JPH11309951A - グラビア印刷版、及び、グラビア印刷版の製造方法 - Google Patents
グラビア印刷版、及び、グラビア印刷版の製造方法Info
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- JPH11309951A JPH11309951A JP17535198A JP17535198A JPH11309951A JP H11309951 A JPH11309951 A JP H11309951A JP 17535198 A JP17535198 A JP 17535198A JP 17535198 A JP17535198 A JP 17535198A JP H11309951 A JPH11309951 A JP H11309951A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ハイライト部からシャドウ部までのセルの深
さを均一にすることができるので、耐刷力が極めて大き
いグラビア印刷版、及びグラビア印刷版の製造方法。 【解決手段】 版基材１の表面に、膜厚がセルの深さに
等しくなるように金属膜２を形成し、金属膜２の表面に
硬質膜３を形成し、レーザを照射して硬質膜３の一部を
除去して金属膜２を露出させてから、エッチングにより
金属膜２の露出部分を除去して版基材１を露出しそこに
インキを収容するセル４を形成した。
さを均一にすることができるので、耐刷力が極めて大き
いグラビア印刷版、及びグラビア印刷版の製造方法。 【解決手段】 版基材１の表面に、膜厚がセルの深さに
等しくなるように金属膜２を形成し、金属膜２の表面に
硬質膜３を形成し、レーザを照射して硬質膜３の一部を
除去して金属膜２を露出させてから、エッチングにより
金属膜２の露出部分を除去して版基材１を露出しそこに
インキを収容するセル４を形成した。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、表面から垂直に彫
り込むことができかつ深さが均一で精密なセルが得ら
れ、転移するインキの膜厚が均一になり、濃淡階調度が
優れていてシャープな印刷画像が得られるグラビア印刷
版、及びグラビア印刷版の製造方法に関する。
り込むことができかつ深さが均一で精密なセルが得ら
れ、転移するインキの膜厚が均一になり、濃淡階調度が
優れていてシャープな印刷画像が得られるグラビア印刷
版、及びグラビア印刷版の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のグラビア印刷ロールの製造方法に
は、大きく分けて三種類ある。第一は、銅メッキされた
ロールにヘリオクリッショグラフという電子彫刻機で画
像を直接彫り込む方法である。第二は、銅メッキされた
ロールに感光膜を形成しレーザー露光装置で画像を焼き
付けるか原稿フィルムを重ねて紫外線で焼き付け、現像
・エッチング・レジスト剥離・クロムメッキの工程を経
て画像を形成する方法である。第三は、金属製の版基材
にエポキシ樹脂をコートしてレーザを照射してエポキシ
樹脂を焼失して画像を形成する方法である。
は、大きく分けて三種類ある。第一は、銅メッキされた
ロールにヘリオクリッショグラフという電子彫刻機で画
像を直接彫り込む方法である。第二は、銅メッキされた
ロールに感光膜を形成しレーザー露光装置で画像を焼き
付けるか原稿フィルムを重ねて紫外線で焼き付け、現像
・エッチング・レジスト剥離・クロムメッキの工程を経
て画像を形成する方法である。第三は、金属製の版基材
にエポキシ樹脂をコートしてレーザを照射してエポキシ
樹脂を焼失して画像を形成する方法である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記第一の方法は、四
角錐の穴を彫り込むことになり、被印刷物に転移するイ
ンキは山盛りとなり、インキの分散性が悪い。前記第二
の方法は、被印刷物に転移するインキが平らに盛られる
ので、ドット単位でのインキの分散性が良いが、ハイラ
イト部のセルを、輪郭がくっきりとした正確な形状にか
つシャドウ部のセルと深さを同じにすることが困難であ
り、全体として、ハイライト部におけるインキの分散性
が悪い。前記第三の方法は、ハイライト部からシャドウ
部までのセルの深さを均一にすることができるので、全
体としても、ドット単位としてもインキの分散性が良い
が、ドクターで版面が容易に削られてしまい、耐刷力が
極めて小さいので実用できなかった。
角錐の穴を彫り込むことになり、被印刷物に転移するイ
ンキは山盛りとなり、インキの分散性が悪い。前記第二
の方法は、被印刷物に転移するインキが平らに盛られる
ので、ドット単位でのインキの分散性が良いが、ハイラ
イト部のセルを、輪郭がくっきりとした正確な形状にか
つシャドウ部のセルと深さを同じにすることが困難であ
り、全体として、ハイライト部におけるインキの分散性
が悪い。前記第三の方法は、ハイライト部からシャドウ
部までのセルの深さを均一にすることができるので、全
体としても、ドット単位としてもインキの分散性が良い
が、ドクターで版面が容易に削られてしまい、耐刷力が
