CN114616597A - 保持设计文档内的分层结构信息 - Google Patents

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Abstract

一种用于验证用于数字光刻的设计文档的验证设备，包括存储器及控制器。存储器包括设计文档。控制器被配置为访问设计文档，及向设计文档应用一个或多个合规性规则，以确定设计文档的合规性。合规性规则包括以下项目中的至少一者：检测设计文档内的非正交边缘；检测设计文档内的不合规重叠结构；及检测设计文档的参考层与设计文档的目标层之间的不合规交互作用。控制器更被配置为响应于将非正交边缘、不合规重叠结构、及不合规交互作用的数量与阈值进行的比较，来验证设计文档。

Description

保持设计文档内的分层结构信息
技术领域
本公开内容的实施方式大致与验证数字光刻系统的设计文档相关。
背景技术
光刻方法用于制造半导体元件。常规的光刻方法包括将设计图案转移到一组光掩模上，这些光掩模被转移到光刻胶上。在数字光刻处理中，使用成像处理来将设计图案直接数字化到光刻胶上。然而，被传输以数字化光刻胶的数据量很大，从而限制了数字光刻处理的速度。进一步地，当前的验证方法从设计文档移除了结构信息。
因此，本领域中所需要的是一种减少数据量同时仍维持设计文档的分层结构信息的方法。
发明内容
在一个示例实施方式中，一种方法包括以下步骤：访问用于数字光刻设备的设计文档；及向设计文档应用一个或多个合规性规则，以确定合规性。应用一个或多个合规性规则包括以下步骤：检测设计文档内的非正交边缘；检测设计文档内的不合规重叠结构；及检测设计文档的参考层与设计文档的目标层之间的不合规交互作用。该方法更包括以下步骤：响应于将非正交边缘、不合规重叠结构、及不合规交互作用的数量与阈值进行的比较，来验证设计文档。
在一个示例实施方式中，一种用于验证用于数字光刻的设计文档的验证设备，包括存储器及控制器。存储器包括设计文档。控制器被配置为访问该设计文档，及向设计文档应用一个或多个合规性规则，以确定设计文档的合规性。这些合规性规则包括以下项目中的至少一者：检测设计文档内的非正交边缘；检测设计文档内的不合规重叠结构；及检测设计文档的参考层与设计文档的目标层之间的不合规交互作用。该控制器更被配置为：响应于将非正交边缘、不合规重叠结构、及不合规交互作用的数量与阈值进行的比较，来验证设计文档。
在一个示例实施方式中，一种验证用于数字光刻的设计文档的计算机程序产品包括计算机可读取储存介质，该计算机可读取储存介质具有与该计算机可读取储存介质一起体现的计算机可读取程序代码。该计算机可读取程序代码能够由一个或多个计算机处理器执行以：访问设计文档；向设计文档应用一个或多个合规性规则，以确定该设计文档的合规性；及响应于将非正交边缘、不合规重叠结构、及不合规交互作用的数量与阈值进行的比较，来验证该设计文档。向设计文档应用一个或多个合规性规则包括以下步骤中的至少一者：检测设计文档内的非正交边缘；检测设计文档内的不合规重叠结构；及检测设计文档的参考层与设计文档的目标层之间的不合规交互作用。
附图说明
作为可详细理解本公开内容的上述特征的方式，可以通过参照实施方式来获得上文所简要概述的本公开内容的更详细说明，附图中绘示了实施方式中的一些。然而，要注意，附图仅绘示了示例性实施方式且因此不被视为其范围的限制，且可以容许其他等效的实施方式。
图1是根据一个或多个实施方式的数字光刻系统的示意图。
图2是根据一个或多个实施方式的验证设备的示意图。
图3是根据一个或多个实施方式的用于验证设计文档的方法的流程图。
图4是根据一个或多个实施方式用于确定合规(compliant)设计文档的设计文档的流程图。
图5、6、7、8、及9是根据一个或多个实施方式的单元结构的示意说明。
为了促进了解，已尽可能使用相同的附图标记来指示附图中共有的相同元素。可以预期，可以有益地将一个实施方式的构件及特征并入其他实施方式而不需另外详述。
具体实施方式
