KR20080016840A

KR20080016840A - 화상 처리 장치, 화상 묘화 장치 및 시스템

Info

Publication number: KR20080016840A
Application number: KR1020077028808A
Authority: KR
Inventors: 유키히사 오자키; 타카시 토요후쿠
Original assignee: 후지필름 가부시키가이샤
Priority date: 2005-06-16
Filing date: 2006-06-12
Publication date: 2008-02-22
Also published as: JP4450769B2; CN101198908A; US20090034833A1; JP2006350013A; KR100995846B1; WO2006134854A1

Abstract

거버 데이터를 원인으로 해서, 묘화 장치에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 기판에 문제가 발생하는 것을 미연에 방지한다.

기판에 직접 묘화하는 배선 패턴을 나타내는 벡터 형식의 거버 데이터를, RIP 처리에 의해 묘화용 래스터 데이터로 전개하기 전에 도입하고(100), 묘화시의 해상도나 기판 상의 감광 재료의 종류에 따라 체크 처리의 역치를 설정한 후에(102,104), 원주 길이가 역치(th1) 미만인 원호부의 유무, 반경차가 역치(th2) 이상인 원호부의 유무, 면적이 역치(th5) 이상인 핀홀 영역의 유무, 인접하는 패턴과의 오버랩 영역의 폭이 역치(th6) 미만인 패턴의 유무, 인접하는 패턴의 간극이 역치(th7) 미만인 패턴의 유무 등을 체크하며(106~176), 에러를 검지한 경우에는 에러 개소를 명시하기 위한 거버 에러 파일을 생성하여 에러 개소를 디스플레이에 표시한다(182,184).

화상 처리 장치, 화상 묘화 장치, 시스템

Description

화상 처리 장치, 화상 묘화 장치 및 시스템{IMAGE PROCESSING DEVICE, IMAGE DRAWING DEVICE, AND SYSTEM}

본 발명은 화상 처리 장치, 화상 묘화 장치 및 시스템에 관한 것이고, 특히 묘화용 래스터 데이터가 나타내는 배선 패턴을 기판에 직접 묘화하는 묘화 장치와 접속되며, 입력된 배선 패턴을 나타내는 벡터 형식의 화상 데이터를 묘화용 래스터 데이터로 전개하는 RIP 처리를 행하는 화상 처리 장치, 상기 화상 처리 장치를 구비한 화상 묘화 장치 및 화상 묘화 시스템에 관한 것이다.

프린트 배선 기판(PWB : Print Wired Board)이나 플랫 패널 디스플레이(FPD)의 기판 등을 작성할 때의 묘화 방식으로서는, 종래 기판 상에 형성해야 할 배선 패턴을 일단 필름에 노광함으로써 마스크를 제작한 후에, 이 마스크를 이용하여 상기 배선 패턴을 기판에 면 노광에 의해 묘화하는 방식(아날로그 묘화 방식이라고 칭한다)이 일반적이었지만, 최근 마스크를 제작하지 않고 배선 패턴을 나타내는 디지털 데이터(묘화용 래스터 데이터)에 기초하여 기판에 배선 패턴을 직접 묘화하는, 소위 디지털 묘화 방식이 이용되어 오고 있다(예를 들면 일본 특허 공개 2004-184921호 공보를 참조).

디지털 묘화 방식으로 묘화를 행하는 묘화 시스템에는, 기판으로의 묘화를 행하는 묘화 장치와 상기 묘화 장치에 접속된 화상 처리 장치가 설치되어 있고, 화상 처리 장치는 CAD(Computer Aided Design)/CAM(Computer Aided Manufacturing)를 이용해서 제작된 화상 데이터(기판 상에 형성해야 할 배선 패턴을 나타내는 벡터 형식 또한 일정 포맷의 데이터)가 입력되며, 입력된 화상 데이터를 묘화용 래스터 데이터로 전개하는 RIP(Raster Image Processor) 처리를 행하고, RIP 처리에 의해 얻어진 묘화용 래스터 데이터를 묘화 장치로 공급하는 기능을 갖고 있다.

그런데, 묘화용 래스터 데이터는 기판에 형성해야 할 배선 패턴을 묘화 장치에 의한 묘화와 동일한 고해상도로 나타내는 데이터이기 때문에 데이터량이 방대해서 RIP 처리에는 비교적 긴 시간이 걸린다. 이 때문에, RIP 처리에 의해 얻어진 묘화용 래스터 데이터를 이용하여 실제로 기판에 배선 패턴을 묘화해서 기판을 작성한 결과, 예를 들면 인접하는 패턴의 간극이 부족하거나 하는 배선 패턴의 문제가 발생되어 있었을 경우, 이들 문제가 해소될 수 있도록 화상 데이터를 수정한 후에, 시간이 걸리는 RIP 처리나 기판으로의 묘화 등의 후공정을 다시 행할 필요가 있으므로, 기판 제조 등의 작업의 진척에 큰 악영향을 미치게 함과 아울러, 기판이 낭비된다는 문제가 있다.

본 발명은 상기 사실을 감안하여 이뤄진 것으로, 화상 데이터를 원인으로 해서 묘화 장치에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 기판에 문제가 발생하는 것을 미연에 방지할 수 있는 화상 처리 장치, 화상 묘화 장치 및 화상 묘화 시스템을 얻는 것이 목적이다.

상기 목적을 달성하기 위해 제 1 형태에 기재된 발명에 따른 화상 처리 장치는, 묘화용 래스터 데이터가 나타내는 배선 패턴을 기판에 직접 묘화하는 묘화 장치와 접속되고, 입력된 상기 배선 패턴을 나타내는 벡터 형식의 화상 데이터를 상기 묘화용 래스터 데이터로 전개하는 RIP 처리를 행하는 화상 처리 장치로서, 입력된 상기 화상 데이터에 대하여 상기 RIP 처리가 행해지기 전에, 상기 화상 데이터에, 상기 묘화 장치에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 기판에 문제가 발생하는 결함이 있는지의 여부를 검사하는 검사 수단을 구비한 것을 특징으로 하고 있다.

이것에 의해, 입력된 화상 데이터에 묘화 장치에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 기판에 문제가 발생하는 결함이 있었다고 해도, 이 결함이 화상 데이터에 대하여 RIP 처리를 행하기 전에 검사 수단에 의해 검지되게 되고, 검지된 결함에 기초하여 화상 데이터를 수정한 후에 RIP 처리를 행함으로써 화상 데이터를 원인으로 해서 기판에 문제가 발생하는 것을 미연에 방지할 수 있다.

그리고 상기 문제의 원인이 되는 화상 데이터의 결함을, RIP 처리를 행하기 전에 검지할 수 있음으로써 RIP 처리나 묘화 장치에 의한 묘화 등의 공정을 쓸모없이 반복할 필요가 없어지고, 입력된 화상 데이터의 결함이 기판 제조 등의 작업의 진척에 큰 악영향을 끼치거나, 상기 결함에 의해 기판이 낭비되거나 하는 것을 방지할 수 있다.

또한, 묘화 장치에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 기판에 화상 데이터를 원인으로 하는 문제가 발생할지의 여부는 묘화 장치가 기판에 배선 패턴을 묘화할 때에 적용되는 묘화 조건에도 의존한다. 이것을 고려하면, 제 1 형태에 기재된 발명에 있어서 검사 수단은 예를 들면 제 2 형태에 기재된 바와 같이, 화상 데이터에 결함이 있는지의 여부를 검사하는데 있어서 묘화 장치가 기판에 배선 패턴을 묘화할 때에 적용되는 묘화 조건을 취득하고, 취득된 묘화 조건에 따라 상기 검사에 있어서의 결함의 판정에 사용하는 역치를 설정하며, 설정된 역치를 이용하여 검사를 행하는 것이 바람직하다.

CAD/CAM 시스템에서 화상 데이터를 제작·생성하는 시점에서는 묘화 장치가 기판에 배선 패턴을 묘화할 때의 묘화 조건은 일정하지 않으므로, 이 공정에서 화상 데이터의 결함의 유무를 검사했다고 해도 상기의 문제를 효과적으로 저감하는 것은 곤란하다. 이것에 대하여 RIP 처리는 화상 데이터를, 묘화 장치가 기판에 배선 패턴을 묘화할 때의 묘화 조건(예를 들면 해상도 등)에 따른 묘화용 래스터 데이터로 전개하는 처리이므로, RIP 처리를 행하는 시점에서는 상기의 묘화 조건은 확정되어 있다. 제 2 형태에 기재된 발명에서는 이것을 이용하여 상기의 묘화 조건을 취득하고, 취득된 묘화 조건에 따라 검사에 있어서의 결함의 판정에 이용하는 역치를 설정하며, 설정된 역치를 이용하여 검사를 행하므로 묘화 장치에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 기판에 화상 데이터를 원인으로 하는 문제가 발생하는 결함이 화상 데이터에 있는지의 여부를 고정밀도로 판단할 수 있어, 검사 수단에 의한 검사의 정밀도를 향상시킬 수 있다.

또한, 제 2 형태에 기재된 발명에 있어서의 묘화 조건으로서는, 예를 들면 제 3 형태에 기재된 바와 같이 배선 패턴을 묘화할 때에 적용되는 해상도 또는 기판에 설치된 감광 재료의 종류를 사용할 수 있다.

또한, 제 2 형태 또는 제 3 형태에 기재된 발명에 있어서 검사 수단은 작성되는 기판에 문제가 발생하는 결함이 있는지의 여부를 검사하는 처리로서, 예를 들면 제 4 형태에도 기재된 바와 같이 화상 데이터가 나타내는 배선 패턴 중에 원둘레 길이가 제 1 역치 미만인 원호부가 포함되어 있는지의 여부, 배선 패턴 중에 시점 위치에서의 반경과 종점 위치에서의 반경의 차가 제 2 역치 이상인 원호부가 포함되어 있는지의 여부, 배선 패턴 중에 반경이 제 3 역치 이상인 원호부가 포함되어 있는지의 여부, 배선 패턴이 원점으로부터 제 4 역치 이상 떨어진 좌표에 존재하고 있는지의 여부, 화상 데이터가 나타내는 배선 패턴 중에 면적이 제 5 역치 미만인 핀홀 영역이 존재하고 있는지의 여부, 배선 패턴 중에 인접하는 패턴과 겹쳐 있는 영역의 폭이 제 6 역치 미만인 패턴이 존재하고 있는지의 여부,및 배선 패턴 중에 인접하는 패턴과의 간극이 제 7 역치 미만인 패턴이 존재하고 있는지의 여부 중 적어도 1개를 검사하는 처리를 행하도록 구성할 수 있다.

또한, 제 1 형태 내지 제 4 형태 중 어느 하나에 기재된 발명에 있어서, 검사 수단은 작성되는 기판에 문제가 발생하는 결함이 있는지의 여부를 검사하는 처리로서, 예를 들면 제 5 형태에도 기재된 바와 같이 배선 패턴 중에 원 이외의 애퍼쳐 형상을 사용한 라인이 포함되어 있는지의 여부, 배선 패턴 중에 시점 위치와 종점 위치가 동일한 폐곡선을 이루고 또 시점 위치로부터 종점 위치에 이르는 도중에 자기 라인과 교차되어 있는 자기 교차 라인이 포함되어 있는지의 여부 중 적어도 한쪽을 검사하는 처리를 행하도록 구성해도 된다.

또한, 제 1 형태에 기재된 발명에 있어서 검사 수단은 예를 들면 제 6 형태에 기재된 바와 같이, 화상 데이터에 RIP 처리에 의해 에러가 발생하는 결함이 있는지의 여부도 검사하는 것이 바람직하다. 이것에 의해 화상 데이터를 원인으로 해서 RIP 처리에 의해 에러가 발생함으로써 RIP 처리가 정지해 버려, 화상 데이터를 수정하고 다시 RIP 처리를 행할 필요가 생기는 것도 미연에 방지할 수 있다. 또, 화상 데이터에 RIP 처리에 의해 에러가 발생하는 결함이 있는지의 여부를 검사하는 처리로서, 구체적으로는 예를 들면 제 7 형태에 기재된 바와 같이 RIP 처리에 의해 취급 가능한 문자종 이외의 문자가 화상 데이터에 포함되어 있는지의 여부, 배선 패턴의 정점의 수가 제 8 역치 이상인지의 여부, 화상 데이터를 구성하는 레이어의 수가 제 9 역치 이상인지의 여부 중 적어도 1개를 검사하는 처리를 들 수 있다.

또한, 제 1 형태에 기재된 발명에 있어서 예를 들면 제 8 형태에 기재된 바와 같이 검사 수단에 의해 화상 데이터에 결함이 있다고 판단된 경우에, 결함이 있다고 판단된 개소의 배선 패턴 상에서의 좌표를 취득하고, 취득된 좌표에 기초하여 화상 데이터가 나타내는 배선 패턴에 중첩 표시 가능하게 된 상태에서 배선 패턴 상의 상기 개소에 소정의 마크를 명시시키는 결함 개소 명시 데이터를 생성하는 데이터 생성 수단을 더 구비하는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 검사 수단에 의해 화상 데이터에 결함이 있다고 판단된 것에 기초하여, 정보 처리 장치(예를 들면 CAM 시스템을 실현하는 정보 처리 장치)의 표시 수단에 상기 화상 데이터가 나타내는 배선 패턴을 표시시킬 때에 데이터 생성 수단에 의해 생성된 결함 개소 명시 데이터를 이용함으로써, 표시된 배선 패턴 중 결함이 있다고 판단된 개소에 소정의 마크를 용이하게 명시(중첩 표시)시킬 수 있어, 화상 데이터 중 결함에 상당하는 부분을 특정해서 수정하는 작업을 용이하게 행할 수 있다.

