移させる際に印圧が掛りしかも変動することが避けられ
ない。印圧が全く無くしたり、全く変動しないように機
械精度を高めることは至難である。 【００１２】仮に、ブランケットロールと液晶パネル用
ガラスとの隙間をインキの膜厚と完全に一致させてしか
も印刷中に隙間寸法に変動が生じないように、印刷機械
を超精密に製作できたとすれば、印圧は殆どかからず変
動しない。しかしながら、そのような装置を実用化する
ことはほとんど不可能である。なぜならば、ブランケッ
トロールと液晶パネル用ガラスとの隙間を例えば５．５
μｍに保持し、ブランケットロールに付着している６μ
ｍの膜厚のインキを液晶パネル用ガラスに転移させると
きには、インキの膜厚が５．５μｍとなるように印圧が
発生する。ブランケットロールが回転するとともに、ブ
ランケットロールの表面の速度に完全に一致させて液晶
パネル用ガラスを直動させる際に、ブランケットロール
と液晶パネル用ガラスとの隙間を全く変動させないよう
にすることは至難である。ブランケットロールは真円・
真円筒となるように超精密に製作する必要があり、液晶
パネル用ガラスを全く波動が生じないように直動させる
必要がある。ブランケットロールの直径に１μｍの偏心
があっても、または液晶パネル用ガラスがブランケット
ロールに対して１μｍ近づくか遠ざかったりすると、そ
れだけで、インキの膜厚が４．５μｍとなり印圧が変動
し、または、ブランケットロールと液晶パネル用ガラス
との隙間が５．５μｍよりも大きくなってしまい、その
ときは、ブランケットロールに付着しているインキが液
晶パネル用ガラスに転移できない。 【００１３】このことから言えることは、グラビアオフ
セット印刷機械の超精密化をいくら追求しても、印圧を
かける必要があり、印圧の変動を抑えることは不可能で
ある。従って、印圧がかかり、印圧が変動することが必
須なので、ブランケットロールから液晶パネル用ガラス
に１００％の確率でインキを転移させることは、実験で
はできたとしても、実用化はとても困難であると考えら
れる。 【００１４】他方、油性インキは、揮発する溶剤が大気
汚染し地球環境に悪影響を与えるとの理由で敬遠されて
おり、水性インキ、光硬化性インキが注目されてきてい
る。特に、光硬化性インキは、油性インキに比べて、顔
料の配合割合が高いのでインキの膜厚を薄くすることが
でき、しかもモノマーの配合により所望の低粘性に制御
できるので、浅くて、均一な深さのセルを有するグラビ
ア印刷版が要望されている。 【００１５】画像の濃淡階調度は、セルの面積の大小と
深さ等との相関関係によって決まる。ドットの面積が小
さくてもインキが厚く転移すると濃淡階調度が不自然に
なる。また、ドットの面積が大きくてもインキが均一に
転移せず中央が高くなる山盛り状態であると、ドットの
大きさに対するインクの分散性が悪く、濃淡階調度も悪
くなる。さらに、転移インキ量及びセルの面積が同一の
場合、丸いドット形状は細長いドット形状に比べてイン
クの分散性が悪い。セルの面積が小さいと、インキの表
面張力が大きく作用しインクの転移性が劣る。 【００１６】特開平４−２８２２９６号公報は、基材ロ
ールに銅膜を形成し、これにグラビアセルを形成し、次
いで耐刷力を付けるために、クロムメッキに変えて、Ｄ
ＬＣ膜等の硬質炭素化合物被膜をコートしたグラビア印
刷版を開示している。このグラビア印刷版は、画像の再
現性を向上できることを発明の効果としているが、特有
のものとは言えない。クロムメッキに変えてＤＬＣ膜等
をコートすることにより、グラビア画像の再現性を向上
できることの根拠は、クロムメッキでは５〜７μｍに薄
膜形成するので、セルを埋め戻してしまうことになりこ
のためにグラビア画像の再現性が損なってしまっている
のに対し、ＤＬＣ膜は通常において１μｍ以下しか形成
できないから、セルを埋め戻すことにはならず、しかも