極めて小さいので実用できなかった。
【０００４】本願発明は、上述した点に鑑み案出したも
ので、表面から垂直に彫り込むことができかつハイライ
ト部からシャドウ部までのセルの深さを均一にすること
ができるので、全体としても、ドット単位としてもイン
キの分散性が良く、濃淡階調度が優れていてシャープな
印刷画像が得られ、耐刷力が極めて大きいグラビア印刷
版、及びグラビア印刷版の製造方法を提供することを目
的としている。
ので、表面から垂直に彫り込むことができかつハイライ
ト部からシャドウ部までのセルの深さを均一にすること
ができるので、全体としても、ドット単位としてもイン
キの分散性が良く、濃淡階調度が優れていてシャープな
印刷画像が得られ、耐刷力が極めて大きいグラビア印刷
版、及びグラビア印刷版の製造方法を提供することを目
的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本願第一の発明は、版基
材と、膜厚がセルの深さに等しくなるように前記版基材
の表面に形成された金属膜と、該金属膜の表面に形成さ
れたレーザにより焼失可能な硬質膜とからなり、前記硬
質膜の一部と前記金属膜の一部が同一箇所において除去
され前記版基材が露出し、そこにインキを収容するセル
が形成されていることを特徴とするグラビア印刷版を提
供するものである。
材と、膜厚がセルの深さに等しくなるように前記版基材
の表面に形成された金属膜と、該金属膜の表面に形成さ
れたレーザにより焼失可能な硬質膜とからなり、前記硬
質膜の一部と前記金属膜の一部が同一箇所において除去
され前記版基材が露出し、そこにインキを収容するセル
が形成されていることを特徴とするグラビア印刷版を提
供するものである。
【０００６】本願第二の発明は、版基材の表面に、膜厚
がセルの深さに等しくなるように金属膜を形成し、該金
属膜の表面に、レーザにより焼失可能な硬質膜を形成し
て被製版ロールを構成し、レーザを照射して前記硬質膜
の一部を除去して前記金属膜を露出してから、エッチン
グにより前記金属膜の露出部分を除去して前記版基材を
露出しそこにインキを収容するセルを形成してグラビア
印刷版を構成することを特徴とするグラビア印刷版の製
造方法を提供するものである。
がセルの深さに等しくなるように金属膜を形成し、該金
属膜の表面に、レーザにより焼失可能な硬質膜を形成し
て被製版ロールを構成し、レーザを照射して前記硬質膜
の一部を除去して前記金属膜を露出してから、エッチン
グにより前記金属膜の露出部分を除去して前記版基材を
露出しそこにインキを収容するセルを形成してグラビア
印刷版を構成することを特徴とするグラビア印刷版の製
造方法を提供するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】本願発明のグラビア印刷版、及
び、グラビア印刷版の製造方法を図面を参照して説明す
る。図１は、グラビア印刷版用の被製版ロールの断面図
を示すもので、符号１は版基材、符号２は版基材１の表
面に薄膜にメッキ形成された金属膜、符号３は該金属膜
の表面に薄膜に形成されたレーザにより焼失可能な硬質
膜である。図２は、グラビア印刷版の断面図を示すもの
で、図１の被製版ロールに対して、硬質膜３の一部と金
属膜２の一部を同一箇所において除去し版基材１を露出
し、グラビア画像を得るようにインキを溜める凹部であ
るセル４を形成したものである。
び、グラビア印刷版の製造方法を図面を参照して説明す
る。図１は、グラビア印刷版用の被製版ロールの断面図
を示すもので、符号１は版基材、符号２は版基材１の表
面に薄膜にメッキ形成された金属膜、符号３は該金属膜
の表面に薄膜に形成されたレーザにより焼失可能な硬質
膜である。図２は、グラビア印刷版の断面図を示すもの
で、図１の被製版ロールに対して、硬質膜３の一部と金
属膜２の一部を同一箇所において除去し版基材１を露出
し、グラビア画像を得るようにインキを溜める凹部であ
るセル４を形成したものである。
【０００８】版基材１はアルミニウム製あるいは鉄製の
ベース金属の表面に、セル４の深さに略等しくなるよう
に１０〜２０μｍの厚さだけ銅メッキしてある。版基材
１は両端に被チャック孔を有する中空ロールとなってい
るが、印刷機に対応させて軸付の中空ロールとしても良
い。硬質膜３は、ダイヤモンド膜、アモルファスダイヤ
モンド膜（ＤＬＣ膜）、ＣＢＮ膜、その他、ビッカース
硬度がダイヤモンドのように非常に大きくて、各種のＣ
ＶＤ法や燃焼炎法、イオンビーム注入法等の薄膜形成技
術により薄膜形成可能であって、しかもレーザにより焼
失可能な硬質膜であればよい。特に、アモルファスダイ
ヤモンド膜（ＤＬＣ膜）であることが好ましい。アモル
ファスダイヤモンド膜は、プラズマＣＶＤ法あるいはス
パッタリングにより最大で１μｍ強の厚さの薄膜を形成
することができる。そして、アモルファスダイヤモンド
膜は、数ワットの低出力のレーザ（炭酸ガスレーザ、Ｙ
ＡＧレーザ、あるいはアルゴンレーザ）により８００°
Ｃ〜９００°Ｃの比較的低温で容易に焼失できる。特
に、アモルファスダイヤモンド膜の焼失は、酸素雰囲気