또한, 제 1 형태 내지 제 8 형태 중 어느 하나에 기재된 발명에 있어서, 예를 들면 제 9 형태에 기재된 바와 같이 묘화 장치가 기판에 배선 패턴을 묘화할 때에 적용되는 묘화 조건을 취득하고, 취득된 묘화 조건과 화상 데이터에 기초하여 묘화 장치가 현재의 묘화 조건에서 화상 데이터가 나타내는 배선 패턴을 묘화한 경우의 기판 상에서의 배선 패턴의 묘화 범위를 연산하는 연산 수단과, 연산 수단에 의해 연산된 묘화 범위에 기초하여 묘화 장치가 현재의 묘화 조건에서 화상 데이터가 나타내는 배선 패턴을 묘화한 경우의, 기판과 기판 상에서의 배선 패턴의 묘화 범위의 위치 관계를 표시 수단에 표시시키는 위치 관계 표시 제어 수단을 더 설치하는 것이 바람직하다.

묘화 장치가 기판에 배선 패턴을 묘화할 때의 묘화 조건에는 기판 상에서의 배선 패턴의 묘화 범위를 규정하는 정보가 포함되어 있고, 이 정보의 내용이 부적합한 경우 묘화 장치에 의한 배선 패턴의 묘화에 있어서 묘화 범위가 기판 상으로부터 일탈해 버림으로써 기판이 낭비되어 버리거나 하는 문제가 생길 가능성이 있다. 이것에 대하여 제 9 형태에 기재된 발명에서는, 묘화 조건과 화상 데이터에 기초하여 기판 상에서의 배선 패턴의 묘화 범위를 연산하고, 기판과 기판 상에서의 배선 패턴의 묘화 범위의 위치 관계를 표시 수단에 표시시키므로, 묘화 조건 중 기판 상에서의 배선 패턴의 묘화 범위를 규정하는 정보의 내용이 부적합한지의 여부를, 묘화 장치가 기판에 배선 패턴을 실제로 묘화하기 전에 체크할 수 있어 기판이 낭비되거나 하는 문제가 생기는 것을 회피할 수 있다.

또한, 제 1 형태 내지 제 9 형태 중 어느 하나에 기재된 발명에 있어서, 예를 들면 제 10 형태에 기재된 바와 같이 화상 데이터에 기초하여 배선 패턴을 저해상도로 나타내는 저해상도 배선 패턴 화상을 생성하고, 생성된 저해상도 배선 패턴 화상을 표시 수단에 표시시키는 저해상도 화상 표시 제어 수단과, 저해상도 표시 제어 수단에 의해 표시 수단에 표시된 저해상도 배선 패턴 화상 상에서 지정 수단을 통해 확대 표시 대상 영역이 지정된 경우에, 화상 데이터 중 확대 표시 대상 영역에 상당하는 데이터를 고해상도 래스터 데이터로 전개함으로써, 확대 표시 대상 영역 내의 배선 패턴을 고해상도로 나타내는 고해상도 배선 패턴 화상을 생성하는 전개 수단과, 전개 수단에 의해 생성된 고해상도 배선 패턴 화상을 표시 수단에 표시시키는 고해상도 화상 표시 제어 수단을 더 설치하는 것이 바람직하다.

묘화 장치가 기판에 묘화한 배선 패턴에 어떤 문제가 있음으로써 기판이 낭비되는 것을 회피하기 위해서는, 묘화 장치가 기판에 배선 패턴을 묘화하기 전에 어떤 배선 패턴이 묘화되는 것인지를 육안으로 사전에 체크하는 것이 바람직하다. 종래의 아날로그 묘화 방식에서는 필름에 배선 패턴을 노광함으로써 제작된 마스크를 이용하여 상기의 육안에 의한 체크를 행하고 있었지만, 디지털 묘화 방식에서는 마스크를 제작하지 않으므로 상기의 체크는 묘화용 래스터 데이터가 나타내는 배선 패턴을 표시 수단에 표시시켜서 육안 체크를 행하게 된다. 그러나, 묘화용 래스터 데이터는 표시 수단과 비교하면 해상도가 매우 높고, 표시 수단에 한번에 표시 가능한 배선 패턴은 묘화용 래스터 데이터가 나타내는 배선 패턴 중 극히 일부에 한정된다. 이 때문에, 디지털 묘화 방식에 있어서의 배선 패턴의 육안 체크에서는 묘화용 래스터 데이터가 나타내는 배선 패턴 중 표시 수단에 표시시키는 부분을 적당하게 스크롤하면서 육안 체크를 반복할 필요가 있어 조작이 번잡함과 아울러, 표시 수단에 현재 표시되어 있는 부분이 묘화용 래스터 데이터가 나타내는 배선 패턴 전체 중 어느 부분인지도 파악하기 어렵다는 문제가 있다. 또한 육안 체크에 의해 배선 패턴에 문제가 있는 것을 검지한 경우, 화상 데이터를 수정한 후에 시간이 걸리는 RIP 처리를 다시 행할 필요가 있으므로, 기판 제조 등의 작업의 진척에도 큰 악영향을 미치게 된다.

이것에 대하여 제 10 형태에 기재된 발명에서는, 배선 패턴을 저해상도로 나타내는 저해상도 배선 패턴 화상을 생성해서 표시 수단에 표시시킴과 아울러, 표시 수단에 표시된 저해상도 배선 패턴 화상 상에서 지정 수단을 통해 확대 표시 대상 영역이 지정되면, 화상 데이터 중 확대 표시 대상 영역에 상당하는 데이터를 고해상도 래스터 데이터로 전개함으로써 확대 표시 대상 영역 내의 배선 패턴을 고해상도로 나타내는 고해상도 배선 패턴 화상을 생성하여 표시 수단에 표시시키므로, 저해상도 배선 패턴 화상 상에서 지정 수단을 통해 확대 표시 대상 영역을 지정함으로써 화상 데이터가 나타내는 배선 패턴 중 원하는 부분에 대한 육안 체크를 행할 수 있어 조작이 간단해짐과 아울러, 고해상도 배선 패턴 화상으로서 표시되어 있는 부분의 배선 패턴 전체 상에서의 위치도 용이하게 파악할 수 있다. 또한 화상 데이터 중 지정된 확대 표시 대상 영역에 상당하는 데이터를 고해상도 래스터 데이터(고해상도 배선 패턴 화상)로 전개해서 표시 수단에 표시시키므로, 고해상도 배선 패턴 화상의 표시에 앞서 RIP 처리를 행할 필요가 없어진다. 또 육안 체크에 의해 배선 패턴에 문제가 있는 것이 검지된 경우에도, 시간이 걸리는 RIP 처리를 복수회 행할 필요도 없어져, 기판 제조 등의 작업의 진척에 악영향을 미치는 것을 회피할 수 있다.

또한, 제 10 형태에 기재된 발명에 있어서 묘화 장치에 의해 기판에 묘화되는 배선 패턴이, 단일의 회로 패턴에 상당하는 동일한 단위 배선 패턴이 복수 배열되어 이루어지는 시트가 복수개 배치되어 구성되어 있을 경우, 예를 들면 제 11 형태에 기재된 바와 같이 저해상도 화상 표시 제어 수단은 저해상도 배선 패턴 화상으로서 배선 패턴 전체를 저해상도로 나타내는 화상을 생성해서 표시시키고, 전개 수단은 배선 패턴 전체를 나타내는 저해상도 배선 패턴 화상 상에서 확대 표시 대상 영역으로서 특정 시트가 지정된 경우에, 화상 데이터 중 특정 시트 내의 단일의 특정 단위 배선 패턴에 상당하는 데이터만을 고해상도 래스터 데이터로 전개하며, 특정 시트의 고해상도 배선 패턴 화상으로서 특정 단위 배선 패턴만을 표시하고, 다른 단위 배선 패턴에 대해서는 외측 가장자리를 나타내는 프레임선만을 표시하는 화상을 생성하도록 구성하는 것이 바람직하다.

묘화 장치에 의해 기판에 묘화되는 배선 패턴(배선 패턴 전체)이, 단일의 회로 패턴에 상당하는 동일한 단위 배선 패턴이 복수 배열되어서 이루어지는 시트가 복수개 배치된 배선 패턴일 경우, 육안 체크는 통상 배선 패턴 전체 내의 각 단위 배선 패턴 중 1개에 대해서만 행해진다. 이것에 기초하여 제 11 형태에 기재된 발명에서는 동일한 단위 배선 패턴이 복수 배열되어 이루어지는 특정 시트가 확대 표시 대상 영역으로서 지정된 경우에 특정 단위 배선 패턴만을 표시하고, 다른 단위 배선 패턴에 대해서는 외측 가장자리를 나타내는 프레임선만을 표시하는 특정 시트의 고해상도 배선 패턴 화상을 생성하므로, 확대 표시 대상 영역으로서 지정된 특정 시트의 고해상도 배선 패턴 화상을 단시간에 생성·표시할 수 있다.

또한, 제 10 형태에 기재된 발명에 있어서 예를 들면 제 12 형태에 기재된 바와 같이, 고해상도 화상 표시 제어 수단에 의해 표시 수단에 표시된 고해상도 배선 패턴 화상 상에서 지정 수단을 통해 거리 측정 대상의 2점이 지정된 경우에, 지정된 2점 사이의 거리를 연산해서 표시 수단에 표시시키는 거리 연산·표시 수단을 더 설치하는 것이 바람직하다.

디지털 묘화 방식에서는 묘화용 래스터 데이터가 나타내는 배선 패턴을 소정의 해상도로 기판에 묘화하므로, 묘화용 래스터 데이터가 나타내는 배선 패턴이나 기판에 실제로 묘화되는 배선 패턴 중의 각 부의 위치는 반올림 오차의 영향에 의해, 화상 데이터가 나타내는 배선 패턴에 대하여 묘화시의 해상도에 있어서의 인접하는 화소의 거리를 최대로 해서 변동한다. 이 때문에, 배선 패턴 중에 면적이 제 5 역치 미만인 핀홀 영역이 존재하고 있는지의 여부나, 배선 패턴 중에 인접하는 패턴과 겹쳐져 있는 영역의 폭이 제 6 역치 미만인 패턴이 존재하고 있는지의 여부, 배선 패턴 중에 인접하는 패턴과의 간극이 제 7 역치 미만인 패턴이 존재하고 있는지의 여부 등은, 화상 데이터를 전개함으로써 얻어지는 고해상도 래스터 데이터가 나타내는 배선 패턴 상에서 최종적으로 체크하는 것이 바람직하다.

제 12 형태에 기재된 발명에서는, 고해상도 배선 패턴 화상 상에서 거리 측정 대상의 2점이 지정되면 지정된 2점 사이의 거리를 연산해서 표시 수단에 표시시키므로, 고해상도 배선 패턴 화상에 기초하는 배선 패턴의 육안 체크에 있어서 면적이 제 5 역치 미만인 핀홀 영역의 유무나, 인접하는 패턴과 겹쳐져 있는 영역의 폭이 제 6 역치 미만인 패턴의 유무, 인접하는 패턴과의 간극이 제 7 역치 미만인 패턴의 유무 등을 최종적으로 체크하는 것을 정확하고 또한 용이하게 행할 수 있어, 육안 체크의 생력화를 실현할 수 있다.

제 13 형태에 기재된 발명에 따른 화상 묘화 장치는 제 1 형태 내지 제 12 형태 중 어느 하나에 기재된 화상 처리 장치를 구비하고, 상기 화상 처리 장치에 의해 얻어진 상기 묘화용 래스터 데이터에 기초하여 묘화면 상으로의 묘화를 행하는 것을 특징으로 하고 있으므로, 제 1 형태에 기재된 발명과 마찬가지로 화상 데이터를 원인으로 해서 묘화 장치에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 기판에 문제가 발생하는 것을 미연에 방지할 수 있다.

제 14 형태에 기재된 발명에 따른 화상 묘화 시스템은 상기 벡터 형식의 화상 데이터를 생성하는 CAD(Computer Aided Design) 시스템 및 CAM(Computer Aided Manufacturing) 시스템 중 적어도 한쪽과, 제 1 형태 내지 제 12 형태 중 어느 하나에 기재된 화상 처리 장치와, 상기 화상 처리 장치에 의해 얻어진 상기 묘화용 래스터 데이터에 기초하여 묘화면 상으로의 묘화를 행하는 화상 묘화 장치를 포함하는 것을 특징으로 하고 있으므로, 화상 데이터를 원인으로 해서 묘화 장치에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 기판에 문제가 발생하는 것을 미연에 방지할 수 있다.

<발명의 효과>

이상 설명한 바와 같이 본 발명은 배선 패턴을 나타내는 벡터 형식의 화상 데이터에 대하여 RIP 처리가 행해지기 전에, 화상 데이터에, 묘화 장치에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 기판에 문제가 발생하는 결함이 있는지의 여부를 검사하도록 했으므로, 화상 데이터를 원인으로 해서 묘화 장치에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 기판에 문제가 발생하는 것을 미연에 방지할 수 있다는 뛰어난 효과를 갖는다.