１μｍ以下の膜厚でも耐刷力を充分に有する、というこ
とにあるものと考えられる。しかしながら、このグラビ
ア印刷版は、製造が実現できない欠点を有している。そ
の欠点とは、ＤＬＣ膜等の硬質炭素化合物被膜は、銅や
ニッケルの表面には殆ど付着させることができないこと
にある。このことは、工具等にＤＬＣ膜等をコートする
ことに携わる技術者において周知である。加えて、ＤＬ
Ｃ膜等は、スクリン線やセルの底面に良好に付着する
が、セルの側面には付着しがたい特性があることも周知
である。したがって、このグラビア印刷版は、実用可能
な版を提供できない。単に、アイデアにしか過ぎないと
思える。 【００１７】特開平１０−５３８７０号公報は、ゴム又
は樹脂の表面に架橋反応を起こさせる前処理により未結
合の炭素原子を万遍なく作り出し、フッ素含有ガスと水
素ガスのプラズマに晒して未結合の炭素原子が不純物と
結合するのを防止し、次いで、キャリヤガス（例えば不
活性ガス）と原料ガス（炭化水素ガス）のプラズマに晒
してゴム又は樹脂の表面にアモルファスダイヤモンド膜
を形成するものであって、該アモルファスダイヤモンド
膜の炭素が前記未結合の炭素原子と新たな化学反応を形
成することにより、該アモルファスダイヤモンド膜がゴ
ム又は樹脂の表面に強硬に結合することを開示してい
る。 【００１８】本願発明は、上述した総合的な知見に鑑み
案出したもので、クッション性を有することにより、硬
質な被印刷物に対してブランケットロールを用いないダ
イレクトなグラビア印刷が可能であり、しかも深さが小
さく底面が平滑で離型性があるセルを形成できることに
より、液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成する
ためのマトリックス画像をカラー印刷したり、あるいは
コンパクトディスク等に画像をカラー印刷するのに好適
なクッション性を有する凹版を提供することを目的とし
ている。 【００１９】また本願発明は、セルの深さをハイライト
部からシャドウ部まで均一にすることができ、濃淡階調
度を直線的に変化させることができ、濃淡階調度が豊か
でシャープなグラビア画像が得られ、さらにライト部の
セルの表面形状を改善することによりセルからの被印刷
物へのインキの転移性が良好でありライト部が白く抜け
て見えるインキが転移していないポイントを無くした印
刷物が得られるクッション性を有する凹版を提供するこ
とを目的としている。 【００２０】 【課題を解決するための手段】本願第一の発明は、版基
材にゴム又は樹脂からなるクッション層を形成し、該ク
ッション層の表面を覆うようにアモルファスダイヤモン
ド膜をセルの深さに等しくなるように形成し、該アモル
ファスダイヤモンド膜に前記ゴムが露出するようにイン
キを収容するセルを形成したことを特徴とするクッショ
ン性を有する凹版を提供するものである。 【００２１】本願第二の発明は、ロール状の版基材の表
面に撥油性を有するゴムからなるクッション層を形成
し、該クッション層の表面を覆うようにアモルファスダ
イヤモンド膜をセルの深さに等しくなるように形成し、
該アモルファスダイヤモンド膜に前記ゴムが露出するよ
うにインキを収容するセルを形成したことを特徴とする
クッション性を有する凹版を提供するものである。 【００２２】本願第三の発明は、前記版基材と前記クッ
ション層との間に、使用後に使い捨てするためのバラー
ド層を形成することを特徴とするクッション性を有する
凹版を提供するものである。 【００２３】本願第四の発明は、前記セルはグラビアセ
ルであり、ライト部のセルの表面形状が、円形中心部よ
り二本以上の短線が放射する放射形、又は中心を集合点
として三本以上の短線が放射する放射形であることを特
徴とするクッション性を有する凹版を提供するものであ