中で行うと、炭素粒が残らず炭素粒が表面に付着せず、
実用的な速度で加工できるので好ましい。本発明では、
１μｍ前後の厚さのアモルファスダイヤモンド膜３にレ
ーザを照射し、セル４を形成する部分を焼失させる。金
属膜２は印刷後に版基材１を反復使用できるように、印
刷後に引き剥がし可能なバラードメッキとすることが好
ましい。バラードメッキは銅メッキであることが好まし
い。従来のバラードメッキは、８０〜１００μｍ位の厚
さに形成されていて、このバラードメッキの厚み内にエ
ッチングまたは電子彫刻機により１０〜３０μｍ位のセ
ルが彫り込まれているが、本発明にかかるバラードメッ
キは、１０〜１５μｍ位の厚さに形成されていて、前記
セル４がエッチングによりハイライト部からシャドウ部
までバラードメッキの厚さに等しく形成されている。セ
ル４を形成するためのエッチング時に、アモルファスダ
イヤモンド膜３と軸芯材１は浸食されない。もしも、ア
モルファスダイヤモンド膜等の硬質膜を、１０〜１５μ
ｍ位の厚さに経済的にかつ迅速にかつ確実容易に形成で
きるならば、下地に金属膜２を形成しなくてもよい。し
かしながら、経済性を考慮してプラズマＣＶＤ法あるい
はスパッタリングにより形成できるアモルファスダイヤ
モンド膜等の硬質膜は、最大で１μｍ強の厚さにしかな
らない。従って、本願発明は、下地に金属膜２を１０〜
１５μｍ位の厚さとなるように形成して、セル４の深さ
を確保している。金属膜２を銅メッキとした場合、通常
において、アモルファスダイヤモンド膜がプラズマＣＶ
Ｄ法等により形成されがたい。そこで、金属膜２を銅メ
ッキとする場合は、アモルファスダイヤモンド膜の形成
が良好な金属を金属膜２に１〜２μｍメッキしてからア
モルファスダイヤモンド膜の形成する。この場合におけ
るセルの形成は、硬質膜３にレーザを照射してグラビア
画像となるように硬質膜３の一部を除去し、露出した外
側の金属被膜をエッチングにより除去してから、さらに
異なるエッチング液で金属膜２にエッチングし除去す
る。アモルファスダイヤモンド膜等の硬質膜３は、クロ
ムメッキよりも固く、表面が滑らかで潤滑性があるの
で、耐刷力が大きく版面に好適である。なお、本願発明
は、ロール版に限定されるものでなく、平版も含むもの
である。
ベース金属の表面に、セル４の深さに略等しくなるよう
に１０〜２０μｍの厚さだけ銅メッキしてある。版基材
１は両端に被チャック孔を有する中空ロールとなってい
るが、印刷機に対応させて軸付の中空ロールとしても良
い。硬質膜３は、ダイヤモンド膜、アモルファスダイヤ
モンド膜（ＤＬＣ膜）、ＣＢＮ膜、その他、ビッカース
硬度がダイヤモンドのように非常に大きくて、各種のＣ
ＶＤ法や燃焼炎法、イオンビーム注入法等の薄膜形成技
術により薄膜形成可能であって、しかもレーザにより焼
失可能な硬質膜であればよい。特に、アモルファスダイ
ヤモンド膜（ＤＬＣ膜）であることが好ましい。アモル
ファスダイヤモンド膜は、プラズマＣＶＤ法あるいはス
パッタリングにより最大で１μｍ強の厚さの薄膜を形成
することができる。そして、アモルファスダイヤモンド
膜は、数ワットの低出力のレーザ（炭酸ガスレーザ、Ｙ
ＡＧレーザ、あるいはアルゴンレーザ）により８００°
Ｃ〜９００°Ｃの比較的低温で容易に焼失できる。特
に、アモルファスダイヤモンド膜の焼失は、酸素雰囲気
中で行うと、炭素粒が残らず炭素粒が表面に付着せず、
実用的な速度で加工できるので好ましい。本発明では、
１μｍ前後の厚さのアモルファスダイヤモンド膜３にレ
ーザを照射し、セル４を形成する部分を焼失させる。金
属膜２は印刷後に版基材１を反復使用できるように、印
刷後に引き剥がし可能なバラードメッキとすることが好
ましい。バラードメッキは銅メッキであることが好まし
い。従来のバラードメッキは、８０〜１００μｍ位の厚
さに形成されていて、このバラードメッキの厚み内にエ
ッチングまたは電子彫刻機により１０〜３０μｍ位のセ
ルが彫り込まれているが、本発明にかかるバラードメッ
キは、１０〜１５μｍ位の厚さに形成されていて、前記
セル４がエッチングによりハイライト部からシャドウ部
までバラードメッキの厚さに等しく形成されている。セ
ル４を形成するためのエッチング時に、アモルファスダ
イヤモンド膜３と軸芯材１は浸食されない。もしも、ア
モルファスダイヤモンド膜等の硬質膜を、１０〜１５μ
ｍ位の厚さに経済的にかつ迅速にかつ確実容易に形成で
きるならば、下地に金属膜２を形成しなくてもよい。し
かしながら、経済性を考慮してプラズマＣＶＤ法あるい
はスパッタリングにより形成できるアモルファスダイヤ
モンド膜等の硬質膜は、最大で１μｍ強の厚さにしかな
らない。従って、本願発明は、下地に金属膜２を１０〜
１５μｍ位の厚さとなるように形成して、セル４の深さ
を確保している。金属膜２を銅メッキとした場合、通常
において、アモルファスダイヤモンド膜がプラズマＣＶ
Ｄ法等により形成されがたい。そこで、金属膜２を銅メ
ッキとする場合は、アモルファスダイヤモンド膜の形成
が良好な金属を金属膜２に１〜２μｍメッキしてからア
モルファスダイヤモンド膜の形成する。この場合におけ
るセルの形成は、硬質膜３にレーザを照射してグラビア