도 1은 본 실시형태에 따른 기판 묘화 시스템의 개략 구성도,

도 2는 화상 처리 장치에 있어서의 데이터의 이동을 병기한 기능 블럭도,

도 3은 데이터 체크 처리의 내용을 나타내는 플로우차트,

도 4A는 원호부의 시종점·중심점의 어긋남의 체크를 설명하기 위한 이미지도,

도 4B는 애퍼쳐 형상의 체크를 설명하기 위한 이미지도,

도 4C는 자기 교차 라인의 체크를 설명하기 위한 이미지도,

도 4D는 거버 데이터의 구조(레이어)를 설명하기 위한 이미지도,

도 5A는 데이터 체크 처리에 있어서의 오버랩 부족 패턴의 체크를 설명하기 위한 이미지도,

도 5B는 데이터 체크 처리에 있어서의 오버랩 부족 패턴의 체크를 설명하기 위한 이미지도,

도 6은 거버 에러 파일의 일례를 나타내는 이미지도,

도 7은 에러 개소 표시의 일례를 나타내는 이미지도,

도 8은 레이아웃 확인 처리의 내용을 나타내는 플로우차트,

도 9는 레이아웃 표시 화면의 일례를 나타내는 이미지도,

도 10A는 레이아웃 표시 화면에서의 배선 패턴의 90° 회전을 나타내는 이미지도,

도 10B는 레이아웃 표시 화면에서의 배선 패턴의 180° 회전을 나타내는 이미지도,

도 11A는 레이아웃 표시 화면에서의 배선 패턴의 X방향 미러 표시를 나타내는 이미지도,

도 11B는 레이아웃 표시 화면에서의 배선 패턴의 Y방향 미러 표시를 나타내는 이미지도,

도 12는 래스터 표시 처리의 내용을 나타내는 플로우차트,

도 13은 묘화 단위(배선 패턴 전체) 내에 있어서의 피스의 배치의 일례를 나타내는 이미지도,

도 14는 래스터 표시 화면의 일례를 나타내는 이미지도,

도 15는 래스터 표시 화면에서 피스를 표시하고 있는 상태를 나타내는 이미지도,

도 16은 래스터 표시 화면의 시트를 표시하고 있는 상태를 나타내는 이미지도,

도 17은 배선 패턴의 래스터 표시에 있어서 지정된 2점 사이의 거리를 표시 하고 있는 상태를 나타내는 이미지도이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

10 : 기판 묘화 시스템 12 : 노광 장치

14 : 화상 처리 장치 18 : 컴퓨터

24 : 작업 등록 GUI 28 : 데이터 체크 처리부

30 : 레이아웃 확인 GUI 32 : 레이아웃 표시 처리부

34 : 래스터 표시 GUI 36 : RIP 처리부

이하, 도면을 참조해서 본 발명의 실시형태의 일례를 상세하게 설명한다. 도 1에는 본 실시형태에 따른 기판 묘화 시스템(10)이 나타내어져 있다. 기판 묘화 시스템(10)은 제 14 형태의 화상 묘화 시스템에 대응하고 있고, 입력된 묘화용 래스터 데이터가 나타내는 배선 패턴을 표면에 감광 재료가 도포된 기판에 직접 묘화하는 묘화 장치로서의 노광 장치(12)를 구비하고 있다. 노광 장치(12)로서는, 예를 들면 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 등의 공간 광변조소자를 이용하여 묘화용 래스터 데이터에 따라 변조된 광 빔을 기판에 조사함으로써 기판에 배선 패턴을 묘화하는 구성을 이용할 수 있다. 노광 장치(12)에 의해 배선 패턴이 묘화된 기판은 현상이나 에칭, 세정, 컷, 천공 등의 공지의 공정을 거쳐서, 배선 패턴이 형성되어 회로 소자를 실장할 수 있는 프린트 배선 기판(PWB)으로서 정형된다.

노광 장치(12)에는 노광 장치(12)로 묘화용 래스터 데이터를 공급하는 화상 처리 장치(14)가 접속되어 있고, 이 화상 처리 장치(14)는 LAN 등의 네트워크(16) 를 통해 CAD/CAM 시스템으로서 기능하는 복수대의 컴퓨터(18)와 각각 접속되어 있다. 또한 도 1에서는 일례로서 3대의 컴퓨터(18)를 나타내고 있지만, 이러한 컴퓨터(18)의 대수는 상기에 한정되는 것은 아니다. CAD 시스템(으로서 기능하는 컴퓨터(18))에서는 프린트 배선 기판에 실장되는 전자 회로를 설계하거나, 프린트 배선 기판에 형성해야 할 배선 패턴(후술하는 피스(단위 배선 패턴)에 상당하는 배선 패턴)을 설계하거나 하는 등의 공정이 행해지고, 배선 패턴을 기술한 소정 포맷의 데이터가 CAM 시스템으로서 기능하는 별도의 컴퓨터(18)(동일 컴퓨터여도 된다)로 네트워크(16)를 통해 출력된다.

CAM 시스템(으로서 기능하는 컴퓨터(18))에서는 배선 패턴을 기술한 데이터가 입력되면, 입력된 데이터가 나타내는 배선 패턴을 기판으로의 묘화시에 어떻게 배치할지(레이아웃)를 결정하거나, 천공 공정에서 기판 상의 어느 위치에 천공할지를 결정하거나, 배선 패턴과 함께 묘화해야 할 코멘트를 부가하거나 하는 등의 편집 공정이 행해진다. 그리고, 1회의 묘화에서 기판에 묘화해야 할 배선 패턴 전체를 벡터 형식(화상을, 시점이나 종점 등의 점의 좌표와 그것을 연결하는 선이나 면의 방정식 등의 파라미터, 페인팅 아웃이나 특수 효과 등의 묘화 정보의 집합으로서 표현하는 데이터 형식)으로 기술한 화상 데이터(이하, 거버 데이터라고 칭한다)가 생성되고, 이 거버 데이터가 네트워크(16)를 통해서 화상 처리 장치(14)로 전송된다. 또, 상기의 편집 공정에서 결정된 기판 상의 천공 위치는 기판으로의 천공을 행하는 드릴기(도시생략)로 드릴 구멍 데이터로서 출력된다.

한편, 화상 처리 장치(14)는 본 발명에 따른 화상 처리 장치에 대응하고 있 고, 퍼스널 컴퓨터(PC) 등으로 이루어지며, CPU, 메모리, HDD(22)(도 2 참조), 표시 수단으로서의 디스플레이, 키보드, 마우스 등을 포함해서 구성되어 있다. 화상 처리 장치(14)의 HDD에는 화상 처리 장치(14)의 CPU를, 도 2에 나타내는 작업 등록 GUI(Graphical User Interface)(24), 데이터 수용 처리부(26), 데이터 체크 처리부(28), 레이아웃 확인 GUI(30), 레이아웃 표시 처리부(32), 래스터 표시 GUI(34), RIP 처리부(36), 작업 표시 GUI(38) 및 노광 장치 제어부(40)로서 기능시키기 위한 각종 어플리케이션 프로그램이 각각 인스톨되어 있다. 또 HDD(22)에는 CAM 시스템으로부터 취득된 거버 데이터를 저장하기 위한 수신 거버 데이터 폴더(44), 데이터 체크 처리부(28)에 의한 데이터 체크 처리(상세는 후술)를 거친 거버 데이터를 저장하기 위한 체크 완료 거버 데이터 폴더(46), 작업 등록 GUI(24)를 통해 입력된 작업 조건 정보를 저장하기 위한 작업 조건 정보 폴더(48), RIP 처리부(36)의 RIP 처리에 의해 얻어진 묘화용 래스터 데이터를 저장하기 위한 묘화용 래스터 데이터 폴더(50)가 각각 설치되어 있다. 또, 본 실시형태에 따른 화상 처리 장치(14)는 노광 장치(12)를 최대 2대까지 접속 가능하게 되어 있다. 또한 노광 장치(12)와 화상 처리 장치(14)는 제 13 형태의 화상 묘화 장치에도 대응하고 있다.

다음에 본 실시형태의 작용으로서, 거버 데이터로부터 묘화용 래스터 데이터를 얻기 위해 화상 처리 장치(14)에서 행해지는 일련의 처리를 순서대로 설명한다.

본 실시형태에 있어서, CAM 시스템에서 생성된 거버 데이터는 화상 처리 장치(14)가 네트워크를 통해 액세스 가능한 기억 매체(54)(예를 들면 CAM 시스템으로서 기능하는 컴퓨터(18)에 내장되어 있는 HDD에 설치되고 화상 처리 장치(14)가 액 세스 가능하게 설정된 특정 폴더)에 기억·보관된다. 작업 등록 GUI(24)가 화상 처리 장치(14)의 디스플레이에 표시 가능한 화면 중에는, 기억 매체(54)로부터의 거버 데이터의 취득을 지시하기 위한 데이터 취득 지시 화면이 포함되어 있고, 이 데이터 취득 지시 화면이 디스플레이에 표시되어 있는 상태에서 사용자가 키보드나 마우스 등을 조작함으로써 기억 매체(54)로부터의 특정 거버 데이터의 취득이 지시되면, 이 지시는 작업 등록 GUI(24)를 통해 데이터 수용 처리부(26)에 입력되고, 데이터 수용 처리부(26)는 지시된 특정 거버 데이터를 네트워크(16) 경유로 기억 매체(54)로부터 판독해서 취득하며, 취득된 거버 데이터를 수신 거버 데이터 폴더(44)에 저장한다.

또, 컴퓨터(18)에 의해 실현 가능한 CAD/CAM 시스템에는 다양한 사양·기능의 시스템이 있고, 데이터 수용 처리부(26)는 기억 매체(54)로부터 거버 데이터를 취득하면, 취득된 거버 데이터의 포맷을 체크하여 필요에 따라 일정 포맷의 거버 데이터로 변환하는 처리를 행한 후에 수신 거버 데이터 폴더(44)에 저장하는 처리도 행한다.

또한 작업 등록 GUI(24)가 화상 처리 장치(14)의 디스플레이에 표시 가능한 화면 중에는, 수신 거버 데이터 폴더(44)에 저장되어 있는 거버 데이터의 체크를 지시하기 위한 체크 지시 화면이 포함되어 있다. 도면에 나타내는 것은 생략하지만, 이 체크 지시 화면에는 수신 거버 데이터 폴더(44)에 저장되어 있는 거버 데이터의 파일명 등을 일람 표시 하기 위한 표시란과, 상기 표시란에 일람 표시된 각 거버 데이터 중에서 처리 대상으로서 선택된 거버 데이터에 대하여, 배선 패턴 묘 화시의 묘화 조건(예를 들면 해상도, 배선 패턴의 묘화에 사용하는 노광 장치(12)의 기종, 묘화 모드, 배선 패턴을 묘화하는 기판의 사이즈, 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴의 회전이나 반전(미러)의 유무나 회전 각도·반전(미러)의 방향, 기판에 도포되어 있는 감광 재료의 종류 등)이나, 배선 패턴을 묘화하는 기판의 매수 등의 작업 조건을 입력하기 위한 입력란과, 상기 표시란에 일람 표시된 각 거버 데이터 중에서 처리 대상으로서 선택된 거버 데이터에 대한 데이터 체크 처리의 실행을 지시하기 위한 버튼이 설치되어 있다.

상기의 체크 지시 화면이 디스플레이에 표시되어 있는 상태에서, 사용자가 키보드나 마우스를 통해 체크 지시 화면 내의 표시란에 일람 표시되어 있는 거버 데이터 중에서 처리 대상인 거버 데이터를 선택하고, 체크 지시 화면 내의 입력란에 처리 대상인 거버 데이터의 작업 조건을 입력하는 조작을 행하면, 입력된 작업 조건을 나타내는 작업 조건 정보가 처리 대상인 거버 데이터의 작업 조건으로서 작업 조건 정보 폴더(48)에 저장된다. 그리고, 체크 지시 화면 내의 버튼을 선택함으로써 처리 대상인 거버 데이터에 대한 데이터 체크 처리의 실행을 지시하면, 이 지시가 작업 등록 GUI(24)를 통해서 데이터 체크 처리부(28)에 입력되고, 이 데이터 체크 처리부(28)에 의해 도 3에 나타내는 데이터 체크 처리가 행해진다. 또, 이 데이터 체크 처리는 본 발명에 따른 검사 수단에 상당하는 처리이며, 데이터 체크 처리를 실행하는 데이터 체크 처리부(28)는 본 발명에 따른 검사 수단에 대응하고 있다.

이 데이터 체크 처리는 처리 대상인 거버 데이터에 대하여 RIP 처리부(36)에 의한 RIP 처리에 있어서 에러가 발생하는 결함이나, 노광 장치(12)에 의한 기판으로의 배선 패턴의 묘화를 거쳐 작성되는 프린트 배선 기판에 문제가 발생하는 원인으로 되는 결함이 있는지의 여부를 체크하는 처리이며, 우선 스텝100에서는 체크 완료 거버 데이터 폴더(46)로부터 처리 대상인 거버 데이터를 도입함과 아울러, 이 거버 데이터에 대응하는 작업 조건 정보를 작업 조건 정보 폴더(48)로부터 도입한다.

스텝102에서는, 스텝100에서 도입한 작업 조건 정보에 포함되는 묘화시의 해상도에 따라 후술하는 처리에서 사용하는 역치(th1,th2,th6)를 설정한다. 또, 상세한 것은 후술하지만, 역치(th1)는 원주 길이가 매우 작은(예를 들면 수㎛ 정도) 미소 원호부의 유무를 체크할 때에 사용하는 원주 길이의 역치, 역치(th2)는 시종점에서의 반경에 차가 있는 원호의 유무를 체크할 때에 사용하는 반경차의 역치, 역치(th6)는 인접하는 패턴과의 겹침(오버랩 영역)의 폭이 작은 패턴의 유무를 체크할 때에 사용하는 폭의 역치이며, 스텝102에서는 묘화시의 해상도가 높아짐(즉 노광 장치(12)에 의해 기판 상에 묘화되는 배선 패턴에 있어서의 화소의 간격이 작아진다)에 따라 역치(th1,th2,th6)가 각각 작아지도록 역치(th1,th2,th6)를 설정한다.

또 스텝104에서는, 스텝100에서 도입한 작업 조건 정보에 포함되는 묘화시의 해상도와 기판에 도포되어 있는 감광 재료의 종류에 따라 후술하는 처리에서 사용하는 역치(th5,th7)를 설정한다. 상세한 것은 후술하지만, 역치(th5)는 면적이 미소한 핀홀 영역의 유무를 체크할 때에 사용하는 면적의 역치, 역치(th7)는 인접하 는 패턴과의 간극이 작은 패턴의 유무를 체크할 때에 사용하는 간극의 역치이다. 노광 장치(12)에 의한 기판으로의 배선 패턴의 묘화에 있어서, 기판에 묘화된 배선 패턴에 있어서의 노광 부분과 비노광 부분의 경계(엣지 부분)의 명료도는 기판에 도포되어 있는 감광 재료의 노광량-농도 특성의 경사의 크기에 의존하고, 에칭 공정을 거쳐 기판 상에 형성되는 배선 패턴에 있어서의 엣지부의 위치는 노광 부분과 비노광 부분 중 에칭 공정에서 제거되는 측의 면적이 큰 방향으로, 엣지 부분의 명료도의 작음에 따른 편의량만큼 기울어진다. 그리고, 엣지 부분의 위치의 기울어짐에 따라 상기의 핀홀 영역의 면적이나 인접하는 패턴의 간격이 변화된다.