る。 【００２４】本願第五の発明は、ロール状の版基材の表
面に撥油性を有するゴムからなるクッション層を形成
し、該クッション層の表面を活性化し、プラズマＣＶＤ
法により該クッション層の表面を覆うようにアモルファ
スダイヤモンド膜をセルの深さに等しくなるように形成
し、該アモルファスダイヤモンド膜に感光膜をコートし
て画像を焼き付けて現像し、プラズマエッチングにより
前記アモルファスダイヤモンド膜に前記ゴムが露出する
ようにインキを収容するセルを形成することを特徴とす
るクッション性を有する凹版の製造方法を提供するもの
である。 【００２５】本願第六の発明は、前記版基材と前記クッ
ション層との間に、使用後に使い捨てするためのバラー
ド層を形成することを特徴とするクッション性を有する
凹版の製造方法を提供するものである。 【００２６】 【発明の実施の形態】本願発明の実施の形態にかかるク
ッション性を有する凹版を図面を参照して説明する。図
１において、（ａ）はロール状のクッション性を有する
凹版用版材を示す断面図、（ｂ）は凹版用版材の拡大断
面図、（ｃ）は凹版用版材のＤＬＣ膜にセルを形成した
状態を示す拡大断面図である。符号１は版基材、符号２
はクッション層、符号３はＤＬＣ膜（ダイヤモンドライ
クカーボン膜＝水素化アモルファスダイヤモンド膜）、
符号４はセルである。 【００２７】このクッション性を有する凹版は、先ず、
両端に被チャック孔を有する中空ロール形状（または軸
付きロール形状でもよい）で、外面が真円かつ円筒に精
密研磨された通電可能な版基材１を形成する。 【００２８】次いで、版基材１の表面に、３〜１５ｍｍ
の均一な厚さで表面の平滑度が高いシリコン誘導体ゴ
ム、フッ素ゴム、アクリルゴム、或いはウレタンゴムか
らなるクッション層２を継ぎ目に隙間が開かないように
巻付け接着する。 【００２９】次いで、プラズマエッチング装置（図示し
ない）のチャック手段により版基材１の両端の被チャッ
ク孔を両端チャックして回転し、プラズマエッチング装
置のプラズマ発生ヘッドを版基材１の一端に接近させて
から他端まで移動することにより、該版基材１の表面を
ｎμｍエッチングして活性化する。これは、ピンホール
が生じないようにＤＬＣ膜を形成するための前処理であ
る。このほかに、コロナ放電を行って版基材１の表面を
活性化することもできる。また、ＵＶランプを点灯して
表面を活性化することもできる。さらに、コートロール
を使って、一液型の常温硬化する液状シリコンゴムを数
μｍ塗布してから乾かないうちにプラズマＣＶＤ装置に
よりＤＬＣ膜を形成するときには、上記の活性化距離を
行わなくてもＤＬＣ膜を強く付着形成できる。 【００３０】次いで、プラズマＣＶＤ装置（図示しな
い）のチャック手段により版基材１の両端の被チャック
孔を両端チャックして回転し、プラズマＣＶＤ装置のプ
ラズマ発生ヘッドを版基材１の一端に接近させてから他
端まで移動することにより、該版基材１の表面に厚さが
４〜６μｍの被膜となるようにＤＬＣ膜２を形成し（１
μｍの膜厚となるようにＤＬＣ膜２を形成しても良
い）、ロール状のクッション性を有する凹版用版材（図
１（ａ），（ｂ））を構成する。ＤＬＣ膜２は、金属に
対して１μｍ内外しか形成できない。樹脂面に対して
は、４〜５μｍの膜厚に形成できる。６μｍの膜厚形成
が限界のようである。従って、この版は、数値限定する
ものではないが、セルの深さを例えば１０μｍ以上に得
ることを目的としていない。なぜならば、ＤＬＣ膜２
は、１０μｍも２０μｍも形成することは不可能だから
である。この版は、セルの深さを１〜６μｍに得ること
を目的としている。 【００３１】次いで、前記凹版用版材のＤＬＣ膜２の表
面に感光剤を均一に塗布し乾固して感光膜を形成し、レ
ーザー露光装置により直接画像を焼き付けるか、フィル
ムを重ねて露光して画像を焼き付け現像することにより