本文中所描述的实施方式提供了一种方法，该方法用于验证被最佳化以经历数字图案转换的设计文档，同时维持原始设计文档内的分层结构信息的至少一部分以减少数据量及避免数据拥塞。该方法包括以下步骤：针对组合规性规则评估设计文档以检测设计文档的不合规单元。可以向使用者呈现不合规单元和/或位置标记的列表以供进行更正动作。当基于不合规单元和/或位置标记的比例确定设计文档满足阈值时，设计文档可被验证。可以将验证的设计文档传递到数字光刻系统的控制器以供处理。
图1是根据一个或多个实施方式的数字光刻系统100的透视图。数字光刻系统100包括数字光刻设备101及验证设备130。数字光刻设备101包括平台114及处理装置104。平台114由设置在平板102上的一对轨道116所支撑。基板120由平台114所支撑。平台114由设置在平板102上的一对轨道116所支撑。平台114在如由图1中所示的坐标系统所指示的X方向上沿着该对轨道116移动。在一个实施方式中，该对轨道116是一对平行的磁性通道。如所示，该对轨道116中的每个轨道均在直线路径上延伸。编码器118耦接到平台114以向控制器122提供平台114的位置的信息。
控制器122一般被设计为促进对本文中所述的处理技术的控制及自动化。控制器122可以与处理装置104、平台114、及编码器118耦接或通信。处理装置104及编码器118可以向控制器122提供关于基板处理及基板对准的信息。例如，处理装置104可以向控制器122提供信息以提醒控制器122基板处理已经完成。控制器122促进基于由验证设备130所提供的设计文档对数字光刻处理进行的控制及自动化。可以称为成像设计文档且可由控制器122读取的设计文档(或计算机指令)确定哪些任务可在基板上执行。设计文档(例如图2的设计文档220)包括掩模图案数据和用来监测及控制处理时间及基板位置的代码。掩模图案数据与要使用电磁辐射写入到光刻胶中的图案对应。
基板120包括任何合适的材料，例如玻璃，其用作平板显示器的一部分。在其他的实施方式中，基板120由能够用作平板显示器的一部分的其他材料制成。基板120具有在其上形成的要被图案化的膜层(例如通过对其进行图案蚀刻来进行)及形成于膜层上的要被图案化的光刻胶层，该光刻胶层对电磁辐射(例如UV或深UV“光”)敏感。正性光刻胶包括光刻胶的如下部分：当暴露于辐射时，该部分分别可溶于在使用电磁辐射将图案写入到光刻胶中之后向光刻胶施加的光刻胶显影剂。负性光刻胶包括光刻胶的如下部分：当暴露于辐射时，该部分将分别不溶于在使用电磁辐射将图案写入到光刻胶中之后向光刻胶施加的光刻胶显影剂。光刻胶的化学组成决定光刻胶是正性光刻胶还是负性光刻胶。光刻胶的示例包括但不限于以下项目中的至少一者：重氮萘醌(diazonaphthoquinone)、酚醛树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚戊二酰亚胺甲基、及SU-8。在将光刻胶暴露于电磁辐射之后，对抗蚀剂进行显影以在下层的膜层上留下图案化的光刻胶。然后，使用图案化的光刻胶，通过光刻胶中的开口对下层的薄膜进行图案蚀刻以形成显示面板的电子电路系统的一部分。
处理装置104包括支撑件108及处理单元106。处理装置104跨立在该对轨道116上且被设置在平板102上，且因此包括开口112以供该对轨道116及平台114在处理单元106下方经过。处理单元106被支撑件108支撑在平板102上方。在一个实施方式中，处理单元106是配置为在光刻处理中曝光光刻胶的图案产生器。在一些实施方式中，图案产生器被配置为执行无掩模光刻处理。处理单元106包括多个影像投影系统。
在操作期间，平台114在X方向上从装载位置(如图1中所示)移动到处理位置。处理位置是处理单元106下方的一个或多个位置。在本文中，示意性地示出数字光刻设备101，其中数字光刻设备101的尺寸被调整为能够在Y方向上暴露基板120上的光刻胶层的整个宽度，即基板120与实际的平板显示基板相比较小。然而，在实际的处理系统中，与基板120在Y方向上的宽度相比，处理装置104在Y方向上将明显更小，且基板120将在处理装置104下方在-X方向上依次移动、在+Y方向上移动或步进、在处理装置104下方在+X方向上反向扫描。此X方向扫描及Y方向步进操作将一直持续到整个基板面积都已经经过处理装置104的可写入区域下方为止。
