JPH07129646A - プリント配線基板用マスクパターンデータ検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】プリント配線基板用のマスクパターンを作画す
る場合において、１つの層のデータが多重入れ子で構成
されている場合でも、入れ子状態にあるデータ間の間隙
チェックができるマスクパターン検査装置を提供する。 【構成】データ媒体１から多重入れ子データのベクタ型
作画データを情報処理装置２を介してラスタ型作画デー
タに変換するベクタラスタ変換部３と、ベクタラスタ変
換部３から供給されたデータがネガタイプのときはデー
タ属性を反転させてビットイメージ展開部５に供給する
ネガデータ反転部４と、ネガデータ反転部４から供給さ
れたデータを２値データに変換して画像メモリ６に展開
するビットイメージ展開部５と、画像メモリ６をラスタ
走査して画像を切り出し判定部８に転送する高速トレー
ス部７と、そのデータをを基に間隙を判定しその欠陥を
蓄積部９に登録する判定部８とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はプリント配線基板におけ
るマスク作画データのパターンデータ検査装置に係わ
り、特に２次元画像メモリを用いたプリント配線基板の
パターンデータ検査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種のパターンデータ検査装置
は、図２に示したブロック図、およびこの装置を用いて
パターンデータを検査する方法をフローチャートで示し
た図３を参照すると、磁気ディスク（データ媒体）２２
と情報処理装置２１とキーボードおよびディスプレイか
らなる操作部２３とを備え、プリントパターンデータが
格納された磁気ディスク２２から供給されるプリントパ
ターンのラインおよびランドのデータを情報処理装置２
１で分離し、ライン要素間の間隙チェックを行なってい
た。

【０００３】すなわち、図２を参照すると、情報処理装
置２１は操作部２３からの指示に基づきプリントパター
ンデータがデータ媒体２１から供給される。このデータ
はベクタ型データと称し、プリントパターンの図形の輪
郭（有効線分）のみを走査してその形状を表わしたデー
タである。このベクタ型データはプリントパターン用の
線分（ライン）および部品のリード部分をハンダ付けす
るための領域（ランド）のデータが一筆書きで作成され
ていれば同一電位の関係にある一つの図形を表わす。し
かし、一筆書きでない、すなわち始点と終点をもった線
分を複数本接続して一つの図形を表現したデータの場合
が多いので、図３の処理３１では同一接続ネット、すな
わち同一電位の関係にある一の図形であることを識別し
て接続配線を逆抽出する。

【０００４】次に、処理３２では、異なる電位の関係に
ある接続配線間の間隙をデータ上で高速に検査するため
の前準備として、ラインおよびランドのデータを分離す
る。

【０００５】処理３２では、更にラインデータを、その
パターンの傾斜により水平ライン、垂直ライン、および
斜めラインの３種類の要素別に分類する。

【０００６】処理３３では、ライン要素間の間隙チェッ
クを実施する。

【０００７】処理３４では、ラインランド間の間隙チェ
ックを実施する。以上のような順序でライン要素間の間
隙チェックが行なわれ、これらのチェックはソフトウェ
ア的に構成されたものである。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のパター
ンデータ検査装置は、そのチェック方法が実際にはソフ
トウェアでのみ構成されいるので、一般的には、一つの
大きなデータのブロックの中に別の小さなデータのブロ
ックがはめこまれた、いわゆる多重入れ子状態にある２
つのデータを検査する場合は、これら２つのデータは別
々のデータとして検査する必要があった。そのため以下
に述べる欠点があった。

【０００９】例えば、多重入れ子データの概念図を示し
た図４を参照すると、多重入れ子になったデータのブロ
ックがネガタイプのデータ４１として作られている場
合、このデータを反転させて他方のポジタイプのデータ
４２と合成した状態にある原画イメージ４３では、ギャ
ップ４４および４５がネガタイプのデータ４１のライン
およびランド幅に含まれる１つのデータとして作られて
いるので、この境界のギャップ４４のチェックをソフト
ウェアで行なうのは不可能であった。