엣지 부분의 명료도의 변화에 대한 핀홀 영역의 면적이나 인접하는 패턴의 간격의 변화 방향은, 배선 패턴의 묘화에 있어서의 노광 부분이 에칭 공정에서 남는 측(패턴부)으로 될지 제거되는 측(간극부)으로 될지에 따라 다르지만, 이것은 감광 재료의 종류(네거티브인지 포지티브인지)로부터 판단할 수 있고, 또 감광 재료의 노광량-농도 특성의 경사의 크기도 감광 재료의 종류로부터 판단할 수 있다. 본 실시형태에서는 각종 감광 재료에 배선 패턴을 묘화해서 프린트 배선 기판을 작성했을 때에, 엣지 부분의 실제 위치가 본래 위치에 대하여 어느 정도 기우는지가 측정되고, 측정 결과가 테이블로서 HDD에 기억되어 있으며, 스텝104에서는 묘화시의 해상도에 따라 역치(th5,th7)를 설정한 후에 상기의 테이블을 참조해서 기판에 도포되어 있는 감광 재료의 종류에 대응하는 엣지 부분의 편의량을 취득하며, 취득된 편의량에 따라 역치(th5,th7)를 수정함으로써 묘화시의 해상도와 감광 재료의 종류에 따른 역치(th5,th7)를 설정한다.

그런데, 상술한 RIP 처리부(36)에서는 거버 데이터(상세하게는 체크 완료 거버 데이터 폴더(46)에 저장되어 있는 거버 데이터)를 래스터 형식(비트맵 형식)의 묘화용 래스터 데이터로 전개하는 RIP 처리를 행하지만, 이 RIP 처리에서는 취급 가능한 문자종이 제한되어 있고, RIP 처리 대상인 거버 데이터에 취급 가능한 문자종 이외의 문자(예를 들면 반각 카나 문자 등)가 포함되어 있었을 경우 이 종류의 문자가 검지된 단계에서 에러로 되어 RIP 처리가 정지한다. 이 때문에, 다음 스텝106에서는 처리 대상인 거버 데이터를 선두부터 순서대로 참조하여, RIP 처리에서 취급 가능한 문자종 이외의 문자가 포함되어 있지 않은지의 여부를 검사하는 체크 처리를 행한다. 스텝106의 체크 처리가 완료되면 스텝108로 이행하고, 스텝106의 체크 처리에 있어서 해당되는 문자가 포함되어 있는 것이 검지되었는지의 여부를 판정한다. 판정이 부정된 경우는 스텝112로 이행하지만, 판정이 긍정된 경우는 스텝110으로 이행하여, 검지된 에러(결함)가, 처리 대상인 거버 데이터에 RIP 처리에서 취급 가능한 문자종 이외의 문자가 포함되어 있는 에러인 것을 나타내는 에러 종류 정보를 메모리에 기억시킨 후에 스텝112로 이행한다.

또한 원주 길이가 매우 작은(예를 들면 수㎛ 정도) 미소 원호부가 배선 패턴에 포함되어 있었을 경우, 이 미소 원호부는 노광 장치(12)에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 프린트 배선 기판의 문제의 원인이 되므로 직선으로 바꿔 놓는 것이 바람직하다. 이 때문에, 다음 스텝112에서는 원주 길이가 역치(th1) 미만인 미소 원호부를 규정하는 데이터가 처리 대상인 거버 데이터에 포함되어 있지 않은지의 여부를 검사하는 체크 처리를 행한다. 또, 역치(th1)는 상술의 스텝102에서 묘화시 의 해상도에 따라 설정되어 있으므로, 프린트 배선 기판의 문제의 원인으로 되는 미소 원호부가 배선 패턴에 포함되어 있는지의 여부를 정밀도 좋게 검사할 수 있다. 스텝112의 체크 처리가 완료되면 스텝114로 이행하고, 스텝112의 체크 처리에 있어서 해당되는 데이터가 검지되었는지의 여부를 판정한다. 판정이 부정된 경우는 스텝118로 이행하지만, 판정이 긍정된 경우는 스텝116으로 이행하고, 검지된 에러(결함)가, 처리 대상인 거버 데이터에 미소 원호부를 규정하는 데이터가 포함되어 있는 에러인 것을 나타내는 에러 종류 정보와, 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 상에서의 미소 원호부의 위치를 나타내는 좌표 정보를 메모리에 기억시킨 후에 스텝118로 이행한다.

또한, 예로서 도 4A에도 나타내는 바와 같이 시점에 있어서의 반경(L1)과 종점에 있어서의 반경(L2)의 차(｜L1-L2｜)가 일정값(예를 들면 수십㎛ 정도) 이상인 원호부가 배선 패턴에 포함되어 있었을 경우, 이 원호부도 노광 장치(12)에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 프린트 배선 기판의 문제의 원인이 되므로 바람직하지 않다. 이 때문에, 다음 스텝118에서는 반경차(｜L1-L2｜)가 역치(th2) 이상인 원호부를 규정하는 데이터가 처리 대상인 거버 데이터에 포함되어 있지 않은지의 여부를 검사하는 체크 처리를 행한다. 또, 역치(th2)도 상술의 스텝102에서 묘화시의 해상도에 따라 설정되어 있으므로, 프린트 배선 기판의 문제의 원인이 되는 반경차가 있는 원호부가 배선 패턴에 포함되어 있는지의 여부를 정밀도 좋게 검사할 수 있다. 스텝118의 체크 처리가 완료되면 스텝120으로 이행하고, 스텝118의 체크 처리에 있어서 해당되는 데이터가 검지되었는지의 여부를 판정한다. 판정이 부정된 경우는 스텝124로 이행하지만, 판정이 긍정된 경우는 스텝122로 이행하고, 검지된 에러(결함)가, 처리 대상인 거버 데이터에 반경차가 있는 원호부를 규정하는 데이터가 포함되어 있는 에러인 것을 나타내는 에러 종류 정보와, 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 상에서의 반경차가 있는 원호부의 위치를 나타내는 좌표 정보를 메모리에 기억시킨 후에 스텝124로 이행한다.

또한, 반경이 과대(예를 들면 천수백㎜ 정도)한 원호부는 일반적으로 배선 패턴에는 사용되지 않으므로, 이러한 반경 과대 원호부가 배선 패턴에 포함되어 있었을 경우 이 원호부가 노광 장치(12)에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 프린트 배선 기판의 문제의 원인으로 될 가능성도 있다. 이 때문에, 스텝124에서는 반경이 역치(th3) 이상인 원호부를 규정하는 데이터가 처리 대상인 거버 데이터에 포함되어 있지 않은지의 여부를 검사하는 체크 처리를 행한다. 스텝124의 체크 처리가 완료되면 스텝126으로 이행하고, 스텝124의 체크 처리에 있어서 해당되는 데이터가 검지되었는지의 여부를 판정한다. 판정이 부정된 경우는 스텝130으로 이행하지만, 판정이 긍정된 경우는 스텝128로 이행하고, 검지된 에러(결함)가, 처리 대상인 거버 데이터에 반경 과대 원호부를 규정하는 데이터가 포함되어 있는 에러인 것을 나타내는 에러 종류 정보와, 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 상에서의 반경 과대 원호부의 위치를 나타내는 좌표 정보를 메모리에 기억시킨 후에 스텝130으로 이행한다.

또한, 거버 데이터는 예로서 도 4B에도 나타내는 바와 같이 애퍼쳐의 형상, 시점 위치 및 종점 위치를 지정함으로써, 지정된 형상의 애퍼쳐를 시점 위치로부터 종점 위치로 이동시켰을 때의 궤적을 라인으로 해서 묘화시키지만, 애퍼쳐의 형상이 원이면 애퍼쳐의 이동 방향에 관계없이 라인의 폭은 일정(＝원의 지름)해지는 한편, 애퍼쳐의 형상이 원이 아닐 경우는 애퍼쳐의 이동 방향에 따라 라인의 폭이 변화하게 된다. 이 때문에, 원 이외의 형상의 애퍼쳐를 이용하여 묘화하는 라인이 배선 패턴에 포함되어 있었을 경우, 이 라인이 노광 장치(12)에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 프린트 배선 기판의 문제의 원인으로 될 가능성도 있다. 이 때문에, 스텝130에서는 원 이외의 형상의 애퍼쳐를 이용하여 라인을 묘화하는 데이터가 처리 대상인 거버 데이터에 포함되어 있지 않은지의 여부를 검사하는 체크 처리를 행한다. 스텝130의 체크 처리가 완료되면 스텝132로 이행하고, 스텝130의 체크 처리에 있어서 해당되는 데이터가 검지되었는지의 여부를 판정한다. 판정이 부정된 경우는 스텝136으로 이행하지만, 판정이 긍정된 경우는 스텝134로 이행하고, 검지된 에러(결함)가, 처리 대상인 거버 데이터에 원 이외의 형상의 애퍼쳐를 이용하여 라인을 묘화하는 데이터가 포함되어 있는 에러인 것을 나타내는 에러 종류 정보와, 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 상에서의 원 이외의 형상의 애퍼쳐를 이용하여 묘화되는 라인의 위치를 나타내는 좌표 정보를 메모리에 기억시킨 후에 스텝136으로 이행한다.

또한, 예로서 도 4C에도 나타내는 바와 같이 시점 위치와 종점 위치가 동일하고(폐곡선을 이룸) 시점 위치로부터 종점 위치에 이르는 도중에 자기 라인과 교차하고 있는 자기 교차 라인도 일반적으로 배선 패턴에는 사용되지 않지만, 이러한 자기 교차 라인이 배선 패턴에 포함되어 있었을 경우도 노광 장치(12)에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 프린트 배선 기판의 문제의 원인으로 된다. 이 때문에, 다음 스텝136에서는 자기 교차 라인을 규정하는 데이터가 처리 대상인 거버 데이터에 포함되어 있지 않은지의 여부를 검사하는 체크 처리를 행한다. 스텝136의 체크 처리가 완료되면 스텝138로 이행하고, 스텝136의 체크 처리에 있어서 해당되는 데이터가 검지되었는지의 여부를 판정한다. 판정이 부정된 경우는 스텝142로 이행하지만, 판정이 긍정된 경우는 스텝140으로 이행하고, 검지된 에러(결함)가, 처리 대상인 거버 데이터에 자기 교차 라인을 규정하는 데이터가 포함되어 있는 에러인 것을 나타내는 에러 종류 정보와, 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 상에서의 자기 교차 라인의 위치를 나타내는 좌표 정보를 메모리에 기억시킨 후에 스텝142로 이행한다.

또한, RIP 처리에서는 RIP 처리 대상인 거버 데이터에 포함되는 정점의 수에 상한이 있어(예를 들면 2048개), RIP 처리 대상인 거버 데이터에 상한을 넘는 수의 정점이 포함되어 있었을 경우, 이 상한이상의 정점의 수가 검지된 단계에서 에러로 되어 RIP 처리가 정지한다. 이 때문에, 스텝142에서는 처리 대상인 거버 데이터에 포함되는 정점의 수가 역치(th8)(＝RIP 처리에 있어서의 상한) 이상인지의 여부를 검사하는 체크 처리를 행한다. 스텝142의 체크 처리가 완료되면 스텝144로 이행하고, 스텝142의 체크 처리에 있어서 정점의 수가 역치(th8) 이상이었는지의 여부를 판정한다. 판정이 부정된 경우는 스텝148로 이행하지만, 판정이 긍정된 경우는 스텝146으로 이행하고, 검지된 에러(결함)가, 처리 대상인 거버 데이터에 상한 이상의 수의 정점이 포함되어 있는 에러인 것을 나타내는 에러 종류 정보를 메모리에 기억시킨 후에 스텝148로 이행한다.

또 거버 데이터는 예로서 도 4D에도 나타내는 바와 같이, 원하는 화상(배선 패턴)을 복수의 레이어의 화상으로 분해해서 나타냄과 아울러, 각 레이어의 화상의 가산 또는 감산을 지시하는 데이터를 부가함으로써 원하는 화상(배선 패턴)을 나타내고 있는 데이터이지만, RIP 처리에서는 RIP 처리 대상인 거버 데이터를 구성하는 레이어의 수에 상한이 있고(예를 들면 1024개), RIP 처리 대상인 거버 데이터가 상한을 넘는 수의 레이어로 구성되어 있었을 경우, 이 상한 이상의 레이어수가 검지된 단계에서 에러로 되어 RIP 처리가 정지한다. 이 때문에, 스텝148에서는 처리 대상인 거버 데이터를 구성하는 레이어의 수가 역치(th9)(＝RIP 처리에 있어서의 상한) 이상인지의 여부를 검사하는 체크 처리를 행한다. 스텝148의 체크 처리가 완료되면 스텝150으로 이행하고, 스텝148의 체크 처리에 있어서 레이어의 수가 역치(th9) 이상이었는지의 여부를 판정한다. 판정이 부정된 경우는 스텝154로 이행하지만, 판정이 긍정된 경우는 스텝152로 이행하고, 검지된 에러(결함)가, 처리 대상인 거버 데이터를 구성하는 레이어의 수가 상한을 넘고 있는 에러인 것을 나타내는 에러 종류 정보를 메모리에 기억시킨 후에 스텝154로 이행한다.