画像となるように硬質膜３の一部を除去し、露出した外
側の金属被膜をエッチングにより除去してから、さらに
異なるエッチング液で金属膜２にエッチングし除去す
る。アモルファスダイヤモンド膜等の硬質膜３は、クロ
ムメッキよりも固く、表面が滑らかで潤滑性があるの
で、耐刷力が大きく版面に好適である。なお、本願発明
は、ロール版に限定されるものでなく、平版も含むもの
である。
【０００９】
【発明の効果】以上説明してきたように、本願発明のグ
ラビア印刷版、及びグラビア印刷版の製造方法によれ
ば、 金属膜２の厚さを正確に制御することができ、硬質膜
３にレーザを照射して画像を彫り込んでからエッチング
によって金属膜２にセル４を彫り込むものであるので、
ハイライト部からシャドウ部までのセルを望みの深さに
均一に形成することができ、全体としても、ドット単位
としてもインキの分散性が良く、濃淡階調度が優れてい
てシャープな印刷画像が得られる。 下地の金属膜を従来のバラード銅メッキの厚さの1/4
〜1/5 に小さく抑えられるので、下地の金属膜の形成に
必要なメッキ金属の使用量、及び、メッキのための電力
消費量が1/4 〜1/5 に小さく抑えられることができ、省
エネルギーになり経済性が良い。 耐刷力は、アモルファスダイヤモンド膜等の硬質膜３
は、従来のクロムメッキに比べて１０倍近く大きい。ア
モルファスダイヤモンド膜等の硬質膜３の形成に要する
費用は、従来のクロムメッキするための費用よりも大幅
に低減できる。 印刷後、アモルファスダイヤモンド膜等の硬質膜３の
除去はレーザをスパイラル状に隙間なく照射することに
より除去することができる。アモルファスダイヤモンド
膜等の硬質膜３は、炭酸ガスと水蒸気に熱化学変化する
ので無公害となるので、従来のクロムメッキにより耐刷
力を付ける場合に比べて、環境に優しく好ましい。 金属膜２を従来のバラード銅メッキの厚さの1/4 〜1/
5 に小さく抑えられるので、印刷後、アモルファスダイ
ヤモンド膜等の硬質膜３を除去してから、下地の金属膜
２の除去を、砥石研磨で落版することが容易であり、ま
たエッチングによって落版しても短時間ですみ、エッチ
ング液にメッキ電流を通して銅を回収することも可能と
なる。 従来において行っていた、バラード銅メッキへの感光
膜の形成、露光、現像、レジスト隔離の工程を、本願発
明では、金属膜２に対して行わないので、工程の大幅な
省略化になり、設備ラインを大幅に省略できる。
ラビア印刷版、及びグラビア印刷版の製造方法によれ
ば、 金属膜２の厚さを正確に制御することができ、硬質膜
３にレーザを照射して画像を彫り込んでからエッチング
によって金属膜２にセル４を彫り込むものであるので、
ハイライト部からシャドウ部までのセルを望みの深さに
均一に形成することができ、全体としても、ドット単位
としてもインキの分散性が良く、濃淡階調度が優れてい
てシャープな印刷画像が得られる。 下地の金属膜を従来のバラード銅メッキの厚さの1/4
〜1/5 に小さく抑えられるので、下地の金属膜の形成に
必要なメッキ金属の使用量、及び、メッキのための電力
消費量が1/4 〜1/5 に小さく抑えられることができ、省
エネルギーになり経済性が良い。 耐刷力は、アモルファスダイヤモンド膜等の硬質膜３
は、従来のクロムメッキに比べて１０倍近く大きい。ア
モルファスダイヤモンド膜等の硬質膜３の形成に要する
費用は、従来のクロムメッキするための費用よりも大幅
に低減できる。 印刷後、アモルファスダイヤモンド膜等の硬質膜３の
除去はレーザをスパイラル状に隙間なく照射することに
より除去することができる。アモルファスダイヤモンド
膜等の硬質膜３は、炭酸ガスと水蒸気に熱化学変化する
ので無公害となるので、従来のクロムメッキにより耐刷
力を付ける場合に比べて、環境に優しく好ましい。 金属膜２を従来のバラード銅メッキの厚さの1/4 〜1/
5 に小さく抑えられるので、印刷後、アモルファスダイ
ヤモンド膜等の硬質膜３を除去してから、下地の金属膜
２の除去を、砥石研磨で落版することが容易であり、ま
たエッチングによって落版しても短時間ですみ、エッチ
ング液にメッキ電流を通して銅を回収することも可能と
なる。 従来において行っていた、バラード銅メッキへの感光
膜の形成、露光、現像、レジスト隔離の工程を、本願発
明では、金属膜２に対して行わないので、工程の大幅な
省略化になり、設備ラインを大幅に省略できる。
【図１】本願発明の実施の形態に係るグラビア印刷版用
の被製版ロールの断面図。
の被製版ロールの断面図。
【図２】本願発明の実施の形態に係るグラビア印刷ロー
ルの断面図。
ルの断面図。
１ ・・・・版基材 ２ ・・・・金属膜 ３ ・・・・硬質膜 ４ ・・・・セル
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１０年５月６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００８】版基材１はアルミニウム製あるいは鉄製の
ベース金属の表面に、セル４の深さに略等しくなるよう
に１０〜２０μｍの厚さだけ銅メッキしてある。版基材