【００１０】すなわち、ネガタイプのデータ４１のライ
ンおよびランド幅からポジタイプのデータ４２のライン
およびランド幅をソフトウェア的に引き算した場合、そ
の差分の幅を得ることはできるが、ポジタイプのデータ
４２の両側に生じる個々の間隙の幅は得られない。仮に
得られた差分の幅を１／２に分割したとしてもそれぞれ
の幅は等しいから、間隙が種々異なる欠陥パターンにお
いては差別化できない。

【００１１】そのため、プリントパターン用のマスクパ
ターンを作画した後に、そのマスクフイルムを光学的な
検査装置でチェックして初めてギャップが狭い等の欠陥
が検出されることになる。

【００１２】したがって、データの状態での検査が不可
能となりプリントパターン製作のリードタイムおよびフ
イルム仕損費の増加を招来するという欠点があった。

【００１３】本発明の目的は、上述の欠点に鑑みなされ
たものであり、プリント配線基板用のマスクパターンを
作画する場合において、１つの層のデータが多重入れ子
で構成されている場合でも、入れ子状態にあるデータ間
の間隙チェックができるプリント配線基板用マスクパタ
ーン検査装置を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明のプリント配線基
板用マスクパターンデータ検査装置は、プリント基板配
線のマスクパターンデータを記憶するデータ媒体と、キ
ーボードおよびディスプレイからなる操作部と、前記操
作部の指示に基づきシステム全体の動作を制御する情報
処理装置とを備え、前記マスクパターンの幅、間隔およ
び重なりの欠陥を検査するプリント配線基板用マスクパ
ターンデータ検査装置において、前記データ媒体に記憶
された多重入れ子データ群のベクタ型作画データが供給
されてこのベクタ型作画データがあらかじめ定められた
優先順位の低い順番にラスタ型作画データに変換するベ
クタラスタ変換部と、前記ラスタ型作画データがポジタ
イプであればそのデータを出力しネガタイプであれば前
記ポジタイプに属性反転させたデータを出力するネガデ
ータ反転部と、前記ネガデータ反転部から供給される前
記ポジタイプのラスタ型データを２次元２値データに変
換するビットイメージ展開部と、前記２次元２値データ
が記憶される２次元画像メモリと、前記２次元画像メモ
リ上の前記２次元２値データをラスタ走査することによ
り所定の画像をウインドウ２値画像として読み出す高速
トレース部と、前記高速トレース部から供給される前記
ウインドウ２値画像に前記欠陥がないかを判定する判定
部と、その判定結果が欠陥画像であればこの欠陥画像デ
ータが登録される欠陥蓄積部とを含むことを特徴とす
る。

【００１５】また、前記操作部の指令に基づき前記ベク
タラスタ変換部が前記情報処理装置を介して前記多重入
れ子データを読み込むとともに前記情報処理装置から供
給される制御信号に応答して、前記各部が所定の機能動
作を実行することにより、前記多重入れ子データの有す
る前記ポジタイプおよびネガタイプのデータ間の間隙欠
陥を検査できるようにしたことをを特徴とする。

【００１６】

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。

【００１７】図１は本発明の一実施例を示すブロック図
である。図１を参照すると、このプリント配線基板用マ
スクパターンデータ検査装置は、プリント基板配線のマ
スクパターンデータである多重入れ子データ群が記録さ
れた磁気ディスク（データ媒体）１と、キーボードおよ
びディスプレイからなる操作部と、マイクロコンピュー
タを用いてシステム全体の動作を制御する情報処理装置
２と、データ媒体に記憶された多重入れ子データ群であ
って、プリントパターンの図形の輪郭（有効線分）のみ
を走査してその形状を表わしたベクタ型作画データが情
報処理装置２を介して供給され、多重入れ子状態の図形
を作成するためにあらかじめ決められたその優先順位の
低い順番に、プリントパターン全体を図形の上側から下
側へ走査してその形状を表わしたラスタ型作画データに
変換するベクタラスタ変換部３と、ベクタラスタ変換部
３から供給されるラスタ型作画データがポジタイプのラ
スタ型データであればそのデータを、ネガタイプのラス
タ型データであればそのデータ属性をポジタイプに反転
させるとともにその属性反転されたラスタ型データをそ
れぞれ出力するネガデータ反転部４と、ネガデータ反転
部４から供給されるポジタイプのラスタ型データを２次
元２値データに変換するビットイメージ展開部５と、ラ
スタ型データの２次元２値データを記憶する２次元画像
メモリ６と、２次元画像メモリ６上の２次元２値データ
をラスタ走査することにより所定の画像をウインドウ２
値画像として読み出す高速トレース部７と、高速トレー
ス部７から供給されるウインドウ２値画像に欠陥がない
かを判定する判定部８と、その判定結果が欠陥画像であ
ればこの欠陥画像データが情報処理装置２を介して登録
される欠陥蓄積部９とを備える。