또한, 배선 패턴 중에 거버 데이터의 원점으로부터의 거리가 과대(예를 들면 천수백㎜ 정도)한 부분이 존재하고 있었을 경우, 노광 장치(12)에 의한 묘화 공정에 있어서 상기와 같이 원점으로부터의 거리가 과대한 부분의 묘화 위치가 기판으로부터 일탈하므로 적정한 프린트 배선 기판이 작성되지 않을 가능성이 높다. 이 때문에, 스텝154에서는 처리 대상인 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 중에 거버 데이터의 원점으로부터의 거리가 역치(th4) 이상인 부분이 포함되어 있지 않은지의 여부를 검사하는 체크 처리를 행한다. 스텝154의 체크 처리가 완료되면 스텝156으로 이행하고, 스텝154의 체크 처리에 있어서 해당되는 부분이 검지되었는지의 여부를 판정한다. 판정이 부정된 경우는 스텝160으로 이행하지만, 판정이 긍정된 경우는 스텝158로 이행하고, 검지된 에러(결함)가, 처리 대상인 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 중에 거버 데이터의 원점으로부터의 거리가 과대한 부분이 포함되어 있는 에러인 것을 나타내는 에러 종류 정보와, 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 상에서의, 상기의 원점으로부터의 거리가 과대한 부분의 위치를 나타내는 좌표 정보를 메모리에 기억시킨 후에 스텝160으로 이행한다.

또한, 면적이 미소한 핀홀 영역은 일반적으로 배선 패턴에는 사용되지 않지만, 이러한 미소 면적의 핀홀 영역이 배선 패턴에 포함되어 있었을 경우 이 미소면적의 핀홀 영역이 노광 장치(12)에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 프린트 배선 기판의 문제의 원인으로 될 가능성도 있다. 이 때문에, 스텝160에서는 면적이 역치(th5) 미만인 핀홀 영역을 규정하는 데이터가 처리 대상인 거버 데이터에 포함되어 있지 않은지의 여부를 검사하는 체크 처리를 행한다. 또, 역치(th5)는 상술의 스텝104에서 묘화시의 해상도 및 기판 상의 감광 재료의 종류에 따라 설정되어 있으므로, 프린트 배선 기판의 문제의 원인으로 되는 미소 면적의 핀홀부가 배선 패턴에 포함되어 있는지의 여부를 정밀도 좋게 검사할 수 있다. 스텝160의 체크 처리가 완료되면 스텝162로 이행하고, 스텝160의 체크 처리에 있어서 해당되는 데이터가 검지되었는지의 여부를 판정한다. 판정이 부정된 경우는 스텝166으로 이행하지만, 판정이 긍정된 경우는 스텝164로 이행하고, 검지된 에러(결함)가, 처리 대상인 거버 데이터에 미소 면적의 핀홀 영역을 규정하는 데이터가 포함되어 있는 에러인 것을 나타내는 에러 종류 정보와, 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 상에서의 미소 면적의 핀홀 영역의 위치를 나타내는 좌표 정보를 메모리에 기억시킨 후에 스텝166으로 이행한다.

또한, 거버 데이터에 있어서 원하는 화상(배선 패턴) 중의 임의의 영역을 페인팅 아웃할 경우, 페인팅 아웃을 지시하는 커맨드를 사용하는 것 대신에, 예로서 도 5A에도 나타내는 바와 같이 인접하는 라인의 일부가 겹치도록(겹쳐져 있는 부분을 오버랩 영역이라고 칭한다) 복수의 라인의 묘화를 지시함으로써 원하는 영역의 페인팅 아웃을 지시하는 데이터가 설정되는 일이 있고, 이 때 오버랩 영역의 폭(OVL)이 부족하면, 노광 장치(12)에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 프린트 배선 기판 상의 배선 패턴 중 상기의 오버랩 영역에 상당하는 부분이, 묘화 공정에서 묘화되지 않은 부분과 같은 상태로 되어버릴 가능성이 있다.

이 때문에, 스텝166에서는 오버랩 영역의 폭이 역치(th6)미만인 패턴(라인 등)을 규정하는 데이터가 처리 대상인 거버 데이터에 포함되어 있지 않은지의 여부를 검사하는 체크 처리를 행한다. 또, 역치(th6)는 상술의 스텝102에서 묘화시의 해상도에 따라 설정되어 있으므로, 프린트 배선 기판의 문제의 원인으로 되는 오버랩 영역의 폭이 부족한 패턴이 배선 패턴에 포함되어 있는지의 여부를 정밀도 좋게 검사할 수 있다. 스텝166의 체크 처리가 완료되면 스텝168로 이행하고, 스텝166의 체크 처리에 있어서 해당되는 데이터가 검지되었는지의 여부를 판정한다. 판정이 부정된 경우는 스텝172로 이행하지만, 판정이 긍정된 경우는 스텝170으로 이행하 고, 검지된 에러(결함)가, 처리 대상인 거버 데이터에 오버랩 영역의 폭이 부족한 패턴을 규정하는 데이터가 포함되어 있는 에러인 것을 나타내는 에러 종류 정보와, 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 상에서의 오버랩 영역의 폭이 부족한 패턴의 위치를 나타내는 좌표 정보를 메모리에 기억시킨 후에 스텝172로 이행한다.

또한 예로서 도 5B에 나타내는 바와 같이, 인접하는 패턴과의 간극(GAP)이 부족한 패턴이 배선 패턴에 포함되어 있었을 경우, 이 패턴은 노광 장치(12)에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 프린트 배선 기판의 문제의 원인으로 될 가능성이 높다. 이 때문에, 스텝172에서는 인접하는 패턴과의 간극(GAP)이 역치(th7) 미만인 패턴을 규정하는 데이터가 처리 대상인 거버 데이터에 포함되어 있지 않은지의 여부를 검사하는 체크 처리를 행한다. 또, 역치(th7)는 상술의 스텝104에서 묘화시의 해상도 및 기판 상의 감광 재료의 종류에 따라 설정되어 있으므로, 프린트 배선 기판의 문제의 원인으로 되는 간극이 부족한 패턴이 배선 패턴에 포함되어 있는지의 여부를 정밀도 좋게 검사할 수 있다. 스텝172의 체크 처리가 완료되면 스텝174로 이행하고, 스텝172의 체크 처리에 있어서 해당되는 데이터가 검지되었는지의 여부를 판정한다. 판정이 부정된 경우는 스텝178로 이행하지만, 판정이 긍정된 경우는 스텝176으로 이행하고, 검지된 에러(결함)가, 처리 대상인 거버 데이터에 간극이 부족한 패턴을 규정하는 데이터가 포함되어 있는 에러인 것을 나타내는 에러 종류 정보와, 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 상에서의 간극이 부족한 패턴의 위치를 나타내는 좌표 정보를 메모리에 기억시킨 후에 스텝178로 이행한다.

스텝178에서는 메모리에 에러 종류 정보 등의 에러 정보가 기억되어 있는지 의 여부에 기초하여, 상술한 각 체크 처리에 의해 처리 대상인 거버 데이터에 어떠한 에러(결함)가 검지되었는지의 여부를 판정한다. 판정이 부정된 경우(에러가 전혀 검지되지 않았을 경우)는 스텝180으로 이행하고, 처리 대상인 거버 데이터를 체크 완료 거버 데이터 폴더(46)에 저장하여 데이터 체크 처리를 종료한다.

한편, 스텝178의 판정이 긍정된 경우(에러가 1개 이상 검지된 경우)는 스텝182로 이행하고, 우선 메모리에 기억되어 있는 에러 정보를 도입하여, 도입된 에러 정보 중에 좌표 정보가 포함되어 있는지의 여부를 판정한다. 그리고, 에러 정보 중에 좌표 정보가 포함되어 있었을 경우, 즉 처리 대상인 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 상에서 에러 개소를 명시할 수 있는 에러가 검지되어 있었던 경우는 도입된 에러 정보(에러 종류 정보 및 좌표 정보)에 기초하여, 처리 대상인 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 상에서 에러 개소를 명시시키기 위한 거버 에러 파일을 생성하고, 생성된 거버 에러 파일을 처리 대상인 거버 데이터에 부가한다. 또, 스텝182는 본 발명에 따른 데이터 생성 수단에 대응하는 처리이며, 스텝182의 처리를 행하는 데이터 체크 처리부(28)는 본 발명에 따른 데이터 생성 수단에도 대응하고 있다.

본 실시형태에 따른 거버 에러 파일은 거버 데이터로서 취급 가능한 데이터이며, 예로서 도 6에 나타내는 바와 같이 거버 데이터부와 거버 종료 코드 사이에, 에러 개소(도입된 에러 정보에 포함되는 좌표 정보가 나타내는 위치)에 명시시키는 소정의 마크(애퍼쳐)의 형상이나 사이즈를 규정하는 마크 데이터(도 6에서는 「애퍼쳐 형상 지정」이라고 표기)와, 배선 패턴 상에서의 소정의 마크의 명시 위치를 규정하는 좌표 데이터(도 6에서는 「에러 항목n x,y 좌표 지정」이라고 표기)가 기술되어서 구성된다. 스텝182에서는 도입된 에러 정보에 포함되는 좌표 정보에 기초해서 상기의 좌표 데이터를 설정함과 아울러, 좌표 데이터에 의해 규정된 개개의 에러 개소에, 개개의 에러 종류에 대응하는 마크가 명시되도록 상기의 마크 데이터를 설정함으로써 거버 에러 파일을 생성한다.

그리고 스텝184에서는 작업 등록 GUI(24)를 통해서 디스플레이에 소정의 메시지를 표시시킴으로써 처리 대상인 거버 데이터에 에러가 검지된 것을 통지함과 아울러, 검지된 에러의 내용을 작업 등록 GUI(24)를 통해서 디스플레이에 표시시켜 데이터 체크 처리를 종료한다. 또, 에러 내용의 표시는 검지된 에러가 예를 들면 처리 대상인 거버 데이터를 구성하는 레이어의 수가 상한을 넘고 있었던 것 등과 같이, 에러 개소를 명시하기 곤란한 에러(에러 검지시에 좌표 정보가 기억되지 않는 에러)이면, 에러의 내용을 통지하는 메시지를 간단히 디스플레이에 표시시킴으로써 이루어지지만, 검지된 에러가 에러 개소를 명시할 수 있는 에러(에러 검지시에 좌표 정보가 기억되는 에러)이면, 스텝182에서 생성된 거버 에러 파일에 기초하여, 예로서 도 7에 나타내는 바와 같이 처리 대상인 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 중, 거버 에러 파일의 좌표 데이터가 지시하는 에러 개소에, 마크 데이터에 의해 규정된 마크를 각각 중첩 표시시킨 에러 개소 명시 화상을 디스플레이에 표시시킴으로써 에러 내용을 명시한다. 또, 에러 내용의 표시시에 특정 에러 개소를 확대 표시시킴과 아울러, 사용자로부터의 지시에 따라 확대 표시시키는 에러 개소를 순차 바꾸어도 된다.

도 7에 나타내는 에러 개소 명시 화상에서는 배선 패턴 상의 각 에러 개소에, 사이즈 및 형상 중 적어도 한쪽이 서로 다른 마크(60A~60D) 중 각 에러 개소에 있어서의 에러 종류에 대응하는 마크가 표시되어 있고, 이것에 의해 사용자는 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 상에 있어서의 에러 개소의 위치 및 각 에러 개소에 있어서의 에러 종류를 용이하게 인식할 수 있다. 또한 거버 에러 파일은 거버 데이터로서 취급 가능한 형식이므로, 거버 에러 파일이 부가된 처리 대상인 거버 데이터를 CAM 시스템으로서 기능하는 컴퓨터(18)에 전송하고, 상기 컴퓨터(18)의 디스플레이에 도 7에 나타내는 바와 같은 에러 개소 명시 화상을 표시할 수도 있다. 이것에 의해 에러 체크 처리에서 검지된 에러에 기초하여, CAM 시스템 상에서 거버 데이터를 수정하는 작업을 보다 용이하게 행할 수 있다.

이와 같이 상술한 데이터 체크 처리를 행함으로써, 거버 데이터를 원인으로 해서 노광 장치(12)에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 프린트 배선 기판에 문제가 발생하는 것을 미연에 방지할 수 있음과 아울러, 상기의 문제의 원인이 되는 거버 데이터의 결함을, RIP 처리를 행하기 전에 검지할 수 있음으로써 RIP 처리나 노광 장치(12)에 의한 묘화 등의 공정을 쓸모없이 반복할 필요가 없어지고, 거버 데이터의 결함이 기판 제조 등의 작업의 진척에 큰 악영향을 끼치거나, 상기 결함에 의해 기판이 낭비되거나 하는 것을 방지할 수 있다.

그런데, 레이아웃 확인 GUI(30)가 화상 처리 장치(14)의 디스플레이에 표시 가능한 화면 중에는, 체크 완료 거버 데이터 폴더(46)에 저장되어 있는 거버 데이터(데이터 체크 처리를 거친 거버 데이터)가 나타내는 배선 패턴의 레이아웃의 확 인을 지시하기 위한 레이아웃 확인 지시 화면이 포함되어 있다. 도면에 나타내는 것은 생략하지만, 레이아웃 확인 지시 화면에는 체크 완료 거버 데이터 폴더(46)에 저장되어 있는 거버 데이터의 파일명 등을 일람 표시하기 위한 표시란과, 상기 표시란에 일람 표시된 각 거버 데이터 중에서 처리 대상으로서 선택된 거버 데이터에 대한 레이아웃 확인 처리의 실행을 지시하기 위한 버튼이 설치되어 있다.