レジストマスク画像を形成する。 【００３２】次いで、プラズマエッチング装置（図示し
ない）のチャック手段により版基材１の両端の被チャッ
ク孔を両端チャックして回転し、プラズマエッチング装
置のプラズマ発生ヘッドを版基材１の一端に接近させて
から他端まで移動することにより、前記クッション層２
が露出するように、前記ＤＬＣ膜３をエッチングしてイ
ンキを収容するセル４を形成し、次いで、レジスト剥離
すれば、本願発明のクッション性を有する凹版が完成す
る。 【００３３】このクッション性を有する凹版は、クッシ
ョン層２が露出するように、ＤＬＣ膜３をエッチングし
てインキを収容するセル３を形成するので、クッション
層２の膜厚がセル４の深さとなる。このクッション性を
有する凹版は、クッション層２の膜厚を４〜６μｍの範
囲で正確に成膜制御できる。時間をかけることで、１０
μｍの膜厚とすることもできる。 【００３４】プラズマＣＶＤ−プラズマエッチング装置
は、図示しないが、基本構成を簡単に説明する。チャン
バは必要最小限の大きさに形成する。チャンバ内に設け
られる、モータにより回転される中空なチャックコーン
とこれに対向してストロークする中空なチャックコーン
を、チャンバの外に移動して、産業用ロボットからロー
ル状の凹版用版材を両端チャックして受け取り、チャン
バ内に移動する。チャンバ内を真空にしてロール状の凹
版用版材を低速回転する。プラズマＣＶＤは、紫外線ラ
ンプを点灯してゴムの表面に架橋反応を起こさせてか
ら、水素ガスとＤＬＣ原料ガスを送り込む。両チャック
コーンを通してロール基材に電流を流せるようにする。
ロール基材を高周波電極として取り扱って、該ロール基
材と該ロール基材の外側に平行な接地電極との間に、直
流の高周波電流を流して、ＤＬＣ原料ガスを励起し、ロ
ール状の凹版用版材のクッション層の表面にＤＬＣ膜を
形成する。プラズマエッチングは、チャンバ内にエッチ
ングガスを送り込み、ロール基材と接地電極との間に、
直流の高周波電流を流して、ＤＬＣ原料ガスを励起し、
レジスト画像で被覆されていないＤＬＣ膜の露出箇所を
クッション層２が露出するまで行う。プラズマＣＶＤと
プラズマエッチングの何れの処理を行うときも、クッシ
ョン層２の冷却を行うために、一方のチャックコーンを
通して冷風をロール基材の内部に送り込み、他方のチャ
ックコーンより排出する。 【００３５】このクッション性を有する凹版をグラビア
版として製作するときは、セル３の深さをハイライト部
からシャドウ部のいずれにおいても等しく得られるか
ら、ハイライト部からシャドウ部までのインキの転移量
をセルの面積に完全に比例させることができ、もって、
ハイライト部からシャドウ部までの濃淡階調度を直線的
に変化させることができ、濃淡階調度が豊かでシャープ
なグラビア画像が得られる。 【００３６】このクッション性を有する凹版は、クッシ
ョン層２が露出したセル４を形成できるので、クッショ
ン層２をシリコン誘導体ゴムやフッ素樹脂等の撥油性を
有する樹脂により構成すれば、セル４に離型性を持たせ
ることができるので有利である。ＤＬＣ膜３は、成膜に
使用するガスの成分を選択することにより撥油性を有し
たり、有しなかったりする。撥油性を有するようにＤＬ
Ｃ膜３を形成すると、セル４に離型性をさらに強く持た
せることができる。セル４の深さを極めて浅くすると、
ゴムの撥油性が効いてくるので、セルの全面（底面及び
周壁面）が撥油性を有して離型性が大きすぎると、ドク
ターによりセル４にインキを盛ってもすぐにはじいてし
まう場合がある。そのときは、ＤＬＣ膜３に撥油性を持
たせないようにする。クッション層２を撥油性が強いフ
ッ素樹脂で構成するときは、ＤＬＣ膜３は撥油性が小さ
くなるように成膜する。また、クッション層２をシリコ
ン誘導体ゴムで構成するときは、撥油性がフッ素樹脂よ