１は両端に被チャック孔を有する中空ロールとなってい
るが、印刷機に対応させて軸付の中空ロールとしても良
い。硬質膜３は、ダイヤモンド膜、アモルファスダイヤ
モンド膜（ＤＬＣ膜）、ＣＢＮ膜、その他、ビッカース
硬度がダイヤモンドのように非常に大きくて、各種のＣ
ＶＤ法や燃焼炎法、イオンビーム注入法等の薄膜形成技
術により薄膜形成可能であって、しかもレーザにより焼
失可能な硬質膜であればよい。特に、アモルファスダイ
ヤモンド膜（ＤＬＣ膜）であることが好ましい。アモル
ファスダイヤモンド膜は、プラズマＣＶＤ法あるいはス
パッタリングにより最大で１μｍ強の厚さの薄膜を形成
することができる。そして、アモルファスダイヤモンド
膜は、数ワットの低出力のレーザ（炭酸ガスレーザ、Ｙ
ＡＧレーザ、あるいはアルゴンレーザ）により８００°
Ｃ〜９００°Ｃの比較的低温で容易に焼失できる。特
に、アモルファスダイヤモンド膜の焼失は、酸素雰囲気
中で行うと、炭素粒が残らず炭素粒が表面に付着せず、
実用的な速度で加工できるので好ましい。本発明では、
１μｍ前後の厚さのアモルファスダイヤモンド膜３にレ
ーザを照射し、セル４を形成する部分を焼失させる。金
属膜２は印刷後に版基材１を反復使用できるように、印
刷後に引き剥がし可能なバラードメッキとすることが好
ましい。バラードメッキは銅メッキであることが好まし
い。従来のバラードメッキは、８０〜１００μｍ位の厚
さに形成されていて、このバラードメッキの厚み内にエ
ッチングまたは電子彫刻機により１０〜３０μｍ位のセ
ルが彫り込まれているが、本発明にかかるバラードメッ
キは、１０〜１５μｍ位の厚さに形成されていて、前記
セル４がエッチングによりハイライト部からシャドウ部
までバラードメッキの厚さに等しく形成されている。セ
ル４を形成するためのエッチング時に、アモルファスダ
イヤモンド膜３と軸芯材１は浸食されない。もしも、ア
モルファスダイヤモンド膜等の硬質膜を、１０〜１５μ
ｍ位の厚さに経済的にかつ迅速にかつ確実容易に形成で
きるならば、下地に金属膜２を形成しなくてもよい。し
かしながら、経済性を考慮してプラズマＣＶＤ法あるい
はスパッタリングにより形成できるアモルファスダイヤ
モンド膜等の硬質膜は、最大で１μｍ強の厚さにしかな
らない。従って、本願発明は、下地に金属膜２を１０〜
１５μｍ位の厚さとなるように形成して、セル４の深さ
を確保している。金属膜２を銅メッキとした場合、通常
において、アモルファスダイヤモンド膜がプラズマＣＶ
Ｄ法等により形成されがたい。そこで、金属膜２を銅メ
ッキとする場合は、アモルファスダイヤモンド膜の形成
が良好な金属を金属膜２に１〜２μｍメッキしてからア
モルファスダイヤモンド膜の形成する。この場合におけ
るセルの形成は、硬質膜３にレーザを照射してグラビア
画像となるように硬質膜３の一部を除去し、露出した外
側の金属被膜をエッチングにより除去してから、さらに
異なるエッチング液で金属膜２にエッチングし除去す
る。アモルファスダイヤモンド膜等の硬質膜３は、クロ
ムメッキよりも固く、表面が滑らかで潤滑性があるの
で、耐刷力が大きく版面に好適である。なお、本願発明
は、ロール版に限定されるものでなく、平版も含むもの
である。
ベース金属の表面に、セル４の深さに略等しくなるよう
に１０〜２０μｍの厚さだけ銅メッキしてある。版基材
１は両端に被チャック孔を有する中空ロールとなってい
るが、印刷機に対応させて軸付の中空ロールとしても良
い。硬質膜３は、ダイヤモンド膜、アモルファスダイヤ
モンド膜（ＤＬＣ膜）、ＣＢＮ膜、その他、ビッカース
硬度がダイヤモンドのように非常に大きくて、各種のＣ
ＶＤ法や燃焼炎法、イオンビーム注入法等の薄膜形成技
術により薄膜形成可能であって、しかもレーザにより焼
失可能な硬質膜であればよい。特に、アモルファスダイ
ヤモンド膜（ＤＬＣ膜）であることが好ましい。アモル
ファスダイヤモンド膜は、プラズマＣＶＤ法あるいはス
パッタリングにより最大で１μｍ強の厚さの薄膜を形成
することができる。そして、アモルファスダイヤモンド
膜は、数ワットの低出力のレーザ（炭酸ガスレーザ、Ｙ
ＡＧレーザ、あるいはアルゴンレーザ）により８００°
Ｃ〜９００°Ｃの比較的低温で容易に焼失できる。特
に、アモルファスダイヤモンド膜の焼失は、酸素雰囲気
中で行うと、炭素粒が残らず炭素粒が表面に付着せず、
実用的な速度で加工できるので好ましい。本発明では、
１μｍ前後の厚さのアモルファスダイヤモンド膜３にレ
ーザを照射し、セル４を形成する部分を焼失させる。金
属膜２は印刷後に版基材１を反復使用できるように、印
刷後に引き剥がし可能なバラードメッキとすることが好
ましい。バラードメッキは銅メッキであることが好まし
い。従来のバラードメッキは、８０〜１００μｍ位の厚
さに形成されていて、このバラードメッキの厚み内にエ
ッチングまたは電子彫刻機により１０〜３０μｍ位のセ
ルが彫り込まれているが、本発明にかかるバラードメッ
キは、１０〜１５μｍ位の厚さに形成されていて、前記
セル４がエッチングによりハイライト部からシャドウ部
までバラードメッキの厚さに等しく形成されている。セ
ル４を形成するためのエッチング時に、アモルファスダ