데이터 체크 처리를 거친 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴에 대하여, 그 레이아웃(기판에 대한 배선 패턴의 묘화 범위의 위치나 배선 패턴의 수평면 내에서의 각도, 표리의 방향)을 확인하는 것이 요망되어 있을 경우, 사용자는 키보드나 마우스를 조작해서 레이아웃 확인 GUI(30)에 대하여 디스플레이로의 레이아웃 확인 지시 화면의 표시를 지시하고, 레이아웃 확인 지시 화면이 디스플레이에 표시되어 있는 상태에서 상기 표시란에 일람 표시되어 있는 거버 데이터 중에서 처리 대상인 거버 데이터를 선택하며, 레이아웃 확인 지시 화면 내의 버튼을 선택함으로써 처리 대상인 거버 데이터에 대한 레이아웃 확인 처리의 실행을 지시한다. 이 지시가 레이아웃 확인 GUI(30)를 통해 레이아웃 표시 처리부(32)에 입력되고, 레이아웃 표시 처리부(32)에 의해 도 8에 나타내는 레이아웃 확인 처리가 행해진다.

레이아웃 확인 처리에서는, 우선 스텝200에 있어서 지정된 처리 대상인 거버 데이터를 체크 완료 거버 데이터 폴더(46)로부터 도입함과 아울러, 처리 대상인 거버 데이터에 대응하는 작업 조건 정보를 작업 조건 정보 폴더(48)로부터 도입한다. 스텝202에서는 처리 대상인 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴의 레이아웃을 확인할 수 있는 화상을 표시시키기 위한 레이아웃 확인 화면(도 9 참조)을 레이아웃 확 인 GUI(30)에 의해 디스플레이에 표시시킴과 아울러, 스텝200에서 도입된 작업 조건 정보에 포함되는 기판의 사이즈 등의 정보에 기초하여 레이아웃 확인 화면 내의 화상 표시 영역에 기판의 외측 가장자리를 나타내는 프레임선(도 9에서는 「기판 프레임」이라고 표기)을 표시시킨다.

스텝204에서는 사용자에 대하여 기판 상의 원점의 위치를 지정하도록 요청하는 메시지를 디스플레이에 표시시킨 후에, 사용자에 의해 기판 상의 원점의 위치가 지정되었는지의 여부를 판정하고, 판정이 긍정될 때까지 스텝204를 반복한다. 디스플레이에 표시된 메시지에 따라 사용자가 기판 상의 원점의 위치(통상은 기판 상의 중심 위치)를 지정하면, 스텝204의 판정이 긍정되어서 스텝206으로 이행하고, 스텝200에서 도입된 처리 대상인 거버 데이터에 기초하여 상기 처리 대상인 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴을, 레이아웃 확인 화면 내의 화상 표시 영역에 표시되어 있는 프레임선의 사이즈에 맞춰서 축소 표시하는 배선 패턴 화상을 생성한다.

또 스텝208에서는 처리 대상인 거버 데이터에 포함되는 거버 데이터의 원점과 기판 상의 원점의 위치 관계, 처리 대상인 거버 데이터에 대응하는 작업 조건 정보에 포함되는, 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴의 회전이나 반전(미러)의 유무, 회전 각도·반전(미러)의 방향, 및 사용자에 의해 지정된 기판 상의 원점의 위치에 기초하여 처리 대상인 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴을 현재의 작업 조건 정보에 따라 기판에 묘화한 경우의, 기판 상의 원점을 기준으로 하는 배선 패턴의 묘화 범위의 위치, 회전 각도, 반전의 유무 및 방향을 연산한다. 또 스텝208은 상술의 스텝200과 함께 본 발명에 따른 연산 수단에 상당하는 처리이며, 스텝200, 208의 처리를 행하는 레이아웃 표시 처리부(32)는 본 발명에 따른 연산 수단에 대응하고 있다.

그리고 스텝210에서는 스텝206에서 생성된 배선 패턴 화상을, 스텝208의 연산 결과에 기초하여 필요에 따라 수평면 내에서의 회전이나 표리의 방향의 반전을 행한 뒤에, 레이아웃 확인 화면 내의 화상 표시 영역 중 스텝208에서 연산된 위치에 표시시킨다(도 9에 나타내는 상태). 또 스텝210은 본 발명에 따른 위치 관계 표시 제어 수단에 상당하는 처리이며, 스텝210의 처리를 행하는 레이아웃 표시 처리부(32)는 본 발명에 따른 위치 관계 표시 제어 수단에 대응하고 있다.

또 도 9에도 나타내는 바와 같이, 레이아웃 확인 화면에는 배선 패턴의 회전을 지시하기 위한 회전 지시 버튼, 배선 패턴의 반전(미러)을 지시하기 위한 미러 지시 버튼이 설치되어 있고, 다음 스텝212에서는 레이아웃 확인 화면 내의 회전 지시 버튼이 선택되었는지의 여부에 기초하여 배선 패턴의 회전이 지시되었는지의 여부를 판정한다. 판정이 부정된 경우는 스텝216으로 이행하고, 레이아웃 확인 화면 내의 미러 지시 버튼이 선택되었는지의 여부에 기초하여 배선 패턴의 미러(반전)가 지시되었는지의 여부를 판정한다. 이 판정도 부정된 경우는 스텝220으로 이행하고, 레이아웃 확인 화면의 표시 종료가 지시되었는지의 여부를 판정한다. 이 판정도 부정된 경우는 스텝212로 돌아가, 스텝212, 216, 220 중 어느 하나의 판정이 긍정될 때까지 스텝212, 216, 220을 반복한다.

레이아웃 확인 화면 내의 화상 표시 영역에 배선 패턴 화상이 표시되면, 사용자는 표시된 배선 패턴 화상의 기판에 대한 위치나 수평면 내의 각도, 표리의 방 향이, 기판의 외측 가장자리를 나타내는 프레임선에 대하여 적정인지의 여부를 검정한다. 여기서 배선 패턴 화상의 기판에 대한 위치가 적정하지 않다고 판단된 경우, 사용자는 레이아웃 확인 화면의 표시를 일단 종료시킨 후에 처리 대상인 거버 데이터에 포함되는 거버 데이터의 원점과 기판 상의 원점의 위치 관계를 규정하는 데이터를 수정함으로써, 처리 대상인 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴을 기판에 묘화한 경우의 기판 상의 원점을 기준으로 하는 배선 패턴의 묘화 범위의 위치를 수정한다.

또한, 배선 패턴 화상의 수평면 내의 각도가 적정하지 않다고 판단된 경우, 사용자는 회전 지시 버튼을 선택함으로써 배선 패턴의 회전을 지시한다. 또, 레이아웃 확인 화면에는 회전 지시 버튼으로서 서로 다른 회전 각도(예를 들면 90°, 180°, 270°)만 회전시키기 위한 복수의 버튼이 설치되어 있고, 원하는 회전 각도에 대응하는 회전 지시 버튼이 선택된다. 회전 지시 버튼이 선택되면 스텝212의 판정이 긍정되어서 스텝214로 이행하고, 레이아웃 확인 화면 내의 화상 표시 영역에 표시되어 있는 배선 패턴 화상을, 선택된 회전 지시 버튼에 대응하는 회전 각도만 회전시킨 후에 스텝216으로 이행한다. 예를 들면 도 9에 나타내는 배선 패턴 화상에 대하여 90° 회전이 지시된 경우, 배선 패턴 화상은 도 10A에 나타내는 바와 같이 회전되고, 도 9에 나타내는 배선 패턴 화상에 대하여 180° 회전이 지시된 경우에는 배선 패턴 화상은 도 10B에 나타내는 바와 같이 회전되게 된다.

또한, 배선 패턴 화상의 표리의 방향이 적정하지 않다고 판단된 경우, 사용자는 미러 지시 버튼을 선택함으로써 배선 패턴의 표리의 방향의 반전(미러)을 지 시한다. 또, 레이아웃 확인 화면에는 미러 지시 버튼으로서 서로 다른 방향(예를 들면 x방향, y방향)으로 반전시키기 위한 복수의 버튼이 설치되어 있고, 원하는 반전 방향에 대응하는 미러 지시 버튼이 선택된다. 미러 지시 버튼이 선택되면 스텝216의 판정이 긍정되어서 스텝218로 이행하고, 레이아웃 확인 화면 내의 화상 표시 영역에 표시되어 있는 배선 패턴 화상의 표리의 방향을, 선택된 미러 지시 버튼에 대응하는 반전 방향으로 반전시킨 후에 스텝220으로 이행한다. 예를 들면 도 9에 나타내는 배선 패턴 화상에 대하여 표리의 방향을 x방향으로 반전시키는 것이 지시된 경우 배선 패턴 화상의 표리의 방향은 도 11A에 나타내는 바와 같이 반전되고, 도 9에 나타내는 배선 패턴 화상에 대하여 표리의 방향을 y방향으로 반전시키는 것이 지시된 경우에는 배선 패턴 화상의 표리의 방향은 도 11B에 나타내는 바와 같이 반전되게 된다.

또한, 레이아웃 확인 화면의 표시 종료가 지시되면 스텝220의 판정이 긍정되어서 스텝222로 이행하고, 상술한 처리에 있어서 배선 패턴에 대한 레이아웃의 변경(수평면 내의 회전 또는 표리의 방향의 반전)이 지시되었는지의 여부를 판정한다. 판정이 부정된 경우는 아무런 처리를 행하지 않고 레이아웃 확인 처리를 종료하지만, 스텝222의 판정이 긍정된 경우는 스텝224로 이행하고, 배선 패턴에 대하여 지시된 수평면 내의 회전이나 표리의 방향의 반전에 따라 처리 대상인 거버 데이터의 작업 조건 정보에 포함되는 배선 패턴의 회전이나 반전의 유무, 회전 각도·반전의 방향 등의 데이터 중 대응하는 부분을 수정하며, 수정 후의 작업 조건 정보를 작업 조건 정보 폴더(48)에 덮어쓰기 저장한 후에 레이아웃 확인 처리를 종료한다.

상술한 레이아웃 확인 처리에 의해, 처리 대상인 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴을 현재의 작업 조건 정보에 따라 기판에 묘화한 경우의 배선 패턴의 레이아웃(기판에 대한 배선 패턴의 묘화 범위의 위치나 배선 패턴의 수평면 내에서의 각도, 표리의 방향)이 적정한지의 여부를, 기판에 배선 패턴을 실제로 묘화하기 전에 확인할 수 있으므로 기판이 낭비되거나 하는 문제가 생기는 것을 회피할 수 있다.

또한, 래스터 표시 GUI(34)가 화상 처리 장치(14)의 디스플레이에 표시 가능한 화면 중에는 체크 완료 거버 데이터 폴더(46)에 저장되어 있는 특정 거버 데이터의 일부를 래스터 데이터로 전개해서 디스플레이에 표시시키는 것을 지시하기 위한 래스터 표시 지시 화면이 포함되어 있다. 도면에 나타내는 것은 생략하지만, 래스터 표시 지시 화면에는 체크 완료 거버 데이터 폴더(46)에 저장되어 있는 거버 데이터의 파일명 등을 일람 표시하기 위한 표시란과, 상기 표시란에 일람 표시된 각 거버 데이터 중에서 처리 대상으로서 선택된 거버 데이터에 대한 래스터 표시의 실행을 지시하기 위한 버튼이 설치되어 있다.

체크 완료 거버 데이터 폴더(46)에 저장되어 있는 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴에 대하여 육안 체크를 행하고 싶을 경우, 사용자는 키보드나 마우스를 조작해서 래스터 표시 GUI(34)에 대하여 디스플레이로의 래스터 표시 지시 화면의 표시를 지시하고, 래스터 표시 지시 화면이 디스플레이에 표시되어 있는 상태에서 상기 표시란에 일람 표시되어 있는 거버 데이터 중에서 처리 대상인 거버 데이터를 선택하며, 래스터 표시 지시 화면 내의 버튼을 선택함으로써 처리 대상인 거버 데 이터에 대한 래스터 표시 처리의 실행을 지시한다. 이 지시가 래스터 표시 GUI(34)를 통해서 RIP 처리부(36)에 입력되어, RIP 처리부(36)에 의해 도 12에 나타내는 래스터 표시 처리가 행해진다.

래스터 표시 처리에서는, 우선 스텝230에 있어서 지정된 처리 대상인 거버 데이터를 체크 완료 거버 데이터 폴더(46)로부터 도입함과 아울러, 처리 대상인 거버 데이터에 대응하는 작업 조건 정보를 작업 조건 정보 폴더(48)로부터 도입한다. 스텝232에서는 처리 대상인 거버 데이터 전체를 저해상도의 래스터 데이터(전체 이미지 화상)로 전개한다. 또, 거버 데이터로부터 래스터 데이터로의 전개는 예를 들면 출력하는 래스터 데이터의 해상도에 따른 사이즈의 묘화 영역을 메모리 상에 확보하고, 거버 데이터를 선두로부터 순서대로 참조하여 따르면서, 묘화 영역에 라인 등을 묘화하는 처리를 반복함으로써 행할 수 있다. 이것에 의해, 처리 대상인 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 전체를 저해상도로 표현하는 전체 이미지 화상이 얻어진다.

다음 스텝234에서는, 처리 대상인 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴의 래스터 화상을 표시시키기 위한 래스터 표시 화면(도 14 참조)을 래스터 표시 GUI(34)에 의해 디스플레이에 표시시킨다. 또한, 도 14에 나타내는 바와 같이 이 래스터 표시 화면에는 저해상도의 전체 이미지 화상을 표시하기 위한 전체 이미지 표시 영역과, 배선 패턴을 나타내기보다 고해상도의 상세 표시 화상을 표시하기 위한 상세 표시 영역이 형성되어 있고, 스텝232의 처리에 의해 얻어진 전체 이미지 화상을 래스터 표시 GUI(34)에 의해 래스터 표시 화면 내의 전체 이미지 표시 영역에 표시시 킨다. 또 스텝232, 234는 본 발명에 따른 저해상도 화상 표시 제어 수단에 상당하는 처리이며, 스텝232,234의 처리를 행하는 RIP 처리부(36)는 본 발명에 따른 저해상도 화상 표시 제어 수단에 대응하고 있다.