りも小さいので、ＤＬＣ膜３は撥油性が若干大きくなる
ように成膜する。このように、この凹版は、離型性を有
するが、一層完璧な離型性を持たせるために、膜厚が
０．１μｍとなるように脱酸素により硬化するシリコン
誘導体ゴムの被膜を形成すると良い。 【００３７】この凹版は、ＤＬＣ膜３にドライエッチン
グしてセル４の底面部にクッション層２を露出させるこ
とが好ましいが、ＹＡＤレーザ等によりＤＬＣ膜３にパ
ターンを穿孔しても良い。 【００３８】この凹版は、クッション層２を有するの
で、ガラスに破損の惧れなく印刷できる。すなわち、こ
の凹版をガラスに接触させて印刷すると、接触圧が印圧
として作用しようとするが、接触圧はセル内に少しも作
用しない。インキはセル４内よりガラスに転移し、その
際に、大きな印圧がかかる惧れが全く無いから、印圧に
よりインキの輪郭が外側に広がりあるいは乱れることが
ない。このため、液晶パネル用ガラスにカラーフィルタ
を製造するためのカラー印刷を行うための、本願発明に
かかる凹版は、レーザー露光装置を使用してパターンを
正確に焼き付けて製作した場合には、６μｍのライン／
スペースが得られる。 【００３９】従って、ドクターによりセル４にＵＶイン
キを盛ってＵＶ光線を照射してＵＶインキを半乾きにし
てから液晶パネル用ガラスへカラー印刷する技法を併用
すれば、この凹版からガラスへのインキの転移を１００
％の確率で得られるから、本願発明にかかる凹版を使用
した印刷法により、従来のフォトリソグラフィー法に比
べてはるかに安価にカラーフィルタを製造できる。 【００４０】この凹版は、使用後にクッション層２より
引き裂いて取り除けば落版ができるので、版に反復使用
性が生じ、経済的で好ましい。 【００４１】この凹版は、版基材１とクッション層２と
の間に、使用後に使い捨てするためのバラード層（図示
しない）を形成すると、引き裂いて取り除けく落版機能
が高まるので一層好ましい。 【００４２】この凹版のクッション層２は、撥油性を有
する樹脂であることが好ましいが、撥油性がなくても良
い。また、クッション層２は、室温、常温においてクッ
ション性を有していないが、ロールを５０度ないし９０
度に加熱して印刷使用とすると、クッション性を発現す
る熱可塑性を有する樹脂も含むものである。 【００４３】図２は、本願発明のグラビア印刷版のセル
の表面形状を示す。このグラビア印刷版は、最シャドウ
部（限定するものでないが、例えば８０％の開孔率）が
六角形のドットを敷き詰めた形状である。そして、最シ
ャドウ部以外の大きさのドットが、最シャドウ部のドッ
トを敷き詰めた時の各六角形の中心に位置するように分
布している。濃淡階調度が０％超〜８％以下のライト部
のセルは、円形中心部より二本の短線が放射する放射形
であり、かつ濃淡階調度に対応するように略相似形を維
持して漸次に大きくなっている。濃淡階調度が８％超〜
２５％以下のライト部のセルは、円形中心部より六本の
短線が放射する放射形であり、かつ濃淡階調度に対応す
るように略相似形を維持して漸次に大きくなっている。
図示しない、濃淡階調度が２５％超〜３５％未満のライ
ト部ないし中間調部のセルを設けるときは、円形中心部
より六本の短線が放射する放射形であり、そして、濃淡
階調度に対応するように、２５％のライト部のセルに比
べて、円形より放射する短線の長さが同じで、短線の幅
及び円形中心部の径が漸次に大きくなっている。濃淡階
調度が３５％超〜６４％以下の中間調部ないしシャドウ
部のセルは、円形中心部より六本の短線が放射する放射
形であり、かつ濃淡階調度に対応するように略相似形を
維持して漸次に大きくなっている。図示しない、濃淡階
調度が６４％超〜７５％未満のシャドウ部のセルを設け
るときは、円形中心部より六本の短線が放射するセルか
ら六角形のセルに漸次に変移する形状である。濃淡階調