イヤモンド膜３と軸芯材１は浸食されない。もしも、ア
モルファスダイヤモンド膜等の硬質膜を、１０〜１５μ
ｍ位の厚さに経済的にかつ迅速にかつ確実容易に形成で
きるならば、下地に金属膜２を形成しなくてもよい。し
かしながら、経済性を考慮してプラズマＣＶＤ法あるい
はスパッタリングにより形成できるアモルファスダイヤ
モンド膜等の硬質膜は、最大で１μｍ強の厚さにしかな
らない。従って、本願発明は、下地に金属膜２を１０〜
１５μｍ位の厚さとなるように形成して、セル４の深さ
を確保している。金属膜２を銅メッキとした場合、通常
において、アモルファスダイヤモンド膜がプラズマＣＶ
Ｄ法等により形成されがたい。そこで、金属膜２を銅メ
ッキとする場合は、アモルファスダイヤモンド膜の形成
が良好な金属を金属膜２に１〜２μｍメッキしてからア
モルファスダイヤモンド膜の形成する。この場合におけ
るセルの形成は、硬質膜３にレーザを照射してグラビア
画像となるように硬質膜３の一部を除去し、露出した外
側の金属被膜をエッチングにより除去してから、さらに
異なるエッチング液で金属膜２にエッチングし除去す
る。アモルファスダイヤモンド膜等の硬質膜３は、クロ
ムメッキよりも固く、表面が滑らかで潤滑性があるの
で、耐刷力が大きく版面に好適である。なお、本願発明
は、ロール版に限定されるものでなく、平版も含むもの
である。
【手続補正書】
【提出日】平成１０年５月１９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００８】版基材１はアルミニウム製あるいは鉄製の
ベース金属の表面に、セル４の深さに略等しくなるよう
に１０〜２０μｍの厚さだけ銅メッキしてある。版基材
１は両端に被チャック孔を有する中空ロールとなってい
るが、印刷機に対応させて軸付の中空ロールとしても良
い。硬質膜３は、ダイヤモンド膜、アモルファスダイヤ
モンド膜（ＤＬＣ膜）、ＣＢＮ膜、その他、ビッカース
硬度がダイヤモンドのように非常に大きくて、各種のＣ
ＶＤ法や燃焼炎法、イオンビーム注入法等の薄膜形成技
術により薄膜形成可能であって、しかもレーザにより焼
失可能な硬質膜であればよい。特に、アモルファスダイ
ヤモンド膜（ＤＬＣ膜）であることが好ましい。アモル
ファスダイヤモンド膜は、プラズマＣＶＤ法あるいはス
パッタリングにより最大で１μｍ強の厚さの薄膜を形成
することができる。そして、アモルファスダイヤモンド
膜は、数ワットの低出力のレーザ（炭酸ガスレーザ、Ｙ
ＡＧレーザ、あるいはアルゴンレーザ）により８００°
Ｃ〜９００°Ｃの比較的低温で容易に焼失できる。特
に、アモルファスダイヤモンド膜の焼失は、酸素雰囲気
中で行うと、炭素粒が残らず炭素粒が表面に付着せず、
実用的な速度で加工できるので好ましい。本発明では、
１μｍ前後の厚さのアモルファスダイヤモンド膜３にレ
ーザを照射し、セル４を形成する部分を焼失させる。金
属膜２は印刷後に版基材１を反復使用できるように、印
刷後に引き剥がし可能なバラードメッキとすることが好
ましい。バラードメッキは銅メッキであることが好まし
い。従来のバラードメッキは、８０〜１００μｍ位の厚
さに形成されていて、このバラードメッキの厚み内にエ
ッチングまたは電子彫刻機により１０〜３０μｍ位のセ
ルが彫り込まれているが、本発明にかかるバラードメッ
キは、１０〜１５μｍ位の厚さに形成されていて、前記
セル４がエッチングによりハイライト部からシャドウ部
までバラードメッキの厚さに等しく形成されている。セ
ル４を形成するためのエッチング時に、アモルファスダ
イヤモンド膜３と軸芯材１は浸食されない。もしも、ア
モルファスダイヤモンド膜等の硬質膜を、１０〜１５μ
ｍ位の厚さに経済的にかつ迅速にかつ確実容易に形成で
きるならば、下地に金属膜２を形成しなくてもよい。し
かしながら、経済性を考慮してプラズマＣＶＤ法あるい
はスパッタリングにより形成できるアモルファスダイヤ
モンド膜等の硬質膜は、最大で１μｍ強の厚さにしかな
らない。従って、本願発明は、下地に金属膜２を１０〜
１５μｍ位の厚さとなるように形成して、セル４の深さ
を確保している。金属膜２を銅メッキとした場合、通常
において、アモルファスダイヤモンド膜がプラズマＣＶ
Ｄ法等により形成されがたい。そこで、金属膜２を銅メ
ッキとする場合は、アモルファスダイヤモンド膜の形成
が良好な金属を金属膜２に１〜２μｍメッキしてからア
モルファスダイヤモンド膜の形成する。この場合におけ
るセルの形成は、硬質膜３にレーザを照射してグラビア
画像となるように硬質膜３の一部を除去し、露出した外
側の金属被膜をエッチングにより除去してから、さらに
異なるエッチング液で金属膜２にエッチングし除去す
る。アモルファスダイヤモンド膜等の硬質膜３は、クロ
ムメッキよりも固く、表面が滑らかで潤滑性があるの
で、耐刷力が大きく版面に好適である。なお、本願発明
は、ロール版に限定されるものでなく、平版も含むもの
である。
ベース金属の表面に、セル４の深さに略等しくなるよう
に１０〜２０μｍの厚さだけ銅メッキしてある。版基材
１は両端に被チャック孔を有する中空ロールとなってい
るが、印刷機に対応させて軸付の中空ロールとしても良