图2绘示根据一个或多个实施方式的验证设备130。验证设备130包括计算设备210及输入/输出(I/O)设备230。验证设备130可以用来产生、最佳化、验证、和/或更新设计文档(例如设计文档220)。
计算设备210可以包括控制器212、网络接口214、及存储器216。控制器212取回及执行储存在存储器216中的编程数据，且协调其他系统元件的操作。类似地，控制器212储存及取回位于存储器216中的应用数据。控制器212可以是一个或多个中央处理单元(CPU)。
存储器216可以储存要由控制器212所执行的指令及逻辑。进一步地，存储器216可以是随机存取存储器(RAM)及非易失性存储器(NVM)中的一者或多者。NVM可以是硬盘、网络附属储存器(NAS)、及可移除储存设备等等。进一步地，存储器216可以包括设计应用程序218及设计文档220。
设计应用程序218产生、最佳化、验证、和/或更新设计文档220的设计数据。设计应用程序218可以由控制器212所控制以产生、最佳化、和/或更新设计文档220的设计数据。
设计文档220可以储存在存储器内且可由控制器212及设计应用程序218访问。设计文档220可以包括设计数据，该设计数据可以由控制器122解译以图案化基板120。例如，设计文档220指示分层实体设计(布局)数据。分层实体设计数据可以由核心像素区域及周边逻辑区域组成。核心像素区域可以是高度重复的，表示大于90％的设计数据。进一步地，维持分层结构减少了传输到控制器122的数据量。例如，与利用分层几何引擎来应用全局偏置相比，可以减少数据量达约100到约1000倍。数据膨胀可能导致无法在数据路径内传送数据。进一步，设计应用程序218可以最佳化单元层级尺寸调整内的全局尺寸调整及分层修复。设计文档220也可以称为设计图案文档。可以用不同的格式提供设计文档220。例如，设计文档220的格式可以是GDS格式及OASIS格式等等中的一者。设计文档220的设计数据包括单元，这些单元具有要在基板(例如基板120)上产生的图案结构。单元可以是晶体管或半导体元件的另外元件的逻辑元件的群组。此外，单元可以包含几何对象，例如多边形(边界、路径、及其他单元)。单元中的对象被分配给对应设计的“层”。不同的层可以表示光刻处理中不同的处理步骤。每当要绘制该元件时，可以引用该单元。例如，每当要绘制晶体管时，可以引用与晶体管对应的单元。进一步地，单元可以跨越设计文档的设计内的一个或多个层。单元分层结构可以包括一个或多个单元。例如，顶端层级单元可以包括对应对象的所有元件，且分层结构的较低层级内的每个单元均可以包括该对象的不同部分的元件。设计文档220可以是像素单元、点阵图、或类似文档的形式。设计文档220可以包括与一个或多个结构对应的感兴趣区域。可以将这些结构建构为几何形状。进一步地，可以在验证和/或最佳化处理期间将感兴趣区域表示为单元。
I/O设备230可以包括键盘、显示设备、鼠标、音频设备、及触控屏幕等等中的一者或多者。I/O设备230可以用来将信息输入到验证设备130中和/或从验证设备130输出数据。例如，使用者可以使用键盘及定点设备来产生和/或调整设计文档220的元件。
网络接口214可以经由通信网络传送数据。例如，网络接口214可以经由通信网络向数字光刻设备101传送设计文档。
设计文档220的全局尺寸调整允许将曝光剂量设定在较高的值，使得可以用由设计文档220所指示的尺寸印刷设计文档220内的结构。进一步地，由于指示结构的数据可以由设计文档220的深色部分或明亮部分中的任一者所表示，所以在尺寸调整处理期间，可以向内或向外移动结构的边缘达第一量。第一量可以小于结构的最小宽度。
设计应用程序218可以由控制器212执行，以在设计文档220的单元层级下执行偏置。单元中的每一者均可以与设计文档220内所识别的一个感兴趣区域对应。偏置可以包括对包含在设计文档220的单元中的图案结构数据进行特征尺寸调整。可以完成设计文档的单元层级尺寸调整，使得对于两个重叠的单元而言，若对应的绘图数据向内调整尺寸，则不在单元之间形成间隙。类似地，若绘图数据向上调整尺寸，则维持单元之间的间隔，使得可以在数字光刻处理期间解决间隔。