度が７５％以上のシャドウ部のセルないし〜８０％のシ
ャドウ部のセル（この実施の態様において、８０％のシ
ャドウ部のセルはベタ印刷に対応している）は、略六角
形であり、かつ濃淡階調度に対応するようにほぼ相似形
を維持して漸次に大きくなっている。このグラビア印刷
版は、０％超〜６４％以下のセルが、円形中心部より複
数本の短線が放射する放射形であるので、インキの分散
性が高くなる。このグラビア印刷版は、表面張力の影響
を受けやすいライト部のセルの表面形状を、円形中心部
より二本以上の短線が放射する放射形、又は中心を集合
点として三本以上の短線が放射する放射形にすると、表
面張力の影響を解消できる。 【００４４】 【実施例】２０ミクロンの膜厚にバラード銅メッキして
鏡面・円筒研磨し１０μｍの膜厚になるように形成した
クロムメッキ被膜の表面を活性化処理してから、アルゴ
ン・ネオンガスレーザによって硬化し得る高感度特性を
有する感光性樹脂膜を２ミクロンの厚さとなるように塗
布して乾固し、次いで、感光性樹脂膜にレーザ露光装置
により、感光性樹脂膜にネガチブな印刷情報を書き込ん
だ後、現像を行って感光性樹脂膜の未露光部分を溶解し
て後、レジストを加熱硬化してからバラードメッキ被膜
が露出するようにクロムメッキ被膜に対してエッチング
してポジチブな印刷画像を彫り込み、レジスト剥離して
グラビア印刷版を完成させ、印刷テストをしたところ、
ライト部の印刷がインキが転移せずに白く見えるポイン
トを大幅に無くした印刷物が得られた。また、インキの
分散性も大幅に向上した。 【００４５】 【発明の効果】以上説明してきたように、本願発明のク
ッション性を有する凹版によれば、クッション層により
クッション性を備えて印圧が高くならないように抑制す
ることができるとともにＤＬＣ膜が必要十分な耐刷力を
有するので、硬質な被印刷物、特にガラスへの印刷をダ
イレクトに良好に印刷することができる。この凹版は、
ゴムからなるクッション層を露出するようにＤＬＣ膜に
セルを形成するものであり、ＤＬＣ膜を１〜６μｍの膜
厚に制御することを容易かつ正確にできるので、１〜６
μｍの範囲で希望する任意の深さのかつ均一な深さのセ
ルを版表面から垂直に彫り込まれた版を得ることがで
き、セルに盛るインキの膜厚は均一になり、またコンパ
クトディスク等への薄膜なグラビア印刷に関して、ハイ
ライト部からシャドウ部までのインキの転移量をセルの
面積に完全に比例させることができ、ハイライト部から
シャドウ部までの濃淡階調度を直線的に変化させること
ができ、濃淡階調度が豊かでシャープなグラビア画像が
得られる。そして、この凹版を、クッション層について
撥油性を有するシリコン誘導体ゴム等により形成する
と、インキに対する離型性がある深さが極めて浅く均一
なセルを有する凹版が得られる。さらに、ＤＬＣ膜を撥
油性を持たせて成膜すれば、一層強く離型性を持たせる
ことができる。従って、この凹版を使用してガラスへの
ダイレクトな印刷を行えば、グラビアオフセット印刷と
は異なり、セル内のインキを印圧により潰されることが
なく被印刷物への転移を保障できる。それゆえ、従来の
印刷法によるカラーフィルタの製造上の欠点である断面
山盛り状態のインキの転移を回避でき、インキの膜厚が
極めて薄く均一で、輪郭がシャープで、輪郭線のエッジ
の乱れが少ない印刷ができ、コンパクトディスク等にイ
ンキの膜厚が極めて薄い鮮明な画像をカラー印刷するの
に好適である。なお、インキは光硬化性インキを使用す
るのが好ましい。この凹版は、撥油性を有するシリコン
誘導体ゴム等によりクッション層を形成して、レーザ露
光装置によりパターンを焼き付けてセルの深さを１〜６
μｍに浅く形成して、６μｍのラインアンドスペースを
実現できて、インキに対する離型性があるセルを有する
凹版が得られる。従って、版のセルに盛られたインキに