【００１８】なお、これら各機能ブロックはデータ媒体
１、情報処理装置２、および欠陥蓄積部９以外は高速Ｅ
ＣＬ回路を用いた専用のハードウェアで構成される。ま
た、２次元画像メモリ６は高速ＳＲＡＭを用い２次元ア
ドレスでデータをアクセスできるように構成される。

【００１９】再び図１を参照すると、マスクパターン作
成のための図形データの幅、間隔、および重なりをデザ
インルールとして定義された幾何学的な設計規則にもと
づいて検査をするＤＲＣ（Ｄｅｓｉｇｎ Ｒｕｌｅ Ｃ
ｈｅｃｋ）開始の指示が操作部１０から情報処理装置２
に与えられる。情報処理装置２はその指示に応答して多
重入れ子群をファイルしたデータ媒体１から優先順位の
一番低いベクタ型作画データを読み取る。

【００２０】この読み取ったデータをベクタラスタ変換
部３に引き渡す。ベクタラスタ変換部３はそのベクタ型
作画データをラスタ型作画データに変換するとともに、
その変換結果をネガデータ反転部４に転送する。

【００２１】ネガデータ反転部４は情報処理装置２の制
御信号に応答して保有するラスタ型データがネガタイプ
のデータである場合は、配線用基板に導体配線を印刷す
るためのガラスマスク上で黒色にする部分の白データは
黒に、ガラスマスク上で白色にする部分の黒データは白
にそれぞれのデータ属性を反転させる。

【００２２】一方、ラスタ型データがポジタイプのデー
タである場合は、データ属性の変更はしない。これらの
属性反転および属性非反転のラスタ型データはビットイ
メージ展開部５に転送される。

【００２３】ビットイメージ展開部５は、情報処理装置
２から供給される制御信号に応答して属性反転および属
性非反転のラスタ型データを“０”“１”のデジタル信
号からなる２次元の２値ビットイメージデータに変換
し、２次元画像メモリ６に記憶させる。

【００２４】上述した一連の動作を情報処理装置２の指
令にもとづき、多重入れ子データ群をその優先順位に従
って繰り返し実行する。これらの動作により２次元画像
メモリ６に所定のビットイメージデータがすべて展開さ
れることになる。

【００２５】次に、高速トレース部７は、情報処理装置
２から供給される制御信号に応答して、３×３ビットの
２次元ビット・ウィンドウ・サイズで２次元メモリ空間
をラスタ走査することにより、３×３ビットサイズの画
像データとして切り出し、判定部８へ順次転送する。

【００２６】判定部８は、供給された３×３ビットサイ
ズの画像データが間隙小として判定されたパターンデー
タであれば、情報処理装置２へその２次元ビット座標を
引き渡す。

【００２７】情報処理装置２は、このパターンデータを
プリントパターンの図形の輪郭（有効線分）のみを走査
してその形状を表わしたベクタ座標に変換して欠陥蓄積
部９に転送する。

【００２８】上述した走査をすべての２次元画像メモリ
６に対して実行する。これらの動作は上述した各機能ブ
ロックが専用のハードウェアで構成されているので、従
来は出来なかった多重入れ子の間隙チェックをデータの
段階で高速にチェックすることが可能になった。