图3绘示根据一个或多个实施方式用于准备数字光刻的设计文档(例如设计文档220)的方法300。在操作310处，执行对设计文档的一个或多个合规性检查。例如，该一个或多个合规性检查可以包括对设计文档的三个合规性检查。合规性检查可以包括识别发生单元之间交互作用的数据。进一步地，合规性检查可以包括识别单元交互作用区域中所有的非正交边缘。将非正交边缘标记为错误。进一步地，一个或多个合规性检查可以包括向下偏置检查，在该向下偏置检查期间，检查设计文档220中的重叠区域。一个或多个单元内的任何重叠区域均应与目标向下偏置阈值进行比较。不合规重叠区域对应于具有比目标向下偏置阈值更少重叠的重叠区域。进一步地，对于向上偏置而言，该一个或多个合规性检查可以在向上偏置完成之后检查单元中的空间违规。对于选择偏置及灰度而言，该一个或多个合规性检查可以包括确定参考层及目标层是否对于单元层级操作及分层层级操作而言都产生不同的结果。设计应用程序218由控制器212执行以执行对设计文档220的一个或多个合规性检查。执行合规性检查可以包括识别设计文档220的单元内的一个或多个感兴趣区域，并将单元与一个或多个合规性规则进行比较。针对图4更详细描述了合规性检查。
在操作320处，在设计文档220的单元层级下执行偏置。偏置可以包括在不考虑来自分层结构中的其他单元实例的邻近多边形的影响的情况下在单元层级下进行向上偏置或向下偏置。可以全局地应用偏置或将偏置应用于选定的区域。由于来自偏置处理的结果可能在由操作310所识别的结构元件之间产生不充分重叠，因此在单元层级下进行偏置的结果可能不匹配由来自顶层设计单元的全局尺寸调整处理所产生的结果。操作320可以应用于通过或满足操作310的合规性检查的设计数据。例如，一些非合规性错误可能无法在操作330中修复。可以将包括此类错误的设计文档标记为不通过合规性检查，且可以不对此类设计文档执行偏置。进一步地，与使用分层几何引擎的传统全局尺寸调整相比，由操作320所利用的处理时间量减少了，因为操作320并不考虑单元间交互作用。进一步地，操作320将分层结构维持为与输入的设计文档220相同。
在操作330处，对由操作320所产生的设计文档的分层层级修复被执行。设计应用程序218可以在控制器212上执行且执行对来自操作320的输出设计文档的分层层级修复。可以基于设计文档不合规的确定来完成对设计文档的分层层级修复。可以在操作320期间完成单元层级向下偏置处理期间完成分层层级修复处理。例如，分层层级修复处理可以包括填充小于向下偏置量的两倍的间隙。间隙可能由在操作320期间执行的向下偏置操作所引入，且可能是由操作310所识别的重叠区域不足的结果。执行对操作320的输出的分层层级修复可能在交互作用的单元实例的共有母单元处增加额外的数据。然而，与传统的全局偏置不同，修复操作可以限于较小的范围或区域，且不太可能造成大分层结构的扁平化。例如，分层层级修复可以应用于设计文档的约2％或更少。因此，对于操作330的分层层级修复而言，对数据量的影响受到限制。此外，传统的全局尺寸重调可能导致分层结构扁平化，这可能增加传输到控制器122的数据量。与验证及准备数字光刻的设计文档的传统方法相比，采用操作310的合规性规则可以减少数据量达至少约90％。进一步地，操作330是可选的，且可以从方法300省略。
图4绘示根据一个或多个实施方式用于验证设计文档的方法400。对于被确定为符合如针对方法400的操作420所述的合规性规则的设计文档而言，使用单元层级偏置及修复来产生的结果与使用传统分层几何引擎进行的偏置实质类似。然而，当利用如针对方法400所述的合规性规则时，向数字光刻设备101提供以供进行数字光刻的数据量减少了。例如，当利用全局尺寸调整时，对于每个不合规位置而言，间隙可能存在于单元之间，且可能需要一个额外的多边形来保持对应偏置的正确性，从而导致数据量增加。进一步地，可以拒绝被确定为包括非正交交互作用边缘的设计文档，因为此类错误可能是不可修复的。如针对方法400所述的验证处理可以用来与向数字光刻设备101提供的数据量关联。
在操作410处，访问设计文档。例如，可以从存储器216访问设计文档220。设计应用程序218可以从存储器216访问设计文档220，及识别设计文档220内的一个或多个感兴趣区域。