ＵＶ光源を照射して半乾きにしてから転移させる技法を
併用することにより、１００％のインキ転移率が得られ
る。この凹版は、転移するインキの膜厚が均一でインキ
の表面に凹凸が生じないから、前記の印刷法によるカラ
ーフィルタの製造がフォトリソグラフィー法と同等以上
の品質が印刷法により実用できて、カラーフィルタの製
造コストをフォトリソグラフィー法に比べて飛躍的に低
減することができる。さらに、本願発明のクッション性
を有する凹版をグラビア印刷版として構成すれば、ライ
ト部のセルの表面形状を、円形中心部より二本以上の短
線が放射する放射形、又は中心を集合点として三本以上
の短線が放射する放射形にしたので、ライト部のセルの
表面形状をインキの表面張力の影響を受けず、インキの
分散性が向上し、セルからの被印刷物へのインキの転移
性が良好であり、ライト部の白抜けを無くした良好な印
刷物が得られる。

【図面の簡単な説明】 【図１】本願発明のクッション性を有する凹版の実施の
形態に係り、（ａ）は版基材にクッション層とＤＬＣ膜
を形成した凹版用版材を示す断面図、（ｂ）は（ａ）の
要部拡大断面図、（ｃ）はＤＬＣ膜にセルをエッチング
形成した状態を示す拡大断面図である。 【図２】本願発明の実施の形態に係るグラビア印刷版の
ハイライト部からシャドウ部までの十段階のドット％に
おけるセルの表面形状を示す図。 【符号の説明】 １ ・・・・版基材 ２ ・・・・クッション層 ３ ・・・・ＤＬＣ膜 ４ ・・・・セル

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 版基材にゴム又は樹脂からなるクッショ
   ン層を形成し、該クッション層の表面を覆うようにアモ
   ルファスダイヤモンド膜をセルの深さに等しくなるよう
   に形成し、該アモルファスダイヤモンド膜に前記ゴムが
   露出するようにインキを収容するセルを形成したことを
   特徴とするクッション性を有する凹版。 【請求項２】 ロール状の版基材の表面に撥油性を有す
   るゴムからなるクッション層を形成し、該クッション層
   の表面を覆うようにアモルファスダイヤモンド膜をセル
   の深さに等しくなるように形成し、該アモルファスダイ
   ヤモンド膜に前記ゴムが露出するようにインキを収容す
   るセルを形成したことを特徴とするクッション性を有す
   る凹版。 【請求項３】 前記版基材と前記クッション層との間
   に、使用後に使い捨てするためのバラード層を形成する
   ことを特徴とする〔請求項１〕又は〔請求項２〕に記載
   のクッション性を有する凹版。 【請求項４】 前記セルはグラビアセルであり、ライト
   部のセルの表面形状が、円形中心部より二本以上の短線
   が放射する放射形、又は中心を集合点として三本以上の
   短線が放射する放射形であることを特徴とする〔請求項
   １〕又は〔請求項２〕に記載のクッション性を有する凹
   版。 【請求項５】 ロール状の版基材の表面に撥油性を有す
   るゴムからなるクッション層を形成し、該クッション層
   の表面を活性化し、プラズマＣＶＤ法により該クッショ
   ン層の表面を覆うようにアモルファスダイヤモンド膜を
   セルの深さに等しくなるように形成し、該アモルファス
   ダイヤモンド膜に感光膜をコートして画像を焼き付けて
   現像し、プラズマエッチングにより前記アモルファスダ
   イヤモンド膜に前記ゴムが露出するようにインキを収容
   するセルを形成することを特徴とするクッション性を有
   する凹版の製造方法。 【請求項６】 前記版基材と前記クッション層との間
   に、使用後に使い捨てするためのバラード層を形成する
   ことを特徴とする〔請求項５〕に記載のクッション性を
   有する凹版の製造方法。