그런데, 기판으로의 배선 패턴의 묘화 단위(노광 장치(12)가 1회의 묘화에서 기판으로 묘화되는 배선 패턴 전체)는 패널(또는 워크)이라고 칭해지지만, 최종 제품으로서의 프린트 배선 기판이 특히 휴대전화기나 PDA(Personal Digital Assistant) 등의 소형의 기기에 실장되는 프린트 배선 기판일 경우 그 사이즈는 패널의 사이즈보다 대폭 작으므로, 예로서 도 13에 나타내는 바와 같이 최종 제품의 단위인 「피스」가 패널 내에 다수 배열되는 것이 많다. 또한, 피스의 사이즈가 작거나 할 경우에는 동일한 배선 패턴을 나타내는 피스가 복수 배열되어서 이루어지는 시트를 단위로 해서 패널로부터의 기판의 반출을 행하고, 반출한 패널 내의 각 피스로의 회로 소자의 실장 등의 공정을 거친 후에 패널 내의 각 피스의 반출이 행해진다. 본 실시형태에 따른 래스터 표시 처리에서는 상세 표시 영역에 상세 표시 화상으로서 표시시키는 범위를 지정하는 방법으로서, 전체 이미지 표시 영역에 표시되어 있는 전체 이미지 화상 상에서 상세 표시 범위를 지정하는 방법에 더하여, 전체 이미지 화상 상에서 원하는 피스 또는 패널을 상세 표시 대상으로서 지정하는 방법이 준비되어 있고, 도 14에도 나타내는 바와 같이 래스터 표시 화면에는 피스 단위에서의 상세 표시를 지시하기 위한 버튼(64A)과, 시트 단위에서의 상세 표시를 지시하기 위한 버튼(64B)이 설치되어 있다.

다음 스텝236에서는, 전체 이미지 표시 영역에 표시되어 있는 전체 이미지 화상 상에서 상세 표시 범위를 나타내는 프레임(도 14 참조)이 묘화됨으로써, 상세 표시 영역에 상세 표시 화상으로서 표시해야 할 상세 표시 범위가 지정되었는지의 여부를 판정한다. 스텝236의 판정이 부정된 경우는 스텝238로 이행하고, 전체 이미지 화상 내의 특정 피스가 선택되어서 버튼(64A)이 선택됨으로써 피스 단위에서의 상세 표시가 지시되거나, 또는 전체 이미지 화상 내의 특정 시트가 선택되어서 버튼(64B)이 선택됨으로써 시트 단위에서의 상세 표시가 지시되었는지의 여부를 판정한다. 스텝238의 판정도 부정된 경우는 스텝236으로 돌아가고, 스텝236 또는 스텝238의 판정이 긍정될 때까지 스텝236, 238을 반복한다.

상기 어느 하나의 지정 방법으로 상세 표시를 지시하는 조작이 사용자에 의해 행해지면 스텝236 또는 스텝238의 판정이 긍정되어서 스텝240으로 이행하고, 사용자에 의해 지정된 상세 표시 범위를 인식한다. 즉, 전체 이미지 화상 상에서 상세 표시 범위를 나타내는 프레임이 묘화된 경우에는 묘화된 범위 내를 상세 표시 범위라고 인식하고, 피스 단위에서의 상세 표시가 지시된 경우는 전체 이미지 화상 상에서 선택된 특정 피스 전체를 상세 표시 범위로 인식하며, 시트 단위에서의 상세 표시가 지시된 경우는 전체 이미지 화상 상에서 선택된 특정 시트 전체를 상세 표시 범위라고 인식한다.

또한, 다음 스텝242에서는 스텝240에서 인식된 상세 표시 범위 내에 동일한 배선 패턴(동일 배선 패턴을 나타내는 피스)이 복수 존재하고 있는지의 여부를 판정하고, 판정 결과에 기초하여 상세 표시 범위 중 거버 데이터로부터 래스터 데이터로의 전개를 행하는 범위를 설정한다. 예를 들면 피스 단위에서의 상세 표시가 지시된 경우는 상세 표시 범위 내에 동일 배선 패턴이 복수 존재하고 있는 일은 없으므로, 스텝240에서 인식된 상세 표시 범위가 그대로 래스터 전개 범위로 설정된다. 한편, 시트 단위에서의 상세 표시가 지시된 경우나, 전체 이미지 화상 상에서 묘화된 범위의 상세 표시가 지시된 경우는 상세 표시 범위 내에 동일 배선 패턴을 나타내는 피스가 복수 존재하고 있을 가능성이 있다. 상세 표시 범위 내에 동일 배선 패턴을 나타내는 피스가 복수 존재하지 않고 있으면 상세 표시 범위가 그대로 래스터 전개 범위로 설정되지만, 상세 표시 범위 내에 동일 배선 패턴을 나타내는 피스가 복수 존재하고 있으면 어느 하나의 피스 이외의 각 피스를 제외한 범위가 래스터 전개 범위로 설정된다.

다음 스텝244에서는 처리 대상인 거버 데이터로부터 래스터 전개 범위에 상당하는 거버 데이터를 추출하고, 추출된 거버 데이터를 고해상도의 래스터 데이터로 전개한다. 또, 상기의 래스터 데이터의 해상도는 후술하는 거리의 연산·표시를 행하는 것을 고려하면 묘화시의 해상도와 동일한 것이 바람직하지만, 상세 표시 범위 내의 배선 패턴을 나타내는 상세 표시 화상 전체가 래스터 표시 화면 내의 상세 표시 영역에 포함되도록 해상도를 조정해도 된다. 또한, 스텝242에서 설정된 래스터 전개 범위가 스텝240에서 인식된 상세 표시 범위와 동일하면, 상기의 래스터 데이터는 상세 표시 범위 내의 배선 패턴을 나타내는 상세 표시 화상에 일치하지만, 상세 표시 범위 내에 동일 배선 패턴을 나타내는 피스가 복수 존재하고 있었기 때문에 상세 표시 범위 내의 일부 영역을 래스터 전개 범위로 설정한 경우에는, 상기의 래스터 데이터에 래스터 전개 범위로부터 제외된 피스의 외측 가장자리를 나타 내는 프레임선 데이터를 추가함으로써, 상세 표시 범위 내의 배선 패턴을 나타내는 상세 표시 화상을 생성한다. 그리고 다음 스텝246에서는 스텝244의 처리에 의해 얻어진 상세 표시 화상을, 래스터 표시 GUI(34)에 의해 래스터 표시 화면 내의 상세 표시 영역에 표시시킨다.

또, 스텝242,244는 본 발명에 따른 전개 수단에 상당하는 처리, 스텝246은 본 발명에 따른 고해상도 화상 표시 제어 수단에 상당하는 처리이며, 스텝242~246의 처리를 행하는 RIP 처리부(36)는 본 발명에 따른 전개 수단 및 고해상도 화상 표시 제어 수단에 각각 대응하고 있다.

이것에 의해, 피스 단위에서의 상세 표시가 지시된 경우에는 예로서 도 15에 나타내는 바와 같이, 래스터 표시 화면 내의 상세 표시 영역에는 상세 표시 대상으로서 선택된 단일의 피스의 배선 패턴만이 상세 표시된다. 또한 시트 단위에서의 상세 표시가 지시된 경우에는 예로서 도 16에 나타내는 바와 같이 상세 표시 대상으로서 선택된 단일의 시트의 배선 패턴이 래스터 표시 화면 내의 상세 표시 영역에 상세 표시되지만, 선택된 시트 내에 동일 배선 패턴을 나타내는 피스가 복수 배열되어 있을 경우에는, 도 16에 나타내는 바와 같이 상기 복수의 피스 중 단일의 피스만 그 배선 패턴이 상세 표시되고, 나머지 피스에 대해서는 그 외측 가장자리를 나타내는 프레임선만이 표시된다.

이와 같이, 래스터 표시 처리에서는 처리 대상인 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴 중 래스터 표시 화면 내의 상세 표시 영역에 표시시키는 부분에 대해서만 고해상도의 래스터 데이터를 생성해서 표시하므로, 처리 대상인 거버 데이터 전체 를 RIP 처리에 의해 묘화용 래스터 데이터로 전개한 후에, 이 묘화용 래스터 데이터를 이용하여 배선 패턴을 래스터 표시하는 경우와 비교해서 배선 패턴의 래스터 표시를 고속으로 행할 수 있음과 아울러, 래스터 표시된 배선 패턴에 대하여 육안 체크에 의해 문제가 발견되었다고 해도, 시간이 걸리는 RIP 처리를 복수회 행할 필요가 없어진다.

또한, 상기와 같이 동일 배선 패턴을 나타내는 피스가 복수 배열된 패널(배선 패턴 전체)을 묘화할 경우, 거버 데이터는 단일의 피스에 대해서만 배선 패턴을 규정하는 데이터와, 상기 데이터가 나타내는 배선 패턴의 각 피스에 상당하는 위치로의 복사를 지시하는 데이터에 의해 상기의 배선 패턴 전체를 규정하므로, 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴의 육안 체크시에도 패널 내에 복수 배열되어 있는 모든 피스에 대하여 육안 체크를 행할 필요는 없고, 동일 배선 패턴을 나타내는 복수의 피스 중 어느 하나에 대해서만 육안 체크가 행해진다. 이 때문에, 동일 배선 패턴을 나타내는 피스가 상세 표시 범위 내에 복수 존재하고 있었을 경우에, 상기와 같이 단일의 피스에 대해서만 배선 패턴이 상세 표시되어도 육안 체크의 지장으로 되는 일은 없고, 단일의 피스에 대해서만 고해상도의 래스터 데이터로 전개하는 처리를 행함으로써 래스터 표시 화면 내의 상세 표시 영역으로의 상세 표시 화상의 표시를 단시간에 행할 수 있다.

그런데, 래스터 데이터의 해상도가 묘화시의 해상도와 동일할 경우, 래스터 표시 화면 내의 상세 표시 영역에는 예로서 도 17에도 나타내는 바와 같이 노광 장치(12)에 의한 묘화시의 기판 상에서의 화소 간격과 디스플레이 상에서의 화소 간 격(표시 도트의 간격)의 비에 따라 확대 표시된 배선 패턴이 표시되지만, 본 실시형태에서는 이 상태에서 표시되어 있는 배선 패턴 상에서 지정된 임의의 2점 사이의 거리를 연산·표시시킬 수도 있게 되어 있다. 임의의 2점 사이의 거리를 연산·표시시키는 것은 배선 패턴 상에서 원하는 2점(도 17에서는 시점, 종점으로 표기)의 위치를 지정한 후에(이것에 의해 2점 사이를 연결하는 보조 선이 배선 패턴 상에 표시된다) 소정의 조작을 행함으로써 지시할 수 있다.

다음 스텝248에서는 상기의 조작이 행해짐으로써 배선 패턴 상의 임의의 2점 사이의 거리의 연산·표시가 지시되었는지의 여부를 판정한다. 스텝248의 판정이 부정된 경우는 스텝252로 이행하여, 래스터 표시 화면 내의 상세 표시 영역에 표시되어 있는 배선 패턴 화상의 표시 전환이 지시되었는지의 여부를 판정한다. 스텝252의 판정도 부정된 경우는 스텝254로 이행하여, 래스터 표시 화면의 표시 종료가 지시되었는지의 여부를 판정한다. 스텝254의 판정도 부정된 경우는 스텝248로 돌아가 스텝248, 252, 254 중 어느 하나의 판정이 긍정될 때까지 스텝248, 252, 254를 반복한다.

여기서, 상술한 조작이 행해짐으로써 배선 패턴 상에서 지정된 임의의 2점 사이의 거리의 연산·표시가 지시된 경우에는, 스텝248의 판정이 긍정되어서 스텝250으로 이행하여 지정된 2점 사이의 거리를 연산해서 표시한다. 또, 노광 장치(12)에 의한 묘화시의 기판 상에서의 화소 간격은 묘화시의 해상도로부터 이미 알고 있으므로, 지정된 2점 사이의 거리는 지정된 2점 사이의 X방향 화소수 및 Y방향 화소수를 계수하고, 계수된 화소수에서 기판 상에서의 화소 간격을 곱함으로써 지정된 2점 사이의 기판 상에서의 X방향 거리 및 Y방향 거리를 구하여, 이 X방향 거리 및 Y방향 거리로부터 연산에 의해 산출할 수 있다. 도 17은 지정된 2점 사이의 거리를 연산한 결과가, 연산된 X방향 거리 및 Y방향 거리와 함께 표시란(68)에 표시되어 있는 상태를 나타내고 있다. 스텝250은 본 발명에 따른 거리 연산·표시 수단에 상당하는 처리이며, 스텝250의 처리를 행하는 RIP 처리부(36)는 본 발명에 따른 거리 연산·표시 수단에 대응하고 있다.

디지털 묘화 방식에서는 묘화용 래스터 데이터가 나타내는 배선 패턴을 소정의 해상도로 기판에 묘화하므로, 묘화용 래스터 데이터가 나타내는 배선 패턴에 있어서의 노광부와 미노광부의 경계 위치는 반올림 오차의 영향에 의해, 거버 데이터가 나타내는 배선 패턴에 대하여 묘화시의 해상도에 있어서의 인접하는 화소의 거리를 최대로 해서 변동하고, 이 변동에 따라 기판에 실제로 묘화되는 배선 패턴에 있어서의 노광부와 미노광부의 경계 위치도 변동한다. 이 때문에, 인접하는 패턴의 간극의 크기 등은 묘화용 래스터 데이터가 나타내는 배선 패턴에 대하여 육안 체크를 행해서 최종적으로 확인하는 것이 바람직하다. 본 실시형태에 따른 래스터 표시 처리에서는, 래스터 표시 화면 내의 상세 표시 영역에 표시된 배선 패턴(상세 표시 화상) 상에서 지정된 임의의 2점 사이의 거리의 연산·표시가 지시되면, 지정된 2점 사이의 거리(반올림 오차가 반영된 거리)를 연산·표시하므로, 인접하는 패턴의 간극의 크기의 확인 등을 정확 또한 용이하게 행할 수 있어 육안 체크를 행하는 사용자의 부담을 경감할 수 있다.