在操作420处，执行对设计文档的合规性检查。例如，设计应用程序218在控制器212上执行且向设计文档220应用一个或多个规则以确定设计文档是否合规。如上所述，确定不合规位置可以包括以下步骤：检测非正交结构、不充分的重叠结构、和/或单元层级与分层层级之间的选择性操作差异。操作422-426更详细地描述合规性检查。
在操作422处，设计应用程序218确定非正交边缘是否存在于单元的感兴趣区域内。确定非正交边缘可以包括以下步骤：确定重叠结构的边缘是否可能呈0度或180度以外的角度。例如，设计应用程序218可以识别一个或多个结构或多边形、及单元之间的感兴趣区域，识别来自这些结构的一个或多个边缘，及确定所识别的边缘是否彼此不正交。若识别出非正交边缘，则可以将对应的感兴趣区域标记为不合规且添加到错误列表。
设计应用程序218提供分析设计文档以检测相邻单元的结构的交互作用并将检测到的交互作用标记为感兴趣区域，来确定感兴趣区域。参照图6，设计应用程序218可以通过检测结构614与共同的分层层内的其他单元的结构之间的单元间交互作用来确定感兴趣区域616。交互作用的结构是至少部分地重叠的结构。进一步地，交互作用的结构处于共同的分层层中。单元600的视图610包括感兴趣区域616(例如感兴趣区域616a及感兴趣区域616b)，其与结构614与其他相邻单元的结构之间的交互作用对应。例如，感兴趣区域616a对应于结构614与第一单元的结构交互作用的位置，而感兴趣区域616b对应于结构614与第二单元的结构交互作用的位置。可以在发现结构614不与另一个单元的对应结构交互作用的情况下省略感兴趣区域中的一者或多者。进一步地，如视图620中所绘示，感兴趣区域616a对应于分层层级下的结构614与结构626之间的交互作用。
设计应用程序218进一步在单元内产生标记，其中这些标记与单元的结构的边缘对应。标记可以用来检测不合规的感兴趣区域及对应的不合规单元。如图6中所绘示，用标记612来标记单元600，这些标记与结构614的边缘对应。设计应用程序218利用重叠结构的重叠边缘的标记来确定感兴趣区域是否合规。例如，检测不合规的感兴趣区域包括以下步骤：选定与两个结构之间的交互作用对应的标记，及确定形成于选定标记之间的角度是否与0度180度不同。参照图6及视图620，基于标记612a及624被确定为对应于结构614与626之间的交互作用的重叠边缘来选定标记612a及624。换言之，由于标记612a及624标识了结构614及626的分层交互作用，因此选定标记612a及624。因此，标记612a及626可以由设计应用程序218所使用以确定感兴趣区域616a是否合规。例如，如由视图630的区域636所指示，检测到且标记了结构614与626之间的非正交边缘。确定非正交边缘包括以下步骤：确定标记612a与624之间的角度是否处于0度或180度以外的值。例如，设计应用程序218测量形成于标记612a与624之间的角度，且若值与0度或180度不同，则确定感兴趣区域616a不合规。当作出形成于选定标记612a与624之间的角度具有0度或180度以外的值的确定时，由设计应用程序218确定感兴趣区域是不合规的，并将单元600标记为不合规且添加到错误列表。或者，若确定感兴趣区域不含非正交边缘，则确定感兴趣区域及对应的单元是合规的。进一步地，可以拒绝被确定为包括一个或多个不合规单元的设计文档。
在操作424处，设计应用程序218确定重叠结构元件是否合规。例如，设计应用程序218由控制器212执行以识别感兴趣区域内的重叠边缘，确定重叠边缘的数量，及确定重叠边缘的数量是否满足边缘阈值。可以将边缘阈值设定为使得单元的合规感兴趣区域在重叠区域内不具有多于三个的相邻边缘。进一步地，满足重叠阈值的感兴趣区域可以是不具有比由边缘阈值所界定的相邻边缘更多的相邻边缘的感兴趣区域。参照图7，可以由设计应用程序218评估感兴趣区域700以确定感兴趣区域700是否满足重叠阈值。例如，感兴趣区域700包括结构702及704。设计应用程序218将结构704的与结构702重叠的边缘的数量与重叠阈值进行比较。重叠阈值的值可以为三。进一步地，重叠阈值可以具有小于三或大于三的值。如图7中所示，结构704的与结构702重叠的边缘的数量为五，可以将感兴趣区域700标记为不合规且添加到错误列表。