【００２９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のプリント
基板配線用マスクパターン検査装置は、プリント基板の
マスクパターン作画工程において、１つのマスクパター
ンを作画するパターンデータが、多重入れ子の状態で構
成されている場合でも、プリントパターンの図形の輪郭
（有効線分）のみを走査してその形状を表わしたベクタ
型作画データからなる多重入れ子状態のデータを、プリ
ントパターン全体を図形の上側から下側へ全面走査して
その全体形状を表わしたラスタ型データに変換し、さら
にそのデータの属性をポジティブデータに揃えた状態で
それぞれ２次元の２値ビットデータにして画像メモリに
記憶させる。この属性をポジティブデータに揃えて記憶
された２次元２値ビットデータをラスタ走査することに
より、その読み出されたデータを基に間隙チェックを実
行するようにしたので、そのデータ相互間に発生するパ
ターン間隙を２値データとして高速に検査出来る。

【００３０】従って、プリント基板配線が作画されたマ
スクフィルムの現物検査の工程が短縮され、プリント基
板製作のリードタイムも短縮されるのでマスクフィルム
の仕損費の削減が出来るという効果を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示すブロック図である。

【図２】従来例のマスクパターン検査装置の一例を示す
ブロック図である。

【図３】従来のマスクパターン検査装置による検査のフ
ローチャートである。

【図４】従来例および本発明での検査対象となる多重入
れ子データの概念図である。

【符号の説明】

１ 多重入れ子データ群のデータ媒体 ２ 情報処理装置 ３ ベクタラスタ変換部 ４ ネガデータ変換部 ５ ビットイメージ展開部 ６ ２次元画像メモリ ７ 高速トレース部 ８ 判定部 ９ 欠陥蓄積部 １０ 走査部 ４１ ネガタイプデータ ４２ ポジタイプデータ ４３ 原画イメージ ４４，４５ データ上の間隙

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 プリント基板配線のマスクパターンデー
   タを記憶するデータ媒体と、キーボードおよびディスプ
   レイからなる操作部と、前記操作部の指示に基づきシス
   テム全体の動作を制御する情報処理装置とを備え、前記
   マスクパターンの幅、間隔および重なりの欠陥を検査す
   るプリント配線基板用マスクパターンデータ検査装置に
   おいて、前記データ媒体に記憶された多重入れ子データ
   群のベクタ型作画データが供給されこのベクタ型作画デ
   ータをあらかじめ定められた優先順位の低い順番にラス
   タ型作画データに変換するベクタラスタ変換部と、前記
   ラスタ型作画データがポジタイプであればそのデータを
   出力しネガタイプであれば前記ポジタイプに属性反転さ
   せたデータを出力するネガデータ反転部と、前記ネガデ
   ータ反転部から供給される前記ポジタイプのラスタ型デ
   ータを２次元２値データに変換するビットイメージ展開
   部と、前記２次元２値データが記憶される２次元画像メ
   モリと、前記２次元画像メモリ上の前記２次元２値デー
   タをラスタ走査することにより所定の画像をウインドウ
   ２値画像として読み出す高速トレース部と、前記高速ト
   レース部から供給される前記ウインドウ２値画像に前記
   欠陥がないかを判定する判定部と、その判定結果が欠陥
   画像であればこの欠陥画像データが登録される欠陥蓄積
   部とを含むことを特徴とするプリント配線基板用マスク
   パターンデータ検査装置。
2. 【請求項２】 前記操作部の指令に基づき前記ベクタラ
   スタ変換部が前記情報処理装置を介して前記多重入れ子
   データを読み込むとともに前記情報処理装置から供給さ
   れる制御信号に応答して、前記各部が所定の機能動作を
   実行することにより、前記多重入れ子データの有する前
   記ポジタイプおよびネガタイプのデータ間の間隙欠陥を
   検査できるようにしたことをを特徴とする請求項１記載
   のプリント配線基板用マスクパターンデータ検査装置。