い。硬質膜３は、ダイヤモンド膜、アモルファスダイヤ
モンド膜（ＤＬＣ膜）、ＣＢＮ膜、その他、ビッカース
硬度がダイヤモンドのように非常に大きくて、各種のＣ
ＶＤ法や燃焼炎法、イオンビーム注入法等の薄膜形成技
術により薄膜形成可能であって、しかもレーザにより焼
失可能な硬質膜であればよい。特に、アモルファスダイ
ヤモンド膜（ＤＬＣ膜）であることが好ましい。アモル
ファスダイヤモンド膜は、プラズマＣＶＤ法あるいはス
パッタリングにより最大で１μｍ強の厚さの薄膜を形成
することができる。そして、アモルファスダイヤモンド
膜は、数ワットの低出力のレーザ（炭酸ガスレーザ、Ｙ
ＡＧレーザ、あるいはアルゴンレーザ）により８００°
Ｃ〜９００°Ｃの比較的低温で容易に焼失できる。特
に、アモルファスダイヤモンド膜の焼失は、酸素雰囲気
中で行うと、炭素粒が残らず炭素粒が表面に付着せず、
実用的な速度で加工できるので好ましい。本発明では、
１μｍ前後の厚さのアモルファスダイヤモンド膜３にレ
ーザを照射し、セル４を形成する部分を焼失させる。金
属膜２は印刷後に版基材１を反復使用できるように、印
刷後に引き剥がし可能なバラードメッキとすることが好
ましい。バラードメッキは銅メッキであることが好まし
い。従来のバラードメッキは、８０〜１００μｍ位の厚
さに形成されていて、このバラードメッキの厚み内にエ
ッチングまたは電子彫刻機により１０〜３０μｍ位のセ
ルが彫り込まれているが、本発明にかかるバラードメッ
キは、１０〜１５μｍ位の厚さに形成されていて、前記
セル４がエッチングによりハイライト部からシャドウ部
までバラードメッキの厚さに等しく形成されている。セ
ル４を形成するためのエッチング時に、アモルファスダ
イヤモンド膜３と軸芯材１は浸食されない。もしも、ア
モルファスダイヤモンド膜等の硬質膜を、１０〜１５μ
ｍ位の厚さに経済的にかつ迅速にかつ確実容易に形成で
きるならば、下地に金属膜２を形成しなくてもよい。し
かしながら、経済性を考慮してプラズマＣＶＤ法あるい
はスパッタリングにより形成できるアモルファスダイヤ
モンド膜等の硬質膜は、最大で１μｍ強の厚さにしかな
らない。従って、本願発明は、下地に金属膜２を１０〜
１５μｍ位の厚さとなるように形成して、セル４の深さ
を確保している。金属膜２を銅メッキとした場合、通常
において、アモルファスダイヤモンド膜がプラズマＣＶ
Ｄ法等により形成されがたい。そこで、金属膜２を銅メ
ッキとする場合は、アモルファスダイヤモンド膜の形成
が良好な金属を金属膜２に１〜２μｍメッキしてからア
モルファスダイヤモンド膜の形成する。この場合におけ
るセルの形成は、硬質膜３にレーザを照射してグラビア
画像となるように硬質膜３の一部を除去し、露出した外
側の金属被膜をエッチングにより除去してから、さらに
異なるエッチング液で金属膜２にエッチングし除去す
る。アモルファスダイヤモンド膜等の硬質膜３は、クロ
ムメッキよりも固く、表面が滑らかで潤滑性があるの
で、耐刷力が大きく版面に好適である。なお、本願発明
は、ロール版に限定されるものでなく、平版も含むもの
である。
Claims (2)
- 【請求項１】 版基材と、膜厚がセルの深さに等しくな
るように前記版基材の表面に形成された金属膜と、該金
属膜の表面に形成されたレーザにより焼失可能な硬質膜
とからなり、前記硬質膜の一部と前記金属膜の一部が同
一箇所において除去され前記版基材が露出し、そこにイ
ンキを収容するセルが形成されていることを特徴とする
グラビア印刷版。 - 【請求項２】 版基材の表面に、膜厚がセルの深さに等
しくなるように金属膜を形成し、該金属膜の表面に、レ
ーザにより焼失可能な硬質膜を形成して被製版ロールを
構成し、レーザを照射して前記硬質膜の一部を除去して
前記金属膜を露出してから、エッチングにより前記金属
膜の露出部分を除去して前記版基材を露出しそこにイン
キを収容するセルを形成してグラビア印刷版を構成する
ことを特徴とするグラビア印刷版の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17535198A JP3886644B2 (ja) | 1998-04-27 | 1998-04-27 | グラビア印刷版の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17535198A JP3886644B2 (ja) | 1998-04-27 | 1998-04-27 | グラビア印刷版の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11309951A true JPH11309951A (ja) | 1999-11-09 |
| JP3886644B2 JP3886644B2 (ja) | 2007-02-28 |
Family