进一步地，操作424可以包括以下步骤：识别结构702及结构704中的至少一者的一个或多个边缘，及确定重叠的距离是否小于距离阈值。若重叠量小于距离阈值，则可以将对应的感兴趣区域指示为不合规。参照图8，绘示了包括结构802及804的感兴趣区域800。结构804与结构802重叠由区域806所指示的第一量。由设计应用程序218将重叠量与重叠阈值进行比较，以确定包括感兴趣区域800的单元是否合规。重叠阈值可以是至少与目标偏置量(例如在尺寸重调期间用于偏置单元的量)相同的值。若由区域806所指示的重叠量无法满足重叠阈值，则可以确定包括感兴趣区域800的单元是不合规的并将其添加到错误列表。
在操作426处，设计应用程序218确定单元组成内是否存在选择性偏置错误。例如，设计应用程序218可以识别单元内的一个或多个结构，并将这些结构与设计文档(例如设计文档220)的复合分层数据进行比较，以确定在选定处理期间是否存在差异。当结构从单元遗漏时，可以确定存在错误。例如，如图9中所示，感兴趣区域900包括参考层902及目标层904。然而，如从分层复合视图910所指示，参考层902经过来自不同的单元实例的另一个目标层904。因此，可以将包括感兴趣区域900的单元识别为包括错误且是不合规的。因此，可以将包括感兴趣区域900的单元添加到错误列表。
在操作430处，提示使用者解决错误。例如，可以提示使用者解决错误列表内所识别的错误。错误列表可以由操作420所产生。进一步地，错误列表可以基于它们的严重性来评估及分组。例如，可以对由操作422及426所产生的不合规错误进行分组及识别以用于更正动作。进一步地，可以将来自操作424的不合规错误与百分比阈值进行比较，以确定设计文档是否通过合规性检查。例如，若确定在操作424期间所识别的95％的边缘满足重叠阈值，则设计文档通过检查。然而，若确定在操作424期间所识别的大于5％的边缘不满足重叠阈值，则设计文档不通过检查。进一步地，当满足重叠阈值的边缘的百分比大于约95％时，可以实现传输到控制器122的数据量的减少。附加性地或替代性地，设计应用程序218可以由控制器212所执行且基于操作420的合规性检查来产生错误列表。
由控制器212所执行的设计应用程序218可以经由I/O设备向使用者输出错误列表以及让使用者更新设计文档220以更正识别的错误的请求。例如，可以经由验证设备130的显示设备向使用者呈现错误列表。使用者可以更新设计文档220以更正识别的错误。在设计文档已经更正之后，可以利用方法400来评估及验证更新的设计文档。或者，使用者可以选择忽略对更正识别的错误的请求，且将设计文档220传递到数字光刻设备101。然而，使用还未验证的设计文档可能导致在数字光刻处理期间产生错误。
方法400可以额外包括修复设计文档的可选操作440。例如，通过填充不合规区域中的一者或多者处的单元元件之间的间隙(或空间)来修复设计文档。操作440可以响应于来自操作424的不合规错误的检测或确定来实施，以供自动修复设计文档。或者，方法400可以包括操作440，以作为请求使用者解决识别的错误的替代或补充，以减少数据量。进一步地，除了修补单元或单元元件之间的间隙以外，单元层级向下偏置的组合与常规的全局偏置结果相比可以产生等效的结果。此外，所描述的单元层级偏置操作不会改变分层结构，且因此不会增加传输到控制器122的数据量。数据量可能在设计修复操作(例如操作440)期间增加，且因此，具有较少不合规错误的设计文档将产生更紧凑的设计文档。
在操作450处，验证设计文档。例如，当在验证处理(例如方法400)期间没有识别出错误时，可以由设计应用程序218将设计文档220验证为合规且准备好用于数字光刻处理。在已经验证设计文档之后，可以将设计文档220传递到数字光刻设备101。例如，可以经由网络接口214及通信网络向数字光刻设备101的控制器122传递设计文档220。替代性地或附加性地，可以将设计文档220在传输到数字光刻设备101之前保存到可移除存储器。
验证数字光刻处理中所使用的设计文档有助于减少可能在数字光刻处理期间发生的错误。例如，在向数字光刻处理提供设计文档之前，验证处理可以识别设计文档中的错误。进一步地，通过在单元层级下执行验证且在分层层级下进行对设计文档进行的调整，可以减少向数字光刻处理提供的数据量。
