JP4859921B2 - グラビア製版ロール及びその製造方法 - Google Patents
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Description
銅メッキ層を除去することによってグラビアセルを形成する方法としては、従来公知のエッチング法又は電子彫刻法などが適用できる。
前記過熱水蒸気の温度は100℃以上、好ましくは100℃を超え300℃以下のものが用いられるが、中空ロールの材質に応じて適宜最適な温度を設定することはいうまでもない。前記加熱処理時間は加熱温度に応じて1分〜1時間程度に設定すればよい。
これらの溶剤に溶解されるペルヒドロポリシラザンの量としては、0.5〜30質量%程度が好適である。
銅メッキ層12bの除去によってグラビアセル20bを形成する方法としては、従来公知のエッチング法又は電子彫刻法の他に、レーザーアブレーションを用いた方法も採用できる。前記グラビアセル20bの深度は5〜150μmが好適である。
ブーメランライン(株式会社シンク・ラボラトリー製グラビア製版ロール製造装置)を用いて下記する銅メッキ層の形成を行った。まず、円周600mm、面長1100mmの
グラビアシリンダー(アルミ中空ロール)をメッキ槽に装着し、陽極室をコンピューターシステムによる自動スライド装置で20mmまで中空ロールに近接させ、メッキ液をオーバーフローさせ、中空ロールを全没させて18A/dm2、6.0Vで80μmの銅メッキ層を形成した。メッキ時間は20分、メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一な銅メッキ層を得た。この銅メッキ層の表面を4H研磨機(株式会社シンク・ラボラトリー製研磨機)を用いて12分間研磨して当該銅メッキ層の表面を均一な研磨面とした。
得られた印刷物は版カブリがなく、50,000mの長さまで印刷できた。パターンの精度は変化がなかった。また、銅メッキシリンダーに対するペルヒドロポリシラザン塗布層の密着性は問題がなかった。この本発明のグラビアシリンダーのハイライト部からシャドウ部のグラデーションは、常法に従って作製したクロムメッキグラビアシリンダーと変わらなかったことからインキ転移性は問題ないと判断される。この結果として、予め銅メッキ層に感光剤を塗布してグラビアセルを形成してからペルヒドロポリシラザン溶液を用いた二酸化珪素被膜を形成しなくとも、銅メッキ層の表面にペルヒドロポリシラザン塗布層を設けてその上からレーザーアブレーションによりグラビアセルを形成し、その後硬化させることで、従来のクロム層に匹敵する性能を有し、クロム層代替品として充分使用できる二酸化珪素被膜を有するグラビア製版ロールが得られることを確認した。
ペルヒドロポリシラザン塗布層の加熱条件を、過熱水蒸気での2段加熱処理(1次加熱:140℃で10分間処理、2次加熱:170℃で10分間処理)に変更した以外は実施例1と同様にグラビア製版ロールを製造し、印刷テストを行ったところ、実施例1と同様の良好な印刷結果を得ることができた。
ブーメランライン(株式会社シンク・ラボラトリー製グラビア製版ロール製造装置)を用いて下記する銅メッキ層の形成及びエッチング処理までを行った。まず、円周600mm、面長1100mmのグラビアシリンダー(アルミ中空ロール)をメッキ槽に装着し、陽極室をコンピューターシステムによる自動スライド装置で20mmまで中空ロールに近接させ、メッキ液をオーバーフローさせ、中空ロールを全没させて18A/dm2、6.0Vで80μmの銅メッキ層を形成した。メッキ時間は20分、メッキ表面はブツやピットの発生がなく、均一な銅メッキ層を得た。この銅メッキ層の表面を4H研磨機(株式会
社シンク・ラボラトリー製研磨機)を用いて12分間研磨して当該銅メッキ層の表面を均一な研磨面とした。
この結果として、予め銅メッキ層にグラビアセルを形成してからグラビアシリンダーの全面に二酸化珪素被膜を形成しなくとも、銅メッキ層の表面にペルヒドロポリシラザン塗布層を設けてその上からレーザーアブレーションしてグラビアセル形成部分のペルヒドロポリシラザン塗布層を除去し、残存するペルヒドロポリシラザン塗布層を過熱水蒸気で加熱処理して二酸化珪素被膜とし、ついでグラビアセルを形成することで、即ちグラビアセルを形成しない部分のみを二酸化珪素被膜で被覆することによって、従来のクロム層等の強化被覆層に匹敵する性能を有し、強化被覆層として充分使用できる二酸化珪素被膜を有するグラビア製版ロールが得られることを確認した。
ペルヒドロポリシラザン塗布層の加熱条件を、過熱水蒸気での2段加熱処理(1次加熱:140℃で10分間処理、2次加熱:170℃で10分間処理)に変更した以外は実施例3と同様にグラビア製版ロールを製造し、印刷テストを行ったところ、実施例3と同様の良好な印刷結果を得ることができた。
Claims (5)
- 版母材と、
該版母材の表面に設けられた銅メッキ層と、
該銅メッキ層の表面を被覆するように形成された二酸化珪素被膜と、
該二酸化珪素被膜に形成されたグラビアセルと、を含み、
ペルヒドロポリシラザン溶液を用いて前記二酸化珪素被膜を形成することを特徴とするグラビア製版ロール。 - 版母材と、
該版母材の表面に設けられた銅メッキ層と、
該銅メッキ層を除去することによって形成されたグラビアセルと、
該銅メッキ層のグラビアセルを形成しない部分を被覆するように形成された二酸化珪素被膜と、を含み、
ペルヒドロポリシラザン溶液を用いて前記二酸化珪素被膜を形成することを特徴とするグラビア製版ロール。 - 版母材を準備する工程と、
該版母材の表面に銅メッキ層を形成する銅メッキ工程と、
該銅メッキ層の上にペルヒドロポリシラザン溶液を塗布してペルヒドロポリシラザン塗布層を形成するペルヒドロポリシラザン塗布層形成工程と、
レーザーアブレーションによって該ペルヒドロポリシラザン塗布層にグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、
該ペルヒドロポリシラザン塗布層を過熱水蒸気によって加熱処理して二酸化珪素被膜とする二酸化珪素被膜形成工程と、
を含むことを特徴とするグラビア製版ロールの製造方法。 - 版母材を準備する工程と、
該版母材の表面に銅メッキ層を形成する銅メッキ工程と、
該銅メッキ層の上にペルヒドロポリシラザン溶液を塗布してペルヒドロポリシラザン塗布層を形成するペルヒドロポリシラザン塗布層形成工程と、
レーザーアブレーションによって該ペルヒドロポリシラザン塗布層のグラビアセル形成部分の除去を行うペルヒドロポリシラザン塗布層除去工程と、
残存した該ペルヒドロポリシラザン塗布層を過熱水蒸気によって加熱処理して二酸化珪素被膜とする二酸化珪素被膜形成工程と、
該二酸化珪素被膜の存在しないグラビアセル形成部分の該銅メッキ層の除去を行うことによってグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、
を含むことを特徴とするグラビア製版ロールの製造方法。 - 二酸化珪素被膜形成工程における加熱処理が、第1次及び第2次加熱処理を含む複数段の加熱処理であり、該第1次加熱処理の条件を100℃〜170℃、1分〜30分、及び該第2次加熱処理の条件を140℃〜200℃、1分〜30分とし、該第2次加熱処理の温度を該第1次加熱処理の温度よりも高く設定することを特徴とする請求項3又は4記載のグラビア製版ロールの製造方法。
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