KR20070122177A - 파면 수차를 감소시키는 방법, 및 컴퓨터 프로그램 제품 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (21)
- 기판 상의 방사선 감응층을 패턴의 이미지에 노광시키도록 구성 및 배치되는 리소그래피 장치의 투영 시스템을 가로지르는 광파의 파면 수차 감소 방법에 있어서,- 상기 파면 수차에 관한 정보를 얻는 단계;- 상기 파면 수차를 감소시키기 위하여 상기 투영 시스템의 1 이상의 광학 요소의 1 이상의 조정을 계산하는 단계;- 상기 계산된 1 이상의 조정을 상기 투영 시스템에 적용하는 단계를 포함하고,상기 계산 단계는,- 상기 방사선 감응층의 노광 동안 존재하는 상기 투영 시스템 퓨필의 복사 세기(radiant intensity)의 공간 분포에 따라 세기 값들을 얻는 단계;- 얻어진 최대 세기 값과 0 사이의 범위 내에서 임계 세기를 선택하는 단계;- 국부적 세기가 상기 임계 세기보다 큰 상기 퓨필 내의 영역들을 정의하는 단계; 및- 상기 퓨필 내의 영역들에 대응되는 상기 파면의 영역들로 감소를 제한하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 방사선 감응층의 노광은 상기 패턴을 멀티-폴 조명 모드로 조명하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 2 항에 있어서,상기 멀티-폴 조명 모드는 다이폴(dipole) 조명 모드 및 쿼드러폴(quadrupole) 조명 모드 중 하나인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 패턴은 유리 마스크 패턴 및 위상 시프팅 마스크 패턴 중 하나의 패턴인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 파면 수차에 관한 정보를 얻는 단계는 파면 수차를 측정하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 파면 수차에 관한 정보를 얻는 단계는, 상기 투영 시스템의 1 이상의 광학 요소의 온도 변화의 파면 수차 상의 충격을 예측하기 위한 모델에 기초하여 파면 수차의 변화들을 예측하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 1 이상의 조정은 상기 투영 시스템의 광학 축선에 수직한 평면에서의 위치 조정, 상기 광학 축선을 따르는 위치 조정, 회전 자유도에서의 회전 위치 조정, 및 광학 요소 표면의 형상 변화 중 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 세기 값들 얻는 단계는 방사선 세기 분포를 측정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 세기 값들을 얻는 단계는 선택된 조명 모드를 나타내는 데이터 및 상기 패턴을 나타내는 데이터를 포함하는 데이터에 기초하여 상기 공간 세기 분포를 예측하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 임계 세기는 상기 최대 세기의 1/2과 상기 최대 세기의 1/10 사이의 범위 내에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 퓨필 내의 영역들을 정의하는 단계는 상기 퓨필에 걸쳐 연장되는 가공 의(notional) 그리드의 그리드 지점들에서의 국부적 세기 값들과 상기 임계 세기 값을 비교하는 것, 및 상기 국부적 세기 값이 상기 1 이상의 조정의 후속하는 계산을 위한 임계 세기 값보다 큰 그리드 지점들을 유지하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 감소는 복수의 파면 수차 값들의 평균 제곱값을 최소화하기 위하여 최소 자승 적합 연결 알고리즘(least square fit algorithm)을 적용하는 것 및 상기 1 이상의 조정을 피팅하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 12 항에 있어서,상기 복수의 파면 수차 값들은 국부적 세기가 상기 임계 세기보다 큰 상기 퓨필 내의 영역들에서의 복수의 지점들에 대한 수차 값들을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 13 항에 있어서,상기 복수의 파면 수차 값들은 상기 이미지 내의 복수의 필드 지점들에 대한 수차 값들을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 디바이스 제조 방법을 수행하도록 리소그래피 장치를 제어하기 위한 프로그 램 코드를 포함하는 컴퓨터 프로그램 제품에 있어서,- 상기 리소그래피 장치의 투영 시스템을 가로지르는 광파의 파면 수차에 관한 정보를 얻는 단계; 및- 상기 파면 수차를 감소시키기 위하여, 상기 리소그래피 장치의 투영 시스템의 1 이상의 광학 요소의 1 이상의 조정을 계산하는 단계를 포함하고,상기 계산 단계는,- 기판 상에 제공되는 방사선 감응층의 노광 동안 존재하는 상기 투영 시스템의 퓨필에서의 방사선 세기의 공간 분포에 관한 정보를 얻는 단계;- 상기 세기 분포의 최대 세기와 0 사이의 범위 내에서 임계 세기를 선택하는 단계;- 국부적 세기가 상기 임계 세기보다 큰 상기 퓨필 내의 영역들을 정의하는 단계; 및- 상기 퓨필 내의 영역들에 대응되는 상기 파면의 영역들로 감소를 제한하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 프로그램 제품.
- 제 15 항에 있어서,상기 임계 세기는 상기 최대 세기의 1/2과 상기 최대 세기의 1/10 사이의 범위 내에서 선택되는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 프로그램 제품.
- 제 15 항에 있어서,상기 퓨필 내의 영역들을 정의하는 단계는 상기 퓨필에 걸쳐 연장되는 가공의 그리드의 그리드 지점들에서의 국부적 세기 값들과 상기 임계 세기 값을 비교하는 것, 및 상기 세기 값이 상기 1 이상의 조정의 후속하는 계산을 위한 임계 세기 값보다 큰 그리드 지점들을 유지하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 프로그램 제품.
- 제 15 항에 있어서,상기 감소는 복수의 파면 수차 값들의 평균 제곱값을 최소화하기 위하여 최소 자승 적합 연결 알고리즘을 적용하는 것 및 상기 1 이상의 조정을 피팅하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 프로그램 제품.
- 제 18 항에 있어서,상기 복수의 파면 수차값들은, 국부적인 세기가 상기 임계 세기보다 높은 상기 퓨필 내의 영역에서의 복수의 지점들에 대한 수차값들을 포함하는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 프로그램 제품.
- 제 19 항에 있어서,상기 복수의 파면 수차 값들은 상기 이미지 내의 복수의 필드 포인트들에 대한 수차 값들을 포함하는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 프로그램 제품.
- 제 15 항에 있어서,퓨필 내의 방사선 세기의 공간 분포에 관한 정보를 얻는 단계는 선택된 조명 모드를 나타내는 데이터 및 상기 패턴을 나타내는 데이터에 기초하여 상기 공간 세기 분포를 예측하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 프로그램 제품.
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