可以将图3及4中所呈现的方法储存在计算机程序产品内且在控制器(例如控制器122和/或212)上执行。计算机程序产品可以包括一个或多个计算机可读取储存介质，其上具有计算机可读取程序指令以供使处理器实现本发明的方面。
计算机可读取储存介质可以是有形设备，该有形设备可以保留及储存指令以供由指令执行设备使用。计算机可读取储存介质可以包括存储器216。计算机可读取储存介质可以是例如但不限于电子储存设备、磁储存设备、光学储存设备、电磁储存设备、半导体储存设备、或前述项目的任何合适组合。计算机可读取储存介质的更具体示例的非穷举列表包括以下项目：便携式计算机磁盘、硬盘、随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、可擦除可编程只读存储器(EPROM或闪存存储器)、静态随机存取存储器(SRAM)、便携式光盘只读存储器(CD-ROM)、数字多功能光碟(DVD)、记忆棒、或软盘等等。
可以从计算机可读取储存介质或外部储存设备将本文中所描述的计算机可读取程序指令下载到相应的计算/处理设备，或经由网络(例如互联网络、局域网络、广域网络、和/或无线网络)将这些计算机可读取程序指令下载到外部计算机或外部储存设备。每个计算/处理设备中的网络适配器卡或网络接口均从网络接收计算机可读取程序指令，并转发计算机可读取程序指令以供储存在相应的计算/处理设备内的计算机可读取储存介质中。
用于实现本发明的操作的计算机可读取程序指令可以是汇编程序指令、指令集架构(ISA)指令、机器指令、机器相关指令、微代码、固件指令、状态设置数据、或用一种或多种程序设计语言(包括面向对象的程序设计语言，例如Smalltalk、C++等等，及常规面向过程的程序设计语言，例如“C”程序设计语言或类似的程序设计语言)的任何组合撰写的源代码或对象代码中的任一者。在一些实施方式中，通过利用计算机可读取程序指令的状态信息来个人化电子电路系统，包括例如可编程逻辑电路系统、现场可编程逻辑门阵列(FPGA)、或可编程逻辑阵列(PLA)的电子电路系统可以执行计算机可读取程序指令，以执行本发明的方面。
本发明的方面在本文中参照根据本发明的实施方式的方法、装置(系统)、及计算机程序产品的流程图和/或方块图来描述。将了解，流程图和/或方块图的每个方块、及流程图和/或方块图中的方块组合可以由计算机可读取程序指令所实施。
可以向控制器122和/或控制器212提供这些计算机可读取程序指令。进一步地，可以向通用计算机、特殊用途计算机、或其他可编程数据处理装置的处理器提供计算机可读取程序指令以产生机器，使得经由计算机或其他可编程数据处理装置的处理器执行的指令产生用于实施流程图和/或方块图的一个或多个方块中所指定的功能/动作的手段。也可以将这些计算机可读取程序指令储存在存储器216中。
虽然前述内容涉及本公开内容的示例，但也可以在不脱离本公开内容的基本范围的情况下设计本公开内容的其他的及另外的示例，且本公开内容的范围是由随附的权利要求书所确定的。

Claims (15)

1.一种方法，包括以下步骤：
从存储器访问用于数字光刻设备的设计文档；
通过以下步骤中的至少一者向所述设计档案应用一个或多个合规性规则，以确定所述设计文档的合规性：
检测所述设计文档内的非正交边缘；
检测所述设计文档内的不合规重叠结构；及
检测所述设计文档的参考层与所述设计文档的目标层之间的不合规交互作用；及
响应于将非正交边缘、不合规重叠结构、及不合规交互作用的数量与阈值进行的比较，来验证所述设计文档。
2.根据权利要求1所述的方法，其中检测非正交边缘包括以下步骤：
检测第一结构与第二结构之间的重叠区域；和
确定所述第一结构是否与所述第二结构形成正交边缘。
3.根据权利要求2所述的方法，其中检测所述重叠区域包括以下步骤：
在所述第一结构及所述第二结构周围产生多个标记；及
选定所述多个标记中的、识别所述第一结构及所述第二结构的交互作用区域的第一标记及第二标记，且其中确定所述第一结构是否与所述第二结构形成所述正交边缘包括以下步骤：确定所述第一标记是否与所述第二标记正交。
4.根据权利要求1所述的方法，其中检测不合规重叠结构包括以下步骤中的至少一者：
将第一结构延伸到第二结构中的量与第一阈值进行比较；