또한, 래스터 표시 화면 내의 상세 표시 영역에 표시되어 있는 배선 패턴 화 상의 표시 전환(상세 표시 범위의 변경 등)이 지시된 경우는, 스텝252의 판정이 긍정되어서 스텝236으로 되돌아와 사용자로부터의 지시에 따라 스텝236 이후의 처리가 반복된다. 또 래스터 표시 화면의 표시 종료가 지시된 경우는 스텝254의 판정이 긍정되어 래스터 표시 처리를 종료한다. 상기의 래스터 표시 처리의 실행 중에 사용자에 의해 행해지는 육안 체크에 있어서, 배선 패턴에 예를 들면 인접하는 패턴의 간극이 부족하거나 하는 문제가 있는 것이 검지된 경우에는, CAM 시스템으로서 기능하는 컴퓨터(18) 등에 있어서 검지된 문제가 해소되도록 처리 대상인 거버 데이터를 수정하는 작업이 행해진 후에 상기의 래스터 표시 처리(육안 체크)가 다시 행해지게 된다.

또한, 육안 체크에서 배선 패턴의 문제가 검지되지 않았을 경우, 사용자는 처리 대상인 거버 데이터에 대한 RIP 처리의 실행을 지시한다. 이것에 의해 RIP 처리부(36)는 RIP 처리 대상인 거버 데이터를 체크 완료 거버 데이터 폴더(46)로부터 도입하고, 도입된 처리 대상인 거버 데이터 전체를 고해상도의 묘화용 래스터 데이터에 전개하는 RIP 처리를 행하며, RIP 처리에 의해 얻어진 묘화용 래스터 데이터를 묘화용 래스터 데이터 폴더(50)에 저장한다. RIP 처리가 완료되면, 사용자는 묘화용 래스터 데이터가 나타내는 배선 패턴의 기판으로의 묘화를 지시한다. 그러면, 노광 장치 제어부(40)는 작업 조건 정보 폴더(48)로부터 대응하는 작업 조건 정보를 판독해서 노광 장치(12)로 출력함과 아울러, 묘화용 래스터 데이터 폴더(50)로부터 묘화용 래스터 데이터를 순차 판독해서 노광 장치(12)로 출력한다. 이것에 의해, 묘화용 래스터 데이터가 나타내는 배선 패턴이 노광 장치(12)에서 상기의 작업 조건 정보에 따라 기판에 묘화되게 된다.

또, 본 발명에 따른 검사 수단이 행하는 검사 처리는 데이터 체크 처리로서 도 3에 나타낸 각 체크 처리에 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 굵기가 역치 미만인 라인의 유무를 체크하거나, 배선 패턴 전체의 배율 변경을 지시하는 데이터가 포함되어 있지 않은지의 여부를 체크하거나 하는 등, 본 발명을 일탈하지 않는 범위에서 다른 임의의 검사 처리를 적용할 수 있는 것은 말할 필요도 없다.

또한, 본 실시형태에서는 본 발명에 따른 화상 처리 장치가 접속되는 묘화 장치로서 노광 장치(12)를 예로 들어 설명했지만, 본 발명에 따른 화상 처리 장치가 접속 가능한 묘화 장치는 상기에 한정되는 것은 아니고, 잉크젯형이고 액체 토출형인 묘화 헤드를 사용하여, 금속 입자나 금속 입자의 전구체를 기판에 부착시킴으로써 배선 패턴을 기판에 묘화하는 묘화 장치를 적용할 수도 있다. 이러한 묘화 장치로서는, 예를 들면 일본 특허 공개 2005-40665호 공보, 일본 특허 공개 2005-47073호 공보, 일본 특허 공개 2005-47085호 공보, 일본 특허 공개 2005-81710호 공보, 일본 특허 공개 2005-81711호 공보, 일본 특허 공개 2005-81716호 공보, 일본 특허 공개 2005-96332호 공보, 일본 특허 공개 2005-96338호 공보, 일본 특허 공개 2005-96345호 공보 등에 기재된 묘화 장치를 들 수 있다.

Claims

묘화용 래스터 데이터가 나타내는 배선 패턴을 기판에 직접 묘화하는 묘화 장치와 접속되고, 입력된 상기 배선 패턴을 나타내는 벡터 형식의 화상 데이터를 상기 묘화용 래스터 데이터로 전개하는 RIP 처리를 행하는 화상 처리 장치로서:

입력된 상기 화상 데이터에 대하여 상기 RIP 처리가 행해지기 전에, 상기 화상 데이터에, 상기 묘화 장치에 의한 묘화 공정을 거쳐 작성되는 기판에 문제가 발생하는 결함이 있는지의 여부를 검사하는 검사 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
제 1 항에 있어서, 상기 검사 수단은 상기 화상 데이터에 상기 결함이 있는지의 여부를 검사하는데 있어서 상기 묘화 장치가 상기 기판에 상기 배선 패턴을 묘화할 때에 적용되는 묘화 조건을 취득하고, 취득된 묘화 조건에 따라 상기 검사에 있어서의 상기 결함의 판정에 사용하는 역치를 설정하며, 설정된 역치를 이용하여 상기 검사를 행하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
제 2 항에 있어서, 상기 묘화 조건은 상기 배선 패턴을 묘화할 때에 적용되는 해상도 또는 상기 기판에 설치된 감광 재료의 종류인 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
제 2 항에 있어서, 상기 검사 수단은 상기 작성되는 기판에 문제가 발생하는 결함이 있는지의 여부를 검사하는 처리로서, 상기 화상 데이터가 나타내는 배선 패턴 중에 원주 길이가 제 1 역치 미만인 원호부가 포함되어 있는지의 여부, 상기 배선 패턴 중에 시점 위치에서의 반경과 종점 위치에서의 반경의 차가 제 2 역치 이상인 원호부가 포함되어 있는지의 여부, 상기 배선 패턴 중에 반경이 제 3 역치 이상인 원호부가 포함되어 있는지의 여부, 상기 배선 패턴이 원점으로부터 제 4 역치 이상 떨어진 좌표에 존재하고 있는지의 여부, 상기 화상 데이터가 나타내는 배선 패턴 중에 면적이 제 5 역치 미만인 핀홀 영역이 존재하고 있는지의 여부, 상기 배선 패턴 중에 인접하는 패턴과 겹쳐져 있는 영역의 폭이 제 6 역치 미만인 패턴이 존재하고 있는지의 여부, 및 상기 배선 패턴 중에 인접하는 패턴과의 간극이 제 7 역치 미만인 패턴이 존재하고 있는지의 여부 중 한가지 이상을 검사하는 처리를 행하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
제 3 항에 있어서, 상기 검사 수단은 상기 작성되는 기판에 문제가 발생하는 결함이 있는지의 여부를 검사하는 처리로서, 상기 화상 데이터가 나타내는 배선 패턴 중에 원주 길이가 제 1 역치 미만인 원호부가 포함되어 있는지의 여부, 상기 배선 패턴 중에 시점 위치에서의 반경과 종점 위치에서의 반경의 차가 제 2 역치 이상인 원호부가 포함되어 있는지의 여부, 상기 배선 패턴 중에 반경이 제 3 역치 이상인 원호부가 포함되어 있는지의 여부, 상기 배선 패턴이 원점으로부터 제 4 역치 이상 떨어진 좌표에 존재하고 있는지의 여부, 상기 화상 데이터가 나타내는 배선 패턴 중에 면적이 제 5 역치 미만인 핀홀 영역이 존재하고 있는지의 여부, 상기 배선 패턴 중에 인접하는 패턴과 겹쳐져 있는 영역의 폭이 제 6 역치 미만인 패턴이 존재하고 있는지의 여부, 및 상기 배선 패턴 중에 인접하는 패턴과의 간극이 제 7 역치 미만인 패턴이 존재하고 있는지의 여부 중 한가지 이상을 검사하는 처리를 행하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
제 1 항에 있어서, 상기 검사 수단은 상기 배선 패턴 중에 원 이외의 애퍼쳐 형상을 사용한 라인이 포함되어 있는지의 여부, 상기 배선 패턴 중에 시점 위치와 종점 위치가 동일한 폐곡선을 이루고 또한 시점 위치로부터 종점 위치에 이르는 도중에 자기 라인과 교차하고 있는 자기 교차 라인이 포함되어 있는지의 여부 중 한쪽 이상을 검사하는 처리를 행하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
제 1 항에 있어서, 상기 검사 수단은 상기 화상 데이터에 상기 RIP 처리에서 에러가 발생하는 결함이 있는지의 여부도 검사하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
제 7 항에 있어서, 상기 검사 수단은 상기 화상 데이터에 상기 RIP 처리에서 에러가 발생하는 결함이 있는지의 여부를 검사하는 처리로서, 상기 RIP 처리에서 취급 가능한 문자종 이외의 문자가 상기 화상 데이터에 포함되어 있는지의 여부, 상기 배선 패턴의 정점의 수가 제 8 역치 이상인지의 여부, 상기 화상 데이터를 구 성하는 레이어의 수가 제 9 역치 이상인지의 여부 중 한가지 이상을 검사하는 처리를 행하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
제 1 항에 있어서, 상기 검사 수단에 의해 상기 화상 데이터에 결함이 있다고 판단된 경우에 상기 결함이 있다고 판단된 개소의 상기 배선 패턴 상에서의 좌표를 취득하고, 취득된 좌표에 기초하여 상기 화상 데이터가 나타내는 배선 패턴에 중첩 표시 가능하게 된 상태에서 상기 배선 패턴 상의 상기 개소에 소정의 마크를 명시시키는 결함 개소 명시 데이터를 생성하는 데이터 생성 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
제 1 항에 있어서, 상기 묘화 장치가 상기 기판에 상기 배선 패턴을 묘화할 때에 적용되는 묘화 조건을 취득하고, 취득된 묘화 조건과 상기 화상 데이터에 기초하여 상기 묘화 장치가 현재의 묘화 조건에서 상기 화상 데이터가 나타내는 배선 패턴을 묘화한 경우의 상기 기판 상에서의 상기 배선 패턴의 묘화 범위를 연산하는 연산 수단; 및

상기 연산 수단에 의해 연산된 묘화 범위에 기초하여 상기 묘화 장치가 현재의 묘화 조건에서 상기 화상 데이터가 나타내는 배선 패턴을 묘화한 경우의, 상기기판과 상기 기판 상에서의 상기 배선 패턴의 묘화 범위의 위치 관계를 표시 수단에 표시시키는 위치 관계 표시 제어 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
제 1 항에 있어서, 상기 화상 데이터에 기초하여 상기 배선 패턴을 저해상도로 나타내는 저해상도 배선 패턴 화상을 생성하고, 생성된 저해상도 배선 패턴 화상을 표시 수단에 표시시키는 저해상도 화상 표시 제어 수단;

상기 저해상도 표시 제어 수단에 의해 상기 표시 수단에 표시된 저해상도 배선 패턴 화상 상에서 지정 수단을 통해 확대 표시 대상 영역이 지정된 경우에 상기 화상 데이터 중 상기 확대 표시 대상 영역에 상당하는 데이터를 고해상도 래스터 데이터로 전개함으로써 상기 확대 표시 대상 영역 내의 배선 패턴을 고해상도로 나타내는 고해상도 배선 패턴 화상을 생성하는 전개 수단; 및

상기 전개 수단에 의해 생성된 고해상도 배선 패턴 화상을 상기 표시 수단에 표시시키는 고해상도 화상 표시 제어 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
제 11 항에 있어서, 상기 묘화 장치에 의해 기판에 묘화되는 배선 패턴은 단일의 회로 패턴에 상당하는 동일 단위 배선 패턴이 복수 배열되어서 이루어지는 시트가 복수개 배치되어서 구성되어 있고,

상기 저해상도 화상 표시 제어 수단은 상기 저해상도 배선 패턴 화상으로서 상기 배선 패턴 전체를 저해상도로 나타내는 화상을 생성하여 표시시키고,

상기 전개 수단은 상기 배선 패턴 전체를 나타내는 저해상도 배선 패턴 화상 상에서 상기 확대 표시 대상 영역으로서 특정 시트가 지정된 경우에 상기 화상 데 이터 중 상기 특정 시트 내의 단일의 특정 단위 배선 패턴에 상당하는 데이터만을 고해상도 래스터 데이터로 전개하며, 상기 특정 시트의 고해상도 배선 패턴 화상으로서 상기 특정 단위 배선 패턴에 대해서만 배선 패턴을 표시함과 아울러, 다른 단위 배선 패턴에 대해서는 외측 가장자리를 나타내는 프레임선만 표시하는 화상을 생성하는 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
제 11 항에 있어서, 상기 고해상도 화상 표시 제어 수단에 의해 상기 표시 수단에 표시된 고해상도 배선 패턴 화상 상에서 지정 수단을 통해 거리 측정 대상의 2점이 지정된 경우에 지정된 2점 사이의 거리를 연산해서 상기 표시 수단에 표시시키는 거리 연산·표시 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 화상 처리 장치.
제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 기재된 화상 처리 장치를 구비하고,

상기 화상 처리 장치에 의해 얻어진 묘화용 래스터 데이터에 기초하여 묘화면 상으로의 묘화를 행하는 것을 특징으로 하는 화상 묘화 장치.
벡터 형식의 화상 데이터를 생성하는 CAD 시스템 및 CAM 시스템 중 한쪽 이상;

제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 기재된 화상 처리 장치; 및

상기 화상 처리 장치에 의해 얻어진 묘화용 래스터 데이터에 기초하여 묘화면 상으로의 묘화를 행하는 묘화 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 묘화 시스템.