ID=15994559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17535198A Expired - Lifetime JP3886644B2 (ja) | 1998-04-27 | 1998-04-27 | グラビア印刷版の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3886644B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003237017A (ja) * | 2002-12-04 | 2003-08-26 | Think Laboratory Co Ltd | グラビア製版工場 |
| JP2003260774A (ja) * | 2002-12-24 | 2003-09-16 | Think Laboratory Co Ltd | グラビア製版工場 |
| WO2007132755A1 (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-22 | Think Laboratory Co., Ltd. | グラビア製版ロール及びその製造方法 |
| WO2007135901A1 (ja) * | 2006-05-19 | 2007-11-29 | Think Laboratory Co., Ltd. | グラビア製版ロール及びその製造方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2534814C1 (ru) * | 2013-05-07 | 2014-12-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт механики Уральского отделения РАН | Способ записи изображений |
| JP6149813B2 (ja) | 2013-10-28 | 2017-06-21 | 株式会社村田製作所 | グラビア版の製造方法、グラビア印刷方法及び電子部品の製造方法 |
-
1998
- 1998-04-27 JP JP17535198A patent/JP3886644B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003237017A (ja) * | 2002-12-04 | 2003-08-26 | Think Laboratory Co Ltd | グラビア製版工場 |
| JP4530394B2 (ja) * | 2002-12-04 | 2010-08-25 | 株式会社シンク・ラボラトリー | グラビア製版工場 |
| JP2003260774A (ja) * | 2002-12-24 | 2003-09-16 | Think Laboratory Co Ltd | グラビア製版工場 |
| JP4530396B2 (ja) * | 2002-12-24 | 2010-08-25 | 株式会社シンク・ラボラトリー | グラビア製版工場 |
| WO2007132755A1 (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-22 | Think Laboratory Co., Ltd. | グラビア製版ロール及びその製造方法 |
| JPWO2007132755A1 (ja) * | 2006-05-16 | 2009-09-24 | 株式会社シンク・ラボラトリー | グラビア製版ロール及びその製造方法 |
| JP4859921B2 (ja) * | 2006-05-16 | 2012-01-25 | 株式会社シンク・ラボラトリー | グラビア製版ロール及びその製造方法 |
| WO2007135901A1 (ja) * | 2006-05-19 | 2007-11-29 | Think Laboratory Co., Ltd. | グラビア製版ロール及びその製造方法 |
| JPWO2007135901A1 (ja) * | 2006-05-19 | 2009-10-01 | 株式会社シンク・ラボラトリー | グラビア製版ロール及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3886644B2 (ja) | 2007-02-28 |
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| JP2010089335A (ja) | グラビア製版ロール及びその製造方法 |
Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20040910 |
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| RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
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| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041108 |
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