识别所述第一结构及所述第二结构中的至少一者的、在所述第一结构与所述第二结构之间的重叠区域中不正交的一个或多个边缘；及
将所述重叠区域内的所述第一结构的相邻边缘的数量与边缘阈值进行比较。
5.根据权利要求4所述的方法，其中与所述第一结构及所述第二结构对应的位置可响应于以下条件中的一者或多者而被确定是不合规的：
所述第一结构延伸到所述第二结构中的所述量超过所述第一阈值；
在所述重叠区域中识别出至少一个非正交边缘；及
相邻边缘的所述数量超过所述边缘阈值。
6.根据权利要求1所述的方法，其中检测所述结构之间的所述不合规重叠包括以下步骤：
识别与第二结构重叠的第一结构；
确定所述第一结构与所述第二结构之间的重叠量；
将所述重叠量与阈值进行比较，
其中与所述结构对应的位置可响应于所述重叠量小于所述阈值而被确定是不合规的。
7.一种用于验证用于数字光刻的设计文档的验证设备，所述验证设备包括：
存储器，包括所述设计文档；及
控制器，被配置为：
访问所述设计文档；
通过以下步骤中的至少一者向所述设计档案应用一个或多个合规性规则，以确定所述设计文档的合规性：
检测所述设计文档内的非正交边缘；
检测所述设计文档内的不合规重叠结构；及
检测所述设计文档的参考层与所述设计文档的目标层之间的不合规交互作用；及
响应于将非正交边缘、不合规重叠结构、及不合规交互作用的数量与阈值进行的比较，来验证所述设计文档。
8.根据权利要求7所述的验证设备，其中检测非正交边缘包括以下步骤：
检测第一结构与第二结构之间的重叠区域；及
确定所述第一结构是否无法与所述第二结构形成正交边缘。
9.根据权利要求8所述的验证设备，其中检测所述重叠区域包括以下步骤：
在所述第一结构及所述第二结构周围产生多个标记；及
选定所述多个标记中的、识别所述第一结构及所述第二结构的交互作用区域的第一标记及第二标记，且其中确定所述第一结构是否无法与所述第二结构形成所述正交边缘包括以下步骤：确定所述第一标记是否与所述第二标记正交。
10.根据权利要求7所述的验证设备，其中检测不合规重叠结构包括以下步骤中的至少一者：
将第一结构延伸到第二结构中的量与第一阈值进行比较；
识别所述第一结构及所述第二结构中的至少一者的、在所述第一结构与所述第二结构之间的重叠区域中不正交的一个或多个边缘；及
将所述重叠区域内的所述第一结构的相邻边缘的数量与边缘阈值进行比较。
11.根据权利要求7所述的验证设备，其中检测所述结构之间的所述不合规重叠包括以下步骤：
识别与第二结构重叠的第一结构；
确定所述第一结构与所述第二结构之间的重叠量；及
将所述重叠量与阈值进行比较。
12.一种用于验证用于数字光刻的设计文档的计算机程序产品，所述计算机程序产品包括：
计算机可读取储存介质，具有与所述计算机可读取储存介质一起体现的计算机可读取程序代码，所述计算机可读取程序代码能够由一个或多个计算机处理器执行以：
从存储器访问所述设计文档；
通过以下步骤中的至少一者向所述设计档案应用一个或多个合规性规则，以确定所述设计文档的合规性：
检测所述设计文档内的非正交边缘；
检测所述设计文档内的不合规重叠结构；及
检测所述设计文档的参考层与所述设计文档的目标层之间的不合规交互作用；及
响应于将非正交边缘、不合规重叠结构、及不合规交互作用的数量与阈值进行的比较，来验证所述设计文档。
13.根据权利要求12所述的计算机程序产品，其中检测非正交边缘包括以下步骤：
检测所述设计文档内的第一结构与第二结构之间的重叠区域；及
确定所述第一结构是否无法与所述第二结构形成正交边缘。
14.根据权利要求12所述的计算机程序产品，其中检测不合规重叠结构包括以下步骤中的至少一者：
将第一结构延伸到第二结构中的量与第一阈值进行比较；
识别所述第一结构及所述第二结构中的至少一者的、在所述第一结构与所述第二结构之间的重叠区域中不正交的一个或多个边缘；及
将所述重叠区域内的所述第一结构的相邻边缘的数量与边缘阈值进行比较。
15.根据权利要求14所述的计算机程序产品，其中检测所述结构之间的所述不合规重叠包括以下步骤：
识别与第二结构重叠的第一结构；
确定所述第一结构与所述第二结构之间的重叠量；及
将所述重叠量与阈值进行比较。
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